JPH11154320A - Magnetic recording medium and its production - Google Patents

Magnetic recording medium and its production

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JPH11154320A
JPH11154320A JP26252398A JP26252398A JPH11154320A JP H11154320 A JPH11154320 A JP H11154320A JP 26252398 A JP26252398 A JP 26252398A JP 26252398 A JP26252398 A JP 26252398A JP H11154320 A JPH11154320 A JP H11154320A
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JP
Japan
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magnetic
layer
recording medium
oxide
magnetic layer
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Pending
Application number
JP26252398A
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Japanese (ja)
Inventor
Hiroshi Riyounai
領内  博
Tatsuro Ishida
達朗 石田
Kiyokazu Toma
清和 東間
Keizo Miyata
宮田  敬三
Taizo Hamada
泰三 浜田
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a magnetic recording medium which is suitable for high- density recording by lowering the noise of the recording medium. SOLUTION: A ground surface layer 2 consisting of Cr, etc., is formed on a glass substrate 1 and a magnetic layer 3 is formed on this ground surface layer 2 by simultaneously sputtering a magnetic material and a nonmagnetic material which does not solutionize with this magnetic material in an atmosphere having a pressure of 30 to 75 mTorr. The magnetic layer 3 include the clusters formed by flocculation of magnetic particles of 5 to 20 nm in grain size and the nonmagnetic material existing between the clusters. The average intervals between the clusters are 1.5 to 5 nm. The magnetic recording medium which provides a good SN ratio and is suitable for high-density recording is thus obtd.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、大容量、高記録密
度の磁気記録再生装置に用いられる磁気記録媒体とその
製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic recording medium used in a large-capacity, high-recording-density magnetic recording / reproducing apparatus and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】現在、磁気記録再生装置は、小型で大容
量を実現するために高記録密度化の傾向にある。代表的
な磁気記録装置であるハードディスクドライブの分野に
おいては、既に面記録密度が1Gbit/in2を超える装置が
商品化されており、数年後には10Gbit/in2の装置の実
用化が予想される程の急激な技術進歩が認められる。
2. Description of the Related Art At present, magnetic recording / reproducing apparatuses have tended to have high recording densities in order to realize a small size and a large capacity. In the field of hard disk drives, which are typical magnetic recording devices, devices having a surface recording density exceeding 1 Gbit / in 2 have already been commercialized, and it is expected that a 10 Gbit / in 2 device will be put into practical use in a few years. Rapid technological progress is recognized.

【0003】このような高記録密度化を可能とした技術
的背景としては、媒体性能やヘッド・ディスクインター
フェイス性能の向上、パーシャルレスポンス等の新規な
信号処理方式の出現による線記録密度の向上が挙げられ
る。しかし、近年では、トラック密度の増加傾向が線記
録密度の増加傾向を大きく上回っており、面記録密度の
向上の主たる要因となっている。これは、従来の誘導型
磁気ヘッドに比べて遙かに再生出力性能に優れた磁気抵
抗素子型ヘッド(MRヘッド)が実用化されたことに起
因する。現在、磁気抵抗素子型ヘッドを用いれば、わず
か数μmのトラック幅の信号をSN比良く再生すること
が可能となっている。近い将来には、さらにヘッド性能
が向上し、トラックピッチがサブミクロン領域に達する
と予想されている。
[0003] The technical background that has made it possible to achieve such a high recording density is an improvement in medium performance and head-disk interface performance, and an increase in linear recording density due to the emergence of new signal processing methods such as partial response. Can be However, in recent years, the trend of increasing the track density has greatly exceeded the trend of increasing the linear recording density, which is a major factor in improving the areal recording density. This is attributable to the practical use of a magnetoresistive element type head (MR head) having much better reproduction output performance than the conventional induction type magnetic head. At present, it is possible to reproduce a signal having a track width of only several μm with a good SN ratio by using a magnetoresistive element type head. In the near future, it is expected that the head performance will be further improved and the track pitch will reach the submicron range.

【0004】MRヘッドにより信号の再生を行う場合、
従来の誘導型磁気ヘッドと比べ、再生信号に及ぶ記録媒
体のノイズの影響は大きくなる。そのため、媒体ノイズ
を低減することがより重要となる。このような低ノイズ
化を実現するためには、磁性層の結晶の微粒子化と、磁
性粒子の分離が有効である。
When a signal is reproduced by an MR head,
Compared with the conventional inductive magnetic head, the influence of the noise of the recording medium on the reproduction signal is greater. Therefore, it is more important to reduce the medium noise. In order to realize such low noise, it is effective to make the crystal of the magnetic layer finer and to separate the magnetic particles.

【0005】従来、磁性粒子の分離を促進する方法とし
ては、例えばCoCrPt系の磁性層を基板温度を30
0℃以上の高温としてスパッタリングする方法が知られ
ている。この方法によれば、スパッタリングされて基板
に飛来した原子が基板上を移動しやすくなる。その結
果、CoPt系の磁性結晶粒子と、この磁性結晶粒子の
粒界のCrリッチな非磁性体からなる磁性層が形成され
る。粒界に非磁性体が形成されると、磁性結晶粒子の分
離は促進される。
Conventionally, as a method of accelerating the separation of magnetic particles, for example, a CoCrPt-based magnetic layer is heated at a substrate temperature of 30 ° C.
A method of performing sputtering at a high temperature of 0 ° C. or higher is known. According to this method, atoms sputtered to the substrate by sputtering can easily move on the substrate. As a result, a magnetic layer composed of CoPt-based magnetic crystal grains and a Cr-rich nonmagnetic material at the grain boundaries of the magnetic crystal grains is formed. When the nonmagnetic material is formed at the grain boundary, the separation of the magnetic crystal grains is promoted.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかし、基板を加熱す
ることにより粒界へのCrの移動を促進する方法では、
基板に到達した原子が移動し易くなるために磁性結晶粒
子も大きくなり、粒子の微細化が困難となる。結晶粒子
が大きくなれば、媒体ノイズの低減には不利となる。そ
こで、本発明は、媒体ノイズが低減され、高密度記録に
適した磁気記録媒体と、その製造方法を提供することを
目的とする。
However, in the method of promoting the movement of Cr to the grain boundary by heating the substrate,
Since the atoms that have reached the substrate easily move, the size of the magnetic crystal grains also increases, making it difficult to miniaturize the grains. Larger crystal grains are disadvantageous for reducing medium noise. Therefore, an object of the present invention is to provide a magnetic recording medium in which medium noise is reduced and suitable for high-density recording, and a method for manufacturing the same.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の磁気記録媒体は、非磁性基板と、この非磁
性基板上に形成された下地層と、この下地層上に形成さ
れた磁性層とを含み、上記磁性層が、粒径が5nm〜2
0nm(好ましくは8nm〜10nm)である磁性粒子
が凝集したクラスターと、このクラスター間に存在する
非磁性体とを含み、上記クラスター間の平均間隔が1.
5nm〜5nmであることを特徴とする。
In order to achieve the above object, a magnetic recording medium according to the present invention comprises a non-magnetic substrate, an underlayer formed on the non-magnetic substrate, and a non-magnetic substrate formed on the non-magnetic substrate. The magnetic layer has a particle size of 5 nm to 2 nm.
It includes clusters in which magnetic particles each having a diameter of 0 nm (preferably 8 nm to 10 nm) are aggregated, and a non-magnetic substance existing between the clusters.
The thickness is 5 nm to 5 nm.

