JPH11210918A - バルブ機構 - Google Patents
バルブ機構Info
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- JPH11210918A JPH11210918A JP2777698A JP2777698A JPH11210918A JP H11210918 A JPH11210918 A JP H11210918A JP 2777698 A JP2777698 A JP 2777698A JP 2777698 A JP2777698 A JP 2777698A JP H11210918 A JPH11210918 A JP H11210918A
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- JP
- Japan
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- valve seat
- electromagnet
- valve
- sphere
- clean box
- Prior art date
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 非接触の状態で弁体を弁座から離すことがで
き、しかも、弁体と弁座との間の開度を調整できるバル
ブ機構を提供することである。 【解決手段】 弁体１０と弁座５ａとを有するバルブ機
構において、弁体１０に引力あるいは斥力を作用させる
電磁石１１、１２を備え、この電磁石１１、１２の引力
あるいは斥力によって、弁体１０を弁座５ａから離すと
ともに、その引力あるいは斥力を制御して、弁体１０と
弁座５ａとの開度を調節する構成にしている。
き、しかも、弁体と弁座との間の開度を調整できるバル
ブ機構を提供することである。 【解決手段】 弁体１０と弁座５ａとを有するバルブ機
構において、弁体１０に引力あるいは斥力を作用させる
電磁石１１、１２を備え、この電磁石１１、１２の引力
あるいは斥力によって、弁体１０を弁座５ａから離すと
ともに、その引力あるいは斥力を制御して、弁体１０と
弁座５ａとの開度を調節する構成にしている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、クリーンである
ことが要求される半導体関連の分野で用いるのに最適な
バルブ機構に関する。
ことが要求される半導体関連の分野で用いるのに最適な
バルブ機構に関する。
【０００２】
【従来の技術】以下では、従来例のバルブ機構として、
半導体用クリーンボックスに設けたバルブ機構について
説明する。半導体用クリーンボックスとは、半導体デバ
イスの製造工程において、処理すべきウェハ基板を収納
するものである。そして、これらウェハ基板を、半導体
用クリーンボックスに収納した状態で、ある工程から次
の工程に搬送するようにしている。
半導体用クリーンボックスに設けたバルブ機構について
説明する。半導体用クリーンボックスとは、半導体デバ
イスの製造工程において、処理すべきウェハ基板を収納
するものである。そして、これらウェハ基板を、半導体
用クリーンボックスに収納した状態で、ある工程から次
の工程に搬送するようにしている。
【０００３】図２には、半導体用クリーンボックスの一
例を示す。この図２に示すように、半導体用クリーンボ
ックス１の側面には、複数の溝２を形成している。そし
て、これら溝２に、処理すべきウェハ基板３をスライド
させて挿入している。したがって、半導体用クリーンボ
ックス１内には、複数枚のウェハ基板３が間隔をあけた
状態で重ねられて収納されることになる。また、この半
導体用クリーンボックス１の前面、つまり、図面の手前
には、図示しないふたを設けるようにしている。そし
て、半導体用クリーンボックス１内に、清浄で乾燥した
エア等の気体を充満させるとともに、ふたを固定して、
密封状態を保つようにしている。
例を示す。この図２に示すように、半導体用クリーンボ
ックス１の側面には、複数の溝２を形成している。そし
て、これら溝２に、処理すべきウェハ基板３をスライド
させて挿入している。したがって、半導体用クリーンボ
ックス１内には、複数枚のウェハ基板３が間隔をあけた
状態で重ねられて収納されることになる。また、この半
導体用クリーンボックス１の前面、つまり、図面の手前
には、図示しないふたを設けるようにしている。そし
て、半導体用クリーンボックス１内に、清浄で乾燥した
エア等の気体を充満させるとともに、ふたを固定して、
密封状態を保つようにしている。
【０００４】このようにした半導体用クリーンボックス
１では、密封状態のまま、その内部の気体を入れ換えた
い場合がある。例えば、レジストが残留したウェハ基板
３を半導体用クリーンボックス１に収納し、長期間その
ままにしておくと、化学反応を起こすことがある。その
ため、その化学反応によって気体が汚染され、そのウェ
ハ基板３だけでなく、他のウェハ基板３にまで悪影響を
及ぼすことがある。そこで、その内部の気体を入れ換え
るために、半導体用クリーンボックス１にバルブ機構を
設けている。そして、半導体用クリーンボックス１内の
気体を入れ換えてやれば、処理途中のウェハ基板３を収
納したまま長時間保管することが可能となる。
１では、密封状態のまま、その内部の気体を入れ換えた
い場合がある。例えば、レジストが残留したウェハ基板
３を半導体用クリーンボックス１に収納し、長期間その
ままにしておくと、化学反応を起こすことがある。その
ため、その化学反応によって気体が汚染され、そのウェ
ハ基板３だけでなく、他のウェハ基板３にまで悪影響を
及ぼすことがある。そこで、その内部の気体を入れ換え
るために、半導体用クリーンボックス１にバルブ機構を
設けている。そして、半導体用クリーンボックス１内の
気体を入れ換えてやれば、処理途中のウェハ基板３を収
納したまま長時間保管することが可能となる。
【０００５】図３には、上記半導体用クリーンボックス
１に設けたバルブ機構の拡大図を示す。半導体用クリー
ンボックス１の底面１ａには、一対のガイド管挿入孔４
を形成している。半導体用クリーンボックス１の内側で
は、これらガイド管挿入孔４の周囲に、円筒状の弁座部
材５を設けている。この弁座部材５は樹脂で成形され、
その内周面に、ガイド管挿入孔４側へ向かって縮径する
弁座５ａを形成している。さらに、この弁座部材５の弁
座側５ａには、磁石６を埋め込んでいる。
１に設けたバルブ機構の拡大図を示す。半導体用クリー
ンボックス１の底面１ａには、一対のガイド管挿入孔４
を形成している。半導体用クリーンボックス１の内側で
は、これらガイド管挿入孔４の周囲に、円筒状の弁座部
材５を設けている。この弁座部材５は樹脂で成形され、
その内周面に、ガイド管挿入孔４側へ向かって縮径する
弁座５ａを形成している。さらに、この弁座部材５の弁
座側５ａには、磁石６を埋め込んでいる。
【０００６】また、上記弁座部材５内には、強磁性体か
らなる球体７を組み付けている。この球体７の表面に
は、四ふっ化エチレン樹脂等のように化学的に安定した
物質をコーティング加工している。球体７は、通常、上
記磁石６の引力によって、弁座部材５の弁座５ａに着座
するので、半導体用クリーンボックス１を密封状態に保
つことができる。以上述べたようにして、半導体用クリ
ーンボックス１の底面１ａに、一対のバルブ機構を構成
している。
らなる球体７を組み付けている。この球体７の表面に
は、四ふっ化エチレン樹脂等のように化学的に安定した
物質をコーティング加工している。球体７は、通常、上
記磁石６の引力によって、弁座部材５の弁座５ａに着座
するので、半導体用クリーンボックス１を密封状態に保
つことができる。以上述べたようにして、半導体用クリ
ーンボックス１の底面１ａに、一対のバルブ機構を構成
している。
【０００７】次に、この従来例のバルブ機構の作用を説
明する。図３に示すように、半導体用クリーンボックス
１を置くためのストッカーと呼ばれる場所には、気体噴
出用ガイド管８と気体吸入用ガイド管９とを、上方に向
かって突出させている。そして、これらガイド管８、９
を、上記一対のガイド管挿入孔４の間隔に合わせて配置
している。
明する。図３に示すように、半導体用クリーンボックス
１を置くためのストッカーと呼ばれる場所には、気体噴
出用ガイド管８と気体吸入用ガイド管９とを、上方に向
かって突出させている。そして、これらガイド管８、９
を、上記一対のガイド管挿入孔４の間隔に合わせて配置
している。
【０００８】半導体用クリーンボックス１内の気体を入
れ換えたいときは、半導体用クリーンボックス１を上記
ストッカー上に位置させて、ガイド管８、９をガイド管
挿入孔４にそれぞれ挿入する。そして、半導体用クリー
ンボックス１をストッカー上に降ろしていけば、ガイド
管８、９がガイド管挿入孔４に挿入され、その先端がそ
