JPH11181049A - Modified epoxy resin, epoxy resin composition and its hardened product - Google Patents

Modified epoxy resin, epoxy resin composition and its hardened product

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JPH11181049A
JPH11181049A JP36486097A JP36486097A JPH11181049A JP H11181049 A JPH11181049 A JP H11181049A JP 36486097 A JP36486097 A JP 36486097A JP 36486097 A JP36486097 A JP 36486097A JP H11181049 A JPH11181049 A JP H11181049A
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JP
Japan
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epoxy resin
modified epoxy
carbon atoms
hydrocarbon group
resin composition
Prior art date
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Pending
Application number
JP36486097A
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Japanese (ja)
Inventor
Kenichi Kuboki
健一 窪木
Ryoichi Hasegawa
良一 長谷川
Katsuhiko Oshimi
克彦 押見
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Nippon Kayaku Co Ltd
Original Assignee
Nippon Kayaku Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain the subject epoxy resin that can reduce the melt viscosity, increase the softening point with the operability, storability (resistance to blocking) improved, and is useful as an insulating material for electric and electronic parts by glycidylating a specific bisphenol and polyhydric phenol. SOLUTION: A mixture of (A) a bisphenol represented by formula (R is H, a halogen, a 1-8C hydrocarbon group or the like) melting at a temperature of >=200 deg.C and a polyhydric phenol other than the component A (preferably an alkylphenol novolak) is subjected to glycidylation reaction. In a preferred embodiment, the weight ratio of the component A to the component (B) (A/B) is 0.05-20 and the all carbon atoms of the compound of formula I form the sp<2> hybrid orbitals, respectively.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は半導体封止用を始め
とする電気・電子部品絶縁材料用、及び積層板(プリン
ト配線板)やCFRP(炭素繊維強化プラスチック)を
始めとする各種複合材料、接着剤、塗料等に有用な変性
エポキシ樹脂、エポキシ樹脂組成物及びその硬化物に関
する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to insulating materials for electric and electronic parts including sealing semiconductors, and various composite materials including laminated boards (printed wiring boards) and CFRP (carbon fiber reinforced plastic). The present invention relates to a modified epoxy resin, an epoxy resin composition, and a cured product thereof useful for an adhesive, a paint and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】エポキシ樹脂は作業性及びその硬化物の
優れた電気特性、耐熱性、接着性、耐湿性(耐水性)等
により電気・電子部品、構造用材料、接着剤、塗料等の
分野で幅広く用いられている。
2. Description of the Related Art Epoxy resins are used in the fields of electric and electronic parts, structural materials, adhesives, paints, etc. due to workability and excellent electrical properties, heat resistance, adhesiveness, moisture resistance (water resistance), etc. of the cured product. Widely used in

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかし、近年電気・電
子分野においてはその急速な発展に伴い、高純度化をは
じめ耐熱性、耐湿性、密着性、フィラー高充填のための
低粘度性等の諸特性の一層の向上が求められている。そ
の一方では作業性の向上のために常温で固形であること
が望まれている。また、構造材としては航空宇宙材料、
レジャー・スポーツ器具用途などにおいて軽量で機械物
性の優れた材料であることと同時に、作業性の向上のた
めにやはり低粘度の樹脂が求められている。これらの要
求に対しエポキシ樹脂組成物について多くの提案がなさ
れてはいるが、未だ充分とはいえない。
However, in recent years, in the field of electric and electronic devices, with rapid development, heat resistance, moisture resistance, adhesion, low viscosity for high filling of fillers, etc. Further improvement of various characteristics is required. On the other hand, it is desired to be solid at room temperature in order to improve workability. In addition, structural materials include aerospace materials,
In addition to being lightweight and having excellent mechanical properties for leisure and sports equipment applications, low viscosity resins are also required to improve workability. Many proposals have been made for epoxy resin compositions to meet these requirements, but they have not been satisfactory yet.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明者らは前記のよう
な特性を持つエポキシ樹脂について鋭意研究の結果、本
発明を完成した。即ち、本発明は、(1)(a)式
(1)
Means for Solving the Problems The present inventors have made intensive studies on epoxy resins having the above-mentioned characteristics, and have completed the present invention. That is, according to the present invention, the formula (1)

【0005】[0005]

【化2】 Embedded image

【0006】(式(1)中、Rはそれぞれ独立して水素
原子、ハロゲン原子又は炭素数1〜8の炭化水素基を表
す。Xは炭素数1〜14の炭化水素基、炭素数1〜14
のハロゲン化炭化水素基、−N=CY−、−CY=N−
Z−N=CY−又は−N=CY−Z−CY=N−(式
中、Yは独立して水素原子、炭素数1〜6の炭化水素基
を示す。Zは直接結合、炭素数1〜24の炭化水素基、
炭素数1〜24のハロゲン化炭化水素基、炭素数1〜2
4のアルコキシ基置換芳香族炭化水素基、−C6 (R)
4 −S−C6 (R)4 −、−C6 (R)4 −SO−C6
(R)4 −、−C6(R)4 −SO2 −(前記Rは前出
と同じ意味を表す。)を表す。))で表される融点が2
00℃以上のビスフェノール類化合物と(b)(a)以
外の多価フェノール化合物の混合物をグリシジル化して
得られる変性エポキシ樹脂、(2)(a)と(b)の重
量混合比(a)/(b)が、0.05以上、20以下で
ある前記(1)記載の変性エポキシ樹脂、(3)(a)
と(b)の重量混合比(a)/(b)が、0.05以
上、1以下である前記(1)記載の変性エポキシ樹脂、
(4)全ての炭素原子がsp2混成軌道を形成している
式(1)の化合物を用いて得られた前記(1)、(2)
及び(3)のいずれか1項に記載の変性エポキシ樹脂、
(5)軟化点が70℃以上、130℃以下である前記
(1)、(2)、(3)及び(4)のいずれか1項に記
載の変性エポキシ樹脂、(6)溶融粘度が2.0以下で
ある前記(1)、(2)、(3)、(4)及び(5)の
いずれか1項に記載の変性エポキシ樹脂、(7)成分
(b)がアルキルフェノールノボラックである前記
(1)、(2)、(3)、(4)、(5)及び(6)の
いずれか1項に記載の変性エポキシ樹脂、(8)前記
(1)〜(7)のいずれか1項に記載の変性エポキシ樹
脂を含有するエポキシ樹脂組成物、(9)半導体封止用
に調製された前記(8)記載のエポキシ樹脂組成物、
(10)前記(8)または(9)記載のエポキシ樹脂組
成物を硬化してなる硬化物に関する。
(In the formula (1), each R independently represents a hydrogen atom, a halogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms. X represents a hydrocarbon group having 1 to 14 carbon atoms and 1 to 4 carbon atoms. 14
A halogenated hydrocarbon group, -N = CY-, -CY = N-
ZN = CY- or -N = CY-Z-CY = N- (wherein, Y independently represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms. Z is a direct bond, 1 carbon atom. ~ 24 hydrocarbon groups,
A halogenated hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms, 1 to 2 carbon atoms
4 alkoxy-substituted aromatic hydrocarbon group, —C 6 (R)
4 -S-C 6 (R) 4 -, - C 6 (R) 4 -SO-C 6
(R) 4 —, —C 6 (R) 4 —SO 2 — (wherein R has the same meaning as described above). )) Is 2
A modified epoxy resin obtained by glycidylating a mixture of a bisphenol compound at a temperature of 00 ° C. or higher and a polyhydric phenol compound other than (b) and (a), and (2) a weight mixing ratio of (a) and (b) / (a) / The modified epoxy resin according to the above (1), wherein (b) is 0.05 or more and 20 or less, (3) (a)
The modified epoxy resin according to the above (1), wherein a weight mixing ratio (a) / (b) of the modified epoxy resin and the (b) is 0.05 or more and 1 or less;
(4) The above (1), (2) obtained using a compound of the formula (1) in which all carbon atoms form sp2 hybrid orbitals.
And the modified epoxy resin according to any one of (3),
(5) The modified epoxy resin according to any one of (1), (2), (3) and (4), having a softening point of 70 ° C. or higher and 130 ° C. or lower, (6) a melt viscosity of 2 The modified epoxy resin according to any one of (1), (2), (3), (4) and (5), wherein the component (b) is an alkylphenol novolak. (1) The modified epoxy resin according to any one of (2), (3), (4), (5) and (6), (8) any one of the above (1) to (7) An epoxy resin composition containing the modified epoxy resin according to the above item, (9) the epoxy resin composition according to the above (8), which is prepared for semiconductor encapsulation,
(10) A cured product obtained by curing the epoxy resin composition according to (8) or (9).

