JPH11193488A - Alkaline plating bath for zinc or zinc alloy and plating process - Google Patents

Alkaline plating bath for zinc or zinc alloy and plating process

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JPH11193488A
JPH11193488A JP36964797A JP36964797A JPH11193488A JP H11193488 A JPH11193488 A JP H11193488A JP 36964797 A JP36964797 A JP 36964797A JP 36964797 A JP36964797 A JP 36964797A JP H11193488 A JPH11193488 A JP H11193488A
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zinc
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plating
hydrogen
plating bath
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光臣 香取
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  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain good external appearance, excellent uniform adhesion and covering power, good chromating property, etc., by incorporating >=1 kind of polymer selected from a group consisting of the polymers of specified structure into the plating bath. SOLUTION: The polymer selected from the polymers shown by formulas I, II, III TV, V, VI and VII and the polymers of the monomers expressed by formulas VIII and IX is incorporated into the plating bath for zinc or zinc alloy contg. zinc, conductive salt and silicon compd. and further contg. metals constituting an alloy in the case of alloy plating. In all the formulas, R1, R2, R3 and R4 are H, 1-5C alkyls, etc., R5 is (CH2 )2 -O-(CH1 )1 , etc., X is 0 to 5, Y is S or O, and (n) is an integer of >=1. X is inorg. ion in formulas VI and VII. The plating bath contains an appropriate amt. of aldehyde, the conductive salt is NaOH, and the bath appropriately contains 3-80 g/L zinc, 30-250 g/L NaOH, 0.01-200 g/L silicon compd. and 0.1-50 g/L bath-soluble polymer.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、亜鉛または亜鉛合
金ならびにこれらのめっきを金属材料に施す技術に関す
る物であり、特にケイ素化合物と浴溶解性ポリマーによ
り亜鉛および亜鉛系合金めっき特性を向上する物であ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a technique for applying zinc or a zinc alloy and a plating thereof to a metal material, and more particularly to a technique for improving zinc and zinc-based alloy plating properties by using a silicon compound and a bath-soluble polymer. It is.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般的に鉄系材料・部品の防錆方法とし
て亜鉛あるいは亜鉛系合金めっき(以下“亜鉛めっき”
と称す)は最も広く利用されている。亜鉛めっきの浴は
酸性浴とアルカリ浴に大別され、全体的(広い電流密度
範囲での)光沢性、ピット防止、優れたカバーリング
性、優れたレベリング性、効率を上げるための高亜鉛濃
度での使用可能性、良好なクロメート処理性、合金めっ
きにおける 広い電流密度域での均一な合金比率など多
数の研究が古くからされている。アルカリ亜鉛めっきは
亜鉛と水酸化ナトリウムなどの電導塩からなるが、光沢
剤、添加剤やキレート剤無しに使用されると粗くてスポ
ンジ状の析出物となり実用的でない。
2. Description of the Related Art Generally, zinc or zinc-based alloy plating (hereinafter referred to as "zinc plating") is used as a method for preventing rust on iron-based materials and parts.
Is the most widely used. Zinc plating baths are broadly divided into acid baths and alkaline baths. Overall (in a wide current density range) gloss, pit prevention, excellent covering properties, excellent leveling properties, high zinc concentration to increase efficiency Many studies have been conducted for a long time, such as the possibility of use in steels, good chromate treatment, and the uniform alloy ratio over a wide current density range in alloy plating. Alkaline zinc plating is composed of zinc and a conductive salt such as sodium hydroxide. However, if used without a brightener, an additive or a chelating agent, it becomes a coarse sponge-like precipitate and is not practical.

【0003】シアンを含有したアルカリ浴は古くから使
用されているが、シアンの毒性と環境配慮の面からシア
ンを使用しないアルカリめっき浴も20年以上前に発明
され現在に至っている。すなわち、シアンを使用しない
めっき浴(以下ジンケート浴)はアミンとエピハロヒド
リンの反応物、ポリエチレンポリアミンなどの特定の添
加剤により、スポンジ状の析出を抑制し、優れた光沢を
得られる様に多くの改良がされてきた。しかし、光沢剤
に要求される性能(めっきに要求される性能)は単に強
い光沢が得られると言う物だけではない。外観上の美し
さ(光沢)が特定の電流密度部だけで得られるのではな
く、広い電流密度域で得られることはもとより、耐食
性、ツキマワリ性、レベリング性、優れた均一電着性、
ピット防止、クロメート処理性、被膜の密着性、亜鉛濃
度などの条件範囲が広いなどの多くの性能が求められ
る。合金めっきの場合は更に、広い電流密度域での均一
な合金比率が求められる。
Alkali baths containing cyan have been used for a long time, but alkali plating baths that do not use cyan have been invented more than 20 years ago and are now in view of cyan toxicity and environmental considerations. In other words, plating baths that do not use cyanide (hereinafter referred to as zincate baths) are sponge-like deposition-suppressed by a specific additive such as a reaction product of amine and epihalohydrin and polyethylene polyamine, and have been improved in many ways so as to obtain excellent gloss. Has been. However, the performance required for the brightener (performance required for plating) is not limited to the fact that a strong gloss can be obtained. Not only is the beauty of appearance (glossiness) obtained not only in the specific current density area, but also in a wide current density range, but also corrosion resistance, cracking, leveling, excellent throwing power,
Many performances are required, such as a wide range of conditions such as pit prevention, chromate treatment, coating adhesion, and zinc concentration. In the case of alloy plating, a uniform alloy ratio in a wide current density range is further required.

【0004】近年は、融雪塩による激しい腐食環境に対
応するため研究の多くが耐食性の増進に注がれ、より優
れた耐食性を持つめっきとして亜鉛−鉄、亜鉛−ニッケ
ル、亜鉛−鉄−コバルトなどの合金めっきの開発が熱心
にされている。これらの合金めっきはジンケート浴にア
ミンまたは有機酸のキレート剤と合金成分としての金属
ならびに特定の添加剤(光沢剤)から成り立っている。
合金めっきは耐食性という特性の大幅な向上に貢献した
が、ジンケート浴の元々の目的である環境問題という点
では新たな問題を含む物である。すなわち合金めっき液
中にはグルコン酸ソーダや各種アミンから成るキレート
剤を含有している。キレート剤はその名の通り、金属を
キレートする物であるため、これを含有する工業廃水の
重金属除去は困難な物となり、今日の厳しい排出規制を
クリヤーはするためには細心の注意が必要である。ま
た、これらのキレート剤は金属をキレートしていない場
合でも、排出規制における項目(COD、BOD)の規
制を受ける。
In recent years, much research has been devoted to improving corrosion resistance in order to cope with a severely corrosive environment caused by snow-melting salt, and zinc-iron, zinc-nickel, zinc-iron-cobalt and the like having higher corrosion resistance are plated. The development of alloy plating is eager. These alloy platings consist of a chelating agent of an amine or an organic acid in a zincate bath, a metal as an alloying component, and a specific additive (brightening agent).
Although alloy plating has contributed to a significant improvement in the property of corrosion resistance, it involves new problems in terms of the environmental problem, which was the original purpose of zincate baths. That is, the alloy plating solution contains a chelating agent comprising sodium gluconate and various amines. As the name implies, chelating agents chelate metals, making it difficult to remove heavy metals from industrial wastewater containing them.Thus, great care must be taken to clear today's strict emission regulations. is there. In addition, even if these chelating agents do not chelate metals, they are subject to emission regulations (COD, BOD).

【0005】以上のように亜鉛めっきは環境問題に対応
するためジンケート浴を開発し、市場に対応する添加剤
の改良行ってきたが合金めっきの出現により耐食性以外
の特性は10年以上前とほぼ同様の性能に留まってお
り、合金めっきにおいては新たな環境問題を抱えてい
る。特定の光沢剤を含む改良された亜鉛めっき浴を記載
した、米国特許3853718,3869358、38
84774、4113583、4169771、422
9267、4730022、4792038、5182
006、5194410号を含む多くの特許が出願され
ている。
[0005] As described above, zinc plating has developed a zincate bath in order to respond to environmental problems and has been improving additives corresponding to the market. However, with the advent of alloy plating, characteristics other than corrosion resistance have been almost the same as those of more than 10 years ago. The performance remains the same, and alloy plating has a new environmental problem. U.S. Pat. Nos. 3,853,718, 3,869,358, 38, which describe improved galvanizing baths containing certain brighteners.
84774, 4111383, 4169771, 422
9267, 4730022, 4792038, 5182
A number of patents have been filed, including 006, 5194410.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は電気め
っきにおいて要求される特性の良好な外観(全体的(広
い電流密度範囲での)光沢性、ピット防止、レベリング
性など)、優れた均一電着性、ツキマワリ性、効率を上
げるための高亜鉛濃度での使用あるいは高い浴温での使
用可能性、良好なクロメート処理性、合金めっきにおけ
る広い電流密度域での均一な合金比率、高い耐食性、良
好な廃水処理性を持つめっき浴を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The object of the present invention is to provide a good appearance (overall (in a wide current density range) gloss, pit prevention, leveling properties, etc.) of the characteristics required in electroplating, and excellent uniformity. Electrodeposition properties, cracking properties, use at high zinc concentration to improve efficiency or use at high bath temperature, good chromate treatment, uniform alloy ratio over a wide current density range in alloy plating, high corrosion resistance Another object of the present invention is to provide a plating bath having good wastewater treatment properties.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明者らが鋭意研究し
た結果、従来技術における問題は、亜鉛、電導塩及びケ
イ素化合物を含有し、更に合金めっきの場合は合金成分
となる金属を含有する亜鉛又は亜鉛合金用めっき浴にお
いて、浴溶解性ポリマーとして構造式(1)
As a result of diligent studies conducted by the present inventors, the problem in the prior art is that zinc, a conductive salt and a silicon compound are contained, and in the case of alloy plating, a metal which is an alloy component is contained. In a zinc or zinc alloy plating bath, the structural formula (1) is used as a bath-soluble polymer.

