JPH11213922A - 平面型表示装置およびその製造方法 - Google Patents

平面型表示装置およびその製造方法

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JPH11213922A
JPH11213922A JP1402698A JP1402698A JPH11213922A JP H11213922 A JPH11213922 A JP H11213922A JP 1402698 A JP1402698 A JP 1402698A JP 1402698 A JP1402698 A JP 1402698A JP H11213922 A JPH11213922 A JP H11213922A
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JP
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substrate
sealing member
display device
electrode
circuit element
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JP1402698A
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English (en)
Inventor
Shigeki Uno
茂樹 宇野
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
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  • Cathode-Ray Tubes And Fluorescent Screens For Display (AREA)
  • Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
  • Vessels, Lead-In Wires, Accessory Apparatuses For Cathode-Ray Tubes (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】本発明は、高密度の画素を有するとともに封着
部材の気密性を保持して高い真空を維持できる平面型表
示装置およびその製造方法を提供することを課題とす
る。 【解決手段】複数の電子放出素子15およびこの電子放
出素子15に夫々電子放出動作を行わせる複数の電極1
1、13を有する電圧を有する第1の基板1と、電子放
出素子15から放出された電子を受けて発光する蛍光体
22を有し第1の基板1に対向離間して配置された第2
の基板2と、第1の基板1と第2の基板2との間に配置
されこれら基板1、2に接合して両方の基板を封着する
封着部材3と、第1の基板1と第2の基板2との間にお
いて封着部材3より基板内部側に配置されて第1の基板
1の電極11、13に夫々電圧を印加する駆動回路素子
4とを具備することを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は例えば電界放出型カ
ソードなどの電子放出素子を用いた平面型表示装置およ
びその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】近時、電界放出型マイクロカソードを用
いたフィールドエミッションディスプレイ(以下FED
と称する。)型の平面型表示装置の開発が進められてい
る。このFED型の平面型表示装置は、円錐形の電界放
出型マイクロカソードから電子を放出して蛍光体を励起
することにより表示を行なう極めて薄型の表示装置であ
る。
【0003】このFED型の平面型表示装置は、電子放
出素子である電界放出型マイクロカソード(以下電界放
出型カソードと称する。)を有する第1の基板と蛍光体
を有する第2の基板とを対向して配置し、両基板間を封
着部材で封着したものである。すなわち、ガラスからな
る第1の基板の表面には複数の線条をなすカソード電極
がストライブ状に並べて形成され、この複数のカソード
電極の表面上には絶縁層が第1の基板の全面にわたり形