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】本発明の変性エポキシ樹脂は、式
(1)で表されるビスフェノール類化合物(成分
(a)、以下単に(a)という)と上記ビスフェノール
類以外の多価フェノール化合物(成分(b)、以下単に
(b)という)の混合物(以下、単にフェノール混合物
という)とエピハロヒドリン類とを反応させるグリシジ
ル化反応により得ることができる。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The modified epoxy resin of the present invention comprises a bisphenol compound represented by the formula (1) (component (a), hereinafter simply referred to as (a)) and a polyhydric phenol compound other than the above bisphenol ( It can be obtained by a glycidylation reaction in which a mixture of the component (b) (hereinafter simply referred to as (b)) (hereinafter simply referred to as a phenol mixture) and epihalohydrins are reacted.

【0008】用いうる式(1)の化合物の具体例として
は、ジヒドロキシターフェニル、ジヒドロキシクォータ
ーフェニル、ジヒドロキシスチルベン、2,2−ビス
(4’−ヒドロキシフェニルアダマンタノン、4,4’
−[(2,3,5,6−テトラメチル)−1,4−フェ
ニレンビスメチレン]ビスフェノール、4−ヒドロキシ
−N−(4−ヒドロキシベンジリデン)アニリン、HO
−C6 4 −N=CH−C6 4 −CH=N−C6 4
−OHHO−C6 4 −CH=N−C6 4 −N=CH
−C6 4 −OHHO−C6 4 −CH=N−N=CH
−C6 4 −OHHO−C6 4 −C(CH3 )=N−
N=C(CH3 )−C6 4 −OH等が挙げられるがこ
れらに限定される事はない。また、2種以上を併用して
も良い。また、上記ビスフェノール類の内、全炭素原子
がsp2混成軌道を形成しているビスフェノール類を用
いた場合、最終的に得られる変性エポキシ樹脂の低粘度
化と高軟化点化(または成分(a)または成分(b)単
独でのグリシジル化物と同等な軟化点の維持)を同時に
行うことが出来るため好ましい。
Specific examples of the compound of the formula (1) that can be used include dihydroxyterphenyl, dihydroxyquarterphenyl, dihydroxystilbene, 2,2-bis (4'-hydroxyphenyladamantanone, 4,4 '
-[(2,3,5,6-tetramethyl) -1,4-phenylenebismethylene] bisphenol, 4-hydroxy-N- (4-hydroxybenzylidene) aniline, HO
-C 6 H 4 -N = CH- C 6 H 4 -CH = N-C 6 H 4
-OHHO-C 6 H 4 -CH = N-C 6 H 4 -N = CH
-C 6 H 4 -OHHO-C 6 H 4 -CH = N-N = CH
-C 6 H 4 -OHHO-C 6 H 4 -C (CH 3) = N-
N = C (CH 3 ) —C 6 H 4 —OH and the like, but are not limited thereto. Further, two or more kinds may be used in combination. In addition, among the above bisphenols, when a bisphenol in which all carbon atoms form an sp2 hybrid orbital is used, a modified epoxy resin finally obtained has a low viscosity and a high softening point (or component (a)). Alternatively, the softening point equivalent to that of the glycidylated product of the component (b) alone can be simultaneously performed, which is preferable.

【0009】用いうる(b)の具体例としては、ビスフ
ェノールA、ビスフェノールF、1,1−ビス−(4−
ヒドロキシフェニル)−シクロヘキサン、1,1−ビス
−(4−ヒドロキシフェニル)−3,3,5−トリメチ
ルシクロヘキサン、テルペンジフェノール、フェノール
類・ホルムアルデヒド重縮合物、フェノール類・ジシク
ロペンタジエン重合物、フェノール類・キシリレングリ
コール重縮合物、フェノール類・ビフェニルジメタノー
ル類重縮合物、フェノール類・ヒドロキシベンズアルデ
ヒド類重縮合物、アルキル基を有するフェノール類とホ
ルムアルデヒドを縮合したアルキルフェノールノボラッ
ク等が挙げられるがこれらに限定されることはない。前
記各重縮合物におけるフェノール類としてはフェノー
ル、クレゾール、キシレノール、tert−ブチル−ク
レゾール、ナフトールなどが挙げられるが、これらに限
定されることはない。また、2種以上を併用しても良
い。
Specific examples of (b) that can be used include bisphenol A, bisphenol F, 1,1-bis- (4-
(Hydroxyphenyl) -cyclohexane, 1,1-bis- (4-hydroxyphenyl) -3,3,5-trimethylcyclohexane, terpene diphenol, phenol / formaldehyde polycondensate, phenol / dicyclopentadiene polymer, phenol Polyphenols / xylylene glycol polycondensates, phenols / biphenyl dimethanols polycondensates, phenols / hydroxybenzaldehydes polycondensates, alkylphenol novolaks obtained by condensing formaldehyde with phenols having an alkyl group, and the like. It is not limited. Examples of the phenol in each polycondensate include phenol, cresol, xylenol, tert-butyl-cresol, naphthol, and the like, but are not limited thereto. Further, two or more kinds may be used in combination.

【0010】(a)と(b)の混合比は、特に限定され
ないが好ましくは、重量混合比(a)/(b)が0.0
5以上20以下、より好ましくは0.05以上1以下で
ある。
The mixing ratio of (a) and (b) is not particularly limited, but preferably the weight mixing ratio (a) / (b) is 0.0
It is 5 or more and 20 or less, more preferably 0.05 or more and 1 or less.

