JPH11202344A - 液晶表示装置およびその製造方法 - Google Patents
液晶表示装置およびその製造方法Info
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- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
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- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
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- G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
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- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 液晶表示装置の表示部分に位置するスペーサ
に起因する光漏れを防止し、かつパネルギャップを適正
かつ均一に保持し、良好な画質をうる液晶表示装置およ
びその製造方法を提供する。 【解決手段】 本発明のアクティブマトリクス型液晶表
示装置の製造方法は、（ａ）スペーサを帯電させ、
（ｂ）遮光部に接続して電位調整用の端子を設け、該端
子から遮光部に電位を印加し、遮光部をスペーサと逆極
性に帯電させることによって遮光部上にスペーサを選択
配置する工程を含むことを特徴とする。また、遮光部以
外の部分は前記スペーサと同極性に帯電させることが望
ましい。また、前記遮光部の抵抗値がその他の部分に比
べ、５桁以上異なることが望ましい。
に起因する光漏れを防止し、かつパネルギャップを適正
かつ均一に保持し、良好な画質をうる液晶表示装置およ
びその製造方法を提供する。 【解決手段】 本発明のアクティブマトリクス型液晶表
示装置の製造方法は、（ａ）スペーサを帯電させ、
（ｂ）遮光部に接続して電位調整用の端子を設け、該端
子から遮光部に電位を印加し、遮光部をスペーサと逆極
性に帯電させることによって遮光部上にスペーサを選択
配置する工程を含むことを特徴とする。また、遮光部以
外の部分は前記スペーサと同極性に帯電させることが望
ましい。また、前記遮光部の抵抗値がその他の部分に比
べ、５桁以上異なることが望ましい。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はＯＡ機器などの画像
や、文字情報の表示装置として用いられるアクティブマ
トリクス方式の液晶表示装置に関する。さらに詳しく
は、第１の基板と第２の基板との基板間隔（パネルギャ
ップ）を適正かつ均一とし、かつパネル間隔を保持する
ために用いるスペーサに起因する光漏れによる画質低下
を抑える構造に関する。
や、文字情報の表示装置として用いられるアクティブマ
トリクス方式の液晶表示装置に関する。さらに詳しく
は、第１の基板と第２の基板との基板間隔（パネルギャ
ップ）を適正かつ均一とし、かつパネル間隔を保持する
ために用いるスペーサに起因する光漏れによる画質低下
を抑える構造に関する。
【０００２】
【従来の技術】ガラスなどの絶縁基板上に薄膜トランジ
スタ（以下、ＴＦＴという）をマトリクス状に形成し、
これをスイッチング素子として用いるアクティブマトリ
クス型の液晶表示装置（ＴＦＴ−ＬＣＤ）は高画質のフ
ラットパネルディスプレイとしての期待が大きい。
スタ（以下、ＴＦＴという）をマトリクス状に形成し、
これをスイッチング素子として用いるアクティブマトリ
クス型の液晶表示装置（ＴＦＴ−ＬＣＤ）は高画質のフ
ラットパネルディスプレイとしての期待が大きい。
【０００３】現在、ＴＦＴ−ＬＣＤにおいては、その表
示品位の向上が要求されている。このため、ＴＦＴがマ
トリクス状に形成された第１の基板であるアレイ基板
と、カラーフィルタが形成された第２の基板であるカラ
ーフィルタ基板の基板間隔（パネルギャップ）を適正か
つ均一に保持することが重要である。そのためには、パ
ネル間隔を保持するために用いるスペーサの散布密度を
高くすることが有効であるが、スペーサの散布密度が高
くなるにつれ、スペーサ同士の凝集により、スペーサの
分布が不均一となることによる局部的ギャップムラの発
生、表示部分に散布されたスペーサに起因する光漏れに
よるコントラストの低下などの影響が大きくなるという
問題がある。とくに、スペーサによる光屈折または光反
射作用によって生じる周囲への光漏れや、スペーサの周
辺での液晶の配向の乱れによって生じる光漏れなど、ス
ペーサに起因する光漏れが画質に大きな影響を与える。
この問題を解決するための一例が、特開平６−３４９８
２号公報に開示されている。図１０はその散布方法およ
びその装置を示す説明図である。図９において、１７は
スペーサ、３０は秤量部、３１は絶縁体圧送ホース、３
２の絶縁体圧送ホース、３３はチャンバー、３４はガス
タンク、３５は絶縁ノズル、３６は絶縁性マニホール
ド、３８はイオン化装置、３９はステージ、８０はカラ
ーフィルタ基板をそれぞれ示す。図１０においては第２
の基板であるカラーフィルタ基板にスペーサを散布して
いるが、第１の基板であるアレイ基板においても同様に
スペーサを散布することができる。
示品位の向上が要求されている。このため、ＴＦＴがマ
トリクス状に形成された第１の基板であるアレイ基板
と、カラーフィルタが形成された第２の基板であるカラ
ーフィルタ基板の基板間隔（パネルギャップ）を適正か
つ均一に保持することが重要である。そのためには、パ
ネル間隔を保持するために用いるスペーサの散布密度を
高くすることが有効であるが、スペーサの散布密度が高
くなるにつれ、スペーサ同士の凝集により、スペーサの
分布が不均一となることによる局部的ギャップムラの発
生、表示部分に散布されたスペーサに起因する光漏れに
よるコントラストの低下などの影響が大きくなるという
問題がある。とくに、スペーサによる光屈折または光反
射作用によって生じる周囲への光漏れや、スペーサの周
辺での液晶の配向の乱れによって生じる光漏れなど、ス
ペーサに起因する光漏れが画質に大きな影響を与える。
この問題を解決するための一例が、特開平６−３４９８
２号公報に開示されている。図１０はその散布方法およ
びその装置を示す説明図である。図９において、１７は
スペーサ、３０は秤量部、３１は絶縁体圧送ホース、３
２の絶縁体圧送ホース、３３はチャンバー、３４はガス
タンク、３５は絶縁ノズル、３６は絶縁性マニホール
ド、３８はイオン化装置、３９はステージ、８０はカラ
ーフィルタ基板をそれぞれ示す。図１０においては第２
の基板であるカラーフィルタ基板にスペーサを散布して
いるが、第１の基板であるアレイ基板においても同様に
スペーサを散布することができる。
【０００４】この従来技術は、スペーサ材粒子１７をチ
ャンバー３３内に噴出させるためのガスをイオン化装置
３８で帯電させることで、スペーサ材粒子間に電気的な
斥力を生じさせ、スペーサの凝集を防止することを提案
している。このようにスペーサまたは、基板を帯電させ
るなどして電気反発力によりスペーサの均一分散を図る
散布方法を一般に帯電散布方式と呼ぶ。
ャンバー３３内に噴出させるためのガスをイオン化装置
３８で帯電させることで、スペーサ材粒子間に電気的な
斥力を生じさせ、スペーサの凝集を防止することを提案
している。このようにスペーサまたは、基板を帯電させ
るなどして電気反発力によりスペーサの均一分散を図る
散布方法を一般に帯電散布方式と呼ぶ。
【０００５】前述した従来技術（帯電散布方式）による
と、高密度のスペーサ散布によってスペーサの凝集は防
止され、パネルギャップを適正かつ均一に保持すること
ができる。しかし本手法では、スペーサが液晶パネルの
表示面内に均一に散布されるため、散布密度の増加に伴
って液晶パネルの表示部分に位置するスペーサに起因す
る光漏れも増加し、表示画面のざらつきやコントラスト
が低下して表示画質が低下するので、良好な表示をえる
ことができない。
と、高密度のスペーサ散布によってスペーサの凝集は防
止され、パネルギャップを適正かつ均一に保持すること
ができる。しかし本手法では、スペーサが液晶パネルの
表示面内に均一に散布されるため、散布密度の増加に伴
って液晶パネルの表示部分に位置するスペーサに起因す
る光漏れも増加し、表示画面のざらつきやコントラスト
が低下して表示画質が低下するので、良好な表示をえる
ことができない。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
従来技術によって製造された液晶表示装置の問題を鑑み
てなされたものであり、液晶表示装置の表示部分に位置
するスペーサに起因する光漏れを防止し、かつパネルギ
ャップを適正かつ均一に保持し、良好な画質をうること
ができる液晶表示装置およびその製造方法を提供するこ
とを目的とする。
従来技術によって製造された液晶表示装置の問題を鑑み
てなされたものであり、液晶表示装置の表示部分に位置
するスペーサに起因する光漏れを防止し、かつパネルギ
ャップを適正かつ均一に保持し、良好な画質をうること
ができる液晶表示装置およびその製造方法を提供するこ
とを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の請求項１にかか
わるアクティブマトリクス型液晶表示装置の製造方法
は、第１の基板、第１の基板に対向する第２の基板、第
