JPH11181478A - 洗浄剤用組成物及び該洗浄剤用組成物による洗浄剤 - Google Patents
洗浄剤用組成物及び該洗浄剤用組成物による洗浄剤Info
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- JPH11181478A JPH11181478A JP33645997A JP33645997A JPH11181478A JP H11181478 A JPH11181478 A JP H11181478A JP 33645997 A JP33645997 A JP 33645997A JP 33645997 A JP33645997 A JP 33645997A JP H11181478 A JPH11181478 A JP H11181478A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 陰イオン電荷や陽イオン電荷を有する界面
活性剤との共存下であってもその殺菌特性が大幅に低下
するようなことがなく、しかも皮膚に対しての強い刺激
性を有することがなく、かつ低毒性であり、使用後には
環境破壊の原因になる残留塩素の問題のない洗浄剤用組
成物、及び該組成物による洗浄剤を提供すること。 【解決手段】 テトラキスヒドロメチルホスホニュウ
ムサルフェートと界面活性剤とを含有する洗浄剤用組成
物、及び該洗浄剤用組成物による洗浄剤。
活性剤との共存下であってもその殺菌特性が大幅に低下
するようなことがなく、しかも皮膚に対しての強い刺激
性を有することがなく、かつ低毒性であり、使用後には
環境破壊の原因になる残留塩素の問題のない洗浄剤用組
成物、及び該組成物による洗浄剤を提供すること。 【解決手段】 テトラキスヒドロメチルホスホニュウ
ムサルフェートと界面活性剤とを含有する洗浄剤用組成
物、及び該洗浄剤用組成物による洗浄剤。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、殺菌性を有する洗
浄剤用組成物及び該洗浄剤用組成物による洗浄剤に関す
るものであり、皮膚に対して強い刺激性を与えることが
なく、低毒性であり、しかも殺菌効果において優れた特
性を有する洗浄剤用組成物及び該洗浄剤用組成物による
洗浄剤を提供するものである。
浄剤用組成物及び該洗浄剤用組成物による洗浄剤に関す
るものであり、皮膚に対して強い刺激性を与えることが
なく、低毒性であり、しかも殺菌効果において優れた特
性を有する洗浄剤用組成物及び該洗浄剤用組成物による
洗浄剤を提供するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、殺菌剤としては塩素系のカチオン
系殺菌剤が、その抗菌スペクトル帯が広くしかも即効性
であることから衛生分野において多用されており、この
塩素系のカチオン系殺菌剤と界面活性剤との混合物を、
洗浄効果と殺菌効果とを併せて有する洗浄剤用組成物と
して使用する開発が試みられている。
系殺菌剤が、その抗菌スペクトル帯が広くしかも即効性
であることから衛生分野において多用されており、この
塩素系のカチオン系殺菌剤と界面活性剤との混合物を、
洗浄効果と殺菌効果とを併せて有する洗浄剤用組成物と
して使用する開発が試みられている。
【０００３】しかしながら、上記の塩素系のカチオン系
殺菌剤は、アニオン系界面活性剤等の陰イオン電荷を有
する物質との共存下においては、その殺菌特性が大幅に
低下するだけでなく、皮膚に対して強い刺激性を有して
