JPH11185682A

JPH11185682A - 電子ビーム装置および環境制御型走査電子顕微鏡

Info

Publication number: JPH11185682A
Application number: JP9349447A
Authority: JP
Inventors: Tetsuo Sato; 徹郎佐藤
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1997-12-18
Filing date: 1997-12-18
Publication date: 1999-07-09

Abstract

(57)【要約】【課題】本発明は、光学的に試料を観察する機構を有
する電子ビーム装置において、特に、光学的観察の際の
観察視野を広くすることができる電子ビーム装置を提供
することを目的とする。【解決手段】電子ビームを試料面上に照射するビーム
照射手段１１と、電子ビームが通過する開口を有する開
口部材１９、２０と、試料面上を観察する光学観察手段
３０〜３６とを備えた電子ビーム装置において、開口部
材は、開口の周辺部に、光を透過する透光部を有し、透
光部の少なくとも一部は、光学観察手段の光束の光路中
に位置することを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光学的に試料を観
察する機構を有する電子ビーム装置において、特に、光
学的観察の際の観察視野を広くすることができる電子ビ
ーム装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来の走査電子顕微鏡とは異なり、試料
室内に雰囲気ガスを供給し、低真空下で試料を観察する
ことができる環境制御型走査電子顕微鏡（ＥＳＥＭ：En
vironmental Scanning Electron Microscope）が公知で
ある。このＥＳＥＭでは、試料室に導入する雰囲気ガス
の種類を変えることにより様々な観察環境を作り出すこ
とができる。例えば、試料室内部を飽和水蒸気圧に調節
することで、水分の蒸発を防止し、細胞等を水分が含ま
れた状態のまま観察することができる。

【０００３】ところで、通常、ＥＳＥＭなどの電子顕微
鏡は、観察倍率が非常に大きいため、試料を観察する際
の観察視野は極端に狭くなってしまう。このため、オペ
レータは、試料の所望の観察部位を観察する際には、狭
い観察視野で観察部位を探し出さなければならず、試料
観察に煩雑な操作と時間とを要した。そこで、簡単な操
作で所望の観察部位を観察することができるＥＳＥＭが
本出願人により提案されている（特開平９−１２９１６
９号公報）。

【０００４】図７は、この環境制御型走査電子顕微鏡の
全体構成図である。図７において、真空室５１内部に
は、電子銃５２が配置される。電子銃５２からは電子ビ
ームが照射され、そのビーム軸上にコンデンサレンズ５
３、電磁偏向器５４、対物レンズ５５、圧力制限オリフ
ィス板５６が配置される。コンデンサレンズ５３、電磁
偏向器５４、対物レンズ５５は、リング形状で真空室５
１の外周壁に沿って配置される。電子ビームは、コンデ
ンサレンズ５３および対物レンズ５５によりスポット状
に集束され、電磁偏向器５４によって試料面上を走査す
る。

【０００５】圧力制限オリフィス板５６は、金属の円板
状で、その中心には電子ビームが通過するオリフィス
（開口）５７が形成されている。この圧力制限オリフィ
ス板５６により真空室５１と試料室５９とが隔離されて
いる。真空室５１と試料室５９との各々には、真空ポン
プ６４、６５が設置されており、差動排気することによ
り、それぞれの部屋の真空度を変えることができる。例
えば、真空室５１の真空度を１０^ー3Ｐａ程度の高真空に
し、試料室５９の真空度を８８０Ｐａ程度の極低真空に
することができる。但し、実際には、真空室５１は、１
つの部屋ではなく、さらに複数の小部屋に分割されてお
り、それぞれの部屋の真空度を少しずつ変え、電子銃５
２が配置される部屋を最も高真空の状態にし、試料室５
９を最も低真空の状態にする。

【０００６】試料室５９に配置される試料５８に電子ビ
ームが照射されると、試料５８から２次電子が発生す
る。試料室５９内部には、雰囲気ガスが供給されてお
り、２次電子は、このガスによりガス増幅されて圧力制
限オリフィス板５６で検出される。このとき、圧力制限
オリフィス板５６には、試料室５９の側壁に設けられた
絶縁性のハーメチックシール６０を介して、可変電圧源
６１からプラスの電圧が印加されており、効率よく２次
電子を取り込むことができる。