成され、この絶縁層の表面上には複数の線条をなすゲー
ト電極がカソード電極に対して直交する方向にストライ
ブ状に並べて形成されている。
【0004】これら複数のカソード電極と複数のゲート
電極が交差する各交差部には夫々各電極および絶縁層を
貫通する複数の孔が分散して形成されており、これら各
交差部に形成された各孔の内部にはカソードにおいて円
錐形をなす電界放出型カソードが夫々形成されている。
【0005】また、ガラスからなる第2の基板の表面に
は複数の透明電極がストライブ状に並べて形成されてお
り、これら複数の透明電極の表面にはR(赤)、G
(緑)、B(青)の蛍光体が夫々形成されている。第1
の基板と第2の基板は夫々の電極形成面を向い合わせて
所定間隔を存して対向配置される。これら第1の基板と
第2の基板との間には枠形をなすガラスからなる封着部
材が介在されており、この封着部材により第1の基板と
第2の基板が封着されている。そして、第1の基板と第
2の基板と封着部材と形成された容器の内部は高い真空
に保持されている。
【0006】このように構成される平面型表示装置は次
に述べる方法により製造する。第1の基板の表面に、ス
パッタリング、真空蒸着などの方法によりカソード電極
をパターニング形成し、次いでカソード電極上に絶縁層
を積層形成し、その後絶縁層上にゲート電極をパターニ
ング形成する。その後、ウエットエッジングなどの方法
によりカソード電極とゲート電極との交差部に各電極お
よび絶縁層を貫通する複数の孔を形成し、さらに蒸着あ
るいはスパッタリングなどの方法によりに孔の内部にゲ
ート電極上で円錐形をなす電界放出型カソードを形成す
る。
【0007】また、第2の基板の表面にスパッタリン
グ、真空蒸着などの方法により透明電極をパターニング
形成し、次いで透明電極上にRGBの蛍光体をパターニ
ング形成する。
【0008】そして、第1の基板における電極形成面の
周縁部および第2の基板における電極形成面の周縁部の
いずれか一方、または両方に、ディスペンサまたはスク
リーン印刷などの方法により封着部材、例えば封着ガラ
スペーストを塗布する。次に、封着部材を塗布した基板
を仮焼成して封着部材に含まれるバインダを分解、燃焼
させた後、第1の基板と第2の基板とを夫々の電極形成
面を向き合わせて対向配置し封着部材を介して貼付け焼
成する。
【0009】これにより封着部材が第1の基板と第2の
基板とを封着して密閉容器を製作する。その後、第1の
基板と第2の基板に夫々形成した各電極および蛍光体な
どの脱ガスを行うために、密閉容器の内部を真空引きし
ながら封止する。
【0010】このように構成される平面型表示装置を発
光させるためには、通常複数のカソード電極をアドレス
ラインとし、複数のゲート電極をデータラインとして設
定し、このアドレスラインである複数のカソード電極に
走査信号を、データラインであるゲート電極にゲート信
号を夫々時系列に入力して第二の基板全体を発光させる
方法が採用されている。そして、第1の基板におけるゲ
ート電極と電界放出型カソードとの間に電解を印加する
と、電界放出型カソードの先端から電界放出効果により
電子が放出され、この時電界放出型カソードに対向する
透明電極に伝案津を印加すると、蛍光体に前記の電子が
照射されて蛍光体が励起して発光することにより表示が
行なわれる。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】平面型表示装置では、
複数のカソード電極と複数のゲート電極に夫々信号電圧
を印加するために駆動用回路素子を用いており、各カソ
ード電極と各ゲート電極は夫々駆動回路素子に接続され
ている。従来の平面型表示装置は、駆動回路素子として
平面型表示装置とは別に設けられた回路基板に実装され
た駆動用集積回路(集積回路)に接続している。
【0012】そこで、従来は図7に示すように第1の基
板101の周縁部全体を第2の基板102の周縁部より
外側へ突出させ、第1の基板101に形成した多数の各
カソード電極103と多数多数の各ゲート電極104に
接続される多数の外部取り出し線106を第1の基板1
01の周縁部まで延ばして形成している。さらに、各カ
ソード電極用と各ゲート電極用の外部取り出し線106
は適宜な線部材を介して集積回路を実装した回路基板に
電気的に接続している。そして、封着部材105は第2
