JPH11220248A - Flexible wiring board with bending part and protection paint film material - Google Patents

Flexible wiring board with bending part and protection paint film material

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JPH11220248A
JPH11220248A JP31895098A JP31895098A JPH11220248A JP H11220248 A JPH11220248 A JP H11220248A JP 31895098 A JP31895098 A JP 31895098A JP 31895098 A JP31895098 A JP 31895098A JP H11220248 A JPH11220248 A JP H11220248A
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wiring board
film
flexible wiring
bent portion
slit
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弘 安野
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紘平 中島
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To protect wiring by covering wiring across on a slit opening part with a protection paint film where an initial elastic rate is set to a specific range, the breaking point strength of the specific range is provided, an expansion rate is set to a specific range, electric insulation property is sufficient, a thermal decomposition start temperature is set to the specific range, and a solder heat resistance property exceeding a specified one is shown. SOLUTION: The one-side surface of a number of wires 5 across a slit-shaped opening part 4 of a bending part 3 of a flexible wiring board 2 is covered with a protection paint film 6. The paint film 6 is formed by a covering composition where an initial elastic rate is set to 1-70 kg/mm<2> as a film, breaking point strength is set to approximately 0.5-20 kg/mm<2> at 25 deg.C, an expansion rate is set to approximately 30-500%, electric insulation property is maintained at a sufficient level, thermal decomposition start temperature is set to approximately 250-500 deg.C, and a solder heat resistance property of 30 seconds or more at 200 deg.C is shown. This sort of protection paint film 6 is provided, thus preventing a number of the wires 5 consisting of metal foil from being broken at the bending part 3 even when the flexible wiring board 2 is bent by, for example, 180 deg.C at the slit opening part 4 of a support film 1.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、「支持体フィル
ム上に導電性材料の配線が形成されている柔軟性配線板
(例えば、フレキシブル配線部材、TAB用配線部材な
ど)」の屈曲部における支持フィルムのスリット状開口
部を横切る多数の配線の少なくとも片側表面が被覆組成
物からなる柔軟な保護膜で被覆されていて、前記柔軟性
配線板のスリット状開口部を横切る多数の配線がその屈
曲によって容易に破断することがない屈曲部付き柔軟性
配線板、およびその保護塗膜材に係わるものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a support at a bent portion of a "flexible wiring board having a wiring of a conductive material formed on a support film (for example, a flexible wiring member, a wiring member for TAB, etc.)". At least one surface of a large number of wirings crossing the slit-shaped opening of the film is covered with a flexible protective film made of a coating composition, and a large number of wirings crossing the slit-shaped opening of the flexible wiring board are bent. The present invention relates to a flexible wiring board having a bent portion which is not easily broken and a protective coating material thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、支持フィルム上に導電性の配線が
形成されている柔軟性配線板(フレキシブル配線部材、
TAB用配線部材等)は、支持フィルムの一部をスリッ
ト状に開口されていて、該配線板の一部をスリット状開
口部に沿って屈曲させ易くしているものが、該柔軟性配
線板を最終的に電気器具等の内部の狭い空間内に装着す
ために、極めて必要とされている。
2. Description of the Related Art Conventionally, a flexible wiring board (a flexible wiring member,
The wiring member for TAB, etc.) is such that a portion of the support film is opened in a slit shape and a portion of the wiring board is easily bent along the slit-shaped opening. Is finally required to be mounted in a narrow space inside an electric appliance or the like.

【0003】しかし、そのような屈曲部付き柔軟性配線
板は、前記スリット状開口部を横切っている多数の配線
(銅箔のエッチング後の裸線)が極めて細くて機械的強
度の弱いものであるので、該配線板をスリット状開口部
に沿ってそのまま屈曲すると、そのスリット状開口部を
横切っている多数の配線が極めて破断し易く断線する恐
れがあり、その配線について何らかの保護をする必要が
あった。この問題を解消するために、種々の提案がなさ
れているが、未だに、前記の多数の配線を破断から効果
的に防御することができる簡便で工業的な手段があまり
なかったのである。
However, such a flexible wiring board with a bent portion has a large number of wirings (bare wires after copper foil is etched) crossing the slit-shaped opening, and has a low mechanical strength. Therefore, if the wiring board is bent as it is along the slit-shaped opening, a large number of wirings crossing the slit-shaped opening may be extremely easily broken and disconnected, and it is necessary to provide some protection for the wiring. there were. Various proposals have been made to solve this problem, but there are still few simple and industrial means capable of effectively protecting the large number of wirings from breaking.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】この発明の目的は、前
述の屈曲部付き柔軟性配線板の屈曲部におけるスリット
状開口部を横切る『多数の配線』が効果的に保護されて
いる屈曲部付き柔軟性配線板(例えば、フレキシブル配
線板、TAB用配線板など)を提供することであり、さ
らに、その保護塗膜材を提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a flexible wiring board having a bent portion as described above, which is provided with a bent portion in which "a large number of wires" crossing a slit-shaped opening in the bent portion are effectively protected. It is an object of the present invention to provide a flexible wiring board (for example, a flexible wiring board, a wiring board for TAB, etc.), and further provide a protective coating material thereof.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】この発明は、支持フィル
ム上に導電性材料の配線が形成されている柔軟性配線板
は主要な配線上に絶縁保護塗膜が施されており、そし
て、該配線板は、屈曲部において前記支持フィルムがス
リット状に開口していて、多数の配線が該スリット状開
口部を横切って設けられており、そして、該スリット開
口部上に横切っている配線の少なくとも片側表面には、
フィルムとして初期弾性率が1〜70kg/mm2 、2
5℃での破断点強度が約0.5〜20kg/mm2 、伸
び率が約30〜500%、電気絶縁性が充分なレベルで
保持されており、熱分解開始温度が約250〜500
℃、200℃で30秒間以上のハンダ耐熱性を示す保護
塗膜が被覆されていることを特徴とする屈曲部付き柔軟
性配線板に関し、また、この発明は、前記の屈曲部付き
柔軟性配線板の保護塗膜を与える保護塗膜材(樹脂およ
び有機極性溶媒からなる)に関する。
According to the present invention, a flexible wiring board having a conductive film formed on a support film is provided with an insulating protective coating on the main wiring. In the wiring board, the support film has a slit-shaped opening at the bent portion, a large number of wirings are provided across the slit-shaped opening, and at least one of the wirings traversing over the slit opening. On one side surface,
The film has an initial elastic modulus of 1 to 70 kg / mm 2 , 2
The strength at break at 5 ° C. is about 0.5 to 20 kg / mm 2 , the elongation is about 30 to 500%, the electric insulation is maintained at a sufficient level, and the thermal decomposition onset temperature is about 250 to 500.
The present invention relates to a flexible wiring board with a bent portion, which is coated with a protective coating having a solder heat resistance of at least 30 ° C. and 200 ° C. for 30 seconds. The present invention relates to a protective coating material (comprising a resin and an organic polar solvent) for providing a protective coating for a plate.