１の基板の第２の基板側に設けられる第１の配向膜、第
２の基板の第１の基板側に設けられる第２の配向膜、第
１および第２の基板間に挟持される液晶組成物、第１お
よび第２の基板間に散布される複数のスペーサ、第１の
基板上にマトリクス状に配置された複数のゲートバスラ
インと複数のソースバスライン、複数のゲートバスライ
ンと複数のソースバスラインとによって囲まれてなる複
数の画素部のそれぞれに設けられるスイッチング素子な
らびに第２の基板上に設けられるブラックマトリックス
からなり、第２の基板には表示用電極がなく、ブラック
マトリックスが遮光部であるアクティブマトリクス型液
晶表示装置の製造方法であって、（ａ）スペーサを帯電
させ、（ｂ）前記遮光部に接続して電位調整用の端子を
設け、該端子から遮光部に電位を印加し、遮光部をスペ
ーサと逆極性に帯電させることによって遮光部上にスペ
ーサを選択配置する工程を含むものである。
わるアクティブマトリクス型液晶表示装置の製造方法
は、第１の基板、第１の基板に対向する第２の基板、第
１の基板の第２の基板側に設けられる第１の配向膜、第
２の基板の第１の基板側に設けられる第２の配向膜、第
１および第２の基板間に挟持される液晶組成物、第１お
よび第２の基板間に散布される複数のスペーサ、第１の
基板上にマトリクス状に配置された複数のゲートバスラ
インと複数のソースバスライン、複数のゲートバスライ
ンと複数のソースバスラインとによって囲まれてなる複
数の画素部のそれぞれに設けられるスイッチング素子な
らびに第２の基板上に設けられるブラックマトリックス
からなり、第２の基板には表示用電極がなく、ブラック
マトリックスが遮光部であるアクティブマトリクス型液
晶表示装置の製造方法であって、（ａ）スペーサを帯電
させ、（ｂ）前記遮光部に接続して電位調整用の端子を
設け、該端子から遮光部に電位を印加し、遮光部をスペ
ーサと逆極性に帯電させることによって遮光部上にスペ
ーサを選択配置する工程を含むものである。
【０００８】本発明の請求項２にかかわるアクティブマ
トリクス型液晶表示装置の製造方法は、前記第２の基板
の遮光部以外の部分は前記スペーサと同極性に帯電させ
るものである。
トリクス型液晶表示装置の製造方法は、前記第２の基板
の遮光部以外の部分は前記スペーサと同極性に帯電させ
るものである。
【０００９】本発明の請求項３にかかわるアクティブマ
トリクス型液晶表示装置の製造方法は、前記遮光部の抵
抗値がその他の部分に比べ、５桁以上異なるものであ
る。
トリクス型液晶表示装置の製造方法は、前記遮光部の抵
抗値がその他の部分に比べ、５桁以上異なるものであ
る。
【００１０】本発明の請求項４にかかわるアクティブマ
トリクス型液晶表示装置の製造方法は、第１の基板、第
１の基板に対向する第２の基板、第１の基板の第２の基
板側に設けられる第１の配向膜、第２の基板の第１の基
板側に設けられる第２の配向膜、第１および第２の基板
間に挟持される液晶組成物、第１および第２の基板間に
散布される複数のスペーサ、第１の基板上にマトリクス
状に配置された複数のゲートバスラインと複数のソース
バスライン、複数のゲートバスラインと複数のソースバ
スラインとによって囲まれてなる複数の画素部のそれぞ
れに設けられるスイッチング素子ならびに第２の基板上
に設けられるブラックマトリックスからなり、第２の基
板には表示用電極がなく、複数のゲートバスラインと複
数のソースバスラインが遮光部であるアクティブマトリ
クス型液晶表示装置の製造方法であって、（ａ）前記ス
ペーサを帯電させ、（ｂ）前記複数のゲートバスライン
と複数のソースバスラインに接続して電位調整用の端子
を設け、該端子から電位を遮光部に印加し、遮光部をス
ペーサと逆極性に帯電させることによって遮光部上にス
ペーサを選択配置する工程を含むものである。
トリクス型液晶表示装置の製造方法は、第１の基板、第
１の基板に対向する第２の基板、第１の基板の第２の基
板側に設けられる第１の配向膜、第２の基板の第１の基
板側に設けられる第２の配向膜、第１および第２の基板
間に挟持される液晶組成物、第１および第２の基板間に
散布される複数のスペーサ、第１の基板上にマトリクス
状に配置された複数のゲートバスラインと複数のソース
バスライン、複数のゲートバスラインと複数のソースバ
スラインとによって囲まれてなる複数の画素部のそれぞ
れに設けられるスイッチング素子ならびに第２の基板上
に設けられるブラックマトリックスからなり、第２の基
板には表示用電極がなく、複数のゲートバスラインと複
数のソースバスラインが遮光部であるアクティブマトリ
クス型液晶表示装置の製造方法であって、（ａ）前記ス
ペーサを帯電させ、（ｂ）前記複数のゲートバスライン
と複数のソースバスラインに接続して電位調整用の端子
を設け、該端子から電位を遮光部に印加し、遮光部をス
ペーサと逆極性に帯電させることによって遮光部上にス
ペーサを選択配置する工程を含むものである。
【００１１】本発明の請求項５にかかわるアクティブマ
トリクス型液晶表示装置の製造方法は、前記遮光部以外
の第１の基板上の部分は前記スペーサと同極性に帯電さ
せるものである。
トリクス型液晶表示装置の製造方法は、前記遮光部以外
の第１の基板上の部分は前記スペーサと同極性に帯電さ
せるものである。
【００１２】本発明の請求項６にかかわるアクティブマ
トリクス型液晶表示装置の製造方法は、前記遮光部の抵
抗値がその他の部分に比べ、５桁以上異なるものであ
る。
トリクス型液晶表示装置の製造方法は、前記遮光部の抵
抗値がその他の部分に比べ、５桁以上異なるものであ
る。
【００１３】本発明の請求項７にかかわるアクティブマ
トリクス型液晶表示装置は、第１の基板、第１の基板に
対向する第２の基板、第１の基板の第２の基板側に設け
られる第１の配向膜、第２の基板の第１の基板側に設け
られる第２の配向膜、第１および第２の基板間に挟持さ
れる液晶組成物、第１および第２の基板間に散布される
複数のスペーサ、第１の基板上にマトリクス状に配置さ
れた複数のゲートバスラインと複数のソースバスライ
ン、複数のゲートバスラインと複数のソースバスライン
とによって囲まれてなる複数の画素部のそれぞれに設け
られるスイッチング素子ならびに第２の基板上に設けら
れるブラックマトリックスからなり、第２の基板に表示
用電極がなく、ブラックマトリックスが遮光部であり、
該遮光部上にスペーサが選択配置されてなるものであ
る。
トリクス型液晶表示装置は、第１の基板、第１の基板に
対向する第２の基板、第１の基板の第２の基板側に設け
られる第１の配向膜、第２の基板の第１の基板側に設け
られる第２の配向膜、第１および第２の基板間に挟持さ
れる液晶組成物、第１および第２の基板間に散布される
複数のスペーサ、第１の基板上にマトリクス状に配置さ
れた複数のゲートバスラインと複数のソースバスライ
ン、複数のゲートバスラインと複数のソースバスライン
とによって囲まれてなる複数の画素部のそれぞれに設け
られるスイッチング素子ならびに第２の基板上に設けら
れるブラックマトリックスからなり、第２の基板に表示
用電極がなく、ブラックマトリックスが遮光部であり、
該遮光部上にスペーサが選択配置されてなるものであ
る。
【００１４】本発明の請求項８にかかわるアクティブマ
トリクス型液晶表示装置は、前記第２の基板上の遮光部
の抵抗値がその他の部分に比べ、５桁以上異なるもので
ある。
トリクス型液晶表示装置は、前記第２の基板上の遮光部
の抵抗値がその他の部分に比べ、５桁以上異なるもので
ある。
【００１５】本発明の請求項９にかかわるアクティブマ
トリクス型液晶表示装置は、第１の基板、第１の基板に
対向する第２の基板、第１の基板の第２の基板側に設け
られる第１の配向膜、第２の基板の第１の基板側に設け
られる第２の配向膜、第１および第２の基板間に挟持さ
れる液晶組成物、第１および第２の基板間に散布される
複数のスペーサ、第１の基板上にマトリクス状に配置さ
れた複数のゲートバスラインと複数のソースバスライ
ン、複数のゲートバスラインと複数のソースバスライン
とによって囲まれてなる複数の画素部のそれぞれに設け
られるスイッチング素子ならびに第２の基板上に設けら
れるブラックマトリックスからなり、第２の基板に表示
用電極がなく、前記複数のゲートバスラインと複数のソ
ースバスラインが遮光部であり、該遮光部上にスペーサ
が選択配置されてなるものである。
トリクス型液晶表示装置は、第１の基板、第１の基板に
対向する第２の基板、第１の基板の第２の基板側に設け
られる第１の配向膜、第２の基板の第１の基板側に設け
られる第２の配向膜、第１および第２の基板間に挟持さ
れる液晶組成物、第１および第２の基板間に散布される
複数のスペーサ、第１の基板上にマトリクス状に配置さ
れた複数のゲートバスラインと複数のソースバスライ
ン、複数のゲートバスラインと複数のソースバスライン
とによって囲まれてなる複数の画素部のそれぞれに設け
られるスイッチング素子ならびに第２の基板上に設けら
れるブラックマトリックスからなり、第２の基板に表示
用電極がなく、前記複数のゲートバスラインと複数のソ
ースバスラインが遮光部であり、該遮光部上にスペーサ
が選択配置されてなるものである。
【００１６】本発明の請求項１０にかかわるアクティブ
マトリクス型液晶表示装置は、前記遮光部の抵抗値がそ
の他の部分に比べ、５桁以上異なるものである。
マトリクス型液晶表示装置は、前記遮光部の抵抗値がそ
の他の部分に比べ、５桁以上異なるものである。
【００１７】本発明にかかわるアクティブマトリクス型
液晶表示装置においては、パネル間隔を保持するために
用いるスペーサを、遮光部上に選択的かつ高密度に配置
