JPH11207171A - 有機汚染除去装置およびこれを用いた液晶表示装置の製造装置 - Google Patents
有機汚染除去装置およびこれを用いた液晶表示装置の製造装置Info
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- JPH11207171A JPH11207171A JP1027998A JP1027998A JPH11207171A JP H11207171 A JPH11207171 A JP H11207171A JP 1027998 A JP1027998 A JP 1027998A JP 1027998 A JP1027998 A JP 1027998A JP H11207171 A JPH11207171 A JP H11207171A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 少ないランプ数で被処理基板全面にＵＶ照射
が可能で、かつ装置面積の小さい有機汚染除去装置を提
供する。 【解決手段】 内部に被処理基板４の長辺よりも若干長
く設定されたエキシマＵＶランプ１が１本配置されたエ
キシマＵＶユニット３を、静止している被処理基板４上
で基板面と平行に矢印の方向に走査させ、被処理基板４
全面に均一なＵＶ照射を行う。また、エキシマＵＶユニ
ット３の走査速度を被処理基板４の端部付近では遅く、
中央部付近では速く切換え、外部からの有機汚染の影響
を受けやすい基板端部でのＵＶ照射時間を長くすること
で、全体として均一な有機汚染除去効果を得ることが可
能となる。
が可能で、かつ装置面積の小さい有機汚染除去装置を提
供する。 【解決手段】 内部に被処理基板４の長辺よりも若干長
く設定されたエキシマＵＶランプ１が１本配置されたエ
キシマＵＶユニット３を、静止している被処理基板４上
で基板面と平行に矢印の方向に走査させ、被処理基板４
全面に均一なＵＶ照射を行う。また、エキシマＵＶユニ
ット３の走査速度を被処理基板４の端部付近では遅く、
中央部付近では速く切換え、外部からの有機汚染の影響
を受けやすい基板端部でのＵＶ照射時間を長くすること
で、全体として均一な有機汚染除去効果を得ることが可
能となる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置の基
板洗浄工程および写真製版工程等において用いられる有
機汚染除去装置に関するものである。
板洗浄工程および写真製版工程等において用いられる有
機汚染除去装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】液晶表示装置は、通常、薄膜トランジス
タ（ＴＦＴ）を含むスイッチング素子およびこのスイッ
チング素子を経てそれぞれ制御される表示素子を有する
ＴＦＴアレイ基板と、透明電極およびカラーフィルタ等
を有し、ＴＦＴアレイ基板との間に液晶を挟持する対向
電極基板より構成されている。このＴＦＴアレイ基板の
一般的な製造方法を図５を用いて説明する。図におい
て、２１はガラス基板、２２はゲート電極、２３はゲー
ト絶縁膜、２４はｉ−ａ−Ｓｉ膜、２５はｎ−ａ−Ｓｉ
膜、２６は画素電極、２７はソース電極、２８はドレイ
ン電極、２９はパッシベーション膜をそれぞれ示す。ま
ず、ガラス基板２１上にゲート電極２２をＣｒ等で形成
した後、ゲート絶縁膜２３、ｉ−ａ−Ｓｉ膜２４および
ｎ−ａ−Ｓｉ膜２５を連続して成膜し、ｉ−ａ−Ｓｉ膜
２４およびｎ−ａ−Ｓｉ膜２５をアイランド状にパター
ニングする。次にＩＴＯ等の透明導電膜からなる画素電
極２６を成膜し、パターン形成する。さらに、ソース電
極２７およびドレイン電極２８を形成し、これらをマス
クとしてチャネル上の不要なｎ−ａ−Ｓｉ膜２５をドラ
イエッチング等で除去した後、パッシベーション膜２９
を形成して、ＴＦＴアレイ基板が完成する。
タ（ＴＦＴ）を含むスイッチング素子およびこのスイッ
チング素子を経てそれぞれ制御される表示素子を有する
ＴＦＴアレイ基板と、透明電極およびカラーフィルタ等
を有し、ＴＦＴアレイ基板との間に液晶を挟持する対向
電極基板より構成されている。このＴＦＴアレイ基板の
一般的な製造方法を図５を用いて説明する。図におい