【0006】[0006]

【発明の実施の形態】以下、本願の各発明について、図
面も参考にして詳しく説明する。図1は、この発明の屈
曲部付き柔軟性配線板の一例(ソルダーレジストからな
る絶縁保護塗膜で被覆されている主要な配線の領域の一
部分、および、屈曲部を示すものである)を部分的に示
す平面図であり、図2は、図1の配線板のAA線の断面
図であり、又、図3は、図1の配線板のBB線の断面図
である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, each invention of the present application will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 shows an example of a flexible wiring board with a bent portion according to the present invention (a part of a main wiring region covered with an insulating protective coating made of a solder resist and a bent portion). 2 is a cross-sectional view of the wiring board of FIG. 1 taken along line AA, and FIG. 3 is a cross-sectional view of the wiring board of FIG. 1 taken along line BB.

【0007】図4は、この発明の屈曲部付き柔軟性配線
板を屈曲部で折り曲げた状態を示す断面図である。図5
は、この発明の屈曲部付き柔軟性配線板の製造に使用す
る、絶縁保護塗布膜の施された柔軟性配線板の一例を部
分的に示し、図6は、図5の配線板のCC線の断面図で
あり、また、図7は、図5の配線板のDD線の断面図で
ある。
FIG. 4 is a sectional view showing a state in which the flexible wiring board with a bent portion of the present invention is bent at the bent portion. FIG.
FIG. 6 partially shows an example of a flexible wiring board provided with an insulating protective coating film used for manufacturing the flexible wiring board with a bent portion of the present invention, and FIG. 6 shows a CC line of the wiring board of FIG. FIG. 7 is a sectional view taken along line DD of the wiring board of FIG.

【0008】この発明の屈曲部付き柔軟性配線板に使用
される配線板は、概略、支持フィルム(基材)1の表面
上に、導電性材料の配線が金属箔のエッチング工程等に
よって形成されている柔軟性配線板(例えば、フレキシ
ブル配線板、TAB用配線など)2であって、その主要
な配線の大部分(領域)の表面上に絶縁保護塗膜(ソル
ダーレジスト膜とも言うことがある)7が施されてお
り、そして、図5、図6及び図7に示すように、該柔軟
性配線板2は、その屈曲部3において前記支持フィルム
1がスリット状に開口していて、多数の配線5が該スリ
ット状開口部4を横切って設けられているものであり、
さらに、図1、図2及び図3に示すように、この発明の
屈曲部付き柔軟性配線板2は、支持フィルム1のスリッ
ト状開口部4を横切って設けられている多数の配線5の
少なくとも片側表面(図面では片側表面のみの例が示さ
れている。)が特定の被覆組成物からなる柔軟な保護塗
膜6で被覆されているものである。
The wiring board used in the flexible wiring board with a bent portion according to the present invention has a wiring of a conductive material formed on a surface of a supporting film (base material) 1 by an etching process of a metal foil or the like. Flexible wiring board (for example, flexible wiring board, wiring for TAB, etc.) 2 and an insulating protective coating film (also referred to as a solder resist film) on the surface of most (region) of the main wiring. 5), and as shown in FIG. 5, FIG. 6, and FIG. 7, the flexible wiring board 2 has Wiring 5 is provided across the slit-shaped opening 4.
Further, as shown in FIGS. 1, 2 and 3, the flexible wiring board 2 with a bent portion of the present invention has at least a large number of wirings 5 provided across the slit-shaped openings 4 of the support film 1. One surface (only one surface is shown in the drawings) is covered with a flexible protective coating 6 made of a specific coating composition.

【0009】前記支持フィルムとしては、耐熱性ポリマ
−製フィルム、例えば、芳香族ポリイミドフィルム、芳
香族ポリアミドフィルム、芳香族ポリエステルフィル
ム、無機系フィルムなどを挙げることができ、そして、
前記の導電性配線としては、銅箔、アルミニウム箔など
の金属箔(厚さ:10〜200μm)からエッチングな
どによって形成された微細な配線(線幅:10〜500
μm、特に30〜300μm、及び、線間隔:10〜5
00μm、特に50〜400μm)を挙げることができ
る。
Examples of the support film include a heat-resistant polymer film such as an aromatic polyimide film, an aromatic polyamide film, an aromatic polyester film, and an inorganic film.
As the conductive wiring, a fine wiring (line width: 10 to 500) formed by etching or the like from a metal foil (thickness: 10 to 200 μm) such as a copper foil or an aluminum foil.
μm, especially 30 to 300 μm, and line spacing: 10 to 5
00 μm, especially 50 to 400 μm).

【0010】この発明においては、前記の支持フィルム
としては、特に、TAB用配線板に使用される、両端部
に配列された一対のスプロケット(穴)を有する長尺の
耐熱性フィルムが好適である。
In the present invention, the support film is preferably a long heat-resistant film having a pair of sprockets (holes) arranged at both ends, which is used for a wiring board for TAB. .

【0011】前記の絶縁保護塗膜(ソルダーレジスト
膜)は、配線板の製造においてすでによく使用されてい
る公知のソルダーレジストからなるものであればよく、
例えば、エポキシ樹脂系ソルダーレジスト、ポリイミド
樹脂系ソルダーレジストなどの耐熱性樹脂からなる、厚
さ5〜500μmの保護塗膜を挙げることができる。
The above-mentioned insulating protective coating (solder resist film) may be made of a known solder resist which has been widely used in the production of wiring boards.
For example, a protective coating film made of a heat-resistant resin such as an epoxy resin solder resist or a polyimide resin solder resist and having a thickness of 5 to 500 μm can be given.