【０００７】検出された２次電子信号（電流信号）は、
アンプ６２で増幅され、画像処理装置６３に伝達され
て、モニタ等に表示される。一方、真空室５１外部には
光源６６が配置され、光源６６からの照明光はフィール
ドレンズ６７で平行光束に直され、ハーフミラー６８の
反射面で反射し、真空室５１の側壁に設けられた真空窓
６９に入射する。真空窓６９を透過した照明光は、反射
鏡７０によりビーム光軸方向に向きを変えられ、対物レ
ンズ７１に入射する。なお、反射鏡７０、対物レンズ７
１の中央には、電子ビームが通過するための孔が形成さ
れている。

【０００８】照明光は試料５８を照らし、試料５８の光
学像は、対物レンズ７１、反射鏡７０、真空窓６９、ハ
ーフミラー６８、フィールドレンズ７２を経由してＣＣ
Ｄ７３上で結像する。このような環境制御型走査電子顕
微鏡では、照明光軸と電子ビーム軸とが同軸であるた
め、まず、光学的に低倍率広視野で試料を観察し、所望
の観察箇所に位置を合わせ、次に電子顕微鏡に切り替え
てこの箇所を観察することができ、素早くかつ簡単な操
作で所望の観察部位を観察することができる。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、一般に
ＥＳＥＭでは、真空室５１と試料室５９とを別々の真空
度に維持する要請があるため、オリフィス５７は直径
０.４〜０.５ｍｍと非常に小さくする必要がある。この
ため、照明光はこのオリフィス５７によって制限されて
しまい、光学的に観察する際の観察視野が狭くなる、ま
たは視野像が暗くなるという問題点があった。

【００１０】そこで、請求項１〜５に記載の発明は、上
述の問題点を解決するために、光学的な観察視野をオリ
フィスに制限されない電子ビーム装置を提供することを
目的とする。また、請求項６〜１０に記載の発明は、光
学的な観察視野をオリフィスに制限されない環境制御型
走査電子顕微鏡を提供することを目的とする。

【００１１】

【課題を解決するための手段】請求項１に記載の発明
は、電子ビームを試料面上に照射するビーム照射手段
と、電子ビームが通過する開口を有する開口部材と、試
料面上を光学的に観察する光学観察手段とを備えた電子
ビーム装置において、開口部材は、開口の周辺に、光を
透過する透光部を有し、透光部の少なくとも一部は、光
学観察手段の光束の光路中に位置することを特徴とす
る。

【００１２】このような構成では、光学観察手段の光束
（照明光や試料からの反射光）が透光部を透過するた
め、従来開口によって制限されていた観察視野を、それ
以上に広くすることができる。請求項２に記載の発明
は、請求項１に記載の電子ビーム装置において、透光部
は、透光性の導電膜を有することを特徴とする。

【００１３】このような構成では、透光部自体が絶縁体
であっても、電子ビームによるチャージアップを回避す
ることができる。請求項３に記載の発明は、請求項２に
記載の電子ビーム装置において、導電膜は、２次電子ま
たは反射電子を検出する電子検出部であることを特徴と
する。請求項４に記載の発明は、請求項１ないし請求項
３のいずれか１項に記載の電子ビーム装置において、電
子ビームの照射により、試料から発生する電子に基づい
てその試料の観察を行うことを特徴とする。

【００１４】請求項５に記載の発明は、請求項１に記載
の電子ビーム装置において、試料は、電子ビームにより
露光される感光基板であって、その感光基板が載置さ
れ、かつ移動可能なステージを備えて構成する。請求項
６に記載の発明は、低圧力中に配置される試料に、電子
ビームを照射するビーム照射手段と、電子ビームが通過
する開口を有する圧力制限開口部材と、電子ビームの照
射により試料から発生する２次電子を検出する２次電子
検出手段と、試料面上を光学的に観察する光学観察手段
とを備えた環境制御型走査電子顕微鏡であって、圧力制
限開口部材は、開口の周辺に、光を透過する透光部を有
し、透光部の少なくとも一部は、光学観察手段の光束の
光路中に位置することを特徴とする。

【００１５】請求項７に記載の発明は、請求項６に記載
の環境制御型走査電子顕微鏡において、透光部は、透光
性の導電膜を有することを特徴とする。請求項８に記載
の発明は、請求項７に記載の環境制御型走査電子顕微鏡
において、導電膜は、２次電子検出手段を兼用すること
を特徴とする。請求項９に記載の発明は、請求項７また
は請求項８に記載の環境制御型走査電子顕微鏡におい
て、導電膜は、酸化インジウムまたは酸化スズの少なく
とも一方を含むことを特徴とする。