て、２１はガラス基板、２２はゲート電極、２３はゲー
ト絶縁膜、２４はｉ−ａ−Ｓｉ膜、２５はｎ−ａ−Ｓｉ
膜、２６は画素電極、２７はソース電極、２８はドレイ
ン電極、２９はパッシベーション膜をそれぞれ示す。ま
ず、ガラス基板２１上にゲート電極２２をＣｒ等で形成
した後、ゲート絶縁膜２３、ｉ−ａ−Ｓｉ膜２４および
ｎ−ａ−Ｓｉ膜２５を連続して成膜し、ｉ−ａ−Ｓｉ膜
２４およびｎ−ａ−Ｓｉ膜２５をアイランド状にパター
ニングする。次にＩＴＯ等の透明導電膜からなる画素電
極２６を成膜し、パターン形成する。さらに、ソース電
極２７およびドレイン電極２８を形成し、これらをマス
クとしてチャネル上の不要なｎ−ａ−Ｓｉ膜２５をドラ
イエッチング等で除去した後、パッシベーション膜２９
を形成して、ＴＦＴアレイ基板が完成する。
【０００３】以上のようなＴＦＴアレイ基板の製造工程
において、成膜前洗浄装置、写真製版装置等には、ＵＶ
照射によって基板表面の有機汚染を除去する有機汚染除
去装置が備えられている。例えば成膜前洗浄装置では、
ウェット処理前の基板にＵＶ照射を行うことにより、基
板表面の濡れ性を改善し洗浄処理効果を上げている。ま
た、写真製版装置では、レジスト塗布前の基板にＵＶ照
射を行うことにより有機汚染を除去し、デポ膜とレジス
トの密着力を向上させている。この有機汚染除去のため
のＵＶ照射において、近年、低圧水銀ＵＶランプに変わ
り、エキシマＵＶランプが注目されている。エキシマＵ
Ｖは、１７２ｎｍ波長の紫外線を用いるもので、１８５
ｎｍ波長の低圧水銀ＵＶに比べエネルギーが大きく、よ
り多くの励起酸素を生成し、有機物の分子結合を容易に
切断することができる。このため、エキシマＵＶは低圧
水銀ＵＶに比べ有機汚染除去能力が高く、短時間照射で
低圧水銀ＵＶと同等の除去効果が得られる。また、赤外
線を発生させず、照射時間が短くても除去効果が得られ
るため、膜へのダメージが少ないというメリットがあ
る。さらに、エキシマＵＶランプを用いた有機汚染除去
装置は、瞬時点灯、点滅点灯が可能なため、基板の処理
をしていない時はランプをオフできるという機能も有し
ている。
において、成膜前洗浄装置、写真製版装置等には、ＵＶ
照射によって基板表面の有機汚染を除去する有機汚染除
去装置が備えられている。例えば成膜前洗浄装置では、
ウェット処理前の基板にＵＶ照射を行うことにより、基
板表面の濡れ性を改善し洗浄処理効果を上げている。ま
た、写真製版装置では、レジスト塗布前の基板にＵＶ照
射を行うことにより有機汚染を除去し、デポ膜とレジス
トの密着力を向上させている。この有機汚染除去のため
のＵＶ照射において、近年、低圧水銀ＵＶランプに変わ
り、エキシマＵＶランプが注目されている。エキシマＵ
Ｖは、１７２ｎｍ波長の紫外線を用いるもので、１８５
ｎｍ波長の低圧水銀ＵＶに比べエネルギーが大きく、よ
り多くの励起酸素を生成し、有機物の分子結合を容易に
切断することができる。このため、エキシマＵＶは低圧
水銀ＵＶに比べ有機汚染除去能力が高く、短時間照射で
低圧水銀ＵＶと同等の除去効果が得られる。また、赤外
線を発生させず、照射時間が短くても除去効果が得られ
るため、膜へのダメージが少ないというメリットがあ
る。さらに、エキシマＵＶランプを用いた有機汚染除去
装置は、瞬時点灯、点滅点灯が可能なため、基板の処理
をしていない時はランプをオフできるという機能も有し
ている。
【０００４】図６および図７は、エキシマＵＶランプを
用いた従来の有機汚染除去装置を示す側面図である。図
において、１はエキシマＵＶランプ、２は窓面を形成し
ている石英ガラス、４は被処理基板、５は被処理基板４
を載置するステージ、６は内部にステージ５およびエキ
シマＵＶランプ１等が設置され、紫外線が外部に漏れる
のを防ぐ外囲器、１５は被処理基板４を搬送するローラ
ーである。図６は、静止した被処理基板４上にエキシマ
ＵＶランプ１を多数本配置し、被処理基板４全面に一括
照射する方法を示している。また、図７は、エキシマＵ
Ｖランプ１を固定し、被処理基板４をローラー１５によ
り処理室内で移動させ、被処理基板４全面にＵＶ照射を
行う方法を示している。
用いた従来の有機汚染除去装置を示す側面図である。図