おり、かつ使用後には環境破壊の原因になる残留塩素の
問題もある。
殺菌剤は、アニオン系界面活性剤等の陰イオン電荷を有
する物質との共存下においては、その殺菌特性が大幅に
低下するだけでなく、皮膚に対して強い刺激性を有して
おり、かつ使用後には環境破壊の原因になる残留塩素の
問題もある。
【０００４】なお、上記の塩素系のカチオン系殺菌剤と
界面活性剤との混合物については、該混合物中の塩素系
のカチオン系殺菌剤に対して、陰イオン電荷を有する物
質との共存下での殺菌特性の低下を防止する手段が種々
試みられているが、未だ満足し得る手段は存在していな
い。
界面活性剤との混合物については、該混合物中の塩素系
のカチオン系殺菌剤に対して、陰イオン電荷を有する物
質との共存下での殺菌特性の低下を防止する手段が種々
試みられているが、未だ満足し得る手段は存在していな
い。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】従って本発明の目的
は、陰イオン電荷や陽イオン電荷を有する界面活性剤と
の共存下であってもその殺菌特性が大幅に低下するよう
なことがなく、しかも皮膚に対しての強い刺激性を有す
ることがなく、かつ低毒性であり、使用後には環境破壊
の原因になる残留塩素の問題のない洗浄剤用組成物、及
び該洗浄剤用組成物による洗浄剤を提供することにあ
る。
は、陰イオン電荷や陽イオン電荷を有する界面活性剤と
の共存下であってもその殺菌特性が大幅に低下するよう
なことがなく、しかも皮膚に対しての強い刺激性を有す
ることがなく、かつ低毒性であり、使用後には環境破壊
の原因になる残留塩素の問題のない洗浄剤用組成物、及
び該洗浄剤用組成物による洗浄剤を提供することにあ
る。
【０００６】
【課題を解決するための手段】前記目的は、以下に記載
する構成による本発明の洗浄剤用組成物及び該洗浄剤用
組成物による洗浄剤によって達成される。
する構成による本発明の洗浄剤用組成物及び該洗浄剤用
組成物による洗浄剤によって達成される。
【０００７】すなわち本発明の洗浄剤用組成物は、下記
の（式１）で表示されるテトラキスヒドロメチルホスホ
ニュウムサルフェートと界面活性剤とを含有する混合物
からなる。
の（式１）で表示されるテトラキスヒドロメチルホスホ
ニュウムサルフェートと界面活性剤とを含有する混合物
からなる。
【０００８】
【化２】
【０００９】上記構成による本発明の洗浄剤用組成物に
おいては、テトラキスヒドロメチルホスホニュウムサル
フェートと界面活性剤との配合（重量）割合を、１：５
〜２０にすることが好ましい。
おいては、テトラキスヒドロメチルホスホニュウムサル
フェートと界面活性剤との配合（重量）割合を、１：５
〜２０にすることが好ましい。
【００１０】又本発明の洗浄剤は、下記の（式１）で表
示されるテトラキスヒドロメチルホスホニュウムサルフ
ェートと界面活性剤とを１：５〜２０の重量割合で含有
する洗浄剤用組成物を、１重量％以上の割合で含有する
混合物からなる。
示されるテトラキスヒドロメチルホスホニュウムサルフ
ェートと界面活性剤とを１：５〜２０の重量割合で含有
する洗浄剤用組成物を、１重量％以上の割合で含有する
混合物からなる。
【００１１】
【化３】
【００１２】更に本発明の洗浄剤は、下記の（式１）で
表示されるテトラキスヒドロメチルホスホニュウムサル
フェートと界面活性剤とを１：５〜２０の重量割合で含
有する洗浄剤用組成物を、１０重量％以上の割合で含有
する混合物からなる。
表示されるテトラキスヒドロメチルホスホニュウムサル
フェートと界面活性剤とを１：５〜２０の重量割合で含
