JP2922453B2 - Gas supply integrated unit - Google Patents

Gas supply integrated unit

Info

Publication number
JP2922453B2
JP2922453B2 JP1715696A JP1715696A JP2922453B2 JP 2922453 B2 JP2922453 B2 JP 2922453B2 JP 1715696 A JP1715696 A JP 1715696A JP 1715696 A JP1715696 A JP 1715696A JP 2922453 B2 JP2922453 B2 JP 2922453B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gas
valve
purge
flow path
supply
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP1715696A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH09184599A (en
Inventor
寛 板藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
CKD Corp
Original Assignee
CKD Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by CKD Corp filed Critical CKD Corp
Priority to JP1715696A priority Critical patent/JP2922453B2/en
Priority to KR1019960054576A priority patent/KR100232112B1/en
Priority to SG9611698A priority patent/SG79211A1/en
Priority to US08/777,046 priority patent/US5819782A/en
Priority to MYPI96005561A priority patent/MY114330A/en
Publication of JPH09184599A publication Critical patent/JPH09184599A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP2922453B2 publication Critical patent/JP2922453B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造装置等
の産業用製造装置で使用されるガス供給集積ユニットに
関し、特に、各構成部品をコンパクトに集積したガス供
給集積ユニットに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a gas supply integrated unit used in an industrial manufacturing apparatus such as a semiconductor manufacturing apparatus, and more particularly to a gas supply integrated unit in which components are compactly integrated.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、半導体製造工程において、ホ
トレジスト加工のエッチング等に腐食性ガスが使用され
ている。ホトレジスト加工(ホトレジスト塗布、露光、
現像、エッチング)は、半導体製造工程において腐食性
ガスの種類を変えて複数回繰り返されるため、実際の半
導体製造工程では、複数種類の腐食ガスを必要に応じて
供給するガス供給装置が使用されている。このガスを供
給するガス供給装置は、流量を正確に計測するためのマ
スフローコントローラと、マスフローコントローラ内に
腐食性ガス等の供給ガスを残留させないために当該マス
フローコントローラの前後に設けられる開閉弁及びパー
ジ弁等とからなるガス供給集積ユニットが連設されて構
成されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, in a semiconductor manufacturing process, a corrosive gas has been used for etching of a photoresist process or the like. Photoresist processing (photoresist coating, exposure,
Development and etching) are repeated a plurality of times in the semiconductor manufacturing process while changing the type of corrosive gas. In an actual semiconductor manufacturing process, a gas supply device that supplies a plurality of types of corrosive gases as needed is used. I have. The gas supply device for supplying this gas includes a mass flow controller for accurately measuring the flow rate, and an on-off valve and a purge valve provided before and after the mass flow controller to prevent supply gas such as corrosive gas from remaining in the mass flow controller. A gas supply integrated unit including a valve and the like is connected and configured.

【0003】ここで、図7は、従来のガス供給集積ユニ
ットを示す斜視図であり、図8は、そのガス供給集積ユ
ニットを連設したガス供給装置の流路を示した空圧回路
図である。図8に示したガス供給装置51は、エッチン
グが行われる不図示の真空チャンバーへ連通する供給ガ
ス管路52に接続されたものである。そして、1つの真
空チャンバーでは、複数種類の腐食性ガスを切り替えて
使用することにより複雑な工程のエッチングを行うた
め、本従来例では1つの真空チャンバーに7種類の腐食
性ガス(Fa〜Fg)を供給するよう7個のガス供給集
積ユニット50が連設されたガス供給装置51が接続さ
れている。
FIG. 7 is a perspective view showing a conventional gas supply integrated unit, and FIG. 8 is a pneumatic circuit diagram showing a flow path of a gas supply apparatus having the gas supply integrated unit connected thereto. is there. The gas supply device 51 shown in FIG. 8 is connected to a supply gas pipeline 52 communicating with a vacuum chamber (not shown) where etching is performed. In one vacuum chamber, since a complicated process is etched by switching and using a plurality of types of corrosive gases, in this conventional example, seven types of corrosive gases (Fa to Fg) are stored in one vacuum chamber. Is connected to a gas supply device 51 in which seven gas supply integrated units 50 are connected in series.

【0004】ガス供給装置51を構成するガス供給集積
ユニット50は、図8に示すように供給ガスの供給また
は遮断を手動で行うための手動弁55、供給ガスのガス
圧を調整するレギュレータ56、供給ガスの圧力をモニ
ターするための圧力計57、そして供給ガスの混入不純
物を除去するためのフィルタ58が直列に接続され、更
にマスフローコントローラ60内に腐食性ガス等の供給
ガスを残留させないため、その前後に入口開閉弁59、
出口開閉弁61を設けて直列に接続されている。
As shown in FIG. 8, a gas supply integrated unit 50 constituting a gas supply device 51 includes a manual valve 55 for manually supplying or shutting off a supply gas, a regulator 56 for adjusting a gas pressure of the supply gas, A pressure gauge 57 for monitoring the pressure of the supply gas and a filter 58 for removing impurities mixed in the supply gas are connected in series, and further, in order to prevent supply gas such as corrosive gas from remaining in the mass flow controller 60, Before and after that, the inlet open / close valve 59,
An outlet opening / closing valve 61 is provided and connected in series.

【0005】そして、マスフローコントローラ60内に
残留する供給ガス(Fa〜Fg)を排除するための置換
ガスである窒素ガスを供給するためのパージ弁62が、
パージ切換弁70が設けられた窒素ガス配管71から分
岐したパージガス共通流路72に逆止弁63を介して接
続されている。ここで、管路上に逆止弁63を取り付け
ているのは、腐食ガス等である供給ガスが、パージガス
共通流路72に流入するのを防止するためである。腐食
ガスがパージガス共通流路72に流入した場合に、パー
ジガス共通流路72の内部が腐食され、パーティクルが
発生する恐れがあるからである。
[0005] A purge valve 62 for supplying nitrogen gas as a replacement gas for removing supply gases (Fa to Fg) remaining in the mass flow controller 60 is provided.
It is connected via a check valve 63 to a purge gas common flow path 72 branched from a nitrogen gas pipe 71 provided with a purge switching valve 70. Here, the reason why the check valve 63 is mounted on the pipe is to prevent supply gas such as corrosive gas from flowing into the purge gas common flow path 72. This is because when the corrosive gas flows into the purge gas common flow channel 72, the inside of the purge gas common flow channel 72 is corroded, and particles may be generated.

