JPH11159649A - Cylindrical opening/closing valve mounting structure - Google Patents

Cylindrical opening/closing valve mounting structure

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JPH11159649A
JPH11159649A JP10270772A JP27077298A JPH11159649A JP H11159649 A JPH11159649 A JP H11159649A JP 10270772 A JP10270772 A JP 10270772A JP 27077298 A JP27077298 A JP 27077298A JP H11159649 A JPH11159649 A JP H11159649A
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JP
Japan
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valve
gasket
output
port
gas
Prior art date
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Application number
JP10270772A
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Japanese (ja)
Inventor
Yuichi Mikata
裕一 見方
Yoshihisa Sudo
良久 須藤
Kenichi Goshima
憲一 五島
Hiroshi Bandou
寛 板藤
Akihiro Kojima
章裕 小島
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Toshiba Corp
CKD Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
CKD Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a mounting structure for a cylindrical opening/closing valve decreasing a space necessary for mounting a flow control valve. SOLUTION: A mounting structure for a cylindrical opening/closing valve has an output valve 3 provided with a valve supply port receiving supply of gas in the vicinity of a lower surface central part and a valve output port connecting to or interrupting from the valve supply port by opening/closing of a valve, and an output valve block 13 mounting the cylindrical opening/ closing valve in an upper surface to extend the upper surface mounting the output valve 3 in one side surface direction to use two bolt holes formed in the extended upper surface to be fixed to an output manifold 12 by a mounting bolt 41 also to be formed with a communication path connecting a manifold port 12b to the valve output port. The manifold port 12b is formed between the two mounting bolts 41.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】 本発明は、半導体製造装置等の
産業用製造装置で使用されるガス供給装置で使用される
円筒状開閉弁の取付構造に関し、さらに詳細には、狭い
スペースに多数の円筒状開閉弁を取り付けることが可能
な円筒状開閉弁の取付構造に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a mounting structure of a cylindrical opening / closing valve used in a gas supply device used in an industrial manufacturing apparatus such as a semiconductor manufacturing apparatus, and more particularly, to a mounting structure for a large number of small open spaces. The present invention relates to a cylindrical on-off valve mounting structure to which a cylindrical on-off valve can be mounted.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、半導体製造工程において、ホ
トレジスト加工のエッチング等に腐食性ガスが使用され
ている。ホトレジスト加工(ホトレジスト塗布、露光、
現像、エッチング)は、半導体製造工程において複数回
繰り返されるため、実際の半導体製造工程では、腐食ガ
スを必要に応じて供給するガス供給装置が使用されてい
る。近年、半導体の集積度が高くなり加工精度への要求
が高くなるにつれて、エッチング等で使用される腐食性
ガスの供給量を正確に制御することが望まれている。ま
た、コストダウンを目的とする製造工程時間の短縮化の
要請から、タイミング及びスピードの要求も厳しくなっ
ている。
2. Description of the Related Art Conventionally, in a semiconductor manufacturing process, a corrosive gas has been used for etching of a photoresist process or the like. Photoresist processing (photoresist coating, exposure,
Development and etching) are repeated a plurality of times in the semiconductor manufacturing process. Therefore, in the actual semiconductor manufacturing process, a gas supply device that supplies a corrosive gas as needed is used. In recent years, as the degree of integration of semiconductors has increased and the demand for processing accuracy has increased, it has been desired to accurately control the supply amount of corrosive gas used in etching and the like. Further, demands for timing and speed are becoming severer due to a demand for shortening a manufacturing process time for cost reduction.

【0003】一方、近年例えば半導体の製造工程におい
て少量の腐食性ガス等を流量で1%以下の精度で供給す
ること等が必要とされており、精度の要求はさらに厳し
くなってきている。そのため高精度かつ高い応答性を有
する流量制御弁が使用されている。そして、腐食性ガス
供給量を正確に制御するための流量制御弁等において、
流量質量を高精度かつ高い応答性で測定する質量流量セ
ンサとして、細い導管の内部に腐食性ガスを流し、導管
の上流側と下流側に各々温度係数の大なる一対の自己加
熱型測温体を巻き付けた感熱コイルを形成し、各感熱コ
イルによりブリッジ回路を作り、感熱コイルの温度を一
定値に制御して、腐食ガスの質量流量をブリッジ回路間
の電位差より演算するものが使用されている。
On the other hand, in recent years, for example, in a semiconductor manufacturing process, it is required to supply a small amount of corrosive gas or the like with a flow rate of 1% or less in accuracy, and the demand for accuracy is becoming more severe. Therefore, a flow control valve having high accuracy and high responsiveness is used. And, in a flow control valve or the like for accurately controlling the corrosive gas supply amount,
As a mass flow sensor that measures flow mass with high accuracy and high responsiveness, a corrosive gas flows inside a narrow conduit, and a pair of self-heating thermometers with large temperature coefficients on the upstream and downstream sides of the conduit, respectively. Is used to form a bridge circuit by each heat-sensitive coil, control the temperature of the heat-sensitive coil to a constant value, and calculate the mass flow rate of the corrosive gas from the potential difference between the bridge circuits. .

【0004】このとき使用されている導管は、例えば、
内径0.5mm、長さ20mmのSUS316製のチュ
ーブである。内径が小さいのは、少量の流体ガスの流量
を正確に測定するためである。そして、導管の上流側と
下流側とに、直径25μmの感熱抵抗線を70ターン巻
き付けて2つの感熱コイルが形成されている。感熱抵抗
線は、鉄、ニッケル合金等の温度係数の大なる材質で作
られている。感熱コイルは導管にUV硬化樹脂等で接着
され、センサ部を構成している。半導体の製造工程で
は、このような流量制御弁と複数の円筒状開閉弁とを組
み合わせたユニットを複数使用している。ここで、円筒
状開閉弁に供給する窒素ガス等が共通する場合、各ユニ
ットの円筒状開閉弁が取り付けられたマニホールドプレ
ートにより窒素ガス等を供給することが行われている。
例えば、ホトレジスト工程では、10種類以上のガスを
供給する場合があり、そのときは、流量制御弁ユニット
をガスの種類の数だけマニホールドに取り付けていた。
[0004] The conduit used at this time is, for example,
It is a tube made of SUS316 having an inner diameter of 0.5 mm and a length of 20 mm. The inside diameter is small in order to accurately measure the flow rate of a small amount of fluid gas. Then, two heat-sensitive coils are formed by winding a heat-sensitive resistance wire having a diameter of 25 μm 70 turns on the upstream side and the downstream side of the conduit. The heat-sensitive resistance wire is made of a material having a large temperature coefficient, such as iron or a nickel alloy. The heat-sensitive coil is adhered to the conduit with a UV curing resin or the like, and forms a sensor unit. In a semiconductor manufacturing process, a plurality of units combining such a flow control valve and a plurality of cylindrical on-off valves are used. Here, when nitrogen gas or the like supplied to the cylindrical on-off valve is common, nitrogen gas or the like is supplied by a manifold plate to which the cylindrical on-off valve of each unit is attached.
For example, in the photoresist process, more than 10 types of gas may be supplied. At that time, the flow control valve units are mounted on the manifold by the number of types of gas.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
装置には次のような問題点があった。 (1)現在製造装置をコンパクト化する強い要求があ
る。それは、単純にスペースを減らす目的だけでなく、
例えば、コンパクト化することにより、真空ポンプで所
定の真空を作る時間を短くでき、生産効率を向上できる
からである。しかし、従来の装置では、複数の流量制御
弁ユニットを配置するため広いスペースが必要となり、
製造装置をコンパクト化しようとする方向に逆行してい
た。すなわち、従来の円筒状開閉弁取付構造では、広い
スペースが取られるため、生産効率が悪くなる問題があ
った。
However, the conventional apparatus has the following problems. (1) Currently, there is a strong demand for downsizing the manufacturing apparatus. It's not just about saving space,
This is because, for example, by reducing the size, the time for creating a predetermined vacuum by the vacuum pump can be shortened, and the production efficiency can be improved. However, in the conventional device, a large space is required to arrange a plurality of flow control valve units,
It was going in the direction of trying to make the manufacturing equipment more compact. That is, in the conventional cylindrical on-off valve mounting structure, there is a problem that production efficiency is deteriorated because a large space is taken.