【0008】このような磁気記録媒体は、粒径が小さな
磁性粒子が凝集したクラスターが、非磁性体により分離
された状態で分散しており、媒体ノイズが抑制され、高
いSN比を示す磁気記録媒体を得ることができる。な
お、ここで、クラスター間の平均間隔とは、隣接するク
ラスターの最短距離の平均値を意味する。
In such a magnetic recording medium, clusters in which magnetic particles having a small particle diameter are aggregated are dispersed in a state separated by a non-magnetic material, so that medium noise is suppressed and a magnetic recording medium exhibiting a high SN ratio is obtained. Medium can be obtained. Here, the average interval between clusters means an average value of the shortest distances of adjacent clusters.

【0009】このような磁気記録媒体は、以下の方法に
より得ることができる。すなわち、本発明の磁気記録媒
体の製造方法は、非磁性基板上に下地層を形成する工程
と、この下地層上に磁性層を形成する工程とを含み、上
記磁性層を、30mtorr〜75mtorrの圧力を有する雰囲
気において、磁性体およびこの磁性体と固溶しない非磁
性体を同時にスパッタリングすることにより形成するこ
とを特徴とする。
[0009] Such a magnetic recording medium can be obtained by the following method. That is, the method for manufacturing a magnetic recording medium of the present invention includes a step of forming a base layer on a non-magnetic substrate and a step of forming a magnetic layer on the base layer, wherein the magnetic layer has a thickness of 30 to 75 mtorr. A magnetic material and a non-magnetic material that does not form a solid solution with the magnetic material are simultaneously sputtered in an atmosphere having a pressure.

【0010】このように比較的高い圧力を有する雰囲気
において互いに固溶しない磁性体と非磁性体とを同時に
スパッタリングすれば、微細な磁性粒子が凝集したクラ
スターが生成し、しかもクラスター同士の分離が促進さ
れる。
When a magnetic material and a non-magnetic material that do not form a solid solution with each other are simultaneously sputtered in an atmosphere having a relatively high pressure, clusters in which fine magnetic particles are aggregated are formed, and separation of the clusters is promoted. Is done.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】以下、図面に基づいて、本発明の
好ましい形態について説明する。図1は、本発明の磁気
記録媒体の一形態の断面図である。図1に示したよう
に、磁気記録媒体は、ガラス基板1の上に、下地層2、
磁性層3および保護膜4が順に形成された構造を有して
おり、さらにその上に潤滑剤が塗布されて潤滑層5が形
成されている。ガラス基板1を構成するガラスとして
は、アルミノシリケートガラス等を用いることができ
る。下地層2は、NiAl、Cr等を含む非磁性体によ
り構成されるが、CrまたはCr合金を好適に用いるこ
とができる。保護層4は、例えばカーボンにより構成さ
れる。ガラス基板1、下地層2、保護層4および潤滑層
5は、従来から用いられている材料を特に制限すること
なく用いることができる。なお、下地膜の膜厚は、特に
制限されないが、50nm〜200nmが好ましい。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a sectional view of one embodiment of the magnetic recording medium of the present invention. As shown in FIG. 1, the magnetic recording medium includes a glass substrate 1, an underlayer 2,
It has a structure in which a magnetic layer 3 and a protective film 4 are sequentially formed, and a lubricant is further applied thereon to form a lubricant layer 5. Aluminosilicate glass or the like can be used as the glass constituting the glass substrate 1. The underlayer 2 is made of a nonmagnetic material containing NiAl, Cr, or the like, but Cr or a Cr alloy can be suitably used. The protective layer 4 is made of, for example, carbon. The glass substrate 1, the base layer 2, the protective layer 4, and the lubricating layer 5 can be used without any particular limitation on conventionally used materials. The thickness of the base film is not particularly limited, but is preferably 50 nm to 200 nm.

【0012】以下、磁性層3について説明する。磁性層
は、磁性粒子のクラスター6と、クラスター間の粒界物
質7とを含んでいる。クラスターの粒界には、図2に模
式的に示したように、粒界物質7が密に充填されず、粒
界物質7と空隙8とが存在していることが好ましい。こ
のような構造は、後述するように、スパッタリングの際
の雰囲気の圧力を相対的に高くすることにより形成する
ことができる。
Hereinafter, the magnetic layer 3 will be described. The magnetic layer includes clusters 6 of magnetic particles and grain boundary substances 7 between the clusters. As shown schematically in FIG. 2, it is preferable that the grain boundary of the cluster is not densely filled with the grain boundary material 7 and the grain boundary material 7 and the void 8 exist. Such a structure can be formed by relatively increasing the pressure of the atmosphere during sputtering, as described later.

【0013】個々のクラスター6は、径の平均が例えば
20nm〜50nmであり、互いに1.5nm〜5nm
の平均間隔を保持するように、磁性層3中に分散してい
る。ただし、クラスター6は、図2においては1つの粒
子として図示されているが、実際は微細な磁性粒子の集
合体である。クラスターを構成する磁性粒子は、5nm
〜20nm、より好ましくは8nm〜10nmの粒径を
有している。クラスターを構成する磁性粒子は、互いに
密に(例えば約1nm程度の間隔で)凝集している。な
お、磁性層の膜厚は、特に制限されないが、20nm以
下が好ましい。
Each of the clusters 6 has an average diameter of, for example, 20 nm to 50 nm and is 1.5 nm to 5 nm from each other.
Are dispersed in the magnetic layer 3 so as to maintain the average spacing of. Although the cluster 6 is shown as one particle in FIG. 2, it is actually an aggregate of fine magnetic particles. The magnetic particles constituting the cluster are 5 nm
It has a particle size of 2020 nm, more preferably 8 nm〜1010 nm. The magnetic particles constituting the cluster are densely aggregated with each other (for example, at intervals of about 1 nm). The thickness of the magnetic layer is not particularly limited, but is preferably 20 nm or less.

