JPH11204916A - Printed board and hole drilling machining method therefor - Google Patents

Printed board and hole drilling machining method therefor

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JPH11204916A
JPH11204916A JP10004459A JP445998A JPH11204916A JP H11204916 A JPH11204916 A JP H11204916A JP 10004459 A JP10004459 A JP 10004459A JP 445998 A JP445998 A JP 445998A JP H11204916 A JPH11204916 A JP H11204916A
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hole
layer
vapor pressure
laser beam
high vapor
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Tatsuya Hirosaki
達也 廣崎
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    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/36Removing material
    • B23K26/38Removing material by boring or cutting
    • B23K26/382Removing material by boring or cutting by boring
    • B23K26/389Removing material by boring or cutting by boring of fluid openings, e.g. nozzles, jets

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To be able to form both through holes and blind via holes, by arranging a high vapor pressure element at a vapor pressure region and a laser beam irradiating position just before a completion of forming holes of a printed board. SOLUTION: A printed board 10 comprises a layer of core material 5 provided as to be center in the perpendicular direction of the board, each layer so provided as the layer of core material 5, an inner layer copper foil 4, a high vapor pressure layer 3 and an insulator layer 2 as to contrast in order and semiconductor parts to be able to provided on the both surfaces. A beam spot of laser beam L is set at a required machining position on the surface of the insulator layer and to obtain required blind via holes a tapered degree of the via holes which are previously and experimentally selected based upon a relation with respect to a proper known laser beam output, a diameter, a pulse number and the tapered degree or a relation with respect to a particle diameter of machining residual number is set as a pulse number to be reduced. The insulator layer 2 is locally ground in the board thickness direction by the laser beam, and the high vapor pressure layer 3 is vaporized to spout to the outside of the via holes 7.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、プリント基板に対
するレーザビームを用いた穴あけ加工方法に関し、特に
プリント基板におけるスルーホールおよびブラインドバ
イアホールを形成する穴あけ加工方法に関するものであ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for drilling a printed circuit board using a laser beam, and more particularly to a method for forming a through hole and a blind via hole in a printed circuit board.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体部品を配置する際に必要となるプ
リント基板のスルーホールおよびブラインドバイアホー
ルは、一般には、ドリルを使用した機械的穿孔法を用い
て作成される。一方、コンピュータおよび携帯電話等の
高性能化且つ軽薄短小化の傾向の強い現状にあって、半
導体部品そのものの微小化および該部品間の高密度化に
伴い、プリントパターンの微細加工、強いてはスルーホ
ールおよびブラインドバイアホールの穴径の微細化が要
望されている。
2. Description of the Related Art In general, through holes and blind via holes in a printed circuit board required for placing semiconductor components are formed by a mechanical drilling method using a drill. On the other hand, in the current situation where computers and mobile phones tend to have higher performance and are lighter, thinner and smaller, with the miniaturization of semiconductor parts themselves and the densification between these parts, fine processing of print patterns, There is a demand for finer hole diameters of holes and blind via holes.

【0003】しかしながら、前述のドリルを使用した機
械的穿孔法においては、ドリルの機械的強度の問題や、
ねじれみぞ作成等のドリル自体の微細加工を必要とする
といった理由から、穴径をφ0.2mm以下にすること
が困難である。そこで、現在、種々の方法による微細穴
明け加工が試みられており、その中でも特にレーザビー
ムを使用した穴あけ加工方法が注目されている。
[0003] However, in the mechanical drilling method using the above-mentioned drill, there are problems in mechanical strength of the drill,
It is difficult to reduce the hole diameter to 0.2 mm or less because the drill itself requires fine processing such as creation of a twist groove. In view of the above, fine drilling by various methods has been attempted at present, and among them, a drilling method using a laser beam has attracted particular attention.

【0004】例えば、特開平4−37494号公報に開
示されているプリント基板の穴明け加工方法は、被加工
物であるプリント基板の外層銅箔にドリルによって窓穴
を形成し、その窓穴を通して内層の絶縁物層にレーザビ
ームを照射することで所望のブラインドホールを形成す
る。ここで、絶縁物層はガラス繊維を含浸するガラスエ
ポキシ樹脂であり、ガラス繊維とエポキシ樹脂とは融点
が異なるために、レーザビームの熱エネルギーが絶縁物
層内に一様に伝達されないという問題を生ずる。
For example, in a method for boring a printed circuit board disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 4-37494, a window hole is formed by drilling in an outer layer copper foil of a printed circuit board to be processed, and the window hole is formed. A desired blind hole is formed by irradiating the inner insulating layer with a laser beam. Here, the insulating layer is a glass epoxy resin impregnating glass fiber, and since the melting points of the glass fiber and the epoxy resin are different, the problem that the thermal energy of the laser beam is not uniformly transmitted into the insulating layer. Occurs.

【0005】そこで、上記特開平4−37494号公報
に開示の方法は、絶縁物層内の熱伝導の影響を防ぐべく
レーザビームをパルス的に照射することによって、絶縁
物層内のガラス繊維を残したり、外層銅箔に形成した窓
穴の直径に対してエポキシ樹脂の内面が大きく抉れると
いったことのない穴明け加工を可能としている。
Therefore, the method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-37494 discloses a method of irradiating a glass fiber in an insulator layer by irradiating a laser beam in a pulsed manner to prevent the effect of heat conduction in the insulator layer. Drilling can be performed without leaving the inside or making the inner surface of the epoxy resin gouge largely with respect to the diameter of the window hole formed in the outer layer copper foil.