【0006】(2)流量制御弁を交換する場合に、流量
制御弁とユニットを構成するブロックとの連通孔をシー
ルするために、ドーナッツ状で外周面に開口部を有する
パイプにより形成され、パイプ内にコイルばねが装着さ
れたガスケットを使用する。このとき、ガスケットを単
体でブロックに供給し、ブロックをネジにより締結して
いる。しかし、ガスケットをブロックの間に挟み込んで
ネジ締めしたときに、ガスケットが横ずれをする場合が
あり、横ずれによりガスケットのつぶれ方が不均一とな
るため、シールが不完全となり、腐食性ガスが漏れる恐
れがあった。また、ガスケットは小物部品であるため、
ブロック上の所定の位置にガスケットを正確に供給する
ことが難しかった。特に、ブロック等が水平面に対して
傾きを有している場合には、ガスケットが簡単にすべっ
て位置ずれしてしまうため問題であった。
(2) When the flow control valve is replaced, it is formed of a donut-shaped pipe having an opening on the outer peripheral surface to seal a communication hole between the flow control valve and a block constituting the unit. Use a gasket with a coil spring mounted inside. At this time, the gasket is supplied alone to the block, and the block is fastened with screws. However, when the gasket is sandwiched between the blocks and tightened with screws, the gasket may shift laterally, and the misalignment of the gasket due to the lateral shift may result in incomplete sealing and leakage of corrosive gas. was there. Also, since gaskets are small parts,
It was difficult to accurately supply the gasket to a predetermined position on the block. In particular, when the block or the like has an inclination with respect to the horizontal plane, the gasket slides easily and is displaced, which is a problem.

【0007】本発明は、上記した問題点を解決するもの
であり、流量制御弁の取り付けに必要なスペースを少な
くした円筒状開閉弁の取付構造を提供することを目的と
する。
An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems, and an object of the present invention is to provide a mounting structure of a cylindrical on-off valve which requires less space for mounting a flow control valve.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に、本発明のガス供給装置は、以下の様な構成を有して
いる。本発明の円筒状開閉弁の取付構造は、円筒状開閉
弁と連通するマニホールドポートを有するマニホールド
プレートに円筒状開閉弁を取り付ける円筒状開閉弁取付
構造であって、(1)下面中央部近傍に気体の供給を受
ける弁供給ポートと、弁の開閉により弁供給ポートと連
通または遮断される弁出力ポートとを備える円筒状開閉
弁と、(2)上面に前記円筒状開閉弁が取り付けられ、
前記円筒状開閉弁が取り付けられた上面が一側面方向に
延伸され、延伸された上面に形成された2つのボルト孔
を用いてボルトにより前記マニホールドプレートに固定
されると共に、前記マニホールドポートと前記弁供給ポ
ートまたは前記弁出力ポートとを連通させる連通路とが
形成された取付ブロックとを有し、(3)前記マニホー
ルドポートが、前記2本の取付ボルトの間に形成されて
いる。
To achieve this object, a gas supply apparatus according to the present invention has the following configuration. The mounting structure of the cylindrical on-off valve according to the present invention is a cylindrical on-off valve mounting structure for mounting the cylindrical on-off valve on a manifold plate having a manifold port communicating with the cylindrical on-off valve, and (1) near the center of the lower surface. A cylindrical on-off valve including a valve supply port for receiving gas supply, a valve output port for communicating with or shut off from the valve supply port by opening and closing the valve; and (2) the cylindrical on-off valve is mounted on an upper surface,
The upper surface to which the cylindrical on-off valve is attached extends in one side direction, and is fixed to the manifold plate by bolts using two bolt holes formed in the extended upper surface, and the manifold port and the valve And (3) the manifold port is formed between the two mounting bolts. The mounting block has a supply port and a communication passage communicating with the valve output port.

【0009】また、上記取付構造において、(4)ドー
ナッツ状で外周面に開口部が形成されたパイプ内にコイ
ルばねが装着されたガスケットと、(5)前記ガスケッ
トの開口部を外側から挟んで前記マニホールドポートを
囲む位置に保持するガスケット保持部材とを有し、
(6)前記2本の取付ボルトが、前記ガスケット中心に
して点対称に位置することを特徴とする。
In the above mounting structure, (4) a gasket in which a coil spring is mounted in a donut-shaped pipe having an opening formed on the outer peripheral surface, and (5) a gasket having the opening formed from outside. A gasket holding member for holding the manifold port at a position surrounding the manifold port,
(6) The two mounting bolts are located point-symmetrically with respect to the center of the gasket.

【0010】[0010]

【作用】上記の構成よりなる本発明のガス供給装置の流
量制御弁は、流量を計測しながら弁開度を調整して所定
の質量流量の腐食性ガスを供給する。流量制御弁内に設
置されている流量センサでは、流量を高精度かつ高い応
答速度で計測するために、細いパイプが使用されてい
る。また、流量制御弁の両側にあって流量制御弁と一体
的に構成される第一円筒状開閉弁及び第二円筒状開閉弁
は、該供給ガスの流れを通過させたり遮断したりする。
また、置換ガス供給手段は、第一及び第二円筒状開閉弁
の中間にあって、流量制御弁に置換ガスを供給する。ま
た、排気手段であるエゼクタは、同じく第一及び第二円
筒状開閉弁の中間にあって流量制御弁の近傍に位置し、
流量制御弁内に残留する供給ガスを減圧する。
The flow rate control valve of the gas supply apparatus of the present invention having the above-described structure adjusts the valve opening while measuring the flow rate to supply a corrosive gas having a predetermined mass flow rate. In a flow sensor installed in a flow control valve, a thin pipe is used to measure a flow rate with high accuracy and a high response speed. In addition, the first cylindrical on-off valve and the second cylindrical on-off valve which are integrally formed with the flow control valve on both sides of the flow control valve pass or block the flow of the supply gas.
Further, the replacement gas supply means is located between the first and second cylindrical on-off valves and supplies the replacement gas to the flow control valve. In addition, the ejector as the exhaust means is also located in the middle of the first and second cylindrical on-off valves and near the flow control valve,
The supply gas remaining in the flow control valve is depressurized.

【0011】第一円筒状開閉弁や第二円筒状開閉弁は取
付ブロックに4本のボルトにより締結されている。ま
た、取付ブロックは、延伸された上面に形成された2つ
のボルト孔により、マニホールドプレートに片側で締結
されているので、反対側のボルトスペースが不要とな
り、円筒状開閉弁の取付スペースを少なくできる。この
とき、マニホールドプレートと取付ブロックとを連通す
るためのマニホールドポートが、2本の取付ボルトの間
に形成されているので、マニホールドプレートと取付ブ
ロックとの隙間からガスが漏れる恐れがない。
The first and second cylindrical on-off valves are fastened to the mounting block by four bolts. Further, since the mounting block is fastened to the manifold plate on one side by two bolt holes formed on the extended upper surface, the space for the bolt on the opposite side becomes unnecessary, and the mounting space for the cylindrical on-off valve can be reduced. . At this time, since a manifold port for communicating the manifold plate and the mounting block is formed between the two mounting bolts, there is no possibility that gas leaks from a gap between the manifold plate and the mounting block.