【0012】図1に示すように、前記の柔軟性配線板2
の屈曲部3のスリット状開口部4を横切っている多数の
配線5の片側表面(または図示されていないが両側表
面)を被覆している保護塗膜6は、フィルムとして初期
弾性率が1〜70kg/mm2、25℃での破断点強度
が約0.5〜20kg/mm2 、伸び率が約30〜50
0%、電気絶縁性が充分なレベルで保持されており、熱
分解開始温度が約250〜500℃、200℃で30秒
間以上のハンダ耐熱性を示す被覆組成物から形成されて
おり、そして、その保護塗膜6の厚さが、スリット状開
口部4を横切る多数の配線5の厚さの0.2〜5倍の厚
さであることが好ましく、特に0.5〜200μm程度
であることが好ましい。
As shown in FIG. 1, the flexible wiring board 2
The protective coating film 6 covering one surface (or both side surfaces, not shown) of a large number of wirings 5 traversing the slit-shaped opening 4 of the bent portion 3 has an initial elastic modulus of 1 to 1 as a film. 70kg / mm 2, 25 break strength of at ℃ about 0.5 to 20 / mm 2, elongation of about 30 to 50
0%, having a sufficient level of electrical insulation, a thermal decomposition onset temperature of about 250 to 500 ° C, and a coating composition exhibiting solder heat resistance at 200 ° C for 30 seconds or more; and The thickness of the protective coating 6 is preferably 0.2 to 5 times the thickness of a large number of wirings 5 traversing the slit-shaped opening 4, and particularly preferably about 0.5 to 200 μm. Is preferred.

【0013】この発明の屈曲部付き柔軟性配線板におい
ては、前記の屈曲部3のスリット状開口部1を横切って
いる多数の配線5は、初期弾性率が小さくて柔軟である
前記保護塗膜6で、その少なくとも片側表面を被覆して
いるものであり、図4に示すように、この保護塗膜6を
設けた多数の配線5は、該柔軟性配線板が支持フィルム
1のスリット開口部4で180°まで折り曲げられて
も、金属箔からなる多数の配線5がその屈曲部で破断す
ることがないのであり、この発明は、この点において最
も大きな特長があるのである。
In the flexible wiring board with a bent portion according to the present invention, the plurality of wirings 5 traversing the slit-shaped openings 1 of the bent portion 3 have a small initial elastic modulus and are flexible. 6, at least one surface thereof is covered, and as shown in FIG. Even if it is bent to 180 ° at step 4, many wires 5 made of metal foil do not break at the bent portions, and the present invention has the greatest feature in this point.

【0014】前記の被覆組成物としては、例えば(A)
2,3,3’,4’−又は3,3’,4,4’−ビフェ
ニルテトラカルボン酸又は酸二無水物、或いは、それら
の酸誘導体などのビフェニルテトラカルボン酸類を主成
分とする(60モル%以上、特に70〜100モル%含
有する)芳香族テトラカルボン酸成分と、(B)(a)
ジアミノポリシロキサン50〜90モル%、特に55〜
85モル%、及び(b)芳香族ジアミン10〜50モル
%、特に15〜45モル%からなるジアミン成分とを、
有機極性溶媒中で、重合及びイミド化することにより得
られる可溶性のポリイミドシロキサン、またはそのエポ
キシ樹脂変成物が樹脂成分の80重量%以上含有されて
いる樹脂組成物を好適に挙げることができる。
The above coating composition includes, for example, (A)
Biphenyltetracarboxylic acids such as 2,3,3 ′, 4′- or 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic acid or an acid dianhydride or an acid derivative thereof (60) An aromatic tetracarboxylic acid component (containing at least 70% by mole, especially 70 to 100% by mole);
50-90 mol% of diaminopolysiloxane, especially 55-90
85 mol%, and (b) a diamine component consisting of 10 to 50 mol%, especially 15 to 45 mol% of an aromatic diamine,
Preferable examples include a resin composition containing a soluble polyimide siloxane obtained by polymerization and imidization in an organic polar solvent, or an epoxy resin modified product thereof in an amount of 80% by weight or more of the resin component.

【0015】前記の芳香族テトラカルボン酸成分におい
て、ビフェニルテトラカルボン酸類と共に使用すること
ができる「他の芳香族テトラカルボン酸類」としては、
3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン
酸、3,3’,4,4’−ビフェニルエーテルテトラカ
ルボン酸、ピロメリット酸又はそれらの酸の二無水物、
あるいは、それらの酸のエステル化物などを挙げること
ができ。
In the above aromatic tetracarboxylic acid component, "other aromatic tetracarboxylic acids" which can be used together with biphenyltetracarboxylic acids include:
3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic acid, 3,3 ′, 4,4′-biphenylethertetracarboxylic acid, pyromellitic acid or a dianhydride of those acids,
Alternatively, esters of these acids can be mentioned.

【0016】前記のジアミノポリシロキサンとしては、
アミノ基に結合している基が炭素数2〜6の「複数のメ
チレン基」又はフェニレン基からなる2価の炭化水素残
基であり、Si基に結合している基がそれぞれ独立にメ
チル基、エチル基、プロピル基などの炭素数1〜3のア
ルキル基、又は、フェニル基であることが好ましく、さ
らに、−Si−O−の繰り返し単位が5〜20程度であ
ることが好ましい。
The above-mentioned diaminopolysiloxane includes:
The group bonded to the amino group is a “multiple methylene group” having 2 to 6 carbon atoms or a divalent hydrocarbon residue composed of a phenylene group, and the groups bonded to the Si group are each independently a methyl group. It is preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms such as an ethyl group or a propyl group, or a phenyl group, and more preferably about 5 to 20 repeating units of —Si—O—.

【0017】前記の芳香族ジアミンとしては、複数のベ
ンゼン環を有する芳香族ジアミン化合物が好ましく、例
えば、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、4,
4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノ
ジフェニルスルホン、o−トリジン、o−ジアニシジン
などのベンゼン環を2個有する芳香族ジアミン化合物、
1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,
4−ビス(4−アミノフェニル)ベンゼンなどのベンゼ
ン環を3個有する芳香族ジアミン化合物、及び、ビス
〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、
2,2−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニ
ル〕プロパンなどのベンゼン環を4個有する芳香族ジア
ミン化合物を好適に挙げることができる。
The aromatic diamine is preferably an aromatic diamine compound having a plurality of benzene rings, for example, 4,4'-diaminodiphenyl ether,
Aromatic diamine compounds having two benzene rings such as 4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, o-tolidine, o-dianisidine,
1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,
An aromatic diamine compound having three benzene rings such as 4-bis (4-aminophenyl) benzene, and bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone;
Aromatic diamine compounds having four benzene rings, such as 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, are preferred.

【0018】前記の芳香族ジアミンとしては、ベンゼン
環を2個以上有する芳香族ジアミン化合物と共に、全芳
香族ジアミン成分に対して60モル%以下の割合でベン
ゼン環を1個有する芳香族ジアミン化合物を併用するこ
とも可能であり、ベンゼン環1個の芳香族ジアミン化合
物としては、例えば、パラフェニレンジアミン、メタフ
ェニレンジアミン、2,4−ジアミノトルエン、3,5
−ジアミノ安息香酸、2,6−ジアミノ安息香酸、3,
5−ジアミノベンジルアクリレートなどを挙げることが
できる。
As the aromatic diamine, an aromatic diamine compound having one or more benzene rings is used together with an aromatic diamine compound having two or more benzene rings at a ratio of 60 mol% or less based on the total aromatic diamine component. Aromatic diamine compounds having one benzene ring include, for example, paraphenylenediamine, metaphenylenediamine, 2,4-diaminotoluene, 3,5
-Diaminobenzoic acid, 2,6-diaminobenzoic acid, 3,
5-diaminobenzyl acrylate and the like can be mentioned.

