JPH1121510A - Silicone resin for forming water-repellent coating film and its composition - Google Patents

Silicone resin for forming water-repellent coating film and its composition

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JPH1121510A
JPH1121510A JP17414997A JP17414997A JPH1121510A JP H1121510 A JPH1121510 A JP H1121510A JP 17414997 A JP17414997 A JP 17414997A JP 17414997 A JP17414997 A JP 17414997A JP H1121510 A JPH1121510 A JP H1121510A
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JP
Japan
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water
silicone resin
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sio
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JP17414997A
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Japanese (ja)
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Teruhito Maruyama
照仁 丸山
Maki Ito
真樹 伊藤
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DuPont Toray Specialty Materials KK
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Dow Corning Asia Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a silicone resin which can form water-repellent smooth coating films and its composition. SOLUTION: This resin has an average structure represented by the formula: [R<1> 2 R<2> SiO1/2 ]a [R<1> 2 SiO2/2 ]b [R<3> R<2> SiO2/2 ]c [R<3> SiO3/2 ]d [R<1> is a 1-5C alkyl; R<2> is a 1-5C alkoxyl; R<3> is a 1-5C alkyl or aromatic hydrocarbon group; a<=0; b>0; c>0; d>0; a+b+c+d=1; (a+b)/(c+d)=0.24-4.0; and (a+c)/(a+b+c+ d)=0.05-0.40]. This is prepared by hydrolytically condensing compounds represented by the formulas: R<3> X3 [R<3> is as defined above; and X is a halogen] and Y(SiR<1> 2 O)c SiR<1> 2 Y [Y is a halogen or the like; R<1> is as defined above; and 0<=e<=300] in a two-phase medium comprising an oxygenic organic solvent and water. It is also possible to add a curing catalyst to the resin.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、撥水性を有する平
滑な被膜を形成するための撥水性被膜形成用シリコーン
レジンに関する。
The present invention relates to a silicone resin for forming a water-repellent film for forming a water-repellent smooth film.

【0002】[0002]

【従来の技術】各種基材に被覆されて撥水性を示す粒子
含有組成物としては、特開昭48−39382号公報、
特開平3−215570号公報、特開平3−24499
6号公報、特開平4−45181号公報などが知られて
いる。
2. Description of the Related Art JP-A-48-39382 discloses a particle-containing composition which is coated on various substrates and exhibits water repellency.
JP-A-3-215570, JP-A-3-24499
No. 6, JP-A-4-45181 and the like are known.

【0003】特開昭48−39382号公報記載の技術
は、(a)平均粒径2μm以下の微粉末と(b)接触角
が90°以上の疎水性物質を基材面にコーティングし基
材面上に平均粒径5〜10μmの疎水性微粉末層を形成
する基材面の撥水化に関するものである。
[0003] The technique described in JP-A-48-39382 is based on a technique of coating (a) a fine powder having an average particle diameter of 2 μm or less and (b) a hydrophobic substance having a contact angle of 90 ° or more on a substrate surface. The present invention relates to water repellency of a substrate surface on which a hydrophobic fine powder layer having an average particle size of 5 to 10 μm is formed.

【0004】特開平3−215570号公報記載の技術
は、(a)表面張力が32dyne/cm以下の疎水性微
粉末と(b)シリコーン樹脂、フッ素樹脂、エポキシ樹
脂、ポリイミド樹脂の群から選ばれた1種または2種以
上の吸水率0.5%以下の樹脂とからなる撥水性塗料に
関するものである。
The technique described in JP-A-3-215570 is selected from the group consisting of (a) a hydrophobic fine powder having a surface tension of 32 dyne / cm or less and (b) a silicone resin, a fluororesin, an epoxy resin, and a polyimide resin. And water-repellent paints comprising one or more resins having a water absorption of 0.5% or less.

【0005】特開平3−244996号公報記載の技術
は、(a)多孔質形状を有し、粒径が4μm以下である
無機または有機粉体と(b)シリコーン系またはフッ素
系樹脂化合物の溶液とからなる撥水性コーティング用組
成物に関するものである。
The technique described in JP-A-3-244996 discloses a solution of (a) an inorganic or organic powder having a porous shape and a particle size of 4 μm or less and (b) a silicone-based or fluorine-based resin compound. And a water-repellent coating composition comprising:

【0006】特開平4−45181号公報記載の技術
は、3次元架橋体を構成単位とし、R/Si比が1.7
未満であるシリコーン系樹脂を含む溶液と、表面が疎水
化処理された無機微粒子とからなる撥水性コーティング
用組成物に関するものである。
The technique described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-45181 uses a three-dimensionally crosslinked product as a structural unit and has an R / Si ratio of 1.7.
The present invention relates to a water-repellent coating composition comprising a solution containing a silicone-based resin having a particle size of less than and inorganic fine particles having a surface subjected to a hydrophobic treatment.

【0007】また、本発明者は先に特開平5−2874
87号公報において、(a)有機基を有する疎水化剤に
より疎水化処理され、その疎水化処理率(炭素含有率)
が2.7重量%以上である疎水化物15〜75重量%
と、(b)バインダー25〜85重量%とを含有するこ
とを特徴とする撥水兼防黴性被膜形成用組成物に関する
発明を提案している。
Further, the present inventor has disclosed in Japanese Patent Laid-Open No.
In JP-A-87-87, (a) hydrophobizing treatment is carried out with a hydrophobizing agent having an organic group, and the hydrophobizing treatment rate (carbon content)
15 to 75% by weight of a hydrophobized substance having a content of 2.7% by weight or more
And (b) 25 to 85% by weight of a binder.

【0008】これらの技術はいずれも(a)疎水性粒子
と(b)樹脂バインダーよりなる組成物である。前述の
ように(a)疎水性粒子と(b)樹脂バインダーよりな
る撥水性被膜においては、水滴が転がり落ちていく傾向
がある。これは、撥水性被膜の表面が疎水性微粉末の存
在により凹凸となり、多量の空気層を保持しているこ
と、及び低い表面張力の相乗効果のためであると予想さ
れる。
Each of these techniques is a composition comprising (a) hydrophobic particles and (b) a resin binder. As described above, in the water-repellent coating composed of (a) the hydrophobic particles and (b) the resin binder, water droplets tend to roll down. This is expected to be due to the fact that the surface of the water-repellent coating becomes uneven due to the presence of the hydrophobic fine powder, which retains a large amount of the air layer, and the synergistic effect of low surface tension.

【0009】しかし、このようなタイプの撥水性被膜が
形成されている部材が例えば熱交換器を構成する場合、
転がり落とそうとする水滴は結露によって生じた凝縮水
滴であり、凝縮水滴は撥水性被膜表面の凹部分の内部よ
り発生するため毛管凝縮を起こし、凹凸による効果が発
揮できずに撥水性能は著しく低下する。部材が熱交換器
におけるようにフィンやプレートにより微小間隔で構成
されているものに撥水性被膜を形成させた場合、撥水性
能の低下はさらに顕著であり、凹凸効果の低下により落
下せずに部材に付着した水滴が、両部材間に挟まれて落
下を妨げられるため、撥水性能の低下が加速される。ま
た、(a)疎水性粒子と(b)樹脂バインダーよりなる
撥水性被膜においては、撥水効果を向上させるために、
組成物中に多量の粒子を含有させなければならなず、こ
の多量の粒子により被膜強度の低下が起こり、結果とし
て耐久性能の低下を招くのである。
However, when a member having such a type of water-repellent coating forms a heat exchanger, for example,
The water droplets to be rolled down are condensed water droplets generated by condensation, and the condensed water droplets are generated from inside the concave portion of the surface of the water-repellent coating, causing capillary condensation, and the effect of unevenness can not be exhibited, so the water-repellent performance is remarkable descend. When a water-repellent coating is formed on a member whose fins and plates are formed at minute intervals as in a heat exchanger, the water-repellent performance is more remarkably reduced, and the water-repellent film does not fall due to a reduced unevenness effect. Since the water droplets attached to the members are sandwiched between the two members and are prevented from falling, the deterioration of the water repellency is accelerated. In the water-repellent coating composed of (a) hydrophobic particles and (b) a resin binder, in order to improve the water-repellent effect,
A large amount of particles must be contained in the composition, and the large number of particles causes a decrease in the strength of the coating, resulting in a decrease in durability.