【0012】次に、流量制御弁を交換する場合について
説明する。流量制御弁は、ユニットに対して上方向にネ
ジを外すだけで、容易に取り外すことができる。新しい
流量制御弁を取り付けるときに、ユニットを構成するブ
ロックと流量制御弁との流路孔の周囲をシールするため
のガスケットは新品を使用する。ガスケットは、ガスケ
ット保持部材の一対のガスケット保持部により開口部で
挟まれて保持される。このとき、ガスケット保持部材
は、ばね性を有しており、ガスケットをしっかりと保持
している。また、ガスケット保持部材のガスケットを挟
む定位置には、わずかに凹部が形成されているので、ガ
スケットはガスケット保持部材に対して正確に定位置で
保持される。
Next, a case where the flow control valve is replaced will be described. The flow control valve can be easily removed simply by unscrewing the unit upward. When a new flow control valve is installed, a new gasket for sealing around the flow path hole between the block constituting the unit and the flow control valve is used. The gasket is held between the pair of gasket holding portions of the gasket holding member at the opening. At this time, the gasket holding member has a spring property and holds the gasket firmly. Further, since the gasket holding member has a slightly concave portion at a fixed position sandwiching the gasket, the gasket is accurately held at the fixed position with respect to the gasket holding member.

【0013】また、ガスケット保持部材は、ピン位置決
め部によりブロックに形成されているピン部材に位置決
めされる。これにより、ガスケットが流路孔に対して正
確に位置決めされる。次に、ガスケットがガスケット保
持部材により保持された状態で、上方向からネジ締めさ
れるので、ガスケットは横ずれすることがないため、ガ
スケットを均一に押しつぶすことができる。このとき、
ガスケットのパイプはブロックにより押しつぶされて孔
周囲のシールを行うが、内部にコイルばねが装着されて
いるため、パイプは常にブロックに密着した状態を保
ち、良いシール状態が保たれる。
The gasket holding member is positioned by the pin positioning portion on the pin member formed on the block. Thereby, the gasket is accurately positioned with respect to the flow path hole. Next, since the gasket is screwed from above in a state where the gasket is held by the gasket holding member, the gasket does not shift laterally, so that the gasket can be crushed uniformly. At this time,
The gasket pipe is crushed by the block to seal around the hole. However, since the coil spring is mounted inside the pipe, the pipe is always kept in close contact with the block, and a good sealing state is maintained.

【0014】[0014]

【実施例】以下、本発明を具体化した一実施例であるガ
ス供給装置について図面を参照して説明する。図4は、
ガス供給装置ユニットの構成を示す回路図である。供給
ガスである腐食性ガスFaを供給するガス供給ユニット
は、第一円筒状開閉弁である入力弁2と、腐食性ガスF
aの流量を計測して一定量の腐食性ガスFaを供給する
ための流量制御弁5及び第二円筒状開閉弁である出力弁
3が直列に接続されている。また、流量制御弁5の入力
ポートには、エゼクタ弁7を介して供給ガス排気手段で
あるエゼクタ4、及びパージ弁6を介して置換ガスとし
て不活性ガスである窒素ガスを貯蔵している窒素ガスタ
ンク(図示せず)が接続している。また、出力弁3の出
力ポートには、他の供給ガスである腐食性ガスFbの出
力弁の出力ポートが接続しており、腐食性ガスFa,F
bが混合されて混合ガスFoとして製造工程に供給され
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A gas supply apparatus according to one embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG.
FIG. 3 is a circuit diagram illustrating a configuration of a gas supply unit. The gas supply unit that supplies the corrosive gas Fa that is a supply gas includes an input valve 2 that is a first cylindrical on-off valve and a corrosive gas F
A flow control valve 5 for measuring a flow rate of a and supplying a certain amount of corrosive gas Fa and an output valve 3 as a second cylindrical on-off valve are connected in series. An input port of the flow control valve 5 has an ejector 4 serving as a supply gas exhaust unit via an ejector valve 7 and a nitrogen gas containing an inert gas nitrogen as a replacement gas via a purge valve 6. A gas tank (not shown) is connected. The output port of the output valve 3 is connected to the output port of the corrosive gas Fb which is another supply gas.
b is mixed and supplied to the manufacturing process as a mixed gas Fo.

【0015】この回路図を具体化した実施例を図1及び
図2に示す。図1は、供給ガスFaを供給するためのガ
ス供給ユニットの構成を示す側面図であり、図2は、そ
の分解斜視図である。また、ガス供給ユニットにおける
供給ガスFaの流れを図3に示す。流量制御弁5の左右
には、流路を方向変換するためのブロックであり、ユニ
ットに対して上方向からネジ41によりネジ止めするた
めの流量制御弁ブロック44,45が横方向からネジで
締結されている。流量制御弁ブロック44の下には、流
路を方向変換するための方向変換ブロック14が出力弁
ブロック13に右方向からネジ止めされている。取付ブ
ロックである出力弁ブロック13には、上方向から出力
弁3がネジ止めされている。また、出力弁ブロック13
には、左方向から出力継手43が取り付けられている。
また、出力弁ブロック13の円筒状開閉弁である出力弁
3が取り付けられた上面が、一側面方向に延伸され、延
伸された上面に2つのボルト孔が形成されている。そし
て、出力弁ブロック13は、ベースプレート48に下方
向からネジ止めされているマニホールドプレートである
出力マニホールド12に、該ボルト孔を用いて上方向か
ら2本のボルト41で締結されている。出力マニホール
ド12には、出力弁ブロック13の2つの取付ボルト孔
に対応する位置に一対の雌ネジ孔が形成されている。そ
して、2つの雌ネジ孔の中心位置にマニホールドポート
12bが形成されている。
An embodiment of this circuit diagram is shown in FIGS. FIG. 1 is a side view showing a configuration of a gas supply unit for supplying a supply gas Fa, and FIG. 2 is an exploded perspective view thereof. FIG. 3 shows the flow of the supply gas Fa in the gas supply unit. On the left and right sides of the flow control valve 5, there are blocks for changing the direction of the flow path, and flow control valve blocks 44, 45 for screwing the unit from above with screws 41 are fastened with screws from the lateral direction. Have been. Below the flow control valve block 44, a direction changing block 14 for changing the direction of the flow path is screwed to the output valve block 13 from the right. The output valve 3 is screwed to the output valve block 13 as an attachment block from above. Also, the output valve block 13
, An output joint 43 is attached from the left.
The upper surface of the output valve block 13 to which the output valve 3 as the cylindrical on-off valve is attached is extended in one side direction, and two bolt holes are formed in the extended upper surface. The output valve block 13 is fastened to the output manifold 12, which is a manifold plate screwed to the base plate 48 from below, with two bolts 41 from above using the bolt holes. The output manifold 12 has a pair of female screw holes formed at positions corresponding to the two mounting bolt holes of the output valve block 13. A manifold port 12b is formed at the center of the two female screw holes.