【化17】 (式中、R1、R2は水素、メチル、エチル、イソプロ
ピル、ブチル、−CH2CH2 (OCH2 CH2X
H(Xは0〜5)又は−CH2 CH2 (OCCH2 CH
2X OH(Xは0〜5)を表わし、nは1以上を表わ
す)で表されるポリマー、構造式(2)
Embedded image (Wherein R 1 and R 2 are hydrogen, methyl, ethyl, isopropyl, butyl, —CH 2 CH 2 (OCH 2 CH 2 ) X O
H (X is 0-5) or -CH 2 CH 2 (OCCH 2 CH
2) X OH (X represents 0-5), polymer n is represented by representing one or more), the structural formula (2)

【化18】 (式中、R1、R2、R3及びR4はそれぞれ水素、メ
チル、エチル、イソプロピル、2−ヒドロキシルエチル
−CH2 CH2 (OCH2 CH2x OH(Xは0〜
6)又は2−ヒドロキシルエチル−CH2 CH2 (OC
CH2 CH2x OH(Xは0〜6)を表わし、R5は
(CH22 −O−(CH22 、(CH22 −O−
(CH22 −O−(CH22 又はCH2 −CHOH
−CH2 −O−CH2 −CHOH−CH2 を表わし、n
は1以上であり、YはS又はOである)で表されるポリ
マー、構造式(3)
Embedded image (Wherein, R1, R2, each hydrogen R3 and R4, methyl, ethyl, isopropyl, 2-hydroxyethyl -CH 2 CH 2 (OCH 2 CH 2) x OH (X 0~
6) or 2-hydroxylethyl-CH 2 CH 2 (OC
CH 2 CH 2) x OH ( X represents Less than six), R5 is (CH 2) 2 -O- (CH 2) 2, (CH 2) 2 -O-
(CH 2) 2 -O- (CH 2) 2 or CH 2 -CHOH
It represents -CH 2 -O-CH 2 -CHOH- CH 2, n
Is 1 or more, and Y is S or O), a polymer represented by the structural formula (3):

【化19】 (式中、R1、R2、R3及びR4はそれぞれ水素、メ
チル、エチル、イソプロピル、2−ヒドロキシルエチル
−CH2 CH2 (OCH2 CH2x OH(Xは0〜
6)又は2−ヒドロキシルエチル−CH2 CH2 (OC
CH2 CH2x OH(Xは0〜6)を表わし、R5は
(CH22 −O−(CH22 、(CH22 −O−
(CH22 −O−(CH22 又はCH2 −CHOH
−CH2 −O−CH2 −CHOH−CH2 を表わし、n
は1以上を表わし、YはS又はOを表わす)で表される
ポリマー、構造式(4)
Embedded image (Wherein, R1, R2, each hydrogen R3 and R4, methyl, ethyl, isopropyl, 2-hydroxyethyl -CH 2 CH 2 (OCH 2 CH 2) x OH (X 0~
6) or 2-hydroxylethyl-CH 2 CH 2 (OC
CH 2 CH 2) x OH ( X represents Less than six), R5 is (CH 2) 2 -O- (CH 2) 2, (CH 2) 2 -O-
(CH 2) 2 -O- (CH 2) 2 or CH 2 -CHOH
It represents -CH 2 -O-CH 2 -CHOH- CH 2, n
Represents one or more, and Y represents S or O), a polymer represented by the structural formula (4):

【0008】[0008]

【化20】 (式中、R1及びR2はそれぞれ水素、メチル、エチ
ル、イソプロピル、ブチル、−CH2 CH2 (OCH2
CH2X OH(Xは0〜5)又は−CH2 CH2(O
CCH2 CH2X OH(Xは0〜5)を表わし、nは
1以上を表わし、YはO又はSを表わす)をモノマーと
するポリマー、構造式(5)
Embedded image (Wherein each hydrogen R1 and R2, methyl, ethyl, isopropyl, butyl, -CH 2 CH 2 (OCH 2
CH 2 ) X OH (X is 0 to 5) or —CH 2 CH 2 (O
(CCH 2 CH 2 ) X OH (X represents 0 to 5), n represents 1 or more, and Y represents O or S) as a monomer, a structural formula (5)

【化21】 (式中、R1又はR2は水素、メチル、エチル、ブチル
又はイソブチルを表し、R3はCH2 、C24 又はC
36 を表わす)で表されるポリマー、構造式(6)
Embedded image (Wherein R1 or R2 represents hydrogen, methyl, ethyl, butyl or isobutyl, and R3 is CH 2 , C 2 H 4 or C
3 H 6 ), structural formula (6)

【化22】 (式中、R1及びR2はそれぞれ水素又は炭素数が10
以下のアルキルを表わす)で表されるポリマー、構造式
(7)
Embedded image (Wherein R1 and R2 each represent hydrogen or carbon atoms of 10
A polymer represented by the following alkyl), structural formula (7)

【化23】 (式中、R1、R2、R3及びR4はそれぞれ水素又は
Cが5以下のアルキルを表わし、Xは無機陰イオンを表
わし、YはS又はOを表わす)で表されるポリマー、及
び構造式(8)
Embedded image (Wherein, R1, R2, R3 and R4 each represent hydrogen or an alkyl having C of 5 or less, X represents an inorganic anion, Y represents S or O), and a structural formula ( 8)

【化24】 (式中、R1、R2、R3及びR4はそれぞれ水素又は
炭素数が5以下のアルキルを表わし、Xは無機陰イオン
を表わし、YはS又はOを表わす)で表されるポリマー
から成る群から選択される1種以上を含有する亜鉛又は
亜鉛合金用めっき浴により解決することが判明した。
Embedded image Wherein R 1, R 2, R 3 and R 4 each represent hydrogen or alkyl having 5 or less carbon atoms, X represents an inorganic anion, and Y represents S or O. It has been found that the solution is achieved by a plating bath for zinc or zinc alloy containing one or more selected.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】効果の実績による好ましい前記構
造式(1)のポリマーとしてローヌ・プーランから市販
されている「MIRAPOL(商標)100」、前記構
造式(2)のポリマーの例としては「MIRAPOL
(商標)WT」、前記構造式(3)のポリマーの例とし
ては「MIRAPOL(商標)AD−1」、前記構造式
(4)のポリマーの例としては「MIRAPOL(商
標)550」などがある。めっき浴中のこれらの浴溶解
性ポリマーの総量は0.1〜50g/Lが好ましい。ケ
イ素化合物としては特開平8−209393に記載され
ているように、コロイダルシリカ、パウダー状で水に分
散されるとコロイダルシリカに成るもの、ケイ酸塩(一
般式mMOx・nSiO2:Mは金属m、nは自然数、
xは1または2)など殆どのケイ素化合物が使用でき、
たとえば三号ケイ酸ソーダなどが使用可能である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION As a preferable polymer of the structural formula (1) based on the results of the effects, "MIRAPOL (trademark) 100" commercially available from Rhone Poulin, and an example of the polymer of the structural formula (2) is MIRAPOL
(Trademark) WT ", examples of the polymer of the structural formula (3) include" MIrapol (trademark) AD-1 ", and examples of the polymer of the structural formula (4) include" MIrapol (trademark) 550 ". . The total amount of these bath-soluble polymers in the plating bath is preferably from 0.1 to 50 g / L. As described in JP-A-8-209393, as a silicon compound, colloidal silica, a powdery substance which becomes colloidal silica when dispersed in water, a silicate (general formula mMOx.nSiO2: M is a metal m, n is a natural number,
x can be almost any silicon compound such as 1 or 2),
For example, No. 3 sodium silicate can be used.

【0010】亜鉛が3〜80g/L好ましくは5〜20
g/L、水酸化ナトリウムが30〜250g/L、好ま
しくは90〜150g/Lケイ素化合物が0.01〜2
00g/L好ましくは1〜150g/L、構造式(1)〜
(8)のポリマーが0.1〜50g/L好ましくは1〜
30g/L、アルデヒドとしてはバニリン、ベンズアル
デヒド、エチルバニリン、ベラトルアルデヒド、アニス
アルデヒドが比較的良好な光沢を付与する物であり0.
001〜50g/L好ましくは10〜5000mg/L
存在するめっき浴により良好めっき皮膜が提供される。
それぞれの量は亜鉛めっきか、合金めっきかで異なり、
合金めっきにおいても合金成分により適当な共析比率が
異なるため、それぞれに成分量が異なり一概には決定で
きない。例えば亜鉛めっきの場合、亜鉛5〜25g/
L、水酸化ナトリウム90〜150g/Lが一般的に良
好な皮膜が得られる範囲である。
[0010] Zinc is 3-80 g / L, preferably 5-20
g / L, 30 to 250 g / L of sodium hydroxide, preferably 0.01 to 2 g of 90 to 150 g / L silicon compound.
00 g / L, preferably 1 to 150 g / L, structural formula (1) to
The polymer of (8) is 0.1 to 50 g / L, preferably 1 to 50 g / L.
Vanillin, benzaldehyde, ethyl vanillin, veratraldehyde, and anisaldehyde give relatively good gloss as aldehydes.
001 to 50 g / L, preferably 10 to 5000 mg / L
The existing plating bath provides a good plating film.
Each amount is different depending on whether zinc plating or alloy plating,
Also in the alloy plating, since an appropriate eutectoid ratio differs depending on the alloy components, the amounts of the components are different from each other and cannot be determined unconditionally. For example, in the case of zinc plating, zinc is 5 to 25 g /
L and sodium hydroxide 90 to 150 g / L are generally in the range where a good film can be obtained.

【0011】合金となる金属は、鉄、コバルト、ニッケ
ル、三価のクロムまたは銅が適当である。また、亜鉛−
鉄合金めっきの場合、亜鉛6〜20g/L、鉄0.00
1〜1.0g/L、水酸化ナトリウム85〜150g/
Lが均一な皮膜を得るのに一般的な範囲である。いずれ
の場合も、電流密度や浴温などの条件の影響を受けるた
め一概に決めることはできない。合金成分の供給方法に
制限はなく、硫酸鉄、塩化鉄、硫酸コバルト等の塩で供
給できる。
As the metal to be alloyed, iron, cobalt, nickel, trivalent chromium or copper is suitable. In addition, zinc
In the case of iron alloy plating, zinc 6 to 20 g / L, iron 0.00
1 to 1.0 g / L, sodium hydroxide 85 to 150 g /
L is a general range for obtaining a uniform film. In any case, it cannot be determined unconditionally because it is affected by conditions such as current density and bath temperature. There is no limitation on the method of supplying the alloy component, and the alloy component can be supplied with a salt such as iron sulfate, iron chloride, and cobalt sulfate.

【0012】それぞれの成分のめっき液中における働き
は、亜鉛および合金成分としての金属は析出金属とし
て、必須成分である電導塩としては水酸化ナトリウムが
好ましい。前記構造式(1)〜(8)のポリマーは添加
することによりめっき外観において均一な光沢、レベリ
ング、均一電着性、ツキマワリ性などの亜鉛めっきの基
本的な要求特性を向上するものである。ケイ素化合物が
合金成分をキレートするとは考えにくいが添加しためっ
き浴は、グルコン酸ソーダなどの廃水処理に弊害をもた
らすキレート剤を添加しなくとも、添加金属が浴中で安
定であり、均一な比率での析出を可能にするものであ
る。また従来のキレート剤を含有しためっき液では、高
温作業や長時間の使用によりキレート剤の変質・変性と
推定される液の色調変化やめっき外観の低下(無光沢黒
色外観不良の発生)、全体的な(殆どの電流密度域にお
ける)共析率の低下などが確認されるため多くのノウハ
ウを駆使し、細心の注意を払って狭いめっき条件の範囲
で使用しなければならなかったが、本発明ではこれらの
不良は確認されない。
The functions of the respective components in the plating solution are as follows. Zinc and the metal as the alloy component are preferably precipitated metals, and the essential conductive salt is preferably sodium hydroxide. By adding the polymers of the structural formulas (1) to (8), the basic properties required for galvanizing, such as uniform gloss, leveling, uniform electrodeposition, and peeling resistance, are improved. Although it is unlikely that the silicon compound chelates the alloy component, the added plating bath is stable even when a chelating agent that adversely affects wastewater treatment such as sodium gluconate is not added, and the added metal is stable in the bath and a uniform ratio is obtained. This makes it possible to perform precipitation. In addition, with conventional plating solutions containing a chelating agent, the color tone of the solution is estimated to deteriorate or degrade due to high temperature work or prolonged use, and the plating appearance is degraded (the appearance of matte black appearance is poor). However, it was necessary to use a great deal of know-how and pay close attention to use in a narrow range of plating conditions. In the invention, these defects are not confirmed.

【0013】さらに本発明は合金めっきを行う場合、合
金成分となる金属の添加量が少なくてすむという特徴が
ある。多くの合金めっきの特許の合金成分となる金属の
添加量の請求範囲は限りなく0に近い値から請求されて
いるが、現在実用化されている合金めっきの金属の総添
加量は約100〜2000mg/Lあるいはこれ以上で
ある。これに比べ本発明に依れば一桁小さな添加量(例
えば鉄10mg/L程度)でも可能である。また従来の
めっき浴は温度に対して弱く、30℃を越える条件での
めっきは工業的に実用に耐える物でなかったが、本発明
のめっき浴は耐温性に優れ30℃を越えるめっき条件で
も十分実用に耐える物である。
Further, the present invention is characterized in that when alloy plating is performed, the amount of addition of a metal as an alloy component can be reduced. Many alloy plating patents claim the amount of metal to be added as an alloy component is infinitely claimed from a value close to 0, but the total amount of metal in alloy plating currently in practical use is approximately 100 to 100%. 2000 mg / L or more. On the other hand, according to the present invention, an addition amount that is one digit smaller (for example, about 10 mg / L of iron) is possible. Further, the conventional plating bath is weak against temperature, and plating under a condition exceeding 30 ° C. is not a material that can be industrially used. However, the plating bath of the present invention has excellent temperature resistance and a plating condition exceeding 30 ° C. But it is enough for practical use.

【0014】一般に亜鉛めっきではキレート剤を含まな
いと亜鉛以外の金属は不純金属として被膜外観や被膜物
性に悪影響を与える事が知られている。例えばMETA
LFINISHING誌1995年2月号に記載されて
いるように低い金属では0.1mg/L、鉄やニッケル
は1〜10mg/Lの含有により悪影響が認められる
が、本発明においては鉄やニッケルが1〜10mg/L
混入しても合金めっきとなり耐食性が向上する事はある
が外観などの低下を認めない。このことは本発明が合金
めっきとしてでは無く単なる亜鉛めっきとして考えた場
合、如何に管理が容易であるかを示す一つである。付け
加えるならば合金めっきの特許のほとんどはアミンまた
はグルコン酸ナトリウムなどの有機酸をキレート剤とし
て用いており、皆同じ物の様に感じられるが実用化され
ているキレート剤の対象金属選択性は高く、亜鉛−鉄合
金めっきで使用しているキレート剤を亜鉛−ニッケル浴
に添加しても、良好なめっきは得られない。よって従来
のキレート剤を亜鉛めっきに添加するだけでは特定の金
属に対し、良好な結果を得ることができるかもしれない
が、多種類の金属が混入すると思われる工業ラインにお
いて本発明に示す管理の容易性は得られない。
In general, it is known that, in zinc plating, if a chelating agent is not contained, metals other than zinc are impure metals and adversely affect the appearance and physical properties of the film. For example, META
As described in LFINITISHING, February 1995, a low metal content of 0.1 mg / L and iron and nickel content of 1 to 10 mg / L have an adverse effect. -10mg / L
Even if mixed, it becomes an alloy plating and the corrosion resistance may be improved, but no deterioration in appearance or the like is recognized. This is one of the ways in which the present invention can be easily managed when considered as a mere zinc plating instead of an alloy plating. In addition, most of the alloy plating patents use an organic acid such as amine or sodium gluconate as a chelating agent, and they all seem to be the same, but the chelating agents that have been put into practical use have high target metal selectivity. Even if the chelating agent used in zinc-iron alloy plating is added to the zinc-nickel bath, good plating cannot be obtained. Therefore, a good result may be obtained for a specific metal only by adding the conventional chelating agent to the galvanization, but the management shown in the present invention in an industrial line where various kinds of metals are considered to be mixed. Ease is not obtained.

【0015】これらの他にも本発明は従来の亜鉛めっき
の他の特性も改善されている。例えばツキマワリ性は外
観の光沢などと比べ直接目に付かないため見落とされが
ちであるが、亜鉛めっきを評価するに当たり無視できな
い重要な性能である。ツキマワリ性とはより低い電流密
度域においても有効なめっきを得られる能力である。工
業的に行われているめっきはビーカーレベルと比べると
遥かに複雑な形状の部材をめっきするため、部材の表面
の電流密度は非常に広い電流密度となる。例えば0.1
〜10A/dm2 の電流密度域となる部材を処理する場
In addition to these, the present invention also improves other characteristics of conventional galvanizing. For example, the peeling resistance is often overlooked because it is not directly visible compared to the gloss of the appearance, but it is an important performance that cannot be ignored when evaluating zinc plating. The cracking ability is an ability to obtain an effective plating even in a lower current density region. Industrial plating is for plating a member having a much more complicated shape than the beaker level, so that the current density on the surface of the member is a very wide current density. For example, 0.1
When processing a member with a current density range of 〜1010 A / dm 2

【0016】[0016]

【表1】 [Table 1]

【0017】という膜厚分布を得た場合、0.5〜10
A/dm2 の範囲においては比較的均一電着性が優れ良
好であるが、0.5A/dm2 未満では突然膜厚が薄く
なりツキマワリ性が悪いため実用的であるとは言い難い
が、本発明ではこれらの能力に限らずピット防止性やク
ロメート処理性など従来の亜鉛めっきの問題点を解決す
る物である。
When a film thickness distribution of
In the range of A / dm 2, the uniformity of electrodeposition is relatively excellent and good, but when it is less than 0.5 A / dm 2 , the film thickness is suddenly reduced and the cracking property is poor. The present invention solves the problems of conventional galvanization, such as pit prevention and chromate treatment, as well as these capabilities.

【0018】本発明のめっき浴は電気亜鉛めっきに添加
可能な公知の物質が添加可能である。これらの添加物と
して、例えばアミン系の光沢付与剤、レベリング剤、P
VA、ゼラチン、にかわ、ペプトンなどが挙げられる。
具体的には、ポリエチレンイミン、アミンとエピハロヒ
ドリンの反応物、アルコールとアミンとの反応物、アリ
ルスルホン酸塩、プロピンスルホン酸塩、ピニルスルホ
ン酸塩、アミノプロピン誘導体、ビスベンゼンスルホニ
ルイミド、ベンジルピリジニウムカルボキシレート、ヘ
キシンジオール、プロパギルアルコールなどがあり、添
加量としては0.01〜50g/Lが目安である。
The plating bath of the present invention can contain a known substance that can be added to electrogalvanizing. As these additives, for example, amine-based gloss-imparting agents, leveling agents, P
VA, gelatin, glue, peptone and the like.
Specifically, polyethyleneimine, reactant of amine and epihalohydrin, reactant of alcohol and amine, allyl sulfonate, propyne sulfonate, pinyl sulfonate, aminopropine derivative, bisbenzenesulfonylimide, benzylpyridinium There are carboxylate, hexinediol, propargyl alcohol and the like, and the addition amount is a standard of 0.01 to 50 g / L.

【0019】[0019]

【実施例】以下、実施例により本発明を説明する。試験
はハルセル試験用試験板、50×100×1mmの鉄板
またはボルトを試験片として用いた。適当な前処理(脱
脂、脱スマットなど)を行った後、以下に示すそれぞれ
の処理を行った。実施例1 亜鉛11g/L、水酸化ナトリウム125g/L、三号
ケイ酸ソーダ85g/L、「MIRAPOL100」
2.5g/L、バニリン50mg/Lが含まれためっき
浴でハルセル試験を行った。2Aで15分電解した試験
片をクロム酸、リン酸を主成分とする緑色クロメートに
浸漬し不動態化処理としてクロメート処理を行った。均
一で光沢のある良好なめっきを得た。
The present invention will be described below with reference to examples. The test used a Hull cell test plate, a 50 × 100 × 1 mm iron plate or bolt as a test piece. After performing appropriate pretreatments (such as degreasing and desmutting), the following treatments were performed. Example 1 Zinc 11 g / L, sodium hydroxide 125 g / L, No. 3 sodium silicate 85 g / L, "MIRAPOL 100"
The Hull cell test was performed in a plating bath containing 2.5 g / L and vanillin 50 mg / L. A test piece electrolyzed with 2A for 15 minutes was immersed in green chromate mainly composed of chromic acid and phosphoric acid, and subjected to chromate treatment as passivation treatment. Good uniform and glossy plating was obtained.