することによりスペーサに起因する光漏れがないために
コントラストが高く、かつパネルギャップが適正かつ均
一であるためにすぐれた表示品位をえる。
液晶表示装置においては、パネル間隔を保持するために
用いるスペーサを、遮光部上に選択的かつ高密度に配置
することによりスペーサに起因する光漏れがないために
コントラストが高く、かつパネルギャップが適正かつ均
一であるためにすぐれた表示品位をえる。
【００１８】さらに本発明にかかわるアクティブマトリ
クス型液晶表示装置の製造方法、第１基板、または第２
基板の遮光部とその他の部分の電位差を生じさせること
により、パネル間隔を保持するために用いるスペーサが
表示部に配置されることを抑制し、遮光部上に選択的に
配置する製造方法である。
クス型液晶表示装置の製造方法、第１基板、または第２
基板の遮光部とその他の部分の電位差を生じさせること
により、パネル間隔を保持するために用いるスペーサが
表示部に配置されることを抑制し、遮光部上に選択的に
配置する製造方法である。
【００１９】図２および図３は本発明のスペーサの遮光
部上への選択配置の原理を示す説明図である。図２およ
び図３の説明では、カラーフィルタが形成された第２の
基板であるカラーフィルタ基板へのスペーサ散布を例に
あげるが、スペーサの散布は第１の基板または第２の基
板いずれにおこなってもよい。図２および図３において
１７はスペーサ、２０は上部透明ガラス基板、２１は遮
光部であるブラックマトリックス（ＢＭ）、２３は着色
層、２４は配向膜、２６はオーバーコート層をそれぞれ
示す。なお、スペーサの帯電極性は正負いずれのばあい
もありうるが、本説明では正帯電のばあいを用いる。
部上への選択配置の原理を示す説明図である。図２およ
び図３の説明では、カラーフィルタが形成された第２の
基板であるカラーフィルタ基板へのスペーサ散布を例に
あげるが、スペーサの散布は第１の基板または第２の基
板いずれにおこなってもよい。図２および図３において
１７はスペーサ、２０は上部透明ガラス基板、２１は遮
光部であるブラックマトリックス（ＢＭ）、２３は着色
層、２４は配向膜、２６はオーバーコート層をそれぞれ
示す。なお、スペーサの帯電極性は正負いずれのばあい
もありうるが、本説明では正帯電のばあいを用いる。
【００２０】図２において、スペーサには正の電荷が与
えられ、上部透明ガラス基板２０には、スペーサの散布
装置に備えられているステージを介して正の電荷が与え
られ、導電性金属膜で形成したＢＭ２１は、電位調整用
の端子を介して接地されている。
えられ、上部透明ガラス基板２０には、スペーサの散布
装置に備えられているステージを介して正の電荷が与え
られ、導電性金属膜で形成したＢＭ２１は、電位調整用
の端子を介して接地されている。
【００２１】よって、スペーサ１７は、配向膜を塗布し
てあるカラーフィルタ基板上に重力により落下してくる
が遮光部が正極性に帯電しているため、スペーサは、図
３に示すように遮光部であるＢＭ上に選択的かつ高密度
に配置され、スペーサ同士の凝集は発生せず、かつ表示
部分には落下しにくい。
てあるカラーフィルタ基板上に重力により落下してくる
が遮光部が正極性に帯電しているため、スペーサは、図
３に示すように遮光部であるＢＭ上に選択的かつ高密度
に配置され、スペーサ同士の凝集は発生せず、かつ表示
部分には落下しにくい。
【００２２】なお、スペーサを、遮光部であるＢＭ上に
効率的に配置するためには、スペーサ散布時に、カラー
フィルタのＢＭとその他の部分の電位に差が大きいほう
がのぞましい。そのためのカラーフィルタのＢＭとその
他の部分の抵抗値の差が５桁以上異なる構造とすること
が望ましい。その差がそれ以下となると、スペーサが表
示部分にも分散されることとなり発明の効果をうること
ができない。
効率的に配置するためには、スペーサ散布時に、カラー
フィルタのＢＭとその他の部分の電位に差が大きいほう
がのぞましい。そのためのカラーフィルタのＢＭとその
他の部分の抵抗値の差が５桁以上異なる構造とすること
が望ましい。その差がそれ以下となると、スペーサが表
示部分にも分散されることとなり発明の効果をうること
ができない。
【００２３】
【発明の実施の形態】以下、本発明にかかわる実施の形
態を添付図面を参照しつつ説明する。なお、図において
従来技術を示した図に用いた参照符号と同一符号は、従
来のものと同一あるいは相当のものを表わす。
態を添付図面を参照しつつ説明する。なお、図において
従来技術を示した図に用いた参照符号と同一符号は、従
来のものと同一あるいは相当のものを表わす。
【００２４】実施の形態１ 図４は本発明の実施の形態１の液晶表示装置に用いる第
２の基板であるカラーフィルタ基板の平面図であり、図
５はその部分拡大説明図である。図４および図５におい
て、２１は遮光部であるＢＭ、２３はそれぞれ、青
（Ｂ）、緑（Ｇ）または赤（Ｒ）の着色層、２６はポリ
アクリル系保護膜であるオーバーコート層、２７は電荷
とり出し端子部（電位調整用の端子）、５１は周辺ブラ
ックマトリックス、５２は非塗布部をそれぞれ示す。
２の基板であるカラーフィルタ基板の平面図であり、図
５はその部分拡大説明図である。図４および図５におい
て、２１は遮光部であるＢＭ、２３はそれぞれ、青
（Ｂ）、緑（Ｇ）または赤（Ｒ）の着色層、２６はポリ
アクリル系保護膜であるオーバーコート層、２７は電荷
とり出し端子部（電位調整用の端子）、５１は周辺ブラ
ックマトリックス、５２は非塗布部をそれぞれ示す。
【００２５】本発明においては、透明ガラス基板上に金
属膜であるＣｒをフォトリソグラフィで格子状にパター
ニングしてＢＭ２１を形成している。さらにＢＭ２１に
接続して電荷とり出し端子部２７を設ける。着色層およ
びＢＭを覆ってオーバーコート膜を形成し、さらにオー
バーコート膜上に配向膜（第２の配向膜）を形成する
が、電荷とり出し端子部上には、これらの膜を設けな
い。したがって、透明ガラス基板の４つの角部でオーバ
ーコート膜、および配向膜のない部分で電荷とり出し端
子部２７を介して、ＢＭ２１を接続させる。電荷とり出
し端子部２７から電圧を印加し遮光部の電位を調整し、
その他の部分と電位差を生じさせたのち、帯電させたス
ペーサを散布することによってスペーサをＢＭ２１上に
選択配置した。
属膜であるＣｒをフォトリソグラフィで格子状にパター
ニングしてＢＭ２１を形成している。さらにＢＭ２１に
接続して電荷とり出し端子部２７を設ける。着色層およ
びＢＭを覆ってオーバーコート膜を形成し、さらにオー
バーコート膜上に配向膜（第２の配向膜）を形成する
が、電荷とり出し端子部上には、これらの膜を設けな
い。したがって、透明ガラス基板の４つの角部でオーバ
ーコート膜、および配向膜のない部分で電荷とり出し端
子部２７を介して、ＢＭ２１を接続させる。電荷とり出
し端子部２７から電圧を印加し遮光部の電位を調整し、
その他の部分と電位差を生じさせたのち、帯電させたス
ペーサを散布することによってスペーサをＢＭ２１上に
選択配置した。
【００２６】前記カラーフィルタ基板の作製方法を説明
する。透明ガラス基板上にＣｒの金属膜（３００ｎｍ
厚）をスパッタ法で形成し、フォトリソグラフィで格子
状にパターニングしＢＭ２１を形成した。この開口部上
に顔料分散型レジストを用いて１．５μｍ厚の赤、青あ
るいは緑の着色層２３を設けた。着色層は、各色間にＢ
Ｍを配置して青、ＢＭ、緑、ＢＭ、赤、ＢＭ、青、Ｂ
Ｍ、緑、ＢＭ、赤のように順に配列されている。つぎ
に、その上にアクリル系樹脂の保護膜であるオーバーコ
ート層２６をスピンコートにて塗布し、カラーフィルタ
基板とした。さらにその上層にポリイミド薄膜を厚さ１
００ｎｍ形成して配向膜とした後、この配向膜の表面に
ラビングによる配向処理を施した。なお、ＢＭの材料と
してはＣｒの他遮光性を有するものであれば何でも用い
うることは言うまでもないことであるが、その際ＢＭの
比抵抗が、その他の部分より低いほうが望ましい。
する。透明ガラス基板上にＣｒの金属膜（３００ｎｍ
厚）をスパッタ法で形成し、フォトリソグラフィで格子
状にパターニングしＢＭ２１を形成した。この開口部上
に顔料分散型レジストを用いて１．５μｍ厚の赤、青あ
るいは緑の着色層２３を設けた。着色層は、各色間にＢ
Ｍを配置して青、ＢＭ、緑、ＢＭ、赤、ＢＭ、青、Ｂ
Ｍ、緑、ＢＭ、赤のように順に配列されている。つぎ
に、その上にアクリル系樹脂の保護膜であるオーバーコ
ート層２６をスピンコートにて塗布し、カラーフィルタ
基板とした。さらにその上層にポリイミド薄膜を厚さ１
００ｎｍ形成して配向膜とした後、この配向膜の表面に
ラビングによる配向処理を施した。なお、ＢＭの材料と
してはＣｒの他遮光性を有するものであれば何でも用い
うることは言うまでもないことであるが、その際ＢＭの
比抵抗が、その他の部分より低いほうが望ましい。
【００２７】このようにして作製した第２の基板にスペ
ーサの散布をおこなった。
ーサの散布をおこなった。
【００２８】図６はスペーサ散布方法およびその装置を
示す説明図である。図６において、３０は秤量部、３１
は絶縁体圧送ホース、３２も絶縁体圧送ホース、３３は
チャンバー、３４はガスタンク、３５は絶縁ノズル、３
６は絶縁体マニホールド、３７は電荷供給用ピン、３８
はイオン化装置、４１は電荷供給配線である。ノズル３
５の下端部より正の極性に帯電させたスペーサ１７を噴
出し、ＢＭは電荷供給用ピン３７を介して接地させ、か
つステージ３９より配向膜２４を塗布したカラーフィル
タ基板８０にスペーサと同一極性の正の電荷を与えた。
示す説明図である。図６において、３０は秤量部、３１