【0016】また、流量制御弁ブロック45の下には、
流路を方向変換するための方向変換ブロック15が入力
弁ブロック16に左方向からボルト止めされている。取
付ブロックである入力弁ブロック16には、上方向から
パージ弁6、エゼクタ弁7及び入力弁2が各々ボルト止
めされている。また、入力弁ブロック16には、右方向
から入力継手42が取り付けられている。また、入力弁
ブロック16は、ベースプレート48に下方向からボル
ト止めされている各々がマニホールドプレートであるパ
ージマニホールド46及びエゼクタマニホールド47
に、上方向から各々2本の取付ボルトで締結されてい
る。また、エゼクタマニホールド47の一端部にエゼク
タ配管18を介してエゼクタ4が接続している。また、
パージマニホールド46の一端部は、不活性ガスである
窒素ガスを貯蔵している窒素ガスタンク(図示せず)に
接続している。
Below the flow control valve block 45,
A direction change block 15 for changing the direction of the flow path is bolted to the input valve block 16 from the left. The purge valve 6, the ejector valve 7, and the input valve 2 are bolted to the input valve block 16, which is a mounting block, from above. An input joint 42 is attached to the input valve block 16 from the right. The input valve block 16 includes a purge manifold 46 and an ejector manifold 47, each of which is a manifold plate and bolted to the base plate 48 from below.
And are fastened with two mounting bolts from above. The ejector 4 is connected to one end of the ejector manifold 47 via the ejector pipe 18. Also,
One end of the purge manifold 46 is connected to a nitrogen gas tank (not shown) storing nitrogen gas as an inert gas.

【0017】また、図2に示すように、流量制御弁ブロ
ック44,45と方向転換ブロック14,15の間に
は、ガスケット8及びガスケットリテーナ10が取り付
けられている。腐食性ガスFa等に使用されているガス
ケット8の構造を図5に示す。(a)が平面図であり、
(b)が側面図である。ガスケット8は、一側面が開口
されたパイプが円を形成している。このとき、開口部8
aは、外周に位置している。パイプの中には、コイル状
に巻かれたばね8bが装着されている。
As shown in FIG. 2, a gasket 8 and a gasket retainer 10 are mounted between the flow control valve blocks 44 and 45 and the direction change blocks 14 and 15. FIG. 5 shows the structure of the gasket 8 used for the corrosive gas Fa or the like. (A) is a plan view,
(B) is a side view. In the gasket 8, a pipe whose one side is opened forms a circle. At this time, the opening 8
a is located on the outer periphery. A spring 8b wound in a coil shape is mounted in the pipe.

【0018】ここで、流量制御弁5を交換する場合につ
いて説明する。流量制御弁5は、両側にある各2本のネ
ジ41を上方向に取り外すことにより容易にユニットか
ら取り外すことができる。次に、新しい流量制御弁5を
取付けるのであるが、ガスケット8は一度使用するとつ
ぶれてしまって、気密性が悪くなるため、再使用するこ
とはできないので、新しいガスケット8を使用する。ガ
スケットリテーナ10の構造を図7に平面図で示す。ガ
スケットリテーナ10は、0.3mm厚さの板材からエ
ッチング加工されたものである。ガスケット8は、開口
部8aがガスケットリテーナ10の細く板ばね状の一対
のガスケット保持部10aにより挟まれて保持される。
ガスケット保持部10aには、小さい凹部10bが形成
されており、ガスケット8の開口部がその凹部10bに
係合されている。これにより、ガスケット8はガスケッ
トリテーナ10に対して位置決めされている。
Here, a case where the flow control valve 5 is replaced will be described. The flow control valve 5 can be easily removed from the unit by removing the two screws 41 on both sides upward. Next, a new flow control valve 5 is mounted. However, the gasket 8 is crushed once used and the airtightness is deteriorated, so that the gasket 8 cannot be reused. Therefore, a new gasket 8 is used. The structure of the gasket retainer 10 is shown in a plan view in FIG. The gasket retainer 10 is formed by etching a plate material having a thickness of 0.3 mm. The gasket 8 is held with its opening 8a sandwiched between a pair of thin, leaf spring-shaped gasket holding portions 10a of the gasket retainer 10.
A small concave portion 10b is formed in the gasket holding portion 10a, and the opening of the gasket 8 is engaged with the concave portion 10b. As a result, the gasket 8 is positioned with respect to the gasket retainer 10.

【0019】ガスケットリテーナ10には、一対の取付
ネジの逃げ部10dが形成されている。また、ガスケッ
トリテーナ10には、2対の折り曲げ部10e,10f
が形成され、使用時に折り曲げられて、ブロックに対し
て位置決めに使用される。流量制御弁5を取り付ける場
合に、凹部10bにガスケット8が係合されたガスケッ
トリテーナ10の2対の折り曲げ部10e,10fを、
方向変換ブロック14,15の外側を挟むようにセット
する。このとき、左右方向の位置は、ガスケット8を方
向変換ブロック14の座ぐり部14cに嵌合させること
により位置決めする。これにより、ガスケット8が方向
変換ブロック14,15のガス孔14b,15bに対し
て位置決めされる。
The gasket retainer 10 is formed with a recess 10d for a pair of mounting screws. The gasket retainer 10 has two pairs of bent portions 10e and 10f.
Is formed and bent at the time of use to be used for positioning with respect to the block. When the flow control valve 5 is mounted, the two pairs of bent portions 10e and 10f of the gasket retainer 10 in which the gasket 8 is engaged with the concave portions 10b,
It is set so as to sandwich the outside of the direction conversion blocks 14 and 15. At this time, the position in the left-right direction is determined by fitting the gasket 8 to the counterbore portion 14c of the direction change block 14. As a result, the gasket 8 is positioned with respect to the gas holes 14b and 15b of the direction change blocks 14 and 15.

【0020】ガスケット8とガスケットリテーナ10と
が、方向変換ブロック14と流量制御弁ブロック44と
の間に取り付けられた状態を、図8に断面図で示す。ガ
スケット8の厚さは1.6mmである。方向変換ブロッ
ク14及び流量制御弁ブロック44には、各々ガスケッ
トリテーナ10用の深さ0.5mmの座ぐり44b,1
4cが形成されている。ガスケットリテーナ10の厚さ
は0.3mmであり、この状態でネジ41を締め付ける
ことにより、ガスケット8は、0.3mm押しつぶされ
る。このとき、ガスケット8と座ぐり部44b,14c
とは、ガタがあるが、ガスケット8はガスケットリテー
ナ10により保持されているので、ガスケット8は横ず
れすることがなく、流量制御弁5を取り付けることがで
きるため、ガスケット8の気密性が高くなる。また、ガ
スケット8が均一に圧縮されるため、完全にシールを行
うことができ、腐食性ガスFaが漏れる心配がない。
FIG. 8 is a sectional view showing a state in which the gasket 8 and the gasket retainer 10 are mounted between the direction changing block 14 and the flow control valve block 44. The thickness of the gasket 8 is 1.6 mm. Each of the direction changing block 14 and the flow control valve block 44 has a counterbore 44b, 1 having a depth of 0.5 mm for the gasket retainer 10.
4c is formed. The thickness of the gasket retainer 10 is 0.3 mm, and by tightening the screw 41 in this state, the gasket 8 is crushed by 0.3 mm. At this time, the gasket 8 and the counterbore portions 44b, 14c
Although there is play, the gasket 8 is held by the gasket retainer 10, so that the gasket 8 does not shift laterally and the flow control valve 5 can be attached, so that the gasket 8 has high airtightness. Further, since the gasket 8 is uniformly compressed, it is possible to completely seal the gasket 8, and there is no fear that the corrosive gas Fa leaks.