の基板102の周縁部に沿って形成して両基板101、
102を封着している。これにより各カソード電極用と
各ゲート電極用の多数の各外部取り出し線106は第二
の基板102の周縁に沿って封着部材105と第1の基
板101との接合部を通過して外側へ延出することにな
る。
【0013】ところで、この構造の平面型表示装置で
は、画素数すなわち電界放出型カソードの数を増大する
場合には、各カソード電極用と各ゲート電極用の外部取
り出し線106の数を増大することになる。そして、こ
のためには基板の面積を抑えつつ画素数を増大すると、
各カソード電極用と各ゲート電極用の各外部取り出し線
106の夫々の線幅を狭くするとともに、各カソード電
極用と各ゲート電極用のの各外部取り出し線106の相
互の間隔を狭くすることになる。ところが、このように
多くの細い線条をなす各カソード電極用と各ゲート電極
用の各外部取り出し線106が封着部材105と第1の
基板101との接合部を通過すると、その電極の凹凸の
多さおよび電極の間隔の狭さ故に、封着部材105と第
1の基板101および各外部取り出し線106との接合
部において接合が不確実な部分が発生しやすくなり、あ
るいは不確実な部分が多々発生する。この結果、第1の
基板101と第2の基板102と封着部材105とで形
成された密閉容器の内部における高い真空を維持できな
い問題が生じている。
【0014】本発明は前記事情に基づいてなされたもの
で、高密度の画素を有するとともに封着部材の気密性を
保持して高い真空を維持できる平面型表示装置を提供す
ることを課題とする。
【0015】本発明は、高密度の画素を有するととも
に、且つ封着部材の気密性を保持して高い真空を維持で
きる平面型表示装置を製造する製造方法を提供すること
を課題とする。
【0016】
【課題を解決するための手段】請求項1の発明の平面型
表示装置は、複数の電子放出素子およびこの電子放出素
子に夫々電子放出動作を行わせる複数の電極を有する第
1の基板と、前記電子放出素子から放出された電子を受
けて発光する蛍光体を有し前記第1の基板に対向離間し
て配置された第2の基板と、前記第1の基板と前記第2
の基板との間に配置されこれら基板に接合して両方の基
板を封着する封着部材と、前記第1の基板と前記第2の
基板との間において前記封着部材より基板内部側に配置
されて前記第1の基板の電極に夫々電圧を印加する駆動
回路素子とを具備することを特徴とする。
【0017】この発明の構成によれば、第1の基板に形
成した複数の電極とこの電極に電圧を印加する駆動回路
素子とが封着部材で囲まれた基板内部側の箇所で接続さ
れるので、駆動回路素子から封着部材と第1の基板との
接合部を通過して基板外部側へ延出する外部取り出し用
の配線は駆動回路素子を作動させる信号を送るためのご
く少数の線のみとなる。このため、封着部材と第1の基
板との接合部を通過して基板外部側へ延出する外部取り
出し用の配線の幅、間隔を余裕をもって広く設定するこ
とができ、封着部材と第1の基板、外部取り出し用の配
線との接合が確実で、この接合部の気密を確実に保持で
きる。従って、第1の基板における画素(電子放射素
子)の数および電極の数を増大して高密度化された表示
装置であっても、封着部材と第1の基板、外部取り出し
用の配線との接合が確実で気密性を保持できる。
【0018】請求項2の発明は、請求項1に記載の平面
型表示装置において、前記第1の基板の電極はカソード
電極およびゲート電極であることを特徴とする。この発
明の構成によれば、前記第1の基板の電極がカソード電
極およびゲート電極である場合には、駆動回路素子と接
続する電極の数が多いので、請求項1の発明の適用が特
に有効である。
【0019】請求項3の発明は、請求項1に記載の平面
型表示装置において、前記駆動回路素子は集積回路であ
ることを特徴とする。この発明の構成によれば、駆動回
路素子として集積回路を用いる場合に請求項1の発明を
適用すると有効である。
【0020】請求項4の発明は、請求項1に記載の平面
型表示装置において、前記駆動回路素子は薄膜トランジ
スタであることを特徴とする。この発明の構成によれ
ば、駆動回路素子として薄膜トランジスタを用いる場合
に請求項1の発明を適用すると有効であるとともに、電