は絶縁体圧送ホース、３２も絶縁体圧送ホース、３３は
チャンバー、３４はガスタンク、３５は絶縁ノズル、３
６は絶縁体マニホールド、３７は電荷供給用ピン、３８
はイオン化装置、４１は電荷供給配線である。ノズル３
５の下端部より正の極性に帯電させたスペーサ１７を噴
出し、ＢＭは電荷供給用ピン３７を介して接地させ、か
つステージ３９より配向膜２４を塗布したカラーフィル
タ基板８０にスペーサと同一極性の正の電荷を与えた。
【００２９】圧出空気の圧力は２ｋｇ／ｃｍ2、装置内
の温度は５０℃、噴出時間は１５秒とし、ガラス基板は
一辺３０ｃｍの正方形のものを使用し、ステージには＋
１００Ｖの電位を与えた。
の温度は５０℃、噴出時間は１５秒とし、ガラス基板は
一辺３０ｃｍの正方形のものを使用し、ステージには＋
１００Ｖの電位を与えた。
【００３０】用いたガラス基板の抵抗値を測定したとこ
ろ、１０の１８乗Ω以上の抵抗値であった。また同様に
カラーフィルタ基板に形成したＢＭの抵抗値を測定した
結果、１０Ωであった。
ろ、１０の１８乗Ω以上の抵抗値であった。また同様に
カラーフィルタ基板に形成したＢＭの抵抗値を測定した
結果、１０Ωであった。
【００３１】つぎに、アレイ基板の作製方法を説明す
る。透明ガラス基板上にスパッタリング法でＣｒなどか
らなる金属膜を厚さ２５０ｎｍ成膜後、２つの互いに対
をなすクシ型電極を、電極幅８μｍ、電極間隔１２μｍ
で通常のパターニング法で形成した。さらに複数のゲー
トバスラインと複数のソースバスラインを形成する。複
数のゲートバスラインは互いに平行かつ、一定間隔を保
ち、複数のソースバスラインも互いに平行かつ一定間隔
を保ち、ソースバスラインはゲートバスラインに直角に
交差するように配設されている。ゲートバスラインとソ
ースバスラインとの交差点のそれぞれの近傍にスイッチ
ング素子としてＴＦＴをマトリクス状に形成してアレイ
基板を作製した。このアレイ基板上のクシ型電極やスイ
ッチング素子などを覆って、ポリイミド薄膜を厚さ１０
０ｎｍ形成して配向膜（第２の配向膜）としたのち、こ
の配向膜の表面にラビングによる配向処理を施した。面
内応答型液晶表示装置においては、カラーフィルタ基板
（第２の基板）には表示用電極は設けられていない。作
製した液晶表示装置は同一基板上に一対の電極を一定距
離を隔てて配設し、当該電極間に印加された基板面にほ
ぼ平行な電界により一定方向に配向させた液晶分子を基
板面にほぼ平行に応答させる面内応答型液晶表示装置で
ある。前述のスペーサ散布をおこなった第２の基板であ
るカラーフィルタ基板を第１の基板であるアレイ基板と
重ね合せ、カラーフィルタ基板とアレイ基板とのあいだ
に液晶組成物を挟持させて液晶表示装置を作製した。こ
のとき、第１の配向膜は第１の基板の第２の基板側に位
置し、第２の配向膜は第２の基板の第１の基板側に位置
している。
る。透明ガラス基板上にスパッタリング法でＣｒなどか
らなる金属膜を厚さ２５０ｎｍ成膜後、２つの互いに対
をなすクシ型電極を、電極幅８μｍ、電極間隔１２μｍ
で通常のパターニング法で形成した。さらに複数のゲー
トバスラインと複数のソースバスラインを形成する。複
数のゲートバスラインは互いに平行かつ、一定間隔を保
ち、複数のソースバスラインも互いに平行かつ一定間隔
を保ち、ソースバスラインはゲートバスラインに直角に
交差するように配設されている。ゲートバスラインとソ
ースバスラインとの交差点のそれぞれの近傍にスイッチ
ング素子としてＴＦＴをマトリクス状に形成してアレイ
基板を作製した。このアレイ基板上のクシ型電極やスイ
ッチング素子などを覆って、ポリイミド薄膜を厚さ１０
０ｎｍ形成して配向膜（第２の配向膜）としたのち、こ
の配向膜の表面にラビングによる配向処理を施した。面
内応答型液晶表示装置においては、カラーフィルタ基板
（第２の基板）には表示用電極は設けられていない。作
製した液晶表示装置は同一基板上に一対の電極を一定距
離を隔てて配設し、当該電極間に印加された基板面にほ
ぼ平行な電界により一定方向に配向させた液晶分子を基
板面にほぼ平行に応答させる面内応答型液晶表示装置で
ある。前述のスペーサ散布をおこなった第２の基板であ
るカラーフィルタ基板を第１の基板であるアレイ基板と
重ね合せ、カラーフィルタ基板とアレイ基板とのあいだ
に液晶組成物を挟持させて液晶表示装置を作製した。こ
のとき、第１の配向膜は第１の基板の第２の基板側に位
置し、第２の配向膜は第２の基板の第１の基板側に位置
している。
【００３２】図１は本発明の実施の形態１の液晶表示装
置の１画素部分の部分断面説明図である。
置の１画素部分の部分断面説明図である。
【００３３】１０は下部透明ガラス基板、１１はソース
バスライン、１６および２４はポリイミド薄膜である配
向膜、１７はスペーサ、２０は上部透明ガラス基板、２
１はＣｒの金属膜をフォトリソグラフィで格子状にパタ
ーニングしたＢＭ、２３は着色層であり、それぞれ赤
（Ｒ）、緑（Ｇ）または青（Ｂ）の３原色の着色層、２
５は液晶組成物である液晶分子、２６はアクリル系樹脂
の保護膜であるオーバーコート層、４０ａは第１のクシ
型電極、４０ｂは第２のクシ型電極、７０はアレイ基
板、８０はカラーフィルタ基板、９０は偏光板である。
バスライン、１６および２４はポリイミド薄膜である配
向膜、１７はスペーサ、２０は上部透明ガラス基板、２
１はＣｒの金属膜をフォトリソグラフィで格子状にパタ
ーニングしたＢＭ、２３は着色層であり、それぞれ赤
（Ｒ）、緑（Ｇ）または青（Ｂ）の３原色の着色層、２
５は液晶組成物である液晶分子、２６はアクリル系樹脂
の保護膜であるオーバーコート層、４０ａは第１のクシ
型電極、４０ｂは第２のクシ型電極、７０はアレイ基
板、８０はカラーフィルタ基板、９０は偏光板である。
【００３４】本実施の形態では、パネル間隔を保持する
ために主に用いるスペーサは、ＢＭ２１上に選択配置し
た。
ために主に用いるスペーサは、ＢＭ２１上に選択配置し
た。
【００３５】したがって、本液晶表示装置においては、
第１の基板であるアレイ基板と第２の基板であるカラー
フィルタ基板の基板間隔（パネルギャップ）を適正かつ
均一に保持するために、スペーサの散布密度を高くして
も表示部分にはスペーサはほとんど存在しない。したが
って、スペーサに起因する光漏れが少なく、表示品位の
高い液晶表示装置がえられた。なお、本実施の形態では
通常のスペーサ散布量で従来と同等以上の表示品位がえ
られたが、さらに、多量のスペーサ散布をおこなっても
表示部分にはスペーサはほとんど配置されなかった。以
上のようにしてスペーサ周辺での光漏れによるコントラ
スト低下を原因とする表示品位の低下は発生しなかっ
た。
第１の基板であるアレイ基板と第２の基板であるカラー
フィルタ基板の基板間隔（パネルギャップ）を適正かつ
均一に保持するために、スペーサの散布密度を高くして
も表示部分にはスペーサはほとんど存在しない。したが
って、スペーサに起因する光漏れが少なく、表示品位の
高い液晶表示装置がえられた。なお、本実施の形態では
通常のスペーサ散布量で従来と同等以上の表示品位がえ
られたが、さらに、多量のスペーサ散布をおこなっても
表示部分にはスペーサはほとんど配置されなかった。以
上のようにしてスペーサ周辺での光漏れによるコントラ
スト低下を原因とする表示品位の低下は発生しなかっ
た。
【００３６】比較例１ つぎに、本発明の液晶表示装置に対する比較例１につい
て説明する。
て説明する。
【００３７】本比較例においては、前述の実施の形態１
における液晶表示装置と同様に作製したカラーフィルタ
基板、アレイ基板をもちいた。ただし、本比較例におい
ては帯電散布方式によるスペーサ散布において、本発明
の実施の形態１のようにＢＭを帯電させることなく、ス
ペーサのみに正の電荷を与え、ステージは接地とした。
その他の構成は実施の形態１と同様である。
における液晶表示装置と同様に作製したカラーフィルタ
基板、アレイ基板をもちいた。ただし、本比較例におい
ては帯電散布方式によるスペーサ散布において、本発明
の実施の形態１のようにＢＭを帯電させることなく、ス
ペーサのみに正の電荷を与え、ステージは接地とした。
その他の構成は実施の形態１と同様である。
【００３８】図１１は本発明の比較例１の液晶表示装置
の断面説明図である。図１１において１０は下部透明ガ
ラス基板、１１はソースバスライン、１６および２４は
ポリイミド薄膜である配向膜、１７はスペーサ、２０は
上部透明ガラス基板、２１は金属膜であるＣｒをフォト
リソグラフィで格子状にパターニングしたＢＭ、２３は
着色層であり、それぞれ赤（Ｒ）、緑（Ｇ）または青
（Ｂ）の３原色の着色層、２５は液晶分子、２６はアク
リル系樹脂の保護膜であるオーバーコート層、７０は第
１の基板であるアレイ基板、８０は第２の基板であるカ
ラーフィルタ基板、９０は偏光板である。
の断面説明図である。図１１において１０は下部透明ガ
ラス基板、１１はソースバスライン、１６および２４は
ポリイミド薄膜である配向膜、１７はスペーサ、２０は
上部透明ガラス基板、２１は金属膜であるＣｒをフォト
リソグラフィで格子状にパターニングしたＢＭ、２３は
着色層であり、それぞれ赤（Ｒ）、緑（Ｇ）または青
（Ｂ）の３原色の着色層、２５は液晶分子、２６はアク
リル系樹脂の保護膜であるオーバーコート層、７０は第
１の基板であるアレイ基板、８０は第２の基板であるカ
ラーフィルタ基板、９０は偏光板である。
【００３９】本比較例の液晶表示装置の観察をおこなっ
たところ、カラーフィルタ基板上のスペーサの半数以上
が表示部分に位置し、結果としてスペーサに起因する光
漏れを原因とする表示品位の低下が発生し、良好な表示