【0021】図2に示すように、出力弁ブロック13と
出力マニホールド12との間にも、ガスケット8及びガ
スケットリテーナ9が取り付けられている。ガスケット
リテーナ9の構造を図6に示す。ガスケットリテーナ9
は、0.3mm厚さの板材からエッチング加工されたも
のである。ガスケット8は、開口部8aがガスケットリ
テーナ9の細く板ばね状の一対のガスケット保持部9a
により挟まれて保持される。ガスケット保持部9aに
は、小さい凹部9bが形成されており、ガスケット8の
開口部がその凹部9bに係合されている。これにより、
ガスケット8はガスケットリテーナ9に対して位置決め
されている。
As shown in FIG. 2, a gasket 8 and a gasket retainer 9 are also mounted between the output valve block 13 and the output manifold 12. FIG. 6 shows the structure of the gasket retainer 9. Gasket retainer 9
Is etched from a plate material having a thickness of 0.3 mm. The gasket 8 has a pair of thin, leaf spring-shaped gasket holding portions 9 a of the gasket retainer 9.
And held between them. A small recess 9b is formed in the gasket holding portion 9a, and the opening of the gasket 8 is engaged with the recess 9b. This allows
The gasket 8 is positioned with respect to the gasket retainer 9.

【0022】ガスケットリテーナ9には、ブロックに取
り付けられた一対の位置決めピン12に嵌合する一対の
位置決め孔9c、取付ネジの逃げ部9dが形成されてい
る。出力弁ブロック13を取り付ける場合に、凹部9b
にガスケット8が係合されたガスケットリテーナ9の位
置決め孔9cを、出力マニホールド12に付設された位
置決めピン12aに嵌合させる。これにより、ガスケッ
ト8が出力マニホールド12のマニホールドポート12
bに対して位置決めされる。
The gasket retainer 9 is formed with a pair of positioning holes 9c fitted into a pair of positioning pins 12 mounted on the block, and a relief 9d for a mounting screw. When attaching the output valve block 13, the recess 9b
Then, the positioning hole 9c of the gasket retainer 9 with which the gasket 8 is engaged is fitted to the positioning pin 12a attached to the output manifold 12. Thereby, the gasket 8 is connected to the manifold port 12 of the output manifold 12.
b.

【0023】この状態でボルト締めされるが、ガスケッ
ト8がガスケットリテーナ9により保持されているの
で、ガスケット8を横ずれさせることなく、出力弁ブロ
ック13を取り付けることができるため、ガスケット8
の気密性が高くなる。また、ガスケット8が均一に圧縮
されるため、完全にシールを行うことができ、腐食性ガ
スFbが漏れる心配がない。
Although the bolt is tightened in this state, since the gasket 8 is held by the gasket retainer 9, the output valve block 13 can be mounted without causing the gasket 8 to shift sideways.
The airtightness is increased. Further, since the gasket 8 is uniformly compressed, it is possible to completely seal the gasket 8, and there is no fear that the corrosive gas Fb leaks.

【0024】次に、図3により各々のガスの流入及び排
出の経路を説明する。腐食性ガスFaは、入力継手42
よりユニットに流入し、入力ブロック16内部の孔を通
って、入力弁2の入力ポートに接続している。入力弁2
の出力ポートは入力ブロック16内部の通路を通って、
方向変換ブロック15及び流量制御ブロック45により
方向変換されて、流量制御弁5の入力ポートに接続して
いる。本実施例で使用している出力弁3、入力弁2、エ
ゼクタ弁7およびパージ弁6は、いずれも通常の電磁弁
であり、下面の中央部近傍に入力ポートおよび出力ポー
トが設けられている。また、入力弁2の出力ポートは入
力ブロック16内部の孔を通って、エゼクタ弁7の入力
ポート及びパージ弁6の出力ポートと接続している。流
量制御弁5の出力ポートは、流量制御ブロック44及び
方向変換ブロック14により方向変換されて、出力弁ブ
ロック13の内部に穿設された通路を通って、出力弁3
の入力ポートに接続している。また、出力弁3の出力ポ
ートは、出力弁ブロック13の内部に設けられている連
通路を通って、出力継手43に接続している。また、出
力継手43には、出力弁ブロック13の内部に穿設され
た連通路を介して出力マニホールド12により供給ガス
Fbを供給する他の出力弁の出力ポートに接続してい
る。これにより、2以上の供給ガスを混合して任意の混
合ガスFoを供給することができる。ここで、出力弁ブ
ロック13の出力ポートと出力マニホールド12のマニ
ホールドポート12bとが、2本の取付ボルト41の間
で接続されている。これにより、出力弁ブロック13を
出力マニホールドに対して、2本の取付ボルトだけで取
り付けてても、出力弁ブロック13と出力マニホールド
12との間から気体が漏れたりすることがない。出力継
手43は、半導体製造工程のエッチング加工装置に接続
している。
Next, the inflow and outflow paths of each gas will be described with reference to FIG. The corrosive gas Fa is supplied to the input joint 42.
And flows into the unit, passes through a hole in the input block 16, and is connected to the input port of the input valve 2. Input valve 2
Output port passes through a passage inside the input block 16,
The direction is changed by the direction change block 15 and the flow control block 45, and connected to the input port of the flow control valve 5. The output valve 3, the input valve 2, the ejector valve 7, and the purge valve 6 used in the present embodiment are all ordinary solenoid valves, and have an input port and an output port near the center of the lower surface. . The output port of the input valve 2 is connected to the input port of the ejector valve 7 and the output port of the purge valve 6 through a hole in the input block 16. The output port of the flow control valve 5 is changed in direction by the flow control block 44 and the direction change block 14, and passes through a passage formed in the output valve block 13 to pass through the output valve 3.
Connected to the input port of The output port of the output valve 3 is connected to the output joint 43 through a communication passage provided inside the output valve block 13. The output joint 43 is connected to the output port of another output valve that supplies the supply gas Fb by the output manifold 12 via a communication passage formed inside the output valve block 13. This makes it possible to supply an arbitrary mixed gas Fo by mixing two or more supply gases. Here, the output port of the output valve block 13 and the manifold port 12b of the output manifold 12 are connected between two mounting bolts 41. Thus, even if the output valve block 13 is mounted on the output manifold with only two mounting bolts, gas does not leak from between the output valve block 13 and the output manifold 12. The output joint 43 is connected to an etching device in a semiconductor manufacturing process.

【0025】エゼクタ4の構造を図9に示す。エゼクタ
配管18には、エゼクタ4の入力ポート28が接続して
いる。エゼクタ4の作動流体入力ポート27は、図示し
ないエゼクタ作動流体弁を介して窒素ガスのタンクに接
続している。作動流体入力ポート27は、弁室26と連
通している。弁室26には、弁座23が設けられ、弁座
23には、弁体21が当接している。弁体21は、可動
鉄心20の一端に嵌合され固定されている。可動鉄心
は、復帰ばね22により、弁体21に当接する方向に付
勢されている。可動鉄心20は、コイル19の中空部に
直線運動可能に嵌合されている。弁座23の中央孔は、
ノズル25を経て吸引部24と連通し、排出部29に連
通している。一方、エゼクタ4の入力ポート28は、吸
引部24と連通している。
FIG. 9 shows the structure of the ejector 4. The input port 28 of the ejector 4 is connected to the ejector pipe 18. The working fluid input port 27 of the ejector 4 is connected to a nitrogen gas tank via an ejector working fluid valve (not shown). The working fluid input port 27 is in communication with the valve chamber 26. A valve seat 23 is provided in the valve chamber 26, and the valve element 21 is in contact with the valve seat 23. The valve body 21 is fitted and fixed to one end of the movable iron core 20. The movable iron core is urged by a return spring 22 in a direction in which it comes into contact with the valve element 21. The movable iron core 20 is fitted in the hollow portion of the coil 19 so as to be able to linearly move. The central hole of the valve seat 23 is
It communicates with the suction unit 24 via the nozzle 25 and communicates with the discharge unit 29. On the other hand, the input port 28 of the ejector 4 is in communication with the suction unit 24.