【0010】これに対して、本発明者らによる特願平7
−347829号の発明は、微粒子の充填剤を含まない
(R2 SiO2/2 )単位と(RSiO3/2 )単位とから
なるシリコーンレジンと、ポリジアルキルシロキサンか
ら構成された組成物に関するものである。このタイプの
撥水性被膜の表面上に付着した水滴は、転がり落ちるの
ではなく滑り降りる傾向がある。また、撥水性被膜は表
面が平滑であるため毛管凝縮を起こさず、凝縮水滴に対
する撥水性能の低下が少なく、滑り降りる特徴のため
に、隣接した部材間に挟めれた水滴も他の水滴を巻き込
みながら落下していく傾向がある。さらに、微粒子を含
んでいないため、前記(a)疎水性粒子と(b)樹脂バ
インダーよりなる撥水性被膜と比較して被膜の耐久性が
向上し、結果として撥水性能の耐久性も向上するもので
ある。
[0010] On the other hand, Japanese Patent Application No. Hei.
The invention of -347829 relates to a composition comprising a silicone resin comprising (R 2 SiO 2/2 ) units and (RSiO 3/2 ) units which do not contain a fine particle filler, and a polydialkylsiloxane. is there. Water droplets deposited on the surface of this type of water repellent coating tend to slide down rather than roll down. In addition, the water-repellent coating has a smooth surface and does not cause capillary condensation.There is little decrease in water-repellency against condensed water droplets.Because of the sliding characteristics, water droplets sandwiched between adjacent members also involve other water droplets. There is a tendency to fall. Furthermore, since it does not contain fine particles, the durability of the coating is improved as compared with the water-repellent coating composed of (a) the hydrophobic particles and (b) the resin binder, and as a result, the durability of the water-repellent performance is also improved. Things.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】前記特願平7−347
829号の発明では、微粒子の充填剤を含まずに特定の
シリコーンレジンとポリアルキルシロキサンからなる組
成物により、特に凝縮水滴において良好な撥水性能を得
ることができた。しかし、これと同等の撥水性能を得る
ためには上記組成に限定されるものではなく、オルガノ
シルセスキオキサン構造に2官能性のジオルガノシリル
基またはジオルガノシロキシ単位を一定量以上導入した
シリコーンレジンを使用した場合、単独でも実現可能で
あることが確認された。本発明の目的は、これらの撥水
性被膜形成用シリコーンレジンを提供する点にある。
SUMMARY OF THE INVENTION The aforementioned Japanese Patent Application No. 7-347.
In the invention of No. 829, a good water-repellent performance can be obtained particularly in condensed water droplets by using a composition comprising a specific silicone resin and a polyalkylsiloxane without containing a filler of fine particles. However, in order to obtain water repellency equivalent to this, the composition is not limited to the above composition, and a certain amount or more of a bifunctional diorganosilyl group or diorganosiloxy unit is introduced into the organosilsesquioxane structure. It was confirmed that when silicone resin was used, it could be realized alone. An object of the present invention is to provide these silicone resins for forming a water-repellent film.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明のシリコーンレジ
ンは、平均構造が一般式
Means for Solving the Problems The silicone resin of the present invention has an average structure represented by a general formula:

【0013】〔R1 22 SiO1/2 a 〔R1 2SiO
2/2 b 〔R2 3 SiO2/2 c 〔R 3 SiO3/2
d (1)で示される。
[R1 TwoRTwoSiO1/2]a[R1 TwoSiO
2/2]b[RTwoRThreeSiO2/2]c[R ThreeSiO3/2]
dThis is indicated by (1).

【0014】ここに、R1 はそれぞれ独立にメチル基、
エチル基など炭素数1〜5のアルキル基などが例示さ
れ、好ましくはメチル基である。R2 はそれぞれ独立に
ヒドロキシル基またはメトキシ基、エトキシ基などの炭
素数1〜5のアルコキシ基が例示され、好ましくはヒド
ロキシル基、メトキシ基、エトキシ基である。R3 はそ
れぞれ独立にメチル基、エチル基などの炭素数1〜5の
アルキル基、またはフェニル基などの芳香族炭化水素基
である。a,b,c及びdは次の各条件を満たすもので
ある。 1)a+b+c+d=1(但し、aは0または正の数
で、b,c,dは正の数である。) 2)0.25≦(a+b)/(c+d)≦4.0 3)0.05≦(a+c)/(a+b+c+d)≦0.
40
Here, R 1 is each independently a methyl group,
Examples thereof include an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms such as an ethyl group, and a methyl group is preferable. R 2 is independently a hydroxyl group or an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms such as a methoxy group or an ethoxy group, and is preferably a hydroxyl group, a methoxy group or an ethoxy group. R 3 is independently an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms such as a methyl group or an ethyl group, or an aromatic hydrocarbon group such as a phenyl group. a, b, c and d satisfy the following conditions. 1) a + b + c + d = 1 (where a is 0 or a positive number and b, c, and d are positive numbers) 2) 0.25 ≦ (a + b) / (c + d) ≦ 4.0 3) 0 .05 ≦ (a + c) / (a + b + c + d) ≦ 0.
40

【0015】ここで(a+b)/(c+d)の値が0.
25より小さいと發水効果が不十分となり、4を超える
と被膜強度の低下が生じやすくなる。この値はより好ま
しくは0.3≦(a+b)/(c+d)≦3が推奨され
る。(a+c)/(a+b+c+d)の値は本発明の發
水性被膜形成用シリコーンレジンにおいてシラノール基
及び/又はアルコキシシリル基を有する単位の割合を表
す。この値が上記範囲より少ない場合は、硬化性が不十
分となり、上記範囲を超える場合は發水性が低下した
り、該シリコーンレジンを含む發水性被膜形成用組成物
を製造した際に貯蔵安定性の低下を招くことがある。本
発明の發水性被膜形成用シリコーンレジンの分子量は格
別な制限がないが、通常は各種用途において実用可能な
範囲が選択される。この様な範囲として例えば、数平均
分子量で380〜1,500,000を、重量平均分子
量では500〜5,000,000を挙げることができ
る。
Here, the value of (a + b) / (c + d) is 0.
If it is less than 25, the water-developing effect is insufficient, and if it is more than 4, the strength of the coating tends to decrease. This value is more preferably 0.3 ≦ (a + b) / (c + d) ≦ 3. The value of (a + c) / (a + b + c + d) represents the ratio of a unit having a silanol group and / or an alkoxysilyl group in the silicone resin for forming a water-repellent film of the present invention. When the value is less than the above range, the curability becomes insufficient. May be reduced. Although the molecular weight of the silicone resin for forming a water-repellent film of the present invention is not particularly limited, a range which can be practically used in various applications is usually selected. Examples of such a range include a number average molecular weight of 380 to 1,500,000 and a weight average molecular weight of 500 to 5,000,000.

【0016】發水性や硬化被膜の強度等の観点からは平
均構造が前記一般式(1)で表されるシリコーンレジン
が下記〜の条件を満たすことが望ましい。 少なくともポリジメチルシロキサン単位を含み、か
つ該ポリジメチルシロキサン単位の平均重合度は5〜1
000であること。 1分子中において下記(1)の単位の個数の下記
(2)の単位の個数に対する比が1以上であること(但
し、下記(2)の単位が存在しない場合はこの限りでは
ない。)。 (1)[(CH3 2 SiO2/2 m (m≧2)のポリ
ジメチルシロキサン単位 (2)[(CH3 2 SiO2/2 m (m=1)のジメ
チルシロキサン単位((1)の単位を構成するものは除
く) 0.3≦(a+b)/(c+d)≦3 であるこ
と。
From the viewpoints of water repellency and the strength of the cured film, it is desirable that the silicone resin having an average structure represented by the general formula (1) satisfies the following conditions. It contains at least a polydimethylsiloxane unit, and the average degree of polymerization of the polydimethylsiloxane unit is 5 to 1
000. In one molecule, the ratio of the number of units of the following (1) to the number of units of the following (2) is 1 or more (however, this does not apply when the unit of the following (2) does not exist). (1) Polydimethylsiloxane unit of [(CH 3 ) 2 SiO 2/2 ] m (m ≧ 2) (2) Dimethyl siloxane unit of [(CH 3 ) 2 SiO 2/2 ] m (m = 1) ( 0.3 ≦ (a + b) / (c + d) ≦ 3.

【0017】本発明の撥水性被膜形成用シリコーンレジ
ンに設定した置換基R1 〜R3 以外の官能基を有する単
位や、1官能性単位(R4 SiO1/2 )(ここにR4
メチル基、エチル基、フェニル基等の炭化水素基を表
す)、4官能性(SiO4/2 )単位等を若干含むことが
有り得る。しかし、特徴的性質を阻害しない範囲であれ
ば、これらの存在を否定するものではない。
A unit having a functional group other than the substituents R 1 to R 3 set in the silicone resin for forming a water-repellent film of the present invention or a monofunctional unit (R 4 SiO 1/2 ) (where R 4 is It represents a hydrocarbon group such as a methyl group, an ethyl group, or a phenyl group), and may contain some tetrafunctional (SiO 4/2 ) units. However, their existence is not denied as long as they do not impair the characteristic properties.