【0006】しかしながら、前記プリント基板の穴明け
加工方法は、絶縁物層の素材の種類および絶縁物層に含
まれている基材の性状によって、その加工性が大きく左
右されるという問題がある。例えば、該方法において、
ブラインドホールを形成する際、樹脂や基材の溶融物が
完全に除去しきれずに、形成される穴壁面に球状の加工
くずとして残留してしまう。
[0006] However, the method for boring a printed circuit board has a problem that its workability is greatly affected by the type of the material of the insulating layer and the properties of the base material contained in the insulating layer. For example, in the method:
When forming the blind hole, the resin or the melt of the base material cannot be completely removed and remains on the wall surface of the formed hole as spherical processing dust.

【0007】図5は、絶縁物層2にレーザビームLをパ
ルス的に照射する際、形成されるブラインドホールのテ
ーパ度と形成されるブラインドホール内壁面に残留する
加工残留物の粒径との関係を示している。ここで、図5
の(a)、(b)、(c)の順に、照射されるレーザビ
ームLのパルス数は増加している。
FIG. 5 shows the relationship between the degree of taper of the formed blind hole and the particle size of the processing residue remaining on the inner wall surface of the formed blind hole when the insulating layer 2 is irradiated with the laser beam L in a pulsed manner. Shows the relationship. Here, FIG.
(A), (b), and (c), the number of pulses of the irradiated laser beam L increases.

【0008】図5(a)に示すように、パルス数の少な
い段階においては、形成されるブラインドホール7aの
内壁面に残留する球状の加工残留物6aは非常に小さ
い。しかしながら、レーザビームLの入射側と出射側の
穴径の差が大きくなる。すなわち、形成されるブライン
ドホール7aのテーパ度が大きくなる。そして、図5
(b)、(c)に示すように、照射されるレーザビーム
Lのパルス数が増加するにつれて、加工残留物6bおよ
び6cは大きくなり、ブラインドホール7bおよび7c
のテーパ度は小さくなる。
As shown in FIG. 5A, at a stage where the number of pulses is small, the spherical processing residue 6a remaining on the inner wall surface of the formed blind hole 7a is very small. However, the difference in hole diameter between the incident side and the exit side of the laser beam L increases. That is, the degree of taper of the formed blind hole 7a increases. And FIG.
As shown in (b) and (c), as the number of pulses of the irradiated laser beam L increases, the processing residues 6b and 6c increase, and the blind holes 7b and 7c
Becomes smaller.

【0009】図6は、絶縁物層に照射されるレーザビー
ムのパルス数と形成されるブラインドホールのテーパ度
の関係を示した図である。図6に示されるように、形成
されたブラインドホールのテーパ度を小さくするには、
レーザビームのパルス数を多くすればよい。
FIG. 6 is a diagram showing the relationship between the number of pulses of the laser beam applied to the insulator layer and the degree of taper of the formed blind hole. As shown in FIG. 6, in order to reduce the degree of taper of the formed blind hole,
What is necessary is just to increase the number of pulses of the laser beam.

【0010】しかしながら、レーザビームのパルス数と
形成されたブラインドホール内壁面に残留する加工残留
物の粒径の関係においては、図7に示すようにレーザビ
ームのパルス数に比例して球状の加工残留物の粒径が大
きくなってしまう。このことは、パルス数の少ない初期
の段階で生じた微小な加工くずが核となり、続いて照射
されるレーザビームのパルス数の増加とともに加工残留
物の粒径が成長し、肥大化していくことに起因してい
る。
However, the relationship between the pulse number of the laser beam and the particle size of the processing residue remaining on the inner wall surface of the formed blind hole is, as shown in FIG. 7, proportional to the pulse number of the laser beam. The particle size of the residue increases. This means that small processing chips generated in the early stage with a small number of pulses become nuclei, and the particle size of the processing residue grows and enlarges with the increase in the number of pulses of the subsequently irradiated laser beam. Is attributed to

【0011】従って、上記方法においてテーパ度の小さ
いバイアホールを形成する際には、バイアホールの内壁
面に残留する加工残留物の問題が無視できなくなり、良
好な内壁面を得ることができない。
Therefore, when forming a via hole having a small taper degree in the above method, the problem of machining residue remaining on the inner wall surface of the via hole cannot be ignored, and a good inner wall surface cannot be obtained.

【0012】特開昭56−144890号公報に開示さ
れているレーザ穴あけ加工方法は、被加工部を水あるい
は油などの低沸点液体で被い、該被加工部に固体レーザ
ビームを照射してレーザ加工を進める一方、気体レーザ
ビームを前記液体の溜まりに照射して前記液体を爆発さ
せ、形成された穴から外部に飛散できずに残留した穴内
部の溶融物の取り出しを可能としている。
In a laser drilling method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 56-144890, a portion to be processed is covered with a low boiling point liquid such as water or oil, and the portion to be processed is irradiated with a solid laser beam. While the laser processing is proceeding, the liquid is exploded by irradiating the liquid pool with a gas laser beam, and it is possible to take out the remaining melt inside the hole which could not be scattered outside from the formed hole.

【0013】しかしながら、形成される穴内部の加工残
留物を取り出すには新たに異なる種のレーザビーム系
(この場合、気体レーザ)を必要とし、従って、穴あけ
加工方法を実行するための装置構成が複雑となりコスト
高につながる。また、液体の溜まりを利用するため、微
細な穴、特に深い穴を形成する際には、液体の有する吸
着力および表面張力のために、形成される穴の底部を該
液体で完全に被うことが困難となり、上記レーザ穴あけ
加工方法の効果が十分に得られなくなってしまう。
However, in order to remove the processing residue inside the hole to be formed, a new different kind of laser beam system (in this case, a gas laser) is required. Therefore, there is an apparatus configuration for executing the drilling method. It is complicated and leads to high costs. In addition, when forming a fine hole, particularly a deep hole, in order to utilize a pool of liquid, the bottom of the hole to be formed is completely covered with the liquid due to the adsorption force and surface tension of the liquid. This makes it difficult to achieve the effect of the laser drilling method sufficiently.