【0026】全体装置の作用を説明する前に、上記構成
を有するエゼクタ4の作用を説明する。コイル19が励
磁されることにより図示しない固定鉄心が可動鉄心20
を上方向に移動させる。それにより、弁体21が弁座2
3と離間する。そして、作動流体である窒素ガスNが作
動流体入力ポート27、弁室26、弁座23を通って、
ノズル25に流入する。ノズル25で、圧力を降下させ
ることにより流速が増大され、窒素ガスNは、速い流速
で吸引部24から排出部29へ向かって吹き出す。
Before describing the operation of the overall apparatus, the operation of the ejector 4 having the above configuration will be described. When the coil 19 is excited, the fixed core (not shown) is
Is moved upward. As a result, the valve element 21 is
Separated from 3. Then, the nitrogen gas N as the working fluid passes through the working fluid input port 27, the valve chamber 26, and the valve seat 23,
It flows into the nozzle 25. The flow rate is increased by lowering the pressure at the nozzle 25, and the nitrogen gas N blows out from the suction unit 24 toward the discharge unit 29 at a high flow rate.

【0027】この窒素ガスNの速い流れにより発生する
が吸引部24の周辺の負圧と、窒素ガスNと腐食性ガス
Faとの粘性とにより、腐食性ガスFaが吸引され、作
動流体と混合して排出部29から排出される。排出され
たガスは、配管を通って、排気用タンクに収納される。
このとき、腐食性ガスFaは作動流体である窒素ガスN
により濃度が薄められてから排出されているので、排気
用配管や排気用処理装置の内部を腐食することが少な
い。
The corrosive gas Fa, which is generated by the rapid flow of the nitrogen gas N, is sucked by the negative pressure around the suction portion 24 and the viscosity of the nitrogen gas N and the corrosive gas Fa, and is mixed with the working fluid. And is discharged from the discharge unit 29. The discharged gas passes through a pipe and is stored in an exhaust tank.
At this time, the corrosive gas Fa is changed to nitrogen gas N as a working fluid.
The exhaust gas is discharged after its concentration has been reduced, so that the inside of the exhaust pipe and the exhaust processing apparatus is less likely to corrode.

【0028】次に、流量制御弁5の構成を図10により
説明する。流量制御弁5は、質量流量を精度よく計測し
ながら弁35の開閉により流量を制御するものである。
流量制御弁5には、主通路39と分流通路40とがあ
る。このうち、分流通路40に設けられた導管32を用
いて質量流量が計測される。主通路39には、分流通路
40に腐食性ガスFaを流すために、絞り部材36が付
設されている。すなわち、質量流量を高精度かつ高い応
答性で測定する質量流量センサとして、細い導管32の
内部に腐食性ガスFaを流し、導管32の上流側と下流
側に各々温度係数の大なる一対の自己加熱型測温体を巻
き付けた感熱コイル31を形成し、各感熱コイル31に
よりブリッジ回路を作り、電流制御回路37により、感
熱コイル31の温度を一定値に制御して、腐食性ガスF
aの質量流量をブリッジ回路間の電位差より演算し、駆
動制御回路38によりコイル34の励磁を変化させ、弁
体33を駆動して流量を制御するものが使用されてい
る。
Next, the structure of the flow control valve 5 will be described with reference to FIG. The flow control valve 5 controls the flow by opening and closing the valve 35 while accurately measuring the mass flow.
The flow control valve 5 has a main passage 39 and a branch passage 40. Among these, the mass flow rate is measured using the conduit 32 provided in the branch passage 40. The main passage 39 is provided with a throttle member 36 for flowing the corrosive gas Fa into the branch passage 40. That is, as a mass flow sensor for measuring a mass flow rate with high accuracy and high responsiveness, a corrosive gas Fa is caused to flow inside a narrow conduit 32, and a pair of self-gases having a large temperature coefficient are provided upstream and downstream of the conduit 32, respectively. A heat sensitive coil 31 around which a heating type temperature measuring element is wound is formed, a bridge circuit is formed by each heat sensitive coil 31, and the temperature of the heat sensitive coil 31 is controlled to a constant value by a current control circuit 37, so that the corrosive gas F
The mass flow rate a is calculated from the potential difference between the bridge circuits, the excitation of the coil 34 is changed by the drive control circuit 38, and the valve body 33 is driven to control the flow rate.

【0029】このとき使用されている導管32は、例え
ば、内径0.5mm、長さ20mmのSUS316製の
チューブである。内径が小さいのは、少量の流体ガスを
測定するためである。そして、導管の上流側と下流側と
に、直径25μmの感熱抵抗線を70ターン巻き付けて
2つの感熱コイル31が形成されている。感熱抵抗線
は、鉄、ニッケル合金等の温度係数の大なる材質で作ら
れている。感熱コイルは導管にUV硬化樹脂等で接着さ
れ、センサ部を構成している。
The conduit 32 used at this time is, for example, a tube made of SUS316 having an inner diameter of 0.5 mm and a length of 20 mm. The small inner diameter is for measuring a small amount of fluid gas. Then, two heat-sensitive coils 31 are formed by winding a heat-sensitive resistance wire having a diameter of 25 μm 70 turns on the upstream side and the downstream side of the conduit. The heat-sensitive resistance wire is made of a material having a large temperature coefficient, such as iron or a nickel alloy. The heat-sensitive coil is adhered to the conduit with a UV curing resin or the like, and forms a sensor unit.

【0030】次に、上記構成を有するガス供給装置の作
用について説明する。腐食性ガスFaは、図示しない腐
食性ガスタンクより入力継手42を介してユニットに流
入し、入力ブロック16内部の孔を通って、入力弁2の
入力ポートに流入する。入力弁2が開弁すると、入力弁
2の入力ポートと出力ポートとが連通する。入力弁2の
出力ポートを出た腐食性ガスFaは、流量制御弁5の入
力ポートに流入する。
Next, the operation of the gas supply device having the above configuration will be described. The corrosive gas Fa flows into the unit from a corrosive gas tank (not shown) via the input joint 42, and flows into the input port of the input valve 2 through a hole in the input block 16. When the input valve 2 opens, the input port and the output port of the input valve 2 communicate. The corrosive gas Fa that has exited the output port of the input valve 2 flows into the input port of the flow control valve 5.

【0031】流量制御弁5に流入した腐食性ガスFa
は、主通路39と分流通路40とに分かれて流れ、再び
合流している。分流通路40を流れた腐食性ガスFa
は、導管32の上流側と下流側に各々温度係数の大なる
一対の自己加熱型測温体を巻き付けた感熱コイル31に
より加熱される。ここで、電流制御回路37が、感熱コ
イル31の温度を一定値に制御して、腐食性ガスFaの
質量流量を感熱コイル31により構成されているブリッ
ジ回路間の電位差より演算し、駆動制御回路38により
コイル34の励磁を変化させ、弁体33を駆動して流量
を制御する。
The corrosive gas Fa flowing into the flow control valve 5
Flows into the main passage 39 and the branch passage 40, and merges again. Corrosive gas Fa flowing through the branch passage 40
Is heated by a heat-sensitive coil 31 in which a pair of self-heating type thermometers each having a large temperature coefficient are wound on the upstream side and the downstream side of the conduit 32, respectively. Here, the current control circuit 37 controls the temperature of the heat-sensitive coil 31 to a constant value, calculates the mass flow rate of the corrosive gas Fa from the potential difference between the bridge circuits formed by the heat-sensitive coil 31, and controls the drive control circuit. The excitation of the coil 34 is changed by 38 to drive the valve body 33 to control the flow rate.