【0018】本発明の前記式(1)で示される撥水性被
膜形成用シリコーンレジンの製造には、一般的なシリコ
ーンレジンの製造方法を用いることが可能である。前記
製造方法としては、(a)芳香族炭化水素溶媒や含酸素
有機溶媒などと水を混合溶媒として用い、これにオルガ
ノハロシランおよび両末端官能性ジオルガノポリシロキ
サンを添加し加熱攪拌して直接製造する方法や、(b)
上記混合溶媒中でオルガノハロシランを加熱攪拌して重
合させ、得られたシリコーンレジンと、2官能性オルガ
ノシランまたは両末端官能性ジオルガノシロキサンとを
触媒存在下の上記混合溶媒中で縮合反応させて製造する
方法や、(c)オルガノハロシランをアルコール溶媒中
でアルコキシシラン化させ、このオルガノアルコキシシ
ランと触媒とを用いて上記(a),(b)と同様の工程
で製造する方法などがあるが、これらに限定されるもの
ではない。通常、アルコール系を除く含酸素有機溶媒を
用いて(a)の方法により製造すると、ゲル化を起こさ
ずに前記シリコーンレジンを製造することが可能なため
好ましい。
For the production of the silicone resin for forming a water-repellent film represented by the above formula (1) of the present invention, a general silicone resin production method can be used. As the production method, (a) an aromatic hydrocarbon solvent or an oxygen-containing organic solvent or the like and water are used as a mixed solvent, and an organohalosilane and a diorganopolysiloxane having a functional group at both ends are added thereto; Manufacturing method, (b)
The organohalosilane is polymerized by heating and stirring in the above mixed solvent, and the obtained silicone resin is subjected to a condensation reaction in the above mixed solvent in the presence of a catalyst with a difunctional organosilane or a bifunctional diorganosiloxane. And (c) alkoxysilane-forming an organohalosilane in an alcohol solvent, and using the organoalkoxysilane and a catalyst in the same steps as in the above (a) and (b). However, the present invention is not limited to these. In general, it is preferable to use the oxygen-containing organic solvent other than the alcohol-based one by the method (a) because the silicone resin can be manufactured without causing gelation.

【0019】本発明の前記式(1)で示される撥水性シ
リコーンレジンの製造の特に好ましい方法は、下記
(d)と(e)からなる2相反応系にて、下記(A)と
(B)の加水分解および縮合を行うことである。 (d)次の又は: 含酸素有機溶媒; 含酸素有機溶媒と炭化水素溶媒とからなる混合溶媒
(但しこの混合溶媒中に含まれる炭化水素溶媒の割合は
50容量%以下); (e)下記(A)及び(B)中のハロゲン原子1モルに
対して、1.8グラム当量以下の水溶性無機塩基または
緩衝能を有する弱酸の塩を含むかまたは含まない水, (A)式R3 SiX3 (R3 は上記と同じ意味であり、
Xはハロゲン原子である。)で示されるオルガノトリハ
ロシラン; (B)式Y(SiR1 2O)e SiR1 2Y(Yはハロゲン
原子、水酸基、水素から選ばれる一種以上であり、eは
0または300以下の正の数であり、Rは上記と同じ意
味である)で示される2官能性ジオルガノシランまたは
両末端に官能基を有するジオルガノポリシロキサン。
A particularly preferred method for producing the water-repellent silicone resin represented by the formula (1) of the present invention is a two-phase reaction system comprising the following (d) and (e): ) Hydrolysis and condensation. (D) The following or: an oxygen-containing organic solvent; a mixed solvent comprising an oxygen-containing organic solvent and a hydrocarbon solvent (however, the proportion of the hydrocarbon solvent contained in the mixed solvent is 50% by volume or less); respect halogen atom 1 mol in (a) and (B), water with or without salt of a weak acid with water-soluble inorganic base or buffering capacity 1.8 gram equivalent or less, (a) formula R 3 Six 3 (R 3 has the same meaning as above,
X is a halogen atom. Organotrihalosilane represented by); (B) formula Y (SiR 1 2 O) e SiR 1 2 Y (Y is a halogen atom, hydroxyl group, at least one selected from hydrogen, e is positive for 0 or 300 or less A bifunctional diorganosilane or a diorganopolysiloxane having a functional group at both terminals.

【0020】このような製造法の好適な例として次のも
のが挙げられる。 (1)上記(d)と(e)からなる2相反応系を形成さ
せ、上記(A)と(B)の混合物、または上記(d)に
(A)と(B)を溶解させた溶液を滴下して反応を行う
方法。 (2)上記(e)の水相に、上記(d)に上記(A)と
(B)を溶解させた溶液を滴下し、結果として生じる2
相反応系にて反応を行う方法。 (3)上記(d)に上記(A)と(B)を溶解させた溶
液と、上記(e)とを同時に空の反応容器に滴下し、結
果として生じる2相反応系にて反応を行う方法。 (4)Yが水酸基、水素から選ばれる一種以上である
(B)を溶解させた(d)と(e)との2相反応系を形
成させ、上記(A)、または(d)に(A)を溶解させ
た溶液を滴下して反応を行う方法。 このほか、上記(1),(2),(3)の方法にて
(A)のみを加水分解し、その後(B)を滴下して反応
させてもよい。
Preferred examples of such a production method include the following. (1) A two-phase reaction system consisting of the above (d) and (e) is formed, and a mixture of the above (A) and (B) or a solution in which (A) and (B) are dissolved in the above (d) To conduct the reaction by dropping. (2) A solution obtained by dissolving the components (A) and (B) in the component (d) is added dropwise to the aqueous phase of the component (e).
A method of performing a reaction in a phase reaction system. (3) The solution obtained by dissolving the above (A) and (B) in the above (d) and the above (e) are simultaneously dropped into an empty reaction vessel, and the resultant mixture is reacted in a two-phase reaction system. Method. (4) A two-phase reaction system of (d) and (e) in which (B) in which Y is at least one selected from a hydroxyl group and hydrogen is formed, and the above (A) or (d) contains ( A method in which a reaction in which A) is dissolved is performed dropwise. Alternatively, only (A) may be hydrolyzed by the methods (1), (2), and (3), and then (B) may be dropped and reacted.

【0021】反応温度は室温(20℃)〜120℃の範
囲内が適当であるが、40〜100℃程度が望ましい。
The reaction temperature is suitably in the range of room temperature (20.degree. C.) to 120.degree. C., preferably about 40 to 100.degree.

【0022】水と有機溶媒が2相を形成するというの
は、水と有機溶媒が混和せず、均一溶液とならない状態
のことをいう。有機相と水相の存在の仕方としては、攪
拌を低速にすることによりこれら2相が上層と下層を形
成し、その間に広い平面の界面を有するという状態を保
つようにしてもよいし(これを「2層を形成する」と表
現する)、激しく攪拌して2層を保たない状態にしても
よい。ただし、実用的見地からは攪拌速度を丁寧にコン
トロールする必要のない後者が好ましい。
The fact that water and the organic solvent form two phases means that water and the organic solvent are not mixed and a uniform solution is not obtained. The organic phase and the aqueous phase may be present in such a manner that the two phases form an upper layer and a lower layer by lowering the stirring speed, and a state of having a wide flat interface between them is maintained. May be expressed as "forming two layers"), and the two layers may not be maintained by vigorous stirring. However, from a practical point of view, the latter which does not require careful control of the stirring speed is preferred.

【0023】ハロシラン(A)のXおよび出発物質
(B)のYがハロゲン原子である場合のYは、好ましく
は臭素、塩素、さらに好ましくは塩素である。(B)の
eは0または300以下の正の数、すなわち2官能性ジ
オルガノシランまたは両末端に官能基を有するジオルガ
ノポリシロキサンである。ジオルガノポリシロキサンで
ある場合、工業的製法等において生じる範囲の分子量分
布、分岐構造、環状化合物、あるいは側鎖官能基を含ん
でもよい。
When X of halosilane (A) and Y of starting material (B) are halogen atoms, Y is preferably bromine, chlorine, and more preferably chlorine. E in (B) is a positive number of 0 or 300 or less, that is, a difunctional diorganosilane or a diorganopolysiloxane having a functional group at both terminals. When it is a diorganopolysiloxane, it may contain a molecular weight distribution, a branched structure, a cyclic compound, or a side chain functional group in a range produced in an industrial production method or the like.

