JPH1121353A - Production of curable silicone resin and production of cured article - Google Patents

Production of curable silicone resin and production of cured article

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JPH1121353A
JPH1121353A JP17415797A JP17415797A JPH1121353A JP H1121353 A JPH1121353 A JP H1121353A JP 17415797 A JP17415797 A JP 17415797A JP 17415797 A JP17415797 A JP 17415797A JP H1121353 A JPH1121353 A JP H1121353A
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silicone resin
curable silicone
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真樹 伊藤
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通孝 須藤
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アレン ザンク グレッグ
Akito Saito
章人 斉藤
Teruhito Maruyama
照仁 丸山
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a curable silicone resin that has a good storage stability and gives a cured article having an elastic modulus not decreasing even at high temps. by subjecting an organotrihalosilane and a bifunctional diorganosilane or a diorganopolysiloxane having functional groups at both molecular ends to hydrolysis and condensation. SOLUTION: An organotrihalosilane of formula: RSiX3 (wherein R is a monovalent hydrocarbon group; and X is a halogen) and a bifunctional diorganosilane of formula: Y(SiR2 O)e SiR2 Y (wherein Y is a halogen, OH, or H; and e is 0-300) or a diorganopolysiloxane having functional groups at both molecular ends are subjected to hydrolysis and condensation in a two-phase reaction system comprising water and an oxygen-contg. org. solvent or a mixture of an oxygen- contg. org. solvent and a hydrocarbon solvent to give a curable silicone resin having an average structural formula represented by the formula [wherein a to d satisfy the relations: a+b+c+d=1, 0.001<=(a+b)/(c+d)<=1.0 and 0.12<=c/(c+d)<=0.35].

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、物理的熱安定性に
優れたシリコーンレジン硬化物を与える硬化性シリコー
ンレジンの製造方法、およびそのシリコーンレジン硬化
物の製造方法に関する。
The present invention relates to a method for producing a curable silicone resin which gives a cured silicone resin having excellent physical thermal stability, and a method for producing the cured silicone resin.

【0002】[0002]

【従来の技術】本発明者らはWO 96/02292お
よびWO 96/02291で、含酸素有機溶媒、また
はこれに50容量%以下の炭化水素溶媒を含む有機溶媒
とハロシラン中のハロゲン原子1モルに対して、1.8
グラム当量以下の水溶性無機塩基または緩衝能を有する
弱酸の塩を含むかまたは含まない水との2相系におい
て、メチルトリハロシランの加水分解および縮合を行う
方法を開示した。この方法により、ゲル化を起こさずに
ポリメチルシルセスキオキサンを得ることができた。ま
た、従来の方法によって得られるポリメチルシルセスキ
オキサンは、共通して硬いが脆いものであった。しか
し、WO 96/02292およびWO 96/022
91で開示したポリメチルシルセスキオキサの硬化物
は、従来のポリメチルシルセスキオキサン硬化物では達
成し難かった柔軟性と、熱安定性(熱分解開始温度が高
いこと)を併せもつ特異な特徴をもったものであった。
BACKGROUND OF THE INVENTION The present inventors have disclosed in WO 96/02292 and WO 96/02291 an oxygen-containing organic solvent or an organic solvent containing 50% by volume or less of a hydrocarbon solvent and 1 mole of halogen atoms in halosilane. In contrast, 1.8
Disclosed are methods for hydrolyzing and condensing methyltrihalosilane in a two-phase system with or without gram-equivalents of a water-soluble inorganic base or water with or without a salt of a buffering weak acid. According to this method, polymethylsilsesquioxane could be obtained without causing gelation. In addition, polymethylsilsesquioxanes obtained by conventional methods are commonly hard but brittle. However, WO 96/02292 and WO 96/022
The cured product of polymethylsilsesquioxane disclosed in No. 91 is unique in that it has flexibility and thermal stability (high thermal decomposition onset temperature) that were difficult to achieve with a conventional cured product of polymethylsilsesquioxane. It was characteristic.

【0003】有機溶媒としてケトンを用い、水との2層
系、すなわちこれらが上層と下層を形成し、その間に広
い平面の界面を有する反応系での、オルガノトリクロロ
シランとこれに対し等モル量以下のジオルガノジクロロ
シランとの混合物の加水分解および縮合によるシリコー
ンレジンの合成反応は特開昭50−111198号公報
に開示されている。しかし、生成物の水酸基量等は特定
されておらず、本発明に述べるような硬化物の特定の性
質を目的としたものではない。また、反応時に2層を保
つように攪拌速度を調整しなければならないという操作
性の悪さがあった。
An organotrichlorosilane and an equimolar amount thereof are used in a two-layer system with water, that is, a ketone as an organic solvent, that is, a reaction system in which these form an upper layer and a lower layer and have a wide plane interface therebetween. The following synthesis reaction of silicone resin by hydrolysis and condensation of a mixture with diorganodichlorosilane is disclosed in JP-A-50-111198. However, the amount of hydroxyl groups and the like of the product are not specified, and are not intended for the specific properties of the cured product described in the present invention. In addition, there was a poor operability that the stirring speed had to be adjusted so as to maintain two layers during the reaction.

【0004】硅素上の有機基と硅素のモル比が1〜1.
8であるシリコーンレジンの水酸基含量を規定している
特許としては、カナダ特許No.0868996、英国
特許No.1294196、特開昭48−101444
号公報(米国特許No.3759867)、特開昭53
−10700号公報(米国特許No.4056492)
に3〜12重量%程度の水酸基を含むものが開示されて
いるが、いずれもレジンの硬化速度を速めることを目的
としており、硬化物の熱安定性などは目的となっていな
い。上記カナダ特許No.0868996、英国特許N
o.1294196、特開昭48−101444号公報
(米国特許No.3759867)では水と水に不溶の
有機溶媒の混合物に、アセトンを共溶媒として用いた系
でハロシランを加水分解・縮合している。
[0004] The molar ratio between the organic groups on silicon and silicon is 1 to 1.
Patents specifying the hydroxyl group content of the silicone resin No. 8 include Canadian Patent No. 0868996, British Patent No. 1294196, JP-A-48-101444
(US Patent No. 3759867), Japanese Patent Application Laid-Open No.
No. -10700 (U.S. Pat. No. 4,056,492)
Which contain about 3 to 12% by weight of hydroxyl groups are disclosed, but all aim to increase the curing speed of the resin, but not to the thermal stability of the cured product. The Canadian patent no. 0868996, British Patent N
o. 1294196 and JP-A-48-101444 (US Patent No. 3759867) hydrolyze and condense halosilane to a mixture of water and an organic solvent insoluble in water in a system using acetone as a cosolvent.

【0005】ポリオルガノシルセスキオキサンとジオル
ガノポリシロキサンとを成分とする重合体としては、特
開平3−31325号公報に、ポリオルガノシルセスキ
オキサンと両末端に塩素基などの官能基を有するジオル
ガノポリシロキサンとを反応させることにより、当該ポ
リオルガノシルセスキオキサンのシラノールを封鎖する
ものが開示されている。これは、シラノール基の封鎖に
よりシラノール基の数を減らして保存安定性を向上させ
ようとするものである。
As a polymer containing polyorganosilsesquioxane and diorganopolysiloxane as components, JP-A-3-31325 discloses a polyorganosilsesquioxane having a functional group such as a chlorine group at both terminals. A compound that reacts with a diorganopolysiloxane to block the silanol of the polyorganosilsesquioxane is disclosed. This is intended to improve the storage stability by reducing the number of silanol groups by blocking the silanol groups.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、シリ
コーンレジン中のポリオルガノシルセスキオキサン構造
にシラノール基を多量に含み、なおかつきわめて良好な
貯蔵安定性を示し、かつ高温でも弾性率が低下しないシ
リコーンレジン硬化物を提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a polyorganosilsesquioxane structure in a silicone resin containing a large amount of silanol groups, exhibiting extremely good storage stability, and exhibiting an elastic modulus even at high temperatures. It is to provide a cured silicone resin which does not decrease.