【0014】特開昭58−218387号公報に開示さ
れているレーザによる穿孔方法は、ワークに一方側から
レーザビームを照射して他方側に貫通する貫通孔を形成
する時、予め前記ワークの他方側の貫通孔形成部に裏当
材を当接させておき、加工中に生じる前記ワークのスパ
ッタが前記裏当材によって前記ワークの前記他方側から
飛散するのを防止し、また、裏当材の蒸発物が形成され
た貫通孔から吹き出す為、スパッタが貫通孔内部に付着
することを防止できる。
A laser drilling method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 58-218387 discloses a method of irradiating a work with a laser beam from one side to form a through-hole penetrating to the other side. A backing material is brought into contact with the through-hole forming portion on the side to prevent spatter of the work generated during processing from being scattered from the other side of the work by the backing material. Since the evaporated matter is blown out from the formed through hole, it is possible to prevent the spatter from adhering to the inside of the through hole.

【0015】しかしながら、プリント基板においてブラ
インドバイアホールを形成する加工にあっては、形成さ
れる穴は貫通しない為に、レーザビームを照射する表面
と反対の面に裏当材を当接することはできない。
However, in forming a blind via hole in a printed circuit board, the backing material cannot be brought into contact with the surface opposite to the surface irradiated with the laser beam because the formed hole does not penetrate. .

【0016】[0016]

【発明が解決しようとする課題】以上のように従来のレ
ーザビームを用いた加工方法では、プリント基板の穴を
作成する際の加工くずの低減と形成された加工穴テーパ
の関係は相反し、レーザビームの照射条件だけでは制御
できない。また、スルーホールおよびブラインドバイア
ホールを共に微細に、穴内部の加工残留物なく作成する
といった条件を満たさない。特に加工残留物の問題は、
ブラインドバイアホールの作成において、後工程におけ
るメッキ処理でメッキの付きまわりが悪くなり、絶縁特
性等の信頼性を著しく低下させる原因となる。
As described above, in the conventional processing method using a laser beam, the relationship between the reduction of processing debris when forming a hole in a printed circuit board and the formed hole taper is contradictory. It cannot be controlled only by the laser beam irradiation conditions. In addition, the condition that both the through hole and the blind via hole are finely formed without processing residues inside the hole is not satisfied. Especially the problem of processing residue
In forming the blind via hole, plating around in a later plating process becomes poor, which causes a significant decrease in reliability such as insulation characteristics.

【0017】本発明は、レーザビームによる基板の穴あ
け加工中に穴内壁に残留した樹脂や基材の加工残留物を
効率良く取り除くために、基板材料そのものの構成を工
夫し、スルーホールおよびブラインドバイアホールの形
成を共に可能にしたプリント基板およびその穴あけ加工
方法を得ることを目的とする。
According to the present invention, in order to efficiently remove resin and substrate processing residues remaining on the inner wall of a hole during drilling of a substrate by a laser beam, the constitution of the substrate material itself is devised, and through holes and blind vias are provided. An object of the present invention is to provide a printed circuit board capable of forming both holes and a method of forming a hole in the printed circuit board.

【0018】[0018]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、この発明に係るプリント基板は、少なくとも、一
つの蒸気圧の高い素材である高蒸気圧領域を有し、前記
高蒸気圧領域はプリント基板の穴の形成が完了する直前
にレーザビームが照射される位置に配置されているもの
である。高蒸気圧領域にレーザビームを照射することに
よって該領域の爆発的な溶融蒸発が生じ、その反力によ
って加工穴壁面に残留する樹脂や基材の加工残留物の除
去が行える。
In order to achieve the above object, a printed circuit board according to the present invention has at least one high vapor pressure region which is a material having a high vapor pressure. Is located at a position where the laser beam is irradiated immediately before the formation of the hole in the printed circuit board is completed. By irradiating the high vapor pressure area with the laser beam, explosive melting and evaporation occurs in the area, and the reaction force can remove the resin and the processing residue of the base material remaining on the wall surface of the processing hole.

【0019】つぎの発明に係るプリント基板は、前記高
蒸気圧領域の厚さが形成する穴の径に応じて選択される
ものである。形成する穴の径に比例して除去する被加工
物内の絶縁物層の体積も増減するため、前記被加工物内
の蒸気圧の高い素材の層の厚さを変えることで、加工穴
壁面に残留する樹脂や基材の加工残留物の除去を有効に
行える。
In the printed circuit board according to the next invention, the thickness of the high vapor pressure region is selected according to the diameter of the hole formed. In order to increase or decrease the volume of the insulating layer in the workpiece to be removed in proportion to the diameter of the hole to be formed, by changing the thickness of the layer of the material having a high vapor pressure in the workpiece, the wall surface of the processed hole is changed. The removal of the resin residue and the processing residue of the base material can be effectively performed.