【0024】この製造方法において使用される有機溶媒
は、(A)および(B)を溶解し、水に多少溶解しても
よいが、水と2相を形成できる含酸素有機溶媒Sが用い
られ、さらにこの含酸素有機溶媒Sとの合計に対して5
0容量%以下の炭化水素溶媒Tが含まれていてもよい。
炭化水素溶媒Tの含量がこれより多いとゲルの生成量が
増え、目的生成物の収率が減少し、実用的でなくなる場
合がある。あるいは、炭化水素溶媒Tの含量が多い場
合、目的とする硬化物の物性が得られなくなることがあ
る。この有機溶媒は、水に無制限に溶解する溶媒であっ
ても、水溶性無機塩素または緩衝能を有する弱酸の塩の
水溶液と混和しないものは使用できる。
The organic solvent used in this production method may dissolve (A) and (B) and may be slightly dissolved in water, but an oxygen-containing organic solvent S capable of forming two phases with water is used. 5 with respect to the total amount of the oxygen-containing organic solvent S
0% by volume or less of the hydrocarbon solvent T may be contained.
If the content of the hydrocarbon solvent T is larger than this, the amount of gel formed increases, the yield of the target product decreases, and it may not be practical. Alternatively, if the content of the hydrocarbon solvent T is large, the desired physical properties of the cured product may not be obtained. As the organic solvent, a solvent which is insoluble in water indefinitely and which is immiscible with an aqueous solution of water-soluble inorganic chlorine or a salt of a weak acid having a buffering ability can be used.

【0025】含酸素有機溶媒Sとしては、メチルエチル
ケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ア
セチルアセトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒、
ジエチルエーテル、ジノルマルプロピルエーテル、ジオ
キサン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、テト
ラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、酢酸エチル、酢酸
ブチル、プロピオン酸ブチル等のエステル系溶媒、n−
ブタノール、ヘキサノール等のアルコール系溶媒などが
挙げられるがこれらに限定されるものではない。しか
し、目的とする硬化物の物理的熱安定性を得るためには
アルコール系溶媒でない方が好ましい。これら溶媒は二
種以上混合して用いてもよい。炭化水素溶媒Tとして
は、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素
溶媒、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素溶媒、ク
ロロホルム、トリクロロエチレン、四塩化炭素等のハロ
ゲン化炭化水素溶媒などが挙げられるが、これらに限定
されるものではない。また、有機溶剤の使用量は特に制
限されないが、好ましくは(A)と(B)の総量100
重量部に対して50〜2000重量部の範囲である。有
機溶剤が(A)と(B)の総量100重量部に対して5
0重量部未満であると生成したシリコーンレジンを溶解
させるには不十分であり、場合によりゲル化の原因とな
り、また2000重量部を超えると加水分解、縮合が速
やかに進行せず、低分子量で貯蔵安定性の悪いシリコー
ンレジンが得られる。水の使用量も特に制限されない
が、好ましくは(A)と(B)の総量100重量部に対
して10〜3000重量部の範囲である。
Examples of the oxygen-containing organic solvent S include ketone solvents such as methyl ethyl ketone, diethyl ketone, methyl isobutyl ketone, acetylacetone and cyclohexanone;
Ether solvents such as diethyl ether, dinormal propyl ether, dioxane, diethylene glycol dimethyl ether and tetrahydrofuran; ester solvents such as ethyl acetate, butyl acetate and butyl propionate; n-
Examples include alcohol solvents such as butanol and hexanol, but are not limited thereto. However, in order to obtain the desired physical thermal stability of the cured product, it is preferable not to use an alcohol solvent. These solvents may be used as a mixture of two or more kinds. Examples of the hydrocarbon solvent T include aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, and xylene; aliphatic hydrocarbon solvents such as hexane and heptane; and halogenated hydrocarbon solvents such as chloroform, trichloroethylene, and carbon tetrachloride. However, the present invention is not limited to these. The amount of the organic solvent used is not particularly limited, but preferably the total amount of (A) and (B) is 100%.
It is in the range of 50 to 2,000 parts by weight based on parts by weight. The organic solvent is 5 parts by weight based on 100 parts by weight of the total of (A)
If the amount is less than 0 parts by weight, it is insufficient to dissolve the formed silicone resin, which may cause gelation. If the amount is more than 2,000 parts by weight, hydrolysis and condensation do not proceed promptly, resulting in low molecular weight. A silicone resin having poor storage stability is obtained. The amount of water used is not particularly limited, but is preferably in the range of 10 to 3000 parts by weight based on 100 parts by weight of the total of (A) and (B).

【0026】水相にはハロシランから生成するハロゲン
化水素による酸性度を抑制する水溶性無機塩基または緩
衝能を有する弱酸の塩を加えてもよいが、何も加えない
水を用いても反応は可能である。
The aqueous phase may be added with a water-soluble inorganic base or a salt of a weak acid having a buffering ability, which suppresses the acidity due to hydrogen halide generated from the halosilane. It is possible.

【0027】前記水溶性無機塩基としては、水酸化リチ
ウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カル
シウム、水酸化マグネシウム等の水溶性アルカリ等が挙
げられ、緩衝能を有する弱酸の塩としては炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム
等の炭酸塩、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等
の炭酸水素塩、ビス(シュウ酸)三水素カリウム等のシ
ュウ酸塩、フタル酸水素カリウム、酢酸ナトリウム等の
カルボン酸塩、リン酸水素二ナトリウム、リン酸二水素
カリウム等のリン酸塩、四ホウ酸ナトリウム等のホウ酸
塩などが挙げられるが、これらに限定されるものではな
い。また、これらの量は、使用するハロシラン分子中の
ハロゲン及び(B)のYがハロゲンであるときのそのハ
ロゲンの合計のハロゲン原子1モルに対して、1.8グ
ラム当量以下が望ましい。即ち、ハロシラン等が完全に
加水分解された場合に生じるハロゲン化水素をちょうど
中和する量の1.8倍以下が望ましい。これら水溶性無
機塩基または緩衝能を有する弱酸の塩は、上記の量的範
囲内であれば二種以上混合して用いてもよい。
Examples of the water-soluble inorganic base include water-soluble alkalis such as lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, calcium hydroxide, and magnesium hydroxide. Carbonates such as sodium, potassium carbonate, calcium carbonate and magnesium carbonate; hydrogen carbonates such as sodium hydrogen carbonate and potassium hydrogen carbonate; oxalates such as potassium bis (oxalate) trihydrogen; potassium hydrogen phthalate; sodium acetate; But phosphates such as disodium hydrogen phosphate and potassium dihydrogen phosphate, borates such as sodium tetraborate, and the like, but are not limited thereto. Further, these amounts are desirably not more than 1.8 gram equivalents to 1 mol of the total halogen atoms of the halogen in the halosilane molecule used and when Y in (B) is a halogen. That is, the amount is desirably 1.8 times or less the amount that just neutralizes the hydrogen halide generated when the halosilane or the like is completely hydrolyzed. These water-soluble inorganic bases or salts of weak acids having a buffering ability may be used as a mixture of two or more kinds within the above-mentioned quantitative range.

【0028】本発明の被膜形成用シリコーンレジンは硬
化させることができ、その硬化は、加熱のみにより行う
ことが可能であるが、硬化触媒及び/又は架橋剤を使用
することも可能である。
The silicone resin for forming a film of the present invention can be cured, and the curing can be carried out only by heating, but a curing catalyst and / or a crosslinking agent can also be used.