【0007】WO 96/02292およびWO 96
/02291では、特定の製造方法によりゲル化を起こ
さずにポリメチルシルセスキオキサンを得ることがで
き、また柔軟性のあるポリメチルシルセスキオキサンの
硬化物を得ることができた。
[0007] WO 96/02292 and WO 96
/ 02291, a polymethylsilsesquioxane could be obtained without gelation by a specific production method, and a flexible cured product of polymethylsilsesquioxane could be obtained.

【0008】この明細書の比較例に示すように、炭化水
素溶媒を主体とし、ゲル化を防ぐためにアルコールを共
溶媒として用いた従来の反応系(例えば、特公昭55−
46415号公報等)でメチルトリクロロシランとジメ
チルジクロロシラン混合物を加水分解および縮合させて
合成したシリコーンレジンの硬化物は、物理的熱安定
(高温でも良好な物性を保つこと)が劣るものである。
As shown in the comparative examples of this specification, a conventional reaction system mainly comprising a hydrocarbon solvent and using an alcohol as a co-solvent to prevent gelation (for example, Japanese Patent Publication No.
A cured product of a silicone resin synthesized by hydrolyzing and condensing a mixture of methyltrichlorosilane and dimethyldichlorosilane according to U.S. Pat. No. 4,615,415 has poor physical heat stability (maintaining good physical properties even at high temperatures).

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明は、平均構造が次
の一般式で示される硬化性シリコーンレジンを製造する
方法である。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention is a method for producing a curable silicone resin having an average structure represented by the following general formula.

【0010】〔R2 Si(OH)O1/2 a 〔R2 Si
2/2 b 〔RSi(OH)O2/2c 〔RSi
3/2 d
[R 2 Si (OH) O 1/2 ] a [R 2 Si
O 2/2 ] b [RSi (OH) O 2/2 ] c [RSi
O 3/2 ] d

【0011】ここに、Rはそれぞれ独立に一価の炭化水
素基の一種以上であって、メチル基、エチル基などのア
ルキル基、アルケニル基、フェニル基などの芳香族炭化
水素基などが例示され、好ましくはメチル基である。
a,b,c及びdは次の各条件を満たすものである。 (1)a+b+c+d=1(但し、aは0または正の数
で、b,c,dは正の数である。) (2)0.001≦(a+b)/(c+d)≦1.0、
及び (3)0.12≦c/(c+d)≦0.35。 ここで(a+b)/(c+d)の値は本発明の硬化性シ
リコーンレジンにおける2官能性単位(ジオルガノシロ
キシ単位)の割合を表す。この値が上記(2)の範囲の
下限を下回る場合は、本質的に2官能性単位(ジオルガ
ノシロキシ単位)の存在しないポリオルガノシルセスキ
オキサンになってしまう。また、同単位が上記(2)の
範囲の上限を上回る場合は屈曲性成分が多くなりすぎて
ゴム状に近くなってしまう。尚、この(a+b)/(c
+d)の値は、硬化物の特性の観点からは、0.03〜
1.0の範囲が推奨される。c/(c+d)の値、すな
わちモノオルガノシロキシ単位(ポリオルガノシルセス
キオキサン構造)におけるケイ素1モルに対するシラノ
ールのモル量、は0.12〜0.35の範囲にある。シ
ラノール量がこれより少ないと硬化性が低下したり、比
較例に示すように硬化物の物理的熱安定に劣るレジンと
なり得る。シラノール量がこれより多いとレジンの貯蔵
安定性が低下する可能性がある。本発明の硬化性シリコ
ーンレジンの分子量については格別な制限はない。通常
は重量平均分子量で500〜100,000及び/又は
数平均分子量で200〜200,000の範囲のものが
選択されるが、これらに限定されるものではない。
Here, R is independently one or more monovalent hydrocarbon groups, and examples thereof include an alkyl group such as a methyl group and an ethyl group, and an aromatic hydrocarbon group such as an alkenyl group and a phenyl group. , Preferably a methyl group.
a, b, c and d satisfy the following conditions. (1) a + b + c + d = 1 (where a is 0 or a positive number and b, c, and d are positive numbers) (2) 0.001 ≦ (a + b) / (c + d) ≦ 1.0;
And (3) 0.12 ≦ c / (c + d) ≦ 0.35. Here, the value of (a + b) / (c + d) represents the ratio of the bifunctional unit (diorganosiloxy unit) in the curable silicone resin of the present invention. If this value is below the lower limit of the range of the above (2), a polyorganosilsesquioxane essentially having no bifunctional unit (diorganosiloxy unit) will result. On the other hand, if the unit exceeds the upper limit of the range (2), the flexibility component becomes too large, and the shape becomes almost rubbery. Note that (a + b) / (c
+ D) is from 0.03 to from the viewpoint of the properties of the cured product.
A range of 1.0 is recommended. The value of c / (c + d), that is, the molar amount of silanol to 1 mol of silicon in the monoorganosiloxy unit (polyorganosilsesquioxane structure) is in the range of 0.12 to 0.35. If the amount of the silanol is less than this, the curability may decrease, or the resin may be inferior in physical heat stability of the cured product as shown in Comparative Examples. If the amount of silanol is larger than this, the storage stability of the resin may be reduced. There is no particular limitation on the molecular weight of the curable silicone resin of the present invention. Usually, those having a weight average molecular weight of 500 to 100,000 and / or a number average molecular weight of 200 to 200,000 are selected, but are not limited thereto.

【0012】本発明の硬化性シリコーンレジンは、原料
物質に含まれる不純物に起因して、設定した置換基R以
外の置換基を有する単位や、1官能性(R3 Si
1/2 )、4官能性(SiO4/2 )単位等を若干含むこ
とがあり得る。また該シリコーンレジンはシラノールを
含むものであり、その構造は前記構造式で示されている
通りであるが、極微量のレベルでこれ以外の構造にてシ
ラノール基を有する単位が存在することも有り得る。本
発明のシリコーンレジンは上記構造を有するものである
が、このような原因等で発生する構造単位については、
該シリコーンレジンの特徴的性質を阻害しない範囲であ
れば、その存在を否定するものでない。
[0012] The curable silicone resin of the present invention comprises a unit having a substituent other than the set substituent R or a monofunctional (R 3 Si
O 1/2 ), and may contain some tetrafunctional (SiO 4/2 ) units. The silicone resin contains silanol, and its structure is as shown in the above structural formula, but there may be a unit having a silanol group in a structure other than this at a trace level. . Although the silicone resin of the present invention has the above structure, structural units generated due to such causes and the like,
As long as the characteristic properties of the silicone resin are not impaired, its presence is not denied.

【0013】本発明の硬化性シリコーンレジンは、下記
(a)と(b)からなる2相反応系にて、下記(A),
(B)を加水分解および縮合を行うことにより製造され
る。 (a)含酸素有機溶媒、またはこれに50容量部以下の
炭化水素溶媒を混合してなる有機溶媒 (b)下記(A)及び(B)中のハロゲン原子1モルに
対して、1.8グラム当量以下の水溶性無機塩基または
緩衝能を有する弱酸の塩を含むかまたは含まない水 (A)式RSiX3 (Rは上記と同じ意味であり、Xは
ハロゲン原子である。)で示されるオルガノトリハロシ
ラン、(B)式Y(SiR2 O)e SiR2 Y(Yはハ
ロゲン原子、水酸基、水素から選ばれる一種以上、eは
0または300以下の正の整数であり、Rは上記と同じ
意味である)で示される2官能性ジオルガノシランまた
は両末端に官能基を有するジオルガノポリシロキサン。
Yがハロゲン原子の場合、好適にはClが選択される。
The curable silicone resin of the present invention is prepared by the following two-phase reaction system comprising the following (a) and (b):
It is produced by subjecting (B) to hydrolysis and condensation. (A) an oxygen-containing organic solvent, or an organic solvent obtained by mixing 50 parts by volume or less of a hydrocarbon solvent with the solvent; (b) 1.8 moles per mole of a halogen atom in the following (A) and (B) Water containing or not containing a gram equivalent or less of a water-soluble inorganic base or a salt of a weak acid having a buffering ability. (A) Formula RSix 3 (R has the same meaning as described above, and X is a halogen atom.) Organotrihalosilane, (B) Formula Y (SiR 2 O) e SiR 2 Y (Y is one or more selected from a halogen atom, a hydroxyl group, and hydrogen; e is a positive integer of 0 or 300 or less; The same meaning), or a diorganopolysiloxane having functional groups at both ends.
When Y is a halogen atom, Cl is preferably selected.

