JPH11190902A - Method for preparing lithographic printing plate and heat mode recording lithographic printing plate - Google Patents
Method for preparing lithographic printing plate and heat mode recording lithographic printing plateInfo
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- JPH11190902A JPH11190902A JP36614797A JP36614797A JPH11190902A JP H11190902 A JPH11190902 A JP H11190902A JP 36614797 A JP36614797 A JP 36614797A JP 36614797 A JP36614797 A JP 36614797A JP H11190902 A JPH11190902 A JP H11190902A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、レーザーを用いてデジ
タル記録をすることができるヒートモード記録平版印刷
版及び平版印刷版の作製方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a heat-mode recording lithographic printing plate capable of digital recording using a laser and a method for producing a lithographic printing plate.
【0002】[0002]
【発明の背景】近年、レーザーを用いてデジタル的に像
を形成し平版印刷版を作製することが行われてきてい
る。例えば、WO96/20429号には、ナフトキノ
ンジアジドとフェノール樹脂のエステルまたはo−キノ
ンジアジドエステル化物とフェノール樹脂の混合物を支
持体上に塗設したヒートモード記録平版印刷版を、紫外
線にて全面露光した後、赤外線レーザーにて画像露光
し、レーザー露光部以外を現像液にて除去するヒートモ
ード記録方法が記載されている。BACKGROUND OF THE INVENTION In recent years, it has been practiced to form a lithographic printing plate by digitally forming an image using a laser. For example, WO 96/20429 discloses that a heat mode recording lithographic printing plate in which an ester of naphthoquinonediazide and a phenolic resin or a mixture of an o-quinonediazide esterified product and a phenolic resin is coated on a support is exposed entirely to ultraviolet light. A heat mode recording method in which an image is exposed by an infrared laser and a portion other than the laser exposed portion is removed by a developer is described.
【0003】この画像形成プロセスの原理は、WO96
/20429号の2頁に記載されているが、o−キノン
ジアジド化合物が紫外線で露光されるとインデンカルボ
ン酸になり、加熱されると、現像液に不溶化する現象を
利用したものである。The principle of this image forming process is described in WO96.
No. / 20429, which utilizes the phenomenon that an o-quinonediazide compound becomes indenecarboxylic acid when exposed to ultraviolet light, and becomes insoluble in a developing solution when heated.
【0004】また、特開平7−43894号公報には、
o−キノンジアジド化合物と、分子中に窒素を含有する
特定の化学構造を有し、極大吸収波長が680〜125
0nmにあるシアニン系色素、アズレニウム系色素、ス
クワリウム系色素、クロコニウム系色素、キノン系色
素、チアジン系色素、キサンテン系色素から選ばれた、
o−キノンジアジド化合物の光反応生成物と加熱により
反応してアルカリ不溶物を形成させる添加物を含有する
組成物を支持体上に設けた画像形成材料に活性光線を用
いて全面露光し、赤外レーザービームを照射し、アルカ
リ性現像液を用いてレーザービームの非照射領域を除去
し、画像を形成する方法が記載されている。Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-43894 discloses that
It has an o-quinonediazide compound and a specific chemical structure containing nitrogen in the molecule, and has a maximum absorption wavelength of 680 to 125.
0 nm selected from cyanine dye, azurenium dye, squarium dye, croconium dye, quinone dye, thiazine dye, xanthene dye,
An image forming material provided on a support is entirely exposed to a composition containing an additive which reacts with a photoreaction product of an o-quinonediazide compound by heating to form an alkali insoluble material, using actinic rays, and A method is described in which an image is formed by irradiating a laser beam and removing a non-irradiated area of the laser beam using an alkaline developer.
【0005】しかし、これらの方法で作成した平版印刷
版は、非画像部に残膜が生じ易く、また、色素残りが発
生し易いため、印刷時に非画像部が汚れ易いという欠点
を有していた。特に、全面露光した後、現像するまでに
時間がかかると、非画像部の汚れが顕著となる。また、
特に、特開平7−43894号公報に記載の赤外吸収色
素は、非画像部に強い色素残りを起すという欠点を有し
ている。However, the lithographic printing plate prepared by these methods has a disadvantage that the non-image portion is easily stained during printing because a residual film is easily formed on the non-image portion and a dye residue is easily generated. Was. In particular, if it takes a long time to develop after the entire surface is exposed, the stain on the non-image portion becomes remarkable. Also,
In particular, the infrared absorbing dye described in JP-A-7-43894 has a disadvantage that a strong dye remains in a non-image area.
【0006】また、赤外線及び紫外線により記録可能な
材料として、米国特許第5,340,699号明細書に
は、酸発生剤、レゾール樹脂、ノボラック樹脂及び赤外
線吸収色素からなり、露光部が硬化して現像液に不溶と
なり、画像部となる組成物が記載されているが、保存性
が悪いという欠点を有していた。Further, as a material recordable by infrared rays and ultraviolet rays, US Pat. No. 5,340,699 discloses an acid generator, a resole resin, a novolak resin and an infrared absorbing dye, and the exposed portion is cured. However, the composition which is insoluble in a developing solution and becomes an image portion is described, but has a disadvantage that storage stability is poor.
【0007】そこで、本発明者が検討したところ、o−
キノンジアジド化合物と赤外吸収物質とを含有する画像
形成層を有するヒートモード記録平版印刷版において
は、紫外線にて行う全面露光の前に、レーザー光にて走
査露光することにより上記の欠点が解消できることが判
明した。また、画像形成層に分子内に窒素原子を含有し
ないピリリウム色素、チオピリリウム色素、チオールニ
ッケル錯塩色素、メルカプトフェノール錯塩色素、メル
カプトナフトール錯塩色素から選ばれた赤外吸収色素を
含有させることにより、上記従来のように、紫外線にて
全面露光した後、赤外線レーザーにて画像露光し、レー
ザー露光部以外を現像液にて除去して画像を形成した場
合においても、上記の欠点が解消できることが判明し
た。Thus, the present inventor studied and found that o-
In a heat mode recording planographic printing plate having an image forming layer containing a quinonediazide compound and an infrared absorbing substance, the above-mentioned drawbacks can be eliminated by performing scanning exposure with a laser beam before performing full-surface exposure with ultraviolet rays. There was found. Further, by containing an infrared absorbing dye selected from a pyrylium dye, a thiopyrylium dye, a thiol nickel complex salt dye, a mercaptophenol complex salt dye, and a mercapton naphthol complex salt dye containing no nitrogen atom in the molecule in the image forming layer, As described above, it has been found that the above-mentioned disadvantages can be solved even when the image is formed by exposing the entire surface with ultraviolet rays, then exposing the image with an infrared laser, and removing portions other than the laser exposed portion with a developing solution.
【0008】[0008]
【本発明が解決しようとする課題】従って、本発明は、
印刷時に非画像部の汚れがなく、優れた感度を有し、保
存性も良好であり、レーザーを用いてデジタル記録をす
ることができるヒートモード記録平版印刷版及び平版印
刷版の作製方法を提供することにある。Accordingly, the present invention provides:
Provided is a heat-mode recording planographic printing plate and a method for preparing a planographic printing plate that have no sensitivity to non-image portions during printing, have excellent sensitivity, have good storage stability, and can perform digital recording using a laser. Is to do.