【0029】前記硬化触媒としては、二酢酸錫、ジオク
チル酸錫、ジラウリル酸錫、四酢酸錫、二酢酸ジブチル
錫、ジオクチル酸ジブチル錫、ジラウリル酸ジブチル
錫、ジオレイン酸ジブチル錫、ジメトキシジブチル錫、
ジブチル錫オキサイド、ベンジルマレイン酸ジブチル
錫、ビス(トリエトキシシロキシ)ジブチル錫、二酢酸
ジフェニル錫などの錫化合物;テトラメトキシチタン、
テトラエトキシチタン、テトラ−n−プロポキシチタ
ン、テトラ−i−プロポキシチタン、テトラ−n−ブト
キシチタン、テトラ−i−ブトキシチタン、テトラキス
(2−エチルヘキソキシ)チタン、ジ−i−プロポキシ
ビス(エチルアセトアセテート)チタン、チタンジプロ
ポキシビス(アセチルアセトナート)チタン、ジ−i−
プロポキシビス(アセチルアセトナート)チタン、ジブ
トキシビス(アセチルアセトナート)チタン、トリ−i
−プロポキシアリルアセテートチタン、チタニウムイソ
プロポキシオクチレングリコール、ビス(アセチルアセ
トナート)チタンオキサイド等のチタン化合物;二酢酸
鉛、ビス(2−エチルヘキサン酸)鉛、ジネオデカン酸
鉛、四酢酸鉛、テトラキス(n−プロピオン酸)鉛、二
酢酸亜鉛、ビス(2−エチルヘキサン酸)亜鉛、ジネオ
デカン酸亜鉛、ジウンデセン酸亜鉛、ジメタクリル酸亜
鉛、二酢酸鉄、テトラキス(2−エチルヘキサン酸)ジ
ルコニウム、テトラキス(メタクリル酸)ジルコニウ
ム、二酢酸コバルトなどの金属脂肪酸類;アミノプロピ
ルトリメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3
−アミノプロピルトリメトキシシラン、テトラメチルグ
アニジン、テトラメチルグアニジルプロピルトリメトキ
シシラン、テトラメチルグアニジルプロピルジメトキシ
シラン、テトラメチルグアニジルプロピルトリス(トリ
メチルシロキサン)シラン、1,8−ジアザビシクロ
〔5.4.0.〕−7−ウンデセン、ジ−n−ヘキシル
アミン、トリエタノールアミン、ジシクロヘキシルアミ
ン、ジ−n−オクチルアミン、トリエチルアミン、ジエ
チルアミン、トリエチルベンジルアミン、エチレンジア
ミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラアミ
ン等のアミノ基含有化合物等が用いられるが、これらに
限定されるものではない。通常、シリコーンレジン10
0重量部に対して0.01〜10重量部、好ましくは
0.1〜5重量部の範囲で用いられる。
Examples of the curing catalyst include tin diacetate, tin dioctylate, tin dilaurate, tin tetraacetate, dibutyl tin diacetate, dibutyl tin dioctylate, dibutyl tin dilaurate, dibutyl tin dioleate, dimethoxy dibutyl tin,
Tin compounds such as dibutyltin oxide, dibutyltin benzylmaleate, bis (triethoxysiloxy) dibutyltin, diphenyltin diacetate; tetramethoxytitanium;
Tetraethoxytitanium, tetra-n-propoxytitanium, tetra-i-propoxytitanium, tetra-n-butoxytitanium, tetra-i-butoxytitanium, tetrakis (2-ethylhexoxy) titanium, di-i-propoxybis (ethylacetoacetate) ) Titanium, titanium dipropoxybis (acetylacetonate) titanium, di-i-
Propoxybis (acetylacetonato) titanium, dibutoxybis (acetylacetonato) titanium, tri-i
Titanium compounds such as propoxyallyl acetate titanium, titanium isopropoxyoctylene glycol, bis (acetylacetonato) titanium oxide; lead diacetate, lead bis (2-ethylhexanoate), lead dineodecanoate, lead tetraacetate, tetrakis ( Lead n-propionate), zinc diacetate, zinc bis (2-ethylhexanoate), zinc dinedecanoate, zinc diundecenoate, zinc dimethacrylate, iron diacetate, zirconium tetrakis (2-ethylhexanoate), tetrakis ( Metal fatty acids such as zirconium (methacrylic acid) and cobalt diacetate; aminopropyltrimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3
-Aminopropyltrimethoxysilane, tetramethylguanidine, tetramethylguanidylpropyltrimethoxysilane, tetramethylguanidylpropyldimethoxysilane, tetramethylguanidylpropyltris (trimethylsiloxane) silane, 1,8-diazabicyclo [5 .4.0. -7-Undecene, di-n-hexylamine, triethanolamine, dicyclohexylamine, di-n-octylamine, triethylamine, diethylamine, triethylbenzylamine, ethylenediamine, diethylenetriamine, amino group-containing compounds such as triethylenetetraamine, etc. However, the present invention is not limited to these. Usually, silicone resin 10
It is used in an amount of 0.01 to 10 parts by weight, preferably 0.1 to 5 parts by weight based on 0 parts by weight.

【0030】また、架橋剤としては以下に示す化合物が
例示される。
Examples of the crosslinking agent include the following compounds.

【0031】[0031]

【化1】 Embedded image

【0032】[0032]

【化2】 Embedded image

【0033】架橋剤は通常、シリコーンレジン100重
量部に対して0.1〜80重量部、好ましくは1〜70
重量部の範囲で用いられる。硬化温度は、硬化触媒、架
橋剤のいずれを用いた場合にも20〜350℃、好まし
くは20〜250℃である。350℃を超えるとシロキ
サンの分解が起こるおそれがある。加熱のみによる硬化
の場合には温度は50℃〜350℃であり、好適には8
0℃〜250℃である。50℃未満では反応が充分に進
行しない。350℃を超えるとシロキサンの分解が起こ
るおそれがある。
The crosslinking agent is usually used in an amount of 0.1 to 80 parts by weight, preferably 1 to 70 parts by weight, based on 100 parts by weight of the silicone resin.
Used in parts by weight. The curing temperature is 20 to 350 ° C, preferably 20 to 250 ° C, regardless of whether a curing catalyst or a crosslinking agent is used. If it exceeds 350 ° C., siloxane may be decomposed. In the case of curing only by heating, the temperature is 50 ° C to 350 ° C, preferably 8 ° C.
0 ° C to 250 ° C. If the temperature is lower than 50 ° C., the reaction does not proceed sufficiently. If it exceeds 350 ° C., siloxane may be decomposed.

【0034】本発明のシリコーンレジン又は組成物を溶
解する溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等
の芳香族炭化水素溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒド
ロフラン等のエーテル系溶媒、ブタノール、ヘキサノー
ル等のアルコール系溶媒、アセトン、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒、酢酸エ
チル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、クロロホルム、
トリクロロエチレン、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水
素溶媒、ヘキサン、n−オクタン等の飽和炭化水素溶
媒、トリメチルメトキシシラン、ジメチルジメトキシシ
ラン等のシラン系溶媒、ヘキサメチルジシロキサン等の
ボラタイルシリコーン系溶媒等が例示されるがこれらに
限定されるものではない。
Solvents for dissolving the silicone resin or the composition of the present invention include aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, and xylene; ether solvents such as diethyl ether and tetrahydrofuran; alcohol solvents such as butanol and hexanol; Ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, ester solvents such as ethyl acetate and butyl acetate, chloroform,
Halogenated hydrocarbon solvents such as trichloroethylene and carbon tetrachloride; saturated hydrocarbon solvents such as hexane and n-octane; silane solvents such as trimethylmethoxysilane and dimethyldimethoxysilane; and volatile silicone solvents such as hexamethyldisiloxane. It is exemplified, but not limited to these.

【0035】本発明の組成物を前期溶媒に溶解させて使
用する場合、この溶媒は本発明の組成物100重量部に
対して、0〜100,000重量部、好ましくは0〜1
0000重量部で用いられる。
When the composition of the present invention is used by dissolving it in the solvent, the solvent is used in an amount of 0 to 100,000 parts by weight, preferably 0 to 1 part by weight, per 100 parts by weight of the composition of the present invention.
Used in 0000 parts by weight.

【0036】本発明のシリコーンレジンは、撥水性を必
要とする基材に対して適宜の手段により塗布または含浸
され、被膜を形成することにより使用される。塗布また
は含浸に際しては、前述の説明のとおり好適な被膜形成
性を得るために、溶剤により希釈し濃度を調整すること
が可能である。塗布および含浸する手段としては、浸漬
塗布および含浸法、ロールコーティング、フローコーテ
ィング、刷毛塗り法、スプレー法などが利用できる。基
材に形成される被膜の膜厚に格別の制限はないが、例え
ば0.1〜30μmの厚さで形成される。
The silicone resin of the present invention is used by applying or impregnating a substrate requiring water repellency by an appropriate means to form a film. Upon application or impregnation, it is possible to adjust the concentration by diluting with a solvent in order to obtain a suitable film-forming property as described above. As means for coating and impregnating, dip coating and impregnating methods, roll coating, flow coating, brush coating, spraying, and the like can be used. There is no particular limitation on the film thickness of the film formed on the substrate, but the film is formed with a thickness of, for example, 0.1 to 30 μm.

【0037】本発明の撥水性被膜形成用シリコーンレジ
ンが適用される基材の物体は、特に制限されるものでは
なく、金属、ガラス、プラスチック、無機材料、ゴム、
繊維など種々の物質よりなる基材に適用することができ
る。基本的には、撥水性が必要とされる品物、材料、部
位等、例えば熱交換機、建築用ガラス、台所、洗面所、
風呂場などの、水に塗れたり湿気の多い部位に適用され
る。
The object of the substrate to which the silicone resin for forming a water-repellent film of the present invention is applied is not particularly limited, and may be metal, glass, plastic, inorganic material, rubber,
The present invention can be applied to substrates made of various substances such as fibers. Basically, items, materials, parts, etc. that require water repellency, such as heat exchangers, architectural glass, kitchens, washrooms,
It is applied to places that are wet or humid, such as bathrooms.