【0014】磁性粒子を構成する材料は、特に制限され
ないが、CoPt系合金を好適に用い得る。一方、粒界
物質は非磁性体により構成される。非磁性体は、酸化珪
素、酸化アルミニウム、酸化コバルト、酸化チタン、酸
化クロム、酸化マグネシウム、酸化タンタル、窒化珪
素、窒化アルミニウム、窒化チタンおよび窒化クロムか
ら選ばれる少なくとも1つの金属化合物(金属酸化物お
よび/または金属窒化物)を含むことが好ましい。
The material constituting the magnetic particles is not particularly limited, but a CoPt-based alloy can be suitably used. On the other hand, the grain boundary material is composed of a non-magnetic material. The nonmagnetic material is at least one metal compound (metal oxide and metal oxide) selected from silicon oxide, aluminum oxide, cobalt oxide, titanium oxide, chromium oxide, magnesium oxide, tantalum oxide, silicon nitride, aluminum nitride, titanium nitride, and chromium nitride. And / or metal nitride).

【0015】磁性層においては、非磁性体を構成する金
属化合物の金属成分が、磁性体を構成する金属成分と非
磁性体を構成する金属成分との合計量に対し、5〜1
2.5原子%であることが好ましい。この範囲内におい
て良好な電磁変換特性が得られるからである。
In the magnetic layer, the metal component of the metal compound forming the nonmagnetic material is 5 to 1 with respect to the total amount of the metal component forming the magnetic material and the metal component forming the nonmagnetic material.
Preferably it is 2.5 atomic%. This is because good electromagnetic conversion characteristics can be obtained within this range.

【0016】図4に示したように、磁性層3は、単層で
はなく、磁性薄膜11と非磁性薄膜12とを積層した多
層膜として用いてもよい。このような積層構造とする
と、媒体ノイズをさらに低減することができる。この場
合、非磁性薄膜12の膜厚は、1〜5nmとすることが
好ましい。また磁性層全体の厚さは、単層の場合と同
様、20nm以下とすることが好ましい。この場合の非
磁性薄膜としては、CrやCr合金(例えばCrV、C
rMo)を用いることができる。
As shown in FIG. 4, the magnetic layer 3 may not be a single layer but may be a multilayer film in which a magnetic thin film 11 and a non-magnetic thin film 12 are laminated. With such a laminated structure, medium noise can be further reduced. In this case, the thickness of the nonmagnetic thin film 12 is preferably set to 1 to 5 nm. The thickness of the entire magnetic layer is preferably 20 nm or less as in the case of a single layer. In this case, as the non-magnetic thin film, Cr or a Cr alloy (for example, CrV, C
rMo) can be used.

【0017】また、本発明の磁気記録媒体は、いわゆる
ゾーンテクスチャを施さなくても、良好な特性を得るこ
とができる。高密度記録を実現するためにはヘッドの浮
上量が小さいほうが有利であるため、従来、ハードディ
スク装置におけるディスク基板の表面粗さは、0.5n
m程度あるいはそれ以下に抑制されてきた。しかし、表
面が平滑であると、ヘッドのコンタクトスタートストッ
プ(CSS)時にヘッドが磁気ディスクに吸着するた
め、磁気ディスクの表面の一部を荒らすことによりテク
スチャが形成されている(ゾーンテクスチャ)。通常、
ディスク全面を荒らすと、ヘッド浮上量が大きくなって
電磁変換特性が低下する。しかし、本発明の磁気記録媒
体は電磁変換特性が良好であるため、媒体表面の全体的
な粗さによる電磁変換特性の劣化を補償することができ
る。例えば、表面粗さが1nm〜1.6nmであるガラ
ス基板を用いて上記磁気記録媒体を形成すれば、ゾーン
テクスチャのようなヘッド吸着対策を施すことなく、高
密度記録を実現することが可能となる。
Further, the magnetic recording medium of the present invention can obtain good characteristics without applying so-called zone texture. In order to realize high-density recording, it is advantageous that the flying height of the head is small. Therefore, conventionally, the surface roughness of a disk substrate in a hard disk device is 0.5 n.
m or less. However, if the surface is smooth, the head is attracted to the magnetic disk at the time of contact start / stop (CSS) of the head, so that a texture is formed by roughening a part of the surface of the magnetic disk (zone texture). Normal,
When the entire surface of the disk is roughened, the flying height of the head is increased and the electromagnetic conversion characteristics are reduced. However, since the magnetic recording medium of the present invention has good electromagnetic conversion characteristics, it is possible to compensate for the deterioration of the electromagnetic conversion characteristics due to the overall roughness of the medium surface. For example, if the magnetic recording medium is formed using a glass substrate having a surface roughness of 1 nm to 1.6 nm, high-density recording can be realized without taking measures against head adsorption such as zone texture. Become.

【0018】なお、本明細書における表面粗さ(Ra)
は、JIS B 0601の記載より定められる。
The surface roughness (Ra) in this specification
Is defined from the description of JIS B0601.

【0019】本発明の磁気記録媒体は、従来から実施さ
れてきたように、スパッタリング法を用いることにより
形成することができる。スパッタリング法を適用する場
合、上記のような構造を有する磁性層3は、比較的高い
圧力を有する雰囲気(好ましくは30mTorr〜75mTorr
のガス圧)下において、磁性体と非磁性体とを同時にス
パッタリングすることにより形成することができる。磁
性体と非磁性体とは、別々のターゲットとして準備して
もよく、両者の混合体をターゲットとして準備してもよ
い。
The magnetic recording medium of the present invention can be formed by using a sputtering method as conventionally practiced. When the sputtering method is applied, the magnetic layer 3 having the above-described structure is formed in an atmosphere having a relatively high pressure (preferably 30 mTorr to 75 mTorr).
Under a gas pressure), a magnetic material and a non-magnetic material are simultaneously sputtered. The magnetic substance and the non-magnetic substance may be prepared as separate targets, or a mixture of both may be prepared as the target.