をうることができなかった。
たところ、カラーフィルタ基板上のスペーサの半数以上
が表示部分に位置し、結果としてスペーサに起因する光
漏れを原因とする表示品位の低下が発生し、良好な表示
をうることができなかった。
【００４０】実施の形態２ 図７は本発明の実施の形態２の液晶表示装置に用いる第
１の基板であるアレイ基板を示す平面説明図である。
１の基板であるアレイ基板を示す平面説明図である。
【００４１】図７において、１１はソースバスライン、
１２はゲートバスライン、２８は電荷とり出し部、２９
はショートリングを示す。
１２はゲートバスライン、２８は電荷とり出し部、２９
はショートリングを示す。
【００４２】本実施の形態においては、アレイ基板７０
上にマトリクス状に配置された複数のゲートバスライン
１２と複数のソースバスライン１１が遮光部である。製
造工程での静電気による各信号線間での静電放電などに
よる信号線やＴＦＴなどの破壊を防止するためにソース
バスラインとゲートバスラインが同電位となるようにシ
ョートリングが設けられている。このショートリングを
介して、ソースバスラインとゲートバスラインとのそれ
ぞれまたは両方に接続するように電荷とり出し部２８を
設ける。この電荷とり出し部からゲートバスラインとソ
ースバスラインとに電圧を印加して、遮光部であるゲー
トバスラインとソースバスライン上の電位を調整し、そ
の他の部分とに電位を生じさせ帯電させたスペーサを散
布することによってスペーサ１７を遮光部上に選択配置
した。
上にマトリクス状に配置された複数のゲートバスライン
１２と複数のソースバスライン１１が遮光部である。製
造工程での静電気による各信号線間での静電放電などに
よる信号線やＴＦＴなどの破壊を防止するためにソース
バスラインとゲートバスラインが同電位となるようにシ
ョートリングが設けられている。このショートリングを
介して、ソースバスラインとゲートバスラインとのそれ
ぞれまたは両方に接続するように電荷とり出し部２８を
設ける。この電荷とり出し部からゲートバスラインとソ
ースバスラインとに電圧を印加して、遮光部であるゲー
トバスラインとソースバスライン上の電位を調整し、そ
の他の部分とに電位を生じさせ帯電させたスペーサを散
布することによってスペーサ１７を遮光部上に選択配置
した。
【００４３】前記アレイ基板の作製方法を説明する。
【００４４】透明ガラス基板上にスパッタリング法でＣ
ｒ、Ｔａ、Ｔｉなどの金属膜を成膜後、２つの互いに対
をなすクシ型電極４０、ソースバスライン１１、ゲート
バスライン１２、ショートリング２９などの接続配線を
通常のパターニング法で形成した。さらに、スイッチン
グ素子としてＴＦＴ（図示なし）をマトリクス状に形成
し、アレイ基板とした。さらにポリイミド薄膜を厚さ１
００ｎｍ形成し、配向膜１６とし、その表面にラビング
による配向処理を施した。なお、ソースバスライン、ゲ
ートバスライン、ショートリングなどの接続配線の材料
として、Ｃｒ、Ｔａ、Ｔｉなどの他導電性を有するもの
は何でも用いうることは言うまでもないことであるが、
その際接続配線の比抵抗が、その他の部分より低いほう
が望ましい。
ｒ、Ｔａ、Ｔｉなどの金属膜を成膜後、２つの互いに対
をなすクシ型電極４０、ソースバスライン１１、ゲート
バスライン１２、ショートリング２９などの接続配線を
通常のパターニング法で形成した。さらに、スイッチン
グ素子としてＴＦＴ（図示なし）をマトリクス状に形成
し、アレイ基板とした。さらにポリイミド薄膜を厚さ１
００ｎｍ形成し、配向膜１６とし、その表面にラビング
による配向処理を施した。なお、ソースバスライン、ゲ
ートバスライン、ショートリングなどの接続配線の材料
として、Ｃｒ、Ｔａ、Ｔｉなどの他導電性を有するもの
は何でも用いうることは言うまでもないことであるが、
その際接続配線の比抵抗が、その他の部分より低いほう
が望ましい。
【００４５】このようにして作製した第１の基板にスペ
ーサの散布をおこなった。
ーサの散布をおこなった。
【００４６】図８はスペーサ散布方法およびその装置を
示す説明図である。図８において３０は秤量部、３１は
絶縁体圧送ホース、３２は絶縁体圧送ホース、３３はチ
ャンバー、３４はガスタンク、３５は絶縁ノズル、３６
も絶縁体マニホールド、３７は電荷供給用ピン、３８は
イオン化装置、４１は電荷供給配線である。ノズル３５
の下端部より正の極性に帯電させたスペーサ１７を噴出
し、電荷供給用ピン３７よりショートリング（図示な
し）を介して遮光部を接続し、かつステージ３９より配
向膜１６を塗布したアレイ基板７０にはスペーサと同一
極性の正の電荷を与えた。
示す説明図である。図８において３０は秤量部、３１は
絶縁体圧送ホース、３２は絶縁体圧送ホース、３３はチ
ャンバー、３４はガスタンク、３５は絶縁ノズル、３６
も絶縁体マニホールド、３７は電荷供給用ピン、３８は
イオン化装置、４１は電荷供給配線である。ノズル３５
の下端部より正の極性に帯電させたスペーサ１７を噴出
し、電荷供給用ピン３７よりショートリング（図示な
し）を介して遮光部を接続し、かつステージ３９より配
向膜１６を塗布したアレイ基板７０にはスペーサと同一
極性の正の電荷を与えた。
【００４７】なお、本実施の形態においては、前述の実
施の形態１の液晶表示装置と同条件の帯電散布方式によ
るスペーサ散布をおこなった。ただし、本実施の形態に
おいてはスペーサをアレイ基板の遮光部に選択配置でき
るように散布した。用いたガラス基板の抵抗値を測定し
たところ、１０の１８乗Ω以上の抵抗値であった。また
同様にアレイ基板の遮光部であるショートリングからソ
ースバスライン、ゲートバスラインと続く配線の抵抗値
を測定した結果、３ＭΩであった。
施の形態１の液晶表示装置と同条件の帯電散布方式によ
るスペーサ散布をおこなった。ただし、本実施の形態に
おいてはスペーサをアレイ基板の遮光部に選択配置でき
るように散布した。用いたガラス基板の抵抗値を測定し
たところ、１０の１８乗Ω以上の抵抗値であった。また
同様にアレイ基板の遮光部であるショートリングからソ
ースバスライン、ゲートバスラインと続く配線の抵抗値
を測定した結果、３ＭΩであった。
【００４８】図９は、本発明の実施の形態２の液晶表示
装置の断面説明図である。図９において、１０は下部透
明ガラス基板、１１はソースバスライン、１６および２
４はポリイミド薄膜である配向膜、１７はスペーサ、２
０は上部透明ガラス基板、２１は金属膜であるＣｒをフ
ォトリソグラフィで格子状にパターニングしたＢＭ、２
３は着色層であり、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）または青（Ｂ）
の３原色の着色層、２５は液晶分子、２６はアクリル系
樹脂の保護膜であるオーバコート層、７０はアレイ基
板、８０はカラーフィルタ基板、９０は偏光板である。
作製した液晶表示装置は同一基板上に一対の電極を一定
距離を隔てて配設し、当該電極間に印加される基板面に
ほぼ平行な電界により一定方向に配向させた液晶分子を
基板面にほぼ平行に応答させる面内応答型液晶表示装置
である。
装置の断面説明図である。図９において、１０は下部透
明ガラス基板、１１はソースバスライン、１６および２
４はポリイミド薄膜である配向膜、１７はスペーサ、２
０は上部透明ガラス基板、２１は金属膜であるＣｒをフ
ォトリソグラフィで格子状にパターニングしたＢＭ、２
３は着色層であり、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）または青（Ｂ）
の３原色の着色層、２５は液晶分子、２６はアクリル系
樹脂の保護膜であるオーバコート層、７０はアレイ基
板、８０はカラーフィルタ基板、９０は偏光板である。
作製した液晶表示装置は同一基板上に一対の電極を一定
距離を隔てて配設し、当該電極間に印加される基板面に
ほぼ平行な電界により一定方向に配向させた液晶分子を
基板面にほぼ平行に応答させる面内応答型液晶表示装置
である。
【００４９】本実施の形態においては、パネル間隔を保
持するために用いるスペーサは、アレイ基板７０におけ
る遮光部であるマトリクス状に配置された複数のゲート
バスライン１２と複数のソースバスライン１１上に選択
配置した。
持するために用いるスペーサは、アレイ基板７０におけ
る遮光部であるマトリクス状に配置された複数のゲート
バスライン１２と複数のソースバスライン１１上に選択
配置した。
【００５０】したがって、本液晶表示装置においては、
第１の基板であるアレイ基板と第２の基板であるカラー
フィルタ基板の基板間隔（パネルギャップ）を適正かつ
均一に保持するために、スペーサの散布密度を高くして
も表示部分にはスペーサはほとんど存在しない。したが
って、スペーサに起因する光漏れが少なく、表示品位の
高い液晶表示装置がえられた。なお、今回は通常のスペ
ーサ散布量で従来と同等以上の表示品位がえられたが、
多量のスペーサ散布をおこなっても表示部分にはスペー
サはほとんど配置されない。以上のようにしてスペーサ
周辺での光漏れによるコントラスト低下を原因とする表
示品位の低下は発生しなかった。
第１の基板であるアレイ基板と第２の基板であるカラー
フィルタ基板の基板間隔（パネルギャップ）を適正かつ
均一に保持するために、スペーサの散布密度を高くして
も表示部分にはスペーサはほとんど存在しない。したが
って、スペーサに起因する光漏れが少なく、表示品位の
高い液晶表示装置がえられた。なお、今回は通常のスペ
ーサ散布量で従来と同等以上の表示品位がえられたが、
多量のスペーサ散布をおこなっても表示部分にはスペー
サはほとんど配置されない。以上のようにしてスペーサ