において、１はエキシマＵＶランプ、２は窓面を形成し
ている石英ガラス、４は被処理基板、５は被処理基板４
を載置するステージ、６は内部にステージ５およびエキ
シマＵＶランプ１等が設置され、紫外線が外部に漏れる
のを防ぐ外囲器、１５は被処理基板４を搬送するローラ
ーである。図６は、静止した被処理基板４上にエキシマ
ＵＶランプ１を多数本配置し、被処理基板４全面に一括
照射する方法を示している。また、図７は、エキシマＵ
Ｖランプ１を固定し、被処理基板４をローラー１５によ
り処理室内で移動させ、被処理基板４全面にＵＶ照射を
行う方法を示している。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】以上のように、エキシ
マＵＶランプ１は優れた有機汚染除去効果を有している
が、低圧水銀ランプに比べ価格が高く、ランプ寿命が短
いという問題があった。また、エキシマＵＶランプ１に
は、石英ガラス２よりなる窓面が必要であり、この石英
ガラス２が高コストの要因の一つとなっていた。例え
ば、図６に示した被処理基板４全面に一括照射で処理す
る方法では、近年の基板の大型化に伴い、エキシマＵＶ
ランプ１が多数必要となり、さらに、エキシマＵＶラン
プ１を閉じ込める石英ガラス２も大型化が必要であり、
コストが高くなるという問題があった。また、図７に示
したローラー１５により被処理基板４を処理室内で移動
させる方法では、エキシマＵＶランプ１の本数を少なく
できるという利点はあるが、被処理基板４全面にＵＶ照
射を行うためには、処理室は処理方向に対して最低でも
被処理基板４の２倍の大きさが必要となり、装置面積が
大きくなるという問題があった。
マＵＶランプ１は優れた有機汚染除去効果を有している
が、低圧水銀ランプに比べ価格が高く、ランプ寿命が短
いという問題があった。また、エキシマＵＶランプ１に
は、石英ガラス２よりなる窓面が必要であり、この石英
ガラス２が高コストの要因の一つとなっていた。例え
ば、図６に示した被処理基板４全面に一括照射で処理す
る方法では、近年の基板の大型化に伴い、エキシマＵＶ
ランプ１が多数必要となり、さらに、エキシマＵＶラン
プ１を閉じ込める石英ガラス２も大型化が必要であり、
コストが高くなるという問題があった。また、図７に示
したローラー１５により被処理基板４を処理室内で移動
させる方法では、エキシマＵＶランプ１の本数を少なく
できるという利点はあるが、被処理基板４全面にＵＶ照
射を行うためには、処理室は処理方向に対して最低でも
被処理基板４の２倍の大きさが必要となり、装置面積が
大きくなるという問題があった。
【０００６】本発明は、上記のような問題点を解消する
ためになされたもので、少ないランプ数で被処理基板全
面にＵＶ照射が可能で、かつ装置面積の小さい有機汚染
除去装置および液晶表示装置の製造装置を提供するもの
である。
ためになされたもので、少ないランプ数で被処理基板全
面にＵＶ照射が可能で、かつ装置面積の小さい有機汚染
除去装置および液晶表示装置の製造装置を提供するもの
である。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明に係わる有機汚染
除去装置は、被処理基板を載置するステージと、このス
テージに近接して設置され、石英ガラスよりなる窓面を
有し、内部にエキシマＵＶランプが１本以上配置された
エキシマＵＶユニットと、エキシマＵＶユニットを被処
理基板面に対して平行に走査させる駆動手段と、内部に
ステージおよびエキシマＵＶユニットが設置され、エキ
シマＵＶユニットから照射される紫外線が外部に漏れる
のを防ぐ外囲器を備えたものである。また、エキシマＵ
Ｖランプの長さは、長方形の被処理基板に対して、上記
エキシマＵＶユニットの移動方向に交差する被処理基板
の辺よりも若干長く設定されているものである。さら
に、駆動手段は、エキシマＵＶユニットを、被処理基板
端部において被処理基板中央部よりも遅く走査させるも
のである。
除去装置は、被処理基板を載置するステージと、このス
テージに近接して設置され、石英ガラスよりなる窓面を
有し、内部にエキシマＵＶランプが１本以上配置された
エキシマＵＶユニットと、エキシマＵＶユニットを被処