【0038】[0038]

【実施例】次に実施例、比較例により本発明をさらに詳
しく説明するが、この発明はこれらの例によってなんら
限定されるものではない。
Next, the present invention will be described in more detail with reference to examples and comparative examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0039】(実施例1)還流冷却管、滴下ロート、及
び攪拌器を備えた反応容器に、水400mLとメチルイソ
ブチルケトン300mLを加え、二層を形成しないよう激
しく攪拌しておき、両末端に水酸基を有する平均重合度
55のポリジメチルシロキサンを26.25g加えてさ
らに攪拌し、氷浴中に入れた。反応容器内の混合物の温
度が10℃となったところで、メチルトリクロロシラン
123.75g(0.828モル)を100mLのメチル
イソブチルケトンに溶解した溶液を滴下ロートからゆっ
くり滴下した。この際反応混合物の温度は17℃まで上
昇した。滴下終了後、60℃の油浴上で、反応混合物を
1時間加熱攪拌した。反応終了後、有機層を洗浄水が中
性になるまで洗浄し、次いで有機層を乾燥剤を用いて乾
燥した。乾燥剤を除去した後、溶媒を減圧で留去し、二
昼夜真空乾燥を行ないシリコーンレジンをワックス状の
固体として得た。このシリコーンレジンの分子量分布を
GPC〔東ソー(株)製HLC−8020、カラムは東
ソー製TSKge1GMHXL-L+G1000HXL(商標)を使用し、溶媒
としてクロロホルムを用いた〕により測定したところ、
標準ポリスチレン換算での重量平均分子量は5000で
あり、数平均分子量は970であった。また29SiNM
Rスペクトル〔ブルカー製ACP−300により測定〕
から求めたジオルガノシロキシ単位とモノオルガノシロ
キシ単位のモル比すなわち(a+b)/(c+d)の値
は0.43、オルガノシロキシ単位におけるケイ素1モ
ルに対するシラノールのモル量すなわち(a+c)/
(a+b+c+d)の値は0.213であった。
Example 1 400 mL of water and 300 mL of methyl isobutyl ketone were added to a reaction vessel equipped with a reflux condenser, a dropping funnel, and a stirrer, and vigorously stirred so as not to form two layers. 26.25 g of polydimethylsiloxane having an average degree of polymerization of 55 having hydroxyl groups was added, further stirred, and placed in an ice bath. When the temperature of the mixture in the reaction vessel reached 10 ° C., a solution of 123.75 g (0.828 mol) of methyltrichlorosilane dissolved in 100 mL of methyl isobutyl ketone was slowly dropped from the dropping funnel. At this time, the temperature of the reaction mixture rose to 17 ° C. After the addition was completed, the reaction mixture was heated and stirred for 1 hour on a 60 ° C. oil bath. After the completion of the reaction, the organic layer was washed until the washing water became neutral, and then the organic layer was dried using a desiccant. After removing the desiccant, the solvent was distilled off under reduced pressure, and vacuum drying was performed for two days and night to obtain a silicone resin as a wax-like solid. The molecular weight distribution of this silicone resin was measured by GPC (using HLC-8020 manufactured by Tosoh Corporation, and using TSKge1GMHXL-L + G1000HXL (trademark) manufactured by Tosoh Corporation as a column and using chloroform as a solvent).
The weight average molecular weight in terms of standard polystyrene was 5,000, and the number average molecular weight was 970. Also 29 SiNM
R spectrum (measured by Bruker ACP-300)
The value of the molar ratio of diorganosiloxy units to monoorganosiloxy units, ie, (a + b) / (c + d), is 0.43, and the molar amount of silanol to 1 mol of silicon in organosiloxy units, ie, (a + c) /
The value of (a + b + c + d) was 0.213.

【0040】このシリコーンレジン1gを、イソプロピ
ルエーテル10gに溶解し、これに10mgのジブチル錫
アセテートを加え、得られた溶液をアルミニウム板(J
ISA−1050)上にフローコーティングし、150
℃のオーブンで1時間硬化させた。
1 g of this silicone resin was dissolved in 10 g of isopropyl ether, and 10 mg of dibutyltin acetate was added thereto.
Flow coated on ISA-1050), 150
Cured in an oven at ℃ for 1 hour.

【0041】このようにして得られた被膜の撥水性を以
下の方法により判定した。被膜の形成されているアルミ
ニウム板を水平に置き、その被膜表面上にマイクロピペ
ットで種々の量の蒸留水を滴下し水滴を静置させた。水
滴を滴下後10〜20秒以内にアルミニウム板の一辺を
机に接触させたまま、反対側の一辺を持ち上げアルミニ
ウム板を机に対して垂直に立て1分以内に5mm以上水滴
が落下するかを観測した。この測定をアルミニウム板に
形成された被膜上の任意の10ヶ所で行い、8ヶ所以上
で落下が確認された水滴の最小量をその被膜の「水滴落
下量」として表1に示す。この被膜形成用シリコーンレ
ジンの硬化物は水滴落下量が1μL 以下と良好な撥水性
を示した。
The water repellency of the coating thus obtained was determined by the following method. The aluminum plate on which the coating was formed was placed horizontally, and various amounts of distilled water were dropped on the surface of the coating with a micropipette, and the water droplets were allowed to stand. With one side of the aluminum plate in contact with the desk within 10 to 20 seconds after dropping the water, lift the other side up and set the aluminum plate perpendicular to the desk to see if the water drop falls by 5 mm or more within one minute. Observed. This measurement was performed at arbitrary 10 locations on the coating formed on the aluminum plate, and the minimum amount of water droplets that were confirmed to have dropped at 8 or more locations is shown in Table 1 as the “falling amount of water droplet” of the coating. The cured product of the silicone resin for film formation showed good water repellency with a water drop amount of 1 μL or less.

【0042】(実施例2)実施例1と同様の反応装置・
条件で、両末端に水酸基を有する平均重合度23のポリ
ジメチルシロキサン26.25gを用いて反応させ、シ
リコーンレジンをワックス状の固体として得た。得られ
たシリコーンレジンのポリスチレン換算での重量平均分
子量は3100であり、数平均分子量は630であっ
た。また29SiNMRスペクトルから求めた(a+b)
/(c+d)の値は0.43,(a+c)/(a+b+
c+d)の値は0.226であった。
(Example 2) The same reactor as in Example 1
Under the conditions, 26.25 g of polydimethylsiloxane having hydroxyl groups at both terminals and having an average degree of polymerization of 23 was reacted to obtain a silicone resin as a wax-like solid. The weight average molecular weight in terms of polystyrene of the obtained silicone resin was 3,100, and the number average molecular weight was 630. (A + b) determined from the 29 Si NMR spectrum
The value of / (c + d) is 0.43, (a + c) / (a + b +
The value of c + d) was 0.226.

【0043】このシリコーンレジンを実施例1と同様に
して硬化させた。また、実施例1と同様にして行った撥
水性試験の結果を表1に示す。
This silicone resin was cured in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the results of the water repellency test performed in the same manner as in Example 1.

【0044】(実施例3)実施例1と同様の反応装置・
条件で、両末端に水酸基を有する平均重合度240のポ
リジメチルシロキサン26.25gを用いて反応させ、
シリコーンレジンをワックス状の固体として得た。得ら
れたシリコーンレジンのポリスチレン換算での重量平均
分子量は9100であり、数平均分子量は720であっ
た。また29SiNMRスペクトルから求めた(a+b)
/(c+d)の値は0.42,(a+c)/(a+b+
c+d)の値は0.198であった。
(Example 3) The same reaction apparatus as in Example 1
Under the conditions, the reaction was carried out using 26.25 g of polydimethylsiloxane having an average degree of polymerization of 240 having hydroxyl groups at both ends,
The silicone resin was obtained as a waxy solid. The weight average molecular weight of the obtained silicone resin in terms of polystyrene was 9,100, and the number average molecular weight was 720. (A + b) determined from the 29 Si NMR spectrum
The value of / (c + d) is 0.42, (a + c) / (a + b +
The value of c + d) was 0.198.

【0045】このシリコーンレジンを実施例1と同様に
して硬化させた。また、実施例1と同様にして行った撥
水性試験の結果を表1に示す。この被膜形成用シリコー
ンレジンの硬化物は水滴落下量が1μL以下と良好な撥
水性を示した。
This silicone resin was cured in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the results of the water repellency test performed in the same manner as in Example 1. The cured product of the silicone resin for forming a coating film showed good water repellency with a water drop amount of 1 μL or less.

【0046】(実施例4)実施例1と同様の反応装置・
条件で、両末端に水酸基を有する平均重合度55のポリ
ジメチルシロキサンを49.66gとメチルトリクロロ
シラン100.34g(0.692モル)を用いて反応
させ、シリコーンレジンをワックス状の固体として得
た。得られたシリコーンレジンのポリスチレン換算での
重量平均分子量は4200であり、数平均分子量は91
0であった。また29SiNMRスペクトルから求めた
(a+b)/(c+d)の値は0.98,(a+c)/
(a+b+c+d)の値は0.205であった。
(Example 4) The same reaction apparatus as in Example 1
Under the conditions, 49.66 g of polydimethylsiloxane having an average polymerization degree of 55 having hydroxyl groups at both ends was reacted with 100.34 g (0.692 mol) of methyltrichlorosilane to obtain a silicone resin as a waxy solid. . The weight average molecular weight of the obtained silicone resin in terms of polystyrene was 4,200, and the number average molecular weight was 91.
It was 0. The value of (a + b) / (c + d) determined from the 29 Si NMR spectrum was 0.98, (a + c) /
The value of (a + b + c + d) was 0.205.