【0014】このような製造法の好適な例として次のも
のが挙げられる。 (1)上記(a)と(b)からなる2相反応系を形成さ
せ、上記(A)と(B)の混合物、または上記(a)に
(A)と(B)を溶解させた溶液を滴下して反応を行う
方法。 (2)上記(b)の水相に、上記(a)に上記(A)と
(B)を溶解させた溶液を滴下し、結果として生じる2
相反応系にて反応を行う方法。 (3)上記(a)に上記(A)と(B)を溶解させた溶
液と、上記(b)とを同時に反応容器に滴下し、結果と
して生じる2相反応系にて反応を行う方法。 (4)Yが水酸基、水素から選ばれる一種以上である
(B)を溶解させた(a)と(b)との2相反応系を形
成させ、上記(A)、または(a)に(A)を溶解させ
た溶液を滴下して反応を行う方法。 このほか、上記(1),(2),(3)の方法にて
(A)のみを加水分解し、その後(B)を滴下して反応
させてもよい。
Preferred examples of such a production method include the following. (1) A two-phase reaction system consisting of the above (a) and (b) is formed, and a mixture of the above (A) and (B) or a solution in which (A) and (B) are dissolved in the above (a) To conduct the reaction by dropping. (2) A solution obtained by dissolving the above (A) and (B) in the above (a) is dropped into the above aqueous phase (b).
A method of performing a reaction in a phase reaction system. (3) A method in which a solution obtained by dissolving the above (A) and (B) in the above (a) and the above (b) are simultaneously dropped into a reaction vessel, and the resulting mixture is reacted in a two-phase reaction system. (4) A two-phase reaction system of (a) and (b) in which (B) in which Y is at least one selected from a hydroxyl group and hydrogen is formed, and (A) or (a) A method in which a reaction in which A) is dissolved is performed dropwise. Alternatively, only (A) may be hydrolyzed by the methods (1), (2), and (3), and then (B) may be dropped and reacted.

【0015】反応温度は室温(20℃)〜120℃の範
囲内が適当であるが、40〜100℃程度が望ましい。
The reaction temperature is suitably in the range of room temperature (20.degree. C.) to 120.degree. C., preferably about 40 to 100.degree.

【0016】水と有機溶媒が2相を形成するというの
は、水と有機溶媒が混和せず、均一溶液とならない状態
のことをいう。有機相と水相の存在の仕方としては、攪
拌を低速にすることによりこれら2相が上層と下層を形
成し、その間に広い平面の界面を有するという状態を保
つようにしてもよいし(これを「2層を形成する」と表
現する)、激しく攪拌して2層を保たない状態にしても
よい。ただし、実用的見地からは攪拌速度を丁寧にコン
トロールする必要のない後者が好ましい。
The fact that water and the organic solvent form two phases means that water and the organic solvent are not mixed and a uniform solution is not obtained. The organic phase and the aqueous phase may be present in such a manner that the two phases form an upper layer and a lower layer by lowering the stirring speed, and a state of having a wide flat interface between them is maintained. May be expressed as "forming two layers"), and the two layers may not be maintained by vigorous stirring. However, from a practical point of view, the latter which does not require careful control of the stirring speed is preferred.

【0017】ハロシラン(A)のXおよび出発物質
(B)のYがハロゲン原子である場合のYは、好ましく
は臭素、塩素、さらに好ましくは塩素である。(B)の
eは0または300以下の正の数、すなわち2官能性ジ
オルガノシランまたは両末端に官能基を有するジオルガ
ノポリシロキサンである。ジオルガノポリシロキサンで
ある場合、工業的製法等において生じる範囲の分子量分
布、分岐構造、環状化合物、あるいは側鎖官能基を有し
ていてもよい。
When X of the halosilane (A) and Y of the starting material (B) are a halogen atom, Y is preferably bromine, chlorine, and more preferably chlorine. E in (B) is a positive number of 0 or 300 or less, that is, a difunctional diorganosilane or a diorganopolysiloxane having a functional group at both terminals. When it is a diorganopolysiloxane, it may have a molecular weight distribution, a branched structure, a cyclic compound, or a side chain functional group in a range produced in an industrial production method or the like.

【0018】この製造方法において使用される有機溶媒
は、(A)および(B)を溶解し、水に多少溶解しても
よいが、水と2相を形成できる含酸素有機溶媒が用いら
れる。尚、この含酸素有機溶媒に代えて含酸素有機溶媒
と炭化水素溶媒との混合溶媒(但し、容量比は該混合溶
媒100容量部中、炭化水素溶媒が50容量部以下であ
る)を用いることもできる。炭化水素溶媒の含量がこれ
より多いとゲルの生成量が増え、目的生成物の収率が減
少し、実用的でなくなる場合がある。あるいは、炭化水
素溶媒の含量が多い場合、目的とする硬化物の物性が得
られなくなることがある。この有機溶媒は、水に無制限
に溶解する溶媒であっても、水溶性無機塩基または緩衝
能を有する弱酸の塩の水溶液と混和しないものは使用で
きる。
The organic solvent used in this production method may dissolve (A) and (B) and may be slightly dissolved in water, but an oxygen-containing organic solvent capable of forming two phases with water is used. Note that a mixed solvent of an oxygen-containing organic solvent and a hydrocarbon solvent is used in place of the oxygen-containing organic solvent (however, the volume ratio is 50 parts by volume or less of the hydrocarbon solvent in 100 parts by volume of the mixed solvent). Can also. If the content of the hydrocarbon solvent is higher than this, the amount of gel formed increases, the yield of the target product decreases, and it may not be practical. Alternatively, when the content of the hydrocarbon solvent is large, the desired physical properties of the cured product may not be obtained. As the organic solvent, a solvent that is insoluble in water indefinitely and that is immiscible with an aqueous solution of a water-soluble inorganic base or a salt of a weak acid having a buffer ability can be used.