有する洗浄剤用組成物を、１０重量％以上の割合で含有
する混合物からなる。
【００１３】
【化４】
【００１４】
【発明の実施の形態】上記の構成による本発明の洗浄剤
用組成物及び該洗浄剤用組成物による洗浄剤において、
テトラキスヒドロメチルホスホニュウムサルフェートか
らなる殺菌剤に混合する界面活性剤は、アニオン系界面
活性剤、カチオン系界面活性剤、及びノニオン系界面活
性剤のいかなるものであってもよく、又ノニオン系界面
活性剤とアニオン系界面活性剤又はカチオン系界面活性
剤との混合物であってもよい。
用組成物及び該洗浄剤用組成物による洗浄剤において、
テトラキスヒドロメチルホスホニュウムサルフェートか
らなる殺菌剤に混合する界面活性剤は、アニオン系界面
活性剤、カチオン系界面活性剤、及びノニオン系界面活
性剤のいかなるものであってもよく、又ノニオン系界面
活性剤とアニオン系界面活性剤又はカチオン系界面活性
剤との混合物であってもよい。
【００１５】アニオン系界面活性剤としては、例えばラ
ウリル硫酸ナトリウム、直鎖ドデシルベンゼンスルホン
酸トリエタノールアミン、直鎖ドデシルベンゼンスルホ
ン酸ナトリウム、スルホコハク酸ジオクチルナトリウム
等が挙げられる。
ウリル硫酸ナトリウム、直鎖ドデシルベンゼンスルホン
酸トリエタノールアミン、直鎖ドデシルベンゼンスルホ
ン酸ナトリウム、スルホコハク酸ジオクチルナトリウム
等が挙げられる。
【００１６】又カチオン系界面活性剤としては、アルキ
ルトリメチルアンモニウム塩、トリメチルアルキルアン
モニウムハライド、アルキルトリメチルアンモニウムハ
ライド、アルキルベンジルメチルクロライドアンモニウ
ム塩、アルキルベンザルコニウムクロランド等が挙げら
れる。
ルトリメチルアンモニウム塩、トリメチルアルキルアン
モニウムハライド、アルキルトリメチルアンモニウムハ
ライド、アルキルベンジルメチルクロライドアンモニウ
ム塩、アルキルベンザルコニウムクロランド等が挙げら
れる。
【００１７】更にノニオン系界面活性剤としては、ヤシ
油脂肪酸ジエタノールアミド、ポリオキシエチレンオク
チルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルエー
テル、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキ
シエチレントリデシルエーテル、ポリオキシエチレンア
ルキル（Ｃ＝１２〜１４）エーテル等が挙げられる。
油脂肪酸ジエタノールアミド、ポリオキシエチレンオク
チルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルエー
テル、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキ
シエチレントリデシルエーテル、ポリオキシエチレンア
ルキル（Ｃ＝１２〜１４）エーテル等が挙げられる。
【００１８】本発明の洗浄剤用組成物及び該洗浄剤用組
成物による洗浄剤における上記の界面活性剤として、特
に浸透力の大きな界面活性剤、例えばポリオキシエチレ
ントリデシルエーテルやスルホコハク酸ジオクチルナト
リウム等を使用することにより、殺菌効力のより高い洗
浄剤用組成物、及び該洗浄剤用組成物による洗浄剤にす
ることができる。
成物による洗浄剤における上記の界面活性剤として、特
に浸透力の大きな界面活性剤、例えばポリオキシエチレ
ントリデシルエーテルやスルホコハク酸ジオクチルナト
リウム等を使用することにより、殺菌効力のより高い洗
