JP2910948B2 - Manufacturing method of flexible wiring board with bend - Google Patents

Manufacturing method of flexible wiring board with bend

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JP2910948B2
JP2910948B2 JP23531391A JP23531391A JP2910948B2 JP 2910948 B2 JP2910948 B2 JP 2910948B2 JP 23531391 A JP23531391 A JP 23531391A JP 23531391 A JP23531391 A JP 23531391A JP 2910948 B2 JP2910948 B2 JP 2910948B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、「支持体フィルム上
の大部分(支持フィルムの全面にわたる部分)に導電性
材料の配線が形成されている柔軟性配線板(例えば、フ
レキシブル配線部材、TAB用配線部材など)」であっ
て、しかも屈曲部における前記支持フィルムのスリット
状開口部を横切る多数の配線が設けられている柔軟性配
線板について、前記の主な配線の領域およびスリット状
開口部を横切る多数の配線の片側表面に、芳香族テトラ
カルボン酸成分と、50−90モル%のジアミノポリシ
ロキサン及び10−50モル%の芳香族ジアミンからな
るジアミン成分とを重合及びイミド化することにより得
られる特殊な可溶性のポリイミドシロキサンを含有する
特定の被覆用組成物を、シルクスクリ−ン印刷法で同時
に塗布し塗布膜を乾燥して、それぞれの配線が保護塗膜
で被覆されていて、前記スリット状開口部を横切る配線
が屈曲によって容易に破断することがない屈曲部付き柔
軟性配線板を製造する方法に係わる。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a flexible wiring board (eg, a flexible wiring member, TAB) in which a conductive material wiring is formed on a large part of the support film (over the entire surface of the support film). Wiring member, etc.), and the flexible wiring board provided with a large number of wirings crossing the slit-shaped opening of the support film at the bent portion, the main wiring area and the slit-shaped opening On one side surface of a large number of wirings crossing the substrate , by polymerizing and imidizing an aromatic tetracarboxylic acid component and a diamine component composed of 50-90 mol% of diaminopolysiloxane and 10-50 mol% of aromatic diamine. A specific coating composition containing the obtained special soluble polyimide siloxane is simultaneously applied by a silk screen printing method to form a coating film. The present invention relates to a method for manufacturing a flexible wiring board with a bent portion, which is dried and each of the wirings is covered with a protective coating film, and the wiring crossing the slit-shaped opening is not easily broken by bending.

【0002】[0002]

【従来技術の説明】従来、支持フィルム上の大部分に導
電性の配線が形成されており、前記の支持フィルムの一
部をスリット状に開口されていて、該配線板の一部をス
リット状開口部に沿って屈曲させ易くしているいる柔軟
性配線板(フレキシブル配線部材、TAB用配線部材
等)は、該柔軟性配線板を最終的に電気器具等の内部の
狭い空間内に装着するために、極めて必要とされてい
る。
2. Description of the Related Art Conventionally, conductive wiring is formed on most of a supporting film, a part of the supporting film is opened in a slit shape, and a part of the wiring board is formed in a slit shape. A flexible wiring board (flexible wiring member, wiring member for TAB, etc.) that is easily bent along the opening is finally mounted in a narrow space inside an electric appliance or the like. It is extremely needed for:

【0003】しかし、そのような屈曲部付き柔軟性配線
板は、前記スリット状開口部を横切っている多数の配線
(銅箔のエッチング後の裸線)が、支持材などで支持さ
れておらず、極めて細くて機械的強度の弱いものである
ので、該配線板をスリット状開口部に沿ってそのまま屈
曲すると、そのスリット状開口部を横切っている多数の
配線が極めて破断し易く断線する恐れがあり、その配線
について何らかの保護をする必要があった。
However, in such a flexible wiring board with a bent portion, a large number of wirings (bare wires after copper foil is etched) crossing the slit-shaped opening are not supported by a support material or the like. Since the wiring board is extremely thin and has low mechanical strength, if the wiring board is bent as it is along the slit-shaped opening, a large number of wirings crossing the slit-shaped opening may be extremely easily broken and disconnected. There was a need to provide some protection for the wiring.

【0004】また、柔軟性配線板は、各種の配線を絶縁
し、保護するために耐熱性の絶縁保護膜をその配線の領
域の表面に施す必要があったが、その配線板上に施され
た絶縁保護膜のために、配線板自体がカールし、その後
の種々の加工工程が極めて困難で複雑になるという問題
があった。
Further, in the flexible wiring board, it is necessary to apply a heat-resistant insulating protective film on the surface of the wiring area in order to insulate and protect various wirings. Due to the insulating protective film, the wiring board itself is curled, and there is a problem that various processing steps thereafter are extremely difficult and complicated.

【0005】前述のような配線板の絶縁保護膜によるカ
ールの問題を効果的に解消でき、そして、前記の多数の
配線を屈曲時の破断から効果的に防御することができる
柔軟性配線板およびその製法は、種々の提案がなされて
いるが、未だに、簡便で工業的な手段(製法)があまり
なく、そのような柔軟性配線板を容易に製造する方法が
求められているのである。
[0005] A flexible wiring board and a flexible wiring board which can effectively solve the problem of curling due to the insulating protective film of the wiring board as described above, and can effectively protect the large number of wirings from breaking when bent. Various proposals have been made for the production method, but there are still few simple and industrial means (production methods), and a method for easily producing such a flexible wiring board is required.

【0006】[0006]

【解決すべき問題点】この発明の目的は、前述の屈曲部
付き柔軟性配線板の屈曲部におけるスリット状開口部を
横切る『多数の配線』が屈曲に対して効果的に保護され
ており、しかも、大部分の主な配線の領域の表面がカー
ルを起こさない絶縁保護塗布膜で被覆されている屈曲部
付き柔軟性配線板(例えば、フレキシブル配線板、TA
B用配線板など)を工業的に容易に製造する方法を提供
することである。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a flexible wiring board with a bent portion, in which "a large number of wires" crossing a slit-shaped opening in the bent portion are effectively protected against bending. In addition, a flexible wiring board with a bent portion (for example, a flexible wiring board, TA
B wiring board etc.) industrially and easily.