【0019】前記のポリイミドシロキサンにおいては、
全ジアミン成分に対する「ジアミノポリシロキサンに基
づく主鎖単位」の含有割合が少なくなると、そのような
ポリイミドシロキサンの溶解性が低下することがあり、
一方、前記「ジアミノポリシロキサンに基づく主鎖単
位」の含有割合が多くなると、ポリマーの耐熱性、機械
的物性、配線への接着性などがかなり低下することがあ
るので好ましくない。
In the above polyimide siloxane,
When the content ratio of the `` main chain unit based on diaminopolysiloxane '' with respect to all diamine components is reduced, the solubility of such a polyimidesiloxane may be reduced,
On the other hand, when the content ratio of the "main chain unit based on diaminopolysiloxane" is increased, the heat resistance, mechanical properties, adhesiveness to wiring and the like of the polymer may be considerably lowered, which is not preferable.

【0020】前記ポリイミドシロキサンは、濃度;0.
5g/100ml(N−メチル−2−ピロリドン)のポ
リマー溶液で30℃の測定温度で測定した対数粘度(ポ
リマーの重合度の程度を示す)が、0.05〜3程度で
ある高分子量のポリマーであることが好ましく、また、
そのポリイミドシロキサンのイミド化率(赤外線吸収ス
ペクトル分析法による「イミド結合」の割合)は、約9
0%〜100%であって、IRチャートにおいて、「ア
ミド−酸結合」の吸収ピークが実質的に見出されないも
のであることが好ましい。
The polyimide siloxane has a concentration of 0.
High molecular weight polymer having a logarithmic viscosity (indicating the degree of polymerization of the polymer) measured at a measurement temperature of 30 ° C. with a polymer solution of 5 g / 100 ml (N-methyl-2-pyrrolidone) is about 0.05 to 3 Is preferable, and
The imidation ratio of polyimide siloxane (the ratio of “imide bond” by infrared absorption spectroscopy) is about 9%.
It is preferably 0% to 100%, and the absorption peak of “amide-acid bond” is not substantially found in the IR chart.

【0021】なお、前記のポリイミドシロキサンは、適
当な常温又は熱硬化性樹脂、例えば、フェノール系エポ
キシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノール
系エポキシ樹脂などのエポキシ樹脂で一部変成されてい
るものであってもよく、そのようなポリイミドシロキサ
ンのエポキシ樹脂変成物を含有する保護塗膜は、耐薬品
性、耐熱性(ハンダ耐熱性など)が優れているので好ま
しい。
The above-mentioned polyimide siloxane is partially modified with an appropriate room temperature or thermosetting resin, for example, an epoxy resin such as a phenol-based epoxy resin, a novolak-type epoxy resin, and a bisphenol-based epoxy resin. A protective coating containing such a modified epoxy resin of polyimide siloxane is preferable because of its excellent chemical resistance and heat resistance (such as solder heat resistance).

【0022】前記ポリイミドシロキサンは、例えば、
(A)2,3,3’,4’−ビフェニルテトラカルボン
酸類を主として含有する芳香族テトラカルボン酸成分
と、(B)(a)ジアミノポリシロキサン及び(b)芳
香族ジアミンからなるジアミン成分とを、略等モル、有
機極性溶媒中で、120℃以上の高温に加熱して、一段
で重合及びイミド化することによって製造することがで
きる。また、ポリイミドシロキサンは、前記の酸成分と
ジアミン成分との二成分を、略等モル、有機極性溶媒
中、80℃以下の低い温度で重合してポリアミック酸を
生成させ、そのポリアミック酸を適当な手段(化学イミ
ド剤によるイミド化法、或いは、高温加熱によるイミド
化法)でイミド化して製造することもできる。
The polyimide siloxane is, for example,
(A) an aromatic tetracarboxylic acid component mainly containing 2,3,3 ′, 4′-biphenyltetracarboxylic acids; and (B) a diamine component comprising (a) a diaminopolysiloxane and (b) an aromatic diamine. Can be produced by heating in a substantially equimolar organic polar solvent to a high temperature of 120 ° C. or higher to carry out polymerization and imidization in one step. In addition, the polyimide siloxane, the two components of the acid component and the diamine component, approximately equimolar, in an organic polar solvent, polymerized at a low temperature of 80 ℃ or less to generate a polyamic acid, the polyamic acid suitable It can also be produced by imidization by means (imidization method using a chemical imidizing agent or imidation method using high-temperature heating).

【0023】前記の製法に使用される有機極性溶媒とし
ては、例えば、スルホキシド系溶媒、ホルムアミド系溶
媒、アセトアミド系溶媒、ピロリドン系溶媒、メチルジ
グライム、メチルトリジクライムなどのグライム系溶
媒、ヘキサメチレンホスホルアミド、γ−ブチロラクト
ン、シクロヘキサノンなど、あるいは、フェノール系溶
媒などを挙げることができる。
Examples of the organic polar solvent used in the above-mentioned production method include sulfoxide-based solvents, formamide-based solvents, acetamide-based solvents, pyrrolidone-based solvents, glyme-based solvents such as methyldiglyme and methyltridiclime, and hexamethylene phosphone. Luamide, γ-butyrolactone, cyclohexanone and the like, and phenol solvents.

【0024】前記の保護塗膜を構成している被覆組成物
は、実質的に揮発分を含有していない組成物であり、さ
らに、この組成物中には前記樹脂成分以外に、ワラスト
ナイト、シリカ、タルクなどの無機充填剤、ポリマー充
填剤、あるいは、顔料又は染料が配合されていてもよ
い。
The coating composition constituting the protective coating is a composition containing substantially no volatile components, and further contains wollastonite in addition to the resin component. , Silica, talc or the like, an inorganic filler, a polymer filler, or a pigment or a dye.