浄剤用組成物、及び該洗浄剤用組成物による洗浄剤にす
ることができる。
【００１９】更に本発明の洗浄剤用組成物及び該洗浄剤
用組成物による洗浄剤には、上記の殺菌剤であるテトラ
キスヒドロメチルホスホニュウムサルフェートの安定剤
として、金属イオンをキレート化する能力を有する金属
キレート剤を添加することが好ましく、例えば１−ジホ
スホン酸、クエン酸、トリポリリン酸、又はこれらの塩
等からなる金属キレート剤を使用するのが好適である。
用組成物による洗浄剤には、上記の殺菌剤であるテトラ
キスヒドロメチルホスホニュウムサルフェートの安定剤
として、金属イオンをキレート化する能力を有する金属
キレート剤を添加することが好ましく、例えば１−ジホ
スホン酸、クエン酸、トリポリリン酸、又はこれらの塩
等からなる金属キレート剤を使用するのが好適である。
【００２０】又、本発明の洗浄剤用組成物及び該洗浄剤
用組成物による洗浄剤には、粘度調整の目的で、ポリエ
チレングリコールやエタノール等を添加することもでき
る。
用組成物による洗浄剤には、粘度調整の目的で、ポリエ
チレングリコールやエタノール等を添加することもでき
る。
【００２１】
【実施例】以下、本発明の洗浄剤用組成物及び該洗浄剤
用組成物による洗浄剤の具体的な構成を、実施例に基づ
いて説明する。 実施例１〜実施例２ 下記の［表１］に示す組成成分（重量部）を、十分に攪
拌、混合することにより、本発明の洗浄剤用組成物の２
種類の実施例品を得た。
用組成物による洗浄剤の具体的な構成を、実施例に基づ
いて説明する。 実施例１〜実施例２ 下記の［表１］に示す組成成分（重量部）を、十分に攪
拌、混合することにより、本発明の洗浄剤用組成物の２
種類の実施例品を得た。
【００２２】
【表１】
【００２３】実施例３ 実施例１の洗浄剤用組成物１３重量部と水道水８７重量
部とをよく混合、攪拌することにより、本発明の洗浄剤
の１実施例品である洗浄剤［Ａ］を得た。
部とをよく混合、攪拌することにより、本発明の洗浄剤
の１実施例品である洗浄剤［Ａ］を得た。
【００２４】実施例４ 実施例２の洗浄剤用組成物１０．５重量部と水道水８
９．５重量部とをよく混合、攪拌することにより、本発
明の洗浄剤の１実施例品である洗浄剤［Ｂ］を得た。
９．５重量部とをよく混合、攪拌することにより、本発
明の洗浄剤の１実施例品である洗浄剤［Ｂ］を得た。
【００２５】実施例５ 実施例２の洗浄剤用組成物１．０５重量部と水道水９
８．９５重量部とをよく混合、攪拌することにより、本
発明の洗浄剤の１実施例品である洗浄剤［Ｃ］を得た。
８．９５重量部とをよく混合、攪拌することにより、本
発明の洗浄剤の１実施例品である洗浄剤［Ｃ］を得た。
【００２６】［実験１］上記の各洗浄剤の殺菌効力の確
認を、以下の通りにして行なった。 (a) 菌液の調整 (1) Ｏ１５７大腸菌 Ｅｓｃｈｅｒｉｃｈｉａ ｃｏｌｉ ＡＴＣＣ ４３８
９５（大腸菌、血清型Ｏ１５７；Ｈ７ ベロ毒素 型及
び型産生株）の試験菌を、ＮＡ培地（普通寒天培地：栄
研化学 (株) 製）に接種し、これを３５℃にて２０時間
の培養を行なうことによって成育させた試験菌の菌体を
滅菌精製水に懸濁させ、生菌数約１０8個／ｍｌの菌液
を得た。
認を、以下の通りにして行なった。 (a) 菌液の調整 (1) Ｏ１５７大腸菌 Ｅｓｃｈｅｒｉｃｈｉａ ｃｏｌｉ ＡＴＣＣ ４３８
９５（大腸菌、血清型Ｏ１５７；Ｈ７ ベロ毒素 型及
び型産生株）の試験菌を、ＮＡ培地（普通寒天培地：栄
研化学 (株) 製）に接種し、これを３５℃にて２０時間