【0019】含酸素有機溶媒としては、メチルエチルケ
トン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセ
チルアセトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒、ジ
エチルエーテル、ジノルマルプロピルエーテル、ジオキ
サン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラ
ヒドロフラン等のエーテル系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブ
チル、プロピオン酸ブチル等のエステル系溶媒、n−ブ
タノール、ヘキサノール等のアルコール系溶媒などが挙
げられるがこれらに限定されるものではない。しかし、
目的とする硬化物の物理的熱安定性を得るためにはアル
コール系溶媒でない方が好ましい。これら溶媒は二種以
上混合して用いてもよい。炭化水素溶媒としては、ベン
ゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒、ヘ
キサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素溶媒、クロロホル
ム、トリクロロエチレン、四塩化炭素等のハロゲン化炭
化水素溶媒などが挙げられるが、これらに限定されるも
のではない。また、有機溶剤の使用量は特に制限されな
いが、好ましくは(A)と(B)の総量100重量部に
対して50〜2000重量部の範囲である。有機溶剤が
(A)と(B)の総量100重量部に対して50重量部
未満であると生成したシリコーンレジンを溶解させるに
は不十分であり、場合によりゲル化の原因となり、また
2000重量部を超えると加水分解、縮合が速やかに進
行せず、低分子量で貯蔵安定性の悪いシリコーンレジン
が得られる。水の使用量も特に制限されないが、好まし
くは(A)と(B)の総量100重量部に対して10〜
3000重量部の範囲である。
Examples of the oxygen-containing organic solvent include ketone solvents such as methyl ethyl ketone, diethyl ketone, methyl isobutyl ketone, acetylacetone and cyclohexanone, ether solvents such as diethyl ether, dinormal propyl ether, dioxane, diethylene glycol dimethyl ether, tetrahydrofuran, and ethyl acetate. Butyl acetate, butyl propionate and the like; and ester solvents such as n-butanol and hexanol, but are not limited thereto. But,
In order to obtain the desired physical thermal stability of the cured product, it is preferable that the cured product is not an alcohol solvent. These solvents may be used as a mixture of two or more kinds. Examples of the hydrocarbon solvent include aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, and xylene; aliphatic hydrocarbon solvents such as hexane and heptane; chloroform, trichloroethylene, and halogenated hydrocarbon solvents such as carbon tetrachloride. It is not limited to these. The amount of the organic solvent used is not particularly limited, but is preferably in the range of 50 to 2,000 parts by weight based on 100 parts by weight of the total of (A) and (B). If the amount of the organic solvent is less than 50 parts by weight based on 100 parts by weight of the total of (A) and (B), it is insufficient to dissolve the formed silicone resin, and may cause gelation in some cases. If the amount exceeds the above range, hydrolysis and condensation do not proceed rapidly, and a silicone resin having a low molecular weight and poor storage stability is obtained. The amount of water used is not particularly limited, but preferably 10 to 10 parts by weight of the total amount of (A) and (B).
It is in the range of 3000 parts by weight.

【0020】水相にはハロシランから生成するハロゲン
化水素による酸性度を抑制する水溶性無機塩基または緩
衝能を有する弱酸の塩を加えてもよいが、何も加えない
水を用いても反応は可能である。
The aqueous phase may contain a water-soluble inorganic base or a salt of a weak acid having a buffering ability for suppressing acidity due to hydrogen halide generated from halosilane, but the reaction is not effected even with water without any addition. It is possible.

【0021】前記水溶性無機塩基としては、水酸化リチ
ウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カル
シウム、水酸化マグネシウム等の水溶性アルカリ等が挙
げられ、緩衝能を有する弱酸の塩としては炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム
等の炭酸塩、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等
の炭酸水素塩、ビス(シュウ酸)三水素カリウム等のシ
ュウ酸塩、フタル酸水素カリウム、酢酸ナトリウム等の
カルボン酸塩、リン酸水素二ナトリウム、リン酸二水素
カリウム等のリン酸塩、四ホウ酸ナトリウム等のホウ酸
塩などが挙げられるが、これらに限定されるものではな
い。また、これらの量は、使用するハロシラン分子中の
ハロゲン及び(B)のYがハロゲンであるときのそのハ
ロゲンの合計のハロゲン原子1モルに対して、1.8グ
ラム当量以下が望ましい。即ち、ハロシランが完全に加
水分解された場合に生じるハロゲン化水素をちょうど中
和する量の1.8倍以下が望ましい。これら水溶性無機
塩基または緩衝能を有する弱酸の塩は、上記の量的範囲
内であれば二種以上混合して用いてもよい。
Examples of the water-soluble inorganic base include water-soluble alkalis such as lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, calcium hydroxide, and magnesium hydroxide. Carbonates such as sodium, potassium carbonate, calcium carbonate and magnesium carbonate; hydrogen carbonates such as sodium hydrogen carbonate and potassium hydrogen carbonate; oxalates such as potassium bis (oxalate) trihydrogen; potassium hydrogen phthalate; sodium acetate; But phosphates such as disodium hydrogen phosphate and potassium dihydrogen phosphate, borates such as sodium tetraborate, and the like, but are not limited thereto. Further, these amounts are desirably not more than 1.8 gram equivalents to 1 mol of the total halogen atoms of the halogen in the halosilane molecule used and when Y in (B) is a halogen. That is, the amount is desirably 1.8 times or less the amount that just neutralizes the hydrogen halide generated when the halosilane is completely hydrolyzed. These water-soluble inorganic bases or salts of weak acids having a buffering ability may be used as a mixture of two or more kinds within the above-mentioned quantitative range.

【0022】本発明のシリコーンレジンの硬化は、加熱
することにより、あるいは触媒もしくは架橋剤を使用し
て行われる。硬化反応は、シリコーンレジンをそのまま
融解させて行ってもよいし、有機溶媒の溶液をキャスト
し、溶媒蒸発後加熱してもよい。
The curing of the silicone resin of the present invention is carried out by heating or using a catalyst or a crosslinking agent. The curing reaction may be carried out by melting the silicone resin as it is, or by casting a solution of an organic solvent and heating after evaporating the solvent.

【0023】本発明のシリコーンレジンを溶解する溶媒
としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭
化水素溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等
のエーテル系溶媒、ブタノール、ヘキサノール等のアル
コール系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチル
イソブチルケトン等のケトン系溶媒、酢酸エチル、酢酸
ブチル等のエステル系溶媒、クロロホルム、トリクロロ
エチレン、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素溶媒等が
例示される。
Solvents for dissolving the silicone resin of the present invention include aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene and xylene, ether solvents such as diethyl ether and tetrahydrofuran, alcohol solvents such as butanol and hexanol, acetone and methyl ethyl ketone. And ketone solvents such as methyl isobutyl ketone, ester solvents such as ethyl acetate and butyl acetate, and halogenated hydrocarbon solvents such as chloroform, trichloroethylene and carbon tetrachloride.

【0024】このようにして製造された硬化性シリコー
ンレジンは、加熱して、又は硬化触媒及び/もしくは架
橋剤を用いて硬化させることができる。硬化温度は、硬
化触媒及び/又は架橋剤を用いた場合には20℃以上3
50℃以下好ましくは20℃以上250℃以下である。
20℃未満では反応が充分に進行しない。350℃以上
であるとシロキサンの分解が起こるおそれがある。加熱
のみによる硬化の場合には温度は50℃以上350℃以
下であり、好適には80℃以上250℃である。50℃
未満では反応が充分に進行しない。350℃を超えると
シロキサンの分解が起こるおそれがある。
The curable silicone resin thus produced can be cured by heating or using a curing catalyst and / or a crosslinking agent. The curing temperature is 20 ° C. or higher when a curing catalyst and / or a crosslinking agent is used.
The temperature is 50 ° C or lower, preferably 20 ° C or higher and 250 ° C or lower.
If the temperature is lower than 20 ° C., the reaction does not proceed sufficiently. If the temperature is higher than 350 ° C., siloxane may be decomposed. In the case of curing only by heating, the temperature is from 50 ° C to 350 ° C, preferably from 80 ° C to 250 ° C. 50 ℃
If it is less than 10, the reaction does not proceed sufficiently. If it exceeds 350 ° C., siloxane may be decomposed.