【0025】前記の被覆組成物からなるフィルムを形成
した場合にそのフィルムは、初期弾性率が1〜70kg
/mm2 であって柔軟であると共に、適当な機械的強度
(25℃の破断点強度:約0.5〜20kg/mm2
伸び率:約30〜500%)、電気絶縁性を充分なレベ
ルで保持しており、しかも、耐熱性(熱分解開始温度が
約250〜500℃であり、200℃で30秒間以上、
特に1分間以上のハンダ耐熱性などを示すなど)も高い
ものである。
When a film comprising the above coating composition is formed, the film has an initial elastic modulus of 1 to 70 kg.
/ Mm 2 , which is flexible and has suitable mechanical strength (strength at break at 25 ° C .: about 0.5 to 20 kg / mm 2 ,
(Elongation: about 30 to 500%), retains electrical insulation at a sufficient level, and has heat resistance (the thermal decomposition onset temperature is about 250 to 500 ° C, and at 200 ° C for 30 seconds or more,
In particular, solder heat resistance of 1 minute or more is high.

【0026】本願発明の屈曲部付き柔軟性配線板を製造
する方法としては、例えば、概略、支持フィルム上に導
電性材料の配線が形成されている柔軟性配線板2(金属
箔のエッチング工程後の配線板であって、部品の装着及
び/又はハンダ処理を行う前のフレキシブル配線板、T
AB用配線板など)の主要な配線領域上に耐熱性樹脂溶
液を塗布して絶縁保護塗膜7(ソルダーレジスト膜な
ど)を形成し、次いで、図5、図6及び図7に示すよう
な「該配線板2の屈曲部3における支持フィルム1のス
リット状開口部4を横切って設けられている多数の配線
5の少なくとも片側表面」に、例えば前記のポリイミド
シロキサンまたはそのエポキシ樹脂変成物が含有されて
いる被覆用組成物が有機極性溶媒に均一に溶解又は分散
されている被覆用組成物溶液を、適当の塗布手段で塗布
し、そして、その塗布膜を50〜280℃の温度で十分
に乾燥し、図1、図2、図3及び図4に示すように、ス
リット開口部4を横切る配線5の少なくとも片側表面
に、揮発分が実質的に除去された柔軟な保護塗膜6を形
成する方法が挙げられる。
As a method of manufacturing the flexible wiring board with a bent portion of the present invention, for example, the flexible wiring board 2 (after the metal foil etching step) in which wiring of a conductive material is formed on a supporting film is roughly described. The flexible wiring board before mounting components and / or soldering, T
A heat-resistant resin solution is applied on the main wiring area of an AB wiring board, etc. to form an insulating protective coating film 7 (solder resist film, etc.), and then as shown in FIGS. 5, 6, and 7. The “polyimide siloxane or its modified epoxy resin” is contained in “at least one surface of a large number of wirings 5 provided across the slit-shaped opening 4 of the support film 1 in the bent portion 3 of the wiring board 2”. A coating composition solution in which the coating composition is uniformly dissolved or dispersed in an organic polar solvent is applied by a suitable coating means, and the coated film is sufficiently coated at a temperature of 50 to 280 ° C. After drying, as shown in FIGS. 1, 2, 3 and 4, a flexible protective coating 6 from which volatile components have been substantially removed is formed on at least one surface of the wiring 5 traversing the slit opening 4. How to do .

【0027】前記の被覆用組成物溶液は、好適には前記
のポリイミドシロキサンを、硬化性樹脂(エポキシ樹
脂)、充填剤等のその他の被覆用成分と共に、沸点10
0℃〜250℃である有機極性溶媒に溶解又は分散する
ことによって調製することができ、ポリイミドシロキサ
ンの濃度が、2〜60重量%、特に5〜50重量%程度
であって、その回転粘度(25℃)が約500〜600
00センチポイズ、特に1000〜50000センチポ
イズの溶液粘度であることが好ましい。
The above-mentioned coating composition solution preferably contains the above-mentioned polyimide siloxane together with other coating components such as a curable resin (epoxy resin) and a filler, and has a boiling point of 10%.
It can be prepared by dissolving or dispersing in an organic polar solvent at 0 ° C. to 250 ° C., and the concentration of polyimidesiloxane is 2 to 60% by weight, particularly about 5 to 50% by weight, and its rotational viscosity ( 25 ° C) is about 500-600
It is preferable that the solution has a solution viscosity of 00 centipoise, particularly 1000 to 50,000 centipoise.

【0028】また、前記の被覆用組成物溶液に使用され
る有機極性溶媒は、沸点100℃〜250℃を示す有機
極性溶媒であって、前記のポリイミドシロキサンを容易
に溶解することができるものであることが好ましく、前
記のポリイミドシロキサンの製造に使用された有機極性
溶媒も使用することができ、フェノール系溶媒、アミド
系溶媒(ピロリドン系溶媒、ホルムアミド系溶媒、アセ
トアミド系溶媒等)、オキサン系溶媒(ジオキサン、ト
リオキサン等)、グライム系溶媒(メチルジグライム、
メチルトリグライム等)が特に好ましく、さらに、キシ
レン、エチルセロソルブなどが一部配合されていてもよ
い。
The organic polar solvent used in the coating composition solution is an organic polar solvent having a boiling point of 100 ° C. to 250 ° C., and can easily dissolve the polyimide siloxane. Preferably, the organic polar solvent used in the production of the above-mentioned polyimide siloxane can also be used, and phenol solvents, amide solvents (pyrrolidone solvents, formamide solvents, acetamide solvents, etc.), oxane solvents (Dioxane, trioxane, etc.), glyme solvents (methyl diglyme,
Methyltriglyme, etc.) is particularly preferred, and xylene, ethyl cellosolve and the like may be partially incorporated.

【0029】前記の有機極性溶媒としては、沸点120
〜240℃であるグライム系溶媒が特に好ましく、トリ
グライム系溶媒が最も好適であり、その理由としては、
ポリイミドシロキサン等をトリグライム系溶媒に溶解し
て調製された被覆用組成物溶液は、その溶媒が急速に蒸
発して被覆用組成物溶液の粘度が増大することがなく、
また、保存安定性が優れており、そして、前記の保護塗
膜を形成するための被覆用組成物溶液(印刷インキ)の
調製(ロール練りなど)が容易であり、また、その印刷
インキを使用してシルクスクリーン印刷などの塗布操作
を支障なく好適に行うことができるという利点がある。
The organic polar solvent includes a boiling point of 120.
A glyme-based solvent having a temperature of ~ 240 ° C is particularly preferred, and a triglyme-based solvent is most preferred.
The coating composition solution prepared by dissolving polyimide siloxane or the like in a triglyme solvent does not increase the viscosity of the coating composition solution due to rapid evaporation of the solvent.
In addition, it has excellent storage stability, and it is easy to prepare (e.g., roll kneading) a coating composition solution (printing ink) for forming the protective coating, and use the printing ink. Thus, there is an advantage that a coating operation such as silk screen printing can be suitably performed without any trouble.