【0007】[0007]

【問題点を解決する手段】この発明は、支持フィルム上
の大部分に導電性材料の主な配線が形成されており、屈
曲部において前記支持フィルムがスリット状に開口して
いて、多数の配線が該スリット状開口部を横切って設け
られている柔軟性配線板において、その配線板の主要な
配線の領域および屈曲部における支持フィルムのスリッ
ト状開口部を横切って設けられている多数の配線の片側
表面に、芳香族テトラカルボン酸成分と、50−90モ
ル%のジアミノポリシロキサン及び10−50モル%の
芳香族ジアミンからなるジアミン成分とを重合及びイミ
ド化することにより得られたポリイミドシロキサンまた
はそのエポキシ樹脂変成物が樹脂成分の80重量%以上
含有されている樹脂成分が主として配合されている被覆
用組成物が有機極性溶媒に均一に溶解又は分散されてい
る被覆用組成物溶液を、シルクスクリ−ン印刷法で同時
に塗布し、そして、その塗布膜を50−280℃の温度
で乾燥し揮発分が実質的に除去された保護塗膜を形成す
るすることを特徴とする屈曲部付き柔軟性配線板の製法
に関する。
According to the present invention, a main wiring of a conductive material is formed on a large part of a support film, and the support film is opened in a slit shape at a bent portion to form a large number of wirings. In the flexible wiring board provided across the slit-shaped opening, a large number of wirings provided across the slit-shaped opening of the support film in the main wiring area and the bent portion of the wiring board. on one surface, and an aromatic tetracarboxylic acid component, 50-90 Mo
% Of a diaminopolysiloxane and 10-50 mol% of a diamine component composed of an aromatic diamine, and a polyimide siloxane or an epoxy resin modified product thereof obtained by polymerizing and imidizing 80% by weight of the resin component. % Of a coating composition mainly containing a resin component containing at least 1% by weight of a coating composition solution uniformly dissolved or dispersed in an organic polar solvent by a silk screen printing method, and And a method for producing a flexible wiring board with a bent portion, characterized in that the coating film is dried at a temperature of 50 to 280 ° C. to form a protective coating film from which volatile components have been substantially removed.

【0008】以下、本願の各発明について、図面も参考
にして詳しく説明する。図1は、この発明の製法で得ら
れた屈曲部付き柔軟性配線板の一例(ソルダーレジスト
からなる絶縁保護塗膜で被覆されている主要な配線の領
域がかなり省略されており、屈曲部付近を主として示す
ものである)を部分的に示す平面図であり、図2は、図
1の配線板のAA線の断面図であり、又、図3は、図1
の配線板のBB線の断面図である。
Hereinafter, each invention of the present application will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 shows an example of a flexible wiring board with a bent portion obtained by the manufacturing method of the present invention (a main wiring region covered with an insulating protective coating made of a solder resist is considerably omitted, and the vicinity of the bent portion is shown). 2 is a cross-sectional view taken along the line AA of the wiring board of FIG. 1, and FIG. 3 is a cross-sectional view of the wiring board of FIG.
FIG. 4 is a cross-sectional view of the wiring board taken along line BB.

【0009】図4は、本発明の製法で得られた屈曲部付
き柔軟性配線板を屈曲部で折り曲げた状態を示す断面図
である。図5は、本発明の屈曲部付き柔軟性配線板の製
造に使用する柔軟性配線板の一例を部分的に示し、図6
は、図5の配線板のCC線の断面図であり、また、図7
は、図5の配線板のDD線の断面図である。
FIG. 4 is a sectional view showing a state in which a flexible wiring board with a bent portion obtained by the method of the present invention is bent at the bent portion. FIG. 5 partially shows an example of a flexible wiring board used for manufacturing the flexible wiring board with a bent portion of the present invention.
7 is a cross-sectional view of the CC line of the wiring board of FIG. 5, and FIG.
FIG. 6 is a sectional view taken along line DD of the wiring board of FIG. 5.

【0010】この発明の製法に使用される屈曲部付き柔
軟性配線板は、図5、図6及び図7に示すように、支持
フィルム1上の大部分に主な配線が金属箔のエッチング
工程によって形成されており、屈曲部3において前記支
持フィルム1がスリット状に開口していて、多数の配線
5が該スリット開口部4を横切って設けられている柔軟
性配線板2であればよい。
As shown in FIGS. 5, 6, and 7, a flexible wiring board with a bent portion used in the manufacturing method of the present invention has an etching process in which a main wiring is mostly formed on a support film 1 by a metal foil. The flexible film 2 may be a flexible wiring board in which the support film 1 is opened in a slit shape at the bent portion 3 and a large number of wirings 5 are provided across the slit opening 4.

【0011】前記支持フィルムとしては、耐熱性ポリマ
ー製フィルム、例えば、芳香族ポリイミドフィルム、芳
香族ポリアミドフィルム、芳香族ポリエステルフィル
ム、無機系フィルムなどを挙げることができ、そして、
前記の導電性配線としては、銅箔、アルミニウム箔など
の金属箔(厚さ:10〜200μm)からエッチングな
どによって形成された微細な配線(線幅:10〜500
μm、特に30〜300μm、及び、線間隔:10〜5
00μm、特に30〜400μm)を挙げることができ
る。
Examples of the support film include a heat-resistant polymer film, for example, an aromatic polyimide film, an aromatic polyamide film, an aromatic polyester film, an inorganic film, and the like.
As the conductive wiring, a fine wiring (line width: 10 to 500) formed by etching or the like from a metal foil (thickness: 10 to 200 μm) such as a copper foil or an aluminum foil.
μm, especially 30 to 300 μm, and line spacing: 10 to 5
00 μm, especially 30 to 400 μm).

【0012】この発明においては、前記の支持フィルム
としては、特に、TAB用配線板に使用される、両端部
に配列された一対のスプロケット(穴)を有する長尺の
耐熱性フィルムが好適である。
In the present invention, as the support film, a long heat-resistant film having a pair of sprockets (holes) arranged at both ends and particularly used for a wiring board for TAB is preferable. .

【0013】この発明の屈曲部付き柔軟性配線板の製法
では、概略、前述の柔軟性配線板における『主な配線の
領域』および『屈曲部3における支持フィルム1のスリ
ット状開口部4を横切って設けられている多数の配線
5』の片側表面に、ポリイミドシロキサンまたはそのエ
ポキシ樹脂変成物が含有されている被覆用組成物が有機
極性溶媒に均一に溶解又は分散されている特定の被覆用
組成物溶液を、シルクスクリーン印刷法で同時に塗布
し、そして、その塗布膜を50〜260℃の温度で十分
に乾燥し、図1、図2、および図3に示すように、『主
な配線の領域』の片側表面に揮発分が実質的に除去され
た柔軟な絶縁保護塗膜を形成すると共に、『スリット開
口部4を横切る配線5』の片側表面に、揮発分が実質的
に除去された柔軟な保護塗膜6を形成するのである。
In the method for manufacturing a flexible wiring board with a bent portion according to the present invention, the "main wiring area" and the "crossing the slit-shaped opening 4 of the support film 1 at the bent portion 3" in the aforementioned flexible wiring board are roughly described. A specific coating composition in which a coating composition containing polyimidesiloxane or its modified epoxy resin is uniformly dissolved or dispersed in an organic polar solvent on one surface of a large number of wirings 5 "provided. Solution is simultaneously applied by a silk screen printing method, and the applied film is sufficiently dried at a temperature of 50 to 260 ° C., and as shown in FIG. 1, FIG. 2, and FIG. A flexible insulating protective film from which volatile matter was substantially removed was formed on one surface of the "region", and volatile matter was substantially removed on one surface of "the wiring 5 crossing the slit opening 4". Flexible It is to form a coating film 6.