【0020】つぎの発明に係るプリント基板は、前記高
蒸気圧領域の厚さが形成する穴の深さに応じて選択され
るものである。形成する穴の径が一定であっても、形成
する穴の深さに比例して除去する被加工物内の絶縁物層
の体積も増減するため、前記被加工物内の蒸気圧の高い
素材の層の厚さを変えることで、加工穴壁面に残留する
樹脂や基材の加工残留物の除去を有効に行える。
In the printed circuit board according to the next invention, the thickness of the high vapor pressure region is selected according to the depth of the hole to be formed. Even if the diameter of the hole to be formed is constant, since the volume of the insulating layer in the work to be removed increases or decreases in proportion to the depth of the hole to be formed, the material having a high vapor pressure in the work By changing the thickness of the layer, the resin remaining on the wall surface of the processing hole and the processing residue of the base material can be effectively removed.

【0021】つぎの発明に係る穴あけ加工方法は、レー
ザビームを用いてプリント基板に穴を形成する穴あけ加
工方法において、前記プリント基板は、少なくとも一つ
の蒸気圧の高い素材である高蒸気圧領域を有し、前記高
蒸気圧領域に前記プリント基板の穴の形成が完了する直
前に前記レーザビームを照射するものである。前記層の
爆発的な溶融蒸発が生じ、その反力によって加工穴壁面
に残留する樹脂や基材の加工残留物の除去が行える。高
蒸気圧領域にレーザビームを照射することによって該領
域の爆発的な溶融蒸発が生じ、その反力によって加工穴
壁面に残留する樹脂や基材の加工残留物の除去が行え
る。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a drilling method for forming a hole in a printed circuit board using a laser beam, wherein the printed circuit board has at least one high vapor pressure region which is a material having a high vapor pressure. And irradiating the laser beam immediately before the formation of the hole in the printed board in the high vapor pressure region is completed. The layer explosively melts and evaporates, and the reaction force removes the resin remaining on the wall surface of the processing hole and the processing residue of the base material. By irradiating the high vapor pressure area with the laser beam, explosive melting and evaporation occurs in the area, and the reaction force can remove the resin and the processing residue of the base material remaining on the wall surface of the processing hole.

【0022】つぎの発明に係る穴あけ加工方法は、前記
高蒸気圧層の厚さが形成する穴の径に応じて選択される
ものである。形成する穴の径に比例して除去する被加工
物内の絶縁物層の体積も増減するため、前記被加工物内
の蒸気圧の高い素材の層の厚さを変えることで、加工穴
壁面に残留する樹脂や基材の加工残留物の除去を有効に
行える。
In the hole drilling method according to the next invention, the thickness of the high vapor pressure layer is selected according to the diameter of the hole to be formed. In order to increase or decrease the volume of the insulating layer in the workpiece to be removed in proportion to the diameter of the hole to be formed, by changing the thickness of the layer of the material having a high vapor pressure in the workpiece, the wall surface of the processed hole is changed. The removal of the resin residue and the processing residue of the base material can be effectively performed.

【0023】つぎの発明に係る穴あけ加工方法は、前記
高蒸気圧層の厚さが形成する穴の深さに応じて選択され
るものである。形成する穴の径が一定であっても、形成
する穴の深さに比例して除去する被加工物内の絶縁物層
の体積も増減するため、前記被加工物内の蒸気圧の高い
素材の層の厚さを変えることで、加工穴壁面に残留する
樹脂や基材の加工残留物の除去を有効に行える。
In the drilling method according to the next invention, the thickness of the high vapor pressure layer is selected according to the depth of the hole to be formed. Even if the diameter of the hole to be formed is constant, since the volume of the insulating layer in the work to be removed increases or decreases in proportion to the depth of the hole to be formed, the material having a high vapor pressure in the work By changing the thickness of the layer, the resin remaining on the wall surface of the processing hole and the processing residue of the base material can be effectively removed.

【0024】[0024]

【発明の実施の形態】以下、この発明に係るプリント基
板およびその穴あけ加工方法の実施の形態を、図面を参
照して詳細に説明する。
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a perspective view of a printed circuit board according to an embodiment of the present invention;

【0025】実施の形態1.本発明の第1の実施の形態
について以下に説明する。図1(a)、(b)、(c)
は、ブラインドバイアホールを形成する工程におけるプ
リント基板の断面図を示している。また、図2(a)、
(b)、(c)は本発明の特徴をより明確に示した模式
図である。
Embodiment 1 The first embodiment of the present invention will be described below. FIG. 1 (a), (b), (c)
Shows a cross-sectional view of the printed circuit board in a step of forming a blind via hole. FIG. 2A,
(B), (c) is the schematic diagram which showed the characteristic of this invention more clearly.

【0026】図1において、プリント基板10は、絶縁
物層2、高蒸気圧層3、内層銅箔4およびコア材5のよ
うに複数の異なる材質の層から構成されている。また、
プリント基板10は、コア材5の層を基板表面に垂直な
方向において中央となるように配置し、各層がコア材5
の層、内層銅箔4、高蒸気圧層3および絶縁物層2の順
に対照的に配置され、半導体部品が両面に配置できる基
板である。
In FIG. 1, a printed circuit board 10 is composed of a plurality of layers of different materials such as an insulator layer 2, a high vapor pressure layer 3, an inner copper foil 4, and a core material 5. Also,
The printed circuit board 10 is arranged such that the layers of the core material 5 are located at the center in a direction perpendicular to the substrate surface, and each layer is
, The inner copper foil 4, the high vapor pressure layer 3, and the insulator layer 2 in this order, and the semiconductor component can be disposed on both sides.