理基板面に対して平行に走査させる駆動手段と、内部に
ステージおよびエキシマＵＶユニットが設置され、エキ
シマＵＶユニットから照射される紫外線が外部に漏れる
のを防ぐ外囲器を備えたものである。また、エキシマＵ
Ｖランプの長さは、長方形の被処理基板に対して、上記
エキシマＵＶユニットの移動方向に交差する被処理基板
の辺よりも若干長く設定されているものである。さら
に、駆動手段は、エキシマＵＶユニットを、被処理基板
端部において被処理基板中央部よりも遅く走査させるも
のである。
【０００８】また、本発明に係わる液晶表示装置の製造
装置は、ガラス基板上に薄膜トランジスタを含むスイッ
チング素子およびこのスイッチング素子を経てそれぞれ
制御される表示素子を有するＴＦＴアレイ基板と、透明
電極およびカラーフィルタ等を有する対向電極基板の間
に液晶を挟持してなる液晶表示装置の製造装置であっ
て、上記のいずれかに記載の有機汚染除去装置と、ガラ
ス基板に洗浄および写真製版等の処理を行う複数の処理
室と、有機汚染除去装置および各処理室間でガラス基板
を移動させる基板搬送ロボットを備えたものである。
装置は、ガラス基板上に薄膜トランジスタを含むスイッ
チング素子およびこのスイッチング素子を経てそれぞれ
制御される表示素子を有するＴＦＴアレイ基板と、透明
電極およびカラーフィルタ等を有する対向電極基板の間
に液晶を挟持してなる液晶表示装置の製造装置であっ
て、上記のいずれかに記載の有機汚染除去装置と、ガラ
ス基板に洗浄および写真製版等の処理を行う複数の処理
室と、有機汚染除去装置および各処理室間でガラス基板
を移動させる基板搬送ロボットを備えたものである。
【０００９】
【発明の実施の形態】実施の形態１．以下に、本発明の
実施の形態を図について説明する。図１(a) 、(b) は、
本発明の実施の形態１である有機汚染除去装置を示す平
面図および側面図である。図において、１は１７２ｎｍ
波長の紫外線を照射するエキシマＵＶランプ、２は石英
ガラス、３は内部にエキシマＵＶランプ１が１本以上配
置され、石英ガラス２よりなる窓面を有するエキシマＵ
Ｖユニット、４は被処理基板で、本実施の形態では長方
形のガラス基板、５は被処理基板４を水平に載置するス
テージであり、このステージ５に近接してエキシマＵＶ
ユニット３が設置されている。また、６は内部にステー
ジ５およびエキシマＵＶユニット３が設置され、エキシ
マＵＶユニット３から照射される紫外線が外部に漏れる
のを防ぐ外囲器、７は本実施の形態による有機汚染除去
装置を示す。本実施の形態による有機汚染除去装置７
は、エキシマＵＶユニット３をステージ５に載置された
被処理基板４面に対して平行に走査させる駆動手段（図
示せず）を備えている。なお、図１(a) の矢印は、エキ
シマＵＶユニット３の走査方向を示している。
実施の形態を図について説明する。図１(a) 、(b) は、
本発明の実施の形態１である有機汚染除去装置を示す平
面図および側面図である。図において、１は１７２ｎｍ
波長の紫外線を照射するエキシマＵＶランプ、２は石英
ガラス、３は内部にエキシマＵＶランプ１が１本以上配
置され、石英ガラス２よりなる窓面を有するエキシマＵ
Ｖユニット、４は被処理基板で、本実施の形態では長方
形のガラス基板、５は被処理基板４を水平に載置するス
テージであり、このステージ５に近接してエキシマＵＶ
ユニット３が設置されている。また、６は内部にステー
ジ５およびエキシマＵＶユニット３が設置され、エキシ
マＵＶユニット３から照射される紫外線が外部に漏れる
のを防ぐ外囲器、７は本実施の形態による有機汚染除去
装置を示す。本実施の形態による有機汚染除去装置７
は、エキシマＵＶユニット３をステージ５に載置された
被処理基板４面に対して平行に走査させる駆動手段（図
示せず）を備えている。なお、図１(a) の矢印は、エキ
シマＵＶユニット３の走査方向を示している。
【００１０】本実施の形態による有機汚染除去装置７
は、内部に被処理基板４の長辺よりも若干長く設定され
たエキシマＵＶランプ１が１本配置されたエキシマＵＶ
ユニット３を、静止している被処理基板４上で基板面と
平行に矢印の方向に走査させ、少ないランプ数で、被処
理基板４全面に均一なＵＶ照射を行うものである。エキ