【0030】前記の被覆用組成物溶液を、屈曲部付き柔
軟性配線板の屈曲部の配線の片側表面に、常温又は加温
下、回転塗布機、ディスペンサー又はシルクスクリーン
印刷機などを使用する公知の塗布手段で塗布し、次い
で、その塗布膜が、50〜280℃、好ましくは60〜
260℃、さらに好ましく100〜250℃の温度で
0.1〜10時間、特に0.2〜5時間乾燥され、硬化
性樹脂を含有する場合にはさらに硬化のために加熱処理
することにより、揮発分が実質的に除去された前述の絶
縁保護塗膜(厚さが約0.5〜200μm、特に1〜1
00μm程度である乾燥固化膜である)を形成すること
が好ましい。
The above coating composition solution is applied to one side surface of the wiring at the bent portion of the flexible wiring board having the bent portion by using a spin coating machine, a dispenser or a silk screen printing machine at room temperature or under heating. Then, the coating film is formed at a temperature of 50 to 280 ° C., preferably 60 to 280 ° C.
It is dried at a temperature of 260 ° C, more preferably at a temperature of 100 to 250 ° C for 0.1 to 10 hours, particularly 0.2 to 5 hours. The above-described insulating protective coating (particularly having a thickness of about 0.5 to 200 μm,
(A dry solidified film having a thickness of about 00 μm) is preferably formed.

【0031】また、前記の被覆用組成物溶液は、ワラス
トナイト、シリカ、タルクなどの無機充填剤、ポリマー
充填剤、無機又は有機の染料、エポキシ樹脂などの硬化
性樹脂、硬化剤などが少ない割合で配合されていてもよ
い。
The coating composition solution described above is low in inorganic fillers such as wollastonite, silica, talc and the like, polymer fillers, inorganic or organic dyes, curable resins such as epoxy resins, and hardeners. It may be blended in a ratio.

【0032】前記の被覆用組成物溶液としては、芳香族
テトラカルボン酸成分とジアミン成分とを有機極性溶媒
中で一段で重合およびイミド化して得られたポリイミド
シロキサンの重合溶液をそのまま使用してもよく、ま
た、その重合溶液をその重合溶媒と同様の有機溶媒で適
当な濃度に希釈して使用してもよい。また、被覆用組成
物溶液は、前述の重合溶液から一旦粉末状のポリイミド
シロキサンを析出させて単離し、その単離されたポリイ
ミドシロキサン粉末を前記の有機極性溶媒に均一に溶解
して調製することもできる。
As the above coating composition solution, a polyimidesiloxane polymerization solution obtained by polymerizing and imidizing an aromatic tetracarboxylic acid component and a diamine component in one step in an organic polar solvent can be used as it is. Alternatively, the polymerization solution may be diluted with an organic solvent similar to the polymerization solvent to an appropriate concentration before use. In addition, the coating composition solution is prepared by isolating the polyimide siloxane powder once by precipitating it from the above-described polymerization solution, and uniformly dissolving the isolated polyimide siloxane powder in the organic polar solvent. Can also.

【0033】[0033]

【実施例】以下に実施例を示し、この発明をさらに詳し
く説明する。
The present invention will be described in more detail with reference to the following examples.

【0034】実施例1 〔ポリイミドシロキサンの製造〕容量2リットルのガラ
ス製セパラブルフラスコに、2,3,3’,4’−ビフ
ェニルテトラカルボン酸二無水物(a−BPDA)14
7.2g(500ミリモル)と、N−メチル−2−ピロ
リドン(NMP)1274gとを入れて、a−BPDA
を溶解させ、そして、その溶液を室温で攪拌しながら、
ジアミノポリシロキサン(DAPS)〔信越シリコン株
式会社製、X−22−161AS、アミノ基に結合して
いる基:−(CH2 3 −、Siに結合している基:−
CH3 、−Si−O−の繰り返し単位=9〕304.9
g(346.5ミリモル)とジグライム530gとから
なる溶液を30分間で加え、重合温度190℃で窒素ガ
スを通じながら、しかも、メチルジグライムを還流させ
て水を除去しながら、3時間重合・イミド化反応させ、
次いで、その反応液を一旦室温に戻して攪拌しながら、
その冷却された反応液に、2,2−ビス〔4−(4−ア
ミノフェノキシ)フェニル〕プロパン(BAPP)6
2.19g(151.5ミリモル)とNMP500gと
の溶液を30分間で滴下しながら加えて、反応温度20
0〜210℃で6時間反応させて、ポリイミドシロキサ
ンを生成させた。
Example 1 [Production of polyimide siloxane] 2,3,3 ', 4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (a-BPDA) 14 was placed in a 2-liter glass separable flask.
A-BPDA was charged with 7.2 g (500 mmol) and 1274 g of N-methyl-2-pyrrolidone (NMP).
And, while stirring the solution at room temperature,
Diaminopolysiloxane (DAPS) [X-22-161AS, manufactured by Shin-Etsu Silicon Co., Ltd., a group bonded to an amino group:-(CH 2 ) 3- , a group bonded to Si:-
CH 3 , —Si—O— repeating unit = 9] 304.9
g (346.5 mmol) and 530 g of diglyme were added over 30 minutes, and the polymerization and imide were carried out for 3 hours while passing nitrogen gas at a polymerization temperature of 190 ° C. and refluxing methyl diglyme to remove water. Reaction,
Next, the reaction solution was once returned to room temperature and stirred,
2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane (BAPP) 6 was added to the cooled reaction solution.
A solution of 2.19 g (151.5 mmol) and 500 g of NMP was added dropwise over a period of 30 minutes, and a reaction temperature of 20 g was added.
The reaction was carried out at 0 to 210 ° C. for 6 hours to produce a polyimidesiloxane.

【0035】その反応液を冷却した後、20リットルの
メタノール中に添加して、ディスパーサーを用いて30
分間で析出させ、析出ポリマーを濾過してポリマー粉末
を単離し、そして、そのポリマー粉末について「10リ
ットルのメタノール中でディスパーサーを用いる10分
間の洗浄」を2回行い、さらに、60℃で8時間真空乾
燥してポリイミドシロキサン粉末428.9gを得た。
前述のようにして得られたポリイミドシロキサンは、対
数粘度(30℃)が、0.24であり、イミド化率が実
質的に100%であった。
After the reaction solution was cooled, it was added to 20 liters of methanol, and 30 ml was added using a disperser.
The polymer powder was isolated by filtration and the polymer powder was isolated, and the polymer powder was subjected to “washing for 10 minutes using a disperser in 10 liters of methanol” twice, and further performed at 60 ° C. for 8 minutes. After vacuum drying for 42 hours, 428.9 g of a polyimidesiloxane powder was obtained.
The polyimide siloxane obtained as described above had a logarithmic viscosity (30 ° C.) of 0.24 and an imidization ratio of substantially 100%.