【0027】プリント基板10を加工するにあたって、
先ず、プリント基板10の表面、すなわち絶縁物層表面
の所望の加工位置にレーザビームLのビームスポットを
設定する。また、レーザビームLは、所望のブラインド
バイアホールを得るために、予め、実験的に既知である
適切なレーザビーム出力、レーザビーム径、および、前
述した図6に示されたようなレーザビームのパルス数と
テーパ度との関係または図7に示されたようなレーザビ
ームのパルス数と加工残留物の粒径との関係に基づいて
選択されたパルス数、例えば形成されるブラインドバイ
アホールのテーパ度を小さくするパルス数、に設定され
る。
In processing the printed circuit board 10,
First, a beam spot of the laser beam L is set at a desired processing position on the surface of the printed circuit board 10, that is, the surface of the insulator layer. Further, in order to obtain a desired blind via hole, an appropriate laser beam output, a laser beam diameter, and a laser beam diameter as shown in FIG. The number of pulses selected based on the relationship between the number of pulses and the degree of taper or the relationship between the number of pulses of the laser beam and the particle size of the processing residue as shown in FIG. 7, for example, the taper of the formed blind via hole The number of pulses to reduce the degree is set.

【0028】ここで、絶縁物層2は、例えば、ガラスエ
ポキシ樹脂、セラミクス系フィラーを含浸させたエポキ
シ樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂およびセラミク
ス基板などである。
Here, the insulator layer 2 is, for example, a glass epoxy resin, an epoxy resin impregnated with a ceramic filler, an epoxy resin, a polyimide resin, a ceramic substrate, or the like.

【0029】上記の如く適切に設定されたレーザビーム
Lの照射により、絶縁物層2は板厚方向に向かって局所
的に削剥されていく。レーザビームLによって削剥され
た絶縁物片は加工くずとしてブラインドバイアホール7
の外部に飛散されるが、一部は加工残留物6となってブ
ラインドバイアホール7の内壁面に残留する。ブライン
ドバイアホール7の内壁面に残留した加工残留物6は、
続いて照射されるレーザビームLのもたらす熱エネルギ
ーによって一部溶融されるが、新たに生じる加工くずの
核となってなお残留する。
By irradiating the laser beam L appropriately set as described above, the insulating layer 2 is locally removed in the thickness direction. The insulating piece scraped off by the laser beam L is used as processing waste as the blind via hole 7.
Are partially scattered as processing residues 6 and remain on the inner wall surface of the blind via hole 7. The processing residue 6 remaining on the inner wall surface of the blind via hole 7 is
Subsequently, the laser beam L is partially melted by the thermal energy generated by the irradiated laser beam L, but remains as a nucleus of newly generated processing waste.

【0030】すなわち、レーザビームLのパルス的な照
射の初期段階において生じたブラインドバイアホール7
の内壁面に付着した加工残留物6は、レーザビームLの
パルス的な照射が続くにつれて成長し、絶縁物層2部分
のブラインドバイアホール加工が終了した段階にあって
も球状の絶縁物としてブラインドバイアホール7の内壁
面に留まる。
That is, the blind via holes 7 generated in the initial stage of the pulsed irradiation of the laser beam L
The processing residue 6 adhered to the inner wall surface grows as pulsed irradiation of the laser beam L continues, and even when the blind via hole processing of the insulating layer 2 is completed, it is blind as a spherical insulator. Stay on the inner wall of via hole 7.

【0031】絶縁物層2に隣接して配置された高蒸気圧
層3は、絶縁物層2部分のブラインドバイアホール加工
が終了した段階において、そのブラインドバイアホール
7の底部に露出し、高蒸気圧層3の露出部分はレーザビ
ームLによって引き続き照射される。
The high vapor pressure layer 3 disposed adjacent to the insulating layer 2 is exposed at the bottom of the blind via hole 7 when the blind via hole processing of the insulating layer 2 is completed, and The exposed portion of the pressure layer 3 is continuously irradiated by the laser beam L.

【0032】レーザビームLの熱エネルギーは、高蒸気
圧層3の有する沸点に比較して非常に大きいため、レー
ザビームLを照射された高蒸気圧層3は、瞬時に爆発的
に気化し、高い圧力となって、ブラインドバイアホール
7の外部へと吹き出す。この際、ブラインドバイアホー
ル7の内壁面に付着した加工残留物6は、この高蒸気圧
層3の吹き出す圧力によって、図2に示すように、十分
に気化されなかった高蒸気圧層3の溶融物8とともに、
ブラインドバイアホール7の外部へと排出される。
Since the thermal energy of the laser beam L is much larger than the boiling point of the high vapor pressure layer 3, the high vapor pressure layer 3 irradiated with the laser beam L instantaneously explosively vaporizes, High pressure is applied to blow out the blind via hole 7. At this time, the processing residue 6 adhering to the inner wall surface of the blind via hole 7 melts the insufficiently vaporized high vapor pressure layer 3 due to the pressure of the high vapor pressure layer 3 as shown in FIG. Along with thing 8,
It is discharged to the outside of the blind via hole 7.

【0033】絶縁物層2部分のブラインドバイアホール
加工が終了した段階におけるブラインドバイアホール7
の底部の高蒸気圧層3の露出部分は、レーザビームLの
照射によって削剥され、高蒸気圧層3に隣接した内層銅
箔4の表面を露出させる。一般に、絶縁物層2の加工を
主な目的としたレーザビームLの出力にあっては、金属
である内層銅箔4を十分に加工するだけのエネルギーを
有せず、入射したエネルギーの大部分が反射されて損失
されるために、内層銅箔4に穴が形成されることはな
い。
The blind via hole 7 at the stage when the blind via hole processing of the insulating layer 2 has been completed.
The exposed portion of the high vapor pressure layer 3 at the bottom is stripped off by the irradiation of the laser beam L to expose the surface of the inner copper foil 4 adjacent to the high vapor pressure layer 3. In general, the output of the laser beam L mainly for processing the insulating layer 2 does not have enough energy to sufficiently process the inner copper foil 4 which is a metal, and most of the incident energy. Is reflected and lost, so that no hole is formed in the inner layer copper foil 4.