周辺での光漏れによるコントラスト低下を原因とする表
示品位の低下は発生しなかった。
【００５１】比較例２ つぎに、本発明の液晶表示装置に対する比較例２につい
て説明する。
て説明する。
【００５２】本比較例においては、前述の実施の形態２
における液晶表示装置と同様に作製したカラーフィルタ
基板、アレイ基板をもちいた。ただし、本比較例におい
ては帯電散布方式によるスペーサ散布において、本発明
の実施の形態２のように遮光部を帯電させることなくス
ペーサのみに正の電荷を与え、ステージを接地とした。
における液晶表示装置と同様に作製したカラーフィルタ
基板、アレイ基板をもちいた。ただし、本比較例におい
ては帯電散布方式によるスペーサ散布において、本発明
の実施の形態２のように遮光部を帯電させることなくス
ペーサのみに正の電荷を与え、ステージを接地とした。
【００５３】本比較例の液晶表示装置を観察したとこ
ろ、アレイ基板上のスペーサの半数以上が表示部分に位
置し、結果としてスペーサに起因する光漏れを原因とす
る表示品位の低下が発生し、良好な表示をうることがで
きなかった。
ろ、アレイ基板上のスペーサの半数以上が表示部分に位
置し、結果としてスペーサに起因する光漏れを原因とす
る表示品位の低下が発生し、良好な表示をうることがで
きなかった。
【００５４】比較例３ つぎに、本発明の液晶表示装置に対する比較例３につい
て説明する。
て説明する。
【００５５】本比較例においては、前述の実施の形態１
における液晶表示装置と同様に作製した帯電散布方式に
よるスペーサ散布をおこなった。ただし、本比較例にお
いてはスペーサを散布するカラーフィルタ基板におい
て、ＢＭとしてＣｒなどの金属膜ではなく、黒色有機顔
料の絶縁膜を用いた。カラーフィルタ基板のＢＭの抵抗
値を測定した結果、１０の１１乗Ωであった。
における液晶表示装置と同様に作製した帯電散布方式に
よるスペーサ散布をおこなった。ただし、本比較例にお
いてはスペーサを散布するカラーフィルタ基板におい
て、ＢＭとしてＣｒなどの金属膜ではなく、黒色有機顔
料の絶縁膜を用いた。カラーフィルタ基板のＢＭの抵抗
値を測定した結果、１０の１１乗Ωであった。
【００５６】本比較例の液晶表示装置を観察したとこ
ろ、カラーフィルタ基板上のスペーサの半数以上が表示
部分に位置し、結果としてスペーサに起因する光漏れを
原因とする表示品位の低下が発生し、良好な表示をうる
ことができなかった。
ろ、カラーフィルタ基板上のスペーサの半数以上が表示
部分に位置し、結果としてスペーサに起因する光漏れを
原因とする表示品位の低下が発生し、良好な表示をうる
ことができなかった。
【００５７】
【発明の効果】本発明の請求項１にかかわるアクティブ
マトリクス型液晶表示装置の製造方法は、第１の基板、
第１の基板に対向する第２の基板、第１の基板の第２の
基板側に設けられる第１の配向膜、第２の基板の第１の
基板側に設けられる第２の配向膜、第１および第２の基
板間に挟持される液晶組成物、第１および第２の基板間
に散布される複数のスペーサ、第１の基板上にマトリク
ス状に配置された複数のゲートバスラインと複数のソー
スバスライン、複数のゲートバスラインと複数のソース
バスラインとによって囲まれてなる複数の画素部のそれ
ぞれに設けられるスイッチング素子ならびに第２の基板
上に設けられるブラックマトリックスからなり、第２の
基板には表示用電極がなく、ブラックマトリックスが遮
光部であるアクティブマトリクス型液晶表示装置の製造
方法であって、（ａ）スペーサを帯電させ、（ｂ）前記
遮光部に接続して電位調整用の端子を設け、該端子から
遮光部に電位を印加し、遮光部をスペーサと逆極性に帯
電させることによって遮光部上にスペーサを選択配置す
る工程を含むことにより、遮光部上にスペーサを選択配
置することにより、第１の基板および対向する第２の基
板間隔を適正かつ均一に保持するために、スペーサの散
布密度を高くしても表示部分にはスペーサはほとんど配
置されないため、スペーサ周辺での光漏れによるコント
ラスト低下が少なく、表示品位の高い液晶表示装置がえ
られるという効果を奏する。
マトリクス型液晶表示装置の製造方法は、第１の基板、
第１の基板に対向する第２の基板、第１の基板の第２の
基板側に設けられる第１の配向膜、第２の基板の第１の
基板側に設けられる第２の配向膜、第１および第２の基
板間に挟持される液晶組成物、第１および第２の基板間
に散布される複数のスペーサ、第１の基板上にマトリク
ス状に配置された複数のゲートバスラインと複数のソー
スバスライン、複数のゲートバスラインと複数のソース
バスラインとによって囲まれてなる複数の画素部のそれ
ぞれに設けられるスイッチング素子ならびに第２の基板
上に設けられるブラックマトリックスからなり、第２の
基板には表示用電極がなく、ブラックマトリックスが遮
光部であるアクティブマトリクス型液晶表示装置の製造
方法であって、（ａ）スペーサを帯電させ、（ｂ）前記
遮光部に接続して電位調整用の端子を設け、該端子から
遮光部に電位を印加し、遮光部をスペーサと逆極性に帯
電させることによって遮光部上にスペーサを選択配置す
る工程を含むことにより、遮光部上にスペーサを選択配
置することにより、第１の基板および対向する第２の基
板間隔を適正かつ均一に保持するために、スペーサの散
布密度を高くしても表示部分にはスペーサはほとんど配
置されないため、スペーサ周辺での光漏れによるコント
ラスト低下が少なく、表示品位の高い液晶表示装置がえ
られるという効果を奏する。
【００５８】本発明の請求項２にかかわるアクティブマ
トリクス型液晶表示装置の製造方法は、前記第２の基板
の遮光部以外の部分は前記スペーサと同極性に帯電させ
ることにより、多量のスペーサ散布をおこなっても表示
部分にスペーサが配置されることなく、スペーサ周辺で
の光漏れによるコントラスト低下が少なく、表示品位の
高い液晶表示装置がえられるという効果を奏する。
トリクス型液晶表示装置の製造方法は、前記第２の基板
の遮光部以外の部分は前記スペーサと同極性に帯電させ
ることにより、多量のスペーサ散布をおこなっても表示
部分にスペーサが配置されることなく、スペーサ周辺で
の光漏れによるコントラスト低下が少なく、表示品位の
高い液晶表示装置がえられるという効果を奏する。
【００５９】本発明の請求項３にかかわるアクティブマ
トリクス型液晶表示装置の製造方法は、前記遮光部の抵
抗値がその他の部分に比べ、５桁以上異なることによ
り、多量のスペーサ散布をおこなっても表示部分にスペ
ーサが配置されることなく、スペーサ周辺での光漏れに
よるコントラスト低下が少なく、表示品位の高い液晶表
示装置がえられるという効果を奏する。
トリクス型液晶表示装置の製造方法は、前記遮光部の抵
抗値がその他の部分に比べ、５桁以上異なることによ
り、多量のスペーサ散布をおこなっても表示部分にスペ
ーサが配置されることなく、スペーサ周辺での光漏れに
よるコントラスト低下が少なく、表示品位の高い液晶表
示装置がえられるという効果を奏する。
【００６０】本発明の請求項４にかかわるアクティブマ
トリクス型液晶表示装置の製造方法は、第１の基板、第
１の基板に対向する第２の基板、第１の基板の第２の基
板側に設けられる第１の配向膜、第２の基板の第１の基
板側に設けられる第２の配向膜、第１および第２の基板
間に挟持される液晶組成物、第１および第２の基板間に
散布される複数のスペーサ、第１の基板上にマトリクス
状に配置された複数のゲートバスラインと複数のソース
バスライン、複数のゲートバスラインと複数のソースバ
スラインとによって囲まれてなる複数の画素部のそれぞ
れに設けられるスイッチング素子ならびに第２の基板上
に設けられるブラックマトリックスからなり、第２の基
板には表示用電極がなく、複数のゲートバスラインと複
数のソースバスラインが遮光部であるアクティブマトリ
クス型液晶表示装置の製造方法であって、（ａ）前記ス
ペーサを帯電させ、（ｂ）前記複数のゲートバスライン
と複数のソースバスラインに接続して電位調整用の端子
を設け、該端子から電位を遮光部に印加し、遮光部をス
ペーサと逆極性に帯電させることによって遮光部上にス
ペーサを選択配置する工程を含むことにより、遮光部上
にスペーサを選択配置することにより、第１の基板およ
び対向する第２の基板間隔を適正かつ均一に保持するた
めに、スペーサの散布密度を高くしても表示部分にはス
ペーサはほとんど配置されないため、スペーサ周辺での
光漏れによるコントラスト低下が少なく、表示品位の高
い液晶表示装置がえられるという効果を奏する。
トリクス型液晶表示装置の製造方法は、第１の基板、第
１の基板に対向する第２の基板、第１の基板の第２の基
板側に設けられる第１の配向膜、第２の基板の第１の基
板側に設けられる第２の配向膜、第１および第２の基板
間に挟持される液晶組成物、第１および第２の基板間に
散布される複数のスペーサ、第１の基板上にマトリクス
状に配置された複数のゲートバスラインと複数のソース
バスライン、複数のゲートバスラインと複数のソースバ
スラインとによって囲まれてなる複数の画素部のそれぞ
れに設けられるスイッチング素子ならびに第２の基板上
に設けられるブラックマトリックスからなり、第２の基
板には表示用電極がなく、複数のゲートバスラインと複
数のソースバスラインが遮光部であるアクティブマトリ
クス型液晶表示装置の製造方法であって、（ａ）前記ス
ペーサを帯電させ、（ｂ）前記複数のゲートバスライン
と複数のソースバスラインに接続して電位調整用の端子
を設け、該端子から電位を遮光部に印加し、遮光部をス
ペーサと逆極性に帯電させることによって遮光部上にス