【0020】実施例2 亜鉛13g/L、水酸化ナトリウム130g/L、三号
ケイ酸ソーダ90g/L、「MIRAPOLWT」2g
/L、アニスアルデヒド55mg/Lが含まれためっき
浴でハルセル試験を行った。2Aで15分電解した試験
片をクロム酸、リン酸を主成分とする緑色クロメートに
浸漬しクロメート処理を行った。均一で光沢のある良好
なめっきを得た。「MIRAPOL WT」を「MIR
APOL550」または「MIRAPOL AD−1」
に変えても同様に良好な結果を得た。実施例3 亜鉛10.5g/L、水酸化ナトリウム110g/L、
三号ケイ酸ソーダ95g/L、構造式(5)のポリマー
2g/L、ベラトルアルデヒド65mg/Lが含まれた
めっき浴でハルセル試験を行った。2Aで15分電解し
た試験片をクロム酸、リン酸を主成分とする緑色クロメ
ートに浸漬しクロメート処理を行った。均一で光沢のあ
る良好なめっきを得た。
Example 2 13 g / L of zinc, 130 g / L of sodium hydroxide, 90 g / L of sodium silicate No. 3, 2 g of "MIRAPOLWT"
/ L and a plating bath containing anisaldehyde 55 mg / L were subjected to a Hull cell test. A test piece electrolyzed with 2A for 15 minutes was immersed in green chromate containing chromic acid and phosphoric acid as main components, and subjected to chromate treatment. Good uniform and glossy plating was obtained. “MIRAPOL WT” to “MIR
"APOL550" or "MIRPOL AD-1"
Similarly, a good result was obtained even if it was changed to. Example 3 10.5 g / L zinc, 110 g / L sodium hydroxide,
The Hull cell test was performed in a plating bath containing 95 g / L of No. 3 sodium silicate, 2 g / L of the polymer represented by the structural formula (5), and 65 mg / L of veratraldehyde. A test piece electrolyzed with 2A for 15 minutes was immersed in green chromate containing chromic acid and phosphoric acid as main components, and subjected to chromate treatment. Good uniform and glossy plating was obtained.

【0021】実施例4 亜鉛8.5g/L、水酸化ナトリウム100g/L、三
号ケイ酸ソーダ75g/L、構造式(8)のポリマー3
g/L、バニリン65mg/Lが含まれためっき浴でハ
ルセル試験を行った。2Aで15分 電解した試験片を
クロム酸、リン酸を主成分とする緑色クロメートに浸漬
しクロメート処理を行った。均一で光沢のある良好なめ
っきを得た。構造式(8)のポリマーを構造式(6)の
ポリマーまたは構造式(7)のポリマーに変えても同様
に良好な結果を得た。実施例5 亜鉛8g/L、水酸化ナトリウム110g/L、三号ケ
イ酸ソーダ80g/L、「MIRAPOL 550」2
g/L、構造式(6)のポリマー2.5g/L、バニリ
ン45mg/Lが含まれためっき浴でハルセル試験を行
った。2Aで15分電解した試験片をクロム酸、リン酸
を主成分とする緑色クロメートに浸漬しクロメート処理
を行った。均一で光沢のある良好なめっきを得た。
Example 4 8.5 g / L of zinc, 100 g / L of sodium hydroxide, 75 g / L of sodium silicate No. 3, polymer 3 of structural formula (8)
A Hull cell test was performed in a plating bath containing g / L and 65 mg / L of vanillin. The test piece electrolyzed with 2A for 15 minutes was immersed in green chromate containing chromic acid and phosphoric acid as main components to perform chromate treatment. Good uniform and glossy plating was obtained. Similarly good results were obtained when the polymer of structural formula (8) was replaced with the polymer of structural formula (6) or the polymer of structural formula (7). Example 5 8 g / L of zinc, 110 g / L of sodium hydroxide, 80 g / L of sodium silicate No. 3, "MIRAPOL 550" 2
The Hull cell test was performed in a plating bath containing g / L, 2.5 g / L of the polymer of the structural formula (6), and 45 mg / L of vanillin. A test piece electrolyzed with 2A for 15 minutes was immersed in green chromate containing chromic acid and phosphoric acid as main components, and subjected to chromate treatment. Good uniform and glossy plating was obtained.

【0022】実施例6 酸化亜鉛8g/L、水酸化ナトリウム110g/Lおよ
び「MIRAPOLAD−1」を3g/L、構造式
(7)のポリマー3g/L、三号ケイ酸ソーダ90g/
L、ベンジルピリジニウムカルボキシレート4g/L、
エチルバニリン0.05g/Lが含まれためっき浴でハ
ルセル試験を行った。2Aー20分電解した試験片の
0.1、0.5、1、2、3、5、10A/dm2 相当
部分の膜厚を膜厚計で測定したところ表1の結果を得
た。一般の添加剤(イミダゾール−エピハロヒドリン・
コポリマー+ポリアミド)と比べ均一電着性・ツキマワ
リ性が優れていることを確認した。
Example 6 8 g / L of zinc oxide, 110 g / L of sodium hydroxide and 3 g / L of "MIRAPOLAD-1", 3 g / L of the polymer of the structural formula (7), 90 g of sodium silicate 3
L, benzylpyridinium carboxylate 4 g / L,
A Hull cell test was performed in a plating bath containing 0.05 g / L of ethyl vanillin. Table 1 shows the results obtained by measuring the film thickness of a portion corresponding to 0.1, 0.5, 1, 2 , 3, 5, 10 A / dm 2 of the test piece subjected to 2A-20 minutes electrolysis using a film thickness meter. General additives (imidazole-epihalohydrin.
(Copolymer + polyamide), it was confirmed that the uniform electrodeposition property and the peeling property were excellent.

【0023】[0023]

【表2】 [Table 2]

【0024】実施例7 酸化亜鉛10g/L、水酸化ナトリウム120g/Lお
よび「MIRAPOLWT」を3g/L、構造式(6)
のポリマー2g/L、三号ケイ酸ソーダ100g/L、
バニリン0.05g/Lが含まれためっき浴でハルセル
試験を行った。2Aー20分電解した試験片の0.1、
0.5、1、2、3、5、10A/dm2 相当部分の膜
厚を膜厚計で測定したところ表2の結果を得た。一般の
添加剤(イミダゾール−エピハロヒドリン・コポリマー
+ポリアミド+ホルマリン)と比べ均一電着性・ツキマ
ワリ性が優れていることを確認した。
EXAMPLE 7 10 g / L of zinc oxide, 120 g / L of sodium hydroxide and 3 g / L of "MIRAPOLWT", structural formula (6)
2 g / L of polymer, 100 g / L of No. 3 sodium silicate,
A Hull cell test was performed in a plating bath containing 0.05 g / L of vanillin. 2A-0.1 of test piece electrolyzed for 20 minutes,
When the film thicknesses of the portions corresponding to 0.5, 1, 2, 3, 5, and 10 A / dm 2 were measured with a film thickness meter, the results shown in Table 2 were obtained. It was confirmed that the uniform electrodeposition property and the exfoliation property were superior to those of a general additive (imidazole-epihalohydrin copolymer + polyamide + formalin).

【0025】[0025]

【表3】 [Table 3]

【0026】実施例8 酸化亜鉛10g/L、水酸化ナトリウム110g/Lお
よび「MIRAPOL550」を1g/L、構造式
(5)のポリマー2g/L、カタロイドSI−30(触
媒化成(株)製)150g/L、尿素誘導体0.5g/
L、バニリン40mg/Lが含まれためっき浴でハルセ
ル試験を行った。2Aで20分電解した試験片をクロム
酸、リン酸を主成分とする緑色クロメートに室温で浸漬
しクロメート処理を行った。一般の添加剤(イミダゾー
ル−エピハロヒドリン・コポリマー+ポリアミド)を用
いた試験片は不均一な色調の処理外観となったが、本発
明は均一な外観を呈した。実施例9 酸化亜鉛9g/L、水酸化ナトリウム120g/Lおよ
び「MIRAPOLWT」を10g/L、構造式(5)
のポリマー2g/L、カタロイドSI−30(触媒化成
(株)製)140g/L、ベンジルピリジニウムカルボ
キシレート3g/L、バニリン20mg/Lが含まれた
めっき浴でハルセル試験を行った。2Aで20分電解し
た試験片をクロム酸、リン酸を主成分とする緑色クロメ
ートに室温で浸漬しクロメート処理を行った。一般の添
加剤(イミダゾール−エピハロヒドリン・コポリマー+
ポリアミド)を用いた試験片は不均一な色調の処理外観
となったが、本発明は均一な外観を呈した。
Example 8 10 g / L of zinc oxide, 110 g / L of sodium hydroxide and 1 g / L of "MIRAPOL550", 2 g / L of a polymer represented by the structural formula (5), Cataloid SI-30 (manufactured by Catalyst Chemicals, Inc.) 150 g / L, urea derivative 0.5 g /
The Hull cell test was performed in a plating bath containing L and vanillin 40 mg / L. A test piece electrolyzed with 2A for 20 minutes was immersed in a green chromate mainly composed of chromic acid and phosphoric acid at room temperature to perform a chromate treatment. Specimens using a common additive (imidazole-epihalohydrin copolymer + polyamide) had a non-uniform color appearance, but the present invention had a uniform appearance. Example 9 9 g / L of zinc oxide, 120 g / L of sodium hydroxide and 10 g / L of "MIRAPOLWT", structural formula (5)
A Hull cell test was performed in a plating bath containing 2 g / L of polymer, 140 g / L of Cataloid SI-30 (manufactured by Catalysis Kasei Co., Ltd.), 3 g / L of benzylpyridinium carboxylate, and 20 mg / L of vanillin. A test piece electrolyzed with 2A for 20 minutes was immersed in a green chromate mainly composed of chromic acid and phosphoric acid at room temperature to perform a chromate treatment. General additives (imidazole-epihalohydrin copolymer +
Although the test piece using the polyamide) had a non-uniform color appearance, the present invention exhibited a uniform appearance.