【0025】前記硬化触媒としては、二酢酸錫、ジオク
チル酸錫、ジラウリル酸錫、四酢酸錫、二酢酸ジブチル
錫、ジオクチル酸ジブチル錫、ジラウリル酸ジブチル
錫、ジオレイン酸ジブチル錫、ジメトキシジブチル錫、
ジブチル錫オキサイド、ベンジルマレイン酸ジブチル
錫、ビス(トリエトキシシロキシ)ジブチル錫、二酢酸
ジフェニル錫などの錫化合物;テトラメトキシチタン、
テトラエトキシチタン、テトラ−n−プロポキシチタ
ン、テトラ−i−プロポキシチタン、テトラ−n−ブト
キシチタン、テトラ−i−ブトキシチタン、テトラキス
(2−エチルヘキソキシ)チタン、ジ−i−プロポキシ
ビス(エチルアセトアセテート)チタン、チタンジプロ
ポキシビス(アセチルアセトナート)チタン、ジ−i−
プロポキシビス(アセチルアセトナート)チタン、ジブ
トキシビス(アセチルアセトナート)チタン、トリ−i
−プロポキシアリルアセテートチタン、チタニウムイソ
プロポキシオクチレングリコール、ビス(アセチルアセ
トナート)チタンオキサイド等のチタン化合物;二酢酸
鉛、ビス(2−エチルヘキサン酸)鉛、ジネオデカン酸
鉛、四酢酸鉛、テトラキス(n−プロピオン酸)鉛、二
酢酸亜鉛、ビス(2−エチルヘキサン酸)亜鉛、ジオネ
デカン酸亜鉛、ジウンデセン酸亜鉛、ジメタクリル酸亜
鉛、二酢酸鉄、テトラキス(2−エチルヘキサン酸)ジ
ルコニウム、テトラキス(メタクリル酸)ジルコニウ
ム、二酢酸コバルトなどの金属脂肪酸類;アミノプロピ
ルトリメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3
−アミノプロピルトリメトキシシラン、テトラメチルグ
アニジン、テトラメチルグアニジルプロピルトリメトキ
シシラン、テトラメチルグアニジルプロピルジメトキシ
シラン、テトラメチルグアニジルプロピルトリス(トリ
メチルシロキサン)シラン、1,8−ジアザビジクロ
〔5.4.0.〕−7−ウンデセン等のアミノ基含有化
合物等が用いられる。通常、ポリメチルシルセスキオキ
サン100重量部に対して0.01〜10重量部、好ま
しくは0.1〜5重量部の範囲で用いられる。
Examples of the curing catalyst include tin diacetate, tin dioctylate, tin dilaurate, tin tetraacetate, dibutyl tin diacetate, dibutyl tin dioctylate, dibutyl tin dilaurate, dibutyl tin dioleate, dimethoxy dibutyl tin,
Tin compounds such as dibutyltin oxide, dibutyltin benzylmaleate, bis (triethoxysiloxy) dibutyltin, diphenyltin diacetate; tetramethoxytitanium;
Tetraethoxytitanium, tetra-n-propoxytitanium, tetra-i-propoxytitanium, tetra-n-butoxytitanium, tetra-i-butoxytitanium, tetrakis (2-ethylhexoxy) titanium, di-i-propoxybis (ethylacetoacetate) ) Titanium, titanium dipropoxybis (acetylacetonate) titanium, di-i-
Propoxybis (acetylacetonato) titanium, dibutoxybis (acetylacetonato) titanium, tri-i
Titanium compounds such as propoxyallyl acetate titanium, titanium isopropoxyoctylene glycol, bis (acetylacetonato) titanium oxide; lead diacetate, lead bis (2-ethylhexanoate), lead dineodecanoate, lead tetraacetate, tetrakis ( Lead n-propionate), zinc diacetate, zinc bis (2-ethylhexanoate), zinc dionedecanoate, zinc diundecenoate, zinc dimethacrylate, iron diacetate, zirconium tetrakis (2-ethylhexanoate), tetrakis ( Metal fatty acids such as zirconium (methacrylic acid) and cobalt diacetate; aminopropyltrimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3
-Aminopropyltrimethoxysilane, tetramethylguanidine, tetramethylguanidylpropyltrimethoxysilane, tetramethylguanidylpropyldimethoxysilane, tetramethylguanidylpropyltris (trimethylsiloxane) silane, 1,8-diazabicyclo [5 .4.0. And an amino group-containing compound such as -7-undecene. Usually, it is used in an amount of 0.01 to 10 parts by weight, preferably 0.1 to 5 parts by weight, based on 100 parts by weight of polymethylsilsesquioxane.

【0026】また、架橋剤としては以下に示す化合物が
例示される。
Examples of the crosslinking agent include the following compounds.

【0027】[0027]

【化1】 Embedded image

【0028】[0028]

【化2】 Embedded image

【0029】架橋剤は通常、シリコーンレジン100重
量部に対して0.1〜80重量部、好ましくは1〜70
重量部の範囲で用いられる。
The crosslinking agent is usually used in an amount of 0.1 to 80 parts by weight, preferably 1 to 70 parts by weight, based on 100 parts by weight of the silicone resin.
Used in parts by weight.

【0030】[0030]

【実施例】次に実施例、比較例により本発明をさらに詳
しく説明するが、この発明はこれらの例によってなんら
限定されるものではない。
Next, the present invention will be described in more detail with reference to examples and comparative examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0031】(実施例1)還流冷却管、滴下ロート、及
び攪拌器を備えた反応容器に、水160mLとメチルイソ
ブチルケトン120mLを加え、二層を形成しないよう激
しく攪拌し、氷浴中に入れた。反応容器内の混合物の温
度が15℃となったところで、メチルトリクロロシラン
51.6g(0.345モル)とジメチルジクロロシラ
ン7.85g(0.0608モル)を40mLのメチルイ
ソブチルケトンに溶解した溶液を滴下ロートからゆっく
り滴下した。この際反応混合物の温度は28℃まで上昇
した。滴下終了後、60℃の油浴上で、反応混合物を2
時間加熱攪拌した。反応終了後、有機層を洗浄水が中性
になるまで洗浄し、次いで有機層を乾燥剤を用いて乾燥
した。乾燥剤を除去した後、溶媒を減圧で留去し、二昼
夜真空乾燥を行ないシリコーンレジンを白色の固体とし
て得た。このシリコーンレジンの分子量分布をGPC
〔東ソー(株)製HLC−8020、カラムは東ソー製
TSKgelGMHXL−L+G1000HXL(商標)を
使用し、溶媒としてトルエンを用いた〕により測定した
ところ、標準ポリスチレン換算での重量平均分子量は4
830であり、数平均分子量は1230であった。また
29SiNMRスペクトル〔ブルカー製ACP−300に
より測定〕から求めたジオルガノシロキシ単位とモノオ
ルガノシロキシ単位のモル比すなわち(a+b)/(c
+d)の値は0.21、モノオルガノシロキシ単位(ポ
リオルガノシルセスキオキサン構造)におけるケイ素1
モルに対するシラノールのモル量すなわちc/(c+
d)の値は0.180であった。ジオルガノシロキシ単
位におけるケイ素1モルに対するシラノールのモル量す
なわちa/(a+b)の値は0.058であった。この
シリコーンレジンは、室温で空気中、6カ月間放置して
も分子量分布、溶解性に変化はなかった。
Example 1 160 mL of water and 120 mL of methyl isobutyl ketone were added to a reaction vessel equipped with a reflux condenser, a dropping funnel, and a stirrer, stirred vigorously so as not to form two layers, and placed in an ice bath. Was. When the temperature of the mixture in the reaction vessel reached 15 ° C., a solution in which 51.6 g (0.345 mol) of methyltrichlorosilane and 7.85 g (0.0608 mol) of dimethyldichlorosilane were dissolved in 40 mL of methyl isobutyl ketone Was slowly dropped from the dropping funnel. At this time, the temperature of the reaction mixture rose to 28 ° C. After completion of the dropwise addition, the reaction mixture was added to an oil bath at 60 ° C. for 2 hours.
The mixture was heated and stirred for hours. After the completion of the reaction, the organic layer was washed until the washing water became neutral, and then the organic layer was dried using a desiccant. After removing the desiccant, the solvent was distilled off under reduced pressure, followed by vacuum drying for two days and night to obtain a silicone resin as a white solid. The molecular weight distribution of this silicone resin was determined by GPC.
[Manufactured by Tosoh Corporation HLC-8020, column using Tosoh Corporation TSKgelGMH XL -L + G1000H XL (TM), toluene was used as the solvent] was measured by the weight-average molecular weight of the standard polystyrene equivalent 4
830 and the number average molecular weight was 1230. Also
The molar ratio of diorganosiloxy units to monoorganosiloxy units determined from the 29 Si NMR spectrum (measured by Bruker ACP-300), that is, (a + b) / (c
+ D) is 0.21, silicon 1 in a monoorganosiloxy unit (polyorganosilsesquioxane structure)
The molar amount of silanol to the mole, ie, c / (c +
The value of d) was 0.180. The molar amount of silanol relative to 1 mol of silicon in the diorganosiloxy unit, that is, the value of a / (a + b) was 0.058. This silicone resin did not change in molecular weight distribution and solubility even when left in air at room temperature for 6 months.