ペーサを選択配置する工程を含むことにより、遮光部上
にスペーサを選択配置することにより、第１の基板およ
び対向する第２の基板間隔を適正かつ均一に保持するた
めに、スペーサの散布密度を高くしても表示部分にはス
ペーサはほとんど配置されないため、スペーサ周辺での
光漏れによるコントラスト低下が少なく、表示品位の高
い液晶表示装置がえられるという効果を奏する。
【００６１】本発明の請求項５にかかわるアクティブマ
トリクス型液晶表示装置の製造方法は、前記遮光部以外
の第１の基板上の部分は前記スペーサと同極性に帯電さ
せることにより、多量のスペーサ散布をおこなっても表
示部分にスペーサが配置されることなく、スペーサ周辺
での光漏れによるコントラスト低下が少なく、表示品位
の高い液晶表示装置がえられるという効果を奏する。
トリクス型液晶表示装置の製造方法は、前記遮光部以外
の第１の基板上の部分は前記スペーサと同極性に帯電さ
せることにより、多量のスペーサ散布をおこなっても表
示部分にスペーサが配置されることなく、スペーサ周辺
での光漏れによるコントラスト低下が少なく、表示品位
の高い液晶表示装置がえられるという効果を奏する。
【００６２】本発明の請求項６にかかわるアクティブマ
トリクス型液晶表示装置の製造方法は、前記遮光部の抵
抗値がその他の部分に比べ、５桁以上異なることによ
り、多量のスペーサ散布をおこなっても表示部分にスペ
ーサが配置されることなく、スペーサ周辺での光漏れに
よるコントラスト低下が少なく、表示品位の高い液晶表
示装置がえられるという効果を奏する。
トリクス型液晶表示装置の製造方法は、前記遮光部の抵
抗値がその他の部分に比べ、５桁以上異なることによ
り、多量のスペーサ散布をおこなっても表示部分にスペ
ーサが配置されることなく、スペーサ周辺での光漏れに
よるコントラスト低下が少なく、表示品位の高い液晶表
示装置がえられるという効果を奏する。
【００６３】本発明の請求項７にかかわるアクティブマ
トリクス型液晶表示装置は、第１の基板、第１の基板に
対向する第２の基板、第１の基板の第２の基板側に設け
られる第１の配向膜、第２の基板の第１の基板側に設け
られる第２の配向膜、第１および第２の基板間に挟持さ
れる液晶組成物、第１および第２の基板間に散布される
複数のスペーサ、第１の基板上にマトリクス状に配置さ
れた複数のゲートバスラインと複数のソースバスライ
ン、複数のゲートバスラインと複数のソースバスライン
とによって囲まれてなる複数の画素部のそれぞれに設け
られるスイッチング素子ならびに第２の基板上に設けら
れるブラックマトリックスからなり、第２の基板に表示
用電極がなく、ブラックマトリックスが遮光部であり、
該遮光部上にスペーサが選択配置されているので、遮光
部上にスペーサを選択配置することにより、第１の基板
および対向する第２の基板間隔を適正かつ均一に保持す
るために、スペーサの散布密度を高くしても表示部分に
はスペーサはほとんど配置されないため、スペーサ周辺
での光漏れによるコントラスト低下が少なく、表示品位
の高い液晶表示装置がえられるという効果を奏する。
トリクス型液晶表示装置は、第１の基板、第１の基板に
対向する第２の基板、第１の基板の第２の基板側に設け
られる第１の配向膜、第２の基板の第１の基板側に設け
られる第２の配向膜、第１および第２の基板間に挟持さ
れる液晶組成物、第１および第２の基板間に散布される
複数のスペーサ、第１の基板上にマトリクス状に配置さ
れた複数のゲートバスラインと複数のソースバスライ
ン、複数のゲートバスラインと複数のソースバスライン
とによって囲まれてなる複数の画素部のそれぞれに設け
られるスイッチング素子ならびに第２の基板上に設けら
れるブラックマトリックスからなり、第２の基板に表示
用電極がなく、ブラックマトリックスが遮光部であり、
該遮光部上にスペーサが選択配置されているので、遮光
部上にスペーサを選択配置することにより、第１の基板
および対向する第２の基板間隔を適正かつ均一に保持す
るために、スペーサの散布密度を高くしても表示部分に
はスペーサはほとんど配置されないため、スペーサ周辺
での光漏れによるコントラスト低下が少なく、表示品位
の高い液晶表示装置がえられるという効果を奏する。
【００６４】本発明の請求項８にかかわるアクティブマ
トリクス型液晶表示装置は、前記第２の基板上の遮光部
の抵抗値がその他の部分に比べ、５桁以上異なるので、
多量のスペーサ散布をおこなっても表示部分にスペーサ
が配置されることなく、スペーサ周辺での光漏れによる
コントラスト低下が少なく、表示品位の高い液晶表示装
置がえられるという効果を奏する。
トリクス型液晶表示装置は、前記第２の基板上の遮光部
の抵抗値がその他の部分に比べ、５桁以上異なるので、
多量のスペーサ散布をおこなっても表示部分にスペーサ
が配置されることなく、スペーサ周辺での光漏れによる
コントラスト低下が少なく、表示品位の高い液晶表示装
置がえられるという効果を奏する。
【００６５】本発明の請求項９にかかわるアクティブマ
トリクス型液晶表示装置は、第１の基板、第１の基板に
対向する第２の基板、第１の基板の第２の基板側に設け
られる第１の配向膜、第２の基板の第１の基板側に設け
られる第２の配向膜、第１および第２の基板間に挟持さ
れる液晶組成物、第１および第２の基板間に散布される
複数のスペーサ、第１の基板上にマトリクス状に配置さ
れた複数のゲートバスラインと複数のソースバスライ
ン、複数のゲートバスラインと複数のソースバスライン
とによって囲まれてなる複数の画素部のそれぞれに設け
られるスイッチング素子ならびに第２の基板上に設けら
れるブラックマトリックスからなり、第２の基板に表示
用電極がなく、前記複数のゲートバスラインと複数のソ
ースバスラインが遮光部であり、該遮光部上にスペーサ
が選択配置されているので、遮光部上にスペーサを選択
配置することにより、第１の基板および対向する第２の
基板間隔を適正かつ均一に保持するために、スペーサの
散布密度を高くしても表示部分にはスペーサはほとんど
配置されないため、スペーサ周辺での光漏れによるコン
トラスト低下が少なく、表示品位の高い液晶表示装置が
えられるという効果を奏する。
トリクス型液晶表示装置は、第１の基板、第１の基板に
対向する第２の基板、第１の基板の第２の基板側に設け
られる第１の配向膜、第２の基板の第１の基板側に設け
られる第２の配向膜、第１および第２の基板間に挟持さ
れる液晶組成物、第１および第２の基板間に散布される
複数のスペーサ、第１の基板上にマトリクス状に配置さ
れた複数のゲートバスラインと複数のソースバスライ
ン、複数のゲートバスラインと複数のソースバスライン
とによって囲まれてなる複数の画素部のそれぞれに設け
られるスイッチング素子ならびに第２の基板上に設けら
れるブラックマトリックスからなり、第２の基板に表示
用電極がなく、前記複数のゲートバスラインと複数のソ
ースバスラインが遮光部であり、該遮光部上にスペーサ
が選択配置されているので、遮光部上にスペーサを選択
配置することにより、第１の基板および対向する第２の
基板間隔を適正かつ均一に保持するために、スペーサの
散布密度を高くしても表示部分にはスペーサはほとんど
配置されないため、スペーサ周辺での光漏れによるコン
トラスト低下が少なく、表示品位の高い液晶表示装置が
えられるという効果を奏する。
【００６６】本発明の請求項１０にかかわるアクティブ
マトリクス型液晶表示装置は、前記遮光部の抵抗値がそ
の他の部分に比べ、５桁以上異なるもので、多量のスペ
ーサ散布をおこなっても表示部分にスペーサが配置され
ることなく、スペーサ周辺での光漏れによるコントラス
ト低下が少なく、表示品位の高い液晶表示装置がえられ
るという効果を奏する。
マトリクス型液晶表示装置は、前記遮光部の抵抗値がそ
の他の部分に比べ、５桁以上異なるもので、多量のスペ
ーサ散布をおこなっても表示部分にスペーサが配置され
ることなく、スペーサ周辺での光漏れによるコントラス
ト低下が少なく、表示品位の高い液晶表示装置がえられ
るという効果を奏する。
【図１】 本発明にかかわる液晶表示装置の部分断面説
明図である。
明図である。
【図２】 本発明にかかわるスペーサの遮光部上の選択
配置の原理を示す説明図である。
配置の原理を示す説明図である。
【図３】 本発明にかかわるスペーサの遮光部上の選択
配置の原理を示す説明図である。
配置の原理を示す説明図である。
【図４】 本発明にかかわる液晶表示装置に用いるカラ
ーフィルタ基板の平面説明図である。
ーフィルタ基板の平面説明図である。
【図５】 本発明にかかわる液晶表示装置に用いるカラ
ーフィルタ基板の部分拡大平面説明図である。
ーフィルタ基板の部分拡大平面説明図である。
【図６】 本発明にかかわるスペーサ散布方法およびそ
の装置を示す説明図である。
の装置を示す説明図である。
【図７】 本発明にかかわる液晶表示装置に用いるアレ
イ基板の平面説明図である。
イ基板の平面説明図である。
【図８】 本発明にかかわるスペーサ散布方法およびそ
の装置を示す説明図である。
の装置を示す説明図である。
【図９】 本発明にかかわる液晶表示装置の部分断面説
明図である。
明図である。
【図１０】 従来のスペーサ散布方法およびその装置を
示す説明図である。
示す説明図である。
【図１１】 比較例としての従来の液晶表示装置の部分
断面説明図である。
断面説明図である。
１０ 下部透明ガラス基板、１１ ソースバスライン、
１２ ゲートバスライン、１６ 配向膜、１７ スペー
サ、２０ 上部透明ガラス基板、２１ ブラックマトリ
クス、２３ 着色層、２４ 配向膜、２５ 液晶分子、