【0034】また、前述した図6および図7に関連し
て、所望の深さのブラインドバイアホールを得るのに最
適なレーザビームの照射パルス数を実験的に定め、この
パルス数を用いるので、絶縁物層2および高蒸気圧層3
から成る部分のみを加工の対象とすることができる。
6 and 7, the optimum number of laser beam irradiation pulses for obtaining a blind via hole having a desired depth is experimentally determined, and this pulse number is used. Insulator layer 2 and high vapor pressure layer 3
Only the part consisting of can be processed.

【0035】従って、加工残留物6の付着のない良好な
壁面を有するブラインドバイアホール7が形成され、そ
の後のブラインドバイアホール7の内壁面のメッキ処理
においても、必然と良好なメッキ面を得ることができ
る。
Therefore, a blind via hole 7 having a good wall surface with no adhesion of the processing residue 6 is formed, and in the subsequent plating process of the inner wall surface of the blind via hole 7, a good plated surface is inevitably obtained. Can be.

【0036】実施の形態2.本発明の第2の実施の形態
について以下に説明する。図3は、加工する絶縁物層部
分の厚さを100μmに一定にした場合において、形成
する穴径と該穴の内壁に付着する加工残留物を取り除く
のに十分な高蒸気圧層の厚さとの関係を示している。図
3に示すように、形成されるブラインドバイアホール7
の穴径と絶縁物層に隣接して配置される高蒸気圧層の厚
さとは比例関係がある。
Embodiment 2 A second embodiment of the present invention will be described below. FIG. 3 shows the diameter of the hole to be formed and the thickness of the high vapor pressure layer sufficient to remove the processing residue attached to the inner wall of the hole when the thickness of the insulating layer portion to be processed is fixed to 100 μm. Shows the relationship. As shown in FIG. 3, the blind via hole 7 to be formed
Is proportional to the thickness of the high vapor pressure layer disposed adjacent to the insulator layer.

【0037】すなわち、作成される穴の径が小さい場合
は、削剥される絶縁物層の体積も少ないため、絶縁物層
に隣接して配置される高蒸気圧層の厚さは薄くされる。
一方、形成されるブラインドバイアホールの径が大きい
場合、削剥される絶縁物層の体積も大きくなるため、ブ
ラインドバイアホール内壁面に残留する加工残留物もま
た増加する。
That is, when the diameter of the hole to be formed is small, the volume of the insulating layer to be stripped is small, so that the thickness of the high vapor pressure layer disposed adjacent to the insulating layer is reduced.
On the other hand, when the diameter of the formed blind via hole is large, the volume of the insulating layer to be removed is also large, so that the processing residue remaining on the inner wall surface of the blind via hole also increases.

【0038】また、絶縁物層部分のブラインドバイアホ
ール加工が終了した段階におけるブラインドバイアホー
ル底部の高蒸気圧層の露出面積も大きくなるので、更な
るレーザビームの照射によって気化して吹き出す溶融物
およびその反力も大きくなる。しかしながら、図2に示
されているように、ブラインドバイアホールの内壁面の
加工残留物を効果的に除去するのは内壁面近辺に位置す
る高蒸気圧層部分である。従って、内壁面近辺に位置す
る高蒸気圧層部分の厚さが十分必要になり、絶縁物層に
隣接して配置される高蒸気圧層の厚さを厚くする。
Further, since the exposed area of the high vapor pressure layer at the bottom of the blind via hole at the stage when the blind via hole processing of the insulating layer portion has been completed is increased, the molten material which is vaporized and blown out by further irradiation with the laser beam and The reaction force also increases. However, as shown in FIG. 2, it is the high vapor pressure layer located near the inner wall surface that effectively removes the processing residue on the inner wall surface of the blind via hole. Therefore, the high vapor pressure layer located near the inner wall surface needs a sufficient thickness, and the thickness of the high vapor pressure layer disposed adjacent to the insulating layer is increased.

【0039】例えば、加工する穴径をφ150μmとし
て穴を形成する場合には、絶縁物層に隣接して配置され
る高蒸気圧層の厚さを約30μmに設定すると有効な加
工残留物除去効果が得られる。
For example, when forming a hole with a hole diameter of 150 μm to be processed, setting the thickness of the high vapor pressure layer disposed adjacent to the insulating layer to about 30 μm will provide an effective processing residue removal effect. Is obtained.

【0040】実施の形態3.本発明の第3の実施の形態
について以下に説明する。図4は、加工穴径がφ150
μmに一定にした場合において、形成する穴の深さと該
穴の内壁に付着する加工残留物を取り除くのに十分な高
蒸気圧層の厚さとの関係を示している。図4に示すよう
に、形成されるバイアホールの深さと絶縁物層に隣接し
て配置される高蒸気圧層の厚さとは比例関係がある。
Embodiment 3 A third embodiment of the present invention will be described below. FIG. 4 shows that the processing hole diameter is φ150.
This shows the relationship between the depth of the hole to be formed and the thickness of the high vapor pressure layer sufficient to remove the processing residue attached to the inner wall of the hole when the thickness is fixed to μm. As shown in FIG. 4, there is a proportional relationship between the depth of the via hole to be formed and the thickness of the high vapor pressure layer disposed adjacent to the insulator layer.