【0011】本発明の変性エポキシ樹脂を得る際のグリ
シジル化反応に使用されるエピハロヒドリン類の具体例
としては、エピクロルヒドリン、β−メチルエピクロル
ヒドリン、エピブロムヒドリン、β−メチルエピブロム
ヒドリン、エピヨードヒドリン、β−エチルエピクロル
ヒドリン等が挙げられるが、工業的に入手し易く安価な
エピクロルヒドリンが好ましい。このグリシジル化反応
自体は従来公知の方法に準じて行うことが出来る。
Specific examples of epihalohydrins used in the glycidylation reaction for obtaining the modified epoxy resin of the present invention include epichlorohydrin, β-methylepichlorohydrin, epibromohydrin, β-methylepibromohydrin, epiiodohydrin Hydrin, β-ethyl epichlorohydrin and the like can be mentioned, but epichlorohydrin, which is easily available industrially and is inexpensive, is preferable. This glycidylation reaction itself can be performed according to a conventionally known method.

【0012】例えば上記のフェノール混合物とエピハロ
ヒドリン類の混合物に水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ムなどのアルカリ金属水酸化物の固体を一括添加または
徐々に添加しながら通常20〜120℃で0.5〜10
時間反応させる。この際アルカリ金属水酸化物はその水
溶液を使用してもよく、その場合は該アルカリ金属水酸
化物を連続的に添加すると共に反応混合物中から減圧
下、または常圧下、連続的に水及びエピハロヒドリン類
を留出せしめ、得られた留出液を分液し水は除去しエピ
ハロヒドリン類は反応混合物中に連続的に戻す方法でも
よい。
For example, a solid of alkali metal hydroxide such as sodium hydroxide, potassium hydroxide or the like is added to the above-mentioned mixture of phenol mixture and epihalohydrin in a lump or gradually, usually at 20 to 120 ° C. for 0.5 to 10 minutes.
Let react for hours. At this time, an aqueous solution of the alkali metal hydroxide may be used. In such a case, the alkali metal hydroxide is continuously added, and water and epihalohydrin are continuously added to the reaction mixture under reduced pressure or normal pressure. May be distilled off, the resulting distillate is separated, water is removed, and epihalohydrins are continuously returned to the reaction mixture.

【0013】上記の方法においてエピハロヒドリン類の
使用量はフェノール混合物の水酸基1当量に対して通常
0.5〜10モル、好ましくは1.0〜6.0モルであ
る。アルカリ金属水酸化物の使用量はフェノール混合物
中の水酸基1当量に対し通常0.5〜1.5モル、好ま
しくは0.7〜1.2モルである。また、ジメチルスル
ホン、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、
1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン等の非プロト
ン性極性溶媒を添加することにより下記に定義する加水
分解性ハロゲン濃度の低い変性エポキシ樹脂が得られ、
この変性エポキシ樹脂は電子材料封止用の用途に適す
る。非プロトン性極性溶媒の使用量はエピハロヒドリン
類に対し通常5〜200重量%、好ましくは10〜10
0重量%である。上記の溶媒以外にもメタノール、エタ
ノール等のアルコール類、1,4−ジオキサン等の環状
エーテル類を添加することによっても反応が進み易くな
り、加水分解性ハロゲン濃度も非プロトン性極性溶媒を
使用した場合よりは高いが、これら溶媒を使用しないと
きよりは低くなる。またトルエン、キシレン等も使用す
ることができる。ここで加水分解性ハロゲン濃度は、例
えば変性エポキシ樹脂をジオキサンと1N−KOH/エ
タノール溶液に入れ、数十分間還流した後、硝酸銀溶液
で滴定することにより測定することができる。
In the above method, the amount of the epihalohydrin used is usually 0.5 to 10 mol, preferably 1.0 to 6.0 mol, per equivalent of the hydroxyl group of the phenol mixture. The amount of the alkali metal hydroxide to be used is generally 0.5 to 1.5 mol, preferably 0.7 to 1.2 mol, per 1 equivalent of the hydroxyl group in the phenol mixture. Also, dimethyl sulfone, dimethyl sulfoxide, dimethylformamide,
By adding an aprotic polar solvent such as 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, a modified epoxy resin having a low hydrolyzable halogen concentration defined below is obtained,
This modified epoxy resin is suitable for use in sealing electronic materials. The amount of the aprotic polar solvent used is usually 5 to 200% by weight, preferably 10 to 10% by weight based on the epihalohydrin.
0% by weight. In addition to the above-mentioned solvents, the reaction is facilitated by addition of alcohols such as methanol and ethanol, and cyclic ethers such as 1,4-dioxane. It is higher than the case, but lower than when these solvents are not used. Further, toluene, xylene and the like can be used. Here, the concentration of the hydrolyzable halogen can be measured, for example, by placing the modified epoxy resin in a dioxane and 1N-KOH / ethanol solution, refluxing for several tens minutes, and then titrating with a silver nitrate solution.

【0014】またフェノール混合物と過剰のエピハロヒ
ドリン類の混合物にテトラメチルアンモニウムクロライ
ド、テトラメチルアンモニウムブロマイド、トリメチル
ベンジルアンモニウムクロライドなどの第四級アンモニ
ウム塩を触媒として使用し、通常50〜150℃で1〜
10時間反応させ、得られるフェノール混合物のハロヒ
ドリンエーテルに水酸化ナトリウム、水酸化カリウムな
どのアルカリ金属水酸化物の固体または水溶液を加え、
20〜120℃で1〜10時間反応させてハロヒドリン
エーテルを閉環させて本発明の変性エポキシ樹脂を得る
こともできる。この場合の第四級アンモニウム塩の使用
量はフェノール混合物の水酸基1当量に対して通常0.
001〜0.2モル、好ましくは0.05〜0.1モル
である。アルカリ金属水酸化物の使用量は、フェノール
混合物の水酸基1当量に対し通常0.8〜1.5モル、
好ましくは0.9〜1.1モルである。
A quaternary ammonium salt such as tetramethylammonium chloride, tetramethylammonium bromide or trimethylbenzylammonium chloride is used as a catalyst in a mixture of a phenol mixture and an excess of epihalohydrins, usually at 50 to 150 ° C.
The reaction is performed for 10 hours, and a solid or aqueous solution of an alkali metal hydroxide such as sodium hydroxide or potassium hydroxide is added to the resulting halohydrin ether of the phenol mixture,
The modified epoxy resin of the present invention can also be obtained by reacting at 20 to 120 ° C. for 1 to 10 hours to close the ring of the halohydrin ether. In this case, the amount of the quaternary ammonium salt used is usually 0.1 to 1 equivalent of the hydroxyl group of the phenol mixture.
It is 001 to 0.2 mol, preferably 0.05 to 0.1 mol. The amount of the alkali metal hydroxide to be used is usually 0.8 to 1.5 mol per 1 equivalent of the hydroxyl group of the phenol mixture,
Preferably it is 0.9 to 1.1 mol.

【0015】通常、これらの反応生成物は水洗後、また
は水洗無しに加熱減圧下過剰のエピハロヒドリン類や、
溶媒等を除去した後、トルエン、メチルイソブチルケト
ン、メチルエチルケトン等の溶媒に溶解し、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物の
水溶液を加えて再び反応を行うことにより加水分解性ハ
ロゲン濃度の低い本発明の変性エポキシ樹脂を得ること
が出来る。この場合アルカリ金属水酸化物の使用量はフ
ェノール混合物の水酸基1当量に対して通常0.01〜
0.2モル、好ましくは0.05〜0.1モルである。
反応温度は通常50〜120℃、反応時間は通常0.5
〜2時間である。反応終了後副生した塩をろ過、水洗な
どにより除去し、さらに加熱減圧下トルエン、メチルイ
ソブチルケトン、メチルエチルケトン等の溶媒を留去す
ることにより加水分解性ハロゲン濃度が低い本発明の変
性エポキシ樹脂を得ることができる。こうして得られた
本発明の変性エポキシ樹脂は、成分(a)と成分(b)
が −CH2 CZ(OH)CH2 − (式中、Zは水素原子または炭素数1〜4のアルキル基
を示す。)で表される基で結合している成分を微量に含
有する。このため(a)、(b)それぞれ単独のグリシ
ジル化物を混合したものに比べ、各エポキシ樹脂成分の
馴染みがよくなり、後述する本発明のエポキシ樹脂組成
物に配合した場合、他の成分との接着性が向上し、また
上記(4)項の条件を満たす場合、エポキシ樹脂組成物
の保存性(耐ブロッキング性)が向上する。本発明の変
性エポキシ樹脂の軟化点は好ましくは130℃以下70
℃以上である。軟化点が、70℃未満であると保存性が
悪く、130℃を越えるとニーダー等を用いてエポキシ
樹脂組成物を混練する際に作業性が低下したり、エポキ
シ樹脂組成物の混練ムラが生じたりする。
[0015] Usually, these reaction products are washed with water or without water, and the excess epihalohydrins,
After removing the solvent and the like, the residue is dissolved in a solvent such as toluene, methyl isobutyl ketone, and methyl ethyl ketone, and an aqueous solution of an alkali metal hydroxide such as sodium hydroxide or potassium hydroxide is added thereto. The modified epoxy resin of the present invention having a low concentration can be obtained. In this case, the amount of the alkali metal hydroxide used is usually from 0.01 to 1 equivalent of the hydroxyl group of the phenol mixture.
It is 0.2 mole, preferably 0.05-0.1 mole.
The reaction temperature is usually 50 to 120 ° C, and the reaction time is usually 0.5.
~ 2 hours. After the reaction is completed, salts formed as by-products are removed by filtration, washing with water, etc., and the modified epoxy resin of the present invention having a low hydrolyzable halogen concentration is obtained by distilling off solvents such as toluene, methyl isobutyl ketone and methyl ethyl ketone under reduced pressure under heating. Obtainable. The modified epoxy resin of the present invention thus obtained comprises a component (a) and a component (b)
Contains a trace amount of a component bonded by a group represented by —CH 2 CZ (OH) CH 2 — (wherein Z represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms). For this reason, the familiarity of each epoxy resin component is better than that of a mixture of (a) and (b) glycidyl compounds alone, and when blended with the epoxy resin composition of the present invention described later, When the adhesiveness is improved and the condition of the above item (4) is satisfied, the storage stability (blocking resistance) of the epoxy resin composition is improved. The modified epoxy resin of the present invention preferably has a softening point of 130 ° C.
° C or higher. If the softening point is less than 70 ° C., the storage stability is poor, and if it exceeds 130 ° C., the workability is reduced when kneading the epoxy resin composition using a kneader or the like, or kneading unevenness of the epoxy resin composition occurs. Or

【0016】以下、本発明のエポキシ樹脂組成物につき
説明する。本発明のエポキシ樹脂組成物において本発明
の変性エポキシ樹脂は単独でまたは他のエポキシ樹脂と
併用して使用することが出来る。併用する場合、本発明
の変性エポキシ樹脂の全エポキシ樹脂中に占める割合は
30重量%以上が好ましく、特に40重量%以上が好ま
しい。
Hereinafter, the epoxy resin composition of the present invention will be described. In the epoxy resin composition of the present invention, the modified epoxy resin of the present invention can be used alone or in combination with another epoxy resin. When used in combination, the proportion of the modified epoxy resin of the present invention in the total epoxy resin is preferably 30% by weight or more, particularly preferably 40% by weight or more.

【0017】本発明の変性エポキシ樹脂と併用しうる他
のエポキシ樹脂の具体例としては、ビスフェノール類、
フェノール類(フェノール、アルキル置換フェノール、
ナフトール、アルキル置換ナフトール、ジヒドロキシベ
ンゼン、ジヒドロキシナフタレン等)と各種アルデヒド
との重縮合物、フェノール類と各種ジエン化合物との重
合物、フェノール類と芳香族ジメチロール類との重縮合
物、ビフェノール類、アルコール類等をグリシジル化し
たグリシジルエーテル系エポキシ樹脂、脂環式エポキシ
樹脂、グリシジルアミン系エポキシ樹脂、グリシジルエ
ステル系エポキシ樹脂等が挙げられるがこれらに限定さ
れるものではない。これらは単独で用いてもよく、2種
以上を用いてもよい。
Specific examples of other epoxy resins that can be used in combination with the modified epoxy resin of the present invention include bisphenols,
Phenols (phenol, alkyl-substituted phenol,
Naphthol, alkyl-substituted naphthol, dihydroxybenzene, dihydroxynaphthalene, etc.) with various aldehydes, polymers of phenols with various diene compounds, polycondensates of phenols with aromatic dimethylols, biphenols, alcohols Glycidyl ether-based epoxy resins, alicyclic epoxy resins, glycidylamine-based epoxy resins, glycidyl ester-based epoxy resins, etc., obtained by glycidylation of glycidyl groups and the like are not limited thereto. These may be used alone or in combination of two or more.

【0018】本発明のエポキシ樹脂組成物は、その好ま
しい実施態様においては硬化剤を含有する。硬化剤とし
てはアミン系化合物、酸無水物系化合物、アミド系化合
物、フェノ−ル系化合物などが使用できる。用いうる硬
化剤の具体例としては、ジアミノジフェニルメタン、ジ
エチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、ジアミ
ノジフェニルスルホン、イソホロンジアミン、ジシアン
ジアミド、リノレン酸の2量体とエチレンジアミンとよ
り合成されるポリアミド樹脂、無水フタル酸、無水トリ
メリット酸、無水ピロメリット酸、無水マレイン酸、テ
トラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタ
ル酸、無水メチルナジック酸、ヘキサヒドロ無水フタル
酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、ビスフェノール
類、フェノール類(フェノール、アルキル置換フェノー
ル、ナフトール、アルキル置換ナフトール、ジヒドロキ
シベンゼン、ジヒドロキシナフタレン等)と各種アルデ
ヒドとの重縮合物、フェノール類と各種ジエン化合物と
の重合物、フェノール類と芳香族ジメチロールとの重縮
合物、ビフェノール類及びこれらの変性物、イミダゾ−
ル、BF3 −アミン錯体、グアニジン誘導体などが挙げ
られる。硬化剤の使用量は、エポキシ樹脂のエポキシ基
1当量に対して0.5〜1.5当量が好ましく、0.6
〜1.2当量が特に好ましい。エポキシ基1当量に対し
て、0.5当量に満たない場合、あるいは1.5当量を
超える場合、いずれも硬化が不完全となり良好な硬化物
性が得られない恐れがある。
The epoxy resin composition of the present invention contains a curing agent in a preferred embodiment. As the curing agent, amine compounds, acid anhydride compounds, amide compounds, phenol compounds and the like can be used. Specific examples of the curing agent that can be used include diaminodiphenylmethane, diethylenetriamine, triethylenetetramine, diaminodiphenylsulfone, isophoronediamine, dicyandiamide, a polyamide resin synthesized from a dimer of linolenic acid and ethylenediamine, phthalic anhydride, and trianhydride. Mellitic acid, pyromellitic anhydride, maleic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, methylnadic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, bisphenols, phenols (phenol, alkyl substitution Polycondensates of phenol, naphthol, alkyl-substituted naphthol, dihydroxybenzene, dihydroxynaphthalene, etc.) with various aldehydes, polymerization of phenols with various diene compounds , Polycondensates of phenols with aromatic dimethylol, biphenols and modified products thereof, imidazo -
BF 3 -amine complex, guanidine derivative and the like. The amount of the curing agent used is preferably 0.5 to 1.5 equivalents to 1 equivalent of the epoxy group of the epoxy resin,
-1.2 equivalents is particularly preferred. If the amount is less than 0.5 equivalents or more than 1.5 equivalents with respect to 1 equivalent of the epoxy group, curing may be incomplete and good cured physical properties may not be obtained.

【0019】また上記硬化剤を用いる際に硬化促進剤を
併用しても差し支えない。用いうる硬化促進剤の具体例
としては2−メチルイミダゾール、2−エチルイミダゾ
ール、2−エチル−4−メチルイミダゾール等のイミダ
ゾ−ル類、2−(ジメチルアミノメチル)フェノール、
1,8−ジアザ−ビシクロ(5,4,0)ウンデセン−
7等の第3級アミン類、トリフェニルホスフィン等のホ
スフィン類、オクチル酸スズなどの金属化合物などが挙
げられる。硬化促進剤はエポキシ樹脂100重量部に対
して0.01〜15重量部が必要に応じ用いられる。
When the above curing agent is used, a curing accelerator may be used in combination. Specific examples of the curing accelerator that can be used include imidazoles such as 2-methylimidazole, 2-ethylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2- (dimethylaminomethyl) phenol,
1,8-diaza-bicyclo (5,4,0) undecene-
Tertiary amines such as 7, phosphines such as triphenylphosphine, and metal compounds such as tin octylate. The hardening accelerator is used in an amount of 0.01 to 15 parts by weight based on 100 parts by weight of the epoxy resin as required.

【0020】さらに、本発明のエポキシ樹脂組成物に
は、必要に応じて溶融シリカ、結晶シリカ、多孔質シリ
カ、アルミナ、ジルコン、珪酸カルシウム、炭酸カルシ
ウム、炭化珪素、窒化珪素、窒化ホウ素、ジルコニア、
窒化アルミニウム、フォルステライト、ステアタイト、
スピネル、ムライト、チタニア、タルク等の粉体、また
はこれらを球形状あるいは破砕状にした無機充填材やシ
ランカップリング剤、離型剤、顔料等種々の配合剤、各
種熱硬化性樹脂などを添加することができる。また、特
に半導体封止用のエポキシ樹脂組成物を得る場合、上記
の無機充填材のをエポキシ樹脂組成物中において、通常
80〜92重量%、好ましくは83〜90重量%、より
好ましくは85〜90重量%を占める割合で用いる。
Further, the epoxy resin composition of the present invention may contain, if necessary, fused silica, crystalline silica, porous silica, alumina, zircon, calcium silicate, calcium carbonate, silicon carbide, silicon nitride, boron nitride, zirconia,
Aluminum nitride, forsterite, steatite,
Powders such as spinel, mullite, titania, talc, etc., or various fillers such as inorganic fillers, silane coupling agents, mold release agents, pigments, etc., made of these spherical or crushed, and various thermosetting resins are added. can do. In particular, when an epoxy resin composition for semiconductor encapsulation is obtained, the above-mentioned inorganic filler is usually used in an amount of 80 to 92% by weight, preferably 83 to 90% by weight, more preferably 85 to 92% by weight in the epoxy resin composition. It is used in a proportion occupying 90% by weight.

【0021】本発明のエポキシ樹脂組成物は、上記各成
分を前記したような割合で均一に混合することにより得
られ、好ましい用途は半導体封止用である。本発明のエ
ポキシ樹脂組成物は従来知られている方法と同様の方法
で容易にその硬化物とすることができる。例えばエポキ
シ樹脂と硬化剤、並びに必要により硬化促進剤、無機充
填材、配合剤、及び各種熱硬化性樹脂とを必要に応じて
押出機、ニ−ダ、ロ−ル等を用いて均一になるまで充分
に混合して本発明のエポキシ樹脂組成物を得、そのエポ
キシ樹脂組成物を、溶融注型法あるいはトランスファ−
成型法やインジェクション成型法、圧縮成型法などによ
って成型し、必要により80〜200℃で加熱すること
により本発明の硬化物を得ることができる。
The epoxy resin composition of the present invention is obtained by uniformly mixing the above-mentioned components in the above-mentioned ratio, and is preferably used for encapsulating a semiconductor. The epoxy resin composition of the present invention can be easily made into a cured product by a method similar to a conventionally known method. For example, an epoxy resin and a curing agent, and if necessary, a curing accelerator, an inorganic filler, a compounding agent, and various thermosetting resins are made uniform using an extruder, a kneader, a roll, or the like as necessary. The epoxy resin composition of the present invention is obtained by sufficiently mixing the epoxy resin composition and the epoxy resin composition by a melt casting method or a transfer method.
The cured product of the present invention can be obtained by molding by a molding method, an injection molding method, a compression molding method, or the like, and heating at 80 to 200 ° C. if necessary.

【0022】また本発明のエポキシ樹脂組成物をトルエ
ン、キシレン、アセトン、メチルエチルケトン、メチル
イソブチルケトン等の溶剤に溶解させ、ガラス繊維、カ
−ボン繊維、ポリエステル繊維、ポリアミド繊維、アル
ミナ繊維、紙などの基材に含浸させ加熱乾燥して得たプ
リプレグを熱プレス成型して本発明の硬化物を得ること
もできる。
Further, the epoxy resin composition of the present invention is dissolved in a solvent such as toluene, xylene, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and the like, and glass fiber, carbon fiber, polyester fiber, polyamide fiber, alumina fiber, paper, etc. The prepreg obtained by impregnating the base material and drying by heating may be subjected to hot press molding to obtain the cured product of the present invention.

【0023】その際溶剤は本発明のエポキシ樹脂組成物
と溶剤の合計重量に対し溶剤の占める割合が、通常10
〜70重量%、好ましくは15〜65重量%となる量使
用する。
In this case, the proportion of the solvent to the total weight of the epoxy resin composition of the present invention and the solvent is usually 10%.
7070% by weight, preferably 15-65% by weight.

【0024】[0024]

【実施例】以下本発明を実施例により更に詳細に説明す
る。尚、本発明はこれら実施例に限定されるものではな
い。また、エポキシ当量、溶融粘度、軟化点は以下の条
件で測定した。また、実施例において部は重量部を意味
する。 エポキシ当量 JIS K−7236に準じた方法で測定し、単位はg
/eqである。 溶融粘度 150℃におけるコーンプレート法における溶融粘度 測定機械:コーンプレート(ICI)高温粘度計(RESE
ARCH EQUIPMENT(LONDON)LTD. 製) コーンNo.:3(測定範囲0〜20ポイズ) 試料量:0.15±0.01g 軟化点 JIS K−7234に準じた方法で測定
The present invention will be described in more detail with reference to the following examples. Note that the present invention is not limited to these examples. The epoxy equivalent, melt viscosity, and softening point were measured under the following conditions. In the examples, parts mean parts by weight. Epoxy equivalent Measured in accordance with JIS K-7236, unit is g
/ Eq. Melt viscosity Melt viscosity in cone plate method at 150 ° C Measurement machine: cone plate (ICI) high temperature viscometer (RESE)
ARCH EQUIPMENT (LONDON) LTD. : 3 (measurement range: 0 to 20 poise) Sample amount: 0.15 ± 0.01 g Softening point Measured by a method according to JIS K-7234

【0025】実施例1 o−クレゾールノボラック(軟化点90℃)55部、ト
ランス−4,4’−ジヒドロキシ−3,3’,5,5’
−テトラメチルスチルベン14部、エピクロルヒドリン
(ECH、以下同様)240部、ジメチルスルホキシド
(DMSO、以下同様)100部を反応容器に仕込、加
熱、撹拌、溶解後、温度を45℃に保持しながら、反応
系内を45Torrに保って、40%水酸化ナトリウム
水溶液54部を4時間かけて連続的に滴下した。この際
共沸により留出してくるECHと水を冷却、分液した
後、有機層であるECHだけを反応系内に戻しながら反
応を行った。水酸化ナトリウム水溶液滴下完了後、45
℃で2時間、70℃で30分反応を行った。ついで水洗
を繰り返し、副生塩とジメチルスルホキシドを除去した
後、油層から加熱減圧下において過剰のエピクロルヒド
リンを留去し、残留物に200部のメチルイソブチルケ
トンを添加し残留物を溶解させた。このメチルイソブチ
ルケトンの溶液を70℃に加熱し30%水酸化ナトリウ
ム水溶液4部を添加し、1時間反応させた後、反応液の
水洗を洗浄液が中性となるまで繰り返した。ついで油層
から加熱減圧下においてメチルイソブチルケトンを留去
することにより本発明の変性エポキシ樹脂(E1)93
部を得た。得られた変性エポキシ樹脂(E1)のエポキ
シ当量は198、軟化点は62℃、溶融粘度は1.6ポ
イズであった。
Example 1 55 parts of o-cresol novolak (softening point: 90 ° C.), trans-4,4′-dihydroxy-3,3 ′, 5,5 ′
A reaction vessel was charged with 14 parts of tetramethylstilbene, 240 parts of epichlorohydrin (ECH, hereinafter the same), and 100 parts of dimethyl sulfoxide (DMSO, the same hereinafter), and after heating, stirring and dissolving, the reaction was carried out while maintaining the temperature at 45 ° C. While maintaining the inside of the system at 45 Torr, 54 parts of a 40% aqueous sodium hydroxide solution was continuously dropped over 4 hours. At this time, after cooling and separating the ECH and water distilled off by azeotropic distillation, the reaction was performed while returning only the organic layer, ECH, into the reaction system. After the completion of the aqueous sodium hydroxide solution, 45
The reaction was carried out at 70 ° C for 2 hours and at 70 ° C for 30 minutes. Subsequently, washing with water was repeated to remove by-product salts and dimethyl sulfoxide. After that, excess epichlorohydrin was distilled off from the oil layer under heating and reduced pressure, and 200 parts of methyl isobutyl ketone was added to the residue to dissolve the residue. The solution of methyl isobutyl ketone was heated to 70 ° C., 4 parts of a 30% aqueous sodium hydroxide solution was added, and the mixture was reacted for 1 hour. Then, the reaction solution was repeatedly washed with water until the washing solution became neutral. Subsequently, methyl isobutyl ketone was distilled off from the oil layer under heating and reduced pressure to obtain the modified epoxy resin (E1) 93 of the present invention.
Got a part. The resulting modified epoxy resin (E1) had an epoxy equivalent of 198, a softening point of 62 ° C., and a melt viscosity of 1.6 poise.

【0026】実施例2 実施例1においてo−クレゾールノボラックを58部
に、トランス−4,4’−ジヒドロキシ−3,3’,
5,5’−テトラメチルスチルベンをトランス−4,
4’−ジヒドロキシ−スチルベン10部に変えた以外は
実施例1と同様の操作を行った。その結果、本発明の変
性エポキシ樹脂(E2)94部を得た。得られた変性エ
ポキシ樹脂(E2)のエポキシ当量は195、軟化点は
118℃、溶融粘度は2.0ポイズであった。
Example 2 In Example 1, o-cresol novolak was added to 58 parts of trans-4,4'-dihydroxy-3,3 ',
Trans-5,5'-tetramethylstilbene is converted to trans-4,
The same operation as in Example 1 was performed, except that 10 parts of 4'-dihydroxy-stilbene was used. As a result, 94 parts of the modified epoxy resin (E2) of the present invention was obtained. The resulting modified epoxy resin (E2) had an epoxy equivalent of 195, a softening point of 118 ° C., and a melt viscosity of 2.0 poise.