【0014】前記の被覆用組成物に配合されているポリ
イミドシロキサンは、(A)2,3,3’,4’−又は
3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸又は
酸二無水物、或いは、それらの酸誘導体などのビフェニ
ルテトラカルボン酸類を主成分とする(60モル%以
上、特に70〜100モル%含有する)芳香族テトラカ
ルボン酸成分と、(B)(a)一般式A
The polyimide siloxane compounded in the coating composition is (A) 2,3,3 ', 4'- or 3,3', 4,4'-biphenyltetracarboxylic acid or acid dianhydride. Or an aromatic tetracarboxylic acid component (containing 60 mol% or more, particularly 70 to 100 mol%) containing biphenyltetracarboxylic acids as main components, such as acid derivatives thereof, and (B) (a) A

【式1】 〔式中、Rは2価の炭化水素残基、特に炭素数2〜6
の炭化水素残基を示し、Rはそれぞれ独立に炭素数1
〜3のアルキル基又はフェニル基を示し、nは3〜3
0、特に5〜20の整数を示す。〕で示されるジアミノ
ポリシロキサン50〜90モル%、特に55〜85モル
%、及び (b)芳香族ジアミン10〜50モル%、特に15〜4
5モル%からなるジアミン成分とを、有機極性溶媒中
で、重合及びイミド化することにより得られた可溶性の
ポリイミドシロキサンであることが好ましい。
(Equation 1) [Wherein, R 1 is a divalent hydrocarbon residue, particularly 2 to 6 carbon atoms.
Wherein R 2 each independently represents 1 carbon atom
Represents an alkyl group or a phenyl group, and n represents 3 to 3
It represents an integer of 0, especially 5 to 20. 50-90 mol%, especially 55-85 mol% of the diaminopolysiloxane represented by the formula: and (b) 10-50 mol% of the aromatic diamine, especially 15-4 mol
It is preferably a soluble polyimide siloxane obtained by polymerizing and imidizing a diamine component comprising 5 mol% in an organic polar solvent.

【0015】前記の芳香族テトラカルボン酸成分におい
て、ビフェニルテトラカルボン酸類と共に使用すること
ができる『他の芳香族テトラカルボン酸類』としては、
3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン
酸、3,3’,4,4’−ビフェニルエーテルテトラカ
ルボン酸、ピロメリット酸又はそれらの酸の二無水物、
あるいは、それらの酸のエステル化物などを挙げること
ができ。
In the above-mentioned aromatic tetracarboxylic acid component, "other aromatic tetracarboxylic acids" which can be used together with biphenyltetracarboxylic acids include:
3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic acid, 3,3 ′, 4,4′-biphenylethertetracarboxylic acid, pyromellitic acid or a dianhydride of those acids,
Alternatively, esters of these acids can be mentioned.

【0016】前記の一般式Aで示されるジアミノポリシ
ロキサンとしては、一般式AのRが炭素数2〜6の
『複数のメチレン基』又はフェニレン基からなる2価の
炭化水素残基であり、Rがそれぞれ独立にメチル基、
エチル基、プロピル基などの炭素数1〜3のアルキル
基、又は、フェニル基であることが好ましく、さらに、
nが5〜20程度であることが好ましい。
The diaminopolysiloxane represented by the general formula A is a divalent hydrocarbon residue in which R 1 in the general formula A is a “multiple methylene group” having 2 to 6 carbon atoms or a phenylene group. , R 2 are each independently a methyl group,
It is preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms such as an ethyl group or a propyl group, or a phenyl group.
n is preferably about 5 to 20.

【0017】前記の芳香族ジアミンとしては、複数のベ
ンゼン環を有する芳香族ジアミン化合物が好ましく、例
えば、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、4,
4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノ
ジフェニルスルホン、o−トリジン、o−ジアニシジン
などのベンゼン環を2個有する芳香族ジアミン化合物、
1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,
4−ビス(4−アミノフェニル)ベンゼンなどのベンゼ
ン環を3個有する芳香族ジアミン化合物、及び、ビス
〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、
2,2−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニ
ル〕プロパンなどのベンゼン環を4個有する芳香族ジア
ミン化合物を好適に挙げることができる。
The aromatic diamine is preferably an aromatic diamine compound having a plurality of benzene rings, for example, 4,4'-diaminodiphenyl ether,
Aromatic diamine compounds having two benzene rings such as 4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, o-tolidine, o-dianisidine,
1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,
An aromatic diamine compound having three benzene rings such as 4-bis (4-aminophenyl) benzene, and bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone;
Aromatic diamine compounds having four benzene rings, such as 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, are preferred.

【0018】前記の芳香族ジアミンとしては、ベンゼン
環2個以上有する芳香族ジアミン化合物と共に、全芳香
族ジアミン成分に対して60モル%以下の割合でベンゼ
ン環を1個有する芳香族ジアミン化合物を併用すること
も可能であり、ベンゼン環1個の芳香族ジアミン化合物
としては、例えば、パラフェニレンジアミン、メタフェ
ニレンジアミン、2,4−ジアミノトルエン、3,5−
ジアミノ安息香酸、2,6−ジアミノ安息香酸、3,5
−ジアミノベンジルアクリレートなどを挙げることがで
きる。
As the aromatic diamine, an aromatic diamine compound having one or more benzene rings is used together with an aromatic diamine compound having two or more benzene rings in a proportion of 60 mol% or less based on the total aromatic diamine component. The aromatic diamine compound having one benzene ring may be, for example, paraphenylenediamine, metaphenylenediamine, 2,4-diaminotoluene, 3,5-
Diaminobenzoic acid, 2,6-diaminobenzoic acid, 3,5
-Diaminobenzyl acrylate and the like.

【0019】前記のポリイミドシロキサンにおいては、
全ジアミン成分に対する『ジアミノポリシロキサンに基
づく主鎖単位』の含有割合が少なくなると、そのような
ポリイミドシロキサンの溶解性が低下することがあり、
一方、前記『ジアミノポリシロキサンに基づく主鎖単
位』の含有割合が多くなると、ポリマーの耐熱性、機械
的物性、配線への接着性などがかなり低下することがあ
るので好ましくない。
In the above polyimide siloxane,
When the content ratio of the `` main chain unit based on diaminopolysiloxane '' relative to all diamine components decreases, the solubility of such polyimide siloxane may decrease,
On the other hand, when the content ratio of the "main chain unit based on diaminopolysiloxane" is increased, the heat resistance, mechanical properties, adhesiveness to wiring, etc. of the polymer may be considerably reduced, which is not preferable.