【0020】磁性層をスパッタリングする際のガス圧
は、磁性層の構造、特に磁性粒子のクラスター間の構造
に影響を与える。ガス圧が小さくなると、クラスター間
に存在する空隙が小さくなる傾向が認められる。例え
ば、図2に示した磁性層を、ガス圧を小さくして形成す
ると、図3に模式的に示したように、クラスター6間に
非磁性物質が充填された構造の磁性層となる。図2に示
した磁性層と比較して、図3に示した磁性層は、クラス
ターの間隔が狭くなり、分離の程度が小さくなる。
The gas pressure at the time of sputtering the magnetic layer affects the structure of the magnetic layer, particularly the structure between clusters of magnetic particles. As the gas pressure decreases, the gap existing between the clusters tends to decrease. For example, when the magnetic layer shown in FIG. 2 is formed with a reduced gas pressure, a magnetic layer having a structure in which a non-magnetic substance is filled between the clusters 6 is obtained as schematically shown in FIG. Compared with the magnetic layer shown in FIG. 2, the magnetic layer shown in FIG. 3 has a smaller cluster interval and a smaller degree of separation.

【0021】クラスターを十分に分離するためには、ガ
ス圧は30mTorr以上が好ましい。一方、ガス圧が大き
すぎると磁性層が疎となり、CSS時にヘッドとの接触
による傷が発生するおそれが生じる。従って、ガス圧
は、上記のように30mTorr〜75mTorrが好ましい。
In order to sufficiently separate the clusters, the gas pressure is preferably 30 mTorr or more. On the other hand, if the gas pressure is too high, the magnetic layer becomes sparse, and there is a possibility that scratches may occur due to contact with the head during CSS. Therefore, the gas pressure is preferably 30 mTorr to 75 mTorr as described above.

【0022】また、磁性層を形成するときの基板温度と
しては、200℃以下が好ましい。基板温度が200℃
を超えると、磁性粒子同士、さらにはクラスター同士が
接合して、記録媒体の低ノイズ化に不利となるからであ
る。
The substrate temperature for forming the magnetic layer is preferably 200 ° C. or lower. Substrate temperature is 200 ℃
This is because, when the value exceeds 3, magnetic particles and clusters are joined to each other, which is disadvantageous for lowering the noise of the recording medium.

【0023】[0023]

【実施例】以下、実施例により本発明をさらに詳細に説
明するが、以下の実施例は本発明を制限するものではな
い。直径2.5インチの円盤状のガラス基板をインライ
ンスパッタ装置に設置し、装置内を10-6torrオーダー
の真空に引き、基板表面に吸着したガス分子等を除去す
るために、350℃で30分間ベーキングを行った。ベ
ーキングの後、基板温度が室温(約25℃、以下同じ)
に戻るまで冷却した。なお、冷却後の真空度は、5×1
-7torrであった。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to the following Examples, which do not limit the present invention. A disk-shaped glass substrate having a diameter of 2.5 inches is placed in an in-line sputtering apparatus, and the inside of the apparatus is evacuated to a vacuum of the order of 10 -6 torr. Baking for minutes. After baking, the substrate temperature is room temperature (about 25 ° C, the same applies hereinafter)
Cooled down to return. The degree of vacuum after cooling was 5 × 1
It was 0 -7 torr.

【0024】インラインスパッタ装置により、ガラス基
板上に下地層としてCr層を厚さ100nmとなるよう
に成膜し、その上に所定の基板温度、所定のガス圧で、
磁性層を厚さが約15nmとなるように成膜した。磁性
層を形成するときのスパッタリングターゲットには、C
oPtターゲット上に、SiO2チップを適量配置した
ものを用いた。SiO2チップの量は、磁性層中のSi
原子の量が、Co原子、Pt原子およびSi原子の合計
量の10%となるように定めた。なお、磁性層中の上記
各金属原子の量は、ICP発光分光分析法により測定し
た。
A Cr layer is formed as a base layer on a glass substrate so as to have a thickness of 100 nm by an in-line sputtering apparatus, and a Cr layer is formed thereon at a predetermined substrate temperature and a predetermined gas pressure.
The magnetic layer was formed to have a thickness of about 15 nm. The sputtering target for forming the magnetic layer includes C
An oPt target having a suitable amount of SiO 2 chips disposed thereon was used. The amount of SiO 2 chips is
The amount of atoms was determined to be 10% of the total amount of Co atoms, Pt atoms, and Si atoms. The amount of each metal atom in the magnetic layer was measured by ICP emission spectroscopy.

【0025】さらに磁性層上には、同じくスパッタリン
グ法により、保護層としてカーボン層を厚さが約10n
mとなるように形成した。カーボン層の上には、潤滑剤
を塗布した。なお、以上の成膜には、アルゴン(Ar)
を用いた不活性雰囲気において実施した。また、上記条
件で製造した磁気ディスクの飽和磁化(Msδ)は約1
memu/cm2となった。
Further, a carbon layer having a thickness of about 10 n was formed as a protective layer on the magnetic layer by the same sputtering method.
m. A lubricant was applied on the carbon layer. In the above film formation, argon (Ar) is used.
This was carried out in an inert atmosphere using The saturation magnetization (Msδ) of the magnetic disk manufactured under the above conditions is about 1
memu / cm 2 .

【0026】ガス圧および基板温度は、磁気記録媒体の
特性に大きな影響を与える。そこで、上記の方法におい
て、まず、10〜100mTorrの間の種々のArガス圧
下において磁性層を成膜し、電磁変換特性との関連を調
査した。このとき、基板温度は室温とした。結果を図5
および図6に示す。
The gas pressure and the substrate temperature greatly affect the characteristics of the magnetic recording medium. Therefore, in the above method, first, a magnetic layer was formed under various Ar gas pressures of 10 to 100 mTorr, and the relationship with the electromagnetic conversion characteristics was investigated. At this time, the substrate temperature was room temperature. Fig. 5 shows the results.
And FIG.

【0027】図5に示したように、10mTorrからAr
ガス圧を上昇させていくと、保磁力および角型比が低下
する傾向を示した。角型比の低下は、磁性粒子の分離が
促進されていることを示す現象の一つである。また、図
6に示したように、Arガス圧が上昇するにつれて、媒
体ノイズが低下してSN比が向上した。Arガス圧が3
0mTorr未満であると、SN比の低下が顕著となる。一
方、Arガス圧が75mTorrを超えると磁性層自体が疎
となってヘッドによるCSS時に媒体に傷が生じる場合
があった。また、図6に示したように、SN比は、ガス
圧が40mTorr程度以下になると急激に低下を始める。
従って、ガス圧は、30mTorr〜75mTorrが好ましく、
40mTorr〜75mTorrであることがさらに好ましい。
As shown in FIG. 5, from 10 mTorr to Ar
As the gas pressure was increased, the coercive force and the squareness ratio tended to decrease. The decrease in the squareness ratio is one of the phenomena indicating that the separation of the magnetic particles is promoted. In addition, as shown in FIG. 6, as the Ar gas pressure increased, the medium noise decreased and the SN ratio improved. Ar gas pressure is 3
If it is less than 0 mTorr, the reduction of the SN ratio becomes remarkable. On the other hand, if the Ar gas pressure exceeds 75 mTorr, the magnetic layer itself may become sparse and the medium may be damaged during CSS by the head. Also, as shown in FIG. 6, the SN ratio starts to decrease sharply when the gas pressure falls below about 40 mTorr.
Therefore, the gas pressure is preferably 30 mTorr to 75 mTorr,
More preferably, the pressure is 40 mTorr to 75 mTorr.

【0028】なお、本実施例におけるSN比およびノイ
ズは、所定の目標値を0として相対評価した結果であ
る。また、本実施例において、磁気特性は振動型試料型
磁力計(VSM)により評価し、電磁変換特性は120
kfci(flux changes per inch)で評価した。
It should be noted that the SN ratio and the noise in this embodiment are the results of a relative evaluation with a predetermined target value being 0. Further, in the present embodiment, the magnetic characteristics were evaluated by a vibration sample magnetometer (VSM), and the electromagnetic conversion characteristics were 120
It was evaluated by kfci (flux changes per inch).

【0029】次に、基板温度の影響を調査した。上記の
方法において、Ar圧を50mTorrとし、基板温度を、
室温、150℃、200℃、300℃または350℃と
した。その結果、得られたディスクのSN比は、図7に
示したように、基板温度が上昇するとともに単調に低下
する傾向を示した。これは、基板温度の上昇とともに、
磁性結晶の成長が促され、結晶同士の接触も助長される
ために、媒体ノイズが増加するためであると考えられ
る。従って、磁性層を形成するときの基板温度は200
℃以下が好ましい。
Next, the influence of the substrate temperature was investigated. In the above method, the Ar pressure is set to 50 mTorr, and the substrate temperature is set to:
Room temperature, 150 ° C, 200 ° C, 300 ° C or 350 ° C. As a result, as shown in FIG. 7, the SN ratio of the obtained disk tended to decrease monotonically as the substrate temperature increased. This is due to the rise in substrate temperature
This is probably because the growth of the magnetic crystal is promoted and the contact between the crystals is promoted, so that the medium noise increases. Therefore, the substrate temperature when forming the magnetic layer is 200
C. or less is preferred.

【0030】さらに、磁性層の成分の影響を調査した。
上記製造方法における磁性層を形成する工程におけるC
oPtターゲット上のSiO2チップの量を変化させた
点を除いては、上記の方法と同様にして種々のディスク
を作製した。このとき、Ar圧は50mTorr、基板温度
は室温とした。結果を図8および図9に示す。図8に示
したように、保持力(Hc)は磁性層におけるSi原子
の比率(Si/(Co+Pt+Si))が増加するとと
もに漸増するが、Si原子の比率が約9%を境にして低
下していく。一方、媒体ノイズは、図9に示したよう
に、Si原子の比率が増加するにつれて低下する。
Further, the influence of the components of the magnetic layer was investigated.
C in the step of forming the magnetic layer in the above manufacturing method
Various discs were produced in the same manner as described above, except that the amount of SiO 2 chips on the oPt target was changed. At this time, the Ar pressure was 50 mTorr and the substrate temperature was room temperature. The results are shown in FIGS. As shown in FIG. 8, the coercive force (Hc) gradually increases as the ratio of Si atoms in the magnetic layer (Si / (Co + Pt + Si)) increases, but the ratio of Si atoms decreases around 9%. To go. On the other hand, as shown in FIG. 9, the medium noise decreases as the ratio of Si atoms increases.

【0031】図8および図9から明らかなように、Si
量を5原子%未満とすると、保磁力は2000Oe以上
となるが十分なSN比が得られない。一方、Si量が1
2.5原子%を超えると、保磁力、SN比ともに満足で
きる値が得られなくなる。従って、磁性層におけるSi
量(非磁性体の金属量)は、磁性層の金属量(非磁性体
の金属量と磁性粒子の金属量の合計)の5〜12.5原
子%が好ましい。
As is apparent from FIGS. 8 and 9, Si
If the amount is less than 5 atomic%, the coercive force becomes 2000 Oe or more, but a sufficient SN ratio cannot be obtained. On the other hand, when the amount of Si is 1
If it exceeds 2.5 atomic%, satisfactory values of both coercive force and SN ratio cannot be obtained. Therefore, the Si in the magnetic layer
The amount (metal content of the nonmagnetic material) is preferably 5 to 12.5 atomic% of the metal content of the magnetic layer (the total of the metal content of the nonmagnetic material and the metal content of the magnetic particles).

【0032】なお、Siは、磁性粒子の粒成長を抑制す
る作用も有しており、磁性粒子の粒径の抑制にも寄与し
ていると考えられる。
Incidentally, Si also has an effect of suppressing the grain growth of the magnetic particles, and is considered to contribute to the suppression of the particle size of the magnetic particles.

【0033】磁性層の状態を走査型電子顕微鏡(SE
M)で観察した結果を、図10〜図12に示す。図10
は、基板温度:室温、Ar圧:50mTorr、Si量:1
0原子%の条件で作製した磁性層を観察した結果であ
り、図11は、Si量を0原子%とした点を除いては図
10の磁性層と同条件で作製した磁性層を観察した結果
であり、図12は、基板温度を300℃とした点を除い
ては図10の磁性層と同条件で作製した磁性層を観察し
た結果である。
The state of the magnetic layer was measured using a scanning electron microscope (SE).
The results observed in M) are shown in FIGS. FIG.
Are: substrate temperature: room temperature, Ar pressure: 50 mTorr, Si amount: 1
FIG. 11 shows the result of observing the magnetic layer produced under the condition of 0 atomic%. FIG. 11 shows the result of observing the magnetic layer produced under the same condition as the magnetic layer of FIG. 10 except that the amount of Si was set to 0 atomic%. FIG. 12 shows the results obtained by observing the magnetic layer manufactured under the same conditions as the magnetic layer of FIG. 10 except that the substrate temperature was set to 300 ° C.