れぞれ球体７に当接する。したがって、ガイド管８、９
の先端に押し上げられて、球体７が弁座部材５の弁座５
ａから離れる。
れ換えたいときは、半導体用クリーンボックス１を上記
ストッカー上に位置させて、ガイド管８、９をガイド管
挿入孔４にそれぞれ挿入する。そして、半導体用クリー
ンボックス１をストッカー上に降ろしていけば、ガイド
管８、９がガイド管挿入孔４に挿入され、その先端がそ
れぞれ球体７に当接する。したがって、ガイド管８、９
の先端に押し上げられて、球体７が弁座部材５の弁座５
ａから離れる。
【０００９】このようにしてガイド管８、９を半導体用
クリーンボックス１内に挿入したら、気体噴出用ガイド
管８から、清浄で乾燥した気体を半導体用クリーンボッ
クス１内に供給する。同時に、気体吸入用ガイド管９か
ら、半導体用クリーンボックス１内の気体を排出する。
したがって、半導体用クリーンボックス１内の気体を、
清浄で乾燥したものに入れ換えることができる。
クリーンボックス１内に挿入したら、気体噴出用ガイド
管８から、清浄で乾燥した気体を半導体用クリーンボッ
クス１内に供給する。同時に、気体吸入用ガイド管９か
ら、半導体用クリーンボックス１内の気体を排出する。
したがって、半導体用クリーンボックス１内の気体を、
清浄で乾燥したものに入れ換えることができる。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】上記従来例のバルブ機
構では、ガイド管８、９の先端で球体７を押し上げて、
この球体７を弁座部材５の弁座５ａから離すようにして
いる。しかし、ガイド管８、９を球体７に接触させる
と、これらガイド管８、９や球体７に傷がついて、その
削片などの細かな異物が発生するおそれがある。特に、
上記従来例の半導体用クリーンボックス１では、その異
物が内部に侵入すると、収納されたウェハ基板３に悪影
響を与えることがある。
構では、ガイド管８、９の先端で球体７を押し上げて、
この球体７を弁座部材５の弁座５ａから離すようにして
いる。しかし、ガイド管８、９を球体７に接触させる
と、これらガイド管８、９や球体７に傷がついて、その
削片などの細かな異物が発生するおそれがある。特に、
上記従来例の半導体用クリーンボックス１では、その異
物が内部に侵入すると、収納されたウェハ基板３に悪影
響を与えることがある。
【００１１】また、上記従来例のバルブ機構では、球体
７と弁座５ａとの間の開度を調整するには、ガイド管
８、９を軸方向に動かすなどして、その挿入長さを変え
なければならない。特に、上記従来例のように、半導体
用クリーンボックス１をストッカー上に置いて、ガイド
管８、９が球体７を押し上げる構成とすると、各寸法は
あらかじめ一定に決められているので、その開度を調整
できなくなる。しかも、ガイド管８、９が球体７を押し
上げる構成とすると、球体７がガイド管８、９の開口の
一部を塞いでしまうので、噴出流量あるいは吸入流量を
制御することがむずかしくなる。この発明の目的は、非
接触の状態で弁体を弁座から離すことができ、しかも、
弁体と弁座との間の開度を調整できるバルブ機構を提供
することである。
７と弁座５ａとの間の開度を調整するには、ガイド管
８、９を軸方向に動かすなどして、その挿入長さを変え
なければならない。特に、上記従来例のように、半導体
用クリーンボックス１をストッカー上に置いて、ガイド
管８、９が球体７を押し上げる構成とすると、各寸法は
あらかじめ一定に決められているので、その開度を調整
できなくなる。しかも、ガイド管８、９が球体７を押し
上げる構成とすると、球体７がガイド管８、９の開口の
一部を塞いでしまうので、噴出流量あるいは吸入流量を
制御することがむずかしくなる。この発明の目的は、非
接触の状態で弁体を弁座から離すことができ、しかも、
弁体と弁座との間の開度を調整できるバルブ機構を提供
することである。
【００１２】
【課題を解決するための手段】この発明は、弁座と弁体
とを有するバルブ機構を前提とする。そして、第１の発
明は、弁体に引力あるいは斥力を作用させる電磁石を備
え、この電磁石の引力あるいは斥力によって、弁体を弁
座から離すとともに、その引力あるいは斥力を制御し
て、弁体と弁座との開度を調整する構成にした点に特徴
を有する。
とを有するバルブ機構を前提とする。そして、第１の発
明は、弁体に引力あるいは斥力を作用させる電磁石を備
え、この電磁石の引力あるいは斥力によって、弁体を弁