【0047】このシリコーンレジンを実施例1と同様に
して硬化させた。また、実施例1と同様にして行った撥
水性試験の結果を表1に示す。この被膜形成用シリコー
ンレジンの硬化物は水滴落下量が1μL以下と良好な撥
水性を示した。
This silicone resin was cured in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the results of the water repellency test performed in the same manner as in Example 1. The cured product of the silicone resin for forming a coating film showed good water repellency with a water drop amount of 1 μL or less.

【0048】(実施例5)実施例1と同様の反応装置・
条件で、水400mLとメチルイソブチルケトン300mL
を加え、二層を形成しないよう激しく攪拌しておき、両
末端に水酸基を有する平均重合度55のポリジメチルシ
ロキサンを16.77g加えてさらに攪拌し、氷浴中に
入れた。反応容器内の混合物の温度が10℃となったと
ころで、メチルトリクロロシラン118.61g(0.
793モル)とジメチルジクロロシラン14.62g
(0.133モル)を100mLのメチルイソブチルケト
ンに溶解した溶液を滴下ロートからゆっくり滴下した。
その後、実施例1と同様の処理を行ってシリコーンレジ
ンをワックス状の固体として得た。得られたシリコーン
レジンのポリスチレン換算での重量平均分子量は485
0であり、数平均分子量は910であった。また29Si
NMRスペクトルから求めた(a+b)/(c+d)の
値は0.42,(a+c)/(a+b+c+d)の値は
0.202であった。
(Example 5) The same reaction apparatus as in Example 1
Under the conditions, water 400mL and methyl isobutyl ketone 300mL
Was added, and vigorously stirred so as not to form two layers, 16.77 g of polydimethylsiloxane having an average polymerization degree of 55 having hydroxyl groups at both terminals was added, further stirred, and placed in an ice bath. When the temperature of the mixture in the reaction vessel reached 10 ° C., 118.61 g of methyltrichlorosilane (0.
793 mol) and 14.62 g of dimethyldichlorosilane
(0.133 mol) in 100 mL of methyl isobutyl ketone was slowly dropped from a dropping funnel.
Thereafter, the same treatment as in Example 1 was performed to obtain a silicone resin as a wax-like solid. The weight average molecular weight of the obtained silicone resin in terms of polystyrene was 485.
It was 0 and the number average molecular weight was 910. 29 Si
The value of (a + b) / (c + d) determined from the NMR spectrum was 0.42, and the value of (a + c) / (a + b + c + d) was 0.202.

【0049】このシリコーンレジンを実施例1と同様に
して硬化させた。また、実施例1と同様にして行った撥
水性試験の結果を表1に示す。この被膜形成用シリコー
ンレジンの硬化物は水滴落下量が1μL以下と良好な撥
水性を示した。
This silicone resin was cured in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the results of the water repellency test performed in the same manner as in Example 1. The cured product of the silicone resin for forming a coating film showed good water repellency with a water drop amount of 1 μL or less.

【0050】(実施例6)実施例1と同様の反応装置・
条件で、水400mLとメチルイソブチルケトン250mL
を加え、二層を形成しないよう激しく攪拌し、氷浴中に
入れた。反応容器内の混合物の温度が10℃となったと
ころで、フェニルトリクロロシラン82.60g(0.
390モル)を100mLのメチルイソブチルケトンに溶
解した溶液を滴下ロートからゆっくり滴下した。この際
反応混合物の温度は15℃まで上昇した。滴下終了後、
60℃の油浴上で、反応混合物を1時間加熱攪拌した。
その後、両末端に水酸基を有する平均重合度55のポリ
ジメチルシロキサン67.40gを50mLのメチルイソ
ブチルケトン溶解した溶液を再び滴下ロートからゆっく
り滴下した。滴下終了後、再度60℃の油浴上で、反応
混合物を1時間加熱攪拌した。実施例1と同様の処置を
行ってシリコーンレジンをワックス状の固体として得
た。得られたシリコーンレジンのポリスチレン換算での
重量平均分子量は5100であり、数平均分子量は10
00であった。また29SiNMRスペクトルから求めた
(a+b)/(c+d)の値は2.47,(a+c)/
(a+b+c+d)の値は0.202であった。
(Example 6) The same reaction apparatus as in Example 1
Under the conditions, water 400mL and methyl isobutyl ketone 250mL
Was added and stirred vigorously so as not to form two layers, and placed in an ice bath. When the temperature of the mixture in the reaction vessel reached 10 ° C., 82.60 g of phenyltrichlorosilane (0.
390 mol) in 100 mL of methyl isobutyl ketone was slowly dropped from a dropping funnel. At this time, the temperature of the reaction mixture rose to 15 ° C. After dropping,
The reaction mixture was heated and stirred on a 60 ° C. oil bath for 1 hour.
Thereafter, a solution in which 67.40 g of polydimethylsiloxane having hydroxyl groups at both terminals and having an average degree of polymerization of 55 and 50 mL of methyl isobutyl ketone was dissolved was slowly dropped from the dropping funnel again. After completion of the dropwise addition, the reaction mixture was again heated and stirred on a 60 ° C. oil bath for 1 hour. The same treatment as in Example 1 was performed to obtain a silicone resin as a waxy solid. The weight average molecular weight of the obtained silicone resin in terms of polystyrene was 5100, and the number average molecular weight was 10
00. The value of (a + b) / (c + d) determined from the 29 Si NMR spectrum was 2.47, (a + c) /
The value of (a + b + c + d) was 0.202.

【0051】このシリコーンレジンを実施例1と同様に
して硬化させた。また、実施例1と同様にして行った撥
水性試験の結果を表1に示す。この被膜形成用シリコー
ンレジンの硬化物は水滴落下量が1μL以下と良好な撥
水性を示した。
This silicone resin was cured in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the results of the water repellency test performed in the same manner as in Example 1. The cured product of the silicone resin for forming a coating film showed good water repellency with a water drop amount of 1 μL or less.

【0052】(実施例7)実施例1と同様の反応装置・
条件で、水400mL、トルエン175mL、イソブロパノ
ール75mLを加え、二層を形成しないよう激しく攪拌
し、氷浴中に入れた。反応容器内の混合物の温度が10
℃となったところで、フェニルトリクロロシラン82.
60g(0.390モル)を100mLのトルエンに溶解
した溶液を滴下ロートからゆっくり滴下した。この際反
応混合物の温度は15℃まで上昇した。滴下終了後、油
浴上で反応混合物を加熱し、共沸下で6時間攪拌した。
その後、両末端に水酸基を有する平均重合度55のポリ
ジメチルシロキサン67.40gを50mLのトルエンに
溶解した溶液を再び滴下ロートからゆっくり滴下した。
滴下終了後、再度共沸下で、反応混合物を6時間攪拌し
た。実施例1と同様の処理を行ってシリコーンレジンを
固体として得た。得られたシリコーンレジンのポリスチ
レン換算での重量平均分子量は3656200であり、
数平均分子量は989250であった。また29SiNM
Rスペクトルから求めた(a+b)/(c+d)の値は
2.15,(a+c)/(a+b+c+d)の値は0.
072であった。
(Example 7) The same reaction apparatus as in Example 1
Under the conditions, 400 mL of water, 175 mL of toluene and 75 mL of isopropanol were added, and the mixture was stirred vigorously so as not to form two layers, and placed in an ice bath. When the temperature of the mixture in the reaction vessel is 10
℃, phenyltrichlorosilane
A solution of 60 g (0.390 mol) dissolved in 100 mL of toluene was slowly dropped from a dropping funnel. At this time, the temperature of the reaction mixture rose to 15 ° C. After the completion of the dropwise addition, the reaction mixture was heated on an oil bath and stirred for 6 hours under azeotropy.
Thereafter, a solution of 67.40 g of polydimethylsiloxane having hydroxyl groups at both ends and having an average degree of polymerization of 55 in 50 mL of toluene was slowly dropped again from the dropping funnel.
After completion of the dropwise addition, the reaction mixture was stirred again for 6 hours under azeotropy. The same treatment as in Example 1 was performed to obtain a silicone resin as a solid. The weight average molecular weight of the obtained silicone resin in terms of polystyrene was 3656200,
The number average molecular weight was 989250. Also 29 SiNM
The value of (a + b) / (c + d) determined from the R spectrum was 2.15, and the value of (a + c) / (a + b + c + d) was 0.1.
072.

【0053】このシリコーンレジンを実施例1と同様に
して硬化させた。また、実施例1と同様にして行った撥
水性試験の結果を表1に示す。この被膜形成用シリコー
ンレジンの硬化物は水滴落下量が1μL以下と良好な撥
水性を示した。
This silicone resin was cured in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the results of the water repellency test performed in the same manner as in Example 1. The cured product of the silicone resin for forming a coating film showed good water repellency with a water drop amount of 1 μL or less.