【0020】前記ポリイミドシロキサンは、濃度;0.
5g/100ml(N−メチル−2−ピロリドン)のポ
リマー溶液で30℃の測定温度で測定した対数粘度(ポ
リマーの重合度の程度を示す)が、0.05〜3程度で
ある高分子量のポリマーであることが好ましく、また、
そのポリイミドシロキサンのイミド化率(赤外線吸収ス
ペクトル分析法による『イミド結合』の割合)は、約9
0%〜100%であって、IRチャートにおいて、『ア
ミド−酸結合』の吸収ピークが実質的に見出されないも
のであることが好ましい。
The polyimide siloxane has a concentration of 0.
High molecular weight polymer having a logarithmic viscosity (indicating the degree of polymerization of the polymer) measured at a measurement temperature of 30 ° C. with a polymer solution of 5 g / 100 ml (N-methyl-2-pyrrolidone) is about 0.05 to 3 Is preferable, and
The imidation ratio of polyimide siloxane (ratio of “imide bond” by infrared absorption spectroscopy) is about 9
It is preferably from 0% to 100%, and the absorption peak of "amide-acid bond" is not substantially found in the IR chart.

【0021】なお、前記のポリイミドシロキサンは、適
当な常温又は熱硬化性樹脂、例えば、フェノール系エポ
キシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノール
系エポキシ樹脂などのエポキシ樹脂で一部変成されてい
るものであってもよく、そのようなポリイミドシロキサ
ンのエポキシ樹脂変成物を含有する保護塗膜は、耐薬品
性、耐熱性(ハンダ耐熱性など)が優れているので好ま
しい。
The above-mentioned polyimide siloxane is partially modified with an appropriate room temperature or thermosetting resin, for example, an epoxy resin such as a phenol-based epoxy resin, a novolak-type epoxy resin, and a bisphenol-based epoxy resin. A protective coating containing such a modified epoxy resin of polyimide siloxane is preferable because of its excellent chemical resistance and heat resistance (such as solder heat resistance).

【0022】前記ポリイミドシロキサンは、例えば、
(A)2,3,3’,4’−ビフェニルテトラカルボン
酸類を主として含有する芳香族テトラカルボン酸成分
と、(B)(a)前記一般式Aで示されるジアミノポリ
シロキサン及び(b)芳香族ジアミンからなるジアミン
成分とを、略等モル、有機極性溶媒中で、120℃以上
の高温に加熱して、一段で重合及びイミド化することに
よって製造することができる。また、ポリイミドシロキ
サンは、前記の酸成分とジアミン成分との二成分を、略
等モル、有機極性溶媒中、80℃以下の低い温度で重合
してポリアミック酸を生成させ、そのポリアミック酸を
適当な手段(化学イミド剤によるイミド化法、或いは、
高温加熱によるイミド化法)でイミド化して製造するこ
ともできる。
The polyimide siloxane is, for example,
(A) an aromatic tetracarboxylic acid component mainly containing 2,3,3 ′, 4′-biphenyltetracarboxylic acids, (B) (a) a diaminopolysiloxane represented by the general formula A, and (b) an aromatic It can be produced by heating a diamine component comprising an aromatic diamine in a substantially equimolar organic polar solvent to a high temperature of 120 ° C. or higher, and polymerizing and imidizing in one step. In addition, the polyimide siloxane, the two components of the acid component and the diamine component, approximately equimolar, in an organic polar solvent, polymerized at a low temperature of 80 ℃ or less to generate a polyamic acid, the polyamic acid suitable Means (imidation method using chemical imidizing agent, or
Imidization by high-temperature heating).

【0023】前記ポリイミドシロキサンの製法に使用さ
れる有機極性溶媒としては、例えば、スルホキシド系溶
媒、ホルムアミド系溶媒、アセトアミド系溶媒、ピロリ
ドン系溶媒、メチルジグライム、メチルトリジクライム
などのグライム系溶媒、ヘキサメチレンホスホルアミ
ド、γ−ブチロラクトン、シクロヘキサノンなど、ある
いは、フェノール系溶媒などを挙げることができる。
Examples of the organic polar solvent used in the method for producing the polyimide siloxane include sulfoxide-based solvents, formamide-based solvents, acetamide-based solvents, pyrrolidone-based solvents, glyme-based solvents such as methyldiglyme, methyltridiclime and the like. Examples include methylene phosphoramide, γ-butyrolactone, cyclohexanone, and the like, and phenol solvents.

【0024】また、前記の被覆用組成物溶液は、ワラス
トナイト、シリカ、タルクなどの無機充填剤、ポリマー
充填剤、無機又は有機の染料、エポキシ樹脂などの硬化
性樹脂、硬化剤などが少ない割合で配合されていてもよ
い。
The coating composition solution described above is low in inorganic fillers such as wollastonite, silica, and talc, polymer fillers, curable resins such as inorganic or organic dyes, epoxy resins, and curatives. It may be blended in a ratio.

【0025】前記被覆用組成物(溶液)から溶液流延法
でフィルムを形成した場合にそのフィルムは、初期弾性
率が1〜70kg/mmであって柔軟であると共に、
適当な機械的強度(25℃の破断点強度:約0.5〜2
0kg/mm、伸び率:約30〜500%)、電気絶
縁性を充分なレベルで保持しており、しかも、耐熱性
(熱分解開始温度が約250〜500℃であり、200
℃で1分間以上のハンダ耐熱性などを示すなど)も高い
ものであることが好ましい。
When a film is formed from the coating composition (solution) by a solution casting method, the film has an initial elastic modulus of 1 to 70 kg / mm 2 and is flexible.
Suitable mechanical strength (strength at break at 25 ° C .: about 0.5 to 2)
0 kg / mm 2 , elongation percentage: about 30 to 500%), maintaining a sufficient level of electrical insulation, and heat resistance (the thermal decomposition onset temperature is about 250 to 500 ° C., 200
(Eg, exhibiting solder heat resistance of at least 1 ° C. for 1 minute or more).

【0026】前記被覆用組成物溶液は、前記のポリイミ
ドシロキサンを、硬化性樹脂(エポキシ樹脂)、充填剤
等のその他の被覆用成分と共に、沸点100℃〜250
℃である有機極性溶媒に溶解又は分散することによって
調製することができ、ポリイミドシロキサンの濃度が、
2〜60重量%、特に5〜50重量%程度であって、そ
の回転粘度(25℃)が約500〜60000センチポ
イズ、特に1000〜50000センチポイズの溶液粘
度であることが好ましい。
The coating composition solution is prepared by adding the above-mentioned polyimide siloxane together with other coating components such as a curable resin (epoxy resin) and a filler to a boiling point of 100 ° C. to 250 ° C.
It can be prepared by dissolving or dispersing in an organic polar solvent that is at
It is preferably about 2 to 60% by weight, particularly about 5 to 50% by weight, and its rotational viscosity (at 25 ° C.) is a solution viscosity of about 500 to 60,000 centipoise, especially 1,000 to 50,000 centipoise.