【0006】一方、このような構成からなるガス供給集
積ユニット50は、図7に示すように各ユニットが並設
され(図では便宜上2個のユニットのみを示す)、ガス
供給装置が形成されている。なお、図7のガス供給集積
ユニット50には、その構成部品のうち入口開閉弁5
9、マスフローコントローラ60、及びパージ弁62、
逆止弁63のみを示した。そして、このガス供給集積ユ
ニット50では、入口開閉弁59及びパージ弁62が流
路の形成されたブロック81上部にボルトで固定され、
マスフローコントローラ60はそのブロック81に連設
された、やはり流路の形成されたブロック82,82に
固設されている。そして、ブロック81側部にはパージ
ブロック83が固設され、そこから延設されたパージパ
イプ84に逆止弁63が接続されパージガス共通流路7
2に連結されている。
On the other hand, in the gas supply integrated unit 50 having such a configuration, each unit is arranged side by side as shown in FIG. 7 (only two units are shown in the figure for convenience), and a gas supply device is formed. I have. It should be noted that the gas supply integrated unit 50 of FIG.
9, the mass flow controller 60 and the purge valve 62,
Only the check valve 63 is shown. In the gas supply integrated unit 50, the inlet opening / closing valve 59 and the purge valve 62 are fixed to the upper part of the block 81 having the flow path by bolts,
The mass flow controller 60 is fixed to blocks 82 and 82 which are connected to the block 81 and also have channels formed therein. A purge block 83 is fixedly provided on the side of the block 81, and a check valve 63 is connected to a purge pipe 84 extending therefrom, and a purge gas common flow path 7 is provided.
2 are connected.

【0007】ところで、図9に4つの真空チャンバーが
配設されたエッチング装置の配置図を示す。中央に設置
されたロボット91を中心にして、4つの真空チャンバ
ー92A,92B,92C,92Dが配設されている。
また、真空チャンバー92A…に未エッチングのウエハ
等を供給し、加工済みウエハを回収するための2台の搬
送装置93が配設されている。ここで、一つ一つの真空
チャンバー真空チャンバー92A,92B,92C,9
2Dに対して、ガス供給装置51が必要となるので、図
で示すようにガス供給装置51を備えた4つのガスボッ
クス94A,94B,94C,94Dを設け、各々を真
空チャンバー92A,92B,92C,92Dに接続さ
れている。
FIG. 9 shows a layout of an etching apparatus provided with four vacuum chambers. Four vacuum chambers 92A, 92B, 92C, and 92D are provided around a robot 91 installed at the center.
Further, two transfer devices 93 for supplying an unetched wafer or the like to the vacuum chambers 92A and collecting the processed wafer are provided. Here, each vacuum chamber 92A, 92B, 92C, 9
Since the gas supply device 51 is required for 2D, four gas boxes 94A, 94B, 94C, 94D provided with the gas supply device 51 are provided as shown in the figure, and each of them is provided with a vacuum chamber 92A, 92B, 92C. , 92D.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかし、このような構
成からある従来のガス供給集積ユニット50には次のよ
うな問題点があった。先ず、上述した従来例のガス供給
集積ユニット50は、パージ弁62が固設されたブロッ
ク81の配管へパージガスを供給すべくパージブロック
83を設け、パージガス共通流路72から逆止弁63及
びパージパイプ84を介して接続されている。ところ
が、パージブロック83をブロック81側部に設ける必
要から、逆止弁63が、フィルタ58、パージ弁62及
びマスフローコントローラ60が並んだライン上から外
れて配設されることとなる。そのため、ガス供給集積ユ
ニット50の幅が大きくなり、当該ユニットを複数個並
設したガス供給装置51が大型化してしまった。
However, the conventional gas supply integrated unit 50 having such a configuration has the following problems. First, in the above-described conventional gas supply integrated unit 50, a purge block 83 is provided to supply a purge gas to a pipe of a block 81 in which a purge valve 62 is fixedly provided. It is connected via a pipe 84. However, since the purge block 83 needs to be provided on the side of the block 81, the check valve 63 is disposed off the line where the filter 58, the purge valve 62 and the mass flow controller 60 are arranged. For this reason, the width of the gas supply integrated unit 50 is increased, and the gas supply device 51 in which a plurality of the units are arranged side by side is enlarged.

【0009】このことは、真空チャンバー92A…の近
くに配設すると作業等の邪魔になる一方、図9に示すよ
うにガス供給装置をガスボックス94A…としてまとめ
て配設すると、ガス供給装置から真空チャンバー92A
…までの配管95A,95B,95C,95Dが長くな
り、流量を安定させるために要する時間が長いという問
題を引き起こすこととなった また、供給するガスの種類によっては、常温で液化する
ものもあり、保温等が必要な場合がある。その場合に、
ガスボックス94A…から真空チャンバー92A…まで
の配管95A…が長いと、保温された配管全体がスペー
スをとり、作業スペースを狭くし、また十分に保温され
ずにエッチングに悪影響を与える恐れもある。
This disturbs the work or the like if it is disposed near the vacuum chambers 92A. On the other hand, if the gas supply devices are collectively disposed as gas boxes 94A as shown in FIG. Vacuum chamber 92A
The pipes 95A, 95B, 95C, and 95D up to ... have been lengthened, causing a problem that the time required for stabilizing the flow rate is long. Depending on the type of gas to be supplied, some of the gases are liquefied at room temperature. In some cases, it is necessary to keep warm. In that case,
If the pipes 95A from the gas boxes 94A to the vacuum chambers 92A are long, the entire heated pipes take up space, reduce the working space, and may not be able to maintain heat sufficiently to adversely affect etching.

【0010】次に、上述した従来例のガス供給集積ユニ
ット50では、パージガス共通流路72からパージブロ
ック83にかけて、逆止弁63及びパージパイプ84等
の接合部が溶接によって接続して構成されている。とこ
ろが、このように溶接接続を行なったのでは、ガス供給
集積ユニット50自体が腐食性ガス等を扱うものである
ため、溶接部が腐食されてパーティクルが発生するとい
う問題があった。
Next, in the above-described conventional gas supply integrated unit 50, the joints such as the check valve 63 and the purge pipe 84 are connected by welding from the purge gas common flow path 72 to the purge block 83. I have. However, when the welding connection is performed in this manner, the gas supply integrated unit 50 itself deals with corrosive gas and the like, so that there is a problem that the welded portion is corroded and particles are generated.