【0032】このシリコーンレジン1gを、クロロホル
ム5gに溶解し、これに5mgのジオクチル酸錫を加え、
得られた溶液をガラス板上に塗布し室温で2時間放置し
た。形成された透明フィルムをガラス板からはがし、試
験片の大きさに切断後、100℃で1時間、200℃で
2時間加熱架橋を行った。このようにして得られたフィ
ルムについてJIS K6394に基づいて測定した試
験振動数1Hzにおけるせん断弾性率を、温度3点につい
て表1に示す。せん断弾性率はなだらかに減少したのみ
で、200℃以上の高温でも硬さが保たれた。
1 g of this silicone resin was dissolved in 5 g of chloroform, and 5 mg of tin dioctylate was added thereto.
The obtained solution was applied on a glass plate and left at room temperature for 2 hours. The formed transparent film was peeled off from the glass plate, cut into the size of a test piece, and heat-crosslinked at 100 ° C for 1 hour and at 200 ° C for 2 hours. Table 1 shows the shear modulus at a test frequency of 1 Hz measured on the film obtained in accordance with JIS K6394 for three points of temperature. The shear modulus was only gradually reduced, and the hardness was maintained even at a high temperature of 200 ° C. or higher.

【0033】(実施例2)実施例1と同様の反応装置・
条件で、水400mLとメチルイソブチルケトン300mL
を攪拌しておき、メチルイソブチルケトン100mLに溶
解したメチルトリクロロシラン106.4g(0.71
2モル)と両末端に水酸基を有する平均重合度4のポリ
ジメチルシロキサン11.8gの混合物を滴下した。さ
らに55℃の油浴上で反応混合物を2時間加熱攪拌し、
実施例1と同様の処理を行ってシリコーンレジンをワッ
クス状の固体として得た。このようにして得たシリコー
ンレジンの29SiNMRスペクトルから求めた(a+
b)/(c+d)の値は0.18,c/(c+d)の値
は0.262であった。a/(a+b)の値は0であっ
た。このシリコーンレジンは、室温で空気中、6カ月間
放置しても分子量分布、溶解性に変化はなかった。
(Example 2) The same reaction apparatus as in Example 1
Under the conditions, water 400mL and methyl isobutyl ketone 300mL
Was stirred, and 106.4 g (0.71 g) of methyltrichlorosilane dissolved in 100 mL of methyl isobutyl ketone was dissolved.
2 mol) and 11.8 g of polydimethylsiloxane having hydroxyl groups at both ends and having an average degree of polymerization of 4 was added dropwise. The reaction mixture was heated and stirred for 2 hours on a 55 ° C. oil bath,
The same treatment as in Example 1 was performed to obtain a silicone resin as a wax-like solid. (A +) determined from the 29 Si NMR spectrum of the silicone resin thus obtained.
The value of b) / (c + d) was 0.18, and the value of c / (c + d) was 0.262. The value of a / (a + b) was 0. This silicone resin did not change in molecular weight distribution and solubility even when left in air at room temperature for 6 months.

【0034】このシリコーンレジンを実施例1と同様に
して硬化させた。硬化フィルムの試験振動数1Hzにおけ
るせん断弾性率を表1に示す。ジオルガノシロキシ単位
を長くしても弾性率が急激に減少する転移は見られず高
温でも硬さが保たれた。
This silicone resin was cured in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the shear modulus of the cured film at a test frequency of 1 Hz. Even when the length of the diorganosiloxy unit was increased, there was no transition in which the elastic modulus suddenly decreased, and the hardness was maintained even at a high temperature.

【0035】(実施例3)実施例2と同様にして、両末
端に水酸基を有するポリジメチルシロキサンとして重合
度13のものを用いて反応させ、シリコーンレジンをワ
ックス状の固体として得た。得られたシリコーンレジン
29SiNMRスペクトルから求めた(a+b)/(c
+d)の値は0.17,c/(c+d)の値は0.25
9であった。a/(a+b)の値は0であった。このシ
リコーンレジンは、室温で空気中、6カ月間放置しても
分子量分布、溶解性に変化はなかった。
(Example 3) In the same manner as in Example 2, the reaction was carried out using a polydimethylsiloxane having a hydroxyl group at both terminals having a degree of polymerization of 13 to obtain a silicone resin as a wax-like solid. (A + b) / (c) determined from the 29 Si NMR spectrum of the obtained silicone resin
+ D) is 0.17, and the value of c / (c + d) is 0.25.
Nine. The value of a / (a + b) was 0. This silicone resin did not change in molecular weight distribution and solubility even when left in air at room temperature for 6 months.

【0036】このシリコーンレジンを実施例1と同様に
して硬化させた。硬化フィルムの試験振動数1Hzにおけ
るせん断弾性率を表1に示す。ジオルガノシロキシ単位
をさらに長くしても弾性率が急激に減少する転移は見ら
れず高温でも硬さが保たれた。
This silicone resin was cured in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the shear modulus of the cured film at a test frequency of 1 Hz. Even when the diorganosiloxy unit was further lengthened, the transition in which the elastic modulus decreased sharply was not observed, and the hardness was maintained even at a high temperature.

【0037】(実施例4)実施例2と同様にして、両末
端に水酸基を有するポリジメチルシロキサンとして重合
度55のものを用いて反応させ、シリコーンレジンをワ
ックス状の固体として得た。得られたシリコーンレジン
のGPCから求めた標準ポリスチレン換算での重量平均
分子量は6260であり、数平均分子量は850であっ
た。29SiNMRスペクトルから求めた(a+b)/
(c+d)の値は0.17,c/(c+d)の値は0.
259であった。a/(a+b)の値は0であった。こ
のシリコーンレジンは、室温で空気中、6カ月間放置し
ても分子量分布、溶解性に変化はなかった。
Example 4 In the same manner as in Example 2, the reaction was carried out using polydimethylsiloxane having a hydroxyl group at both terminals and having a degree of polymerization of 55 to obtain a silicone resin as a wax-like solid. The weight average molecular weight of the obtained silicone resin in terms of polystyrene determined by GPC was 6,260, and the number average molecular weight was 850. (A + b) / determined from 29 Si NMR spectrum
The value of (c + d) is 0.17, and the value of c / (c + d) is 0.1.
259. The value of a / (a + b) was 0. This silicone resin did not change in molecular weight distribution and solubility even when left in air at room temperature for 6 months.

【0038】このシリコーンレジンを実施例1と同様に
して硬化させた。硬化フィルムの試験振動数1Hzにおけ
るせん断弾性率を表1に示す。ジオルガノシロキシ単位
をさらに長くしても弾性率が急激に減少する転移は見ら
れず高温でも硬さが保たれた。
This silicone resin was cured in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the shear modulus of the cured film at a test frequency of 1 Hz. Even when the diorganosiloxy unit was further lengthened, the transition in which the elastic modulus decreased sharply was not observed, and the hardness was maintained even at a high temperature.