【0027】被覆用組成物溶液に使用される有機極性溶
媒は、沸点100℃〜250℃を示す有機極性溶媒であ
って、前記のポリイミドシロキサンを容易に溶解するこ
とができるものであることが好ましく、前記のポリイミ
ドシロキサンの製造に使用された有機極性溶媒も使用す
ることができ、フェノール系溶媒、アミド系溶媒(ピロ
リドン系溶媒、ホルムアミド系溶媒、アセトアミド系溶
媒等)、オキサン系溶媒(ジオキサン、トリオキサン
等)、グライム系溶媒(メチルジグライム、メチルトリ
グライム等)が特に好ましく、さらに、キシレン、エチ
ルセロソルブなどが一部配合されていてもよい。
The organic polar solvent used in the coating composition solution is an organic polar solvent having a boiling point of 100 ° C. to 250 ° C., and is preferably capable of easily dissolving the above-mentioned polyimide siloxane. The organic polar solvents used in the production of the above-mentioned polyimide siloxane can also be used, and phenol solvents, amide solvents (pyrrolidone solvents, formamide solvents, acetamide solvents, etc.), oxane solvents (dioxane, trioxane) And the like, and a glyme-based solvent (methyl diglyme, methyl triglyme, etc.) are particularly preferred, and xylene, ethyl cellosolve and the like may be partially incorporated.

【0028】前記の有機極性溶媒としては、沸点120
〜240℃であるグライム系溶媒が特に好ましく、トリ
グライム系溶媒が最も好適であり、その理由としては、
ポリイミドシロキサン等をトリグライム系溶媒に溶解し
て調製された被覆用組成物溶液は、その溶媒が急速に蒸
発して被覆用組成物溶液の粘度が増大することがなく、
また、保存安定性が優れており、そして、前記の保護塗
膜を形成するための被覆用組成物溶液(印刷インキ)の
調製(ロール練りなど)が容易であり、また、その印刷
インキを使用してシルクスクリーン印刷などの塗布操作
を支障なく好適に行うことができるという利点がある。
The organic polar solvent includes a boiling point of 120.
A glyme-based solvent having a temperature of ~ 240 ° C is particularly preferred, and a triglyme-based solvent is most preferred.
The coating composition solution prepared by dissolving polyimide siloxane or the like in a triglyme solvent does not increase the viscosity of the coating composition solution due to rapid evaporation of the solvent.
In addition, it has excellent storage stability, and it is easy to prepare (e.g., roll kneading) a coating composition solution (printing ink) for forming the protective coating, and use the printing ink. Thus, there is an advantage that a coating operation such as silk screen printing can be suitably performed without any trouble.

【0029】被覆用組成物溶液は、前記の柔軟性配線板
の主な配線の領域および屈曲部付き柔軟性配線板の屈曲
部の配線の片側表面に、常温又は加温下、シルクスクリ
ーン印刷機を使用する塗布手段で塗布し、次いで、その
塗布膜は50〜280℃、好ましくは60〜260℃、
さらに好ましく100〜250℃の温度で0.1〜10
時間、特に0.2〜5時間乾燥され、硬化性樹脂を含有
する場合にはさらに硬化のために加熱処理することによ
り、揮発分が実質的に除去された前述の絶縁保護塗膜
(厚さが約0.5〜200μm、特に1〜100μm程
度である乾燥固化膜である)を形成するのである。
The coating composition solution is applied to the main wiring region of the above-mentioned flexible wiring board and one surface of the wiring at the bent portion of the flexible wiring board having a bent portion at room temperature or under heating at a silk screen printing machine. , And then the coating film is heated to 50 to 280 ° C., preferably 60 to 260 ° C.
More preferably, at a temperature of 100 to 250 ° C., 0.1 to 10
Drying time, especially 0.2 to 5 hours, and in the case of containing a curable resin, by heat treatment for further curing, the above-mentioned insulating protective coating film (thickness) from which volatile components have been substantially removed. Is about 0.5 to 200 μm, especially about 1 to 100 μm).

【0030】前記の被覆用組成物溶液としては、芳香族
テトラカルボン酸成分とジアミン成分とを有機極性溶媒
中で一段で重合およびイミド化して得られたポリイミド
シロキサンの重合溶液をそのまま使用してもよく、ま
た、その重合溶液をその重合溶媒と同様の有機溶媒で適
当な濃度に希釈して使用してもよい。また、被覆用組成
物溶液は、前述の重合溶液から一旦粉末状のポリイミド
シロキサンを析出させて単離し、その単離されたポリイ
ミドシロキサン粉末を前記の有機極性溶媒に均一に溶解
して調製することもできる。
As the coating composition solution, a polyimidesiloxane polymerization solution obtained by one-step polymerization and imidization of an aromatic tetracarboxylic acid component and a diamine component in an organic polar solvent can be used as it is. Alternatively, the polymerization solution may be diluted with an organic solvent similar to the polymerization solvent to an appropriate concentration before use. In addition, the coating composition solution is prepared by isolating the polyimide siloxane powder once by precipitating it from the above-described polymerization solution, and uniformly dissolving the isolated polyimide siloxane powder in the organic polar solvent. Can also.

【0031】この発明の製法によって得られた屈曲部付
き柔軟性配線板は、概略、図1に示すように、支持フィ
ルム(基材)1の表面上に、導電性材料の配線が金属箔
のエッチング工程等によって形成されている柔軟性配線
板(例えば、フレキシブル配線板、TAB用配線など)
2であって、その主要な配線の大部分(領域)の表面上
に特定のポリイミドシロキサンを含有する被覆組成物か
らなる柔軟な絶縁保護塗膜7(ソルダーレジスト膜とも
言うことがある)が施されており、そして、該柔軟性配
線板2は、その屈曲部3において前記支持フィルム1が
スリット状に開口していて、多数の配線5が該スリット
状開口部4を横切って設けられているものであり、さら
に、支持フィルム1のスリット状開口部4を横切って設
けられている多数の配線5の片側表面が特定のポリイミ
ドシロキサンを含有する被覆組成物からなる柔軟な保護
塗膜6で被覆されているものである。
As shown in FIG. 1, a flexible wiring board with a bent portion obtained by the method of the present invention has a wiring of a conductive material on a surface of a support film (base material) 1 made of metal foil. Flexible wiring board formed by etching process (for example, flexible wiring board, TAB wiring, etc.)
2, a flexible insulating protective coating film 7 (also referred to as a solder resist film) made of a coating composition containing a specific polyimidesiloxane is applied on the surface of most (region) of the main wiring. In the flexible wiring board 2, the support film 1 has a slit-shaped opening at the bent portion 3, and a large number of wirings 5 are provided across the slit-shaped opening 4. In addition, one surface of a large number of wirings 5 provided across the slit-shaped openings 4 of the support film 1 is covered with a flexible protective coating film 6 made of a coating composition containing a specific polyimide siloxane. Is what is being done.