座から離すとともに、その引力あるいは斥力を制御し
て、弁体と弁座との開度を調整する構成にした点に特徴
を有する。
【００１３】第２の発明は、第１の発明において、弁体
に磁性を持たせる一方、流体を噴出したり、吸入したり
するガイド管に上記弁体と同極の電磁石を設け、ガイド
管を弁体に近づけて、その電磁石の斥力によって弁体を
弁座から離した状態で、ガイド管から流体を噴出した
り、流体を吸入したりする構成にした点に特徴を有す
る。
に磁性を持たせる一方、流体を噴出したり、吸入したり
するガイド管に上記弁体と同極の電磁石を設け、ガイド
管を弁体に近づけて、その電磁石の斥力によって弁体を
弁座から離した状態で、ガイド管から流体を噴出した
り、流体を吸入したりする構成にした点に特徴を有す
る。
【００１４】
【発明の実施の形態】図１に、この発明のバルブ機構の
一実施例を示す。ただし、以下では、上記従来例のバル
ブ機構との相違点を中心に説明し、上記従来例と同一の
構成要素には同一の符号を付して、その詳細な説明を省
略する。上記従来例と同じく、半導体用クリーンボック
ス１の底面１ａには、ガイド管挿入孔４を形成してい
る。半導体用クリーンボックス１の内側では、これらガ
イド管挿入孔４の周囲に、円筒状の弁座部材５を設けて
いる。この弁座部材５は樹脂で成形され、その内周面
に、ガイド管挿入孔４側へ向かって縮径する弁座５ａを
形成している。さらに、この弁座部材の弁座側５ａに
は、磁石６を埋め込んでいる。
一実施例を示す。ただし、以下では、上記従来例のバル
ブ機構との相違点を中心に説明し、上記従来例と同一の
構成要素には同一の符号を付して、その詳細な説明を省
略する。上記従来例と同じく、半導体用クリーンボック
ス１の底面１ａには、ガイド管挿入孔４を形成してい
る。半導体用クリーンボックス１の内側では、これらガ
イド管挿入孔４の周囲に、円筒状の弁座部材５を設けて
いる。この弁座部材５は樹脂で成形され、その内周面
に、ガイド管挿入孔４側へ向かって縮径する弁座５ａを
形成している。さらに、この弁座部材の弁座側５ａに
は、磁石６を埋め込んでいる。
【００１５】また、上記弁座部材５内には、強磁性体か
らなる磁石球体１０を組み付けている。この磁石球体１
０の表面には、四ふっ化エチレン樹脂等のように化学的
に安定した物質をコーティング加工している。磁石球体
１０は、上記弁座部材５の磁石６とは異極のものであ
る。したがって、磁石球体１０は、磁石６に引き付けら
れて弁座５ａに着座し、半導体用クリーンボックス１を
密封状態に保つことになる。
らなる磁石球体１０を組み付けている。この磁石球体１
０の表面には、四ふっ化エチレン樹脂等のように化学的
に安定した物質をコーティング加工している。磁石球体
１０は、上記弁座部材５の磁石６とは異極のものであ
る。したがって、磁石球体１０は、磁石６に引き付けら
れて弁座５ａに着座し、半導体用クリーンボックス１を
密封状態に保つことになる。
【００１６】なお、弁座部材５としては、強磁性体から
なるものであってもかまわない。この場合、磁石球体１
０は弁座部材５自体に引き付けられるので、磁石６を埋
め込まなくても、磁石球体１０を弁座５ａに着座させる
ことができる。ただし、クリーンであることが要求され
る場合、磁石球体１０が弁座５ａに接触することを考え
ると、弁座部材５を樹脂製としておいた方が、これら弁
座部材５や磁石球体１０に傷がつくおそれがなく望まし
い。
なるものであってもかまわない。この場合、磁石球体１
０は弁座部材５自体に引き付けられるので、磁石６を埋
め込まなくても、磁石球体１０を弁座５ａに着座させる
ことができる。ただし、クリーンであることが要求され
る場合、磁石球体１０が弁座５ａに接触することを考え
ると、弁座部材５を樹脂製としておいた方が、これら弁
座部材５や磁石球体１０に傷がつくおそれがなく望まし
い。
【００１７】次に、この実施例のバルブ機構の作用を説
明する。図１に示すように、ストッカーから突出させた
ガイド管８、９の先端には、筒状の軟鉄１１を組み付け
ている。そして、この軟鉄１１の開口径をガイド管８、
９の内径よりも小さくして、全体として先細ノズル形状
にしている。さらに、ガイド管８、９には、上記軟鉄１
１を囲むコイル１２を設け、このコイル１２に電流を流
すようにしている。ここでは、これら軟鉄１１及びコイ
ル１２が相まって、この発明でいう電磁石を構成してい
る。
明する。図１に示すように、ストッカーから突出させた