【0041】すなわち、作成される穴の深さが小さい場
合は、削剥されるのに必要な絶縁物層の体積も小さいた
め、絶縁物層に隣接して配置される高蒸気圧層の厚さは
薄くされる。一方、作成される穴の深さが大きい場合
は、削剥される絶縁物層の体積も大きくなるため、絶縁
物層に隣接して配置される高蒸気圧層の厚さもまた厚く
される。
That is, when the depth of the hole to be formed is small, the volume of the insulating layer necessary for exfoliation is small, so that the thickness of the high vapor pressure layer disposed adjacent to the insulating layer is small. Is thinned. On the other hand, when the depth of the hole to be formed is large, the volume of the insulating layer to be removed is also large, so that the thickness of the high vapor pressure layer disposed adjacent to the insulating layer is also increased.

【0042】例えば、加工する部分の絶縁物層の穴の深
さを100μmとして穴を形成する場合には、絶縁物層
に隣接して配置される高蒸気圧層の厚さは約30ミクロ
ンに設定すると有効な加工残留物除去効果が得られる。
For example, when forming a hole with the depth of the hole of the insulating layer in the portion to be processed being 100 μm, the thickness of the high vapor pressure layer disposed adjacent to the insulating layer is reduced to about 30 μm. When set, an effective processing residue removal effect is obtained.

【0043】なお、上記実施の形態においてプリント基
板上にブラインドバイアホールを形成するとしている
が、これをスルーホールの形成としても上記実施の形態
の説明に示されたような効果が得られる。
Although the blind via hole is formed on the printed circuit board in the above embodiment, the effect as described in the description of the above embodiment can be obtained by forming this through hole.

【0044】[0044]

【発明の効果】以上説明したように、この発明に係るプ
リント基板によれば、少なくとも、一つの蒸気圧の高い
素材である高蒸気圧領域を有し、高蒸気圧領域はプリン
ト基板の穴の形成が完了する直前にレーザビームが照射
される位置に配置されているので、蒸気圧の高い素材の
領域に爆発的な溶融蒸発が生じ、その反力によって、形
成された穴壁面に残留する樹脂や基材の加工残留物の除
去が行える。従って、形成された穴壁面が加工残留物の
ない平滑な面を有することが可能になる。
As described above, according to the printed circuit board of the present invention, at least one high vapor pressure region which is a material having a high vapor pressure is provided. Since it is located at the position where the laser beam is irradiated immediately before the formation is completed, explosive melting and evaporation occurs in the area of the material with high vapor pressure, and the reaction force causes the resin remaining on the formed wall surface of the hole. And removal of processing residues from the substrate. Therefore, it becomes possible for the formed hole wall surface to have a smooth surface free of processing residues.

【0045】つぎの発明に係るプリント基板によれば、
形成する穴の径に比例して除去するプリント基板内の絶
縁物層の体積も増減するため、プリント基板内の蒸気圧
の高い素材の層の厚さを変えることで、加工穴壁面に残
留する樹脂や基材の加工残留物の除去を確実に、かつ、
有効に行える。
According to the printed circuit board of the next invention,
Since the volume of the insulator layer in the printed circuit board to be removed increases or decreases in proportion to the diameter of the hole to be formed, the thickness of the material layer having a high vapor pressure in the printed circuit board is changed, so that the material remains on the wall surface of the processed hole Reliable removal of resin and substrate processing residues, and
You can do it effectively.

【0046】つぎの発明に係るプリント基板によれば、
形成する穴の径が一定であっても、形成する穴の深さに
比例して除去するプリント基板内の絶縁物層の体積も増
減するため、プリント基板内の蒸気圧の高い素材の層の
厚さを変えることで、加工穴壁面に残留する樹脂や基材
の加工残留物の除去を確実に、かつ、有効に行える。
According to the printed circuit board of the next invention,
Even if the diameter of the hole to be formed is constant, the volume of the insulator layer in the printed circuit board to be removed increases or decreases in proportion to the depth of the hole to be formed. By changing the thickness, the resin remaining on the wall surface of the processing hole and the processing residue of the base material can be reliably and effectively removed.

【0047】つぎの発明に係る穴あけ加工方法によれ
ば、レーザビームを用いてプリント基板に穴を形成する
穴あけ加工方法において、プリント基板は、少なくとも
一つの蒸気圧の高い素材である高蒸気圧領域を有し、高
蒸気圧領域にプリント基板の穴の形成が完了する直前に
レーザビームを照射するので、高蒸気圧領域に爆発的な
溶融蒸発が生じ、その反力によって加工穴壁面に残留す
る樹脂や基材の加工残留物の除去が行える。従って、平
滑な内壁面を有する穴を得ることができ、それはより微
細な径の穴の形成をも可能にする。すなわち、本発明に
よる方法によりプリント基板に微細な穴を形成すること
で、半導体部品を高密度に配置させることができる。
According to the drilling method according to the next invention, in the drilling method for forming a hole in a printed circuit board using a laser beam, the printed circuit board has at least one high vapor pressure region which is a material having a high vapor pressure. Since the laser beam is irradiated immediately before the formation of the holes in the printed circuit board in the high vapor pressure area, explosive melting and evaporation occurs in the high vapor pressure area, and the reactive force remains on the wall of the processed hole. Processing residues of resin and base material can be removed. Thus, a hole having a smooth inner wall surface can be obtained, which also enables the formation of a finer hole. That is, by forming fine holes in a printed circuit board by the method according to the present invention, semiconductor components can be arranged at a high density.