【0032】図1に示すように、前記の柔軟性配線板2
は、その屈曲部3のスリット状開口部4を横切っている
多数の配線5の片側表面を被覆している保護塗膜6およ
び主な配線の領域を被覆している絶縁保護塗膜7が、前
述のポリイミドシロキサン又はそのエポキシ変成物を含
有する特定の被覆組成物から形成されており、初期弾性
が小さくて柔軟である保護塗膜であり、そして、その保
護塗膜6の厚さが、スリット状開口部4を横切る多数の
配線5の厚さの0.2〜5倍の厚さであることが好まし
く、特に約0.5〜200μm程度であることが好まし
い。
As shown in FIG. 1, the flexible wiring board 2
The protective coating 6 covering one surface of a large number of wirings 5 traversing the slit-shaped opening 4 of the bent portion 3 and the insulating protective coating 7 covering the main wiring area, The protective coating is formed from the specific coating composition containing the above-mentioned polyimide siloxane or its epoxy modified product, has a low initial elasticity and is flexible, and the thickness of the protective coating 6 is a slit. The thickness is preferably 0.2 to 5 times the thickness of a large number of wirings 5 crossing the opening 4, and particularly preferably about 0.5 to 200 μm.

【0033】この発明の製法で得られた屈曲部付き柔軟
性配線板においては、前記の屈曲部3のスリット状開口
部1を横切っている多数の配線5は、初期弾性が小さく
て柔軟である前記保護塗膜6で、その片側表面を被覆し
ているものであり、図4に示すように、この保護塗膜6
を設けた多数の配線5は、該柔軟性配線板が支持フィル
ム1のスリット開口部4で180°まで折り曲げられて
も、金属箔からなる多数の配線5がその屈曲部で破断す
ることがないのである。
In the flexible wiring board with a bent portion obtained by the manufacturing method of the present invention, the large number of wires 5 crossing the slit-shaped opening 1 of the bent portion 3 have low initial elasticity and are flexible. The protective coating 6 covers one surface thereof, and as shown in FIG.
Are provided at the slit opening 4 of the support film 1 up to 180 °, the large number of wirings 5 made of metal foil are not broken at the bent portions. It is.

【0034】また、この発明の製法で得られた屈曲部付
き柔軟性配線板は、その主な配線の領域が、ポリイミド
シロキサン又はそのエポキシ変成物からなる柔軟な絶縁
保護塗膜で被覆されているので、その保護塗膜によって
実質的にカールすることがないのである。
In the flexible wiring board with a bent portion obtained by the method of the present invention, the main wiring region is covered with a flexible insulating protective coating made of polyimide siloxane or an epoxy-modified product thereof. Therefore, the protective coating does not substantially curl.

【0035】[0035]

【実施例】以下に実施例及び比較例を挙げ、この発明を
さらに詳しく説明する。
The present invention will be described in more detail with reference to the following Examples and Comparative Examples.

【0036】実施例1 〔ポリイミドシロキサンの製造〕容量2リットルのガラ
ス製セパラブルフラスコに、2,3,3’,4’−ビフ
ェニルテトラカルボン酸二無水物(a−BPDA)14
7.2g(500ミリモル)と、N−メチル−2−ピロ
リドン(NMP)1274gとを入れて、a−BPDA
を溶解させ、そして、その溶液を室温で攪拌しながら、
ジアミノポリシロキサン(DAPS)〔信越シリコン株
式会社製、X−22−161AS、R:−(CH
−、R:−CH、n=9〕304.9g(346.
5ミリモル)とジグライム530gとからなる溶液を3
0分間で加え、重合温度190℃で窒素ガスを通じなが
ら、しかも、メチルジグライムを還流させて水を除去し
ながら、3時間重合・イミド化反応させ、次いで、その
反応液を一旦室温に戻して攪拌しながら、その冷却され
た反応液に、2,2−ビス〔4−(4−アミノフェノキ
シ)フェニル〕プロパン(BAPP)62.19g(1
51.5ミリモル)とNMP500gとの溶液を30分
間で滴下しながら加えて、反応温度200〜210℃で
6時間反応させて、ポリイミドシロキサンを生成させ
た。
Example 1 [Production of polyimide siloxane] 2,3,3 ', 4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (a-BPDA) 14 was placed in a 2-liter glass separable flask.
A-BPDA was charged with 7.2 g (500 mmol) and 1274 g of N-methyl-2-pyrrolidone (NMP).
And, while stirring the solution at room temperature,
Diaminopolysiloxane (DAPS) [X-22-161AS, manufactured by Shin-Etsu Silicon Co., Ltd., R:-(CH 2 ) 3
-, R 2: -CH 3, n = 9 ] 304.9g (346.
5 mmol) and 530 g of diglyme in 3
The polymerization and imidization reaction was carried out for 3 hours while adding nitrogen gas at a polymerization temperature of 190 ° C. and passing nitrogen gas at a polymerization temperature of reflux while removing water by refluxing methyl diglyme. Then, the reaction solution was once returned to room temperature. While stirring, 62.19 g of 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane (BAPP) was added to the cooled reaction solution.
(51.5 mmol) and 500 g of NMP were added dropwise over 30 minutes, and reacted at a reaction temperature of 200 to 210 ° C. for 6 hours to produce a polyimidesiloxane.

【0037】その反応液を冷却した後、20リットルの
メタノール中に添加して、ディスパーサーを用いて30
分間で析出させ、析出ポリマーを濾過してポリマー粉末
を単離し、そして、そのポリマー粉末について「10リ
ットルのメタノール中でデイスパーサーを用いる10分
間の洗浄」を2回行い、さらに、60℃で8時間真空乾
燥してポリイミドシロキサン粉末428.9gを得た。
前述のようにして得られたポリイミドシロキサンは、対
数粘度(30℃)が、0.24であり、イミド化率が実
質的に100%であった。
After the reaction solution was cooled, it was added to 20 liters of methanol, and 30
The polymer powder was isolated by filtration and the polymer powder was isolated, and the polymer powder was subjected to “10 minutes washing with a disperser in 10 liters of methanol” twice, and further at 60 ° C. for 8 minutes. After vacuum drying for 42 hours, 428.9 g of a polyimidesiloxane powder was obtained.
The polyimide siloxane obtained as described above had a logarithmic viscosity (30 ° C.) of 0.24 and an imidization ratio of substantially 100%.