【0034】図10と図11との比較から、非磁性体で
あるSiO2を同時にスパッタすることにより、個々の
磁性体が明確に分離されることが確認できる。このよう
に、SiO2のような非磁性体は、磁性体の分離を促進
する作用を有する。一方、図12から明らかなように、
基板温度が高すぎると磁性粒同士が部分的につながり、
磁性体の粒径が増大することが確認できる。
From a comparison between FIG. 10 and FIG. 11, it can be confirmed that the individual magnetic substances are clearly separated by simultaneously sputtering the non-magnetic substance SiO 2 . Thus, a non-magnetic material such as SiO 2 has an effect of promoting the separation of the magnetic material. On the other hand, as is clear from FIG.
If the substrate temperature is too high, the magnetic particles will be partially connected,
It can be confirmed that the particle size of the magnetic material increases.

【0035】さらに、図10に示した磁性層を、透過型
電子顕微鏡(TEM)で観察した結果を図13および図
14に示す。これらのTEM写真(特に図13)から、
SEM写真により観察された個々の磁性体は、実際は磁
性粒子が凝集したクラスターであったことが確認でき
る。各クラスターは、長粒状等種々の形状を有している
が、その平均粒径は約30nmであった。また、クラス
ターは、隣接するクラスターの最短距離により表示し
て、平均3nm(ほぼ2.5〜3.5nmの範囲)の間
隔で分散していた。また、クラスターを構成する各磁性
粒子は、ほぼ8〜10nm程度の粒径を有していた(特
に図14)。
Further, the results of observing the magnetic layer shown in FIG. 10 with a transmission electron microscope (TEM) are shown in FIGS. 13 and 14. From these TEM photographs (especially FIG. 13),
It can be confirmed that each magnetic substance observed from the SEM photograph was actually a cluster in which magnetic particles were aggregated. Each cluster has various shapes such as a long particle shape, and the average particle size was about 30 nm. The clusters were dispersed at an average interval of 3 nm (approximately in the range of 2.5 to 3.5 nm), expressed by the shortest distance between adjacent clusters. Each magnetic particle constituting the cluster had a particle size of about 8 to 10 nm (particularly, FIG. 14).

【0036】このように、微細な磁性粒子がクラスター
を構成し、クラスターが適度な間隔を保持して分散して
いるために、上記磁気記録媒体においては良好な電磁変
換特性が得られたと考えられる。そこで、磁性層を形成
するときのAr圧を変化させて、磁性層の構造の変化を
調査した。その結果、Ar圧を30mTorrとしたところ
クラスター間の平均間隔は1.5nm、Ar圧を25mT
orrとしたところクラスター間の平均間隔は1nm程度
となった。一方、Ar圧を75mTorrとしたところクラ
スター間の平均間隔は5nm、Ar圧を80mTorrとし
たところクラスター間の平均間隔は6nm程度となっ
た。このように、Ar圧が増加するにつれてクラスター
間の間隔は増加した。先に示したAr圧と電磁変換特性
との関係を考慮すると、クラスター間の平均間隔は、
1.5nm〜5nmが好ましいことがわかる。
As described above, since the fine magnetic particles form clusters and the clusters are dispersed while maintaining an appropriate interval, it is considered that good electromagnetic conversion characteristics were obtained in the magnetic recording medium. . Therefore, the change in the structure of the magnetic layer was investigated by changing the Ar pressure when forming the magnetic layer. As a result, when the Ar pressure was 30 mTorr, the average interval between clusters was 1.5 nm, and the Ar pressure was 25 mT
When it was set to orr, the average interval between clusters was about 1 nm. On the other hand, when the Ar pressure was 75 mTorr, the average distance between clusters was 5 nm, and when the Ar pressure was 80 mTorr, the average distance between clusters was about 6 nm. Thus, the spacing between clusters increased as the Ar pressure increased. Considering the relationship between the Ar pressure and the electromagnetic conversion characteristics described above, the average interval between clusters is
It turns out that 1.5 nm-5 nm are preferable.

【0037】次に、図4に示したように、磁性層を2層
の磁性薄膜11と1層の非磁性薄膜12(Cr層)とを
積層した積層構造として、単層の磁性層と特性を比較し
た。なお、積層構造の磁性層においても、単層の場合と
同様、飽和磁化(Msδ)の値は約1memu/cm2とした。
その結果、媒体ノイズは単層の磁性層を用いた場合より
も低下し、SN比は1〜2dB程度向上することが確認
できた。
Next, as shown in FIG. 4, the magnetic layer has a laminated structure in which two magnetic thin films 11 and one non-magnetic thin film 12 (Cr layer) are laminated, and a single magnetic layer and a characteristic Were compared. Note that the saturation magnetization (Msδ) value of the magnetic layer having a laminated structure was about 1 memu / cm 2 , as in the case of a single layer.
As a result, it was confirmed that the medium noise was lower than when a single magnetic layer was used, and the SN ratio was improved by about 1 to 2 dB.

【0038】次に、種々の表面粗さ(Ra)を有するガ
ラス基板を用いて、上記と同様の方法により磁気ディス
クを作製した。結果を表1に示す。
Next, using a glass substrate having various surface roughnesses (Ra), magnetic disks were manufactured in the same manner as described above. Table 1 shows the results.

【0039】 (表1) ――――――――――――――――――――――――――――― 基板表面粗さ(Ra) S N 比 ヘッド吸着 ――――――――――――――――――――――――――――― 0.6nm +1.2dB × 1.0nm +0.5dB ○ 1.3nm +0.3dB ○ 1.6nm 0dB ○ 2.0nm −1.0dB ○ 2.4nm −1.6dB ○ ―――――――――――――――――――――――――――――(Table 1) ――――――――――――――――――――――――――――― Substrate surface roughness (Ra) SN ratio Head adsorption ―― ――――――――――――――――――――――――――― 0.6nm + 1.2dB × 1.0nm + 0.5dB ○ 1.3nm + 0.3dB ○ 1. 6nm 0dB ○ 2.0nm -1.0dB ○ 2.4nm -1.6dB ○ ―――――――――――――――――――――――――――――

【0040】表1に示したように、表面粗さ(Ra)が
0.6nmのディスクでは、ヘッドの吸着が生じるので
ゾーンテクスチャ等の対策を講じる必要があった。一
方、Raが1.0〜1.6nmの基板を用いた場合に
は、多少のSN比の低下はあるものの、上記磁性層を用
いれば実用上問題は生じない。しかし、Raが1.6n
mを超える基板を用いると、SN比の低下が顕著となり
高密度記録には適していない。このように、表面粗さ
(Ra)が1.0〜1.6nmのガラス基板を用いる
と、ゾーンテクスチャを施さずに高記録密度に適した記
録媒体とすることができる。
As shown in Table 1, in the case of a disk having a surface roughness (Ra) of 0.6 nm, it is necessary to take measures such as zone texture because the head is attracted. On the other hand, when a substrate having an Ra of 1.0 to 1.6 nm is used, practically no problem occurs if the magnetic layer is used, though the SN ratio is slightly reduced. However, Ra is 1.6n
When a substrate exceeding m is used, the SN ratio is remarkably reduced, and is not suitable for high-density recording. As described above, when a glass substrate having a surface roughness (Ra) of 1.0 to 1.6 nm is used, a recording medium suitable for high recording density can be obtained without performing zone texture.