【0027】実施例3 実施例1においてo−クレゾールノボラックを48部
に、トランス−4,4’−ジヒドロキシ−3,3’,
5,5’−テトラメチルスチルベンをトランス−4,
4’−ジヒドロキシ−3,3’−tertブチル−6,
6’−ジメチルスチルベン23部に変えた以外は実施例
1と同様の操作を行った。その結果、本発明の変性エポ
キシ樹脂(E3)97部を得た。得られた変性エポキシ
樹脂(E3)のエポキシ当量は212、軟化点は61
℃、溶融粘度は0.9ポイズであった。
Example 3 In Example 1, o-cresol novolak was added to 48 parts of trans-4,4'-dihydroxy-3,3 ',
Trans-5,5'-tetramethylstilbene is converted to trans-4,
4'-dihydroxy-3,3'-tertbutyl-6,6
The same operation as in Example 1 was performed, except that 23 parts of 6′-dimethylstilbene was used. As a result, 97 parts of the modified epoxy resin (E3) of the present invention was obtained. The resulting modified epoxy resin (E3) has an epoxy equivalent of 212 and a softening point of 61.
C. and the melt viscosity was 0.9 poise.

【0028】実施例4 実施例1においてo−クレゾールノボラックを34部
に、トランス−4,4’−ジヒドロキシ−3,3’,
5,5’−テトラメチルスチルベンを2,2−ビス
(4’−ヒドロキシフェニル)アダマンタン37部に変
えた以外は実施例1と同様の操作を行った。その結果、
本発明の変性エポキシ樹脂(E4)91部を得た。得ら
れた変性エポキシ樹脂(E4)のエポキシ当量は21
0、軟化点は101℃、溶融粘度は1.5ポイズであっ
た。
Example 4 In Example 1, o-cresol novolak was added to 34 parts of trans-4,4'-dihydroxy-3,3 ',
The same operation as in Example 1 was performed, except that 5,5′-tetramethylstilbene was changed to 37 parts of 2,2-bis (4′-hydroxyphenyl) adamantane. as a result,
91 parts of the modified epoxy resin (E4) of the present invention was obtained. The resulting modified epoxy resin (E4) has an epoxy equivalent of 21.
0, the softening point was 101 ° C., and the melt viscosity was 1.5 poise.

【0029】実施例5 実施例1においてo−クレゾールノボラックを34部
に、トランス−4,4’−ジヒドロキシ−3,3’,
5,5’−テトラメチルスチルベンを4,4’−[1,
4−フェニレンビス(メチレン)]ビス(4−ヒドロキ
シベンゼン)37部に変えた以外は実施例1と同様の操
作を行った。その結果、本発明の変性エポキシ樹脂(E
5)93部を得た。得られた変性エポキシ樹脂(E5)
のエポキシ当量は215、軟化点は98℃、溶融粘度は
1.3ポイズであった。
Example 5 In Example 1, o-cresol novolak was added to 34 parts of trans-4,4'-dihydroxy-3,3 ',
5,5′-Tetramethylstilbene is converted to 4,4 ′-[1,
4-Phenylenebis (methylene)] The same operation as in Example 1 was carried out except that the amount was changed to 37 parts of bis (4-hydroxybenzene). As a result, the modified epoxy resin (E
5) 93 parts were obtained. Obtained modified epoxy resin (E5)
Has an epoxy equivalent of 215, a softening point of 98 ° C., and a melt viscosity of 1.3 poise.

【0030】実施例6 実施例1においてo−クレゾールノボラックを58部
に、トランス−4,4’−ジヒドロキシ−3,3’,
5,5’−テトラメチルスチルベンを下記式(2)
Example 6 In Example 1, o-cresol novolak was added to 58 parts of trans-4,4'-dihydroxy-3,3 ',
5,5′-Tetramethylstilbene is represented by the following formula (2)

【0031】[0031]

【化3】 Embedded image

【0032】で表される化合物11部に変えた以外は実
施例1と同様の操作を行った。その結果、本発明の変性
エポキシ樹脂(E6)90部を得た。得られた変性エポ
キシ樹脂(E6)のエポキシ当量は202、軟化点は1
20℃、溶融粘度は2.5ポイズであった。
The same operation as in Example 1 was carried out, except that 11 parts of the compound represented by the following formula was used. As a result, 90 parts of the modified epoxy resin (E6) of the present invention was obtained. The resulting modified epoxy resin (E6) has an epoxy equivalent of 202 and a softening point of 1
At 20 ° C., the melt viscosity was 2.5 poise.

【0033】実施例7 実施例1においてo−クレゾールノボラックを58部
に、トランス−4,4’−ジヒドロキシ−3,3’,
5,5’−テトラメチルスチルベンを4,4’−ジヒド
ロキシタ−フェニル11部に変えた以外は実施例1と同
様の操作を行った。その結果、本発明の変性エポキシ樹
脂(E7)87部を得た。得られた変性エポキシ樹脂
(E7)のエポキシ当量は200、軟化点は122℃、
溶融粘度は1.9ポイズであった。
Example 7 In Example 1, o-cresol novolak was added to 58 parts of trans-4,4'-dihydroxy-3,3 ',
The same operation as in Example 1 was performed, except that 5,5'-tetramethylstilbene was changed to 11 parts of 4,4'-dihydroxyta-phenyl. As a result, 87 parts of the modified epoxy resin (E7) of the present invention was obtained. The resulting modified epoxy resin (E7) has an epoxy equivalent of 200, a softening point of 122 ° C.,
The melt viscosity was 1.9 poise.

【0034】実施例8〜14、 実施例の変性エポキシ樹脂(E1)〜(E7)を使用
し、これらエポキシ樹脂のエポキシ基1当量に対して硬
化剤(フェノールノボラック樹脂(日本化薬(株)製、
PN−80、150℃におけるICI粘度1.5ポイ
ズ、軟化点86℃、水酸基当量106g/eq)を1水
酸基当量配合し、更に硬化促進剤(トリフェニルフォス
フィン)をエポキシ樹脂100部当り1部配合し、トラ
ンスファー成型により樹脂成型体を調製し、160℃で
2時間、更に180℃で8時間で硬化させた。
Examples 8 to 14 Using the modified epoxy resins (E1) to (E7) of the examples, a curing agent (phenol novolak resin (Nippon Kayaku Co., Ltd.) Made,
PN-80, ICI viscosity at 150 ° C. 1.5 poise, softening point 86 ° C., hydroxyl equivalent 106 g / eq), 1 hydroxyl equivalent, and a curing accelerator (triphenylphosphine) at 1 part per 100 parts of epoxy resin It was blended, and a resin molded body was prepared by transfer molding, and cured at 160 ° C. for 2 hours and further at 180 ° C. for 8 hours.

【0035】このようにして得られた硬化物の物性を測
定した結果を表1に示す。尚、物性値の測定は以下の条
件にて行った。 ・ガラス転移温度(TMA):真空理工(株)製 TM−7000 昇温度速度 2℃/min. ・銅箔剥離強度:JIS C−6481(引き剥し強さ)に記載に準拠して測定 した。 ・アイゾット衝撃試験:JIS K7710に準拠して測定した。
Table 1 shows the results of measuring the physical properties of the cured product thus obtained. The measurement of the physical properties was performed under the following conditions. Glass transition temperature (TMA): TM-7000 manufactured by Vacuum Riko Co., Ltd. Temperature rise rate 2 ° C./min. -Copper foil peel strength: Measured according to JIS C-6481 (peel strength). Izod impact test: Measured according to JIS K7710.

【0036】[0036]

【表1】 表1 8 9 10 11 12 13 14 エポキシ樹脂 E1 E2 E3 E4 E5 E6 E7 ガラス転移温度(℃) 147 149 146 151 141 149 150 銅箔剥離強度(Kg/cm) 2.5 2.3 2.6 2.6 2.8 2.6 2.2 アイゾット衝撃試験値(Kg/mm2) 14 13 13 12 18 13 15 Table 1 Table 1 8910 10 11 12 13 14 Epoxy resin E1 E2 E3 E4 E5 E6 E7 Glass transition temperature (° C) 147 149 146 146 151 141 149 150 Copper foil peel strength (Kg / cm) 2.5 2.3 2.6 2.6 2.8 2.6 2.2 Izod impact test value (Kg / mm 2 ) 14 13 13 12 18 13 15

【0037】[0037]

【発明の効果】本発明の変性エポキシ樹脂は、溶融粘度
が低く、また、原料としてその炭素原子がsp2軌道を
形成するもののみで構成されたビスフェノール類を用い
ることにより、軟化点を高くすることが出来、作業性及
び保存性(耐ブロッキング性)を向上させることが出来
る。従って、本発明の変性エポキシ樹脂は、電気電子部
品用絶縁材料(高信頼性半導体封止材料など)及び積層
板(プリント配線板など)やCFRPを始めとする各種
複合材料、接着剤、塗料等に使用する場合に極めて有用
である。
The modified epoxy resin of the present invention has a low melt viscosity, and its softening point can be raised by using bisphenols composed of only those whose carbon atoms form sp2 orbitals. And workability and storage stability (blocking resistance) can be improved. Accordingly, the modified epoxy resin of the present invention can be used as an insulating material for electric and electronic parts (such as a highly reliable semiconductor encapsulating material) and various composite materials such as a laminated board (such as a printed wiring board) and CFRP, an adhesive, and a paint. It is extremely useful when used for

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】(a)式(1) 【化1】 (式(1)中、Rはそれぞれ独立して水素原子、ハロゲ
ン原子又は炭素数1〜8の炭化水素基を表す。Xは炭素
数1〜14の炭化水素基、炭素数1〜14のハロゲン化
炭化水素基、−N=CY−、−CY=N−Z−N=CY
−又は−N=CY−Z−CY=N−(前記Yは独立して
水素原子又は炭素数1〜6の炭化水素基を示す。Zは直
接結合、炭素数1〜24の炭化水素基、炭素数1〜24
のハロゲン化炭化水素基、炭素数1〜24のアルコキシ
基置換芳香族炭化水素基、−C6 (R)4 −S−C
6 (R)4 −、−C6 (R)4 −SO−C6 (R)4
又は−C6 (R)4 −SO2 −C6 (R)4 −(前記R
は前出と同じ意味を表す。)を表す。)で表される融点
が200℃以上のビスフェノール類化合物と (b)(a)以外の多価フェノール化合物の混合物をグ
リシジル化して得られる変性エポキシ樹脂。
(A) Formula (1) (In Formula (1), R independently represents a hydrogen atom, a halogen atom, or a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms. X represents a hydrocarbon group having 1 to 14 carbon atoms, and a halogen having 1 to 14 carbon atoms. Hydrocarbon group, -N = CY-, -CY = NZN = CY
-Or -N = CY-Z-CY = N- (wherein Y independently represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms. Z is a direct bond, a hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms, Carbon number 1-24
Halogenated hydrocarbon group, an alkoxy group-substituted aromatic hydrocarbon radical having 1 to 24 carbon atoms, -C 6 (R) 4 -S -C
6 (R) 4 -, - C 6 (R) 4 -SO-C 6 (R) 4 -
Or —C 6 (R) 4 —SO 2 —C 6 (R) 4
Represents the same meaning as described above. ). A modified epoxy resin obtained by glycidylating a mixture of a bisphenol compound having a melting point of 200 ° C. or higher and a polyhydric phenol compound other than (b) and (a).
【請求項2】(a)と(b)の重量混合比(a)/
(b)が、0.05以上、20以下である請求項1記載
の変性エポキシ樹脂。
2. A weight mixing ratio of (a) and (b) (a) /
The modified epoxy resin according to claim 1, wherein (b) is 0.05 or more and 20 or less.
【請求項3】(a)と(b)の重量混合比(a)/
(b)が、0.05以上、1以下である請求項1記載の
変性エポキシ樹脂。
3. A weight mixing ratio of (a) and (b) (a) /
The modified epoxy resin according to claim 1, wherein (b) is 0.05 or more and 1 or less.
【請求項4】全ての炭素原子がsp2混成軌道を形成し
ている(1)の化合物を用いて得られた請求項1、2及
び3のいずれか1項に記載の変性エポキシ樹脂。
4. The modified epoxy resin according to claim 1, wherein the modified epoxy resin is obtained by using the compound of (1) in which all carbon atoms form sp2 hybrid orbitals.
【請求項5】軟化点が70℃以上、130℃以下である
請求項1、2、3及び4のいずれか1項に記載の変性エ
ポキシ樹脂。
5. The modified epoxy resin according to claim 1, which has a softening point of 70 ° C. or higher and 130 ° C. or lower.
【請求項6】溶融粘度が2.0以下である請求項1、
2、3、4及び5のいずれか1項に記載の変性エポキシ
樹脂。
6. The method according to claim 1, wherein the melt viscosity is 2.0 or less.
6. The modified epoxy resin according to any one of 2, 3, 4, and 5.
【請求項7】成分(b)がアルキルフェノールノボラッ
クである請求項1、2、3、4、5及び6のいずれか1
項に記載の変性エポキシ樹脂。
7. The composition of claim 1, wherein component (b) is an alkylphenol novolak.
The modified epoxy resin as described in the item.
【請求項8】請求項1〜7のいずれか1項に記載の変性
エポキシ樹脂を含有するエポキシ樹脂組成物。
8. An epoxy resin composition containing the modified epoxy resin according to claim 1.
【請求項9】半導体封止用に調製された請求項8記載の
エポキシ樹脂組成物。
9. The epoxy resin composition according to claim 8, which is prepared for encapsulating a semiconductor.
【請求項10】請求項8または9記載のエポキシ樹脂組
成物を硬化してなる硬化物。
10. A cured product obtained by curing the epoxy resin composition according to claim 8 or 9.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006307063A (en) * 2005-04-28 2006-11-09 Idemitsu Kosan Co Ltd Epoxy resin composition and optoelectronic member using the same
KR100647891B1 (en) * 1999-12-30 2006-11-17 주식회사 케이씨씨 Multifunctional phenolic curing agent for epoxy resin type powder coating compositions
JP2010132766A (en) * 2008-12-04 2010-06-17 Nippon Steel Chem Co Ltd Epoxy resin composition and molded product

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