【００１６】請求項１０に記載の発明は、請求項６ない
し請求項９のいずれか１項に記載の環境制御型走査電子
顕微鏡において、圧力制限開口部材の透光部は、ガラス
で構成されることを特徴とする。

【００１７】

【発明の実施の形態】以下、図面を用いて本発明の実施
形態を説明する。

【００１８】（第１の実施形態）図１は、第１の実施形
態のＥＳＥＭの全体構成図であり、図２は、圧力制限オ
リフィス板の拡大図である。なお、第１の実施形態は、
請求項１〜４、６〜１０に記載の発明に対応する。図１
に示すように、電子銃室１０の内部には電子銃１１が配
置される。電子銃１１から照射される電子ビーム軸上
に、コンデンサレンズ１３、偏向コイル１４および対物
レンズ１５が配置される。コンデンサレンズ１３および
対物レンズ１５は、リング状で真空室１２の外周壁に沿
って配置される。また、偏向コイル１４は、上下２段、
計８個のコイルで構成されており、真空室１２の外周壁
に沿って配置される。

【００１９】試料室１６の内部には、電子ビームが照射
される位置に試料１７が配置される。さらに、電子ビー
ム軸上には、ＥＳＥＭの真空室を４つの部屋に仕切る圧
力制限オリフィス板１８〜２０が配置される。圧力制限
オリフィス板１８は、電子銃室１０と真空室１２とを隔
離し、圧力制限オリフィス板１９は、真空室１２と試料
室１６とを隔離し、圧力制限オリフィス板２０は、真空
室１２をさらに２つの部屋に分割している。なお、この
圧力制限オリフィス板１９、２０は、本発明の「開口部
材」に対応する。

【００２０】圧力制限オリフィス板１８は、金属の円板
でその中心には、電子ビームを通過するオリフィスが形
成されている。また、圧力制限オリフィス板１９、２０
は、後述する光を透過する部材で構成されており、その
中心には、同様にオリフィス１９ａ、２０ａが形成され
ている。圧力制限オリフィス板１８〜２０により真空室
は４つの部屋に仕切られているが、各部屋には各々真空
ポンプ（不図示）が繋がれており、各真空ポンプにより
各部屋毎に真空度を少しずつ変えて排気（差動排気）す
る。例えば、電子銃室１０を最も高い真空度（１０^ー3〜
１０^ー4Ｐａ）に設定し、試料室１６を最も低い真空度
（１０〜２７００Ｐａ）に設定する。このとき、試料室
１６には、真空排気されると同時に、不図示のガス供給
源により雰囲気ガスが供給され、一定の真空度を維持し
ている。

【００２１】試料室１６内の試料１７に電子ビームが照
射されると、試料１７から２次電子が発生する。圧力制
限オリフィス板１９は２次電子検出器を兼用しており、
試料室１６側壁に設けられたハーメチックシール２６を
介して、可変電圧源２７から数百Ｖのプラスの電圧が印
加されている。試料１７から放出された２次電子は、圧
力制限オリフィス板１９方向に加速され、途中でガス分
子と衝突する。ガス分子は、２次電子との衝突の際に電
子を放出し、プラスイオンになる。さらに、この放出さ
れた電子が、また別のガス分子と衝突し、ガス分子は電
子を放出してプラスイオンになる。この過程が繰り返さ
れ、２次電子はカスケード的に増幅されて圧力制限オリ
フィス板１９に取り込まれる。２次電子信号は、アンプ
２８を介して画像処理装置２９に伝達される。

【００２２】また、このとき試料１７が絶縁物の場合に
は、電子ビームの照射により試料１７は負に帯電し、チ
ャージアップする。しかしながら、ガス増幅の過程で生
じたプラスイオンが、試料１７に降り注ぎこのチャージ
アップを中和し、試料１７のチャージアップを抑制する
ことができる。次に、光学的に試料１７を観察する光学
観察部について説明する。

【００２３】真空室１２の外部には照明ランプ３０が配
置され、照明ランプ３０からの照明光は照明用レンズ３
１を透過し、ハーフミラー３２の反射面で反射する。照
明光は、真空室１２の側壁に設けられた真空窓３３およ
び低倍率用凸レンズ３４を透過して、ミラー３５でビー
ム光軸方向に向きを変えられる。照明光は、圧力制限オ
リフィス板２０、１９を透過して試料１７に達し、試料
１７が照らし出される。試料１７の光学像は、圧力制限
オリフィス板１９、２０、ミラー３５、低倍率用凸レン
ズ３４、真空窓３３、ハーフミラー３２、接眼レンズ３
６を経由して結像する。なお、この光学像をオペレータ
が直接目視してもよいし、ＣＣＤ等で撮像してモニタに
表示してもよい。また、ミラー３５の中央には、電子ビ
ームが通過する孔が、十分な大きさで形成されており、
ミラー３５の電子ビームによるチャージアップは生じな
い。