【0032】流量制御弁5の出力ポートを出た腐食性ガ
スFaは、流量制御弁ブロック44、方向変換ブロック
14、出力弁ブロックの内部に設けられている孔を通っ
て、出力弁3の入力ポートに流入する。ここで、出力弁
3が開弁されているので、出力弁3の入力ポートと出力
ポートとは連通している。出力弁3の出力ポートを出た
腐食性ガスFaは、出力弁ブロック13の内部に設けら
れている孔を通って、出力マニホールド48より流入す
る供給ガスFbと混合されて、出力継手43より流出す
る。出力継手43は、半導体製造工程のエッチング加工
装置等に接続しており、所定量の混合ガスFoがエツチ
ング加工装置等に供給される。流量制御弁5により所定
量の腐食性ガスFaがエッチング加工装置等に送られる
と、出力弁3及び入力弁2が閉鎖される。このとき、流
量制御弁5の導管31の内部等にも腐食性ガスFaが残
留している。
The corrosive gas Fa exiting the output port of the flow control valve 5 passes through the flow control valve block 44, the direction change block 14, and a hole provided in the output valve block, and enters the input port of the output valve 3. Flows into the port. Here, since the output valve 3 is opened, the input port and the output port of the output valve 3 communicate with each other. The corrosive gas Fa that has exited the output port of the output valve 3 passes through a hole provided in the output valve block 13 and is mixed with the supply gas Fb that flows in from the output manifold 48, and flows out of the output joint 43. I do. The output joint 43 is connected to an etching device or the like in a semiconductor manufacturing process, and a predetermined amount of the mixed gas Fo is supplied to the etching device or the like. When a predetermined amount of corrosive gas Fa is sent to the etching apparatus or the like by the flow control valve 5, the output valve 3 and the input valve 2 are closed. At this time, the corrosive gas Fa also remains inside the conduit 31 of the flow control valve 5 and the like.

【0033】次に、パージ弁6を開弁して流量制御弁5
内に窒素ガスNを流入させ、その後、パージ弁6を閉弁
にしエゼクタ弁7を開弁し、エゼクタ4を励磁して腐食
性ガスFaを吸引する。すなわち、エゼクタ弁7及びエ
ゼクタ4が励磁されると、作動流体である窒素ガスNが
エゼクタ4内に流入し、腐食性ガスFaを吸引し、混合
されたガスとなって排出される。ここで、エゼクタ4に
よる吸引とパージ弁6による窒素ガスNの流入とを交互
に行っている。従って、流量制御弁5の導管32の内部
の壁面に吸着している腐食性ガスFaを窒素ガスNによ
り吹き飛ばしながらエゼクタ4で吸引できるため、効率
よく残留ガスを排除することが可能である。
Next, the purge valve 6 is opened and the flow control valve 5 is opened.
The purge gas 6 is closed, the ejector valve 7 is opened, and the ejector 4 is excited to suck the corrosive gas Fa. That is, when the ejector valve 7 and the ejector 4 are excited, the nitrogen gas N, which is a working fluid, flows into the ejector 4, sucks the corrosive gas Fa, and is discharged as a mixed gas. Here, suction by the ejector 4 and inflow of nitrogen gas N by the purge valve 6 are performed alternately. Therefore, the corrosive gas Fa adsorbed on the inner wall surface of the conduit 32 of the flow control valve 5 can be sucked by the ejector 4 while being blown off by the nitrogen gas N, so that the residual gas can be efficiently removed.

【0034】図11にその効果を示す。すなわち、実線
で示すのが、エゼクタ4による吸引を行わずに、単に窒
素ガスNによるパージのみを行った場合である。1分後
の腐食性ガスFaの残留濃度は、まだ100ppm以上
あり、また、窒素ガスNのバックグランド値0.05p
pmになるまでの時間も、36.7分の時間がかかって
いる。点線で示すのが、本実施例で説明した窒素ガスN
の充填を8秒、エゼクタ吸引を2秒交互に6回実施した
もので1分後の腐食性ガスFaの残留濃度は、0.68
ppmと極めて短時間で低下している。また、窒素ガス
Nがバックグランド値0.05ppmになるまでの時間
も、12.8分と短縮されている。このように、エゼク
タ4を流量制御弁5の近傍に設け、窒素ガスNのパージ
とエゼクタ4による吸引とを交互に行うことにより、効
率よく短時間で残留ガスを排除することができ、半導体
の製造工程の効率を高めることができる。
FIG. 11 shows the effect. That is, the solid line shows the case where only the purge with the nitrogen gas N is performed without performing the suction by the ejector 4. The residual concentration of the corrosive gas Fa after 1 minute is still 100 ppm or more, and the background value of the nitrogen gas N is 0.05 p.
It takes 36.7 minutes to reach pm. The dotted line shows the nitrogen gas N described in this embodiment.
And the ejector suction was performed 6 times alternately for 2 seconds. The residual concentration of the corrosive gas Fa after 1 minute was 0.68.
ppm in a very short time. The time required for the nitrogen gas N to reach the background value of 0.05 ppm is also reduced to 12.8 minutes. As described above, the ejector 4 is provided in the vicinity of the flow control valve 5, and the purging of the nitrogen gas N and the suction by the ejector 4 are alternately performed. The efficiency of the manufacturing process can be increased.

【0035】以上詳細に説明したように、本実施例の円
筒状開閉弁の取付構造によれば、下面中央部近傍に気体
の供給を受ける弁供給ポートと、弁の開閉により弁供給
ポートと連通または遮断される弁出力ポートとを備える
円筒状開閉弁3と、上面に円筒状開閉弁3が取り付けら
れ、円筒状開閉弁3が取り付けられた上面が一側面方向
に延伸され、延伸された上面に形成された2つのボルト
孔を用いて取付ボルト41により出力マニホールド12
に固定されると共に、マニホールドポート12bと弁出
力ポートとを連通させる連通路が形成された出力弁ブロ
ック13とを有し、マニホールドポート12bが、2本
の取付ボルト41の間に形成されているので、出力弁ブ
ロック13を2本の取付ボルトだけで出力マニホールド
12に締結できるため、取り付けスペースを少なくする
ことができる。
As described in detail above, according to the mounting structure of the cylindrical on-off valve of this embodiment, the valve supply port for receiving gas supply near the center of the lower surface, and the valve supply port is opened and closed to communicate with the valve supply port. Alternatively, a cylindrical on-off valve 3 having a valve output port to be shut off, a cylindrical on-off valve 3 attached to the upper surface, and an upper surface to which the cylindrical on-off valve 3 is attached is extended in one side direction, and the extended upper surface Using the two bolt holes formed in the output manifold 12 with the mounting bolts 41,
And an output valve block 13 formed with a communication passage for communicating the manifold port 12b with the valve output port. The manifold port 12b is formed between the two mounting bolts 41. Therefore, the output valve block 13 can be fastened to the output manifold 12 with only two mounting bolts, so that the mounting space can be reduced.

【0036】以上の実施例では、窒素ガスNによるパー
ジとエゼクタ4による残留ガスの吸引とを交互に行う場
合について説明したが、パージと吸引とを同時に行って
もよい。真空ポンプを使用した場合は、始めに腐食性ガ
スFaを吸引すると、排出配管の内部が濃い濃度の腐食
性ガスFに曝されて配管が腐食されてしまうが、エゼク
タでは、作動流体である窒素ガスNにより腐食性ガスF
aの濃度が薄められて排出されるので、始めに吸引動作
を行うことが可能である。
In the above embodiment, the case where the purge with the nitrogen gas N and the suction of the residual gas with the ejector 4 are alternately performed has been described. However, the purge and the suction may be performed simultaneously. When a vacuum pump is used, if the corrosive gas Fa is first sucked, the inside of the discharge pipe is exposed to the corrosive gas F having a high concentration, and the pipe is corroded. Corrosive gas F by gas N
Since the concentration of a is reduced and discharged, the suction operation can be performed first.