シマＵＶユニット３内に配置されるエキシマＵＶランプ
１の本数は１本に限るものではなく、複数本配置しても
良いが、被処理基板４全面一括照射に必要な本数よりも
少ない本数を配置することにより、従来の有機汚染除去
装置（図６）に比べ、低コスト化を図ることが可能とな
る。また、図２は、被処理基板４の短辺よりも若干長く
設定されたエキシマＵＶランプ１が内部に１本配置され
たエキシマＵＶユニット３を、被処理基板４の短辺と平
行に配置し、図２(a) に示す矢印の方向に走査させた例
である。この場合には、エキシマＵＶランプ１の長さは
短くできるが、エキシマＵＶユニット３を走査させる距
離が長くなる。本実施の形態による有機汚染除去装置
は、図１および図２のどちらの配置方法でも良く、同様
の効果が得られる。
は、内部に被処理基板４の長辺よりも若干長く設定され
たエキシマＵＶランプ１が１本配置されたエキシマＵＶ
ユニット３を、静止している被処理基板４上で基板面と
平行に矢印の方向に走査させ、少ないランプ数で、被処
理基板４全面に均一なＵＶ照射を行うものである。エキ
シマＵＶユニット３内に配置されるエキシマＵＶランプ
１の本数は１本に限るものではなく、複数本配置しても
良いが、被処理基板４全面一括照射に必要な本数よりも
少ない本数を配置することにより、従来の有機汚染除去
装置（図６）に比べ、低コスト化を図ることが可能とな
る。また、図２は、被処理基板４の短辺よりも若干長く
設定されたエキシマＵＶランプ１が内部に１本配置され
たエキシマＵＶユニット３を、被処理基板４の短辺と平
行に配置し、図２(a) に示す矢印の方向に走査させた例
である。この場合には、エキシマＵＶランプ１の長さは
短くできるが、エキシマＵＶユニット３を走査させる距
離が長くなる。本実施の形態による有機汚染除去装置
は、図１および図２のどちらの配置方法でも良く、同様
の効果が得られる。
【００１１】本実施の形態による有機汚染除去装置７を
液晶表示装置の製造装置に用いた例を以下に説明する。
液晶表示装置は、通常、ガラス基板上に薄膜トランジス
タを含むスイッチング素子およびこのスイッチング素子
を経てそれぞれ制御される表示素子を有するＴＦＴアレ
イ基板と、透明電極およびカラーフィルタ等を有し、Ｔ
ＦＴアレイ基板との間に液晶を挟持する対向電極基板よ
り構成されている。図３は、本実施の形態による有機汚
染除去装置７を用いた液晶表示装置の製造装置である写
真製版装置の配置例を示す図である。図において、８は
スクラブ洗浄室、９は塗布室、１０は現像室、１１は露
光室、１２は加熱冷却室、１３は被処理基板４の受け渡
しを行うカセットローダ／アンローダ部、１４は有機汚
染除去装置７および各処理室間で被処理基板４を移動さ
せる基板搬送ロボットである。本実施の形態による有機
汚染除去装置７を備え、基板搬送ロボット１４により各
処理室への基板の搬入および処理後の搬出を行うように
することで、ローラー１５により被処理基板４を搬送す
る従来の有機汚染除去装置（図７）を用いた場合に比
べ、液晶表示装置の製造装置の小型化が可能となる。な
お、本実施の形態による有機汚染除去装置７は、液晶表
示装置の製造装置として、上述の写真製版装置の他に、
成膜前洗浄装置にも用いることができる。
液晶表示装置の製造装置に用いた例を以下に説明する。
液晶表示装置は、通常、ガラス基板上に薄膜トランジス
タを含むスイッチング素子およびこのスイッチング素子
を経てそれぞれ制御される表示素子を有するＴＦＴアレ
イ基板と、透明電極およびカラーフィルタ等を有し、Ｔ
ＦＴアレイ基板との間に液晶を挟持する対向電極基板よ
り構成されている。図３は、本実施の形態による有機汚
染除去装置７を用いた液晶表示装置の製造装置である写
真製版装置の配置例を示す図である。図において、８は
スクラブ洗浄室、９は塗布室、１０は現像室、１１は露
光室、１２は加熱冷却室、１３は被処理基板４の受け渡
しを行うカセットローダ／アンローダ部、１４は有機汚
染除去装置７および各処理室間で被処理基板４を移動さ
せる基板搬送ロボットである。本実施の形態による有機
汚染除去装置７を備え、基板搬送ロボット１４により各
処理室への基板の搬入および処理後の搬出を行うように
することで、ローラー１５により被処理基板４を搬送す