の培養を行なうことによって成育させた試験菌の菌体を
滅菌精製水に懸濁させ、生菌数約１０8個／ｍｌの菌液
を得た。
【００２７】(2) 大腸菌 Ｅｓｃｈｅｒｉｃｈｉａ ｃｏｌｉ ＩＦＯ ３９７２
（大腸菌）の試験菌を、ＮＡ培地（普通寒天培地：栄研
化学 (株) 製）に接種し、これを３５℃にて２０時間の
培養を行なうことによって成育させた試験菌の菌体を滅
菌精製水に懸濁させ、生菌数約１０8 個／ｍｌの菌液を
得た。
（大腸菌）の試験菌を、ＮＡ培地（普通寒天培地：栄研
化学 (株) 製）に接種し、これを３５℃にて２０時間の
培養を行なうことによって成育させた試験菌の菌体を滅
菌精製水に懸濁させ、生菌数約１０8 個／ｍｌの菌液を
得た。
【００２８】(3) レジオネラ Ｌｅｇｉｏｎｅｌａ ｐｎｅｕｍｏｐｈｉｌａ ＣＩＦ
Ｕ ９１３４（レジオネラ）の試験菌を、Ｂ−ＣＹＥ
α培地（Ｂ−ＣＹαＥ寒天培地：栄研化学 (株) 製）に
接種し、これを３５℃にて４８時間の培養を行なうこと
によって成育させた試験菌の菌体を滅菌精製水に懸濁さ
せ、生菌数約１０8 個／ｍｌの菌液を得た。
Ｕ ９１３４（レジオネラ）の試験菌を、Ｂ−ＣＹＥ
α培地（Ｂ−ＣＹαＥ寒天培地：栄研化学 (株) 製）に
接種し、これを３５℃にて４８時間の培養を行なうこと
によって成育させた試験菌の菌体を滅菌精製水に懸濁さ
せ、生菌数約１０8 個／ｍｌの菌液を得た。
【００２９】(b) 洗浄剤の殺菌効果の確認 上記の実施例３で得られた洗浄剤［Ａ］、同じく実施例
４で得られた洗浄剤［Ｂ］、及び同じく実施例５で得ら
れた洗浄剤［Ｃ］のそれぞれ９．９ｍｌに対して、上記
の調整した各菌液０．１ｍｌを添加してよく混合し、試
験水を作製した。
４で得られた洗浄剤［Ｂ］、及び同じく実施例５で得ら
れた洗浄剤［Ｃ］のそれぞれ９．９ｍｌに対して、上記
の調整した各菌液０．１ｍｌを添加してよく混合し、試
験水を作製した。
【００３０】これらの各試験水を室温にて、５分、３０
分、及び６０分間保存した時点で、それぞれの試験水中
から１ｍｌ宛の試験水を採取した後、これを直ちにそれ
ぞれ９ｍｌのＳＣＤＬＰ培地（ＳＣＤＬＰ培地：日本製
薬 (株) ）に混合し、この希釈液中の生菌数を計測し
た。
分、及び６０分間保存した時点で、それぞれの試験水中
から１ｍｌ宛の試験水を採取した後、これを直ちにそれ
ぞれ９ｍｌのＳＣＤＬＰ培地（ＳＣＤＬＰ培地：日本製
薬 (株) ）に混合し、この希釈液中の生菌数を計測し
た。
【００３１】又、上記の実施例３で得られた洗浄剤
［Ａ］、同じく実施例４で得られた洗浄剤［Ｂ］、及び
同じく実施例５で得られた洗浄剤［Ｃ］のそれぞれ１ｍ
ｌを９ｍｌのＳＣＤＬＰ培地（ＳＣＤＬＰ培地：日本製
薬 (株) ）に混合して希釈した後、各菌液０．０１ｍｌ
を添加し、続いてこの希釈液中の生菌数（対照）を実測
した。
［Ａ］、同じく実施例４で得られた洗浄剤［Ｂ］、及び
同じく実施例５で得られた洗浄剤［Ｃ］のそれぞれ１ｍ
ｌを９ｍｌのＳＣＤＬＰ培地（ＳＣＤＬＰ培地：日本製
薬 (株) ）に混合して希釈した後、各菌液０．０１ｍｌ
を添加し、続いてこの希釈液中の生菌数（対照）を実測
した。
【００３２】以上の手順に基づいて実測した生菌数を、
この実験に使用した各菌液０．０１ｍｌ中の生菌数の実
測値と共に、Ｏ１５７大腸菌については［表２］に、大
腸菌については［表３］に、又レジオネラについては
［表４］に示す。なお、上記の実験に使用したＳＣＤＬ
Ｐ培地は、菌を殺すことなく、各洗浄剤の組成成分を直
ちに不活性化する作用を具備するものである。
この実験に使用した各菌液０．０１ｍｌ中の生菌数の実