【0037】[0037]

【発明の効果】以上説明したことから明かなように、本
発明の円筒状開閉弁の取付構造によれば、下面中央部近
傍に気体の供給を受ける弁供給ポートと、弁の開閉によ
り弁供給ポートと連通または遮断される弁出力ポートと
を備える円筒状開閉弁と、上面に円筒状開閉弁が取り付
けられ、円筒状開閉弁が取り付けられた上面が一側面方
向に延伸され、延伸された上面に形成された2つのボル
ト孔を用いて取付ボルトによりマニホールドプレートに
固定されると共に、マニホールドポートと弁供給ポート
または弁出力ポートとを連通させる連通路が形成された
取付ブロックとを有し、マニホールドポートが、2本の
取付ボルトの間に形成されているので、取付ブロックを
2本の取付ボルトだけでマニホールドプレートに締結で
きるため、取り付けスペースを少なくすることができ、
製造装置をコンパクト化することができる。
As is apparent from the above description, according to the cylindrical on-off valve mounting structure of the present invention, a valve supply port for receiving gas supply near the center of the lower surface and a valve supply by opening and closing the valve are provided. A cylindrical on-off valve having a valve output port communicated with or shut off from the port, a cylindrical on-off valve attached to the upper surface, the upper surface to which the cylindrical on-off valve is attached is extended in one side direction, and the extended upper surface A mounting block fixed to the manifold plate with mounting bolts using two bolt holes formed in the mounting block, and formed with a communication passage communicating the manifold port with the valve supply port or the valve output port. Since the port is formed between two mounting bolts, the mounting block can be fastened to the manifold plate with only two mounting bolts. Space can be reduced,
The manufacturing apparatus can be made compact.

【0038】また、取付ブロックを上から取り付けるた
めにボルト締めするときに、ガスケットがガスケットリ
テーナにより保持されているので、ガスケットが横ずれ
することなく、取付ブロックを取り付けることができる
ため、ガスケットの気密性が高くなる。また、ガスケッ
トが均一に圧縮されるため、完全にシールを行うことが
でき、腐食性ガスが漏れる心配がない。
Further, when the mounting block is tightened by bolts for mounting from above, the gasket is held by the gasket retainer, so that the mounting block can be mounted without lateral displacement of the gasket. Will be higher. In addition, since the gasket is uniformly compressed, it is possible to completely seal and there is no fear that corrosive gas leaks.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】ガス供給装置の具体的な構成を示す側面図であ
る。
FIG. 1 is a side view showing a specific configuration of a gas supply device.

【図2】ガス供給装置の具体的な構成を示す分解斜視図
である。
FIG. 2 is an exploded perspective view showing a specific configuration of the gas supply device.

【図3】ガス供給装置のガスの流れを示す説明図であ
る。
FIG. 3 is an explanatory diagram showing a gas flow of a gas supply device.

【図4】本発明の一実施例であるガス供給装置の構成を
示す回路図である。
FIG. 4 is a circuit diagram showing a configuration of a gas supply device according to one embodiment of the present invention.

【図5】ガスケットの構造を示す平面及び正面図であ
る。
FIG. 5 is a plan view and a front view showing the structure of the gasket.

【図6】本発明のガスケット保持部材の具体的な構成を
示す平面図である。
FIG. 6 is a plan view showing a specific configuration of the gasket holding member of the present invention.

【図7】本発明の第二の実施例であるガスケット保持部
材の具体的な構成を示す平面図である。
FIG. 7 is a plan view showing a specific configuration of a gasket holding member according to a second embodiment of the present invention.

【図8】ガスケット保持部材の使用方法を示す説明図で
ある。
FIG. 8 is an explanatory view showing how to use the gasket holding member.

【図9】エゼクタの構成を示す断面図である。FIG. 9 is a cross-sectional view illustrating a configuration of an ejector.

【図10】流量制御弁の構成を示す断面図である。FIG. 10 is a sectional view showing a configuration of a flow control valve.

【図11】実験結果を示すデータ図である。FIG. 11 is a data diagram showing experimental results.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

F 腐食性ガス N 窒素ガス 2 入力弁 3 出力弁 4 エゼクタ 5 流量制御弁 6 パージ弁 7 エゼクタ弁 8 ガスケット 9,10 ガスケットリテーナ 12 出力マニホールド 12b マニホールドポート 13 出力弁ブロック 41 取付ボルト F Corrosive gas N Nitrogen gas 2 Input valve 3 Output valve 4 Ejector 5 Flow control valve 6 Purge valve 7 Ejector valve 8 Gasket 9,10 Gasket retainer 12 Output manifold 12b Manifold port 13 Output valve block 41 Mounting bolt

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 須藤 良久 東京都千代田区内神田3丁目6番3号 シ ーケーディ株式会社シーケーディ第二ビル 内 (72)発明者 五島 憲一 愛知県小牧市大字北外山字早崎3005 シー ケーディ株式会社内 (72)発明者 板藤 寛 愛知県小牧市大字北外山字早崎3005 シー ケーディ株式会社内 (72)発明者 小島 章裕 愛知県小牧市大字北外山字早崎3005 シー ケーディ株式会社内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Yoshihisa Sudo 3-6-3 Uchikanda, Chiyoda-ku, Tokyo CKK2 Inc. CKD2 Building (72) Inventor Kenichi Goto Kodai, Komaki City, Aichi Prefecture 3005 Hayasaki C.K.Ind. (72) Inventor Hiroshi Itato 3005 C.K.A.Kitamaki, Aichi Pref. In company

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 円筒状開閉弁と連通するマニホールドポ
ートを有するマニホールドプレートに円筒状開閉弁を取
り付ける円筒状開閉弁取付構造において、 下面中央部近傍に気体の供給を受ける弁供給ポートと、
弁の開閉により弁供給ポートと連通または遮断される弁
出力ポートとを備える円筒状開閉弁と、 上面に前記円筒状開閉弁が取り付けられ、前記円筒状開
閉弁が取り付けられた上面が一側面方向に延伸され、延
伸された上面に形成された2つのボルト孔を用いてボル
トにより前記マニホールドプレートに固定されると共
に、前記マニホールドポートと前記弁供給ポートまたは
前記弁出力ポートとを連通させる連通路が形成された取
付ブロックとを有し、 前記マニホールドポートが、前記2本の取付ボルトの間
に形成されていることを特徴とする円筒状開閉弁取付構
造。
1. A cylindrical on-off valve mounting structure for mounting a cylindrical on-off valve on a manifold plate having a manifold port communicating with the cylindrical on-off valve, comprising: a valve supply port for receiving a gas supply in the vicinity of a lower central portion;
A cylindrical on-off valve provided with a valve output port that is communicated with or shut off from a valve supply port by opening and closing the valve; an upper surface on which the cylindrical on-off valve is mounted, and an upper surface on which the cylindrical on-off valve is mounted is in one side direction The bolts are fixed to the manifold plate using two bolt holes formed on the stretched upper surface, and a communication path for communicating the manifold port with the valve supply port or the valve output port is provided. And a mounting block formed, wherein the manifold port is formed between the two mounting bolts.
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