【0041】[0041]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
非磁性基板および下地層の上に形成される磁性層を、粒
径5nm〜20nmの磁性粒子が凝集したクラスター
と、このクラスター間の非磁性物質とを含む層とし、さ
らにクラスター間の間隔を1.5nm〜5nmとするこ
とにより、ノイズが低減されて高いSN比を有する高密
度記録に適した磁気記録媒体を提供することができる。
この磁気記録媒体は、非磁性基板上に形成した下地層上
に、磁性層を形成する工程において、磁性層を、30mT
orr〜75mTorrの範囲の圧力を有する雰囲気において、
磁性体およびこの磁性体と固溶しない非磁性物質を同時
にスパッタリングすることにより効率的に形成すること
ができる。
As described above, according to the present invention,
The magnetic layer formed on the nonmagnetic substrate and the underlayer is a layer containing clusters in which magnetic particles having a particle size of 5 nm to 20 nm are aggregated, and a nonmagnetic substance between the clusters. By setting the thickness to 0.5 nm to 5 nm, it is possible to provide a magnetic recording medium suitable for high-density recording with reduced noise and a high SN ratio.
In this magnetic recording medium, in the step of forming a magnetic layer on an underlayer formed on a nonmagnetic substrate,
In an atmosphere having a pressure in the range of orr to 75 mTorr,
A magnetic material and a nonmagnetic material that does not form a solid solution with the magnetic material can be efficiently formed by simultaneously sputtering.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の磁気記録媒体の一形態を示す断面図
である。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing one embodiment of a magnetic recording medium of the present invention.

【図2】 図1に示した磁気記録媒体において、磁性層
の構造を模式的に示した断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing a structure of a magnetic layer in the magnetic recording medium shown in FIG.

【図3】 図1に示した磁気記録媒体において、図2に
示したよりもガス圧が低い状態で成膜した磁性層の構造
を模式的に示す断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing a structure of a magnetic layer formed on the magnetic recording medium shown in FIG. 1 at a lower gas pressure than that shown in FIG.

【図4】 磁性層が積層構造を有する本発明の磁気記録
媒体の一形態を示す断面図である。
FIG. 4 is a cross-sectional view showing one embodiment of the magnetic recording medium of the present invention in which the magnetic layer has a laminated structure.

【図5】 磁性層をスパッタリング法により形成する際
のArガス圧と媒体保磁力(Hc)および角型比との関
係を示す図である。
FIG. 5 is a diagram showing the relationship among Ar gas pressure, medium coercive force (Hc), and squareness ratio when a magnetic layer is formed by a sputtering method.

【図6】 磁性層をスパッタリング法により形成する際
のArガス圧と電磁変換特性(SN比)との関係を示す
図である。
FIG. 6 is a diagram showing a relationship between Ar gas pressure and electromagnetic conversion characteristics (SN ratio) when forming a magnetic layer by a sputtering method.

【図7】 磁性層をスパッタリング法により形成する際
の基板温度と電磁変換特性(SN比)との関係を示す図
である。
FIG. 7 is a diagram illustrating a relationship between a substrate temperature and an electromagnetic conversion characteristic (SN ratio) when a magnetic layer is formed by a sputtering method.

【図8】 磁性層中のSi量と媒体保磁力との関係を示
す図である。
FIG. 8 is a diagram showing the relationship between the amount of Si in the magnetic layer and the coercive force of the medium.

【図9】 磁性層中のSi量と電磁変換特性(ノイズお
よびSN比)との関係を示す図である。
FIG. 9 is a diagram showing a relationship between the amount of Si in a magnetic layer and electromagnetic conversion characteristics (noise and SN ratio).

【図10】 本発明の磁性層の一例を走査型電子顕微鏡
(SEM)により観察した結果を示す写真である。
FIG. 10 is a photograph showing a result of observing an example of the magnetic layer of the present invention with a scanning electron microscope (SEM).

【図11】 非磁性体をともにスパッリングしない点を
除いては図10に示した磁性層と同様に形成した磁性層
を走査型電子顕微鏡(SEM)により観察した結果を示
す写真である。
FIG. 11 is a photograph showing the result of observing a magnetic layer formed in the same manner as the magnetic layer shown in FIG. 10 by using a scanning electron microscope (SEM) except that no nonmagnetic material is spattered together.

【図12】 基板温度を高温(300℃)として形成し
た点を除いては図10に示した磁性層と同様に形成した
磁性層を走査型電子顕微鏡(SEM)により観察した結
果を示す写真である。
FIG. 12 is a photograph showing a result of observing a magnetic layer formed in the same manner as the magnetic layer shown in FIG. 10 with a scanning electron microscope (SEM) except that the substrate was formed at a high temperature (300 ° C.). is there.

【図13】 本発明の磁性層の一例を透過型電子顕微鏡
(TEM)により観察した結果を示す写真である。
FIG. 13 is a photograph showing the result of observing an example of the magnetic layer of the present invention with a transmission electron microscope (TEM).

【図14】 本発明の磁性層の一例を透過型電子顕微鏡
(TEM)により観察した結果を示す写真である。
FIG. 14 is a photograph showing the result of observing an example of the magnetic layer of the present invention with a transmission electron microscope (TEM).

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ガラス基板 2 下地層 3 磁性層 4 保護層 5 潤滑剤 6 クラスター 7 非磁性体 8 空隙 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Glass substrate 2 Underlayer 3 Magnetic layer 4 Protective layer 5 Lubricant 6 Cluster 7 Non-magnetic material 8 Void

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 宮田 敬三 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 浜田 泰三 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 ──────────────────────────────────────────────────の Continuing on the front page (72) Keizo Miyata 1006 Kazuma Kadoma, Kadoma City, Osaka Prefecture Inside Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. (72) Taizo Hamada 1006 Kadoma Kadoma Kadoma City, Osaka Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.