【0011】そこで、本発明は、上記した問題点を解決
すべく、狭いフロアスペースで配設可能なよう集積され
たコンパクトなガス供給集積ユニットを提供すること、
また溶接によるパーティクルの発生を防止したガス供給
集積ユニットを提供することを目的とする。
In view of the above, the present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and to provide a compact gas supply integrated unit which can be installed in a narrow floor space.
It is another object of the present invention to provide a gas supply integrated unit that prevents generation of particles due to welding.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明のガス供給集積ユ
ニットは、供給ガスの混入不純物を除去するためのフィ
ルタと、流路を流れる供給ガスの流れを調節する開閉弁
と、供給ガスの流量を制御するマスフローコントローラ
と、前記マスフローコントローラ内に残留する供給ガス
を排除するパージガスを供給するためのパージ弁と、パ
ージガス供給側への供給ガスの流入を防止する逆止弁と
を備えたものであって、前記供給ガス及び前記パージガ
スが流れる流路が形成され、当該流路上に前記フィル
タ、前記開閉弁、前記マスフローコントローラ、前記パ
ージ弁、及び前記逆止弁を固設するための取付部を備え
た固定ブロックを有することを特徴とする。
According to the present invention, there is provided a gas supply integrated unit comprising: a filter for removing impurities mixed in a supply gas; an on-off valve for adjusting a flow of the supply gas flowing through a flow path; A mass flow controller, a purge valve for supplying a purge gas for removing a supply gas remaining in the mass flow controller, and a check valve for preventing a supply gas from flowing into a purge gas supply side. A flow path through which the supply gas and the purge gas flow is formed, and an attachment portion for fixing the filter, the on-off valve, the mass flow controller, the purge valve, and the check valve on the flow path is provided. It is characterized by having a fixed block provided.

【0013】また、本発明のガス供給集積ユニットは、
前記固定ブロックが、前記フィルタと、前記開閉弁と、
前記パージ弁と、前記逆止弁と、前記マスフローコント
ローラとを固設するための取付部が同一方向に設けられ
ていることが望ましい。また、本発明のガス供給集積ユ
ニットは、前記固定ブロックが、前記フィルタと、前記
開閉弁と、前記パージ弁と、前記逆止弁と、前記マスフ
ローコントローラとを固設するための取付部が一直線上
に設けられていることが望ましい。
Further, the gas supply integrated unit of the present invention comprises:
The fixed block, the filter, the on-off valve,
It is desirable that attachment parts for fixing the purge valve, the check valve, and the mass flow controller be provided in the same direction. Further, in the gas supply integrated unit of the present invention, the fixing block may be configured such that an attaching portion for fixing the filter, the on-off valve, the purge valve, the check valve, and the mass flow controller is fixed. It is desirable to be provided on the line.

【0014】上記構成を有する本発明のガス供給集積ユ
ニットは、供給ガスまたはパージガスが、固定ブロック
に形成された流路及び当該流路上に位置するよう固定ブ
ロックの取付部へ固設されたフィルタ、開閉弁、マスフ
ローコントローラ、パージ弁、及び逆止弁を通って流れ
るものとしたことにより、ユニット自体をコンパクトな
ものとすることができ、また配管等を溶接を用いて接続
する必要がないため、溶接によるパーティクルの発生を
防止することがでる。また、本発明のガス供給集積ユニ
ットは、フィルタと、開閉弁と、パージ弁と、逆止弁
と、マスフローコントローラとを固定ブロックへ同一方
向に固設するため、ユニット自体がコンパクトなものと
することができる。更に、本発明のガス供給集積ユニッ
トは、フィルタと、開閉弁と、パージ弁と、逆止弁と、
マスフローコントローラとを固定ブロックへ一直線上に
固設するため、ユニット自体がコンパクトなものとする
ことができる。
[0014] The gas supply integrated unit of the present invention having the above-mentioned structure is characterized in that a supply gas or a purge gas is fixed to a fixing portion of the fixed block so as to be located on the flow passage formed in the fixed block and the flow passage; The flow through the on-off valve, the mass flow controller, the purge valve, and the check valve allows the unit itself to be compact, and there is no need to connect piping or the like by welding, The generation of particles due to welding can be prevented. In the gas supply integrated unit of the present invention, the filter, the on-off valve, the purge valve, the check valve, and the mass flow controller are fixed to the fixed block in the same direction, so that the unit itself is compact. be able to. Further, the gas supply integrated unit of the present invention includes a filter, an on-off valve, a purge valve, a check valve,
Since the mass flow controller and the mass flow controller are fixed on the fixed block in a straight line, the unit itself can be made compact.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】次に、本発明にかかるガス供給集
積ユニットを具体化した一実施の形態を図面を参照して
説明する。図1は、本実施の形態のガス供給集積ユニッ
トを示した斜視図であり、図2は、そのガス供給集積ユ
ニットを示した一部断面斜視図である。本実施の形態の
ガス供給集積ユニット1は、上述した従来例のものと同
様に半導体製造工程において腐食性ガスの種類を変え、
その複数種類の腐食性ガスを必要に応じて供給するガス
供給装置に使用されるものである。そこで、このガス供
給集積ユニット1も、腐食性ガスである供給ガスFの混
入不純物を除去するためのフィルタ2、供給ガスFの流
れを遮断するメインバルブ3、流量を正確に計測するた
めのマスフローコントローラ4、マスフローコントロー
ラ4内に残留する供給ガスFを排除するための置換ガス
である窒素ガス(以下、「パージガス」という)Pを供
給するためのパージ弁5、そして腐食ガス等である供給
ガスFがパージガス共通側に流入するのを防止するため
の逆止弁6を備えた構成をなしている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, an embodiment of a gas supply integrated unit according to the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a perspective view showing a gas supply integrated unit of the present embodiment, and FIG. 2 is a partially sectional perspective view showing the gas supply integrated unit. The gas supply integrated unit 1 of the present embodiment changes the type of corrosive gas in the semiconductor manufacturing process in the same manner as the above-described conventional example,
It is used in a gas supply device that supplies the plurality of types of corrosive gases as needed. Therefore, the gas supply integrated unit 1 also includes a filter 2 for removing impurities mixed in the supply gas F which is a corrosive gas, a main valve 3 for shutting off the flow of the supply gas F, and a mass flow for accurately measuring the flow rate. The controller 4, a purge valve 5 for supplying a nitrogen gas (hereinafter, referred to as “purge gas”) P as a replacement gas for removing the supply gas F remaining in the mass flow controller 4, and a supply gas such as a corrosive gas A configuration is provided with a check valve 6 for preventing F from flowing into the common side of the purge gas.