【0039】(実施例5)実施例1と同様にして、メチ
ルトリクロロシラン41.7g(0.279モル)とジ
メチルジクロロシラン15.6g(0.121モル)を
用い、60℃の油浴上で1時間で反応させ、シリコーン
レジンを高粘度の液体として得た。得られたシリコーン
レジンのGPCから求めた標準ポリスチレン換算での重
量平均分子量は1300であり、数平均分子量は520
であった。29SiNMRスペクトルから求めた(a+
b)/(c+d)の値は0.43,c/(c+d)の値
は0.238,a/(a+b)の値は0.059であっ
た。このシリコーンレジンは、室温で空気中、6カ月間
放置しても分子量分布、溶解性に変化はなかった。
Example 5 In the same manner as in Example 1, 41.7 g (0.279 mol) of methyltrichlorosilane and 15.6 g (0.121 mol) of dimethyldichlorosilane were used on an oil bath at 60 ° C. For 1 hour to obtain a silicone resin as a highly viscous liquid. The weight average molecular weight of the obtained silicone resin in terms of standard polystyrene determined by GPC was 1,300, and the number average molecular weight was 520.
Met. (A +) determined from the 29 Si NMR spectrum.
The value of b) / (c + d) was 0.43, the value of c / (c + d) was 0.238, and the value of a / (a + b) was 0.059. This silicone resin did not change in molecular weight distribution and solubility even when left in air at room temperature for 6 months.

【0040】このシリコーンレジンを実施例1と同様に
して硬化させた。硬化フィルムの試験振動数1Hzにおけ
るせん断弾性率を表1に示す。ジオルガノシロキシ単位
の量を多くしても弾性率が急激に減少する転移は見られ
ず高温でも硬さが保たれた。
This silicone resin was cured in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the shear modulus of the cured film at a test frequency of 1 Hz. Even when the amount of diorganosiloxy units was increased, the transition in which the elastic modulus was sharply decreased was not observed, and the hardness was maintained even at a high temperature.

【0041】(実施例6)実施例2と同様にして、両末
端に水酸基を有するポリジメチルシロキサンとして重合
度12のものを用い、メチルトリクロロシラン106.
4g(0.712モル)と両末端に水酸基を有する平均
重合度12のポリジメチルシロキサン34gで反応さ
せ、シリコーンレジンを高粘度の液体として得た。29
iNMRスペクトルから求めた(a+b)/(c+d)
の値は0.56,c/(c+d)の値は0.280であ
った。a/(a+b)の値は0であった。このシリコー
ンレジンは、室温で空気中、6カ月間放置しても分子量
分布、溶解性に変化はなかった。
(Example 6) In the same manner as in Example 2, polydimethylsiloxane having a hydroxyl group at both ends was used with a polymerization degree of 12, and methyltrichlorosilane was used.
4 g (0.712 mol) was reacted with 34 g of polydimethylsiloxane having hydroxyl groups at both ends and having an average degree of polymerization of 12 to obtain a silicone resin as a highly viscous liquid. 29 S
(a + b) / (c + d) determined from iNMR spectrum
Was 0.56 and the value of c / (c + d) was 0.280. The value of a / (a + b) was 0. This silicone resin did not change in molecular weight distribution and solubility even when left in air at room temperature for 6 months.

【0042】このシリコーンレジンを実施例1と同様に
して硬化させた。硬化フィルムの試験振動数1Hzにおけ
るせん断弾性率を表1に示す。ジオルガノシロキシ単位
をポリシロキサンとし、さらに量を多くしても弾性率が
急激に減少する転移は見られず高温でも硬さが保たれ
た。
This silicone resin was cured in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the shear modulus of the cured film at a test frequency of 1 Hz. Even when the amount of diorganosiloxy unit was polysiloxane and the amount was further increased, no sudden decrease in the elastic modulus was observed, and the hardness was maintained even at a high temperature.

【0043】(比較例1)実施例1と同様にしてメチル
トリクロロシラン50.5g(0.338モル)とジメ
チルジクロロシラン8.06g(0.0624モル)を
用い、しかし有機溶媒としてメチルイソブチルケトンの
代わりにトルエンとイソプロピルアルコールを用いた反
応を行った。すなわちこれらのクロロシランを40mLの
トルエンに溶解し、水160mL、トルエン90mL、イソ
プロピルアルコール30mLの2相反応系に滴下した。実
施例1と同様の処理を行って得たシリコーンレジンは、
実施例1と同様の組成であるにもかかわらず高粘度の液
体であった。GPCから求めた標準ポリスチレン換算で
の重量平均分子量は12100であり、数平均分子量は
1870であった。29SiNMRスペクトルから求めた
(a+b)/(c+d)の値は0.18,a/(a+
b)の値は0.064であったが、c/(c+d)の値
は0.064と低かった。また、1 HNMRスペクトル
では2−プロポキシ基の存在がみとめられ、29SiNM
Rスペクトルから求めたシラノール量の約40%が2−
プロポキシであると推定できた。
Comparative Example 1 As in Example 1, 50.5 g (0.338 mol) of methyltrichlorosilane and 8.06 g (0.0624 mol) of dimethyldichlorosilane were used, but methyl isobutyl ketone was used as an organic solvent. Was carried out using toluene and isopropyl alcohol instead of. That is, these chlorosilanes were dissolved in 40 mL of toluene, and added dropwise to a two-phase reaction system of 160 mL of water, 90 mL of toluene, and 30 mL of isopropyl alcohol. The silicone resin obtained by performing the same treatment as in Example 1
Despite having the same composition as in Example 1, it was a high-viscosity liquid. The weight average molecular weight in terms of standard polystyrene determined by GPC was 12,100, and the number average molecular weight was 1,870. The value of (a + b) / (c + d) determined from the 29 Si NMR spectrum was 0.18, and a / (a +
The value of b) was 0.064, but the value of c / (c + d) was as low as 0.064. In the 1 H NMR spectrum, the presence of a 2-propoxy group was observed, and 29 SiNM
About 40% of the amount of silanol determined from the R spectrum is 2-
It could be estimated to be propoxy.

【0044】このシリコーンレジンを実施例1と同様に
して硬化させた。硬化フィルムの試験振動数1Hzにおけ
るせん断弾性率を表1に示す。出発原料および量が実施
例1と同様であるにもかかわらず、弾性率は50℃から
100℃の領域で2桁以上におよぶ急激な減少を示し、
高温での硬さが保てなかった。
This silicone resin was cured in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the shear modulus of the cured film at a test frequency of 1 Hz. Despite the starting materials and amounts being the same as in Example 1, the elastic modulus shows a sharp drop of more than two orders of magnitude in the region from 50 ° C. to 100 ° C.,
Hardness at high temperature could not be maintained.

【0045】 〔表1〕 シリコーンレジン硬化フィルムのせん断弾性率(MPa)の温度依存性 実施例番号 25℃ 100℃ 200℃ ──────────────────────────── 実施例1 490 210 125 実施例2 450 190 180 実施例3 420 160 100 実施例4 400 240 230 実施例5 230 85 70 実施例6 140 80 80 比較例1 380 1.5 1 ──────────────────────────── [Table 1] Temperature Dependence of Shear Modulus (MPa) of Silicone Resin Cured Film Example No. 25 ° C. 100 ° C. 200 ° C. ───────── Example 1 490 210 125 Example 2 450 190 180 Example 3 420 160 100 Example 4 400 240 230 Example 5 230 85 70 Example 6 140 80 80 Comparative Example 1 380 1 .5 1────────────────────────────

【0046】[0046]