Claims (15)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 非磁性基板と、前記非磁性基板上に形成
された下地層と、前記下地層上に形成された磁性層とを
含み、 前記磁性層が、粒径が5nm〜20nmである磁性粒子
が凝集したクラスターと、前記クラスター間に存在する
非磁性体とを含み、前記クラスター間の平均間隔が1.
5nm〜5nmであることを特徴とする磁気記録媒体。
1. A non-magnetic substrate, comprising: a base layer formed on the non-magnetic substrate; and a magnetic layer formed on the base layer, wherein the magnetic layer has a particle size of 5 nm to 20 nm. It includes clusters in which magnetic particles are aggregated, and a non-magnetic material existing between the clusters, and the average interval between the clusters is 1.
A magnetic recording medium having a thickness of 5 nm to 5 nm.
【請求項2】 非磁性体が、酸化珪素、酸化アルミニウ
ム、酸化コバルト、酸化チタン、酸化クロム、酸化マグ
ネシウム、酸化タンタル、窒化珪素、窒化アルミニウ
ム、窒化チタンおよび窒化クロムから選ばれる少なくと
も1つの金属化合物を含む請求項1に記載の磁気記録媒
体。
2. The non-magnetic material is at least one metal compound selected from silicon oxide, aluminum oxide, cobalt oxide, titanium oxide, chromium oxide, magnesium oxide, tantalum oxide, silicon nitride, aluminum nitride, titanium nitride and chromium nitride. The magnetic recording medium according to claim 1, comprising:
【請求項3】 磁性層において、非磁性体を構成する金
属化合物に含まれる金属成分が、前記金属成分および磁
性粒子を構成する金属成分の合計量に対して、5〜1
2.5原子%である請求項1または2に記載の磁気記録
媒体。
3. The magnetic layer, wherein the metal component contained in the metal compound constituting the nonmagnetic material is 5 to 1 with respect to the total amount of the metal component and the metal component constituting the magnetic particles.
3. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the content is 2.5 atomic%.
【請求項4】 非磁性基板の表面粗さが、1nm〜1.
6nmの範囲にある請求項1〜3のいずれかに記載の磁
気記録媒体。
4. The non-magnetic substrate has a surface roughness of 1 nm to 1.
The magnetic recording medium according to any one of claims 1 to 3, which is in a range of 6 nm.
【請求項5】 下地層が、Cr層またはCr合金層であ
る請求項1〜4のいずれかに記載の磁気記録媒体。
5. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the underlayer is a Cr layer or a Cr alloy layer.
【請求項6】 磁性層の膜厚が、20nm以下である請
求項1〜5のいずれかに記載の磁気記録媒体。
6. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the thickness of the magnetic layer is 20 nm or less.
【請求項7】 磁性層が、磁性薄膜と非磁性薄膜との積
層体である請求項1〜6のいずれかに記載の磁気記録媒
体。
7. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the magnetic layer is a laminate of a magnetic thin film and a non-magnetic thin film.
【請求項8】 非磁性基板上に下地層を形成する工程
と、前記下地層上に磁性層を形成する工程とを含み、 前記磁性層を、30mtorr〜75mtorrの圧力を有する雰
囲気において、磁性体および前記磁性体と固溶しない非
磁性体を同時にスパッタリングすることにより形成する
ことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
8. A method comprising: forming a base layer on a non-magnetic substrate; and forming a magnetic layer on the base layer, forming the magnetic layer in an atmosphere having a pressure of 30 mtorr to 75 mtorr. And a method of manufacturing a magnetic recording medium, wherein the magnetic material and the non-magnetic material that does not form a solid solution are formed by simultaneous sputtering.
【請求項9】 基板温度を200℃以下として磁性層を
形成する請求項8に記載の磁気記録媒体の製造方法。
9. The method according to claim 8, wherein the magnetic layer is formed at a substrate temperature of 200 ° C. or lower.
【請求項10】 非磁性体が、酸化珪素、酸化アルミニ
ウム、酸化コバルト、酸化チタン、酸化クロム、酸化マ
グネシウム、酸化タンタル、窒化珪素、窒化アルミニウ
ム、窒化チタンおよび窒化クロムから選ばれる少なくと
も1つの金属化合物を含む請求項8または9に記載の磁
気記録媒体の製造方法。
10. The nonmagnetic substance is at least one metal compound selected from silicon oxide, aluminum oxide, cobalt oxide, titanium oxide, chromium oxide, magnesium oxide, tantalum oxide, silicon nitride, aluminum nitride, titanium nitride and chromium nitride. The method for manufacturing a magnetic recording medium according to claim 8, comprising:
【請求項11】 磁性層において、非磁性体を構成する
金属化合物に含まれる金属成分が、前記金属成分および
磁性粒子を構成する金属成分の合計量に対して、5〜1
2.5原子%となるようにスパッタリングする請求項8
〜10のいずれかに記載の磁気記録媒体の製造方法。
11. The magnetic layer, wherein the metal component contained in the metal compound constituting the nonmagnetic material is 5 to 1 with respect to the total amount of the metal component and the metal component constituting the magnetic particles.
9. The method of claim 8, wherein the sputtering is performed at 2.5 atomic%.
11. The method for manufacturing a magnetic recording medium according to any one of items 10 to 10.
【請求項12】 非磁性基板の表面粗さが、1nm〜
1.6nmの範囲にある請求項8〜11のいずれかに記
載の磁気記録媒体の製造方法。
12. The nonmagnetic substrate has a surface roughness of 1 nm to
The method for manufacturing a magnetic recording medium according to any one of claims 8 to 11, wherein the magnetic recording medium has a range of 1.6 nm.
【請求項13】 下地層を、Cr層またはCr合金層と
する請求項8〜12のいずれかに記載の磁気記録媒体の
製造方法。
13. The method according to claim 8, wherein the underlayer is a Cr layer or a Cr alloy layer.
【請求項14】 磁性層の膜厚を、20nm以下とする
請求項8〜13のいずれかに記載の磁気記録媒体の製造
方法。
14. The method according to claim 8, wherein the thickness of the magnetic layer is 20 nm or less.
【請求項15】 磁性層を、磁性薄膜と非磁性薄膜との
積層体とする請求項8〜14のいずれかに記載の磁気記
録媒体の製造方法。
15. The method according to claim 8, wherein the magnetic layer is a laminate of a magnetic thin film and a non-magnetic thin film.
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