【0038】前記のポリイミドシロキサンは、ポリイミ
ドシロキサン粉末0.2gを、20℃で、メチルジグラ
イム0.8gに添加し放置して、その溶解の状態を観察
した結果、1時間以内に完全に溶解した。前記のポリイ
ミドシロキサンは、デュポン951熱重量測定装置で測
定した結果、熱分解開始温度が約360℃である。
As for the above-mentioned polyimide siloxane, 0.2 g of the polyimide siloxane powder was added to 0.8 g of methyl diglyme at 20 ° C. and allowed to stand. did. The polyimidesiloxane has a thermal decomposition onset temperature of about 360 ° C. as measured by a DuPont 951 thermogravimeter.

【0039】〔被覆用組成物溶液の調製〕前述のように
して製造したポリイミドシロキサン3.5gを常温でメ
チルジグライム6.5g中に溶解して、ポリイミドシロ
キサンがメチルジグライム中にポリマー濃度35重量%
で均一に溶解している被覆用組成物溶液を*製した。そ
の被覆用組成物溶液は、3500センチポイズの溶液粘
度(回転粘度;25℃)を有していた。
[Preparation of Coating Composition Solution] 3.5 g of the polyimide siloxane prepared as described above was dissolved in 6.5 g of methyl diglyme at room temperature, and the polyimide siloxane was dissolved in methyl diglyme at a polymer concentration of 35 g. weight%
* A coating composition solution uniformly dissolved in was prepared. The coating composition solution had a solution viscosity (rotational viscosity; 25 ° C.) of 3500 centipoise.

【0040】ガラス板上に200μmのスペーサーを枠
として配置して、前記の被覆用組成物溶液をそのガラス
板上に流延して薄膜を形成し、その薄膜を80℃で30
分間、150℃で30分間、200℃で30分間、乾燥
および熱処理して、厚さ約40〜60μmのフィルムを
形成して、そのフィルムについて、万能型引張試験機
(オリエンテック社製、テンシロンUTM−11−2
0)で、破断強度、伸び率および初期弾性を測定した結
果、破断強度:2.0kg/mm、伸び率:509
%、及び初期弾性率:25kg/mmであった。
A 200 μm spacer was arranged as a frame on a glass plate, and the coating composition solution was cast on the glass plate to form a thin film.
Drying at 150 ° C. for 30 minutes, and drying at 200 ° C. for 30 minutes to form a film having a thickness of about 40 to 60 μm. The film is subjected to a universal tensile tester (Tensilon UTM manufactured by Orientec Co., Ltd.). -11-2
0), the breaking strength, the elongation and the initial elasticity were measured. As a result, the breaking strength was 2.0 kg / mm 2 and the elongation was 509.
%, And initial elastic modulus: 25 kg / mm 2 .

【0041】なお、前記のフィルムは、150℃の炉内
に2000時間放置する耐熱耐久性試験において、引張
強度が1.6kg/mm、伸び率が80%、初期弾性
率が23kg/mmであり、極めて優れた耐熱耐久性
を有しているものであった。
The above film was subjected to a heat and durability test in which the film was left in a furnace at 150 ° C. for 2000 hours to have a tensile strength of 1.6 kg / mm 2 , an elongation of 80%, and an initial elastic modulus of 23 kg / mm 2. And had extremely excellent heat resistance and durability.

【0042】〔被覆用組成物溶液の塗布操作:保護塗膜
の形成〕図5、図6及び図7に示すような、厚さ75μ
mである芳香族ポリイミドフィルム(宇部興産株式会社
製、UPILEX S−75)を基材とするフレキシブ
ル配線板(銅箔配線の幅:約300μm、配線密度:6
0%、スリット状開口部のサイズ:8mm×20mm)
の片側表面上に、スクリーン印刷用のスクリーンを配置
してスクリーン印刷機を使用して、前記の被覆用組成物
溶液を塗布して、その塗布膜を形成し、次いで、その塗
布膜を、80℃で30分間、150℃で30分間、18
0℃で30分間、乾燥及び加熱処理(ベーク)して、絶
縁保護塗膜及び保護塗膜(平均膜厚さ:約30μm)を
形成して、図1、図2及び図3に示すような屈曲部付き
柔軟性配線板を製造した。
[Coating Composition Solution Operation: Formation of Protective Coating] As shown in FIG. 5, FIG. 6 and FIG.
m, a flexible wiring board (copper foil wiring width: about 300 μm, wiring density: 6) based on an aromatic polyimide film (UPILEX S-75, manufactured by Ube Industries, Ltd.)
0%, size of slit opening: 8 mm x 20 mm)
A screen for screen printing is arranged on one surface of the above, and the above-mentioned coating composition solution is applied using a screen printing machine to form a coating film. 30 minutes at 150 ° C., 30 minutes at 150 ° C., 18
Drying and heat treatment (baking) at 0 ° C. for 30 minutes to form an insulating protective coating and a protective coating (average thickness: about 30 μm), as shown in FIGS. 1, 2 and 3 A flexible wiring board with a bent portion was manufactured.

【0043】前述のようにして製造した屈曲部付き柔軟
性配線板は、主な配線の領域に絶縁保護塗膜が形成され
た部分を3×5cmの試験片として切りだして、その試
験片を水平面の台上に静置して、その試験片の長手方向
の端部における水平面からの高さを測定した結果、1m
m以下であり、実質的にカールがないものであった。ま
た、前記の屈曲部付き柔軟性配線板は、屈曲部において
図4に示すような状態(180°屈曲)になるように1
0回以上繰り返し屈曲させたが、スリット状開口物の各
配線5がいずれも破断することはなかった。
In the flexible wiring board with a bent portion manufactured as described above, the portion where the insulating protective coating is formed in the main wiring area is cut out as a 3 × 5 cm test piece, and the test piece is cut out. As a result of measuring the height of the test piece from the horizontal plane at the end in the longitudinal direction, the test piece was left standing on a table on a horizontal plane, and the result was 1 m.
m or less, and substantially no curl. Further, the flexible wiring board with the bent portion is set so that the bent portion has a state (180 ° bent) as shown in FIG.
The wire was repeatedly bent zero or more times, but none of the wires 5 of the slit-shaped opening was broken.

【0044】また、前記の屈曲部付き柔軟性配線板にお
いて、前記の絶縁保護塗膜(主な配線の領域)及び保護
塗膜(スリット状開口部を横切る配線上)は、それらの
接着性が、碁盤目試験法(粘着テープによる剥離)に準
ずる試験方法によって行った結果、実質的に粘着テープ
による剥離部分がまったくなかった。
Further, in the flexible wiring board with the bent portion, the insulating protective coating (main wiring area) and the protective coating (on the wiring crossing the slit-shaped opening) have an adhesive property. As a result of performing a test method according to a cross cut test method (peeling off with an adhesive tape), there was substantially no peeled portion with the adhesive tape.