【0048】つぎの発明に係る穴あけ加工方法によれ
ば、形成する穴の径に比例して除去するプリント基板内
の絶縁物層の体積も増減するため、プリント基板内の蒸
気圧の高い素材の層の厚さを変えることで、加工穴壁面
に残留する樹脂や基材の加工残留物の除去を確実に、か
つ、有効に行える。
According to the drilling method of the next invention, the volume of the insulating layer in the printed circuit board to be removed is increased or decreased in proportion to the diameter of the hole to be formed. By changing the thickness of the layer, it is possible to reliably and effectively remove the resin remaining on the wall surface of the processing hole and the processing residue of the base material.

【0049】つぎの発明に係る穴あけ加工方法によれ
ば、形成する穴の径が一定であっても、形成する穴の深
さに比例して除去するプリント基板内の絶縁物層の体積
も増減するため、プリント基板内の蒸気圧の高い素材の
層の厚さを変えることで、加工穴壁面に残留する樹脂や
基材の加工残留物の除去を確実に、かつ、有効に行え
る。
According to the drilling method of the next invention, even if the diameter of the hole to be formed is constant, the volume of the insulating layer in the printed circuit board to be removed in proportion to the depth of the hole to be formed is also increased or decreased. Therefore, by changing the thickness of the layer of the material having a high vapor pressure in the printed circuit board, it is possible to reliably and effectively remove the resin remaining on the wall surface of the processing hole and the processing residue of the base material.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明に係る実施の形態の加工処理の各工程
を示す基板の断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view of a substrate showing each step of a processing according to an embodiment of the present invention.

【図2】 本発明に係る実施の形態の加工処理のメカニ
ズムを示す模式図である。
FIG. 2 is a schematic diagram showing a mechanism of a processing process according to the embodiment of the present invention.

【図3】 絶縁物層に隣接して配置される高蒸気圧層の
厚さと、形成する穴径の関係を示すグラフである。
FIG. 3 is a graph showing the relationship between the thickness of a high vapor pressure layer disposed adjacent to an insulator layer and the diameter of a hole to be formed.

【図4】 絶縁物層に隣接して配置される高蒸気圧層の
厚さと、形成する絶縁物層部分の厚さの関係を示すグラ
フである。
FIG. 4 is a graph showing the relationship between the thickness of a high vapor pressure layer disposed adjacent to an insulator layer and the thickness of an insulator layer portion to be formed.

【図5】 従来におけるレーザビームを用いる穴あけ加
工方法を示す模式図である。
FIG. 5 is a schematic view showing a conventional drilling method using a laser beam.

【図6】 穴テーパ度とレーザパルス数の関係を示すグ
ラフ図である。
FIG. 6 is a graph showing a relationship between a hole taper degree and the number of laser pulses.

【図7】 穴内壁面に付着する加工残留物の粒径とレー
ザパルス数の関係を示すグラフである。
FIG. 7 is a graph showing the relationship between the particle size of a processing residue adhering to the inner wall surface of a hole and the number of laser pulses.

【符号の説明】 L レーザビーム、2 絶縁物層、3 高蒸気圧層、4
内層銅箔、5 コア材、6、6a、6b、6c 加工
残留物、7、7a、7b、7c ブラインドバイアホー
ル、8 溶融物、10 プリント基板。
[Explanation of symbols] L laser beam, 2 insulator layers, 3 high vapor pressure layer, 4
Inner layer copper foil, 5 core material, 6, 6a, 6b, 6c Processing residue, 7, 7a, 7b, 7c Blind via hole, 8 melt, 10 printed circuit board.

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 少なくとも一つの蒸気圧の高い素材であ
る高蒸気圧領域を有し、前記高蒸気圧領域はプリント基
板の穴の形成が完了する直前にレーザビームが照射され
る位置に配置されていることを特徴とするプリント基
板。
1. A high-vapor-pressure region which is at least one high-vapor-pressure material, wherein the high-vapor-pressure region is arranged at a position where a laser beam is irradiated immediately before formation of a hole in a printed circuit board is completed. A printed circuit board, comprising:
【請求項2】 前記高蒸気圧領域の厚さは形成する穴の
径に応じて選択されることを特徴とする請求項1に記載
のプリント基板。
2. The printed circuit board according to claim 1, wherein the thickness of the high vapor pressure region is selected according to the diameter of a hole to be formed.
【請求項3】 前記高蒸気圧領域の厚さは形成する穴の
深さに応じて選択されることを特徴とする請求項1に記
載のプリント基板。
3. The printed circuit board according to claim 1, wherein the thickness of the high vapor pressure region is selected according to the depth of a hole to be formed.
【請求項4】 レーザビームを用いてプリント基板に穴
を形成する穴あけ加工方法において、 前記プリント基板は、少なくとも一つの蒸気圧の高い素
材である高蒸気圧領域を有し、前記高蒸気圧領域に前記
プリント基板の穴の形成が完了する直前に前記レーザビ
ームを照射することを特徴とする穴あけ加工方法。
4. A drilling method for forming a hole in a printed circuit board using a laser beam, wherein the printed circuit board has at least one high vapor pressure region that is a material having a high vapor pressure, and the high vapor pressure region And irradiating the laser beam immediately before the formation of the holes in the printed circuit board is completed.
【請求項5】 前記高蒸気圧層の厚さは形成する穴の径
に応じて選択されることを特徴とする請求項4に記載の
穴あけ加工方法。
5. The method according to claim 4, wherein the thickness of the high vapor pressure layer is selected according to the diameter of a hole to be formed.
【請求項6】 前記高蒸気圧層の厚さは形成する穴の深
さに応じて選択されることを特徴とする請求項4に記載
の穴あけ加工方法。
6. The drilling method according to claim 4, wherein the thickness of the high vapor pressure layer is selected according to the depth of a hole to be formed.
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