【0009】[0009]
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、 (1)支持体上にo−キノンジアジド化合物と赤外吸収
物質とを含有する画像形成層を設けたヒートモード記録
平版印刷版を、像様にレーザー光にて露光または加熱し
た後、紫外線にて全面露光し、水系現像液にて現像する
ことを特徴とする平版印刷版の作製方法。 (2)画像形成層に、フェノール性OH基含有樹脂が含
有されていることを特徴とする上記(1)に記載の平版
印刷版の作製方法。 (3)画像形成層に、アミン化合物、スピロ化合物、イ
ミダゾール化合物、4級アンモニウム化合物、尿素,チ
オ尿素及びこれらの誘導体、酸性染料、ピリジン環化合
物、アミド化合物から選ばれた少なくとも1つの化合物
が含有されていることを特徴とする上記(1)または
(2)に記載の平版印刷版の作製方法。 (4)支持体上に(a)o−キノンジアジド化合物及び
(b)分子内に窒素原子を含有しないピリリウム色素、
チオピリリウム色素、チオールニッケル錯塩色素、メル
カプトフェノール錯塩色素、メルカプトナフトール錯塩
色素から選ばれた少なくとも1つの赤外吸収色素を含有
する画像形成層を設けたことを特徴とするヒートモード
記録平版印刷版。 (5)画像形成層に、フェノール性OH基含有樹脂を含
有させたことを特徴とする上記(4)に記載のヒートモ
ード記録平版印刷版。 (6)画像形成層に、アミン化合物、スピロ化合物、イ
ミダゾール化合物、4級アンモニウム化合物、尿素,チ
オ尿素及びこれらの誘導体、酸性染料、ピリジン環化合
物、アミド化合物から選ばれた少なくとも1つの化合物
を含有させたことを特徴とする上記(4)または(5)
に記載のヒートモード記録平版印刷版。 (7)上記(4)〜(6)のいずれかに記載のヒートモ
ード記録平版印刷版を、紫外線による全面露光及び像様
のレーザー光露光または加熱をし、水系現像液にて現像
することを特徴とする平版印刷版の作製方法。 によって達成された。The object of the present invention is to provide (1) a heat mode recording lithographic printing plate having an image forming layer containing an o-quinonediazide compound and an infrared absorbing substance on a support, A method for preparing a lithographic printing plate, comprising exposing or heating with an imagewise laser beam, exposing the entire surface to ultraviolet rays, and developing with an aqueous developer. (2) The method for preparing a lithographic printing plate as described in (1) above, wherein the image forming layer contains a phenolic OH group-containing resin. (3) The image forming layer contains at least one compound selected from an amine compound, a spiro compound, an imidazole compound, a quaternary ammonium compound, urea, thiourea and derivatives thereof, an acid dye, a pyridine ring compound and an amide compound. The method for preparing a lithographic printing plate as described in (1) or (2) above, wherein (4) an o-quinonediazide compound on a support and (b) a pyrylium dye containing no nitrogen atom in the molecule,
A heat mode recording planographic printing plate comprising an image forming layer containing at least one infrared absorbing dye selected from a thiopyrylium dye, a thiol nickel complex dye, a mercaptophenol complex salt dye, and a mercaptonaphthol complex salt dye. (5) The heat mode recording lithographic printing plate as described in (4) above, wherein the image forming layer contains a phenolic OH group-containing resin. (6) The image forming layer contains at least one compound selected from an amine compound, a spiro compound, an imidazole compound, a quaternary ammonium compound, urea, thiourea and derivatives thereof, an acid dye, a pyridine ring compound and an amide compound. (4) or (5) above,
The heat mode recording lithographic printing plate described in 1. (7) The heat-mode recording lithographic printing plate according to any one of the above (4) to (6) is subjected to full-surface exposure with ultraviolet light and imagewise laser light exposure or heating, and is developed with an aqueous developer. A method for producing a lithographic printing plate as a feature. Achieved by
【0010】以下に本発明を詳細に説明する。Hereinafter, the present invention will be described in detail.
【0011】先ず、本発明の支持体上にo−キノンジア
ジド化合物と赤外吸収物質とを含有する画像形成層を塗
設してなるヒートモード記録平版印刷版について説明す
る。First, a heat mode recording planographic printing plate comprising an image forming layer containing an o-quinonediazide compound and an infrared absorbing substance on a support of the present invention will be described.
【0012】上記赤外線吸収剤としては、波長700n
m以上に吸収を持つ赤外吸収色素、カーボンブラック、
磁性粉等を使用することができる。特に好ましい赤外線
吸収剤は700〜1200nmに吸収ピークを有し、ピ
ークでのモル吸光係数εが105以上である赤外吸収色
素である。[0012] As the infrared absorbent, a wavelength of 700 n
m, an infrared absorbing dye having an absorption of at least m, carbon black,
Magnetic powder or the like can be used. A particularly preferred infrared absorbing dye is an infrared absorbing dye having an absorption peak at 700 to 1200 nm and a molar extinction coefficient ε at the peak of 10 5 or more.
【0013】上記赤外吸収色素としては、シアニン系色
素、スクアリウム系色素、クロコニウム系色素、アズレ
ニウム系色素、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニ
ン系色素、ポリメチン系色素、ナフトキノン系色素、チ
オピリリウム系色素、ジチオール金属錯体系色素、アン
トラキノン系色素、インドアニリン金属錯体系色素、分
子間CT色素、アミニウム色素、ジイモニウム色素、ピ
リリウム色素、チオールニッケル錯塩色素、メルカプト
フェノール錯塩色素、メルカプトナフトール錯塩色素等
が挙げられるが、赤外吸収色素として、分子内に窒素原
子を含有しないピリリウム色素、チオピリリウム色素、
チオールニッケル錯塩色素、メルカプトフェノール錯塩
色素、メルカプトナフトール錯塩色素を用いた場合、像
様にレーザー光にて露光した後、紫外線にて全面露光
し、水系現像液にて現像したときばかりでなく、従来の
ように、紫外線にて全面露光した後、赤外線レーザーに
て画像露光し、レーザー露光部以外を現像液にて除去し
たときでも、従来のヒートモード記録平版印刷版におけ
る欠点を改善することができるので好ましい。The above-mentioned infrared absorbing dyes include cyanine dyes, squarium dyes, croconium dyes, azurenium dyes, phthalocyanine dyes, naphthalocyanine dyes, polymethine dyes, naphthoquinone dyes, thiopyrylium dyes, dithiol metal dyes Complex dyes, anthraquinone dyes, indoaniline metal complex dyes, intermolecular CT dyes, aminium dyes, diimmonium dyes, pyrylium dyes, thiol nickel complex dyes, mercaptophenol complex salt dyes, mercaptonaphthol complex salt dyes, and the like. As external absorption dyes, pyrylium dyes containing no nitrogen atom in the molecule, thiopyrylium dyes,
When using a thiol nickel complex dye, mercaptophenol complex salt dye, or mercaptonaphthol complex salt dye, after exposing imagewise with laser light, exposing the whole surface with ultraviolet light and developing with an aqueous developer, As described above, after the entire surface is exposed to ultraviolet light, the image is exposed to an infrared laser, and even when the portion other than the laser exposed portion is removed with a developing solution, defects in the conventional heat mode recording lithographic printing plate can be improved. It is preferred.
【0014】上記赤外吸収色素としては、更に、特開昭
63−139191号公報、同64−33547号公
報、特開平1−160683号公報、同1−28075
0号公報、同1−293342号公報、同2−2074
号公報、同3−26593号公報、同3−30991号
公報、同3−34891号公報、同3−36093号公
報、同3−36094号公報、同3−36095号公
報、同3−42281号公報、同3−103476号公
報等に記載の化合物が挙げられる。The infrared absorbing dyes further include JP-A-63-139191, JP-A-64-33547, JP-A-1-160683, and 1-28075.
No. 0, No. 1-293342, No. 2-2074
JP-A-3-26593, JP-A-3-30991, JP-A-3-34891, JP-A-3-36093, JP-A-3-36094, JP-A-3-36095, and JP-A-3-42281 And the compounds described in JP-A Nos. 3-103476 and 3-103476.
【0015】赤外線吸収剤としては、下記一般式(1)
で表されるシアニン染料が好ましく用いられる。As the infrared absorber, the following general formula (1)
The cyanine dye represented by is preferably used.
【0016】[0016]
【化1】 一般式(1)において、(X)は、分子の電荷を相殺す
るのに必要なイオンを表し、nは、分子の総電荷を中和
させるのに必要な数を表す。分子内塩を形成している場
合、nは0である。対イオンの例としては、Cl-、B
r-、ClO - 4、BF - 4、t−ブチルトリフェニルホ
ウ素等のアルキルホウ素等が挙げられる。Embedded image In the general formula (1), (X) represents an ion necessary to cancel the charge of the molecule, and n represents a number necessary to neutralize the total charge of the molecule. N is 0 when an internal salt is formed. Examples of counter ions include Cl − , B
r -, ClO - 4, BF - 4, include alkylboron arsenide of t- butyl triphenyl borate arsenide.
【0017】一般式(1)において、Aは炭素原子数が
5ないし13の共役炭素原子を表す。共役炭素原子にお
いて、炭素原子数は、画像露光の光源として赤外線を放
射するレーザーが使用される場合、該レーザーの発信波
長に合わせて有効な数を選択することが好ましい。例え
ば、発信波長1060nmのYAGレーザーを使用する
場合は、炭素数が9〜13の共役炭素原子が好ましい。
この共役炭素原子は水素原子または任意の置換基を有し
ている。また、共役結合部分は置換基により環を形成さ
せてもよい。In the general formula (1), A represents a conjugated carbon atom having 5 to 13 carbon atoms. In the case where a laser emitting infrared rays is used as a light source for image exposure, it is preferable to select an effective number of carbon atoms for the conjugated carbon atoms in accordance with the transmission wavelength of the laser. For example, when using a YAG laser having an emission wavelength of 1060 nm, a conjugated carbon atom having 9 to 13 carbon atoms is preferable.
This conjugated carbon atom has a hydrogen atom or any substituent. In addition, the conjugate bond may form a ring with a substituent.
【0018】一般式(1)において、Z1で形成される
環及びZ2で形成される環は縮合環を有していてもよ
く、また、任意の置換基を有することができる。置換基
としてハロゲン原子、炭素原子数1〜5のアルキル基、
炭素原子数1〜5のアルコキシ基、−SO3M及び一C
OOM(Mは水素原子又はアルカリ金属原子)から選ば
れる基が好ましい。In the general formula (1), the ring formed by Z 1 and the ring formed by Z 2 may have a condensed ring, and may have any substituent. As a substituent, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms,
An alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, -SO 3 M and a single C
A group selected from OOM (M is a hydrogen atom or an alkali metal atom) is preferable.