【0045】また、前記の絶縁保護塗膜および保護塗膜
は、それらの耐熱性が、200℃の半田浴に30秒間浸
漬して、浸漬後の保護塗膜の状態の変化を観察した結
果、まったく支障がないものであった。
The heat resistance of the insulating protective coating and the protective coating was determined by immersing the protective coating in a solder bath at 200 ° C. for 30 seconds and observing the change in the state of the protective coating after immersion. There was no trouble at all.

【0046】[0046]

【本発明の作用効果】この発明は、『支持フィルム上の
大部分(支持フィルムの全面にわたる部分)に導電性の
配線が形成されている柔軟性配線板(例えば、フレキシ
ブル配線部材、TAB用配線部材など)』であって、し
かも、屈曲部における前記支持フィルムのスリット状開
口部を横切る多数の配線が設けられている柔軟性配線板
について、前記の主な配線の領域およびスリット状開口
部を横切る多数の配線の片側表面に、特殊な可溶性のポ
リイミドシロキサンを含有する特定の被覆用組成物を、
シルクスクリーン印刷法で同時に一挙に塗布してそれら
の塗布膜を乾燥して、それぞれの配線が保護塗膜などで
被覆されていて、前記スリット状開口部を横切る配線が
屈曲によって容易に破断することがないと共に、その全
体が実質的にカールしていない屈曲部付き柔軟性配線板
を、一工程で工業的に容易に製造することができる新規
な方法である。
According to the present invention, a flexible wiring board (for example, a flexible wiring member, a wiring for TAB) in which conductive wiring is formed on a large part of the supporting film (a part over the entire surface of the supporting film). A flexible wiring board provided with a large number of wirings crossing the slit-shaped opening of the support film at the bent portion. A specific coating composition containing a special soluble polyimide siloxane,
Simultaneously apply simultaneously by silk screen printing method and dry their coating film, each wiring is covered with a protective coating etc., and the wiring crossing the slit-shaped opening is easily broken by bending This is a novel method that can easily and industrially produce a flexible wiring board with a bent portion that does not have any curl and that is not substantially curled.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の製法で得られる屈曲部付き柔軟性配線
板の一例を部分的に示す平面図である。
FIG. 1 is a plan view partially showing an example of a flexible wiring board with a bent portion obtained by a manufacturing method of the present invention.

【図2】図1の本発明の屈曲部付き柔軟性配線板のAA
線の断面図である。
2 is an AA of the flexible wiring board with a bent portion of the present invention shown in FIG. 1;
It is sectional drawing of a line.

【図3】図1の本発明の屈曲部付き柔軟性配線板のBB
線の断面図である。
FIG. 3 is a BB view of the flexible wiring board with a bent portion of the present invention shown in FIG. 1;
It is sectional drawing of a line.

【図4】本発明の製法で得られた屈曲部付き柔軟性配線
板をスリット開口部の屈曲部で折曲げた状態を示す断面
図である。
FIG. 4 is a cross-sectional view showing a state in which a flexible wiring board with a bent portion obtained by the manufacturing method of the present invention is bent at a bent portion of a slit opening.

【図5】本発明の屈曲部付き柔軟性配線板の製造に使用
する柔軟性配線板の一例を部分的に示す平面図である。
FIG. 5 is a plan view partially showing an example of a flexible wiring board used for manufacturing a flexible wiring board with a bent portion of the present invention.

【図6】図5の柔軟性配線板のCC線の断面図である。6 is a cross-sectional view of the flexible wiring board of FIG. 5 taken along line CC.

【図7】図5の柔軟性配線板のDD線の断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view taken along the line DD of the flexible wiring board of FIG. 5;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 支持フィルム 2 屈曲部付き柔軟性配線板 3 屈曲部 4 スリット状開口部 5 配線(スリット状開口部5を横切る配線) 6 保護塗膜 7 絶縁保護塗膜 REFERENCE SIGNS LIST 1 support film 2 flexible wiring board with bent portion 3 bent portion 4 slit-shaped opening 5 wiring (wiring across slit-shaped opening 5) 6 protective coating 7 insulating protective coating

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭56−169390(JP,A) 特開 平1−121325(JP,A) 特開 平2−88677(JP,A) 実開 昭53−64248(JP,U) 実開 昭54−103558(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) H05K 3/28 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (56) References JP-A-56-169390 (JP, A) JP-A-1-121325 (JP, A) JP-A-2-88677 (JP, A) 64248 (JP, U) Japanese Utility Model Showa 54-103558 (JP, U) (58) Fields investigated (Int. Cl. 6 , DB name) H05K 3/28

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】支持フィルム上の大部分に導電性材料の主
な配線が形成されており、屈曲部において前記支持フィ
ルムがスリット状に開口していて、多数の配線が該スリ
ット状開口部を横切って設けられている柔軟性配線板に
おいて、その配線板の主要な配線の領域および屈曲部に
おける支持フィルムのスリット状開口部を横切って設け
られている多数の配線の片側表面に、芳香族テトラカル
ボン酸成分と、50−90モル%のジアミノポリシロキ
サン及び10−50モル%の芳香族ジアミンからなるジ
アミン成分とを重合及びイミド化することにより得られ
たポリイミドシロキサンまたはそのエポキシ樹脂変成物
が樹脂成分の80重量%以上含有されている樹脂成分が
主として配合されている被覆用組成物が有機極性溶媒に
均一に溶解又は分散されている被覆用組成物溶液を、シ
ルクスクリ−ン印刷法で同時に塗布し、そして、その塗
布膜を50−280℃の温度で乾燥し揮発分が実質的に
除去された保護塗膜を形成するすることを特徴とする屈
曲部付き柔軟性配線板の製法。
1. A main wiring of a conductive material is formed on a large part of a support film, and the support film has a slit-like opening at a bent portion, and a large number of wirings pass through the slit-like opening. In a flexible wiring board provided transversely, an aromatic tetrahedral is provided on one surface of a large number of wirings provided across a slit-shaped opening of a support film in a main wiring area and a bent portion of the wiring board. Polyimide siloxane obtained by polymerizing and imidizing a carboxylic acid component and a diamine component composed of 50-90 mol% of diaminopolysiloxane and 10-50 mol% of aromatic diamine, or an epoxy resin modified product thereof is a resin. The coating composition mainly containing the resin component containing at least 80% by weight of the component is uniformly dissolved or dispersed in the organic polar solvent. The sprayed coating composition solution is simultaneously applied by a silk screen printing method, and the applied film is dried at a temperature of 50 to 280 ° C. to form a protective coating film from which volatile components have been substantially removed. A method for producing a flexible wiring board with a bent portion, characterized by being formed.
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