る従来の有機汚染除去装置（図７）を用いた場合に比
べ、液晶表示装置の製造装置の小型化が可能となる。な
お、本実施の形態による有機汚染除去装置７は、液晶表
示装置の製造装置として、上述の写真製版装置の他に、
成膜前洗浄装置にも用いることができる。
【００１２】実施の形態２．以下に、本発明の実施の形
態２における有機汚染除去装置の走査方法を図４を用い
て説明する。図４(a) は、本実施の形態における有機汚
染除去装置のエキシマＵＶユニット３の走査方向を示す
平面図、図４(b) は、図４(a) に示した被処理基板４内
の接触角分布をＡＢ方向で見た図、図４(c) は、エキシ
マＵＶユニット３の走査速度の切換を示す図である。
態２における有機汚染除去装置の走査方法を図４を用い
て説明する。図４(a) は、本実施の形態における有機汚
染除去装置のエキシマＵＶユニット３の走査方向を示す
平面図、図４(b) は、図４(a) に示した被処理基板４内
の接触角分布をＡＢ方向で見た図、図４(c) は、エキシ
マＵＶユニット３の走査速度の切換を示す図である。
【００１３】被処理基板４は、通常、カセットに収納さ
れた状態で保管および搬送されており、被処理基板４の
外周部は、中央部に比べて外部からの有機汚染の影響を
受けやすい。このことは、図４(b) に示すように、被処
理基板４内の接触角分布をＡ、Ｂ方向で見た場合、基板
外周部ＡおよびＢの接触角が基板中央部Ｃの接触角より
高いことからも明らかである。そこで、本実施の形態で
は、図４(c) に示すように、エキシマＵＶユニット３の
走査速度を被処理基板４の端部Ａ、Ｂ付近では遅く、中
央部Ｃ付近では速く切換え、基板端部でのＵＶ照射時間
を長くすることで、全体として均一な有機汚染除去効果
を得ることを可能とした。
れた状態で保管および搬送されており、被処理基板４の
外周部は、中央部に比べて外部からの有機汚染の影響を
受けやすい。このことは、図４(b) に示すように、被処
理基板４内の接触角分布をＡ、Ｂ方向で見た場合、基板
外周部ＡおよびＢの接触角が基板中央部Ｃの接触角より
高いことからも明らかである。そこで、本実施の形態で
は、図４(c) に示すように、エキシマＵＶユニット３の
走査速度を被処理基板４の端部Ａ、Ｂ付近では遅く、中
央部Ｃ付近では速く切換え、基板端部でのＵＶ照射時間
を長くすることで、全体として均一な有機汚染除去効果
を得ることを可能とした。
【００１４】なお、上記実施の形態１および２では、被
処理基板４をステージ５に水平に載置したが、被処理基
板４を垂直に立てて保持するようにしても良く、さらに
装置の小型化が図られる。
処理基板４をステージ５に水平に載置したが、被処理基
板４を垂直に立てて保持するようにしても良く、さらに
装置の小型化が図られる。
【００１５】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、内部に
エキシマＵＶランプが１本以上配置されたエキシマＵＶ
ユニットを、被処理基板面に対して平行に走査させるよ
うにしたので、少ないランプ数で被処理基板全面にＵＶ
照射が可能となり、有機汚染除去装置の低コスト化およ
び装置面積の縮小化が図られる。
エキシマＵＶランプが１本以上配置されたエキシマＵＶ
ユニットを、被処理基板面に対して平行に走査させるよ
うにしたので、少ないランプ数で被処理基板全面にＵＶ
照射が可能となり、有機汚染除去装置の低コスト化およ
び装置面積の縮小化が図られる。
【００１６】また、エキシマＵＶユニットを、被処理基
板端部において基板中央部よりも遅く走査させるように
したので、外部からの有機汚染の影響を受けやすい基板
端部でのＵＶ照射時間が長くなり、全体として均一な有
機汚染除去効果を得ることが可能となる。
板端部において基板中央部よりも遅く走査させるように
したので、外部からの有機汚染の影響を受けやすい基板
端部でのＵＶ照射時間が長くなり、全体として均一な有
機汚染除去効果を得ることが可能となる。
【図１】 本発明の実施の形態１における有機汚染除去
装置を示す平面図および側面図である。
装置を示す平面図および側面図である。
【図２】 本発明の実施の形態１における有機汚染除去
装置を示す平面図および側面図である。