極と薄膜トランジスタとを接続する線を薄膜で形成でき
るために、集積回路を用いた場合に比較して一層高密度
化を図ることができる。
【0021】請求項5の発明の平面型表示装置の製造方
法は、第1の基板に電子放出素子および電極を形成する
工程と、前記第1の基板における封着部材接合位置より
基板内部側の箇所に集積回路を配置固定する工程と、第
二の基板に蛍光体を形成する工程と、封着部材を前記集
積回路より基板外部側に配置して前記第1の基板と前記
第二の基板とを封着する工程とを具備することを特徴と
する。
【0022】請求項6の発明の平面型表示装置の製造方
法は、第1の基板における封着部材接合位置より基板内
部側の箇所に薄膜トランジスタを形成する工程と、前記
第1の基板に電子放出素子および電極を形成する工程
と、第二の基板に蛍光体を形成する工程と、封着部材を
前記薄膜トランジスタより基板外部側に配置して前記第
1の基板と前記第二の基板とを封着する工程とを具備す
ることを特徴とする。
【0023】このような請求項5および請求項6の発明
の構成によれば、高密度の画素(電子放出素子を有しつ
つ封着部材の気密性を保持して内部の高い真空を維持で
きる平面型表示装置を製造することができる。
【0024】
【発明の実施の形態】本発明の一実施の形態について図
面を参照して説明する。この実施の形態の平面型表示装
置の構造について図1ないし図5を参照して説明する。
図1は平面型表示装置の断面図、図2は同斜視図、図3
は同一部を拡大して示す分解斜視図、図4は平面型表示
装置における電界放出型カソードと蛍光体との関係を示
す断面図、図5は平面型表示装置電界放出型カソードと
蛍光体との関係を示す斜視図である。
【0025】この実施の形態の平面型表示装置は、図1
に示すように電子放出素子である電界放出型マイクロカ
ソード(以下電界放出型カソードと称する。)を有する
四角形をなす第1の基板1と蛍光体を有する四角形をな
す第2の基板2とを対向して配置し、両基板1、2を封
着部材3で封着したものである。ここで、第2の基板2
の面積は、後述するように所定の数の透明電極および蛍
光体を形成するスペースと集積回路を配置するスペース
を含んだ大きさである。第1の基板1は、第2の基板2
の面積に加えて、第2の基板21の周縁から全周にわた
り外側へ向けて所定長さだけ張り出して、集積回路から
外部へ延ばされる外部取り出し用線を形成できるスペー
スを確保した張り出し部1aを形成している。封着部材
3は第2の基板2の周縁部に全体に沿って配置されてお
り、第1の基板1は封着部材3を介して外部側の張り出
し部1aと封着部材3に囲まれる内部とに区分される。
【0026】図2に示すように第1の基板1は四角形を
なすもので、この第1の基板1は例えばソーダガラスに
より形成されている。図1ないし図5に示すように第1
の基板1の一方の面(内面)には、複数のカソード電極
11が夫々ストライブ状に並べて形成されており、この
カソード電極11は例えばモリブデン(Mo)により形
成されている。図1ないし図5に示すように複数のカソ
ード電極11の表面上には例えば酸化けい素(SiO
2 )からなる絶縁層12が第1の基板1の全面にわたり
形成されている。この絶縁層12の表面上には複数のゲ
ート電極13が夫々カソード電極11に対して直交する
方向にストライブ状に並べて形成されており、このゲー
ト電極13は例えばモリブデン(Mo)により形成され
ている。ここで、複数のカソード電極11をアドレスラ
インとし、複数のゲート電極13をデータラインとして
設定されている。
【0027】図1ないし図5に示すようにこれら複数の
カソード電極11と複数のゲート電極12が交差する各
交差部には、夫々絶縁層12およびゲート電極13を貫
通する複数の孔14が夫々形成されている。これら各交
差部に形成された各孔14の内部にはカソード電極11
上において円錐形をなす電界放出型マイクロカソード
(以下電界放出型カソードと称する。)15が夫々形成
されている。すなわち、電界放出型カソード15は孔1
4の開口に面している。電界放出型カソード15は例え
ばモリブデンにより形成されている。
【0028】そして、図1に示すようにこれらカソード
電極11およびゲート電極13は全て第1の基板1にお
いて封着部材3により区分された内部側の部分の収めて