【0036】前記のポリイミドシロキサンは、ポリイミ
ドシロキサン粉末0.2gを、20℃で、メチルジグラ
イム0.8gに添加し放置して、その溶解の状態を観察
した結果、1時間以内に完全に溶解した。前記のポリイ
ミドシロキサンは、デュポン951熱重量測定装置で測
定した結果、熱分解開始温度が約360℃である。
As for the above-mentioned polyimide siloxane, 0.2 g of the polyimide siloxane powder was added to 0.8 g of methyl diglyme at 20 ° C., and the dissolution state was observed. As a result, the polyimide siloxane was completely dissolved within one hour. did. The polyimidesiloxane has a thermal decomposition onset temperature of about 360 ° C. as measured by a DuPont 951 thermogravimeter.

【0037】〔被覆用組成物溶液の調製〕前述のように
して製造したポリイミドシロキサン3.5gを常温でメ
チルジグライム6.5g中に溶解して、ポリイミドシロ
キサンがメチルジグライム中にポリマー濃度35重量%
で均一に溶解している被覆用組成物溶液を調製した。そ
の被覆用組成物溶液は、3500センチポイズの溶液粘
度(回転粘度;25℃)を有していた。
[Preparation of Coating Composition Solution] 3.5 g of the polyimide siloxane produced as described above was dissolved in 6.5 g of methyl diglyme at room temperature, and the polyimide siloxane was dissolved in methyl diglyme at a polymer concentration of 35 g. weight%
To prepare a coating composition solution uniformly dissolved. The coating composition solution had a solution viscosity (rotational viscosity; 25 ° C.) of 3500 centipoise.

【0038】ガラス板上に200μmのスペーサーを枠
として配置して、前記の被覆用組成物溶液をそのガラス
板上に流延して薄膜を形成し、その薄膜を80℃から2
00℃まで加温して乾燥及び熱処理して、厚さ約40〜
60μmのフィルムを形成して、そのフィルムについ
て、万能型引張試験機(オリエンテック社製、テンシロ
ンUTM−11−20)で、破断強度、伸び率及び初期
弾性率を測定した結果、破断強度:2.0kg/m
2 、伸び率:509%、及び初期弾性率:25kg/
mm2 であった。なお、前記のフィルムは、150℃の
炉内に2000時間放置する耐熱耐久性試験において、
引張強度が1.6kg/mm2 、伸び率が80%、初期
弾性率が23kg/mm2 であり、極めて優れた耐熱耐
久性を有しているものであった。
A 200 μm spacer is arranged as a frame on a glass plate, and the coating composition solution is cast on the glass plate to form a thin film.
Heat to 00 ° C, dry and heat treat to a thickness of about 40-
A film having a thickness of 60 μm was formed, and the film was measured for breaking strength, elongation, and initial elastic modulus by a universal tensile tester (manufactured by Orientec, Tensilon UTM-11-20). 0.0kg / m
m 2 , elongation: 509%, and initial elasticity: 25 kg /
mm 2 . In addition, the said film was left in the furnace of 150 degreeC for 2000 hours,
The tensile strength was 1.6 kg / mm 2 , the elongation percentage was 80%, the initial elastic modulus was 23 kg / mm 2 , and it had extremely excellent heat resistance and durability.

【0039】〔被覆用組成物溶液の塗布操作:保護塗膜
の形成〕図5に示すような、厚さ75μmである芳香族
ポリイミドフィルム(宇部興産株式会社製、UPILE
X S−75)を基材とするフレキシブル配線板2(銅
箔配線の幅:約300μm、配線密度:60%、スリッ
ト開口部のサイズ:8mm×20mm)を使用して、そ
の配線板2の主な配線の領域の全体にエポキシ樹脂系ソ
ルダーレジスト(太陽インキ(株)製、S−22)を印
刷法で塗布して、その塗布膜を250℃以上の温度で乾
燥及び熱処理して、図5に示すような前記フレキシブル
配線板2の主な配線の領域に絶縁保護塗膜7(厚さ:4
0μm)を形成し、次いで、そのフレキシブル配線板2
の多数の配線5の片側表面上に、スクリーン印刷用のス
ルクスクリーンを密接に配置してシルクスクリーン印刷
機を使用して、前記被覆用組成物溶液の塗布膜を形成
し、次いで、該配線5上の塗布膜を80℃で30分間、
150℃で30分間、180℃で30分間、乾燥及び加
熱処理(ベーク)して、保護塗膜(平均膜厚さ:約30
μm)を形成して、図1、図2及び図3に示すような屈
曲部付き柔軟性配線板を製造した。
[Application operation of coating composition solution: formation of protective coating film] As shown in FIG. 5, an aromatic polyimide film having a thickness of 75 μm (UPILE manufactured by Ube Industries, Ltd.)
XS-75) as a base material, using a flexible wiring board 2 (copper foil wiring width: about 300 μm, wiring density: 60%, slit opening size: 8 mm × 20 mm). An epoxy resin-based solder resist (manufactured by Taiyo Ink Co., Ltd., S-22) is applied over the entire main wiring area by a printing method, and the applied film is dried and heat-treated at a temperature of 250 ° C. or more. In the area of the main wiring of the flexible wiring board 2 as shown in FIG.
0 μm), and then the flexible wiring board 2
On one side surface of a large number of wirings 5, a silk screen for screen printing is closely arranged, and a coating film of the coating composition solution is formed using a silk screen printing machine. Apply the above coating film at 80 ° C. for 30 minutes,
After drying and heating (baking) at 150 ° C. for 30 minutes and 180 ° C. for 30 minutes, a protective coating (average film thickness: about 30
μm) to form a flexible wiring board with a bent portion as shown in FIGS. 1, 2 and 3.

【0040】前述のようにして製造した屈曲部付き柔軟
性配線板は、図4に示すような状態(180°屈曲)に
なるように、10回以上屈曲部において屈曲させたが、
各配線5がいずれも破断することはなかった。また、前
記の屈曲部付き柔軟性配線板は、その各保護塗膜の接着
性が、碁盤目試験法(粘着テープによる剥離)に準ずる
接着性試験方法によって行った結果、粘着テープによっ
て剥離される部分がまったくなかった。そして、屈曲部
付き柔軟性配線板における各保護塗膜の耐熱性は、20
0℃の半田浴に30秒間浸漬して、浸漬後の保護塗膜の
状態の変化を観察した結果、まったく支障がないもので
あった。
The flexible wiring board with the bent portion manufactured as described above was bent at the bent portion ten times or more so as to be in the state shown in FIG. 4 (180 ° bending).
None of the wirings 5 was broken. Further, the flexible wiring board with the bent portion is peeled off by the adhesive tape as a result of the adhesiveness of each protective coating film being measured by an adhesiveness test method according to a grid test method (peeling off with an adhesive tape). There were no parts. The heat resistance of each protective coating in the flexible wiring board with a bent portion is 20
It was immersed in a solder bath at 0 ° C. for 30 seconds, and the change in the state of the protective coating after immersion was observed.