２６ オーバーコート層、２７ 電荷とり出し端子部、
２８ 電荷とり出し端子部、２９ ショートリング、３
０ 秤量部、３１、３２ 絶縁体圧送ホース、３３ チ
ャンバー、３４ ガスタンク、３５ 絶縁体ノズル、３
６ 絶縁体マニホールド、３７電荷供給用ピン、３８
イオン化装置、３９ ステージ、４０ａ 第１のクシ型
電極、４０ｂ 第２のクシ型電極、５１ 周辺ブラック
マトリックス、５２ 非塗布部、７０ アレイ基板、８
０ カラーフィルタ基板、９０ 偏光板。
１２ ゲートバスライン、１６ 配向膜、１７ スペー
サ、２０ 上部透明ガラス基板、２１ ブラックマトリ
クス、２３ 着色層、２４ 配向膜、２５ 液晶分子、
２６ オーバーコート層、２７ 電荷とり出し端子部、
２８ 電荷とり出し端子部、２９ ショートリング、３
０ 秤量部、３１、３２ 絶縁体圧送ホース、３３ チ
ャンバー、３４ ガスタンク、３５ 絶縁体ノズル、３
６ 絶縁体マニホールド、３７電荷供給用ピン、３８
イオン化装置、３９ ステージ、４０ａ 第１のクシ型
電極、４０ｂ 第２のクシ型電極、５１ 周辺ブラック
マトリックス、５２ 非塗布部、７０ アレイ基板、８
０ カラーフィルタ基板、９０ 偏光板。
Claims (10)
- 【請求項１】 第１の基板、第１の基板に対向する第２
の基板、第１の基板の第２の基板側に設けられる第１の
配向膜、第２の基板の第１の基板側に設けられる第２の
配向膜、第１および第２の基板間に挟持される液晶組成
物、第１および第２の基板間に散布される複数のスペー
サ、第１の基板上にマトリクス状に配置された複数のゲ
ートバスラインと複数のソースバスライン、複数のゲー
トバスラインと複数のソースバスラインとによって囲ま
れてなる複数の画素部のぞれぞれに設けられるスイッチ
ング素子ならびに第２の基板上に設けられるブラックマ
トリックスからなり、第２の基板には表示用電極がな
く、ブラックマトリックスが遮光部であるアクティブマ
トリクス型液晶表示装置の製造方法であって、（ａ）ス
ペーサを帯電させ、（ｂ）前記遮光部に接続して電位調
整用の端子を設け、該端子から遮光部に電位を印加し、
遮光部をスペーサと逆極性に帯電させることによって遮
光部上にスペーサを選択配置する工程を含むアクティブ
マトリクス型液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項２】 前記第２の基板の遮光部以外の部分は前
記スペーサと同極性に帯電させる請求項１記載のアクテ
ィブマトリクス型液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項３】 前記遮光部の抵抗値がその他の部分に比
べ、５桁以上異なる請求項１または２記載のアクティブ
マトリクス型液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項４】 第１の基板、第１の基板に対向する第２
の基板、第１の基板の第２の基板側に設けられる第１の
配向膜、第２の基板の第１の基板側に設けられる第２の
配向膜、第１および第２の基板間に挟持される液晶組成
物、第１および第２の基板間に散布される複数のスペー
サ、第１の基板上にマトリクス状に配置された複数のゲ
ートバスラインと複数のソースバスライン、複数のゲー
トバスラインと複数のソースバスラインとによって囲ま
れてなる複数の画素部のそれぞれに設けられるスイッチ
ング素子ならびに第２の基板上に設けられるブラックマ
トリックスからなり、第２の基板には表示用電極がな
く、複数のゲートバスラインと複数のソースバスライン
が遮光部であるアクティブマトリクス型液晶表示装置の
製造方法であって、（ａ）前記スペーサを帯電させ、
（ｂ）前記複数のゲートバスラインと複数のソースバス
ラインに接続して電位調整用の端子を設け、該端子から
電位を遮光部に印加し、遮光部をスペーサと逆極性に帯
電させることによって遮光部上にスペーサを選択配置す
る工程を含むアクティブマトリクス型液晶表示装置の製
造方法。 - 【請求項５】 前記遮光部以外の第１の基板上の部分は
前記スペーサと同極性に帯電させる請求項４記載のアク
ティブマトリクス型液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項６】 前記遮光部の抵抗値がその他の部分に比
べ、５桁以上異なる請求項４または５記載のアクティブ
マトリクス型液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項７】 第１の基板、第１の基板に対向する第２
の基板、第１の基板の第２の基板側に設けられる第１の
配向膜、第２の基板の第１の基板側に設けられる第２の
配向膜、第１および第２の基板間に挟持される液晶組成
物、第１および第２の基板間に散布される複数のスペー
サ、第１の基板上にマトリクス状に配置された複数のゲ
ートバスラインと複数のソースバスライン、複数のゲー
トバスラインと複数のソースバスラインとによって囲ま
れてなる複数の画素部のそれぞれに設けられるスイッチ
ング素子ならびに第２の基板上に設けられるブラックマ
トリックスからなり、第２の基板に表示用電極がなく、
ブラックマトリックスが遮光部であり、該遮光部上にス
ペーサが選択配置されてなるアクティブマトリクス型液
晶表示装置。 - 【請求項８】 前記第２の基板上の遮光部の抵抗値がそ
の他の部分に比べ、５桁以上異なる請求項７記載のアク
ティブマトリクス型液晶表示装置。 - 【請求項９】 第１の基板、第１の基板に対向する第２
の基板、第１の基板の第２の基板側に設けられる第１の
配向膜、第２の基板の第１の基板側に設けられる第２の
配向膜、第１および第２の基板間に挟持される液晶組成
物、第１および第２の基板間に散布される複数のスペー
サ、第１の基板上にマトリクス状に配置された複数のゲ
ートバスラインと複数のソースバスライン、複数のゲー
トバスラインと複数のソースバスラインとによって囲ま
れてなる複数の画素部のそれぞれに設けられるスイッチ
ング素子ならびに第２の基板上に設けられるブラックマ
トリックスからなり、第２の基板に表示用電極がなく、
前記複数のゲートバスラインと複数のソースバスライン
が遮光部であり、該遮光部上にスペーサが選択配置され
てなるアクティブマトリクス型液晶表示装置。 - 【請求項１０】 前記遮光部の抵抗値がその他の部分に
比べ、５桁以上異なる請求項９記載のアクティブマトリ
クス型液晶表示装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10006252A JPH11202344A (ja) | 1998-01-16 | 1998-01-16 | 液晶表示装置およびその製造方法 |
| TW087111513A TW513605B (en) | 1998-01-16 | 1998-07-15 | Liquid crystal display device and manufacture of the same |
| KR1019980028915A KR100280932B1 (ko) | 1998-01-16 | 1998-07-16 | 액정표시장치 및 그 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10006252A JPH11202344A (ja) | 1998-01-16 | 1998-01-16 | 液晶表示装置およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11202344A true JPH11202344A (ja) | 1999-07-30 |
Family
ID=11633305
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10006252A Pending JPH11202344A (ja) | 1998-01-16 | 1998-01-16 | 液晶表示装置およびその製造方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11202344A (ja) |
| KR (1) | KR100280932B1 (ja) |
| TW (1) | TW513605B (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20030047172A (ko) * | 2001-12-08 | 2003-06-18 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 스페이서 형성방법 |
-
1998
- 1998-01-16 JP JP10006252A patent/JPH11202344A/ja active Pending
- 1998-07-15 TW TW087111513A patent/TW513605B/zh not_active IP Right Cessation
- 1998-07-16 KR KR1019980028915A patent/KR100280932B1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR19990066721A (ko) | 1999-08-16 |
| KR100280932B1 (ko) | 2001-02-01 |
| TW513605B (en) | 2002-12-11 |
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