【0019】Y1及びY2は任意の置換基を表し、好まし
い置換基としては、炭素原子数1〜5のアルキル基もし
くはアルコキシ基;−〔(CH2)n−O〕k−(CH2)
mOR(n及びmは各々1〜3の整数、kは0又は1、
Rは炭素原子数1〜5のアルキル基を表す。);−R−
SO3M(Rは炭素原子数1〜5のアルキレン基、Mは
アルカリ金属原子を表す。);−R−COOM(Rは炭
素原子数1〜5のアルキレン基、Mはアルカリ金属原子
を表す。)が挙げられる。Y1及びY2は、感度及び現像
性の点から、分子内塩を形成する上記−R−SO3M又
は−R−COOMであることが好ましい。Y 1 and Y 2 each represent an optional substituent. Preferred substituents are an alkyl group or an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms;-[(CH 2 ) n -O] k- (CH 2 )
m OR (n and m are each an integer of 1 to 3, k is 0 or 1,
R represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms. ); -R-
SO 3 M (R is an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, M represents an alkali metal atom.); - R-COOM ( R is an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, M represents an alkali metal atom )). Y 1 and Y 2 are preferably the above-mentioned —R—SO 3 M or —R-COOM which forms an internal salt from the viewpoint of sensitivity and developability.
【0020】一般式(1)で表されるシアニン色素は、
画像露光の光源として半導体レーザーを使用する場合は
750〜900nmにおいて、YAGレーザーを使用す
る場合は900〜1200nmにおいて吸収ピークを示
し、ε>1×105のモル吸光係数を有するものが好ま
しい。The cyanine dye represented by the general formula (1) is
When a semiconductor laser is used as a light source for image exposure, it preferably has an absorption peak at 750 to 900 nm, and when a YAG laser is used, has an absorption peak at 900 to 1200 nm, and has a molar absorption coefficient of ε> 1 × 10 5 .
【0021】本発明において、赤外線吸収剤の添加量
は、0.5〜15重量%の範囲が好ましい。添加量が1
5重量%を越えると非画像部(露光部)の現像性が低下
し、0.5重量%未満では画像部の耐現像性が低下す
る。In the present invention, the amount of the infrared absorber added is preferably in the range of 0.5 to 15% by weight. Addition amount is 1
If it exceeds 5% by weight, the developability of the non-image area (exposed area) decreases, and if it is less than 0.5% by weight, the development resistance of the image area decreases.
【0022】本発明に好ましく用いられる赤外線吸収剤
(一般式(1)で表されるシアニン色素を含む)の代表
的具体例を以下に挙げるが、これらに限定されない。Representative specific examples of the infrared absorber (including the cyanine dye represented by the general formula (1)) preferably used in the present invention are shown below, but are not limited thereto.
【0023】[0023]
【化2】 Embedded image
【0024】[0024]
【化3】 Embedded image
【0025】[0025]
【化4】 Embedded image
【0026】[0026]
【化5】 Embedded image
【0027】[0027]
【化6】 Embedded image
【0028】[0028]
【化7】 Embedded image
【0029】[0029]
【化8】 Embedded image
【0030】[0030]
【化9】 Embedded image
【0031】[0031]
【化10】 Embedded image
【0032】[0032]
【化11】 Embedded image
【0033】[0033]
【化12】 Embedded image
【0034】[0034]
【化13】 Embedded image
【0035】[0035]
【化14】 Embedded image
【0036】[0036]
【化15】 Embedded image
【0037】これらの色素は公知の方法によって合成す
ることができるが、下記のような市販品を用いることも
できる。These dyes can be synthesized by known methods, but the following commercially available products can also be used.
【0038】日本化薬:IR750(アントラキノン
系);IRG002、IRG003(アミニウム系);
IR820(ポリメチン系);IRG022、IRG0
33(ジイモニウム系);CY−2,CY−4、CY−
9,CY−20 三井東圧:KIR103、SIR103(フタロシアニ
ン系);KIR101、SIR114(アントラキノン
系);PA1001、PA1005、PA1006、S
IR128(金属錯体系) 大日本インキ化学:Fastogen blue812
0 みどり化学:MIR−101、MIR−1011、MI
R−1021 日本感光色素:NKX−113(例示化合物1−52)
(金属錯体系)、NK−3508(例示化合物1−5
3),NK3509(例示化合物1−54),NK−3
519(例示化合物1−55)(ピリリウム系)、NK
−2545(シアニン系) その他、住友化学、富士写真フィルム等の各社からも市
販されている。Nippon Kayaku: IR750 (anthraquinone type); IRG002, IRG003 (aminium type);
IR820 (polymethine type); IRG022, IRG0
33 (diimonium-based); CY-2, CY-4, CY-
9, CY-20 Mitsui Toatsu: KIR103, SIR103 (phthalocyanine); KIR101, SIR114 (anthraquinone); PA1001, PA1005, PA1006, S
IR128 (metal complex type) Dainippon Ink and Chemicals: Fastogen blue 812
0 Midori Kagaku: MIR-101, MIR-1011, MI
R-1021 Japanese photosensitive dye: NKX-113 (Exemplified compound 1-52)
(Metal complex type), NK-3508 (Exemplified compound 1-5)
3), NK3509 (exemplified compound 1-54), NK-3
519 (exemplified compound 1-55) (pyrylium compound), NK
-2545 (cyanine-based) Other commercially available from companies such as Sumitomo Chemical and Fuji Photo Film.
【0039】次に、o−キノンジアジド化合物について
説明する。Next, the o-quinonediazide compound will be described.
【0040】o−キノンジアジド化合物とは、分子中に
o−キノンジアジド基を有する化合物であって、本発明
で使用することができるo−キノンジアジド化合物とし
ては、例えば、o−ナフトキノンジアジド化合物、例え
ば、o−ナフトキノンジアジドスルホン酸とフェノール
類及びアルデヒド又はケトンとの重縮合樹脂とのエステ
ル化合物等が挙げられる。The o-quinonediazide compound is a compound having an o-quinonediazide group in the molecule. Examples of the o-quinonediazide compound that can be used in the present invention include an o-naphthoquinonediazide compound, for example, o-quinonediazide compound. Ester compounds of a polycondensation resin of naphthoquinonediazidesulfonic acid with phenols and aldehydes or ketones.
【0041】上記フェノール類及びアルデヒドまたはケ
トンとの重縮合樹脂におけるフェノール類としては、例
えば、フェノール、o−クレゾール、m−クレゾール、
p−クレゾール、3,5−キシレノール、カルバクロー
ル、チモール等の一価フェノール、カテコール、レゾル
シン、ヒドロキノン等の二価フェノール、ピロガロー
ル、フロログルシン等の三価フェノール等が挙げられ
る。アルデヒドとしては、例えば、ホルムアルデヒド、
ベンズアルデヒド、アセトアルデヒド、クロトンアルデ
ヒド、フルフラール等が挙げられる。これらのうちで好
ましいものはホルムアルデヒド及びベンズアルデヒドで
ある。ケトンとしては、例えば、アセトン、メチルエチ
ルケトン等が挙げられる。Examples of the phenol in the polycondensation resin with the phenol and aldehyde or ketone include phenol, o-cresol, m-cresol,
Examples include monohydric phenols such as p-cresol, 3,5-xylenol, carvacrol, and thymol; dihydric phenols such as catechol, resorcinol, and hydroquinone; and trihydric phenols such as pyrogallol and phloroglucin. As the aldehyde, for example, formaldehyde,
Examples include benzaldehyde, acetaldehyde, crotonaldehyde, furfural and the like. Preferred among these are formaldehyde and benzaldehyde. Examples of the ketone include acetone, methyl ethyl ketone, and the like.
【0042】フェノール類及びアルデヒドまたはケトン
との重縮合樹脂の具体的な例としては、フェノール・ホ
ルムアルデヒド樹脂、m−クレゾール・ホルムアルデヒ
ド樹脂、m−,p−混合クレゾール・ホルムアルデヒド
樹脂、レゾルシン・ベンズアルデヒド樹脂、ピロガロー
ル・アセトン樹脂等が挙げられる。Specific examples of polycondensation resins with phenols and aldehydes or ketones include phenol-formaldehyde resin, m-cresol-formaldehyde resin, m-, p-mixed cresol-formaldehyde resin, resorcin-benzaldehyde resin, Pyrogallol / acetone resin;
【0043】前記o−ナフトキノンジアジド化合物にお
いて、フェノール類のOH基に対するo−ナフトキノン
ジアジドスルホン酸の縮合率(OH基1個に対する反応
率)は、15%〜80%が好ましく、より好ましくは2
0%〜45%である。In the above-mentioned o-naphthoquinonediazide compound, the condensation rate of o-naphthoquinonediazidesulfonic acid to OH groups of phenols (reaction rate for one OH group) is preferably 15% to 80%, more preferably 2%.
0% to 45%.