形成されている。また、第1の基板1の面における封着
部材3に囲まれた内部側の部分には、後述する駆動回路
素子4を配置するためのスペースおよび集積回路に接続
する各線を形成するスペースが確保されている。
【0029】図1に示すようにこのスペースには各カソ
ード電極11および各ゲート電極13の夫々と駆動回路
素子4とを接続する接続線16と、駆動回路素子4から
第1の基板1の張り出し部1aに至る外部取り出し線1
7が形成されている。
【0030】接続線16は各カソード電極11および各
ゲート電極13の端部と駆動回路素子4の配置位置との
間に配線されて形成され、駆動回路素子4は各電界放出
型ロカソード15を駆動するために各カソード電極11
および各ゲート電極13に順次信号を印加するためのも
のであり、各カソード電極11の数と各ゲート電極13
の数の合計の本数が形成される。接続線16は、例えば
1000本以上の本数で形成される。外部取り出し線1
7は駆動回路素子4の配置位置と封着部材3と第1の基
板1との接合部を通過して第1の基板1の張り出し部1
aの縁との間に形成され、外部に設けた回路基板から駆
動回路素子4へ信号を流すためのもので、カソード電極
11用の数本とゲート電極13用の数本が夫々形成され
る。
【0031】外部取り出し線17は、例えば図2示すよ
うに各電極用に夫々5本づつ各電極の長さ方向に沿って
形成される。すなわち、外部取り出し線17は接続線1
6に比較して1/100以下という大変数が少ない。こ
のため、封着部材3の内部から封着部材3と第1の基板
1との接合部を通過して外部へ延びる外部取り出し線1
7は本数が従来に比較して大幅に少なく、且つ線幅およ
び間隔を広く設定している。
【0032】駆動回路素子4は、図示しない回路基板に
設けた回路からの情報を受けて各カソード電極11と各
ゲート電極13に適宜電圧を印加して各電界放出型カソ
ード15を適宜駆動する駆動回路を備えたものである。
駆動回路素子4は、第1の基板1において封着部材3に
より区分された内部側の部分に設定された配置位置に配
置されている。そして、駆動回路素子4は自身が有する
接続端子の一部が第1の基板1に形成した各カソード電
極11および各ゲート電極13用の多数の接続線16に
はんだ付けバンプを用いたはんだ付けにより接続固定さ
れているとともに、接続端子の残りの部分が少数の外部
取り出し線17にはんだ付けバンプを用いたはんだ付け
により接続固定されている。このようにして駆動回路素
子4は封着部材3により囲まれる内側の部分に設けられ
る。
【0033】第2の基板2は四角形をなすもので、これ
は例えばガラスにより形成されている。第2の基板2の
表面には複数の線条をなす透明電極21がストライブ状
に並べて形成されており、この透明電極21は例えばI
TOにより形成されている。これら複数の透明電極21
の表面には夫々R(赤)、G(緑)、B(青)の蛍光体
22が形成されている。
【0034】そして、図1および図2に示すように第1
の基板1と第2の基板2は夫々の電極形成面を向い合わ
せて所定間隔を存して対向配置される。ここで、ストラ
イブ状の透明電極21と蛍光体22は例えばゲート電極
13と対向されている。第1の基板1と第2の基板2に
は第2の基板2の周縁部に沿ってガラスからなる封着部
材3が配置されており、この封着部材3が第1の基板1
の面および外部取り出し線17と接合するとともに第2
の基板2の面に接合して第1の基板1と第2の基板2を
気密に封着している。
【0035】また、封着部材3で囲まれた第1の基板1
と第2の基板2との間には複数のスペーサ5が配置され
ており、このスペーサ5は各基板1、2の電極形成面に
接合して両基板1、2の間隔を保持している。これによ
り第1の基板1と第2の基板2と封着部材3とにより密
閉された容器が構成され、この容器は内部が10-8To
rr程度の真空にされている。
【0036】この平面型表示装置を製造する方法につい
て説明する。まず、第1の基板1の製造について説明す
る。第1の基板1を用意する。次いで、第1の基板1の
表面に、スパッタリング、真空蒸着、ホトリソグラフイ
などの方法によりMoからなる複数のカソード電極11
と、この各カソード電極11に接続する接続線16およ
びこの接続線に対応する外部取り出し線17を所定のパ