【0027】実施例10 酸化亜鉛25g/L、水酸化ナトリウム180g/Lお
よび「MIRAPOLADー1」を3g/L、カタロイ
ドSI−30(触媒化成(株)製)110g/L、構造
式(5)のポリマーを3g/L、尿素誘導体1g/L、
バニリン60mg/Lが含まれためっき浴でハルセル試
験を行った。2A−10分電解した試験片の外観は平滑
で良好であった。一般の添加剤(イミダゾール−エピハ
ロヒドリン・コポリマー+ポリアミド)を用いた場合は
高電流密度域にヤケ或いはコゲと呼ばれる不良外観を呈
した。実施例11 酸化亜鉛8g/L、水酸化ナトリウム110g/Lおよ
び「MIRAPOL100」を3g/L、カタロイドS
I−30(触媒化成(株)製)160g/L、構造式
(6)のポリマー3g/L、尿素0.2g/L、アニス
アルデヒド60mg/Lが含まれた40℃のめっき浴で
ハルセル試験を行った。2A−10分電解した試験片の
外観は平滑で良好であった。一般の添加剤(イミダゾー
ル−エピハロヒドリン・コポリマー+ポリアミド)を用
いた場合は高電流密度域にヤケ或いはコゲと呼ばれる不
良およびピットのある外観を呈した。
Example 10 25 g / L of zinc oxide, 180 g / L of sodium hydroxide and 3 g / L of "MIRAPOLAD-1", 110 g / L of cataloid SI-30 (manufactured by Catalysis Kasei Co., Ltd.), structural formula (5) 3 g / L of urea derivative 1 g / L,
A Hull cell test was performed in a plating bath containing vanillin 60 mg / L. The appearance of the test piece electrolyzed for 2A-10 minutes was smooth and good. When a general additive (imidazole-epihalohydrin copolymer + polyamide) was used, a bad appearance called burn or kogation was exhibited in a high current density region. Example 11 8 g / L of zinc oxide, 110 g / L of sodium hydroxide and 3 g / L of "MIRAPOL100", Cataloid S
Hull cell test in a 40 ° C. plating bath containing 160 g / L of I-30 (manufactured by Catalyst Chemicals, Inc.), 3 g / L of polymer of structural formula (6), 0.2 g / L of urea, and 60 mg / L of anisaldehyde Was done. The appearance of the test piece electrolyzed for 2A-10 minutes was smooth and good. When a general additive (imidazole-epihalohydrin copolymer + polyamide) was used, a defect called burn or kogation and a pitted appearance were exhibited in a high current density region.

【0028】実施例12 酸化亜鉛10g/L、水酸化ナトリウム120g/Lお
よび「MIRAPOLWT」を3g、カタロイドSI−
30(触媒化成(株)製)100g/L、構造式(5)
のポリマー2g/L、アルコールとアミンの反応物1g
/L、尿素誘導体1g/L、バニリン50mg/Lが含
まれためっき浴でハルセル試験を行った。2Aー40分
電解した試験片の0.05、0.1、0.5、1、2、
3、5、10A/dm2 相当部分の膜厚を膜厚計で測定
した処、表3の結果を得た。一般の添加剤(イミダゾー
ル−エピハロヒドリン・コポリマー+ポリアミド)と比
べ均一電着性・ツキマワリ性が優れていることを確認し
た。
Example 12 10 g / L of zinc oxide, 120 g / L of sodium hydroxide and 3 g of "MIRAPOLWT", cataloid SI-
30 (manufactured by Catalyst Chemicals, Inc.) 100 g / L, structural formula (5)
2g / L of polymer, 1g of reaction product of alcohol and amine
/ L, a urea derivative 1 g / L, and a vanillin 50 mg / L were subjected to a Hull cell test in a plating bath. 2A-0.05, 0.1, 0.5, 1, 2,
The results shown in Table 3 were obtained by measuring the film thickness of the portions corresponding to 3, 5, and 10 A / dm 2 with a film thickness meter. It was confirmed that the uniform electrodeposition property and the peeling resistance were superior to those of a general additive (imidazole-epihalohydrin copolymer + polyamide).

【0029】[0029]

【表4】 [Table 4]

【0030】実施例13 酸化亜鉛40g/L、水酸化ナトリウム160g/Lお
よび「MIRAPOL550」を4g、三号ケイ酸ソー
ダ90g/L、構造式(7)のポリマー3g/L、ヘキ
シンジオール0.5g/L、尿素誘導体0.5g/L、
ベラトルアルデヒド60mg/Lが含まれためっき浴で
ハルセル試験を行った。2A−20分電解した試験片の
外観は平滑で良好であった。一般の添加剤(イミダゾー
ル−エピハロヒドリン・コポリマー+ポリアミド)を用
いた場合は高電流密度域にヤケ或いはコゲと呼ばれる不
良外観および光沢の少ない筋状の不良外観をを呈した。実施例14 酸化亜鉛25g/L、水酸化ナトリウム180g/Lお
よび「MIRAPOL100」を3g/L、「MIRA
POL WT」を5g/L、三号ケイ酸ソーダ140g
/L、ベンジルピリジニウムカルボキシレート1g/
L、バニリン60mg/Lが含まれためっき浴でハルセ
ル試験を行った。2A−10分電解した試験片の外観は
平滑で良好であった。本発明の代わりに一般の添加剤
(イミダゾール−エピハロヒドリン・コポリマー+ポリ
アミド)を用いた場合は高電流密度域にヤケ或いはコゲ
と呼ばれる不良外観を呈した。
Example 13 40 g / L of zinc oxide, 160 g / L of sodium hydroxide and 4 g of "MIRAPOL550", 90 g / L of sodium silicate No. 3, 3 g / L of polymer of the structural formula (7), and 0.1 g of hexynediol. 5 g / L, urea derivative 0.5 g / L,
A Hull cell test was performed in a plating bath containing 60 mg / L of veratraldehyde. The appearance of the test piece electrolyzed for 2A-20 minutes was smooth and good. When a general additive (imidazole-epihalohydrin copolymer + polyamide) was used, a bad appearance called burn or kogation and a streak-like bad appearance with little gloss were exhibited in a high current density region. Example 14 25 g / L of zinc oxide, 180 g / L of sodium hydroxide and 3 g / L of “MIRAPOL 100”, “MIRA
POL WT "5g / L, No.3 sodium silicate 140g
/ L, benzylpyridinium carboxylate 1 g /
A Hull cell test was performed in a plating bath containing L and vanillin 60 mg / L. The appearance of the test piece electrolyzed for 2A-10 minutes was smooth and good. When a general additive (imidazole-epihalohydrin copolymer + polyamide) was used instead of the present invention, a bad appearance called burn or kogation was exhibited in a high current density region.

【0031】実施例15 酸化亜鉛10g/L、水酸化ナトリウム150g/Lお
よび「MIRAPOL550」を2g/L、「MIRA
POL WT」を4g/L、構造式(5)のポリマー3
g/L、三号ケイ酸ソーダ120g/L、ポリエチレン
イミン2g/L、チオ尿素誘導体0.2g/L、ベラト
ルアルデヒド40mg/Lが含まれためっき浴でハルセ
ル試験を行った。2Aで20分電解した試験片をクロム
酸、リン酸を主成分とする緑色クロメートに室温で浸漬
しクロメート処理を行った。一般の添加剤(イミダゾー
ル−エピハロヒドリン・コポリマー+ポリアミド)を用
いた試験片は不均一な色調の処理外観および、筋状の不
良めっき外観となったが、本発明は均一な外観を呈し
た。実施例16 酸化亜鉛15g/L、水酸化ナトリウム140g/Lお
よび三号ケイ酸ソーダ90g/L、「MIRAPOL
550」を4g/L、構造式(8)のポリマー2g/
L、バニリン50mg/L、鉄10mg/L、ニッケル
10mg/Lが含まれためっき浴でハルセル試験を行っ
た。2Aで20分電解した試験片をクロム酸、リン酸、
硫酸、無機塩を含む黒色クロメートに室温で浸漬しクロ
メート処理を行った。一般の添加剤(イミダゾール−エ
ピハロヒドリン・コポリマー+ポリアミド)を用いた試
験片は干渉色を呈し均一な黒色外観が得られなかった。
また三号ケイ酸ソーダを添加しなかった試験片は、低電
流密度部が暗色化およびめっき被膜の密着性低下が確認
されたが、本発明は均一な外観を呈し密着性の低下も認
められなかった。
Example 15 10 g / L of zinc oxide, 150 g / L of sodium hydroxide and 2 g / L of "MIRAPOL550"
POL WT ”4 g / L, polymer 3 of structural formula (5)
The Hull cell test was performed in a plating bath containing g / L, No. 3 sodium silicate 120 g / L, polyethyleneimine 2 g / L, thiourea derivative 0.2 g / L, and veratraldehyde 40 mg / L. A test piece electrolyzed with 2A for 20 minutes was immersed in a green chromate mainly composed of chromic acid and phosphoric acid at room temperature to perform a chromate treatment. Specimens using a common additive (imidazole-epihalohydrin copolymer + polyamide) had a non-uniform color appearance and streak-like poor plating appearance, but the present invention exhibited a uniform appearance. Example 16 Zinc oxide 15 g / L, sodium hydroxide 140 g / L and No. 3 sodium silicate 90 g / L, "MIRAPOL
550 "is 4 g / L, and the polymer of the structural formula (8) is 2 g / L.
The Hull cell test was performed in a plating bath containing L, vanillin 50 mg / L, iron 10 mg / L, and nickel 10 mg / L. Chromic acid, phosphoric acid,
It was immersed in black chromate containing sulfuric acid and inorganic salts at room temperature to perform chromate treatment. A test piece using a general additive (imidazole-epihalohydrin copolymer + polyamide) exhibited an interference color and did not have a uniform black appearance.
In addition, in the test piece to which No. 3 sodium silicate was not added, the darkening of the low current density portion and the decrease in the adhesion of the plating film were confirmed, but the present invention exhibited a uniform appearance and the decrease in the adhesion was also recognized. Did not.