装置を示す平面図および側面図である。
【図３】 本発明の実施の形態１における有機汚染除去
装置を用いた写真製版装置の配置例を示す図である。
装置を用いた写真製版装置の配置例を示す図である。
【図４】 本発明の実施の形態２における有機汚染除去
装置の走査方法を示す図である。
装置の走査方法を示す図である。
【図５】 液晶表示装置を構成する一般的なＴＦＴアレ
イ基板の構造を示す断面図である。
イ基板の構造を示す断面図である。
【図６】 従来の有機汚染除去装置を示す側面図であ
る。
る。
【図７】 従来の有機汚染除去装置を示す側面図であ
る。
る。
１ エキシマＵＶランプ、２ 石英ガラス、３ エキシ
マＵＶユニット、４ 被処理基板、５ ステージ、６
外囲器、７ 有機汚染除去装置、８ スクラブ洗浄室、
９ 塗布室、１０ 現像室、１１ 露光室、１２ 加熱
冷却室、１３ カセットローダ／アンローダ部、１４
基板搬送ロボット、１５ ローラー、２１ ガラス基
板、２２ ゲート電極、２３ ゲート絶縁膜、２４ ｉ
−ａ−Ｓｉ膜、２５ ｎ−ａ−Ｓｉ膜、２６ 画素電
極、２７ ソース電極、２８ ドレイン電極、２９ パ
ッシベーション膜。
マＵＶユニット、４ 被処理基板、５ ステージ、６
外囲器、７ 有機汚染除去装置、８ スクラブ洗浄室、
９ 塗布室、１０ 現像室、１１ 露光室、１２ 加熱
冷却室、１３ カセットローダ／アンローダ部、１４
基板搬送ロボット、１５ ローラー、２１ ガラス基
板、２２ ゲート電極、２３ ゲート絶縁膜、２４ ｉ
−ａ−Ｓｉ膜、２５ ｎ−ａ−Ｓｉ膜、２６ 画素電
極、２７ ソース電極、２８ ドレイン電極、２９ パ
ッシベーション膜。
Claims (4)
- 【請求項１】 被処理基板を載置するステージ、 上記ステージに近接して設置され、石英ガラスよりなる
窓面を有し、内部にエキシマＵＶランプが１本以上配置
されたエキシマＵＶユニット、 上記エキシマＵＶユニットを、上記被処理基板面に対し
て平行に走査させる駆動手段、 内部に上記ステージおよび上記エキシマＵＶユニットが
設置され、上記エキシマＵＶユニットから照射される紫
外線が外部に漏れるのを防ぐ外囲器を備えたことを特徴
とする有機汚染除去装置。 - 【請求項２】 エキシマＵＶランプの長さは、長方形の
被処理基板に対して、上記エキシマＵＶユニットの移動
方向に交差する被処理基板の辺よりも若干長く設定され
ていることを特徴とする請求項１記載の有機汚染除去装
置。 - 【請求項３】 駆動手段は、エキシマＵＶユニットを、
被処理基板端部において上記被処理基板中央部よりも遅
く走査させることを特徴とする請求項１または請求項２
に記載の有機汚染除去装置。 - 【請求項４】 ガラス基板上に薄膜トランジスタを含む
スイッチング素子およびこのスイッチング素子を経てそ
れぞれ制御される表示素子を有するＴＦＴアレイ基板
と、透明電極およびカラーフィルタ等を有する対向電極
基板の間に液晶を挟持してなる液晶表示装置の製造装置
であって、請求項１〜請求項３のいずれか一項に記載の
有機汚染除去装置と、上記ガラス基板に洗浄および写真
製版等の処理を行う複数の処理室と、上記有機汚染除去
装置および上記各処理室間で上記ガラス基板を移動させ
る基板搬送ロボットを備えたことを特徴とする液晶表示
装置の製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1027998A JP3944296B2 (ja) | 1998-01-22 | 1998-01-22 | 有機汚染除去装置およびこれを用いた液晶表示装置の製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1027998A JP3944296B2 (ja) | 1998-01-22 | 1998-01-22 | 有機汚染除去装置およびこれを用いた液晶表示装置の製造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11207171A true JPH11207171A (ja) | 1999-08-03 |
| JP3944296B2 JP3944296B2 (ja) | 2007-07-11 |