ターンで形成し、次いでカソード電極11上にスパッタ
リング、真空蒸着などの方法によりSiO2 からなる絶
縁層12を例えば2μmの厚さで積層形成する。その
後、絶縁層11上にスパッタリング、真空蒸着などの方
法によりMoからからなる複数のゲート電極13、この
各ゲート電極13に夫々接続する接続線16および所定
本数の外部取り出し線17をを所定パターンで形成す
る。その後、ウエットエッジングなどの方法によりカソ
ード電極11とゲート電極13との交差部に電極13お
よび絶縁層12を貫通する複数の孔14を形成し、さら
に各孔14の内部にカソード電極11上で円錐形をなす
電界放出型カソード15を夫々形成する。この場合、例
えば斜め蒸着によりアルミニウム(Al)を堆積した後
にMoを蒸着してAlを除去することにより電界放出型
カソード15を形成する。
【0037】第2の基板2の製造について説明する。ま
ず、第2の基板2を用意し、第2の基板2の表面にスパ
ッタリング、真空蒸着などの方法により透明電極21を
パターニングにより形成し、次いで、透明電極21上に
R(赤)、G(緑)およびB(青)の各蛍光体22を夫
々パターニングにより形成する。
【0038】次いで、第2の基板2の周縁部に封着部材
3のためのガラスを塗布し、このガラスを仮焼成した後
に本焼成して封着部材3を作製する。また、第2の基板
2にスペーサ5を配置する。
【0039】次いで、図示しないが第1の基板1上に位
置合わせ治具を用いて第2の基板2を載せる。そして、
第1の基板1と第二の基板2を焼成炉の内部に入れて支
持台上に載せ、荷重体を上側に載せた状態にし、さらに
所定温度に一定時間保持して封着部材3を焼成した。そ
の後、第1および第2の基板1、2と封着部材3とから
なる密閉容器の内部の排気を行ない容器内部を真空とす
る。このようにして平面型表示装置を製造する。
【0040】このように構成した平面型表示装置では、
第1の基板1の張り出し部1aに形成された外部取り出
し線17には、図示しない接続部材を介して回路基板に
接続する。そして、回路基板の回路から出力される信号
は接続部材を介して外部取り出し線17を通り駆動回路
素子4に入力される。駆動回路素子4はアドレスライン
である複数のカソード電極に走査信号を、データライン
であるゲート電極にゲート信号を夫々時系列に入力す
る。第1の基板1におけるゲート電極13と電界放出型
カソード15との間に電解を印加すると、電界放出型カ
ソード15の先端から電界放出効果により電流が放出さ
れる。この時、電界放出型カソード15に対向する第2
の基板2における透明電極21に電圧を印加すると、蛍
光体22に電子が照射されて蛍光体22が励起して発光
して表示が行なわれる。
【0041】このような構成をなす平面型表示装置は、
第1の基板1に形成した複数のカソード電極11および
複数のゲート電極13に電圧を印加する駆動回路素子4
が封着部材3で囲まれた基板内部側の箇所に設けられ、
各電極11、13と駆動回路素子4とが封着部材3で囲
まれた基板内部側の箇所で接続される。このため、駆動
回路素子4から封着部材3と第1の基板1との接合部を
通過して基板外部側へ延出する外部取り出し線17は、
駆動回路素子4を作動させる信号を送るためのごく少数
の線のみとなる。これにより封着部材3と第1の基板1
との接合部を通過して基板外部側へ延出する外部取り出
し線17の幅、間隔を余裕をもって広く設定することが
でき、封着部材3と第1の基板1、外部取り出し線17
との接合が確実でこの接合部の気密を確実に保持でき
る。
【0042】従って、表示装置において第1の基板にお
ける画素(電界放出型カソード15)の数および電極1
1、13の数を増大して高密度化されたものであって
も、封着部材3と第1の基板1、外部取り出し用線17
との接合が確実で気密性を保持できる。すなわち、基板
の面積の増大および気密性の低下を押えつつ電極11、
13の数を増大して高密度化を図ることができる。
【0043】特にこの実施の形態では、第1の基板1の
電極がカソード電極11およびゲート電極13であるた
めに、駆動回路素子4と接続する電極11、13の数が
多くて高密度化され特に有効である。
【0044】さらに、前述した製造方法によれば、高密
度の画素(電界放出型カソード15)を有しつつ封着部
材3と各基板1、2との接合部の気密性を保持して内部