ガイド管８、９の先端には、筒状の軟鉄１１を組み付け
ている。そして、この軟鉄１１の開口径をガイド管８、
９の内径よりも小さくして、全体として先細ノズル形状
にしている。さらに、ガイド管８、９には、上記軟鉄１
１を囲むコイル１２を設け、このコイル１２に電流を流
すようにしている。ここでは、これら軟鉄１１及びコイ
ル１２が相まって、この発明でいう電磁石を構成してい
る。
【００１８】半導体用クリーンボックス１内の気体を入
れ換えたいときは、半導体用クリーンボックス１を上記
ストッカー上に置いて、ガイド管８、９をガイド管挿入
孔４にそれぞれ挿入すればよい。そして、コイル１２に
電流を流すと、磁場が発生し、磁石球体１０には斥力が
作用する。したがって、磁石球体１０は、その斥力によ
って、弁座部材５の弁座５ａから離れることになる。
れ換えたいときは、半導体用クリーンボックス１を上記
ストッカー上に置いて、ガイド管８、９をガイド管挿入
孔４にそれぞれ挿入すればよい。そして、コイル１２に
電流を流すと、磁場が発生し、磁石球体１０には斥力が
作用する。したがって、磁石球体１０は、その斥力によ
って、弁座部材５の弁座５ａから離れることになる。
【００１９】このようにしてガイド管８、９を半導体用
クリーンボックス１内に挿入したら、気体噴出用ガイド
管８から、清浄で乾燥した気体を半導体用クリーンボッ
クス１内に供給する。同時に、気体吸入用ガイド管９か
ら、半導体用クリーンボックス１内の気体を排出する。
したがって、半導体用クリーンボックス１内の気体を、
清浄で乾燥したものに入れ換えることができる。ここ
で、コイル１２に流す電流を加減すれば、磁石球体１０
に作用させる電磁石の斥力を制御することができる。し
たがって、磁石球体１０と弁座５ａとの間の開度を調整
でき、そこを流れる流量を制御することができる。
クリーンボックス１内に挿入したら、気体噴出用ガイド
管８から、清浄で乾燥した気体を半導体用クリーンボッ
クス１内に供給する。同時に、気体吸入用ガイド管９か
ら、半導体用クリーンボックス１内の気体を排出する。
したがって、半導体用クリーンボックス１内の気体を、
清浄で乾燥したものに入れ換えることができる。ここ
で、コイル１２に流す電流を加減すれば、磁石球体１０
に作用させる電磁石の斥力を制御することができる。し
たがって、磁石球体１０と弁座５ａとの間の開度を調整
でき、そこを流れる流量を制御することができる。
【００２０】気体を入れ換えたら、半導体用クリーンボ
ックス１をストッカーから持ち上げればよい。このと
き、ガイド管８、９がガイド管挿入孔４からそれぞれ抜
かれるので、磁石球体１０が磁石６に引き付けられて、
弁座部材５の弁座５ａに再び着座することになる。
ックス１をストッカーから持ち上げればよい。このと
き、ガイド管８、９がガイド管挿入孔４からそれぞれ抜
かれるので、磁石球体１０が磁石６に引き付けられて、
弁座部材５の弁座５ａに再び着座することになる。
【００２１】なお、図１に示すように、弁座部材５の弁
座５ａの軸線Ｓ1と、上記ガイド管挿入孔４の軸線Ｓ2と
をややずらして配置している。したがって、ガイド管
８、９の軸線が磁石球体１０の中心からずれて位置する
ことになるが、以下ではそのようにした理由を説明す
る。もし、ガイド管８、９の軸線が磁石球体１０の中心
を通る位置にあると、磁石球体１０には垂直方向への斥
力が作用することになる。そのため、弁座５ａから離れ
た磁石球体１０がふらついてしまい、安定させることが
できない。それに対して、ガイド管８、９の軸線が磁石
球体１０の中心からずれていると、磁石球体１０には斜
め上方向ヘの斥力が作用する。したがって、弁座５ａか
ら離れる磁石球体１０は、図１の実線に示すように、弁
座５ａの図面左側に沿って移動する。そして、磁石球体
１０を弁座部材５の内面に接触させておけば、この磁石
球体１０を安定させておくことができる。
座５ａの軸線Ｓ1と、上記ガイド管挿入孔４の軸線Ｓ2と
をややずらして配置している。したがって、ガイド管
８、９の軸線が磁石球体１０の中心からずれて位置する
ことになるが、以下ではそのようにした理由を説明す
る。もし、ガイド管８、９の軸線が磁石球体１０の中心
を通る位置にあると、磁石球体１０には垂直方向への斥
力が作用することになる。そのため、弁座５ａから離れ
た磁石球体１０がふらついてしまい、安定させることが
できない。それに対して、ガイド管８、９の軸線が磁石
球体１０の中心からずれていると、磁石球体１０には斜
め上方向ヘの斥力が作用する。したがって、弁座５ａか
ら離れる磁石球体１０は、図１の実線に示すように、弁
座５ａの図面左側に沿って移動する。そして、磁石球体
１０を弁座部材５の内面に接触させておけば、この磁石
球体１０を安定させておくことができる。
【００２２】以上述べた実施例のバルブ機構によれば、
ガイド管８、９をガイド管挿入孔４に挿入するだけで、
ガイド管８、９に接触することなく、磁石球体１０が弁
座５ａから離れる。したがって、これら磁石球体１０や
ガイド管８、９に傷がつくことがなく、細かな異物が発
生するおそれがない。しかも、コイル１２に流す電流を
加減して、磁石球体１０に作用させた電磁石の斥力を制
御すれば、磁石球体１０と弁座５ａとの間の開度を調整
でき、そこを流れる流量を制御することができる。
ガイド管８、９をガイド管挿入孔４に挿入するだけで、
ガイド管８、９に接触することなく、磁石球体１０が弁
座５ａから離れる。したがって、これら磁石球体１０や
ガイド管８、９に傷がつくことがなく、細かな異物が発
生するおそれがない。しかも、コイル１２に流す電流を
加減して、磁石球体１０に作用させた電磁石の斥力を制
御すれば、磁石球体１０と弁座５ａとの間の開度を調整
でき、そこを流れる流量を制御することができる。
【００２３】このようにしたバルブ機構は、異物が発生
することがなく、クリーンな状況を維持できることか
ら、上記半導体用クリーンボックス１のように、半導体
関連の分野で用いるのが最適である。
することがなく、クリーンな状況を維持できることか
ら、上記半導体用クリーンボックス１のように、半導体
関連の分野で用いるのが最適である。
【００２４】なお、上記実施例では、磁石球体１０がこ
の発明でいう弁体を構成するが、弁体として、例えば、
ポペット形状のものを使用してもかまわない。また、上
記実施例では、ガイド管８、９を利用して磁石球体１０
を弁座５ａから離すタイプのバルブ機構を説明したが、
どのようなタイプであってもよい。例えば、弁座部材５
に埋め込んだ磁石６として電磁石を用い、その極性を自
由に変えられるようにすれば、それだけで磁石球体１０
を弁座５ａに着座させたり、離したりすることができ
る。
の発明でいう弁体を構成するが、弁体として、例えば、
ポペット形状のものを使用してもかまわない。また、上
記実施例では、ガイド管８、９を利用して磁石球体１０
を弁座５ａから離すタイプのバルブ機構を説明したが、
どのようなタイプであってもよい。例えば、弁座部材５
に埋め込んだ磁石６として電磁石を用い、その極性を自
由に変えられるようにすれば、それだけで磁石球体１０
を弁座５ａに着座させたり、離したりすることができ
る。
【００２５】さらに、上記実施例では、密封された半導
体用クリーンボックス１に対して、外部から電磁石を近
づけなければならず、その電磁石の斥力によって磁石球
体１０を弁座５ａから離すようにしている。ただし、場
合によっては、磁石球体１０の背面側に電磁石を位置さ
せ、その引力によって磁石球体１０を引き上げて、弁座
５ａから離すようにしてもかまわない。
体用クリーンボックス１に対して、外部から電磁石を近
づけなければならず、その電磁石の斥力によって磁石球
体１０を弁座５ａから離すようにしている。ただし、場
合によっては、磁石球体１０の背面側に電磁石を位置さ
せ、その引力によって磁石球体１０を引き上げて、弁座
５ａから離すようにしてもかまわない。
【００２６】
【発明の効果】第１の発明によれば、電磁石の引力ある
いは斥力によって、非接触の状態で、弁体を弁座から離
すことができる。したがって、その弁体などに傷がつく
ことがなく、細かな異物が発生するおそれがない。しか
も、電磁石の引力あるいは斥力を制御すれば、弁体と弁
座との開度を調整できるので、そこを流れる流量を制御
することができる。
いは斥力によって、非接触の状態で、弁体を弁座から離
すことができる。したがって、その弁体などに傷がつく
ことがなく、細かな異物が発生するおそれがない。しか
も、電磁石の引力あるいは斥力を制御すれば、弁体と弁
座との開度を調整できるので、そこを流れる流量を制御
することができる。
【００２７】第２の発明によれば、第１の発明におい
て、流体を噴出したり、吸入したりするガイド管を利用
して、弁体を弁座から離すことができる。
て、流体を噴出したり、吸入したりするガイド管を利用
して、弁体を弁座から離すことができる。