測値と共に、Ｏ１５７大腸菌については［表２］に、大
腸菌については［表３］に、又レジオネラについては
［表４］に示す。なお、上記の実験に使用したＳＣＤＬ
Ｐ培地は、菌を殺すことなく、各洗浄剤の組成成分を直
ちに不活性化する作用を具備するものである。
【００３３】
【表２】
【００３４】
【表３】
【００３５】
【表４】
【００３６】［実験２］又、上記の各洗浄剤の殺菌効力
の確認を、以下の通りにして行なった。 (a) 菌液の調整 ［実験１］に記載した方法によって得られた各菌液を使
用した。
の確認を、以下の通りにして行なった。 (a) 菌液の調整 ［実験１］に記載した方法によって得られた各菌液を使
用した。
【００３７】(b) 洗浄剤の殺菌効果の確認 まな板の表面約３×３ｃｍ2 に上記の各菌液０．１ｍｌ
を塗抹、乾燥した後、この菌液の塗抹、乾燥部分の上方
約１５ｃｍの距離から、上記の実施例３で得られた洗浄
剤［Ａ］、同じく実施例４で得られた洗浄剤［Ｂ］、及
び同じく実施例５で得られた洗浄剤［Ｃ］のそれぞれ
を、噴霧器を利用してそれぞれ３回宛噴霧した。なお、
１回の噴霧による洗浄剤の噴霧量は０．５ｍｌである。
を塗抹、乾燥した後、この菌液の塗抹、乾燥部分の上方
約１５ｃｍの距離から、上記の実施例３で得られた洗浄
剤［Ａ］、同じく実施例４で得られた洗浄剤［Ｂ］、及
び同じく実施例５で得られた洗浄剤［Ｃ］のそれぞれ
を、噴霧器を利用してそれぞれ３回宛噴霧した。なお、
１回の噴霧による洗浄剤の噴霧量は０．５ｍｌである。
【００３８】次いで、上記のまな板を室温にて、５分、
３０分、及び６０分間保存した時点で、上記の菌液の塗
抹、乾燥部分を滅菌ガーゼで丁寧に拭き取った後、この
ガーゼをＳＣＤＬＰ培地（ＳＣＤＬＰ培地：日本製薬
(株) ）１０ｍｌによって洗い出し、この洗い出し液中
の生菌数を実測した。
３０分、及び６０分間保存した時点で、上記の菌液の塗
抹、乾燥部分を滅菌ガーゼで丁寧に拭き取った後、この
ガーゼをＳＣＤＬＰ培地（ＳＣＤＬＰ培地：日本製薬
(株) ）１０ｍｌによって洗い出し、この洗い出し液中
の生菌数を実測した。
【００３９】又、まな板の表面約３×３ｃｍ2 に上記の
各菌液０．１ｍｌ宛を塗抹、乾燥し、これをそのまま室
温にて６０分間保存した後に、この菌液の塗抹、乾燥部
分を滅菌ガーゼで丁寧に拭き取り、更にこのガーゼをＳ
ＣＤＬＰ培地（ＳＣＤＬＰ培地：日本製薬 (株) ）１０
ｍｌによって洗い出し、洗い出し液中の生菌数（対照）
を実測した。
各菌液０．１ｍｌ宛を塗抹、乾燥し、これをそのまま室
温にて６０分間保存した後に、この菌液の塗抹、乾燥部
分を滅菌ガーゼで丁寧に拭き取り、更にこのガーゼをＳ
ＣＤＬＰ培地（ＳＣＤＬＰ培地：日本製薬 (株) ）１０
ｍｌによって洗い出し、洗い出し液中の生菌数（対照）
を実測した。
【００４０】以上の手順に基づいて実測した生菌数を、
各菌液０．０１ｍｌを使用したときの生菌数に換算し、
この実験に使用した各菌液０．０１ｍｌ中の生菌数の実
測値と共に、Ｏ１５７大腸菌については［表５］に、大
腸菌については［表６］に、又レジオネラについては
［表７］に示す。
各菌液０．０１ｍｌを使用したときの生菌数に換算し、
この実験に使用した各菌液０．０１ｍｌ中の生菌数の実
測値と共に、Ｏ１５７大腸菌については［表５］に、大
腸菌については［表６］に、又レジオネラについては
［表７］に示す。
【００４１】
【表５】
【００４２】
【表６】
【００４３】
【表７】
【００４４】
【発明の効果】本発明の洗浄剤用組成物は、不特定の界