【００２４】次に、本実施形態の特徴点である圧力制限
オリフィス板（２次電子検出器）１９、圧力制限オリフ
ィス板２０について図２を参照して説明する。なお、図
２は、図１の点線Ａを拡大した図である。図２におい
て、真空室１２の内周壁に差動排気筒４０が挿着されて
いる。差動排気筒４０の筒側面には４箇所の排気口４１
が設けられている。この排気口から不図示の真空ポンプ
により真空排気される。

【００２５】真空室１２の外側には、対物レンズ１５の
磁極１５ａ、１５ｂが配置される。一方、圧力制限オリ
フィス板２０は、差動排気筒４０に嵌合され、オリフィ
ス押さえ４２により固定されている。圧力制限オリフィ
ス板２０は、円板状で中央に電子ビームが通過するオリ
フィス２０ａが形成されている。圧力制限オリフィス板
２０は、ガラス２０ｂに導電膜２０ｃ（酸化インジウム
または酸化スズの少なくとも一方で構成される透光性の
膜）が蒸着等によりコーティングされて製作される。

【００２６】また、圧力制限オリフィス板（２次電子検
出器）１９も円板状で中央に電子ビームが通過するオリ
フィス１９ａが形成されている。圧力制限オリフィス板
１９は、ガラス１９ｂに導電膜１９ｃ（酸化インジウム
または酸化スズの少なくとも一方で構成される透光性の
膜）が蒸着等によりコーティングされて製作される。セ
ラミック等から構成される絶縁座４３は、差動排気筒４
０の出口部分に配置され、圧力制限オリフィス板１９
は、絶縁座４３の内周面に突部１９ｄが挿着されて配置
される。

【００２７】以上の構成において、圧力制限オリフィス
板２０、圧力制限オリフィス板１９は、光を透過する透
明電極であるため、光学観察部の照明光は、オリフィス
２０ａ、１９ａに制限されることなく圧力制限オリフィ
ス板２０、１９を透過して試料１７を広範囲に照らすこ
とができる。一方、電子ビームは、圧力制限オリフィス
板２０、１９のオリフィスを通過する。このとき圧力制
限オリフィス板２０は、絶縁物であるガラス２０ｂで構
成されているため、電子ビームによるチャージアップが
起こる。しかしながら、ガラス２０ｂの周囲を導電膜２
０ｃでコーティングしているため、オリフィス押さえ４
２および差動排気筒４０を介してアースされ、電子ビー
ムによるチャージアップを回避することができる。

【００２８】さらに、圧力制限オリフィス板（２次電子
検出器）１９は、試料１７からの２次電子を検出する
が、絶縁座４３を介して設けられているため、圧力制限
オリフィス板１９と差動排気筒４０とは絶縁状態になっ
ている。したがって、２次電子信号は、ハーメチックシ
ール２６を介してアンプ２８に伝達される。このよう
に、圧力制限オリフィス板（２次電子検出器）１９、圧
力制限オリフィス板２０は、ガラスに導電膜をコーティ
ングした透明電極であるため、光学観察部の照明光がオ
リフィスに制限されることなく試料１７を広範囲に照明
することができ、観察視野を広くする、または視野像を
明るくすることができる。

【００２９】（第２の実施形態）図３は、第２の実施形
態のオリフィス板の拡大図である。図３において、第２
の実施形態の特徴点は、圧力制限オリフィス板１９にあ
る。圧力制限オリフィス板１９は、ガラス１９ｅに導電
膜１９ｆをコーティングして製作されるが、このときガ
ラス１９ｅは片凹レンズを使用している。したがって、
試料１７に照射される照明光は、ガラス１９ｅにより屈
折され、より広範囲を照明することができる。

【００３０】（第３の実施形態）図４は、第３の実施形
態のオリフィス板の拡大図である。図４に示すように、
圧力制限オリフィス板１９の突部１９ｄは、差動排気筒
４０に嵌合している。また、導電膜１９ｈは、差動排気
筒４０に接触しない範囲でのガラス１９ｇをコーティン
グする。このような構成では、導電膜１９ｈが、他の導
電体と接触を断ち絶縁状態になっているため、絶縁座４
３を省略することができ、装置の部品点数を削減するこ
とができる。

【００３１】（第４の実施形態）第４の実施形態は、電
子ビーム露光装置に本発明を適用した例である。なお、
本実施形態は、講求項５に記載の発明に対応する。図５
は、電子ビーム露光装置の全体構成図である。図５にお
いて、第４の実施形態の構成上の特徴点は、感光基板４
４が移動可能なステージ４５に載置されている点と、電
子光学系において、照射レンズ４６、ビームブランキン
グ電極４７、成形レンズ４８、成形アパーチャ４９およ
び高周波偏向コイル５０が付加されている点である。な
お、その他の構成要素については、図１と同一の参照番
号を付与して示し、ここでの説明は省略する。

【００３２】感光基板４４は、例えば半導体基板である
シリコンウェーハ上に、電子ビーム感応型のレジスト
（メタクリル系等）が塗布されたものである。このよう
な構成において、まずステージ駆動機構（不図示）によ
り、ステージ４５はＸＹ方向に駆動され、位置合わせが
行われる。次に、電子銃１１から加速出射された電子ビ
ームは、照射レンズ４６にて集束され、ビームブランキ
ング電極４７の電圧の変化に応じて、感光基板４４上
に、露光、非露光をパルス状に繰り返す。このとき、ビ
ームは成形レンズ４８にて集束され、偏向コイル（不図
示）および成形アパーチャ４９により、矩形に成形され
る。さらにビームはコンデンサレンズ１３にて集束さ
れ、高周波偏向コイル５０にて偏向されることによっ
て、コンピュータから出カされた露光パターンを、感光
基板４４上に描画する。

【００３３】一方、光学観察部は、ウェーハ上に形成さ
れたアライメントマークを光学的にパターン検出して、
ウェーハのアライメント（位置合わせ）を行うが、この
ときオリフィスの制限を受けることがないため、試料面
上の広範囲からアライメントマークを検出することがで
きる。また、光量自体も増加するため、アライメントマ
ークの検出精度を向上させることができる。

【００３４】なお、本発明を、電子ビーム露光装置、環
境制御型走査電子顕微鏡に適用して説明したが、それに
限定されるものではない。すなわち、電子ビームのアパ
ーチャを有する電子ビーム装置ならば本発明を適用する
ことは可能である。また、本実施形態では、圧力制限オ
リフィス板全てを透光部としたが、開口周辺部分だけを
透光部にしても観察視野が広がるという本発明の目的は
達成できる。

【００３５】また、本実施形態では、透光部としてガラ
スを用いたが、それに限定されず、プラスチックを用い
てもよい。また、本実施形態の圧力制限オリフィス板
（２次電子検出器）１９は、試料からの２次電子の検出
に限定されず、反射電子を検出してもよい。また、別の
実施形態として、図６に示すように、ガラス１９ｉの上
部に導電膜１９ｊを、ガラス１９ｉの下部に導電膜１９
ｋを形成してもよい。このとき、導電膜１９ｊと導電膜
１９ｋとは絶縁されており、また、導電膜１９ｊは差動
排気筒４０と接触しており、導電膜１９ｋは絶縁座４３
と接触している。

【００３６】このような構成では、真空室１２内で散乱
する不要な電子は、導電膜１９ｊで取り込まれ、試料か
ら発生する２次電子のみを導電膜１９ｋで検出すること
ができるため、２次電子検出のＳ／Ｎを向上させること
ができる。

【００３７】

【発明の効果】請求項１〜５に記載の電子ビーム装置で
は、開口の周辺に、光を透過する透光部を有しており、
この透光部を光学観察手段の光束が透過している。した
がって、従来より広範囲に照明光を試料面上に照射させ
ることができるため、光学的に観察する際の視野を広く
する、または視野像を明るくすることができる。

【００３８】請求項６、９に記載の環境制御型走査電子
顕微鏡では、光学観察手段で観察する際に照明光束が制
限されることがないため、視野を広くすることができ
る、または視野像を明るくすることができる。請求項７
に記載の環境制御型走査電子顕微鏡では、透光部は、透
光性の導電膜を有している。したがって、透光部自体が
絶縁体であっても電子ビームによるチャージアップは回
避することができる。