【0016】そして、図2に示すようにフィルタ2を固
設するためのフィルタブロック15と、メインバルブ3
及びパージ弁5を固設するための第1ブロック11と、
マスフローコントローラ4及び逆止弁6を固設するため
の第2ブロック12とが一体となって、本実施の形態の
ガス供給集積ユニット1の特徴をなす固定ブロックが構
成されている。ここで、この第1ブロック11は、直方
体形状のブロック体をなし、フィルタブロック15とガ
スケット14を嵌装して供給ガスFが漏れることがない
ように気密して一体化されている。
A filter block 15 for fixing the filter 2 and a main valve 3 as shown in FIG.
And a first block 11 for fixing the purge valve 5;
The mass flow controller 4 and the second block 12 for fixing the check valve 6 are integrated to form a fixed block which is a feature of the gas supply integrated unit 1 of the present embodiment. Here, the first block 11 has a rectangular parallelepiped block body, is fitted with a filter block 15 and a gasket 14, and is airtightly integrated so that the supply gas F does not leak.

【0017】また、図2のA−A断面を図3に示すが、
図に示されているように第2ブロック12には、後述す
るガスの流路が形成され、第1ブロック11へボルトに
よって固設するための雌ネジ13,13…が切られてい
る。そして、第1ブロック11と第2ブロック12との
ガス流路の接合部には、ガスケット14,14を嵌装し
て供給ガスF及びパージガスPが漏れることのないよう
気密に一体化されている。
FIG. 3 is a sectional view taken along the line AA of FIG.
As shown in the figure, a gas flow path described later is formed in the second block 12, and female screws 13, 13... For fixing to the first block 11 by bolts are cut. Gaskets 14, 14 are fitted at the joints of the gas flow paths of the first block 11 and the second block 12 so as to be airtightly integrated so that the supply gas F and the purge gas P do not leak. .

【0018】更に、第1ブロック11上面には、メイン
バルブ3及びパージ弁5の取付部11a,11bが長手
方向に形成されている。第2ブロック12の上面には、
逆止弁6の取付部12aが、第1ブロック11の取付部
11a,11bと一直線上に位置するように形成され、
更に、第2ブロック12のフランジ部には、図2に示す
ように取付部11a,11b及び取付部12aと一直線
上に位置するようにマスフローコントローラ4を固定す
るための取付部12bが形成されている。そして、同じ
ようにフィルタブロック15にも、その上面にフィルタ
2を取り付けるための取付部15aが形成されている。
Further, on the upper surface of the first block 11, mounting portions 11a and 11b for the main valve 3 and the purge valve 5 are formed in the longitudinal direction. On the upper surface of the second block 12,
The mounting portion 12a of the check valve 6 is formed so as to be located on a straight line with the mounting portions 11a and 11b of the first block 11,
Further, on the flange portion of the second block 12, as shown in FIG. 2, there are formed mounting portions 11a, 11b and a mounting portion 12b for fixing the mass flow controller 4 so as to be located in line with the mounting portion 12a. I have. Similarly, the filter block 15 is also provided with a mounting portion 15a for mounting the filter 2 on its upper surface.

【0019】そのため、フィルタブロック15、第1ブ
ロック11及び第2ブロック12からなる固定ブロック
に取り付けられるフィルタ2、メインバルブ3、パージ
弁5、逆止弁6及びマスフローコントローラ4は、図1
に示すように一直線上であって同方向に配列された1ラ
イン化を実現している。また、これらフィルタ2、メイ
ンバルブ3、パージ弁5、逆止弁6、及びマスフローコ
ントローラ4は、全て上方からボルトで取り付けられて
いる。
Therefore, the filter 2, the main valve 3, the purge valve 5, the check valve 6, and the mass flow controller 4 attached to the filter block 15, the fixed block consisting of the first block 11 and the second block 12, are shown in FIG.
As shown in FIG. 2, one line is arranged on a straight line and arranged in the same direction. The filter 2, the main valve 3, the purge valve 5, the check valve 6, and the mass flow controller 4 are all mounted with bolts from above.

【0020】次に、このようにガス供給集積ユニット1
の各構成部品が取り付けられるフィルタブロック15、
第1ブロック11及び第2ブロック12には、一連の流
路が形成されている。先ず、フィルタブロック15に
は、ガス供給ブロック16からの供給ガスFをフィルタ
2の入力ポートへ連通するフィルタ入力流路17aと、
出力ポートへ連通するフィルタ出力流路17bが形成さ
れている。
Next, the gas supply integrated unit 1
A filter block 15 to which each of the components is attached;
A series of flow paths are formed in the first block 11 and the second block 12. First, the filter block 15 includes a filter input flow path 17a that communicates the supply gas F from the gas supply block 16 to the input port of the filter 2,
A filter output flow path 17b communicating with the output port is formed.

【0021】第1ブロック11には、フィルタ出力流路
17bと取付部11aに形成されたメインバルブ3の弁
室を連通するメインバルブ入力流路18aが形成されて
いる。また、その取付部11aにはメインバルブ3の弁
座3aが形成され、その弁座3aの弁孔に連通するマス
フローバルブ入力流路18bが形成されている。このマ
スフローバルブ入力流路18bには、メインバルブ3に
連設されたパージ弁5のパージ弁出力流路18cが合流
している。このパージ弁出力流路18cは、取付部11
bに形成された弁室に連通したものである。また、第1
ブロック11には、その弁室に形成されたパージ弁5の
弁座5aの弁孔に連通するようパージ弁入力流路18d
が形成されている。
The first block 11 is provided with a main valve input passage 18a for communicating the filter output passage 17b with the valve chamber of the main valve 3 formed in the mounting portion 11a. Further, a valve seat 3a of the main valve 3 is formed in the mounting portion 11a, and a mass flow valve input passage 18b communicating with a valve hole of the valve seat 3a is formed. A purge valve output flow path 18c of the purge valve 5 connected to the main valve 3 joins the mass flow valve input flow path 18b. The purge valve output flow path 18c is
b. It communicates with the valve chamber formed. Also, the first
The block 11 has a purge valve input flow path 18d which communicates with a valve hole of a valve seat 5a of the purge valve 5 formed in the valve chamber.
Are formed.