【図１】この発明の一実施例のバルブ機構を示す断面図
で、点線は、磁石球体１０が弁座５ａに着座した状態を
示し、実線は、磁石球体１０が弁座５ａから離れた状態
を状態を示す。
で、点線は、磁石球体１０が弁座５ａに着座した状態を
示し、実線は、磁石球体１０が弁座５ａから離れた状態
を状態を示す。
【図２】半導体用クリーンボックス１を示す断面図であ
る。
る。
【図３】従来例のバルブ機構を示す断面図である。
５ａ 弁座 ８ 気体噴出用ガイド管 ９ 気体吸入用ガイド管 １０ 磁石球体 １１ 軟鉄 １２ コイル
Claims (2)
- 【請求項１】 弁体と弁座とを有するバルブ機構におい
て、弁体に引力あるいは斥力を作用させる電磁石を備
え、この電磁石の引力あるいは斥力によって、弁体を弁
座から離すとともに、その引力あるいは斥力を制御し
て、弁体と弁座との開度を調整する構成にしたことを特
徴とするバルブ機構。 - 【請求項２】 弁体に磁性を持たせる一方、流体を噴出
したり、吸入したりするガイド管に上記弁体と同極の電
磁石を設け、ガイド管を弁体に近づけて、その電磁石の
斥力によって弁体を弁座から離した状態で、ガイド管か
ら流体を噴出したり、流体を吸入したりする構成にした
ことを特徴とする請求項１記載のバルブ機構。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2777698A JPH11210918A (ja) | 1998-01-26 | 1998-01-26 | バルブ機構 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2777698A JPH11210918A (ja) | 1998-01-26 | 1998-01-26 | バルブ機構 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11210918A true JPH11210918A (ja) | 1999-08-06 |
Family
ID=12230388
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2777698A Pending JPH11210918A (ja) | 1998-01-26 | 1998-01-26 | バルブ機構 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11210918A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114738498A (zh) * | 2022-03-03 | 2022-07-12 | 金博阀门集团股份有限公司 | 一种自动力清洁密封间隙的污水过流蝶阀 |
| JP2022543979A (ja) * | 2019-12-19 | 2022-10-17 | 石家庄禾柏生物技▲術▼股▲ふん▼有限公司 | 新型試薬キット |
| CN117432863A (zh) * | 2023-12-13 | 2024-01-23 | 泉城阀门有限公司 | 一种自发电磁力静密封电动截止阀 |
-
1998
- 1998-01-26 JP JP2777698A patent/JPH11210918A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2022543979A (ja) * | 2019-12-19 | 2022-10-17 | 石家庄禾柏生物技▲術▼股▲ふん▼有限公司 | 新型試薬キット |
| CN114738498A (zh) * | 2022-03-03 | 2022-07-12 | 金博阀门集团股份有限公司 | 一种自动力清洁密封间隙的污水过流蝶阀 |
| CN114738498B (zh) * | 2022-03-03 | 2023-06-27 | 金博阀门集团股份有限公司 | 一种自动力清洁密封间隙的污水过流蝶阀 |
| CN117432863A (zh) * | 2023-12-13 | 2024-01-23 | 泉城阀门有限公司 | 一种自发电磁力静密封电动截止阀 |
| CN117432863B (zh) * | 2023-12-13 | 2024-03-08 | 泉城阀门有限公司 | 一种自发电磁力静密封电动截止阀 |
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