【0032】実施例17 酸化亜鉛18g/L、水酸化ナトリウム140g/Lお
よび三号ケイ酸ソーダ150g/L、「MIRAPOL
550」を2g/L、「MIRAPOL WT」を4g
/L、構造式(6)のポリマー3g/L、ベンジルピリ
ジニウムカルボキシレート1g/L、ベラトルアルデヒ
ド40mg/Lが含まれためっき浴で回転めっきを行っ
た。浴温38℃で12A/kgー20分電解した試験片
をクロム酸、リン酸、硫酸、無機塩を含む黒色クロメー
トに室温で浸漬しクロメート処理を行った。一般の添加
剤(イミダゾール−エピハロヒドリン・コポリマー+ポ
リアミド)を用いた試験片は光沢が少ない外観の上、低
電流部のめっき膜厚が不足し均一な黒色外観が得られな
かったが、本発明は光沢のある均一は外観を呈した。実施例18 酸化亜鉛10g/L、水酸化ナトリウム110g/Lお
よび三号ケイ酸ソーダ120g/L、「MIRAPOL
100」を2g/L、「MIRAPOL WT」を4g
/L、構造式(7)のポリマー3g/L、尿素誘導体1
g/L、ベラトルアルデヒド40mg/Lが含まれため
っき浴で回転めっきを行った。12A/kgで25分電
解した試験片をクロム酸、リン酸、硫酸、無機塩を含む
黒色クロメートに室温で浸漬しクロメート処理を行っ
た。本発明の代わりに一般の添加剤(イミダゾール−エ
ピハロヒドリン・コポリマー+ポリアミド)を用いた試
験片は低電流部のめっき膜厚が不足し均一な黒色外観が
得られなかったが、本発明は均一な外観を呈した。
Example 17 18 g / L of zinc oxide, 140 g / L of sodium hydroxide and 150 g / L of sodium silicate No. 3, "MIRAPOL"
"550" 2g / L, "MIRAPOL WT" 4g
/ L, 3 g / L of the polymer of the structural formula (6), 1 g / L of benzylpyridinium carboxylate, and 40 mg / L of veratraldehyde were subjected to rotary plating. A test piece electrolyzed at a bath temperature of 38 ° C. at 12 A / kg for 20 minutes was immersed in a black chromate containing chromic acid, phosphoric acid, sulfuric acid, and an inorganic salt at room temperature to perform a chromate treatment. A test piece using a general additive (imidazole-epihalohydrin copolymer + polyamide) had a less glossy appearance and a plating film thickness in a low current portion was insufficient, so that a uniform black appearance was not obtained. A glossy uniform appeared. Example 18 10 g / L of zinc oxide, 110 g / L of sodium hydroxide and 120 g / L of sodium silicate No. 3, "MIRAPOL
100 "is 2g / L," MIRAPOL WT "is 4g
/ L, 3 g / L of polymer of structural formula (7), urea derivative 1
Rotational plating was performed in a plating bath containing g / L and 40 mg / L of veratraldehyde. A test piece electrolyzed at 12 A / kg for 25 minutes was immersed in a black chromate containing chromic acid, phosphoric acid, sulfuric acid, and an inorganic salt at room temperature to perform a chromate treatment. In the test piece using a general additive (imidazole-epihalohydrin copolymer + polyamide) instead of the present invention, the plating thickness in the low current portion was insufficient and a uniform black appearance was not obtained. Appeared.

【0033】実施例19 酸化亜鉛12g/L、水酸化ナトリウム90g/Lおよ
び三号ケイ酸ソーダ130g/L、「MIRAPOL
WT」を3g、構造式(8)のポリマー2g/L、ヘキ
シンジオール0.5/L、バニリン50mg/L、鉄1
5mg/L、コバルト35mg/Lが含まれためっき浴
でハルセル試験を行った。3Aで15分電解した試験片
をクロム酸、リン酸、硫酸、無機塩を含む黒色クロメー
トに室温で浸漬しクロメート処理を行った。一般の添加
剤(イミダゾール−エピハロヒドリン・コポリマー+ポ
リアミド)を用いた試験片は干渉色を呈し均一な黒色外
観が得られなかった。また三号ケイ酸ソーダを添加しな
かった試験片は、低電流密度部が暗色化およびめっき被
膜の密着性低下が確認されたが、本発明は均一は外観を
呈し密着性の低下も認められなかった。
Example 19 12 g / L of zinc oxide, 90 g / L of sodium hydroxide and 130 g / L of sodium silicate No. 3, "MIRAPOL"
WT ", 3 g of polymer of structural formula (8) 2 g / L, hexynediol 0.5 / L, vanillin 50 mg / L, iron 1
A Hull cell test was performed in a plating bath containing 5 mg / L and 35 mg / L of cobalt. A test piece electrolyzed with 3A for 15 minutes was immersed in a black chromate containing chromic acid, phosphoric acid, sulfuric acid, and an inorganic salt at room temperature to perform a chromate treatment. A test piece using a general additive (imidazole-epihalohydrin copolymer + polyamide) exhibited an interference color and did not have a uniform black appearance. In addition, in the test piece to which No. 3 sodium silicate was not added, darkening was observed in the low current density part and the adhesion of the plating film was reduced, but the present invention uniformly exhibited the appearance and the adhesion was also reduced. Did not.

【0034】実施例20 酸化亜鉛5g/L、水酸化ナトリウム100g/Lおよ
びカタロイドSI−30(触媒化成(株)製)120g
/L、「MIRAPOL WT」を4g/L、尿素誘導
体1g/L、エチルバニリン40mg/L、鉄80mg
/L、コバルト100mg/Lが含まれためっき浴で回
転めっきを行った。8A/kgで35分電解した試験片
をクロム酸、リン酸、硫酸、無機塩を含む黒色クロメー
トに室温で浸漬しクロメート処理を行った。一般の添加
剤(イミダゾール−エピハロヒドリン・コポリマー+ポ
リアミド)を用いた試験片は低電流密度部のめっき膜厚
が不足し均一な黒色外観が得られなかった。カタロイド
SI−30を添加しなかっためっきは不均一な共析が原
因と推定される不均一外観を示したが、本発明は均一は
外観を呈した。実施例21 酸化亜鉛17g/L、水酸化ナトリウム140g/Lお
よび三号ケイ酸ソーダ150g/L、「MIRAPOL
550」を2g/L、「MIRAPOL WT」を4g
/L、構造式(7)のポリマー3g/L、ベンジルピリ
ジニウムカルボキシレート1g/L、ベラトルアルデヒ
ド40mg/L、ニッケル1200mg/Lが含まれた
めっき浴で回転めっきを行った。12A/kgで20分
電解した試験片をクロム酸、リン酸、硫酸、無機塩を含
む黒色クロメートに室温で浸漬しクロメート処理を行っ
た。MIRAPOLの代わりに一般の添加剤(イミダゾ
ール−エピハロヒドリン・コポリマー+ポリアミド)を
用いた試験片は光沢の少ない外観の上、低電流部のめっ
き膜厚が不足し均一な黒色外観が得られなかった。三号
ケイ酸ソーダを添加しなかっためっきは不均一な共析が
原因と推定される不均一外観を示したが、本発明は均一
は外観を呈した。
Example 20 5 g / L of zinc oxide, 100 g / L of sodium hydroxide and 120 g of Cataloid SI-30 (manufactured by Catalysis Kasei Co., Ltd.)
/ L, 4 g / L of “MIRAPOL WT”, 1 g / L of urea derivative, 40 mg / L of ethyl vanillin, 80 mg of iron
/ L and 100 mg / L of cobalt were subjected to spin plating in a plating bath. A test piece electrolyzed at 8 A / kg for 35 minutes was immersed in a black chromate containing chromic acid, phosphoric acid, sulfuric acid, and an inorganic salt at room temperature to perform a chromate treatment. The test piece using a general additive (imidazole-epihalohydrin copolymer + polyamide) did not have a uniform black appearance due to insufficient plating film thickness in the low current density part. The plating without the addition of Cataroid SI-30 showed a non-uniform appearance presumably due to non-uniform eutectoid, but the present invention exhibited a uniform appearance. Example 21 17 g / L of zinc oxide, 140 g / L of sodium hydroxide and 150 g / L of sodium silicate No. 3, "MIRAPOL
"550" 2g / L, "MIRAPOL WT" 4g
/ L, 3 g / L of the polymer of the structural formula (7), 1 g / L of benzylpyridinium carboxylate, 40 mg / L of veratraldehyde, and 1200 mg / L of nickel were subjected to rotary plating. A test piece electrolyzed at 12 A / kg for 20 minutes was immersed in a black chromate containing chromic acid, phosphoric acid, sulfuric acid, and inorganic salt at room temperature to perform a chromate treatment. A test piece using a general additive (imidazole-epihalohydrin copolymer + polyamide) instead of MIRAPOL had a low gloss appearance and a low plating thickness in a low current portion, and a uniform black appearance was not obtained. The plating without the addition of No. 3 sodium silicate showed a non-uniform appearance presumably caused by non-uniform eutectoid, but the present invention exhibited a uniform appearance.

【0035】実施例22 酸化亜鉛9g/L、水酸化ナトリウム110g/Lおよ
び三号ケイ酸ソーダ130g/L、「MIRAPOL
100」を15g/L、構造式(8)のポリマー1g/
L、尿素誘導体2g/L、エチルバニリン40mg/
L、ニッケル1g/Lが含まれためっき浴でハルセル試
験を行った。2Aー20分電解した試験片の0.05、
0.1、0.5、1、2、3、5、10A/dm2 相当
部分のニッケルの共析率と膜厚を測定した処、表4(膜
厚)、表5(共析率)の結果を得た。一般の添加剤(イ
ミダゾール−エピハロヒドリン・コポリマー+ポリアミ
ド)およびミラポール100単独で三号ケイ酸ソーダが
含まれないめっき浴では良好なめっき外観すら得られ
ず、一部のニッケルは水酸化ニッケルとなり液に 溶解
せず浮遊した。比較のため一般の添加剤(イミダゾール
−エピハロヒドリン・コポリマー+ポリアミド)および
「MIRAPOL100」15g/Lのめっき液にはア
ミンまたはグルコン酸ソーダをキレート剤として添加し
た。
Example 22 9 g / L of zinc oxide, 110 g / L of sodium hydroxide and 130 g / L of sodium silicate No. 3, "MIRAPOL"
100 "is 15 g / L, and the polymer of the structural formula (8) is 1 g / L.
L, urea derivative 2 g / L, ethyl vanillin 40 mg /
A Hull cell test was performed in a plating bath containing L and nickel at 1 g / L. 2A-0.05 of test piece electrolyzed for 20 minutes,
Table 4 (film thickness) and Table 5 (eutectoid ratio) where the eutectoid ratio and the film thickness of nickel corresponding to 0.1, 0.5, 1, 2 , 3, 5, 10 A / dm 2 were measured. Was obtained. With a general additive (imidazole-epihalohydrin copolymer + polyamide) and Mirapol 100 alone, a plating bath that does not contain No. 3 sodium silicate does not provide even a good plating appearance, and some nickel becomes nickel hydroxide and becomes a solution. Floated without dissolving. For comparison, amine or sodium gluconate was added as a chelating agent to a general additive (imidazole-epihalohydrin copolymer + polyamide) and 15 g / L of “MIRAPOL100” plating solution.

【0036】[0036]

【表5】 [Table 5]

【0037】[0037]

【表6】 [Table 6]

【0038】実施例23 酸化亜鉛18g/L、水酸化ナトリウム120g/Lお
よびカタロイドSI−30 150g/L、「MIRA
POL WT」を10g/L、構造式(7)のポリマー
2g/L、ベンジルピリジニウムカルボキシレート1g
/L、バニリン40mg/L、鉄35mg/L、コバル
ト20mg/Lが含まれためっき浴でハルセル試験を行
った。2Aー20分電解した試験片の0.05、0.
1、0.5、1、2、3、5、10A/dm2 相当部分
の膜厚を測定した処、表6(膜厚)の結果を得た。一般
の添加剤(イミダゾール−エピハロヒドリン・コポリマ
ー+ポリアミド)およびミラポールWT単独で三号ケイ
酸ソーダが含まれないめっき浴では良好なめっき外観す
ら得られないため一般の添加剤(イミダゾール−エピハ
ロヒドリン・コポリマー+ポリアミド)および「MIR
APOL WT」10g/Lのめっき液にはアミンまた
はグルコン酸ソーダをキレート剤として添加した。
Example 23 18 g / L of zinc oxide, 120 g / L of sodium hydroxide and 150 g / L of cataloid SI-30, "MIRA
POL WT ", 10 g / L, 2 g / L of polymer of structural formula (7), 1 g of benzylpyridinium carboxylate
/ L, 40 mg / L of vanillin, 35 mg / L of iron, and 20 mg / L of cobalt were subjected to a Hull cell test. 2A-20.
When the film thicknesses of the portions corresponding to 1, 0.5, 1, 2, 3, 5, 10 A / dm 2 were measured, the results shown in Table 6 (film thickness) were obtained. A general additive (imidazole-epihalohydrin copolymer + polyamide) and Mirapol WT alone cannot provide a good plating appearance even in a plating bath containing no No. 3 sodium silicate, and a general additive (imidazole-epihalohydrin copolymer + polyamide) Polyamide) and “MIR
An amine or sodium gluconate was added as a chelating agent to a 10 g / L plating solution of “APOL WT”.

【0039】[0039]

【表7】 [Table 7]

【0040】実施例24 酸化亜鉛12g/L、水酸化ナトリウム120g/Lお
よび三号ケイ酸ソーダ100g/L、「MIRAPOL
100」を20g/L、構造式(5)のポリマー1g
/L、尿素誘導体3g/L、エチルバニリン40mg/
L、ニッケル1g/Lが含まれためっき浴でボルトを回
転めっきした。めっきは11A/kg、35分、38℃
の条件で行った。一般の添加剤(イミダゾール− エピ
ハロヒドリン・コポリマー+ポリアミド)およびミラポ
ール100単独で三号ケイ酸ソーダが含まれないめっき
浴では良好なめっき外観すら得られなかったが、本発明
はめっき外観はもとよりクロメート処理においても均一
で良好な被膜を得た。実施例25 酸化亜鉛15g/L、水酸化ナトリウム120g/Lお
よび三号ケイ酸ソーダ130g/L、「MIRAPOL
WT」を20g/L、鉄35mg/L、コバルト15
mg/Lが含まれためっき浴でボルトを回転めっきし
た。めっきは10A/kg、35分、38℃の条件で行
った。一般の添加剤(イミダゾール−エピハロヒドリン
・コポリマー+ポリアミド)およびMIRAPOL W
T単独で三号ケイ酸ソーダが含まれないめっき浴では良
好なめっき外観すら得られなかったが、本発明はめっき
外観はもとよりクロメート処理においても均一で良好な
被膜を得た。同様の結果が100kg/Lのボルトを処
理後も得られた。
Example 24 12 g / L of zinc oxide, 120 g / L of sodium hydroxide and 100 g / L of sodium silicate No. 3, "MIRAPOL"
100 "is 20 g / L, 1 g of the polymer of the structural formula (5)
/ L, urea derivative 3 g / L, ethyl vanillin 40 mg /
The bolt was spin-plated in a plating bath containing L and nickel at 1 g / L. Plating is 11A / kg, 35 minutes, 38 ° C
Was performed under the following conditions. Although a general additive (imidazole-epihalohydrin copolymer + polyamide) and Mirapol 100 alone could not provide a good plating appearance even in a plating bath containing no sodium silicate No. 3, the present invention provides not only plating appearance but also chromate treatment. And a uniform and good film was obtained. Example 25 15 g / L of zinc oxide, 120 g / L of sodium hydroxide and 130 g / L of sodium silicate No. 3, "MIRAPOL
WT "20g / L, iron 35mg / L, cobalt 15
The bolt was spin-plated in a plating bath containing mg / L. The plating was performed under the conditions of 10 A / kg, 35 minutes, and 38 ° C. General additives (imidazole-epihalohydrin copolymer + polyamide) and MIRAPOL W
Although a good plating appearance was not obtained even in a plating bath containing no No. 3 sodium silicate by T alone, in the present invention, a uniform and good coating was obtained not only in plating appearance but also in chromate treatment. Similar results were obtained after treating a 100 kg / L bolt.

【0041】実施例26 酸化亜鉛10g/L、水酸化ナトリウム110g/L、
三号ケイ酸ソーダ120g/L、「MIRAPOL W
T」15g/Lを浴組成とするめっき浴に鉄10mg/
Lあるいはニッケル20mg/Lあるいは銅5mg/L
を添加しめっきをおこなった処、良好な被膜が得られ
た。三号ケイ酸ソーダを添加しない添加剤(PIRAP
OL WTまたは一般の添加剤)だけのめっき液では低
電流密度部の光沢低下などの不良めっきとなった。
Example 26 10 g / L of zinc oxide, 110 g / L of sodium hydroxide,
No.3 sodium silicate 120g / L, "MIRAPOL W
T "in a plating bath having a bath composition of 15 g / L,
L or nickel 20mg / L or copper 5mg / L
, And a good coating was obtained when plating was performed. Additive without adding No. 3 sodium silicate (PIRAP
A plating solution containing only OL WT or a general additive) resulted in poor plating such as a decrease in gloss at a low current density portion.