【0022】更に、第2ブロック12には、第1ブロッ
ク11に形成されたマスフローバルブ入力流路18b及
びパージ弁入力流路18dにそれぞれ連通する、マスフ
ローバルブ入力流路19aと逆止弁出力流路19bが形
成されている。また、この第2ブロック12には、図1
に示すようにパージガスPを供給するためのパージガス
供給ブロック20が固設され、図3に示すようそのフラ
ンジ部には、パージガスPを逆止弁6へ供給するための
逆止弁入力流路19cが形成されている。
Further, the second block 12 has a mass flow valve input passage 19a and a check valve output flow which communicate with the mass flow valve input passage 18b and the purge valve input passage 18d formed in the first block 11, respectively. A path 19b is formed. In addition, this second block 12 includes FIG.
A purge gas supply block 20 for supplying the purge gas P is fixedly provided as shown in FIG. 3, and a check valve input flow path 19c for supplying the purge gas P to the check valve 6 is provided in a flange portion thereof as shown in FIG. Are formed.

【0023】次に、逆止弁6の構成について説明する
が、他のマスフローコントローラ4等については、通常
使用されているものを利用しているので詳細な説明は省
略する。図4及び図5は、逆止弁を示した断面図であ
り、図4に閉弁時の状態を図5に開弁時の状態を示し
た。逆止弁6は、第2ブロック12へ直接固定されるフ
タ31内に弁が形成されている。フタ31は、図に示す
ように一端に開口部を有する中空筒形状をなし、その開
口部からは、横方向に貫通孔32aが形成された円筒形
状のガス入力カバー32と、弁を備えた円筒形状の弁本
体33とが一体になって同軸上に挿入されている。ガス
入力カバー32及び弁本体33は固定されることなく、
フタ31の取り外しによって容易に分解可能な構成とな
っている。
Next, the structure of the check valve 6 will be described. However, as for the other mass flow controllers 4 and the like, those which are generally used are used, and detailed description thereof will be omitted. 4 and 5 are cross-sectional views showing the check valve. FIG. 4 shows a state when the valve is closed, and FIG. 5 shows a state when the valve is opened. The check valve 6 has a valve formed in a lid 31 that is directly fixed to the second block 12. The lid 31 has a hollow cylindrical shape having an opening at one end as shown in the figure, and includes a cylindrical gas input cover 32 having a through hole 32a formed in the lateral direction, and a valve. A cylindrical valve body 33 is integrally and coaxially inserted. The gas input cover 32 and the valve body 33 are not fixed,
The structure is such that it can be easily disassembled by removing the lid 31.

【0024】ガス入力カバー32を弁本体33との間に
は、ゴム製の弁座34が装着されている。弁本体33の
中空部には、弁体35を備えた中空筒形状のピストン3
6が摺動可能に嵌挿されている。このピストン36は、
弁体35が係着された上端側部は貫通孔36aが形成さ
れ、下端部は開口している。そして、ピストン36の中
空部36bには、その開口した下端部からコイルバネで
ある復帰バネ37が装着されている。復帰バネ37は、
上端をピストン36の段差部に当接し、取り付け時には
下端が第2ブロック12の取付部12aに当接するよう
にして縮設される。そのため、復帰バネ37は、弁体3
5が弁座34に当接する方向にピストン36が付勢され
ている。そして、このような構成からなる逆止弁6で
は、図3に示すように逆止弁入力流路19cがカバー3
1と弁本体33とに囲まれた流路空間38に連通する一
方、弁本体33下端部で逆止弁出力流路19bに連通す
ることによって、パージガス供給流路が形成されてい
る。
A rubber valve seat 34 is mounted between the gas input cover 32 and the valve body 33. A hollow cylindrical piston 3 having a valve body 35 is provided in a hollow portion of the valve body 33.
6 is slidably fitted. This piston 36
A through hole 36a is formed at the upper end side to which the valve body 35 is engaged, and the lower end is open. A return spring 37, which is a coil spring, is attached to the hollow portion 36b of the piston 36 from the opened lower end. The return spring 37 is
The upper end is abutted against the step portion of the piston 36, and is contracted so that the lower end contacts the mounting portion 12 a of the second block 12 at the time of mounting. Therefore, the return spring 37 is connected to the valve 3
The piston 36 is biased in a direction in which the piston 5 contacts the valve seat 34. In the check valve 6 having such a configuration, as shown in FIG.
A purge gas supply flow path is formed by communicating with the flow path space 38 surrounded by the valve body 33 and the check valve output flow path 19b at the lower end of the valve body 33.

【0025】続いて、上記構成からなる本実施の形態の
ガス供給集積ユニット1の作用について説明する。不図
示の手動弁によって開弁されると、ガス供給ブロック1
6へ供給されフィルタ入力流路17aからフィルタ2へ
入力され、供給ガスの混入不純物が除去されてフィルタ
出力流路17bへ流出される。そして、フィルタ出力流
路17bへ流出された供給ガスFは、第1ブロック11
のメインバルブ入力流路18aからメインバルブ3へ流
れ、バルブを開くことによってマスフローバルブ入力流
路18b,19aを流れてマスフローコントローラ4内
に流入する。
Next, the operation of the gas supply integrated unit 1 according to the present embodiment having the above configuration will be described. When the valve is opened by a manual valve (not shown), the gas supply block 1
6 and is input to the filter 2 from the filter input flow path 17a. The impurities mixed in the supply gas are removed and flow out to the filter output flow path 17b. Then, the supply gas F flowing out to the filter output flow path 17b is supplied to the first block 11
Flows from the main valve input flow path 18a to the main valve 3, flows through the mass flow valve input flow paths 18b and 19a by opening the valve, and flows into the mass flow controller 4.

【0026】一方、マスフローコントローラ4内に残留
する供給ガスFを排除するための置換ガスであるパージ
ガスPは、パージガス供給ブロック20へ供給される
と、逆止弁入力流路19cから逆止弁6へ流入する。逆
止弁入力流路19cから逆止弁6へ流入したパージガス
Pは、流路空間38を流れて貫通孔32aからガス入力
カバー32内に流入し、そのパージガスPのガス圧によ
て図5に示すように復帰バネ37の付勢力に反してピス
トン36と共に弁体35を下降させる。そして、弁体3
5が弁座34から離間すると、パージガスPは更に弁本
体33内に流入し、貫通孔36aからピストン36の中
空部36bへ流れて第2ブロック12の逆止弁出力流路
19bへ流出する。
On the other hand, when the purge gas P, which is a replacement gas for removing the supply gas F remaining in the mass flow controller 4, is supplied to the purge gas supply block 20, the check gas is supplied from the check valve input flow path 19c to the check valve 6c. Flows into The purge gas P flowing into the check valve 6 from the check valve input flow path 19c flows into the gas input cover 32 from the through hole 32a through the flow path space 38, and the gas pressure of the purge gas P in FIG. The valve body 35 is lowered together with the piston 36 against the urging force of the return spring 37 as shown in FIG. And valve element 3
When 5 is separated from the valve seat 34, the purge gas P further flows into the valve body 33, flows from the through hole 36a to the hollow portion 36b of the piston 36, and flows out to the check valve output flow path 19b of the second block 12.