【0044】更に、本発明に用いられるo−キノンジア
ジド化合物としては、特開昭58−43451号公報に
記載の以下の化合物も挙げることができる。即ち、例え
ば、1,2−ベンゾキノンジアジドスルホン酸エステ
ル、1,2−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステ
ル、1,2−ベンゾキノンジアジドスルホン酸アミド、
1,2−ナフトキノンジアジドスルホン酸アミドなどの
公知の1,2−キノンジアジド化合物、更に具体的に
は、ジェイ・コサール(J.Kosar)著「ライト−センシ
ティブ・システムズ」(Light-Sensitive Systems)第
339〜352頁(1965年)、ジョン・ウィリー・
アンド・サンズ(John Willey & Sons)社(ニューヨー
ク)やダブリュー・エス・ディ・フォレスト(W.S.De F
orest)著「フォトレジスト」(Photoresist)第50巻
(1975年)、マックローヒル(McGraw Hill)社
(ニューヨーク)に記載されている1,2−ベンゾキノ
ンジアジド−4−スルホン酸フェニルエステル、1,
2,1′,2′−ジ−(ベンゾキノンジアジド−4−ス
ルホニル)−ジヒドロキシビフェニル、1,2−ベンゾ
キノンジアジド−4−(N−エチル−N−β−ナフチ
ル)−スルホンアミド、1,2−ナフトキノンジアジド
−5−スルホン酸シクロヘキシルエステル、1−(1,
2−ナフトキノンジアジド−5−スルホニル)−3,5
−ジメチルピラゾール、1,2−ナフトキノンジアジド
−5−スルホン酸−4′−ヒドロキシジフェニル−4′
−アゾ−β−ナフトールエステル、N,N−ジ−(1,
2−ナフトキノンジアジド−5−スルホニル)−アニリ
ン、2′−(1,2−ナフトキノンジアジド−5−スル
ホニルオキシ)−1−ヒドロキシ−アントラキノン、
1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸−2,
4−ジヒドロキシベンゾフェノンエステル、1,2−ナ
フトキノンジアジド−5−スルホン酸−2,3,4−ト
リヒドロキシベンゾフェノンエステル、1,2−ナフト
キノンジアジド−5−スルホン酸クロリド2モルと4,
4′−ジアミノベンゾフェノン1モルとの縮合物、1,
2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸クロリド2
モルと4,4′−ジヒドロキシ−1,1′−ジフェニル
スルホン酸1モルとの縮合物、1,2−ナフトキノンジ
アジド−5−スルホン酸クロリド1モルとプルプロガリ
ン1モルとの縮合物、1,2−ナフトキノンジアジド−
5−(N−ジヒドロアビエチル)−スルホンアミドなど
の1,2−キノンジアジド化合物を例示することができ
る。また、特公昭37−1953号、同37−3627
号、同37−13109号、同40−26126号、同
40−3801号、同45−5604号、同45−27
345号、同51−13013号、特開昭48−965
75号、同48−63802号、同48−63803号
各公報に記載された1,2−キノンジアジド化合物も挙
げることができる。Further, examples of the o-quinonediazide compound used in the present invention include the following compounds described in JP-A-58-43451. That is, for example, 1,2-benzoquinonediazidosulfonic acid ester, 1,2-naphthoquinonediazidosulfonic acid ester, 1,2-benzoquinonediazidosulfonic acid amide,
Known 1,2-quinonediazide compounds such as 1,2-naphthoquinonediazidesulfonic acid amide, more specifically, "Light-Sensitive Systems" No. 339, by J. Kosar. ~ 352 (1965), John Willie
John Willey & Sons (New York) and W.S.
orest), Photoresist, Vol. 50 (1975), McGraw Hill (New York), 1,2-benzoquinonediazide-4-sulfonic acid phenyl ester, 1,
2,1 ′, 2′-di- (benzoquinonediazide-4-sulfonyl) -dihydroxybiphenyl, 1,2-benzoquinonediazide-4- (N-ethyl-N-β-naphthyl) -sulfonamide, 1,2- Naphthoquinonediazide-5-sulfonic acid cyclohexyl ester, 1- (1,
2-naphthoquinonediazide-5-sulfonyl) -3,5
-Dimethylpyrazole, 1,2-naphthoquinonediazide-5-sulfonic acid-4'-hydroxydiphenyl-4 '
-Azo-β-naphthol ester, N, N-di- (1,
2-naphthoquinonediazido-5-sulfonyl) -aniline, 2 '-(1,2-naphthoquinonediazido-5-sulfonyloxy) -1-hydroxy-anthraquinone,
1,2-naphthoquinonediazide-5-sulfonic acid-2,
2-dihydroxybenzophenone ester, 1,2-naphthoquinonediazide-5-sulfonic acid-2,3,4-trihydroxybenzophenone ester, 1,2-naphthoquinonediazide-5-sulfonic acid chloride 2 mol and 4,
Condensate with 1 mol of 4'-diaminobenzophenone, 1,
2-naphthoquinonediazide-5-sulfonic acid chloride 2
Of 1,4-naphthoquinonediazide-5-sulfonic acid chloride with 1 mol of purpurogallin, 1,2 mol of the compound with 1 mol of 4,4'-dihydroxy-1,1'-diphenylsulfonic acid. -Naphthoquinonediazide-
Examples thereof include 1,2-quinonediazide compounds such as 5- (N-dihydroabiethyl) -sulfonamide. In addition, Japanese Patent Publication Nos. 37-1953 and 37-3627
Nos. 37-13109, 40-26126, 40-3801, 45-5604, and 45-27
No. 345, No. 51-13013, JP-A-48-965.
Nos. 75, 48-63802, and 48-63803 can also include the 1,2-quinonediazide compounds described in JP-A-75-63802 and JP-A-48-63803.
【0045】本発明において、o−キノンジアジド化合
物としては、1,2−ナフトキノンジアジド−5−スル
ホン酸エステル化合物よりも1,2−ナフトキノンジア
ジド−4−スルホン酸エステル化合物の方が好ましい。In the present invention, as the o-quinonediazide compound, a 1,2-naphthoquinonediazide-4-sulfonic acid ester compound is more preferable than a 1,2-naphthoquinonediazide-5-sulfonic acid ester compound.
【0046】本発明において、o−キノンジアジド化合
物は、上記化合物を各々単独で用いてもよいし、2種以
上を組合せて用いてもよい。In the present invention, as the o-quinonediazide compound, the above compounds may be used alone or in combination of two or more.
【0047】o−キノンジアジド化合物の感光性組成物
中に占める割合は、5〜60重量%が好ましく、特に好
ましいのは、10〜50重量%である。The proportion of the o-quinonediazide compound in the photosensitive composition is preferably from 5 to 60% by weight, particularly preferably from 10 to 50% by weight.
【0048】本発明の画像形成層には結合剤を用いるこ
とができる。結合剤としては、例えば、高分子量結合剤
を用いることができる。高分子量結合剤としては、例え
ば、ノボラック樹脂、ヒドロキシスチレン単位を有する
重合体、下記一般式(4)で表される構造単位を有する
重合体、その他公知のアクリル樹脂等を挙げることがで
きる。A binder can be used in the image forming layer of the present invention. As the binder, for example, a high molecular weight binder can be used. Examples of the high molecular weight binder include a novolak resin, a polymer having a hydroxystyrene unit, a polymer having a structural unit represented by the following general formula (4), and other known acrylic resins.
【0049】[0049]
【化16】 Embedded image
【0050】[式中、R1及びR2は、それぞれ水素原
子、アルキル基、カルボン酸基を表し、R3は、水素原
子、ハロゲン原子、アルキル基を表し、R4は、水素原
子、アルキル基、アリール基を表す。[Wherein, R 1 and R 2 each represent a hydrogen atom, an alkyl group, or a carboxylic acid group, R 3 represents a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group, and R 4 represents a hydrogen atom, an alkyl group, Represents an aryl group.
【0051】Yは、置換基を有してもよいアリーレン基
を表す。Y represents an arylene group which may have a substituent.
【0052】Xは、窒素原子とアリーレン基の炭素原子
とを連結する2価の有機基を表し、nは0〜5の整数を
表す。] ノボラック樹脂としては、例えば、フェノール・ホルム
アルデヒド樹樹脂、クレゾール・ホルムアルデヒド樹
脂、特開昭55−57841号公報に記載されているよ
うなフェノール・クレゾール・ホルムアルデヒド共重縮
合体樹脂、特開昭55−127553号公報に記載され
ているようなp−置換フェノールとフェノールもしくは
クレゾールとホルムアルデヒドとの共重縮合体樹脂等が
挙げられる。X represents a divalent organic group connecting the nitrogen atom and the carbon atom of the arylene group, and n represents an integer of 0 to 5. Examples of the novolak resin include phenol-formaldehyde resin, cresol-formaldehyde resin, phenol-cresol-formaldehyde copolycondensate resin described in JP-A-55-57841, and JP-A-55-578. And a copolycondensate resin of p-substituted phenol and phenol or cresol and formaldehyde as described in JP-A-127553.
【0053】ヒドロキシスチレン単位を有する重合体と
しては、例えば、特公昭52−41050号公報に記載
されているポリヒドロキシスチレンやヒドロキシスチレ
ン共重合体などを挙げることができる。Examples of the polymer having a hydroxystyrene unit include polyhydroxystyrene and hydroxystyrene copolymer described in JP-B-52-41050.
【0054】前記一般式(4)で表される構造単位を有
する重合体とは、該構造単位のみの繰り返し構造を有す
る単独重合体、あるいは該構造単位と他のビニル系単量
体の不飽和二重結合を開裂せしめた構造で示される構造
単位1種以上とを組み合わせた共重合体である。The polymer having the structural unit represented by the general formula (4) may be a homopolymer having a repeating structure of only the structural unit or an unsaturated polymer of the structural unit and another vinyl monomer. It is a copolymer in which one or more structural units represented by a structure in which a double bond is cleaved are combined.
【0055】一般式(4)において、R1及びR2で表さ
れるアルキル基としては、例えば、メチル基やエチル基
が挙げられる。R1及びR2として好ましいのは、水素原
子である。In the general formula (4), examples of the alkyl group represented by R 1 and R 2 include a methyl group and an ethyl group. Preferred as R 1 and R 2 is a hydrogen atom.
【0056】R3で表されるハロゲン原子としては、例
えば、塩素原子、臭素原子が挙げられ、アルキル基とし
ては、例えば、メチル基、エチル基が挙げられる。R3
として好ましいのは、水素原子又はメチル基である。Examples of the halogen atom represented by R 3 include a chlorine atom and a bromine atom, and examples of the alkyl group include a methyl group and an ethyl group. R 3
Is preferably a hydrogen atom or a methyl group.
【0057】R4で表されるアルキル基としては、例え
ば、メチル基やエチル基が挙げられ、アリール基として
は、例えば、フェニル基又はナフチル基が挙げられる。The alkyl group represented by R 4 includes, for example, a methyl group and an ethyl group, and the aryl group includes, for example, a phenyl group or a naphthyl group.
【0058】Yは置換基を有してもよいアリーレン基を
表すが、アリーレン基としては、フェニレン基又はナフ
チレン基が挙げられる。該アリーレン基が有する置換基
としては、メチル基、エチル基等のアルキル基、塩素原
子、臭素原子等のハロゲン原子、カルボン酸基、メトキ
シ基、エトキシ基等のアルコキシ基、水酸基、スルホン
酸基、シアノ基、ニトロ基、アシル基等が挙げられる。
Yとして好ましいのは、置換基を有しないか、あるいは
メチル基で置換されたアリーレン基である。Y represents an arylene group which may have a substituent, and examples of the arylene group include a phenylene group and a naphthylene group. Examples of the substituent of the arylene group include an alkyl group such as a methyl group and an ethyl group, a halogen atom such as a chlorine atom and a bromine atom, a carboxylic acid group, a methoxy group, an alkoxy group such as an ethoxy group, a hydroxyl group, a sulfonic acid group, Examples include a cyano group, a nitro group, and an acyl group.
Preferred as Y is an arylene group having no substituent or substituted with a methyl group.
【0059】Xで表される窒素原子と芳香族炭素原子と
を連結する2価の有機基としては、例えば、酸素原子が
挙げられる。nは、好ましくは0である。Examples of the divalent organic group connecting the nitrogen atom represented by X and the aromatic carbon atom include an oxygen atom. n is preferably 0.
【0060】一般式(4)で表される構造単位を有する
重合体は、さらに具体的には、例えば、次の(a)〜
(h)で表されホモ重合体あるいはランダム共重合体の
如き共重合体る。The polymer having the structural unit represented by the general formula (4) is more specifically described, for example, in the following (a) to (a).
A copolymer represented by (h), such as a homopolymer or a random copolymer.
【0061】[0061]
【化17】 Embedded image
【0062】(a)〜(h)において、R5〜R9は、そ
れぞれ水素原子、アルキル基、ハロゲン原子を表し、X
は、アルキル基、ハロゲン原子を表す。また、m、n、
l、k及びsはそれぞれの構造単位のモル%を表す。In (a) to (h), R 5 to R 9 each represent a hydrogen atom, an alkyl group, or a halogen atom;
Represents an alkyl group or a halogen atom. Also, m, n,
1, k and s represent mol% of each structural unit.
【0063】本発明の画像形成層に用いる結合剤として
は、ヒドロキシスチレン単位を有する重合体や一般式
(4)で表される構造単位を有する重合体のように、フ
ェノール性OH基を有する樹脂が好ましい。特に、フェ
ノール性のOH基を有する樹脂は、キノンジアジド化合
物と組み合わせると、露光溶解度差がつき易い。As the binder used in the image forming layer of the present invention, a resin having a phenolic OH group, such as a polymer having a hydroxystyrene unit or a polymer having a structural unit represented by the general formula (4), is used. Is preferred. In particular, a resin having a phenolic OH group, when combined with a quinonediazide compound, tends to have a difference in exposure solubility.
【0064】ノボラック樹脂、ヒドロキシスチレン単位
を有する重合休、一般式(4)で表される構造単位を有
する重合体、アクリル樹脂は併用することもできる。A novolak resin, a polymer having a hydroxystyrene unit, a polymer having a structural unit represented by the general formula (4), and an acrylic resin can also be used in combination.
【0065】更に、本発明の画像形成層には、該画像形
成層の感脂性を向上させるために親油性の樹脂を添加す
ることができる。Further, a lipophilic resin can be added to the image forming layer of the present invention in order to improve the oil sensitivity of the image forming layer.
【0066】親油性の樹脂としては、例えば、特開昭5
0−125806号公報に記載されているような、炭素
数3〜15のアルキル基で置換されたフェノール類とア
ルデヒドの縮合物、例えば、t−ブチルフェノールホル
ムアルデヒド樹脂などが使用可能である。As the lipophilic resin, for example, those described in
A condensate of a phenol substituted with an alkyl group having 3 to 15 carbon atoms and an aldehyde, for example, a t-butylphenol formaldehyde resin described in JP-A-125806 can be used.
【0067】本発明の画像形成層には、感度を向上する
ために、アミン化合物、スピロ化合物、イミダゾール化
合物、4級アンモニウム化合物、尿素,チオ尿素及びこ
れらの誘導体、酸性染料、ピリジン環化合物、アミド化
合物から選ばれた少なくとも1つの化合物を含有させる
ことが好ましい。In the image forming layer of the present invention, an amine compound, a spiro compound, an imidazole compound, a quaternary ammonium compound, urea, thiourea and derivatives thereof, an acid dye, a pyridine ring compound, an amide It is preferable to include at least one compound selected from the compounds.
【0068】アミン化合物としては、トリエタノールア
ミン、ジエチルアニリン、ヘキサメチレンテトラミン等
が挙げられる。Examples of the amine compound include triethanolamine, diethylaniline, hexamethylenetetramine and the like.
【0069】スピロ化合物としては、スピロ[3.5]
ノナン、スピロジシクロペンタン等が挙げられる。As the spiro compound, spiro [3.5]
Nonane, spirodicyclopentane and the like can be mentioned.
【0070】イミダゾール化合物としては、イミダゾー
ル、1−メチルイミダゾール、1,3−ジメチルイミダ
ゾール等が挙げられる。Examples of the imidazole compound include imidazole, 1-methylimidazole, 1,3-dimethylimidazole and the like.
【0071】4級アンモニウム化合物としては、テトラ
アルキルアンモニウム化合物、トリアルキルアリールア
ンモニウム化合物等が挙げられる。Examples of the quaternary ammonium compound include a tetraalkylammonium compound and a trialkylarylammonium compound.
【0072】尿素、チオ尿素及びこれらの誘導体として
は、特開平2−141751号公報に記載されているよ
うな、尿素、エチル尿素、ジメチロール尿素、チオ尿
素、エチレン尿素等が挙げられる。Examples of urea, thiourea and derivatives thereof include urea, ethyl urea, dimethylol urea, thiourea, ethylene urea and the like as described in JP-A-2-141751.
【0073】酸性染料としては、特開平2−14175
2号公報に記載されているような、アゾ染料、アントラ
キノン染料、カルボニウム染料等が挙げられる。As the acid dye, JP-A-2-14175
No. 2, azo dyes, anthraquinone dyes, carbonium dyes, and the like, as described in JP-A-2.
【0074】ピリジン環化合物としては、特開平2−1
41753号公報に記載されているような、ピリジン、
2−メチルピリジン、2−エチルピリジン等が挙げられ
る。As the pyridine ring compound, JP-A No. 2-1
Pyridine, as described in US Pat.
2-methylpyridine, 2-ethylpyridine and the like can be mentioned.
【0075】アミド化合物としては、アセトアミド、p
−アミノアセトアニリド等が挙げられる。As the amide compound, acetamide, p
-Aminoacetanilide and the like.
【0076】本発明の画像形成層には、必要に応じて、
上記以外の色素、顔料、増感剤等を含有させることがで
きる。In the image forming layer of the present invention, if necessary,
Dyes, pigments, sensitizers, and the like other than those described above can be contained.
【0077】本発明のヒートモード記録平版印刷版は、
前記各成分を溶解する溶媒に溶解させ、これらを適当な
支持体の表面に塗布し、乾燥することにより得ることが
できる。The heat mode recording planographic printing plate of the present invention
It can be obtained by dissolving each of the above components in a solvent that dissolves them, applying them to the surface of a suitable support, and drying.
【0078】上記溶媒としては、プロピレングリコール
モノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチル
エーテル、メチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテ
ート、エチルセロソルブ、エチルセロソルブアセテー
ト、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジ
オキサン、アセトン、シクロヘキサノン、トリクロロエ
チレン、メチルエチルケトン等が挙げられる。これら溶
媒は、単独であるいは2種以上混合して使用する。Examples of the solvent include propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, methyl cellosolve, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve, ethyl cellosolve acetate, dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, dioxane, acetone, cyclohexanone, trichloroethylene, methyl ethyl ketone and the like. No. These solvents are used alone or in combination of two or more.
【0079】塗布方法としては、従来公知の方法、例え
ば、回転塗布、ワイヤーバー塗布、ディップ塗布、エア
ーナイフ塗布、ロール塗布、ブレード塗布及びカーテン
塗布を用いることができる。塗布量は用途により異なる
が、例えば、固形分として0.5〜5.0g/m2が好
ましい。As the coating method, conventionally known methods, for example, spin coating, wire bar coating, dip coating, air knife coating, roll coating, blade coating, and curtain coating can be used. The amount of application varies depending on the application, but is preferably, for example, 0.5 to 5.0 g / m 2 as a solid content.
【0080】支持体としては、アルミニウム、亜鉛、
鋼、銅等の金属板、並びにクロム、亜鉛、銅、ニッケ
ル、アルミニウム、鉄等がメッキ又は蒸着された金属
板、紙、プラスチックフィルム及びガラス板、樹脂が塗
布された紙、アルミニウム等の金属箔が張られた紙、親
水化処理したプラスチックフィルム等を用いることがで
きる。As the support, aluminum, zinc,
Metal plates such as steel, copper, etc., and metal plates, paper, plastic films and glass plates plated or deposited with chromium, zinc, copper, nickel, aluminum, iron, etc., paper coated with resin, metal foil such as aluminum Paper, hydrophilic plastic film, or the like can be used.
【0081】支持体には、砂目立て処理、陽極酸化処理
及び必要に応じて封孔処理等の表面処理等を施したアル
ミニウム板(合金板を含む。)を用いることが好まし
い。これらの処理には公知の方法を適用することができ
る。For the support, it is preferable to use an aluminum plate (including an alloy plate) which has been subjected to surface treatment such as graining treatment, anodic oxidation treatment and, if necessary, sealing treatment. A known method can be applied to these processes.
【0082】砂目立て処理の方法としては、例えば、機
械的方法、電解によりエッチングする方法が挙げられ
る。機械的方法としては、例えば、ボール研磨法、ブラ
シ研磨法、液体ホーニングによる研磨法、バフ研磨法等
が挙げられる。アルミニウム材の組成等に応じて上述の
各種方法を単独であるいは組合わせて用いることができ
る。Examples of the graining method include a mechanical method and an electrolytic etching method. Examples of the mechanical method include a ball polishing method, a brush polishing method, a polishing method using liquid honing, and a buff polishing method. The various methods described above can be used alone or in combination depending on the composition of the aluminum material and the like.
【0083】電解によるエッチングは、リン酸、硫酸、
塩酸、硝酸等の無機の酸を単独ないし2種以上混合した
浴を用いて行われる。砂目立て処理の後、必要に応じて
アルカリあるいは酸の水溶液によってデスマット処理を
行い中和して水洗する。In the etching by electrolysis, phosphoric acid, sulfuric acid,
The reaction is performed using a bath in which an inorganic acid such as hydrochloric acid or nitric acid is used alone or in combination of two or more. After the graining treatment, if necessary, a desmut treatment is performed with an aqueous solution of an alkali or an acid to neutralize and wash with water.
【0084】陽極酸化処理は、電解液として、硫酸、ク
ロム醸、シュウ酸、リン酸、マロン酸等を1種又は2種
以上含む溶液を用い、アルミニウム板を陽極として電解
することにより行われる。形成された陽極酸化被膜量
は、1〜50mg/dm2が適当であり、好ましくは1
0〜40mg/dm2であり、特に好ましくは25〜4
0mg/dm2である。陽極酸化被膜量は、例えば、ア
ルミニウム板をリン酸クロム酸溶液(リン酸85%液:
35ml、酸化クロム(IV):20gを1lの水に溶解
して作製)に浸漬し、陽極酸化被膜を溶解し、陽極酸化
被膜を溶解する前及び溶解した後の重量変化を測定して
求めることができる。The anodic oxidation treatment is carried out by using a solution containing one or more of sulfuric acid, chromium, oxalic acid, phosphoric acid, malonic acid and the like as an electrolytic solution, and performing electrolysis using an aluminum plate as an anode. The amount of the formed anodic oxide film is appropriately 1 to 50 mg / dm 2 , preferably 1 to 50 mg / dm 2.
0 to 40 mg / dm 2 , particularly preferably 25 to 4 mg / dm 2.
0 mg / dm 2 . The amount of the anodic oxide coating can be determined, for example, by coating an aluminum plate with a chromic acid phosphate solution (phosphoric acid 85% solution:
35 ml, prepared by dissolving 20 g of chromium (IV) oxide in 1 liter of water), dissolving the anodic oxide film, and measuring the weight change before and after dissolving the anodic oxide film. Can be.
【0085】封孔処理には、沸騰水処理、水蒸気処理、
ケイ酸ソーダ処理、重クロム酸塩水溶液処理等が具体例
として挙げられる。The sealing treatment includes boiling water treatment, steam treatment,
Specific examples include sodium silicate treatment and aqueous dichromate treatment.
【0086】更に、アルミニウム支持体に対して、水溶
性高分子化合物や、フッ化ジルコン酸等の金属塩の水溶
液による下引き処理を施すこともできる。Further, the aluminum support may be subjected to an undercoating treatment with an aqueous solution of a water-soluble polymer compound or a metal salt such as fluorinated zirconic acid.
【0087】本発明の平版印刷版の作製方法において
は、ヒートモード記録平版印刷版は、像様にレーザー光
にて露光または加熱した後、紫外線にて全面露光し、水
系現像液にて現像される。In the method of preparing a lithographic printing plate according to the present invention, the heat-mode recording lithographic printing plate is exposed or heated with a laser beam in an image-wise manner, then exposed entirely with ultraviolet rays, and developed with an aqueous developer. You.
【0088】レーザー光源としては、半導体レーザー、
He−Neレーザー、YAGレーザー、炭酸ガスレーザ
ー等が挙げられる。出力は50mW以上が適当であり、
好ましくは100mW以上である。As the laser light source, a semiconductor laser,
He-Ne laser, YAG laser, carbon dioxide laser and the like can be mentioned. An output of 50 mW or more is appropriate.
Preferably, it is 100 mW or more.
【0089】照射されたレーザー光は、光−熱変換され
画像形成層を加熱する。レーザー光にての走査露光に代
えて、サーマルプリンターなどを用いて画像様に加熱
し、画像を形成することも可能である。The irradiated laser light is converted from light to heat and heats the image forming layer. Instead of scanning exposure with laser light, it is also possible to form an image by heating imagewise using a thermal printer or the like.
【0090】赤外吸収物質として、分子内に窒素原子を
含有しないピリリウム色素、チオピリリウム色素、チオ
ールニッケル錯塩色素、メルカプトフェノール錯塩色
素、メルカプトナフトール錯塩色素から選ばれた少なく
とも1つの赤外吸収色素を用いたヒートモード記録平版
印刷版にあっては、像様にレーザー光にて露光した後、
紫外線にて全面露光し、水系現像液にて現像して画像を
形成してもよいが、紫外線にて全面露光した後に、像様
にレーザー光にて露光し、水系現像液にて現像して画像
を形成してもよい。また、レーザー光での露光に代え、
サーマルプリンターなどを用いて画像様に加熱し、画像
を形成してもよい。As the infrared absorbing material, at least one infrared absorbing dye selected from pyrylium dyes, thiopyrylium dyes, thiol nickel complex dyes, mercaptophenol complex salt dyes, and mercaptonaphthol complex salt dyes having no nitrogen atom in the molecule is used. Heat mode recording lithographic printing plate, after exposing with laser light like an image,
The entire surface may be exposed to ultraviolet light and developed with an aqueous developer to form an image.However, after the entire surface is exposed to ultraviolet light, the image is exposed to laser light and developed using an aqueous developer. An image may be formed. Also, instead of exposure with laser light,
The image may be heated by using a thermal printer or the like to form an image.
【0091】紫外線での全面露光に用いる光源として
は、水銀灯などを用いることができる。A mercury lamp or the like can be used as a light source for the entire exposure with ultraviolet light.
【0092】本発明のヒートモード記録平版印刷版の現
像に用いられる現像液としては、水系アルカリ現像液が
好適である。水系アルカリ現像液としては、例えば、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウム、メタケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリウ
ム、第二リン酸ナトリウム、第三リン酸ナトリウム等の
アルカリ金属塩の水溶液が挙げられる。水系アルカリ現
像液における上記アルカリ金属塩の濃度は、0.05〜
20重量%の範囲が好適であり、より好ましくは、0.
1〜10重量%である。As a developer used for developing the heat mode recording planographic printing plate of the present invention, an aqueous alkali developer is preferable. Examples of the aqueous alkaline developer include aqueous solutions of alkali metal salts such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium metasilicate, potassium metasilicate, dibasic sodium phosphate, and tertiary sodium phosphate. No. The concentration of the alkali metal salt in the aqueous alkaline developer is 0.05 to
A range of 20% by weight is suitable, and more preferably a range of 0.1% by weight.
1 to 10% by weight.
【0093】現像液には、必要に応じて、アニオン性界
面活性剤、両性界面活性剤等の界面活性剤、アルコール
等の有機溶剤を加えることができる。If necessary, a surfactant such as an anionic surfactant or an amphoteric surfactant, or an organic solvent such as alcohol can be added to the developer.
【0094】有機溶剤としては、プロピレングリコー
ル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、ベンジ
ンアルコール、n−プロピルアルコール等が有用であ
る。As the organic solvent, propylene glycol, ethylene glycol monophenyl ether, benzene alcohol, n-propyl alcohol and the like are useful.
【0095】[0095]
【実施例】以下に、本発明を実施例により具体的に説明
するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるも
のではない。EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described specifically with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.
【0096】実施例1 支持体の作成 厚さ0.24mmのアルミニウム板(材質1050、調質
H16)を5%苛性ソーダ水溶液中で60℃で1分間脱
脂処理を行った後、0.5モル/lの塩酸水溶液中で温
度;25℃、電流密度;60A/dm2、処理時間;3
0秒の条件で電解エッチング処理を行った。次いで、5
%苛性ソーダ水溶液中で60℃、10秒間のデスマット
処理を施した後、20%硫酸溶液中で温度;20℃、電
流密度;3A/dm2、処理時間;1分間の条件で陽極
酸化処理を行った。更に、30℃の熱水で20秒間、熱
水封孔処理を行い、アルミニウム支持体を作製した。Example 1 Preparation of Support A 0.24 mm thick aluminum plate (material: 1050, tempered H16) was degreased in a 5% aqueous sodium hydroxide solution at 60 ° C. for 1 minute, and then 0.5 mol / mol temperature, 25 ° C., current density; 60 A / dm 2 , treatment time;
Electrolytic etching was performed under the condition of 0 second. Then 5
After a desmut treatment at 60 ° C. for 10 seconds in a 20% aqueous solution of caustic soda, an anodic oxidation treatment is carried out in a 20% sulfuric acid solution under the conditions of temperature: 20 ° C., current density: 3 A / dm 2 , treatment time: 1 minute. Was. Further, a hot water sealing treatment was performed with hot water of 30 ° C. for 20 seconds to produce an aluminum support.
【0097】このアルミニウム支持体に、下記組成の塗
布液を乾燥膜厚が2g/m2になるように塗布し、90
℃で1分間乾燥し、ヒートモード記録平版印刷版試料1
を作製した。On this aluminum support, a coating solution having the following composition was applied so as to have a dry film thickness of 2 g / m 2.
Dried at 1 ° C for 1 minute, heat mode recording lithographic printing plate sample 1
Was prepared.
【0098】 〈塗布液組成〉 p−クレゾールノボラック樹脂と1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホ クロライドとのエステル化物(エステル化率50%) 34重量部 フェノール、m−クレゾール、p−クレゾール(5:57:38)とホルムア ルデヒドとの共重縮合樹脂(Mw3700) 73重量部 アクリル樹脂(バインダーA) 15重量部<Coating Liquid Composition> Esterified product of p-cresol novolak resin and 1,2-naphthoquinonediazide-4-sulfochloride (esterification rate: 50%) 34 parts by weight Phenol, m-cresol, p-cresol (5 : 57:38) and copolycondensation resin of formaldehyde (Mw 3700) 73 parts by weight Acrylic resin (Binder A) 15 parts by weight
【0099】[0099]
【化18】 Embedded image
【0100】 ピリリウム色素(例示化合物1−53) 12重量部 メチルセロソルブ 906重量部 また、ピリリウム色素(NK−3508、日本感光色
素社製)(例示化合物1−53)に代え、ピリリウム色
素(NK−3509、日本感光色素社製)(例示化合
物1−54)、ピリリウム色素(NK−3519、日
本感光色素社製)(例示化合物1−55)、金属錯体色
素(NKX−113、日本感光色素社製)(例示化合物
1−52)、アミニウム色素(NK−2545、東京
工芸大製)(例示化合物1−51)、アミニウム色素
(IRG−002、日本化薬社製)、ジイモニウム色素
(IRG−022、日本化薬社製)、シアニン色素
(CY−10、日本化薬社製)、シアニン色素(CY
−17、日本化薬社製)、シアニン色素(NK−20
14、日本感光色素社製)、シアニン色素(NK−2
612、日本感光色素社製)、ピリリウム色素(NK
−3027、日本感光色素社製)、ピリリウム色素
(NK−2674、日本感光色素社製)を用いた以外は
ヒートモード記録平版印刷版試料1と同様にして、ヒー
トモード記録平版印刷版試料2〜13を作製した。ま
た、ピリリウム色素を削除した以外はヒートモード記
録平版印刷版試料1と同様にして、ヒートモード記録平
版印刷版試料14を作製した。Pyrylium dye (Exemplified compound 1-53) 12 parts by weight Methyl cellosolve 906 parts by weight Further, instead of pyrylium dye (NK-3508, manufactured by Nippon Kogaku Dyeing Co., Ltd.) (Exemplified compound 1-53), pyrylium dye (NK- 3509, Nippon Kogaku Dye Co., Ltd. (Exemplary Compound 1-54), pyrylium dye (NK-3519, Nippon Kogaku Dye Co., Ltd.) (Exemplary Compound 1-55), metal complex dye (NKX-113, Nippon Kogyo Dye Co., Ltd.) ) (Exemplified compound 1-52), aminium dye (NK-2545, manufactured by Tokyo Institute of Technology) (exemplified compound 1-51), aminium dye (IRG-002, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), diimonium dye (IRG-022, Nippon Kayaku), cyanine dye (CY-10, manufactured by Nippon Kayaku), cyanine dye (CY
-17, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), cyanine dye (NK-20)
14, Nippon Kogaku Dye Co., Ltd.), cyanine dye (NK-2)
612, manufactured by Nippon Kogaku Dye Co., Ltd., pyrylium dye (NK
Heat mode recording planographic printing plate sample 2 except that -3027, Nippon Kogaku Dye Co., Ltd.) and a pyrylium dye (NK-2677, Nippon Kogaku Dye Co., Ltd.) were used. 13 was produced. Further, a heat mode recording planographic printing plate sample 14 was prepared in the same manner as in the heat mode recording planographic printing plate sample 1 except that the pyrylium dye was omitted.
【0101】各試料に使用した色素は、表1に示すとお
りである。The dyes used for each sample are as shown in Table 1.
【0102】[0102]
【表1】 得られた試料1〜14について、表2に示す画像形成プ
ロセスにて画像を形成し、平版印刷版を作製し、下記評
価方法により、細線再現性、A2露光時間、印刷汚れ、
保存性を評価した。得られた結果を表2に示す。[Table 1] With respect to the obtained Samples 1 to 14, an image was formed by an image forming process shown in Table 2, a lithographic printing plate was prepared, and fine line reproducibility, A2 exposure time, printing stain,
The shelf life was evaluated. Table 2 shows the obtained results.
【0103】[0103]
【表2】 [Table 2]
【0104】《画像形成プロセスにおける条件》 〈YAGレーザー露光〉YAGレーザー(波長1060
nm、出力500mW)を用い、2000dpiで露光
した。 〈半導体レーザー露光〉半導体レーザー(波長830n
m、出力150mW)を用い、2000dpiで露光し
た。<< Conditions in Image Forming Process >><YAG Laser Exposure> YAG laser (wavelength 1060)
(nm, output: 500 mW) and exposure at 2000 dpi. <Semiconductor laser exposure> Semiconductor laser (wavelength 830n)
m, output: 150 mW) and exposure at 2000 dpi.