の高い真空を維持できる平面型表示装置を得ることがで
きる。
【0045】次に第2の実施の形態について図6を参照
して説明する。この実施の形態は、駆動回路素子として
図1に示した集積回路の代りに薄膜トランジスタを用い
たもので、その他の部分は図1に示す構成と同じであ
る。図6において図1と同じ部分は同じ符号を付して説
明する。
【0046】図6において31は駆動回路素子としての
薄膜トランジスタ(TFT:thin film tr
ansistor)である。この薄膜トランジス31
は、薄膜状の半導体に流れる電流を、それに垂直な電界
を加えて制御するもので、電界効果トランジスタの一種
である。半導体には硫化カドウミウムなどを、絶縁層に
は酸化けい素などを、電極基板にはアルミニウムやイン
ジウムなどをいずれも蒸着により形成する。この実施の
形態では、薄膜トランジスタ31としてP−SiTFT
を用いる。
【0047】薄膜トランジスタ31は、第1の実施の形
態と同様に第1の基板1と第2の基板2との間における
封着部材3に囲まれた内側部分に設定された駆動回路素
子配置位置に形成され、各カソード電極11およびゲー
ト電極13毎の多数の接続線16と少数の外部取り出し
線17とに夫々接続されている。
【0048】この構成をなす平面型表示装置を製造する
方法について説明する。まず、第1基板1の面にP−S
iをプラズマCVD法により堆積し、レーザアニールで
p−Si膜を形成する。n−chおよびp−ch形成の
ためにAsおよびPをイオンシャワーで選択的に注入し
てラピッドサーマルアニールで活性化した。この後、ゲ
ート絶縁膜として減圧CVD法としてSiO2 膜を堆積
して電極パットを形成し、さらにMoを配線して薄膜ト
ランジスタ31を得た。このP−Si薄膜トランジスタ
31は移動度も10−40cm2 /V・secと大きく
且つVthも±6V以下と充分な性能を有している。な
お、Mo電極を形成する際に接続線16および外部取り
出し線17を形成した。
【0049】それ以降は、第1の実施の形態と同様に第
1基板1に複数の各電界放出型カソード15を形成し
た。また、第2の基板2に透明電極21と蛍光体22を
形成した。そして、第2の基板2と第2の基板2とを封
着部材3により封着して密閉容器を形成し、この密閉容
器の内部を高い真空にした。
【0050】この構成の平面型表示装置では、第1の実
施の形態の平面型表示装置と同様に、封着部材3と第1
の基板1との間の接合部を通過する外部取り出し線17
の本数が従来に比較して大幅に少なく、各外部取り出し
線17の線幅および間隔を広くすることができるため
に、封着部材3と第1の基板1、外部取り出し線17と
の接合が確実でこの接合部の気密を確実に保持できる。
【0051】従って、封着部材3と第1の基板1、外部
取り出し用線17との接合が確実で気密性を保持しなが
ら、表示装置において第1の基板における画素(電界放
出型カソード15)の数および電極11、13の数を増
大して高密度化を図ることができる。
【0052】そして、この構成によれば、各カソード電
極11およびゲート電極13と、薄膜トランジスタ31
と、接続線16および外部取り出し用線17を夫々薄膜
法により形成できるために、これらの各線を一層高い密
度により形成することができる。なお、本発明は前述し
た実施の形態に限定されずに、種々変形して実施するこ
とができる。
【0053】
【発明の効果】請求項1の発明の平面型表示装置によれ
ば、第1の基板に形成した多数の電極とこの電極に電圧
を印加する駆動回路素子とが封着部材で囲まれた基板内
部側の箇所で接続されるので、駆動回路素子から封着部
材と第1の基板との接合部を通過して基板外部側へ延出
する外部取り出し線は駆動回路素子を作動させる信号を
送るためのごく少数の配線のみとなり、このため封着部
材と第1の基板との接合部を通過して基板外部側へ延出
する外部取り出し線の線幅および間隔を余裕をもって広
く設定することができ、封着部材と第1の基板、外部取
り出し用の配線との接合が確実で、この接合部の気密を
確実に保持できる。
【0054】従って、平面型表示装置では、第1の基板
における画素(電子放射素子)の数および電極の数を増
大して高密度化した場合であっても、封着部材と第1の