【0027】ところで、供給ガスFが逆止弁出力流路1
9bから逆止弁6へ流入してきた場合には、弁体35が
弁座34へ当接した状態にあるため、供給ガスFがパー
ジガスPの供給側へ流入することはない。そして、逆止
弁6から流出したパージガスPは、逆止弁出力流路19
b及びパージ弁入力流路18dを流れてパージ弁5へ流
入する。そこで、パージ弁5のバルブを開くことによ
り、パージガスPは、パージ弁出力流路18cへ流出し
てマスフローバルブ入力流路18bへ流れ込み、マスフ
ローバルブ入力流路19aを流れてマスフローコントロ
ーラ4に流入し、その中に残留する腐食性ガスである供
給ガスFを置換して排除する。一方、マスフローコント
ローラ4内に流入した供給ガスFは、その後所定の配管
を通ってエッチングが行われる不図示の真空チャンバー
へ供給され、そこでウエハのエッチングが行なわれる。
The supply gas F is supplied to the check valve output flow path 1
When the gas flows from 9b into the check valve 6, the supply gas F does not flow into the supply side of the purge gas P because the valve body 35 is in contact with the valve seat 34. The purge gas P flowing out of the check valve 6 is supplied to the check valve output flow path 19.
b and flow through the purge valve input flow path 18 d and flow into the purge valve 5. Therefore, by opening the valve of the purge valve 5, the purge gas P flows out to the purge valve output flow path 18c, flows into the mass flow valve input flow path 18b, flows through the mass flow valve input flow path 19a, and flows into the mass flow controller 4. The feed gas F, which is a corrosive gas remaining therein, is replaced and eliminated. On the other hand, the supply gas F that has flowed into the mass flow controller 4 is supplied to a vacuum chamber (not shown) where etching is performed afterwards through a predetermined pipe, where the wafer is etched.

【0028】以上、本発明にかかるガス供給集積ユニッ
トの一実施の形態の構成及び作用について説明したが、
本実施の形態のガス供給集積ユニット1によれば、次の
ような効果を奏する。フィルタブロック15、第1ブロ
ック11及び第2ブロック12を一体にした固定ブロッ
クに、メインバルブ3及びマスフローコントローラ4等
を取り付けるよう構成したことによって、ガス供給集積
ユニットをコンパクト化することができた。
The configuration and operation of the gas supply integrated unit according to an embodiment of the present invention have been described above.
According to the gas supply integrated unit 1 of the present embodiment, the following effects can be obtained. The configuration in which the main valve 3 and the mass flow controller 4 are attached to the fixed block in which the filter block 15, the first block 11, and the second block 12 are integrated can make the gas supply integrated unit compact.

【0029】特に、固定ブロックに対して同方向であっ
て一直線上に配設したことによって、ガス供給集積ユニ
ット1お構成するメインバルブ3及びマスフローコント
ローラ4等の構成部品の1ライン化の実現により、この
ガス供給集積ユニット1を並設したガス供給装置をコン
パクト化することができた。ガス供給装置のコンパクト
化は、床の占有面積を大幅に縮小することができるた
め、作業の邪魔になるといった問題を解消し、また、ガ
ス供給装置を真空チャンバー51のすぐ近くに配設する
ことが可能となり、安定した流量でのガスの供給が可能
となった。
In particular, by arranging the fixed block in the same direction and on a straight line, the components such as the main valve 3 and the mass flow controller 4 constituting the gas supply integrated unit 1 can be integrated into one line. Thus, the gas supply device having the gas supply integrated unit 1 arranged side by side could be made compact. The downsizing of the gas supply device can greatly reduce the floor occupied area, thereby eliminating the problem of hindering the work, and disposing the gas supply device in the immediate vicinity of the vacuum chamber 51. And gas can be supplied at a stable flow rate.

【0030】一方、ガス供給集積ユニット1自体にして
も、フィルタブロック15、第1ブロック11及び第2
ブロック12に対して上方からボルトによって取り付け
るようにしたため、逆止弁6等の各構成部品の取り外し
が容易であり、メンテナンス性が格段に向上した。ま
た、逆止弁6は、図6に示すようにカバー31をボルト
41で固定することによってのみ組付けてあるので、復
帰バネ37等の部品交換を容易に行なうことが可能であ
る。
On the other hand, the filter block 15, the first block 11, and the second
Since the bolts are attached to the block 12 from above, the components such as the check valve 6 can be easily removed, and the maintainability has been greatly improved. In addition, since the check valve 6 is assembled only by fixing the cover 31 with bolts 41 as shown in FIG. 6, parts such as the return spring 37 can be easily replaced.

【0031】更に、本実施の形態のガス供給集積ユニッ
トでは、フィルタブロック15、第1ブロック11及び
第2ブロック12を一体にした固定ブロックにガス流路
17a,17b,18a,18b,18c18d,19
a,19b,19cを形成したので、従来のもののよう
に配管を溶接によって接続する必要がなくなった。その
ため、腐食性ガスによって溶接が腐食することによるパ
ーティクルの発生を防止することができた。
Further, in the gas supply integrated unit of the present embodiment, the gas flow passages 17a, 17b, 18a, 18b, 18c18d, 19 are provided in a fixed block in which the filter block 15, the first block 11, and the second block 12 are integrated.
Since a, 19b and 19c were formed, it was not necessary to connect the pipes by welding as in the conventional case. Therefore, generation of particles due to corrosion of the welding by the corrosive gas could be prevented.