【0041】[0041]

【発明の効果】この発明の屈曲部付き柔軟性配線板は、
その支持フィルム(基材)のスリット状開口部(屈曲
部)を横切る配線の少なくとも片側表面に、フィルムと
して初期弾性率が1〜70kg/mm2 、25℃での破
断点強度が約0.5〜20kg/mm2 、伸び率が約3
0〜500%、電気絶縁性が充分なレベルで保持されて
おり、熱分解開始温度が約250〜500℃、200℃
で30秒間以上のハンダ耐熱性を示す保護塗膜が設けら
れているので、その配線板の屈曲部を屈曲することによ
って、スリット状開口部を横切る配線が容易に断するこ
とがない優れた柔軟性配線板(例えば、フレキシブル配
線板、TAB用配線など)を得ることができる。
The flexible wiring board with a bent portion according to the present invention comprises:
At least one surface of the wiring crossing the slit-shaped opening (bent portion) of the supporting film (substrate) has an initial elastic modulus of 1 to 70 kg / mm 2 and a breaking strength at 25 ° C. of about 0.5. ~ 20kg / mm 2 , elongation about 3
0 to 500%, electrical insulation is maintained at a sufficient level, and thermal decomposition onset temperature is about 250 to 500 ° C, 200 ° C
Protective coating exhibiting solder heat resistance of 30 seconds or more is provided, so that by bending the bent portion of the wiring board, the wiring crossing the slit-shaped opening is not easily cut off, and has excellent flexibility. A flexible wiring board (for example, a flexible wiring board, a wiring for TAB, etc.) can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明の屈曲部付き柔軟性配線板の一例を部
分的に示す平面図である。
FIG. 1 is a plan view partially showing an example of a flexible wiring board with a bent portion of the present invention.

【図2】図1の屈曲部付き柔軟性配線板のAA線の断面
図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line AA of the flexible wiring board with a bent portion in FIG.

【図3】図1の屈曲部付き柔軟性配線板のBB線の断面
図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view taken along the line BB of the flexible wiring board with a bent portion in FIG. 1;

【図4】この発明の屈曲部付き柔軟性配線板をスリット
開口部の屈曲部で折曲げた状態を示す断面図である。
FIG. 4 is a cross-sectional view showing a state in which the flexible wiring board with a bent portion of the present invention is bent at the bent portion of the slit opening.

【図5】この発明の屈曲部付き柔軟性配線板の製造に使
用する、絶縁保護塗布膜の施された柔軟性配線板の一例
を部分的に示す平面図である。
FIG. 5 is a plan view partially showing an example of a flexible wiring board provided with an insulating protective coating film, which is used for manufacturing the flexible wiring board with a bent portion of the present invention.

【図6】図5の柔軟性配線板のCC線の断面図である。6 is a cross-sectional view of the flexible wiring board of FIG. 5 taken along line CC.

【図7】図5の柔軟性配線板のDD線の断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view taken along the line DD of the flexible wiring board of FIG. 5;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 支持フィルム 2 屈曲部付き柔軟性配線板 3 屈曲部 4 スリット状開口部 5 配線(スリット状開口部5を横切る配線) 6 保護塗膜 7 絶縁保護塗膜 REFERENCE SIGNS LIST 1 support film 2 flexible wiring board with bent portion 3 bent portion 4 slit-shaped opening 5 wiring (wiring across slit-shaped opening 5) 6 protective coating 7 insulating protective coating

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】支持フィルム上に導電性材料の配線が形成
されている柔軟性配線板は主要な配線上に絶縁保護塗膜
が施されており、そして、該配線板は、屈曲部において
前記支持フィルムがスリット状に開口していて、多数の
配線が該スリット状開口部を横切って設けられており、
そして、該スリット開口部上に横切っている配線の少な
くとも片側表面には、フィルムとして初期弾性率が1〜
70kg/mm2 、25℃での破断点強度が約0.5〜
20kg/mm2 、伸び率が約30〜500%、電気絶
縁性が充分なレベルで保持されており、熱分解開始温度
が約250〜500℃、200℃で30秒間以上のハン
ダ耐熱性を示す保護塗膜が被覆されていることを特徴と
する屈曲部付き柔軟性配線板。
1. A flexible wiring board in which wiring of a conductive material is formed on a supporting film, an insulating protective coating is applied on main wiring, and the wiring board has the above-described structure at a bent portion. The support film is opened in a slit shape, and a number of wirings are provided across the slit-shaped opening,
Then, at least one surface of the wiring crossing over the slit opening has an initial elastic modulus of 1 to 1 as a film.
70 kg / mm 2 , strength at break at 25 ° C. of about 0.5 to
20 kg / mm 2 , elongation percentage is about 30-500%, electrical insulation is maintained at a sufficient level, and thermal decomposition onset temperature is about 250-500 ° C, and shows solder heat resistance at 200 ° C for 30 seconds or more. A flexible wiring board with a bent portion, which is covered with a protective coating.
【請求項2】TAB用である請求項1に記載の屈曲部付
き柔軟性配線板。
2. The flexible wiring board with a bent portion according to claim 1, which is for TAB.
【請求項3】請求項1または2に記載の屈曲部付き柔軟
性配線板のスリット状開口部の配線の少なくとも片面に
被覆されている、フィルムとして初期弾性率が1〜70
kg/mm2 、25℃での破断点強度が約0.5〜20
kg/mm2 、伸び率が約30〜500%、電気絶縁性
が充分なレベルで保持されており、熱分解開始温度が約
250〜500℃、200℃で30秒間以上のハンダ耐
熱性を示す保護塗膜が保護塗膜を与える保護塗膜材。
3. A film having an initial elastic modulus of 1 to 70 as a film which is coated on at least one surface of the wiring of the slit-shaped opening of the flexible wiring board with a bent portion according to claim 1 or 2.
kg / mm 2 , strength at break at 25 ° C. of about 0.5 to 20
kg / mm 2 , elongation percentage is about 30 to 500%, electrical insulation is maintained at a sufficient level, and thermal decomposition onset temperature is about 250 to 500 ° C, and solder heat resistance is 200 ° C for 30 seconds or more. A protective coating material in which the protective coating provides a protective coating.
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