基板と外部取り出し用線との接合が確実で気密性を保持
できる。
【0055】請求項2および請求項3の発明によれば、
請求項1の発明の適用が特に有効である。請求項4の発
明によれば、駆動回路素子として薄膜トランジスタを用
いる場合に請求項1の発明を有効に適用することができ
るとともに、電極と薄膜トランジスタとを接続する配線
を薄膜で形成できるために集積回路素子を用いた場合に
比較して一層高密度化を図ることができる。
【0056】請求項5および請求項6の発明の平面型表
示装置の製造方法によれば、高密度の画素(電子放出素
子)を有しつつ封着部材の気密性を保持して内部の高い
真空を維持できる平面型表示装置を製造することができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態における平面型表示
装置を示す断面図。
【図2】同実施の形態における平面型表示装置を示す斜
視図。
【図3】同実施の形態における平面型表示装置を拡大し
て示す分解斜視図。
【図4】同実施の形態における平面型表示装置における
電子放出素子を設けた部分を拡大して示す断面図。
【図5】同実施の形態における平面型表示装置における
電子放出素子を設けた部分を拡大して示す斜視図。
【図6】本発明の第2の実施の形態における平面型表示
装置を示す断面図。
【図7】従来の形態における平面型表示装置を示す斜視
図。
【符号の説明】
1…第1の基板、 2…第2の基板、 3…封着部材、 4…駆動回路素子、 5…スペーサ、 11…カソード電極、 12…絶縁層、 13…ゲート電極、 14…孔、 15…電界放出型ダイオード、 16…接続線、 17…外部取り出し線、 21…透明電極、 22…蛍光体、 31…薄膜トランジスタ。

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数の電子放出素子およびこの電子放出
    素子に夫々電子放出動作を行わせる複数の電極を有する
    第1の基板と、前記電子放出素子から放出された電子を
    受けて発光する蛍光体を有し前記第1の基板に対向離間
    して配置された第2の基板と、前記第1の基板と前記第
    2の基板との間に配置されこれら基板に接合して両方の
    基板を封着する封着部材と、前記第1の基板と前記第2
    の基板との間において前記封着部材より基板内部側に配
    置されて前記第1の基板の電極に夫々電圧を印加する駆
    動回路素子とを具備することを特徴とする平面型表示装
    置。
  2. 【請求項2】 前記第1の基板の電極はカソード電極お
    よびゲート電極であることを特徴とする請求項1に記載
    の平面型表示装置。
  3. 【請求項3】 前記駆動回路素子は集積回路であること
    を特徴とする請求項1に記載の平面型表示装置。
  4. 【請求項4】 前記駆動回路素子は薄膜トランジスタで
    あることを特徴とする請求項1に記載の平面型表示装
    置。
  5. 【請求項5】 第1の基板に電子放出素子および電極を
    形成する工程と、前記第1の基板における封着部材接合
    位置より基板内部側の箇所に集積回路を配置固定する工
    程と、第二の基板に蛍光体を形成する工程と、封着部材
    を前記集積回路より基板外部側に配置して前記第1の基
    板と前記第二の基板とを封着する工程とを具備すること
    を特徴とする平面型表示装置の製造方法。
  6. 【請求項6】 第1の基板における封着部材接合位置よ
    り基板内部側の箇所に薄膜トランジスタを形成する工程
    と、前記第1の基板に電子放出素子および電極を形成す
    る工程と、第二の基板に蛍光体を形成する工程と、封着
    部材を前記薄膜トランジスタより基板外部側に配置して
    前記第1の基板と前記第二の基板とを封着する工程とを
    具備することを特徴とする平面型表示装置の製造方法。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011060497A (ja) * 2009-09-08 2011-03-24 Futaba Corp Ic内蔵型蛍光表示装置

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