【発明の効果】本発明は、優れた特性を有するシリコー
ンレジン硬化物を製造するために不可欠な硬化性シリコ
ーンレジンの製造方法を提供するものである。本発明で
得られるシリコーンレジンの硬化物は、物理的熱安定性
に優れている、すなわち、高温でも弾性率が低下しな
い。したがって、シリコーンレジンがもつ一般的性質で
ある熱安定性(熱分解開始温度が高いこと)、電気絶縁
性、耐炎性等の特性に加えて、高温でさらに硬さの要求
される用途に広汎な応用が可能となる。
The present invention provides a method for producing a curable silicone resin which is indispensable for producing a cured silicone resin having excellent properties. The cured product of the silicone resin obtained by the present invention has excellent physical thermal stability, that is, the elastic modulus does not decrease even at a high temperature. Therefore, in addition to the general properties of silicone resins, such as thermal stability (high thermal decomposition onset temperature), electrical insulation, and flame resistance, they are widely used for applications requiring higher hardness at high temperatures. Application becomes possible.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 斉藤 章人 静岡県御殿場市茱萸沢1324−1 (72)発明者 丸山 照仁 神奈川県伊勢原市東大竹1−17−7 セジ ュール飛鳥205号 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Akihito Saito 1324-1 Shushuyusawa, Gotemba-shi, Shizuoka Prefecture (72) Teruhito Maruyama 1-17-7 Higashi-Otake, Isehara-shi, Kanagawa Prefecture No.205 Segile Asuka 205

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 平均構造が一般式 〔R2 Si(OH)O1/2 a 〔R2 SiO2/2
b 〔RSi(OH)O2/2c 〔RSiO3/2 d 〔Rはそれぞれ独立に一価の炭化水素基であり、a,
b,c及びdは次の各条件を満たすものである。 (1)a+b+c+d=1(但し、aは0または正の数
で、b,c,dは正の数である。) (2)0.001≦(a+b)/(c+d)≦1.0 (3)0.12≦c/(c+d)≦0.35〕 で示される硬化性シリコーンレジンを、下記(a)と
(b)からなる2相反応系にて、下記(A)と(B)の
加水分解および縮合を行うことにより製造する方法。 (a)次の又は、 含酸素有機溶媒 含酸素有機溶媒と炭化水素溶媒とからなる混合溶媒
(但し、容量比は該混合溶媒100容量部中、炭化水素
溶媒が50容量部以下である)、 (b)下記(A)及
び(B)の化合物中のハロゲン原子1モルに対して、
1.8グラム当量以下の水溶性無機塩基または緩衝能を
有する弱酸の塩を含むかまたは含まない水、 (A)式RSiX3 (Rは上記と同じ意味であり、Xは
ハロゲン原子である。)で示されるオルガノトリハロシ
ラン、 (B)式Y(SiR2 O)e SiR2 Y(Yはハロゲン
原子、水酸基、水素から選ばれる一種以上、eは0また
は300以下の正の数であり、Rは上記と同じ意味であ
る)で示される2官能性ジオルガノシランまたは両末端
に官能基を有するジオルガノポリシロキサン。
An average structure represented by the general formula [R 2 Si (OH) O 1/2 ] a [R 2 SiO 2/2 ]
b [RSi (OH) O 2/2 ] c [RSiO 3/2 ] d [R is each independently a monovalent hydrocarbon group;
b, c and d satisfy the following conditions. (1) a + b + c + d = 1 (where a is 0 or a positive number and b, c, and d are positive numbers) (2) 0.001 ≦ (a + b) / (c + d) ≦ 1.0 ( 3) 0.12 ≦ c / (c + d) ≦ 0.35] A curable silicone resin represented by the following formula (A) and (B) is used in a two-phase reaction system comprising the following (a) and (b): By subjecting the compound to hydrolysis and condensation. (A) the next or oxygen-containing organic solvent A mixed solvent comprising an oxygen-containing organic solvent and a hydrocarbon solvent (provided that the volume ratio is 50 parts by volume or less in 100 parts by volume of the mixed solvent), (B) relative to 1 mole of halogen atoms in the following compounds (A) and (B):
1.8 g or less of a water-soluble inorganic base or water with or without a salt of a weak acid having a buffering capacity, (A) Formula RSix 3 (R has the same meaning as described above, and X is a halogen atom. (B) Formula Y (SiR 2 O) e SiR 2 Y (Y is one or more selected from a halogen atom, a hydroxyl group, and hydrogen, and e is a positive number of 0 or 300 or less; R has the same meaning as described above), or a diorganopolysiloxane having a functional group at both ends.
【請求項2】 前記Rがメチル基である、請求項1記載
の硬化性シリコーンレジンの製造方法。
2. The method for producing a curable silicone resin according to claim 1, wherein said R is a methyl group.
【請求項3】 前記(a)と(b)との2相反応系を形
成させ、前記(A)と(B)の混合物、または上記
(a)に(A)と(B)を溶解させた溶液を滴下して反
応を行うことを特徴とする請求項1又は2に記載の硬化
性シリコーンレジンの製造方法。
3. A two-phase reaction system of (a) and (b) is formed, and (A) and (B) are dissolved in a mixture of (A) and (B) or in (a). The method for producing a curable silicone resin according to claim 1 or 2, wherein the reaction is performed by dropping the solution.
【請求項4】 前記(b)の水相に、前記(a)に上記
(A)と(B)を溶解させた溶液を滴下し、結果として
生じる2相反応系にて反応を行うことを特徴とする請求
項1又は2に記載の硬化性シリコーンレジンの製造方
法。
4. A method in which a solution obtained by dissolving the components (A) and (B) in the component (a) is dropped into the aqueous phase of component (b), and the resulting mixture is reacted in a two-phase reaction system. The method for producing a curable silicone resin according to claim 1 or 2, wherein:
【請求項5】 前記(a)に前記(A)と(B)を溶解
させた溶液と、上記(b)とを同時に反応容器に滴下
し、結果として生じる2相反応系にて反応を行うことを
特徴とする請求項1又は2に記載の硬化性シリコーンレ
ジンの製造方法。
5. A solution obtained by dissolving the components (A) and (B) in the component (a) and the component (b) are simultaneously dropped into a reaction vessel, and the resulting mixture is reacted in a two-phase reaction system. The method for producing a curable silicone resin according to claim 1, wherein:
【請求項6】 前記Yが水酸基、水素から選ばれる一種
以上である(B)を溶解させた(a)と(b)との2相
反応系を形成させ、上記(A)、または(a)に(A)
を溶解させた溶液を滴下して反応を行うことを特徴とす
る請求項1又は2に記載の硬化性シリコーンレジンの製
造方法。
6. A two-phase reaction system of (a) and (b) in which (B) in which Y is at least one selected from a hydroxyl group and hydrogen is formed, and the above-mentioned (A) or (a) is formed. ) To (A)
The method for producing a curable silicone resin according to claim 1 or 2, wherein the reaction is carried out by dropping a solution in which is dissolved.
【請求項7】 反応系を激しく攪拌することにより有機
相と水相が2層を保たない、すなわちこれら2相が上層
と下層を形成し、その間に広い平面の界面を有するとい
う状態を保たないようにして反応を行うことを特徴とす
る請求項1〜6のいずれかに記載の硬化性シリコーンレ
ジンの製造方法。
7. An organic phase and an aqueous phase do not keep two layers by vigorously stirring the reaction system, that is, a state where these two phases form an upper layer and a lower layer and have a wide flat interface therebetween. The method for producing a curable silicone resin according to any one of claims 1 to 6, wherein the reaction is carried out so as not to cause the reaction.
【請求項8】 請求項1〜7のいずれかの方法で製造さ
れた硬化性シリコーンレジンを50℃以上、350℃以
下の温度で加熱して、あるいは20℃以上、350℃以
下の温度で触媒または架橋剤を用いて硬化させるシリコ
ーンレジン硬化物の製造方法。
8. A catalyst prepared by heating the curable silicone resin produced by the method according to claim 1 at a temperature of 50 ° C. or more and 350 ° C. or less, or at a temperature of 20 ° C. or more and 350 ° C. or less. Alternatively, a method for producing a cured silicone resin using a crosslinking agent.
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