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ID=11745882
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1027998A Expired - Fee Related JP3944296B2 (ja) | 1998-01-22 | 1998-01-22 | 有機汚染除去装置およびこれを用いた液晶表示装置の製造装置 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3944296B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20020067426A (ko) * | 2001-02-16 | 2002-08-22 | 우시오덴키 가부시키가이샤 | 유전체 배리어 방전 램프를 사용한 기판 처리 장치 |
| US6468599B1 (en) | 1998-12-25 | 2002-10-22 | International Business Machines Corporation | Method for removing organic compound by ultraviolet radiation |
| JP2007098357A (ja) * | 2005-10-07 | 2007-04-19 | Fujitsu Ltd | 光化学処理装置及び光化学処理方法 |
| CN104456455A (zh) * | 2014-11-28 | 2015-03-25 | 合肥鑫晟光电科技有限公司 | 一种灯装置、基板清洁设备及其工作方法 |
| US20180171501A1 (en) * | 2016-12-19 | 2018-06-21 | Ebara Corporation | Plating apparatus, plating method and computer readable recording medium |
| CN110783495A (zh) * | 2018-07-24 | 2020-02-11 | 三星显示有限公司 | 显示装置制造方法及显示装置制造系统 |
-
1998
- 1998-01-22 JP JP1027998A patent/JP3944296B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (8)
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|---|---|---|---|---|
| US6468599B1 (en) | 1998-12-25 | 2002-10-22 | International Business Machines Corporation | Method for removing organic compound by ultraviolet radiation |
| US6756087B2 (en) | 1998-12-25 | 2004-06-29 | International Business Machines Corporation | Method for removing organic compound by ultraviolet radiation and apparatus therefor |
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| US12058919B2 (en) * | 2018-07-24 | 2024-08-06 | Samsung Display Co., Ltd. | Display apparatus manufacturing method and display apparatus manufacturing system |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3944296B2 (ja) | 2007-07-11 |
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