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 亜鉛、電導塩及びケイ素化合物を含有
し、更に合金めっきの場合は合金成分となる金属を含有
する亜鉛又は亜鉛合金用めっき浴において、浴溶解性ポ
リマーとして構造式(1) 【化1】 (式中、R1、R2は水素、メチル、エチル、イソプロ
ピル、ブチル、−CH2CH2 (OCH2 CH2X
H(Xは0〜5)又は−CH2 CH2 (OCCH2 CH
2X OH(Xは0〜5)を表わし、nは1以上を表わ
す)で表されるポリマー、構造式(2) 【化2】 (式中、R1、R2、R3及びR4はそれぞれ水素、メ
チル、エチル、イソプロピル、2−ヒドロキシルエチル
−CH2 CH2 (OCH2 CH2x OH(Xは0〜
6)又は2−ヒドロキシルエチル−CH2 CH2 (OC
CH2 CH2x OH(Xは0〜6)を表わし、R5は
(CH22 −O−(CH22 、(CH22 −O−
(CH22 −O−(CH22 又はCH2 −CHOH
−CH2 −O−CH2 −CHOH−CH2 を表わし、n
は1以上であり、YはS又はOである)で表されるポリ
マー、構造式(3) 【化3】 (式中、R1、R2、R3及びR4はそれぞれ水素、メ
チル、エチル、イソプロピル、2−ヒドロキシルエチル
−CH2 CH2 (OCH2 CH2x OH(Xは0〜
6)又は2−ヒドロキシルエチル−CH2 CH2 (OC
CH2 CH2x OH(Xは0〜6)を表わし、R5は
(CH22 −O−(CH22 、(CH22 −O−
(CH22 −O−(CH22 又はCH2 −CHOH
−CH2 −O−CH2 −CHOH−CH2 を表わし、n
は1以上を表わし、YはS又はOを表わす)で表される
ポリマー、構造式(4) 【化4】 (式中、R1及びR2はそれぞれ水素、メチル、エチ
ル、イソプロピル、ブチル、−CH2 CH2 (OCH2
CH2X OH(Xは0〜5)又は−CH2 CH2(O
CCH2 CH2X OH(Xは0〜5)を表わし、nは
1以上を表わし、YはO又はSを表わす)をモノマーと
するポリマー、構造式(5) 【化5】 (式中、R1又はR2は水素、メチル、エチル、ブチル
又はイソブチルを表し、R3はCH2 、C24 又はC
36 を表わす)で表されるポリマー、構造式(6) 【化6】 (式中、R1及びR2はそれぞれ水素又は炭素数が10
以下のアルキルを表わす)で表されるポリマー、構造式
(7) 【化7】 (式中、R1、R2、R3及びR4はそれぞれ水素又は
Cが5以下のアルキルを表わし、Xは無機陰イオンを表
わし、YはS又はOを表わす)で表されるポリマー、及
び構造式(8) 【化8】 (式中、R1、R2、R3及びR4はそれぞれ水素又は
炭素数が5以下のアルキルを表わし、Xは無機陰イオン
を表わし、YはS又はOを表わす)で表されるポリマー
から成る群から選択される1種以上を含有する亜鉛又は
亜鉛合金用めっき浴。
In a plating bath for zinc or a zinc alloy containing zinc, a conductive salt and a silicon compound, and further containing a metal to be an alloy component in the case of alloy plating, a structural formula (1) is used as a bath-soluble polymer. Formula 1 (Wherein R 1 and R 2 are hydrogen, methyl, ethyl, isopropyl, butyl, —CH 2 CH 2 (OCH 2 CH 2 ) X O
H (X is 0-5) or -CH 2 CH 2 (OCCH 2 CH
2) X OH (X represents 0-5), polymer n is represented by representing one or more), the structural formula (2) ## STR2 ## (Wherein, R1, R2, each hydrogen R3 and R4, methyl, ethyl, isopropyl, 2-hydroxyethyl -CH 2 CH 2 (OCH 2 CH 2) x OH (X 0~
6) or 2-hydroxylethyl-CH 2 CH 2 (OC
CH 2 CH 2) x OH ( X represents Less than six), R5 is (CH 2) 2 -O- (CH 2) 2, (CH 2) 2 -O-
(CH 2) 2 -O- (CH 2) 2 or CH 2 -CHOH
It represents -CH 2 -O-CH 2 -CHOH- CH 2, n
Is 1 or more, and Y is S or O), a structural formula (3): (Wherein, R1, R2, each hydrogen R3 and R4, methyl, ethyl, isopropyl, 2-hydroxyethyl -CH 2 CH 2 (OCH 2 CH 2) x OH (X 0~
6) or 2-hydroxylethyl-CH 2 CH 2 (OC
CH 2 CH 2) x OH ( X represents Less than six), R5 is (CH 2) 2 -O- (CH 2) 2, (CH 2) 2 -O-
(CH 2) 2 -O- (CH 2) 2 or CH 2 -CHOH
It represents -CH 2 -O-CH 2 -CHOH- CH 2, n
Represents one or more, and Y represents S or O), a polymer represented by the structural formula (4): (Wherein each hydrogen R1 and R2, methyl, ethyl, isopropyl, butyl, -CH 2 CH 2 (OCH 2
CH 2 ) X OH (X is 0 to 5) or —CH 2 CH 2 (O
CCH 2 CH 2 ) X OH (X represents 0 to 5), n represents 1 or more, and Y represents O or S) as a monomer, a structural formula (5): (Wherein R1 or R2 represents hydrogen, methyl, ethyl, butyl or isobutyl, and R3 is CH 2 , C 2 H 4 or C
3 H 6 ), represented by the structural formula (6): (Wherein R1 and R2 each represent hydrogen or carbon atoms of 10
A polymer represented by the following alkyl), structural formula (7): (Wherein, R1, R2, R3 and R4 each represent hydrogen or an alkyl having C of 5 or less, X represents an inorganic anion, Y represents S or O), and a structural formula ( 8) Wherein R 1, R 2, R 3 and R 4 each represent hydrogen or alkyl having 5 or less carbon atoms, X represents an inorganic anion, and Y represents S or O. A plating bath for zinc or a zinc alloy containing one or more selected types.
【請求項2】 適当量のアルデヒドを更に含有すること
を特徴とする請求項1に記載の亜鉛又は亜鉛合金用めっ
き浴。
2. The plating bath for zinc or zinc alloy according to claim 1, further comprising an appropriate amount of aldehyde.
【請求項3】 前記電導塩が水酸化ナトリウムであり、
亜鉛を3〜80g/L、水酸化ナトリウムを30〜25
0g/L、ケイ素化合物を0.01〜200g/L及び
浴溶解性ポリマーを0.1〜50g/L含有する請求項
1又は2に記載の亜鉛又は亜鉛合金用めっき浴。
3. The conductive salt is sodium hydroxide,
3 to 80 g / L of zinc and 30 to 25 of sodium hydroxide
The zinc or zinc alloy plating bath according to claim 1 or 2, comprising 0 g / L, 0.01 to 200 g / L of a silicon compound, and 0.1 to 50 g / L of a bath-soluble polymer.
【請求項4】 前記合金成分となる金属が鉄、コバル
ト、ニッケル、三価のクロム又は銅である請求項1〜3
のいずれか一の請求項に記載の亜鉛又は亜鉛合金用めっ
き浴。
4. The metal as the alloy component is iron, cobalt, nickel, trivalent chromium or copper.
A plating bath for zinc or a zinc alloy according to claim 1.
【請求項5】 導電性の基材を請求項1〜4のいずれか
一の請求項に記載の亜鉛又は亜鉛合金用めっき浴に浸漬
し、前記基材表面に所望の厚さのめっきを施すめっきプ
ロセス。
5. A conductive base material is immersed in the plating bath for zinc or zinc alloy according to any one of claims 1 to 4, and a surface of the base material is plated to a desired thickness. Plating process.
【請求項6】 前記めっきを施した後、更に不動態化処
理を施す請求項5に記載のめっきプロセス。
6. The plating process according to claim 5, wherein a passivation treatment is further performed after the plating.
【請求項7】 溶解性ポリマーとして構造式(1) 【化9】 (式中、R1、R2は水素、メチル、エチル、イソプロ
ピル、ブチル、−CH2CH2 (OCH2 CH2X
H(Xは0〜5)又は−CH2 CH2 (OCCH2 CH
2X OH(Xは0〜5)を表わし、nは1以上を表わ
す)で表されるポリマー、構造式(2) 【化10】 (式中、R1、R2、R3及びR4はそれぞれ水素、メ
チル、エチル、イソプロピル、2−ヒドロキシルエチル
−CH2 CH2 (OCH2 CH2x OH(Xは0〜
6)又は2−ヒドロキシルエチル−CH2 CH2 (OC
CH2 CH2x OH(Xは0〜6)を表わし、R5は
(CH22 −O−(CH22 、(CH22 −O−
(CH22 −O−(CH22 又はCH2 −CHOH
−CH2 −O−CH2 −CHOH−CH2 を表わし、n
は1以上であり、YはS又はOである)で表されるポリ
マー、構造式(3) 【化11】 (式中、R1、R2、R3及びR4はそれぞれ水素、メ
チル、エチル、イソプロピル、2−ヒドロキシルエチル
−CH2 CH2 (OCH2 CH2x OH(Xは0〜
6)又は2−ヒドロキシルエチル−CH2 CH2 (OC
CH2 CH2x OH(Xは0〜6)を表わし、R5は
(CH22 −O−(CH22 、(CH22 −O−
(CH22 −O−(CH22 又はCH2 −CHOH
−CH2 −O−CH2 −CHOH−CH2 を表わし、n
は1以上を表わし、YはS又はOを表わす)で表される
ポリマー、構造式(4) 【化12】 (式中、R1及びR2はそれぞれ水素、メチル、エチ
ル、イソプロピル、ブチル、−CH2 CH2 (OCH2
CH2X OH(Xは0〜5)又は−CH2 CH2(O
CCH2 CH2X OH(Xは0〜5)を表わし、nは
1以上を表わし、YはO又はSを表わす)をモノマーと
するポリマー、構造式(5) 【化13】 (式中、R1 又はR2 は水素、メチル、エチル、ブチル
又はイソブチルを表し、R3 はCH2 、C24 又はC
36 を表わす)で表されるポリマー、構造式(6) 【化14】 (式中、R1及びR2はそれぞれ水素又は炭素数が10
以下のアルキルを表わす)で表されるポリマー、構造式
(7) 【化15】 (式中、R1、R2、R3及びR4はそれぞれ水素又は
Cが5以下のアルキルを表わし、Xは無機陰イオンを表
わし、YはS又はOを表わす)で表されるポリマー、及
び構造式(8) 【化16】 (式中、R1、R2、R3及びR4はそれぞれ水素又は
炭素数が5以下のアルキルを表わし、Xは無機陰イオン
を表わし、YはS又はOを表わす)で表されるポリマー
から成る群から選択される1種以上を含有する亜鉛又は
亜鉛合金用めっき浴のための添加剤であって、更に任意
にケイ素化合物を含有し、前記浴溶解性ポリマーの総量
が10〜950g/kgである亜鉛又は亜鉛合金用めっ
き浴のための添加剤。
7. The soluble polymer represented by the structural formula (1): (Wherein R 1 and R 2 are hydrogen, methyl, ethyl, isopropyl, butyl, —CH 2 CH 2 (OCH 2 CH 2 ) X O
H (X is 0-5) or -CH 2 CH 2 (OCCH 2 CH
2) X OH (X represents 0-5), polymer n is represented by representing one or more), the structural formula (2) embedded image (Wherein, R1, R2, each hydrogen R3 and R4, methyl, ethyl, isopropyl, 2-hydroxyethyl -CH 2 CH 2 (OCH 2 CH 2) x OH (X 0~
6) or 2-hydroxylethyl-CH 2 CH 2 (OC
CH 2 CH 2) x OH ( X represents Less than six), R5 is (CH 2) 2 -O- (CH 2) 2, (CH 2) 2 -O-
(CH 2) 2 -O- (CH 2) 2 or CH 2 -CHOH
It represents -CH 2 -O-CH 2 -CHOH- CH 2, n
Is 1 or more, and Y is S or O), a structural formula (3): (Wherein, R1, R2, each hydrogen R3 and R4, methyl, ethyl, isopropyl, 2-hydroxyethyl -CH 2 CH 2 (OCH 2 CH 2) x OH (X 0~
6) or 2-hydroxylethyl-CH 2 CH 2 (OC
CH 2 CH 2) x OH ( X represents Less than six), R5 is (CH 2) 2 -O- (CH 2) 2, (CH 2) 2 -O-
(CH 2) 2 -O- (CH 2) 2 or CH 2 -CHOH
It represents -CH 2 -O-CH 2 -CHOH- CH 2, n
Represents one or more, and Y represents S or O), a polymer represented by the structural formula (4): (Wherein each hydrogen R1 and R2, methyl, ethyl, isopropyl, butyl, -CH 2 CH 2 (OCH 2
CH 2 ) X OH (X is 0 to 5) or —CH 2 CH 2 (O
CCH 2 CH 2 ) X OH (X represents 0 to 5), n represents 1 or more, and Y represents O or S) as a monomer, a structural formula (5): (Wherein R 1 or R 2 represents hydrogen, methyl, ethyl, butyl or isobutyl, and R 3 is CH 2 , C 2 H 4 or C 2
3 H 6 ), represented by the structural formula (6): (Wherein R1 and R2 each represent hydrogen or carbon atoms of 10
A polymer represented by the following alkyl), structural formula (7): (Wherein, R1, R2, R3 and R4 each represent hydrogen or an alkyl having C of 5 or less, X represents an inorganic anion, Y represents S or O), and a structural formula ( 8) Wherein R 1, R 2, R 3 and R 4 each represent hydrogen or alkyl having 5 or less carbon atoms, X represents an inorganic anion, and Y represents S or O. An additive for a zinc or zinc alloy plating bath containing one or more selected zinc salts, optionally further containing a silicon compound, wherein the total amount of the bath-soluble polymer is 10 to 950 g / kg. Or an additive for a zinc alloy plating bath.
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