【0054】(比較例1)実施例1と同様の反応装置・
条件で、水400mLとメチルイソブチルケトン300mL
を加え、二層を形成しないよう激しく攪拌し、氷浴中に
入れた。反応容器内の混合物の温度が10℃どなったと
ころで、メチルトリクロロシラン130.14g(0.
871モル)とジメチルジクロロシラン19.86g
(0.154モル)を100mLのメチルイソブチルケト
ンに溶解した溶液を滴下ロートからゆっくり滴下した。
その後、実施例1と同様の処理を行ってシリコーンレジ
ンをフレーク状の固体として得た。得られたシリコーン
レジンのポリスチレン換算での重量平均分子量は190
0であり、数平均分子量は560であった。また29Si
NMRスペクトルから求めた(a+b)/(c+d)の
値は0.19,(a+c)/(a+b+c+d)の値は
0.206であった。
(Comparative Example 1) The same reactor as in Example 1
Under the conditions, water 400mL and methyl isobutyl ketone 300mL
Was added and stirred vigorously so as not to form two layers, and placed in an ice bath. When the temperature of the mixture in the reaction vessel reached 10 ° C., 130.14 g of methyltrichlorosilane (0.1.
871 mol) and 19.86 g of dimethyldichlorosilane
(0.154 mol) in 100 mL of methyl isobutyl ketone was slowly dropped from a dropping funnel.
Thereafter, the same treatment as in Example 1 was performed to obtain a silicone resin as a flake-like solid. The weight average molecular weight of the obtained silicone resin in terms of polystyrene is 190.
It was 0 and the number average molecular weight was 560. 29 Si
The value of (a + b) / (c + d) determined from the NMR spectrum was 0.19, and the value of (a + c) / (a + b + c + d) was 0.206.

【0055】このシリコーンレジンを実施例1と同様に
して硬化させた。また、実施例1と同様にして行った撥
水性試験の結果を表1に示す。この被膜形成用シリコー
ンレジンの硬化物は水滴落下量が4μLを示した。
This silicone resin was cured in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the results of the water repellency test performed in the same manner as in Example 1. The cured product of the silicone resin for forming a coating film showed a water drop amount of 4 μL.

【0056】〔表1〕 シリコーンレジン硬化被膜の水滴落下量 実施例番号 水滴落下量(μL) ───────────────────── 実施例1 0.8 実施例2 1.0 実施例3 0.8 実施例4 0.8 実施例5 1.0 実施例6 0.8 実施例7 0.8 比較例1 4.0 ─────────────────────[Table 1] Amount of water droplet falling on cured silicone resin coating Example No. Amount of water droplet falling (μL) ───────────────────── Example 10 8 Example 2 1.0 Example 3 0.8 Example 4 0.8 Example 5 1.0 Example 6 0.8 Example 7 0.8 Comparative Example 1 4.0 ──────────────

【0057】[0057]

【発明の効果】本発明は、他の成分を配合することなく
単独で使用しても、優れた撥水性を示す被膜を形成する
ことが可能な特定の構造を有するシリコーンレジンを提
供するものである。
The present invention provides a silicone resin having a specific structure capable of forming a coating exhibiting excellent water repellency even when used alone without blending other components. is there.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 平均構造が一般式 〔R1 22 SiO1/2 a 〔R1 2SiO2/2 b 〔R2
3 SiO2/2 c 〔R 3 SiO3/2 d 〔ここに、R1 はそれぞれ独立に炭素数1〜5のアルキ
ル基、R2 はそれぞれ独立に水酸基または炭素数1〜5
のアルコキシ基、R3 はそれぞれ独立に炭素数1〜5の
アルキル基または芳香族炭化水素基であり、a,b,c
及びdは次の各条件を満たすものである。 1)a+b+c+d=1(但し、aは0または正の数
で、b,c,dは正の数である。) 2)0.25≦(a+b)/(c+d)≦4.0 3)0.05≦(a+c)/(a+b+c+d)≦0.
40〕で示される撥水性被膜形成用シリコーンレジン。
The average structure is represented by the general formula [R1 TwoRTwoSiO1/2]a[R1 TwoSiO2/2]b[RTwo
RThreeSiO2/2]c[R ThreeSiO3/2]d [Where R1Are each independently an alkyl having 1 to 5 carbon atoms
R group, RTwoAre each independently a hydroxyl group or a group having 1 to 5 carbon atoms.
An alkoxy group of RThreeEach independently has 1 to 5 carbon atoms
An alkyl group or an aromatic hydrocarbon group, a, b, c
And d satisfy the following conditions. 1) a + b + c + d = 1 (where a is 0 or a positive number)
Where b, c, and d are positive numbers. 2) 0.25 ≦ (a + b) / (c + d) ≦ 4.0 3) 0.05 ≦ (a + c) / (a + b + c + d) ≦ 0.
40] a silicone resin for forming a water-repellent film.
【請求項2】 以下の〜の特徴を有する請求項1記
載の撥水性被膜形成用シリコーンレジン 少なくともポリジメチルシロキサン単位を含み、か
つ該ポリジメチルシロキサン単位の平均重合度は5〜1
000であること。 1分子中において下記(1)の単位の個数の下記
(2)の単位の個数に対する比が1以上であること(但
し、下記(2)の単位が存在しない場合はこの限りでは
ない。)。 (1)[(CH3 2 SiO2/2 m (m≧2)のポリ
ジメチルシロキサン単位 (2)[(CH3 2 SiO2/2 m (m=1)のジメ
チルシロキサン単位((1)の単位を構成するものは除
く) 0.3≦(a+b)/(c+d)≦3 であるこ
と。
2. The silicone resin for forming a water-repellent film according to claim 1, which has the following characteristics: at least a polydimethylsiloxane unit having an average degree of polymerization of 5-1.
000. In one molecule, the ratio of the number of units of the following (1) to the number of units of the following (2) is 1 or more (however, this does not apply when the unit of the following (2) does not exist). (1) Polydimethylsiloxane unit of [(CH 3 ) 2 SiO 2/2 ] m (m ≧ 2) (2) Dimethyl siloxane unit of [(CH 3 ) 2 SiO 2/2 ] m (m = 1) ( 0.3 ≦ (a + b) / (c + d) ≦ 3.
【請求項3】 下記(a)と(b)からなる2相反応系
にて、下記(A)と(B)の加水分解および縮合を行う
ことにより製造される請求項1又は2に記載の撥水性被
膜形成用シリコーンレジン。 (a)次の又は: 含酸素有機溶媒; 含酸素有機溶媒と炭化水素溶媒とからなる混合溶媒
(但し、この混合溶媒中に含まれる炭化水素溶媒の割合
は50容量%以下); (b)下記(A)及び(B)中のハロゲン原子1モルに
対して、1.8グラム当量以下の水溶性無機塩基または
緩衝能を有する弱酸の塩を含むかまたは含まない水、 (A)式R3 SiX3 (R3 は上記と同じ意味であり、
Xはハロゲン原子である。)で示されるオルガノトリハ
ロシラン; (B)式Y(SiR1 2O)e SiR1 2Y(Yはハロゲン
原子、水酸基、水素から選ばれる一種以上であり、eは
0または300以下の正の数であり、R1 は上記と同じ
意味である)で示される2官能性ジオルガノシランまた
は両末端に官能基を有するジオルガノポリシロキサン。
3. The method according to claim 1, which is produced by performing hydrolysis and condensation of the following (A) and (B) in a two-phase reaction system comprising the following (a) and (b). Silicone resin for forming water-repellent coating. (A) the following or: an oxygen-containing organic solvent; a mixed solvent comprising an oxygen-containing organic solvent and a hydrocarbon solvent (however, the proportion of the hydrocarbon solvent contained in the mixed solvent is 50% by volume or less); (b) 1.8 g or less of a water-soluble inorganic base or water containing or not containing a salt of a weak acid having a buffering capacity per mole of a halogen atom in the following (A) and (B); 3 Six 3 (R 3 has the same meaning as above,
X is a halogen atom. Organotrihalosilane represented by); (B) formula Y (SiR 1 2 O) e SiR 1 2 Y (Y is a halogen atom, hydroxyl group, at least one selected from hydrogen, e is positive for 0 or 300 or less And R 1 has the same meaning as described above.) Or a diorganopolysiloxane having a functional group at both terminals.
【請求項4】 請求項1,2又は3のシリコーンレジン
100重量部と、硬化触媒0.01〜10の重量部とを
含有することを特徴とする撥水性被膜形成用シリコーン
レジン組成物。
4. A silicone resin composition for forming a water-repellent film, comprising 100 parts by weight of the silicone resin according to claim 1, 2 or 3, and 0.01 to 10 parts by weight of a curing catalyst.
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