【００３９】請求項８に記載の環境制御型走査電子顕微
鏡では、導電膜が、２次電子検出手段を兼用している
が、このとき透光部に形成される導電膜の形状、構造に
よって、多様な２次電子検出手段を実現することができ
る。請求項１０に記載の環境制御型走査電子顕微鏡で
は、透光部は、ガラスで構成されているため、耐熱性に
優れている。例えば、加熱ステージにより試料室内を１
０００度程度の高温にして試料を観察する場合がある
が、この場合においても使用することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】第１の実施形態のＥＳＥＭの全体構成図であ
る。

【図２】圧力制限オリフィス板の拡大図である。

【図３】第２の実施形態のオリフィス板の拡大図であ
る。

【図４】第３の実施形態のオリフィス板の拡大図であ
る。

【図５】第４の実施形態の電子ビーム露光装置の全体構
成図である。

【図６】別の圧力制限オリフィス板の構成を示す図であ
る。

【図７】従来の環境制御型走査電子顕微鏡の全体構成図
である。

【符号の説明】

１０電子銃室１１電子銃１２真空室１３コンデンサレンズ１４偏向コイル１５対物レンズ１５ａ、１５ｂ対物レンズ磁極１６試料室１７試料１８、１９、２０圧力制限オリフィス板１９ａ、２０ａオリフィス１９ｂ、１９ｅ、１９ｇ、１９ｉ、２０ｂガラス１９ｃ、１９ｆ、１９ｈ、１９ｊ、１９ｋ、２０ｃ導
電膜１９ｄ突部２６ハーメチックシール２７可変電圧源２８アンプ２９画像処理装置３０照明ランプ３１照明用レンズ３２ハーフミラー３３真空窓３４低倍率用凸レンズ３５ミラー４０差動排気筒４１排気口４２オリフィス押さえ４３絶縁座４４感光基板４５ステージ４６照射レンズ４７ビームブランキング電極４８成形レンズ４９成形アパーチャ５０高周波偏向コイル

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】電子ビームを試料面上に照射するビーム
照射手段と、前記電子ビームが通過する開口を有する開口部材と、前記試料面上を光学的に観察する光学観察手段とを備え
た電子ビーム装置において、前記開口部材は、前記開口の周辺に、光を透過する透光
部を有し、前記透光部の少なくとも一部は、前記光学観察手段の光
束の光路中に位置することを特徴とする電子ビーム装
置。
【請求項２】請求項１に記載の電子ビーム装置におい
て、前記透光部は、透光性の導電膜を有することを特徴とす
る電子ビーム装置。
【請求項３】請求項２に記載の電子ビーム装置におい
て、前記導電膜は、２次電子または反射電子を検出する電子
検出部であることを特徴とする電子ビーム装置。
【請求項４】請求項１ないし請求項３のいずれか１項
に記載の電子ビーム装置において、前記電子ビームの照射により、前記試料から発生する電
子に基づいて該試料の観察を行うことを特徴とする電子
ビーム装置。
【請求項５】請求項１に記載の電子ビーム装置におい
て、前記試料は、前記電子ビームにより露光される感光基板
であって、前記感光基板が載置され、かつ移動可能なステージを備
えたことを特徴とする電子ビーム装置。
【請求項６】低圧力中に配置される試料に、電子ビー
ムを照射するビーム照射手段と、前記電子ビームが通過する開口を有する圧力制限開口部
材と、前記電子ビームの照射により試料から発生する２次電子
を検出する２次電子検出手段と、前記試料面上を光学的に観察する光学観察手段とを備え
た環境制御型走査電子顕微鏡であって、前記圧力制限開口部材は、前記開口の周辺に、光を透過
する透光部を有し、前記透光部の少なくとも一部は、前記光学観察手段の光
束の光路中に位置することを特徴とする環境制御型走査
電子顕微鏡。
【請求項７】請求項６に記載の環境制御型走査電子顕
微鏡において、前記透光部は、透光性の導電膜を有することを特徴とす
る環境制御型走査電子顕微鏡。
【請求項８】請求項７に記載の環境制御型走査電子顕
微鏡において、前記導電膜は、前記２次電子検出手段を兼用することを
特徴とする環境制御型走査電子顕微鏡。
【請求項９】請求項７または請求項８に記載の環境制
御型走査電子顕微鏡において、前記導電膜は、酸化インジウムまたは酸化スズの少なく
とも一方を含むことを特徴とする環境制御型走査電子顕
微鏡。
【請求項１０】請求項６ないし請求項９のいずれか１
項に記載の環境制御型走査電子顕微鏡において、前記圧力制限開口部材の透光部は、ガラスで構成される
ことを特徴とする環境制御型走査電子顕微鏡。