【0032】なお、本発明は、上記実施の形態のものに
限定されるわけではなくその趣旨を逸脱しない範囲で様
々な変更が可能である。例えば、上記実施の形態では、
逆止弁6に復帰バネ37を使用したポペット構造のもの
を採用したが、ダイアフラムを用いて供給ガスFのガス
圧によるダイアフラム受圧力を利用したものを採用する
ようにしてもよい。これは、ポペット構造のものによる
と、復帰バネ37で圧力バランスをとったのでは弁体3
5がバイブレーションを起こして脈流を発生させたり、
摺動部がこすれることによってパーティクルが発生する
ことを解消する利点を有している。また、例えば、上記
実施の形態のように各構成部品を配列させることなく、
逆止弁6をフィルタブロック15に取り付ける一方、第
2ブロック12へは必要に応じてフィルタ2や圧力セン
サまたはバルブ等を取り付けるようにしてもよい。
The present invention is not limited to the above embodiment, and various changes can be made without departing from the gist of the present invention. For example, in the above embodiment,
Although the check valve 6 has a poppet structure using the return spring 37, a check valve using a diaphragm receiving pressure due to the gas pressure of the supply gas F using a diaphragm may be used. According to the poppet structure, if the pressure is balanced by the return spring 37, the valve 3
5 causes a vibration and a pulsating flow,
There is an advantage that generation of particles due to rubbing of the sliding portion is eliminated. Also, for example, without arranging each component as in the above embodiment,
While the check valve 6 is attached to the filter block 15, the filter 2, a pressure sensor, a valve, or the like may be attached to the second block 12 as necessary.

【0033】[0033]

【発明の効果】本発明は、供給ガス及びパージガスの流
路が形成され、当該流路上にフィルタ、開閉弁、マスフ
ローコントローラ、パージ弁、及び逆止弁を固設する取
付部を備えた固定ブロックによって構成するようにした
ので、狭いフロアスペースで配設可能に集積されたコン
パクトなガス供給集積ユニットを提供すること、また溶
接によるパーティクルの発生を防止したガス供給集積ユ
ニットを提供することが可能となった。
According to the present invention, there is provided a fixed block in which a flow path for a supply gas and a purge gas is formed and on which a filter, an on-off valve, a mass flow controller, a purge valve, and a check valve are fixedly mounted. Therefore, it is possible to provide a compact gas supply integrated unit that can be arranged in a narrow floor space and to provide a gas supply integrated unit that prevents generation of particles due to welding. became.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明にかかるガス供給集積ユニットの一実施
の形態を示した斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view showing an embodiment of a gas supply integrated unit according to the present invention.

【図2】本発明にかかるガス供給集積ユニットの一実施
の形態を示した一部断面図である。
FIG. 2 is a partial cross-sectional view showing one embodiment of a gas supply integrated unit according to the present invention.

【図3】一実施の形態にかかる逆止弁及び固定ブロック
を示した断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing a check valve and a fixed block according to one embodiment.

【図4】一実施の形態にかかる逆止弁の閉弁状態を示し
た断面図である。
FIG. 4 is a cross-sectional view showing a check valve closed state according to one embodiment;

【図5】一実施の形態にかかる逆止弁の開弁状態を示し
た断面図である。
FIG. 5 is a cross-sectional view showing an open state of the check valve according to the embodiment;

【図6】本発明にかかるガス供給集積ユニットの一実施
の形態を示した一部断面図である。
FIG. 6 is a partial cross-sectional view showing one embodiment of a gas supply integrated unit according to the present invention.

【図7】従来のガス供給集積ユニットを示す斜視図であ
る。
FIG. 7 is a perspective view showing a conventional gas supply integrated unit.

【図8】ガス供給集積ユニットを連設したガス供給装置
の流路を示した空圧回路図である。
FIG. 8 is a pneumatic circuit diagram illustrating a flow path of a gas supply device provided with a series of gas supply integrated units.

【図9】4つの真空チャンバーが配設されたエッチング
装置を示した配置図である。
FIG. 9 is an arrangement view showing an etching apparatus provided with four vacuum chambers.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ガス供給集積ユニット 2 フィルタ 3 メインバルブ 4 マスフローコントローラ 5 パージ弁 6 逆止弁 11 第1ブロック 12 第2ブロック 15 フィルタブロック 18a,18b,18c18d,19a,19b,19
c 流路
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Gas supply integrated unit 2 Filter 3 Main valve 4 Mass flow controller 5 Purge valve 6 Check valve 11 1st block 12 2nd block 15 Filter block 18a, 18b, 18c18d, 19a, 19b, 19
c flow path

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) F17D 1/00 - 1/075 F17C 13/04 301 F17D 5/00 H01L 21/02 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (58) Field surveyed (Int. Cl. 6 , DB name) F17D 1/00-1/075 F17C 13/04 301 F17D 5/00 H01L 21/02

