JPH11191453A - 端子板およびその製造方法 - Google Patents

端子板およびその製造方法

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JPH11191453A
JPH11191453A JP9370316A JP37031697A JPH11191453A JP H11191453 A JPH11191453 A JP H11191453A JP 9370316 A JP9370316 A JP 9370316A JP 37031697 A JP37031697 A JP 37031697A JP H11191453 A JPH11191453 A JP H11191453A
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metal
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forming
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JP9370316A
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Inventor
Kiyoshizu Kinuta
精鎮 絹田
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OPUTONIKUSU SEIMITSU KK
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OPUTONIKUSU SEIMITSU KK
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】 端子板を構成する支持板部とバネ作用のある
電気接続部品を高精度な構造にする。また、簡便な製造
方法によって機械的に強い、均一な特性を持った端子板
を製造し、多種類のLSIに対応した高精度の端子板を
低コストで提供する。 【解決手段】 端子板100は貫通孔4を持つ支持板部
1とこれに組み入れられた電気接続部品5から構成され
ていて、支持板部1はLSIと同じ熱膨張係数をもつ導
体部2とこれを覆ってなる絶縁体部3から構成されい
る。また、電気接続部品5は金属細線群あるいは金属板
バネを支持板に固定して構成されている。支持板部1の
導体部2と電気接続部品5の金属細線あるいは金属板バ
ネを電解鍍金によって形成する。支持板部1と電気接続
部品5はどちらの場合も高精度の樹脂パターンに電解鍍
金によって一括に金属を埋め込んで形成し、両者を一括
して組み込んで端子板100が得られる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、パッケージに組み
立てる前のLSIを電気的に評価、検査および試験をす
るためにLSIと測定装置を接続する端子板に関し、と
くにバーイン試験装置で使用する端子板に関する。
【0002】
【従来の技術】LSIが大規模になるにつれてLSIの
ボンデングパッドの端子数が増大し、またこれらのサイ
ズが小さくなり、組み立て前のLSIを電気的に正確に
接続して評価、検査および試験をするための測定装置の
構成が複雑になってきている。この構成において組み立
て前のLSIに外部から電気信号を加えるために、測定
装置側からばね作用のあるプローブによってLSIのボ
ンデングパッドを押さえ、電気的な接触を良好にする配
慮がとられている。この接触圧力が強いとLSIのボン
デングパッドからLSIの主要部にストレスが加わりL
SIの特性劣化を引き起こす要因となり、また、弱いと
接続部の接触抵抗が高くなり、見かけ上、LSIの性能
が低下したような特性が得られ、いずれの場合も好まし
くない。また、高温下において、LSIの連続通電バイ
アス試験をおこなうバーイン試験装置では、上記、接続
部にも熱ストレスが加わり、接続部が劣化しやすく、こ
れらの接触部の構成には特別な配慮が必要である。この
ため、バーイン試験装置ではLSIのボンデングパッド
と試験装置の端子間に薄い厚さで構成された端子板が用
いられている。この端子板の役割は試験装置側からの強
い接触圧力を端子板で受けて緩和し、LSIのボンデン
グパッドと端子板の端子の接続を適切な接触圧力にして
接続部の接触抵抗を小さく抑えることである。また、高
温試験による熱変形のストレスをこの端子板によって緩
和する目的のため、端子板の熱膨張係数はLSI(通常
はSi)のそれと合わせ、一枚の端子板で少なくとも1
個のLSIのボンデングパッドを接続するような構成が
とられている。このため一枚の端子板にはLSIのボン
デングパッドの位置に対応した多数の電気接点(以下、
電気接続部品と呼ぶ)が配置され、これらは個々にバネ
作用を持った構造である必要がある。バーイン試験装置
には多種類のLSIに対応した多種類の端子板が使われ
るのでこれらを低コストで供給できることが望まれてい
る。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】従来の端子板は絶縁板
に精密加工で貫通孔を設け、バネ作用のある電気接続部
品をこれに個々に組み入れて製作する構造のため、製造
に長い時間がかかり、そのため高価である欠点があっ
た。また、機械加工の寸法精度はLSI技術と比べて劣
り、端子板の配列精度が悪いためLSIの接続部と全面
にわたって均一に接続されにくい問題が生じていた。こ
のため端子板の全接点が正常に作動し、LSIのボンデ
ングパッドにすべての端子が良好に接続されているかの
チェックが必要であった。従来はこれに時間がかかり、
かつ仕様を満たす接続を得るための歩留りが低い問題が
あった。このため、従来の他の構成による端子板が検討
され、圧力を加えた部分だけが導電性になる異方性ゴム
板が端子板として使われているが、この構造は接続部の
電気抵抗が十分に低くできない欠点がある。また、端子
板の材料にLSIと同じSi板を用い、異方性のドライ
エッチで垂直の貫通孔を設け、これにバネの端子を配置
した構造の端子板では、機械的強度が弱い欠点がある。
このため、本発明の目的は端子板を構成する支持板部と
バネ作用のある電気接続部品をそれぞれに高精度な構造
にし、高性能な特性を持った端子板を提供することであ
る。また、簡便な製造方法によって機械的に強い、均一
な特性を持った端子板を短時間に製造する技術を提供
し、これによって多種類のLSIに対応した高精度の端
子板を低コストで提供することを目的としている。
【0004】
【課題を解決するための手段】従来技術の課題を解決す
るための手段を以下に記す。本発明の基本とする端子板
100の一端子部分の構造を図1に示す。この端子板1
00は貫通孔4の持つ支持板部1とこれに組み入れられ
た電気接続部品5からなる。支持板部1はLSIと同じ
熱膨張係数をもつ導体部2とこれを覆ってなる絶縁体部
3から構成され、電気接続部品5は金属細線6の群とこ
れらを固定する樹脂7から構成されている。支持板部1
の導体部2は電解鍍金によって形成され、電気接続部品
5の金属細線6も電解鍍金によって形成されることが本
発明の特徴である。また、導体部2の周囲は絶縁体部3
によって覆われている支持板部の構造が本発明の特徴で
ある。支持板部1と電気接続部品5はどちらの場合も樹
脂パターンが予め設けられ、この空孔部に電解鍍金によ
って金属を埋め込んで形成することが特徴であり、これ
によって均質で、寸法精度の高い部品を大量生産によっ
て低コストで供給することができる。
【0005】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例を図1〜8
を用いて説明する。
【0006】実施例1 まず、第一の実施例を図1により詳細に説明する。これ
は本発明の一実施例を示す端子板100の一端子部分の
斜視図と側断面図である。この端子板は貫通孔4の持つ
支持板部1とこれに組み入れられた電気接続部品5から
構成されている。支持板部1の導体部2はFeNi合金
を電解鍍金によって形成したもので、これはSi−LS
Iとほぼ同じ熱膨張係数となる組成の材料(42合金
等)を選択している。支持板部1の導体部2の厚さは約
120μmで、これを覆っている高分子樹脂からなる絶
縁体部3の膜厚は約15μmで、支持板部1の全体の厚
さは約150μmである。支持板部1の貫通孔4の内周
は電気絶縁のため絶縁体部3があり、この一辺は約20
0μmである。電気接続部品5の金属細線6群の大きさ
はLSIのボンデングパッドのサイズに対応して製作さ
れている。例えば約100μm□のボンデングパッドに
は太さ約25μmの金属細線を縦横のピッチ約60μm
で3×3本を配置した構成としている。金属細線の長さ
は約250μmで端子板の厚さ約150μmより長いこ
とが必要である。この金属細線6群は電解鍍金で形成さ
れ、図1の上下方向に圧力を加えたとき、これがバネ作
用をもって相手電極と良好に接続される。金属細線の材
料はNi、Fe、Cu、Auあるいはこれらの合金など
が使われる。なお、金属細線の上下の接触部はAu層で
被服された構造が接触抵抗の低減と長期間の安定化に効
果的である。金属細線6群は支持板部1の貫通孔4に組
み入れられ、樹脂7によって固定される。樹脂7は金属
細線からなる電気接続部品5が端子板100からとれな
いように固定することが目的で、これによってバネ作用
の効果が薄れない配慮が必要である。本発明の端子板は
鍍金マスクと電解鍍金の技術を用いて製造されているの
で寸法精度が機械加工に比べて著しく優れていることが
特徴である。このため、LSIのボンデングパッドの配
列位置に端子板の電気接続部品を高精度に接続すること
ができ、全ての接続部の接触抵抗を低い値に安定化する
ことができる効果がある。また、各部品が一括して高精
度に仕上がるので、均一であり、製造歩留まりが高い効
果がある。さらに、鍍金マスクの変更により多種類のL
SIに対応する端子板を短時間の工数で供給できる効果
がある。多数本の金属細線からなる端子板の電気接続部
品は各金属細線がバネの役割を持つので接続したときの
接触不良が起きにくい効果がある。また、支持板部1の
導体部の金属板は端子板の中で核として使われているの
で機械的強度が強く、端子板は反りが少ないので全面に
わたって均一な接続が行える効果がある。このため、端
子板としての寿命が長い。本発明における端子板の構成
において、支持板部と電気接続部品はそれぞれ本発明を
構成する要素であるため、本発明の支持板部に従来の電
気接続部品を用いた端子板の構造あるいは本発明の電気
接続部品に従来の支持板部を用いた端子板の構造であっ
ても本発明である端子板の構成であることは明らかであ
ることを付言する。
【0007】実施例2 次に、第二の実施例を図2により詳細に説明する。これ
は本発明の別の実施例を示す端子板の一端子部分の側断
面図である。実施例1と異なる点は端子板200の貫通
孔24に組み入れる電気接続部品25の構造である。導
体部22と絶縁体部23から構成されている端子板20
0の支持板部21は実施例1と同じである。電気接続部
品25は図2(a)の様にNi金属細線27とこの上下
にそれぞれAuの接点部26、28を持ち、樹脂29に
よって保持された構造である。樹脂29はシリコーン樹
脂のようなゴム性のある材料が適し、電気接続部品25
の上下方向に対してバネ性がある構成である。図2
(b)の様に端子板200の貫通孔24に電気接続部品
25を組み込んで、これを接着材20で固定して本発明
の実施例である端子板200の構造が得られる。金属細
線27の断面形状は正方形でも長方形であってもよく、
これは鍍金マスクと電解鍍金の技術を用いて形成される
ことが特徴である。また、電気接続部品25は接点部2
6のつばによって貫通孔24から外れない構造を示した
が、これは本質的なことではなく、接点部28の構造を
上下面につけ電気接続部品25は貫通孔24に樹脂で固
定される構造であってもよい。また、金属細線の断面形
状は正方形や長方形に限定されず任意の形状であっても
よい。
【0008】実施例3 第三の実施例を図3により詳細に説明する。これは本発
明の他の実施例を示す電気接続部品の斜視図と端子板の
一端子部分の側断面図である。実施例1と異なる点は端
子板300の貫通孔34に組み入れる電気接続部品35
の構造である。導体部32と絶縁体部33から構成され
ている端子板300の支持板部31は実施例1と同じで
ある。電気接続部品35は図3(a)の様にNi金属細
板35からなるバネ作用のある金属材で、これは電解鍍
金によって形成されていることを特徴としている。バネ
の形状はパターン設計によって任意のものが使用可能で
ある。図3(b)の様に端子板300の貫通孔34に電
気接続部品35を組み込んで、これを接着材30で固定
して本発明の実施例である端子板300の構造が得られ
る。貫通孔34のサイズが一辺150μmの角、深さ1
50μmに組み入れる金属細板バネ35の厚さは5μ
m、幅は80μm、長さは250μmである。LSIの
ボンデングパッドおよび試験装置の端子と接する金属細
板バネ35の先端は図3のように尖っていても、または
面積のある平面であってもよい。
【0009】実施例4 次に、第四の実施例を図4により詳細に説明する。これ
は本発明の実施例1で述べた端子板の貫通孔4に組み入
れる電気接続部品5を製造する方法における一実施例で
ある。金属支持台40上の約250μm厚のPMMA板
にX線露光技術によりPMMAを貫通してなる高アスペ
クト比のパターンを形成する。このあと、電解鍍金によ
りNiをPMMA板と同じ厚さに形成した後、PMMA
を有機溶剤で取り去る(a)。Niの金属細線群45の
寸法は実施例1で述べた通りであり、金属細線群45の
ピッチは400μmである。1本の金属細線は太さ25
μm□、長さ250μmである。このような高アスペク
ト比の形成技術はX線露光技術により可能である。つぎ
に金属支持台40上にスペーサ層である水溶性樹脂49
を約50μmの厚さに形成したあと(b)、端子板40
0を構成する支持板部41をこれに合わせて乗せる。支
持板部41の貫通孔44のサイズは200μm□、ピッ
チは400μmである。支持板部41の貫通孔44には
Niの金属細線群45が一度に配列される(c)。この
後、エポキシ等の樹脂47を貫通孔44内に注入して支
持板部41にNiの金属細線群45を固定して(d)、
金属支持台40と水溶性樹脂49をこれらから取り去る
とLSI用の端子板400が出来上がる(e)。金属細
線群45を形成するための鍍金マスクはPMMAの露光
による例で述べたが、これは予め製作した金型から形成
した樹脂のマスクであってもよく、この作り方に限定は
ない。また、スペーサ層は水溶性樹脂に限定されず、一
定厚さの孔の空いたシート状の層であってもよい。本発
明の特徴は図4(c)で述べたように端子板に多数個あ
る電気接続部品を一回の工程で形成することができるこ
とである。これは予め必要な位置に金属細線群の鍍金マ
スクパターンを配列することによって容易に達成するこ
とができる。従来は金属細線群を個々に貫通孔に組み入
れる作業を必要としていたので、大幅な工数の低減がは
かれ、低コスト化できる効果がある。
【0010】実施例5 次に、第五の実施例を図5により詳細に説明する。これ
は本発明の実施例2で述べた端子板の貫通孔24に組み
入れる電気接続部品25を製造する方法における一実施
例である。金属支持台50上のPMMA板にX線露光技
術によりPMMAを貫通してなる高アスペクト比のパタ
ーンを形成する。これを鍍金マスクにして、電解鍍金に
よりNiをPMMA板と同じ厚さに形成した後、PMM
Aを有機溶剤で取り去り金属細線群57を形成する
(a)。この表面に光応答性のあるシリコーン樹脂52
をNiの金属細線群57とほぼ同じ厚さに塗り(b)、
金属細線群57の先端に電気接続したAuの接点部56
を同じく鍍金によって形成する(c)。次に上記、金属
支持台50をはずし、この反対面の接点部56に金属支
持台50’を電気的に接触させる。シリコーン樹脂52
から露出した金属細線群57の先端に電気接続したAu
の接点部58を同じく鍍金によって形成する(d)。さ
らに、遮光マスクを用いて上記、シリコーン樹脂52に
光を照射し、金属細線群57の周りだけに硬化したシリ
コーン樹脂59を形成する(e)。これによって、形状
と寸法の揃った電気接続部品55が量産される。この
後、端子板を構成する支持板部51をこれに合わせて乗
せ、電気接続部品55を支持板部51に固定し、金属支
持台50’を取り去ると所望の端子板500が出来上が
る(f)。金属細線の断面形状は正方形や長方形に限定
されず任意の形状であってもよい。図5の様に電気接続
部品55を支持板部51に一括して取り付けることがで
きるので仕上がり寸法ばらつきが小さく、また作業時間
が極めて短くでき、これによって高精度の端子板を安価
に供給できる効果がある。なお、この電気接続部品55
は個々に分けて修理などの用途に一個ずつ用いてもよ
い。
【0011】実施例6 次に、第六の実施例を図6と図7により詳細に説明す
る。これは本発明の実施例3で述べた端子板の貫通孔3
4に組み入れる電気接続部品35の製造方法における一
実施例である。図6を参照にして製作手順を述べる。金
属支持台60上のPMMA板61にX線露光技術により
PMMA板を貫通してなる高アスペクト比のパターン6
2を形成する(a)。このあと、電解鍍金によりNiを
PMMA板61とほぼ同じ厚さに形成し(b)、PMM
Aを有機溶剤で取り去り、さらに金属支持台60から電
気接続部品65を剥離して部品が得られる(c)。電気
接続部品65はパターン形状62によってバネ作用が持
てるように設計され、例えば図7のようなバランス型バ
ネのパターン形状75でもよく、この形状は限定される
ものではない。パターン形状の幅は5μm、深さは80
μmであり、これが金属細板バネ65の厚さ:5μm、
幅:80μm、長さ:250μmとなる。図6と図7の
様な本発明の製造方法では一回の製造工程によって大量
の電気接続部品である金属細板バネ65が製造でき、し
かも均一である特徴がある。これによって大幅に低コス
ト化できる効果がある。
【0012】実施例7 次に、第七の実施例を図8により詳細に説明する。これ
は本発明の実施例1と2で述べた端子板において、貫通
孔を持つ支持板部の製造方法の一実施例を述べたもので
ある。金属支持台80上のPMMA板88にX線露光技
術によりPMMA板を貫通してなるパターン87を形成
する(a)。このあと、電解鍍金によりFeNi合金の
導体部82をPMMA板88とほぼ同じ厚さに形成し
(b)、PMMAを有機溶剤で取り去り、さらに金属支
持台80から導体部82を剥離して基本部品が得られる
(c)。支持板部81の導体部82はSi−LSIとほ
ぼ同じ熱膨張係数となる合金材料が選択されている。導
体部82の厚さは約120μmであり、続いてこれを全
面にわたって覆うように高分子樹脂からなる膜厚:約1
5μmの絶縁体部83を形成する(d)。この形成方法
は電着塗装によってポリウレタンなどを被着したり、高
分子ガス雰囲気で樹脂を成膜したり、あるいは光硬化樹
脂を塗布しマスクを用いたUV照射によって形成したり
する技術があり、これらは限定されるものではない。ま
た、導体部82を形成するための鍍金マスクはPMMA
の露光による例で述べたが、これは予め製作した金型か
ら形成した樹脂のマスクであってもよく、この作り方に
限定はない。支持板部81の貫通孔84の寸法や位置は
電解鍍金の技術を用いて製造されているので寸法精度が
機械加工に比べて著しく優れていることが特徴である。
また、貫通孔84の位置はLSIのボンデングパッドの
配列位置にあわせてリソグラフィ技術で形成できるので
寸法精度が極めて高く、LSIと同等である。多品種の
LSIに対応して多種類の端子板を短納期で供給できる
ので、開発の効率化と低コスト化に貢献できる効果があ
る。
【0013】
【発明の効果】(1)端子板の電気接続部品と支持板部
を電解鍍金によって形成することによって均質で、寸法
精度の高い部品を大量生産できるようになり、品質と製
造歩留まりが著しく向上し、低コスト化の見通しが得ら
れた。 (2)端子板の電気接続部品を電解鍍金によって形成す
ることによってバネ作用の構造を任意の形状に設計でき
るようになり端子板の電極としての性能と信頼性が向上
した。 (3)端子板の支持板部を鍍金マスクによる電解鍍金に
よって形成するので寸法精度が高く、被測定物と同じ熱
伝導率の金属材料が選択できるため、熱によるずれが少
ない。また、機械的強度の高い、反りの少ない端子板が
得られるため、全面にわたって接触部の接続が良好にな
った。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例1の端子板の一端子部分の斜視
図と側断面図。
【図2】本発明の実施例2の端子板の一端子部分の側断
面図。
【図3】本発明の実施例3の電気接続部品の斜視図と端
子板の一端子部分の側断面図。
【図4】本発明の実施例4の端子板の貫通孔に組み入れ
る電気接続部品の主要製造工程における側断面図。
【図5】本発明の実施例5の端子板の貫通孔に組み入れ
る電気接続部品の主要製造工程における側断面図。
【図6】本発明の実施例6の端子板の貫通孔に組み入れ
る電気接続部品の主要製造工程における斜視図。
【図7】本発明の実施例6の端子板の貫通孔に組み入れ