面活性剤と殺菌剤とを必須の成分とするものであり、該
洗浄剤用組成物による洗浄剤は、上記の［実験１］及び
［実験２］から分かるように殺菌効果に優れており、か
つこの洗浄剤中に含有させてある殺菌剤が皮膚に対して
強い刺激性を与えるようなものではなく、しかも低毒性
であり、又使用後には環境破壊の原因になる残留塩素の
問題もない。
面活性剤と殺菌剤とを必須の成分とするものであり、該
洗浄剤用組成物による洗浄剤は、上記の［実験１］及び
［実験２］から分かるように殺菌効果に優れており、か
つこの洗浄剤中に含有させてある殺菌剤が皮膚に対して
強い刺激性を与えるようなものではなく、しかも低毒性
であり、又使用後には環境破壊の原因になる残留塩素の
問題もない。
【００４５】特に請求項５の発明の洗浄剤、つまりテト
ラキスヒドロメチルホスホニュウムサルフェートと界面
活性剤との配合（重量）割合が１：５〜２０の洗浄剤用
組成物を１０重量％以上含有する洗浄剤は、上記の効果
に加えて、更に殺菌効力において即効性を有するものに
なる。
ラキスヒドロメチルホスホニュウムサルフェートと界面
活性剤との配合（重量）割合が１：５〜２０の洗浄剤用
組成物を１０重量％以上含有する洗浄剤は、上記の効果
に加えて、更に殺菌効力において即効性を有するものに
なる。
Claims (4)
- 【請求項１】 下記の（式１）で表示されるテトラキ
スヒドロメチルホスホニュウムサルフェートと界面活性
剤とを含有することを特徴とする洗浄剤用組成物。 【化１】 - 【請求項２】 テトラキスヒドロメチルホスホニュウ
ムサルフェートと界面活性剤との配合（重量）割合が、
１：５〜２０であることを特徴とする請求項１に記載の
洗浄剤用組成物。 - 【請求項３】 請求項２に記載の洗浄剤用組成物１重
量％以上を含有することを特徴とする洗浄剤。 - 【請求項４】 請求項２に記載の洗浄剤用組成物１０
重量％以上を含有することを特徴とする洗浄剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33645997A JPH11181478A (ja) | 1997-11-20 | 1997-11-20 | 洗浄剤用組成物及び該洗浄剤用組成物による洗浄剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33645997A JPH11181478A (ja) | 1997-11-20 | 1997-11-20 | 洗浄剤用組成物及び該洗浄剤用組成物による洗浄剤 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11181478A true JPH11181478A (ja) | 1999-07-06 |
Family
ID=18299362
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33645997A Pending JPH11181478A (ja) | 1997-11-20 | 1997-11-20 | 洗浄剤用組成物及び該洗浄剤用組成物による洗浄剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11181478A (ja) |
-
1997
- 1997-11-20 JP JP33645997A patent/JPH11181478A/ja active Pending
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