【0105】〈全面露光〉4kWメタルハライドランプ
で50cmの距離から20秒間露光した。 〈現像〉 現像液;コニカPS版現像液SDR−1の6倍希釈液 現像条件;27℃、25秒(水洗15秒) 〈加熱〉赤外線ヒーターを用い、120℃で30秒間熱
処理した。<Overall Exposure> Exposure was performed with a 4 kW metal halide lamp from a distance of 50 cm for 20 seconds. <Development> Developing solution: 6-fold dilution of Konica PS plate developing solution SDR-1 Developing condition: 27 ° C., 25 seconds (washing with water 15 seconds) <Heating> Heat treatment was performed at 120 ° C. for 30 seconds using an infrared heater.
【0106】《細線再現性、A2露光時間、印刷汚れ、
保存性の評価方法》 〈細線再現性〉再現できる線幅の内、4μm〜50μm
の細線で評価した。 〈A2露光時間〉A2サイズの試料を、半導体レーザー
は外面走査式の露光機で、YAGレーザーは内面走査式
の露光機で要する時間。<< Fine line reproducibility, A2 exposure time, print stain,
Method for evaluating storage stability><Fine line reproducibility> Among reproducible line widths, 4 μm to 50 μm
Was evaluated with a thin line. <A2 exposure time> The time required for an A2 size sample using an outer surface scanning type exposure machine for a semiconductor laser and an inner surface scanning type exposure machine for a YAG laser.
【0107】〈印刷汚れ〉画像を形成した試料を印刷機
にかけ印刷し、非画像部の汚れを目視により観察し、下
記の評価基準で評価した。 ○ ;非画像部に汚れなし ○△;非画像部の汚れはかなり注意してみなければわか
らない △ ;非画像部の汚れが明らかにわかる △×;非画像部がかなり汚れている × ;印刷物の全面が汚れている<Print Stain> The sample on which an image was formed was printed by a printing machine, and the stain on the non-image portion was visually observed and evaluated according to the following evaluation criteria. ;: No stain on non-image part ○ △: Stain on non-image part can be understood only by paying careful attention △: Stain on non-image part is clearly visible △ ×: Non-image part is considerably dirty ×: Printed matter The entire surface is dirty
【0108】〈保存性〉55℃で3日間保存した試料を
用いて画像を形成し、画像を形成した試料を印刷機にか
け印刷し、非画像部の汚れを目視により観察し、下記の
評価基準で評価した。 ○ ;非画像部に汚れなし ○△;非画像部の汚れはかなり注意してみなければわか
らない △ ;非画像部の汚れが明らかにわかる △×;非画像部がかなり汚れている × ;印刷物の全面が汚れている<Storability> An image was formed using a sample stored at 55 ° C. for 3 days, the sample on which the image was formed was printed by a printing machine, and the stain on the non-image area was visually observed. Was evaluated. ;: No stain on non-image part ○ △: Stain on non-image part can be understood only by paying careful attention △: Stain on non-image part is clearly visible △ ×: Non-image part is considerably dirty ×: Printed matter The entire surface is dirty
【0109】[0109]
【発明の効果】本発明の平版印刷版の作製方法によれ
ば、印刷時に非画像部の汚れがない平版印刷版を得るこ
とができる。また、本発明の画像形成層に分子内に窒素
原子を含有しないピリリウム色素、チオピリリウム色
素、チオールニッケル錯塩色素、メルカプトフェノール
錯塩色素、メルカプトナフトール錯塩色素を含有させた
ヒートモード記録平版印刷版は、画像形成方法にかかわ
りなく、印刷時に非画像部の汚れがなく、優れた感度を
有し、保存性も良好であり、レーザーを用いてデジタル
記録をすることができる平版印刷版を得ることができ
る。According to the method for producing a lithographic printing plate of the present invention, it is possible to obtain a lithographic printing plate in which the non-image area has no stain during printing. Further, a heat mode recording planographic printing plate containing a pyrylium dye containing no nitrogen atom in the molecule in the image forming layer of the present invention, a thiopyrylium dye, a thiol nickel complex dye, a mercaptophenol complex salt dye, and a mercaptonaphthol complex salt dye, Irrespective of the forming method, a lithographic printing plate free from contamination of non-image areas at the time of printing, having excellent sensitivity and good storability and capable of digital recording using a laser can be obtained.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI G03F 7/38 511 G03F 7/38 511 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI G03F 7/38 511 G03F 7/38 511
Claims (7)
外吸収物質とを含有する画像形成層を設けたヒートモー
ド記録平版印刷版を、像様にレーザー光にて露光または
加熱した後、紫外線にて全面露光し、水系現像液にて現
像することを特徴とする平版印刷版の作製方法。1. A heat-mode recording lithographic printing plate having an image-forming layer containing an o-quinonediazide compound and an infrared absorbing substance on a support is exposed or heated imagewise with a laser beam, and then exposed to ultraviolet light. A method for preparing a lithographic printing plate, comprising: exposing the entire surface of the substrate to light and developing with an aqueous developer.
脂が含有されていることを特徴とする請求項1に記載の
平版印刷版の作製方法。2. The method according to claim 1, wherein the image forming layer contains a phenolic OH group-containing resin.
物、イミダゾール化合物、4級アンモニウム化合物、尿
素,チオ尿素及びこれらの誘導体、酸性染料、ピリジン
環化合物、アミド化合物から選ばれた少なくとも1つの
化合物が含有されていることを特徴とする請求項1また
は2に記載の平版印刷版の作製方法。3. An image forming layer comprising at least one compound selected from an amine compound, a spiro compound, an imidazole compound, a quaternary ammonium compound, urea, thiourea and derivatives thereof, an acid dye, a pyridine ring compound and an amide compound. The method for preparing a lithographic printing plate according to claim 1, wherein
物及び(b)分子内に窒素原子を含有しないピリリウム
色素、チオピリリウム色素、チオールニッケル錯塩色
素、メルカプトフェノール錯塩色素、メルカプトナフト
ール錯塩色素から選ばれた少なくとも1つの赤外吸収色
素を含有する画像形成層を設けたことを特徴とするヒー
トモード記録平版印刷版。4. A support selected from (a) an o-quinonediazide compound and (b) a pyrylium dye, a thiopyrylium dye, a thiol nickel complex salt dye, a mercaptophenol complex salt dye, and a mercaptonaphthol complex dye on a support. A heat-mode recording lithographic printing plate comprising an image forming layer containing at least one infrared absorbing dye.
樹脂を含有させたことを特徴とする請求項4に記載のヒ
ートモード記録平版印刷版。5. The lithographic printing plate according to claim 4, wherein the phenolic OH group-containing resin is contained in the image forming layer.
物、イミダゾール化合物、4級アンモニウム化合物、尿
素,チオ尿素及びこれらの誘導体、酸性染料、ピリジン
環化合物、アミド化合物から選ばれた少なくとも1つの
化合物を含有させたことを特徴とする請求項4または5
に記載のヒートモード記録平版印刷版。6. The image forming layer, wherein at least one compound selected from an amine compound, a spiro compound, an imidazole compound, a quaternary ammonium compound, urea, thiourea and derivatives thereof, an acid dye, a pyridine ring compound and an amide compound. 6. The composition according to claim 4, wherein
The heat mode recording lithographic printing plate described in 1.
ード記録平版印刷版を、紫外線による全面露光及び像様
のレーザー光露光または加熱をし、水系現像液にて現像
することを特徴とする平版印刷版の作製方法。7. A heat-mode recording lithographic printing plate according to any one of claims 4 to 6, wherein the lithographic printing plate is subjected to an entire surface exposure with ultraviolet rays and an imagewise laser beam exposure or heating, and developed with an aqueous developer. The method of preparing a lithographic printing plate.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP36614797A JPH11190902A (en) | 1997-12-25 | 1997-12-25 | Method for preparing lithographic printing plate and heat mode recording lithographic printing plate |
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Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JPH11190902A (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6599676B2 (en) | 2002-01-03 | 2003-07-29 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Process for making thermal negative printing plate |
US6677106B2 (en) | 2002-01-03 | 2004-01-13 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Method and equipment for using photo- or thermally imagable, negatively working patterning compositions |
WO2012127946A1 (en) * | 2011-03-18 | 2012-09-27 | イーストマン コダック カンパニー | Positive-working lithographic printing plate precursor and method for preparing same |
-
1997
- 1997-12-25 JP JP36614797A patent/JPH11190902A/en active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6599676B2 (en) | 2002-01-03 | 2003-07-29 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Process for making thermal negative printing plate |
US6677106B2 (en) | 2002-01-03 | 2004-01-13 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Method and equipment for using photo- or thermally imagable, negatively working patterning compositions |
WO2012127946A1 (en) * | 2011-03-18 | 2012-09-27 | イーストマン コダック カンパニー | Positive-working lithographic printing plate precursor and method for preparing same |
JP2012194500A (en) * | 2011-03-18 | 2012-10-11 | Eastman Kodak Co | Positive lithographic printing precursor and print-making method thereof |
CN103430098A (en) * | 2011-03-18 | 2013-12-04 | 伊斯曼柯达公司 | Positive-working lithographic printing plate precursor and method for preparing same |
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