る電気接続部品の他の製造工程における斜視図。
【図8】本発明の実施例7の端子板の貫通孔を持つ支持
板部の主要製造工程における側断面図。
【符号の説明】
100、200、300、400、500…端子板 1、21、31、41、51…支持板部 2、22、32、82…導体部 3、23、33、83…絶縁体部 4、24、34、44、54、84…貫通孔 5、25、35…電気接続部品 6、27…金属細線 7、29、47、59…樹脂 20、30…接着材 45、57…金属細線群 40、50、60、70、80、50’…金属支持台 61、71、88…PMMA 板 62、72、87…パターン

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 支持板部と電気接続部品の構成からなる
    端子板において、少なくとも支持板部は、貫通孔のある
    導体部とこれを覆ってなる絶縁体部によって構成されて
    いることを特徴とした端子板。
  2. 【請求項2】 上記、支持板部の導体部は鍍金マスクに
    よる電解鍍金によって貫通孔が形成されていることを特
    徴とした請求項1記載の端子板。
  3. 【請求項3】 支持板部と電気接続部品の構成からなる
    端子板において、少なくとも電気接続部品は、電解鍍金
    によって形成した金属材によって構成されていることを
    特徴とした端子板。
  4. 【請求項4】 上記、電気接続部品はバネ作用のある金
    属材によって構成されていることを特徴とした請求項3
    記載の端子板。
  5. 【請求項5】 上記、電気接続部品は金属細線の群によ
    って構成されていることを特徴とした請求項3〜4記載
    の端子板。
  6. 【請求項6】 端子板の製造工程において、金属支持台
    上に鍍金マスクを形成する工程と、上記、金属支持台を
    電極にして電解鍍金により電気接続部品の金属細線の群
    を形成する工程と、鍍金マスクを除去する工程と、上
    記、金属支持板上の金属細線の群にスペーサからなる樹
    脂層を設ける工程と、上記、金属支持台上の金属細線の
    群に端子板を構成する支持板部の貫通孔を重ね合わせる
    工程と、樹脂により支持板部と電気接続部品の金属細線
    の群を固定する工程と、上記、金属支持台とスペーサか
    らなる樹脂層を取り去る工程と、を基本としてなる端子
    板の製造方法。
  7. 【請求項7】 端子板を構成する支持板部の製造工程に
    おいて、金属支持台上に鍍金マスクを形成する工程と、
    上記、金属支持台を電極にして電解鍍金により貫通孔を
    持つ導体部を形成する工程と、鍍金マスクと金属支持台
    を取り去る工程と、導体部の全面にわたって絶縁体材に
    よって覆う工程と、を基本としてなる支持板部の製造方
    法。
  8. 【請求項8】 端子板を構成する電気接続部品の製造工
    程において、金属支持台上に鍍金マスクを形成する工程
    と、上記、金属支持台を電極にして電解鍍金により金属
    板バネを形成する工程と、鍍金マスクと金属支持台を取
    り去る工程と、を基本としてなる電気接続部品の製造方
    法。
  9. 【請求項9】 端子板を構成する電気接続部品の製造工
    程において、金属支持台上に鍍金マスクを形成する工程
    と、上記、金属支持台を電極にして電解鍍金により金属
    細線の群を形成する工程と、鍍金マスクを除去する工程
    と、上記、金属支持板上の金属細線の群を樹脂により固
    定する工程と、上記、金属細線の上面に接点部を電解鍍
    金により形成する工程と、金属支持台から金属細線の群
    をはずし、上面の金属細線を金属支持台に接続する工程
    と、上記、金属細線の下面に接点部を電解鍍金により形
    成する工程と、金属支持台を取り去る工程と、を基本と
    してなる電気接続部品の製造方法。
JP9370316A 1997-12-25 1997-12-25 端子板およびその製造方法 Pending JPH11191453A (ja)

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