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 路を流れる供給ガスの流れを調節する
開閉弁と、供給ガスの流量を制御するマスフローコント
ローラと、前記マスフローコントローラ内に残留する供
給ガスを排除するパージガスを供給するためのパージ弁
と、パージガス供給側への供給ガスの流入を防止する逆
止弁とを備えたガス供給集積ユニットにおいて、前記供給ガス及び前記パージガスが流れる流路が形成さ
れ、当該流路上に前記開閉弁及び前記パージ弁を固設す
るための取付部を上面に備えた開閉弁固定ブロックと、 前記供給ガス及び前記パージガスが流れる流路が形成さ
れ、当該流路上に前記逆止弁を固設するための取付部を
上面に備えた逆止弁固定ブロックとを有し、 前記逆止弁固定ブロックと前記開閉弁固定ブロックと
を、側面同士で連結する ことを特徴とするガス供給集積
ユニット。
And 1. A closing to regulate the flow of feed gas flowing through the flow path valve, a mass flow controller for controlling the flow rate of feed gas, purge for supplying a purge gas to eliminate the feed gas remaining in the mass flow controller In a gas supply integrated unit including a valve and a check valve for preventing a supply gas from flowing into a purge gas supply side, a flow path through which the supply gas and the purge gas flow is formed.
And the on-off valve and the purge valve are fixed on the flow path.
An opening / closing valve fixing block having a mounting portion for mounting on the upper surface, and a flow path through which the supply gas and the purge gas flow are formed.
A mounting portion for fixing the check valve on the flow path.
A check valve fixing block provided on the upper surface, the check valve fixing block and the on- off valve fixing block,
Are connected side by side to each other .
【請求項2】 供給ガスの混入不純物を除去するための
フィルタと、流路を流れる供給ガスの流れを調節する開
閉弁と、供給ガスの流量を制御するマスフローコントロ
ーラと、前記マスフローコントローラ内に残留する供給
ガスを排除するパージガスを供給するためのパージ弁と
を備えたガス供給集積ユニットにおいて、 前記供給ガス及び前記パージガスが流れる流路が形成さ
れ、当該流路上に前記開閉弁及び前記パージ弁を固設す
るための取付部を上面に備えた開閉弁固定ブロックと、 前記供給ガスが流れる流路が形成され、当該流路上に前
記フィルタを固設するための取付部を上面に備えたフィ
ルタ固定ブロックとを有し、 前記フィルタ固定ブロックと前記開閉弁固定ブロックと
を、側面同士で連結する ことを特徴とするガス供給集積
ユニット。
2. A method for removing impurities mixed in a supply gas.
A filter and an opening to regulate the flow of supply gas through the flow path
Mass flow control for closing valves and controlling the flow rate of supply gas
And the supply remaining in the mass flow controller
A purge valve for supplying a purge gas for eliminating gas;
In the gas supply integrated unit having: a flow path through which the supply gas and the purge gas flow are formed.
And the on-off valve and the purge valve are fixed on the flow path.
An opening / closing valve fixing block having an attachment portion for mounting on the upper surface, and a flow path through which the supply gas flows are formed.
A filter with a mounting part on the upper surface for fixing the filter
A filter fixing block and the on- off valve fixing block.
Are connected side by side to each other .
【請求項3】 請求項1に記載のガス供給集積ユニット
において、供給ガスの混入不純物を除去するためのフィルタと、 前記供給ガス及び前記パージガスが流れる流路が形成さ
れ、当該流路上に前記開閉弁及び前記パージ弁を固設す
るための取付部を上面に備えた開閉弁固定ブロ ックと、 前記供給ガスが流れる流路が形成され、当該流路上に前
記フィルタを固設するための取付部を上面に備えたフィ
ルタ固定ブロックとを有し、 前記フィルタ固定ブロックと前記開閉弁固定ブロックと
を、側面同士で連結する ことを特徴とするガス供給集積
ユニット。
3. The gas supply integrated unit according to claim 1 , wherein a filter for removing impurities mixed in the supply gas, and a flow path through which the supply gas and the purge gas flow are formed.
And the on-off valve and the purge valve are fixed on the flow path.
Off valve fixed block having a mounting portion of the order on the upper surface, a flow passage in which the feed gas flows is formed, prior to the flow path
A filter with a mounting part on the upper surface for fixing the filter
A filter fixing block and the on- off valve fixing block.
Are connected side by side to each other .
JP1715696A 1996-01-05 1996-01-05 Gas supply integrated unit Expired - Fee Related JP2922453B2 (en)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1715696A JP2922453B2 (en) 1996-01-05 1996-01-05 Gas supply integrated unit
KR1019960054576A KR100232112B1 (en) 1996-01-05 1996-11-15 Gas supply unit
SG9611698A SG79211A1 (en) 1996-01-05 1996-12-12 Gas supply unit
US08/777,046 US5819782A (en) 1996-01-05 1996-12-30 Gas supply unit
MYPI96005561A MY114330A (en) 1996-01-05 1996-12-31 Gas supply unit

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1715696A JP2922453B2 (en) 1996-01-05 1996-01-05 Gas supply integrated unit

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH09184599A JPH09184599A (en) 1997-07-15
JP2922453B2 true JP2922453B2 (en) 1999-07-26

Family

ID=11936124

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1715696A Expired - Fee Related JP2922453B2 (en) 1996-01-05 1996-01-05 Gas supply integrated unit

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2922453B2 (en)

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3737869B2 (en) 1997-05-13 2006-01-25 シーケーディ株式会社 Process gas supply unit
US6283143B1 (en) * 2000-03-31 2001-09-04 Lam Research Corporation System and method for providing an integrated gas stick
JP2002089798A (en) * 2000-09-11 2002-03-27 Ulvac Japan Ltd Fluid control device and gas treatment equipment using it
JP4597440B2 (en) * 2001-09-14 2010-12-15 シーケーディ株式会社 Gas supply integrated unit for semiconductor manufacturing equipment
JP4554853B2 (en) * 2001-09-17 2010-09-29 シーケーディ株式会社 Gas supply integrated valve
JP4221425B2 (en) * 2006-08-11 2009-02-12 シーケーディ株式会社 Purge gas unit and purge gas supply integrated unit
JP5727703B2 (en) * 2010-01-27 2015-06-03 株式会社ダイヘン Fluid supply device and fuel cell system provided with fluid supply device
JP5447975B2 (en) * 2010-06-29 2014-03-19 住友電装株式会社 Gas distribution unit
CN102954348B (en) * 2011-08-25 2014-12-24 智高实业股份有限公司 Switch valve and gas-filling device of gas cylinder
JP5478666B2 (en) * 2012-05-21 2014-04-23 株式会社アルバック Fluid control apparatus and gas processing apparatus using the same
JP7061808B2 (en) * 2017-03-15 2022-05-02 株式会社フジキン Fittings and fluid controls
JP7011509B2 (en) * 2018-03-27 2022-01-26 日本精線株式会社 Gas filter and gas supply device equipped with it

Also Published As

Publication number Publication date
JPH09184599A (en) 1997-07-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5819782A (en) Gas supply unit
JP2922453B2 (en) Gas supply integrated unit
US6035893A (en) Shutoff-opening devices and fluid control apparatus comprising such devices
US6273139B1 (en) Fluid control apparatus
US5657786A (en) Zero dead-leg gas control apparatus and method
US6615871B2 (en) Fluid control apparatus
US6186177B1 (en) Integrated gas delivery system
JP2731080B2 (en) Gas control device
JP2004523016A (en) Plug and seat positioning system applied to control
JP3564115B2 (en) Gas supply unit
JP2832166B2 (en) Gas supply integrated unit
JP3871438B2 (en) Process gas supply unit
JP2568365B2 (en) Gas supply device
JP2006234110A (en) Gas supply unit and gas supply system
US3260278A (en) Regulating valve having removable valve unit
JP2865585B2 (en) Gas supply integrated unit and its system
EP1458984B1 (en) Apparatus for conveying fluids and base plate
US20080302426A1 (en) System and method of securing removable components for distribution of fluids
US7290572B2 (en) Method for purging a high purity manifold
JP3616875B2 (en) Fitting member for fluid control device and manufacturing method thereof
JP3360133B2 (en) Joint member for fluid control device and method of manufacturing the same
JPH10214117A (en) Gas supplying integrated unit and system therefor
JP2001235099A (en) Remounting system of process gas supply unit
JP4597440B2 (en) Gas supply integrated unit for semiconductor manufacturing equipment
JP2875958B2 (en) On-off valve mounting structure

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080430

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090430

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090430

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 11

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100430

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 12

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110430

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 13

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120430

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees