JPH11152433A - Composition for electrodeposition and electrodeposition using the same - Google Patents

Composition for electrodeposition and electrodeposition using the same

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JPH11152433A
JPH11152433A JP33649397A JP33649397A JPH11152433A JP H11152433 A JPH11152433 A JP H11152433A JP 33649397 A JP33649397 A JP 33649397A JP 33649397 A JP33649397 A JP 33649397A JP H11152433 A JPH11152433 A JP H11152433A
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JP
Japan
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electrodeposition
resin
composition
water
soluble
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JP33649397A
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Japanese (ja)
Inventor
Nobuo Ikeda
伸生 池田
Ryuichi Ueno
龍一 上野
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Eneos Corp
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Nippon Petrochemicals Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a new heat-resistant composition for electrodeposition giving an electrodeposition film excellent smoothness, storage stability and film thickness uniformity compared to conventional ones, and to provide a method of eletrodeposition using the composition. SOLUTION: This composition for electrodeposition of 0.5-20 wt.% in solid concentration comprises an aromatic polyimide resin bearing pendant-type acid groups, as a reaction product from an aromatic tetracarboxylic acid dianhydride and an aromatic diamine, 0.5-60 wt.% of an oil-soluble solvent soluble for the resin, 2.5-80 wt.% of a water-soluble solvent soluble for the resin, 0.5-80 wt.% of water, and a basic nitrogen-contg. compound for neutralizing the acid groups in the resin.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、耐熱性、耐薬品
性、電気特性等に優れた新規な電着用組成物およびその
電着方法に関するものであり、具体的には各種電気電子
機器の導電体の電気絶縁層を形成するために有用な電着
用組成物およびそれを用いる電着方法に関するものであ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a novel electrodeposition composition excellent in heat resistance, chemical resistance, electrical properties and the like, and an electrodeposition method thereof. TECHNICAL FIELD The present invention relates to an electrodeposition composition useful for forming an electrical insulating layer of a body and an electrodeposition method using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、電着用組成物として知られている
ものは、アクリル系ポリマーを水あるいは水と有機溶剤
との混合物に溶解あるいは分散させたものが大半を占
め、主として自動車、家電製品、建材等の表面塗装に使
用されており、電気絶縁材料としては限られた分野にお
いて使用されるのみであった。電着用組成物の長所は、
膜厚の調整を電圧や電流の制御により容易に行うことが
でき、しかも凹凸のある部分や穿孔部なども均一な膜厚
でコーティングし得る点にある。しかしながら、従来の
アクリル系電着用組成物をより広汎な電気材料や電子材
料の分野に応用する場合には、耐熱性の面で問題があっ
た。
2. Description of the Related Art Conventionally, most of compositions known as an electrodeposition composition are obtained by dissolving or dispersing an acrylic polymer in water or a mixture of water and an organic solvent. It has been used for surface coating of building materials and the like, and has been used only in limited fields as an electrical insulating material. The advantages of electrodeposition compositions are
The adjustment of the film thickness can be easily performed by controlling the voltage or the current, and the uneven portion or the perforated portion can be coated with a uniform film thickness. However, when the conventional acrylic electrodeposition composition is applied to a wider field of electric and electronic materials, there is a problem in terms of heat resistance.

【0003】一方、従来の電着用組成物の耐熱性の向上
を図るものとして、特開昭49−52252号公報、特
開昭52−32943号公報、特開昭63−11119
9号公報、特開平9―124978号公報等に、ポリア
ミド酸の有機極性溶媒溶液に貧溶媒と水を添加した電着
用水分散液が記載されているが、ポリアミド酸の電着用
水分散液はアミド酸が加水分解しやすいために、安定性
に乏しいなどの問題があった。またポリアミド酸は最終
的にイミド閉環を行う必要があり、イミド化の際に脱水
反応を伴うために、膜厚を大きく電着した場合、塗面で
発泡する点に問題がある。また特開平9−104839
号公報に記載されているポリアミド酸を用いない耐熱ポ
リイミド電着用組成物は、ポリイミドに対する貧溶媒を
用いることもあり、アミド酸を用いるものと比較した場
合、安定性は改善されているが、加水分解による酸価の
増加が見られ、その結果電着条件が変化するなどの問題
があり、また塗膜の膜厚が不均一であるという欠点があ
る。
On the other hand, JP-A-49-52252, JP-A-52-32943, and JP-A-63-11119 attempt to improve the heat resistance of conventional electrodeposition compositions.
No. 9, JP-A-9-124978, etc., describe an electrodeposition aqueous dispersion obtained by adding a poor solvent and water to an organic polar solvent solution of polyamic acid. Since amic acid is easily hydrolyzed, there are problems such as poor stability. In addition, polyamic acid must finally undergo imide ring closure, which involves a dehydration reaction during imidization, and thus has a problem in that when it is electrodeposited with a large film thickness, it foams on the coated surface. Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-104839
The heat-resistant polyimide electrodeposition composition not using a polyamic acid described in JP-A No. H10-209, may use a poor solvent for polyimide, and has improved stability when compared with the one using amic acid, An increase in the acid value due to decomposition is observed, resulting in problems such as a change in electrodeposition conditions, and a disadvantage that the film thickness of the coating film is not uniform.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の問題
点を解決し、従来の耐熱性電着用組成物よりも平滑性、
貯蔵安定性、膜厚の均一性等に優れた新規な耐熱性電着
用組成物およびその電着方法を提供することを目的とす
る。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention solves the above-mentioned problems and provides a smoother, more heat-resistant electrodeposition composition.
An object of the present invention is to provide a novel heat-resistant electrodeposition composition excellent in storage stability, film thickness uniformity and the like, and an electrodeposition method thereof.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】すなわち、本発明の第1
は、芳香族テトラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミン
との反応生成物であってペンダント型の酸基を有する芳
香族ポリイミド樹脂、上記樹脂が可溶な油溶性溶剤0.
5〜60重量%、上記樹脂が可溶な水溶性溶剤2.5〜
80重量%、水0.5〜80重量%および上記樹脂の酸
基を中和するための塩基性含窒素化合物からなる固形分
濃度0.5〜20重量%の電着用組成物に関するもので
ある。本発明の第2は、本発明の第1において、油溶性
溶剤が、1−アセトナフトン、アセトフェノン、ベンジ
ルアセトン、メチルアセトフェノン、ジメチルアセトフ
ェノン、プロピオフェノン、バレロフェノン、アニソー
ル、安息香酸メチル、安息香酸ベンジル、またはこれら
の混合物である電着用組成物に関する。本発明の第3
は、本発明の第1または第2において、水溶性溶剤が、
N−メチルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド、N,N−ジメチルアセトア
ミド、スルホラン、またはこれらの混合物である電着用
組成物に関する。本発明の第4は、本発明の第1から第
3のいずれかにおいて、電着用組成物を液温15℃以下
で電着に用いまたは保存することを特徴とする電着方法
に関するものである。
That is, the first aspect of the present invention is as follows.
Is an aromatic polyimide resin which is a reaction product of an aromatic tetracarboxylic dianhydride and an aromatic diamine and has a pendant acid group, and an oil-soluble solvent in which the resin is soluble.
5 to 60% by weight, water-soluble solvent in which the above resin is soluble
The present invention relates to an electrodeposition composition having a solid content of 0.5 to 20% by weight, comprising 80% by weight, 0.5 to 80% by weight of water and a basic nitrogen-containing compound for neutralizing acid groups of the resin. . A second aspect of the present invention is the first aspect of the present invention, wherein the oil-soluble solvent is 1-acetonaphthone, acetophenone, benzylacetone, methylacetophenone, dimethylacetophenone, propiophenone, valerophenone, anisole, methyl benzoate, benzyl benzoate, Or an electrodeposition composition which is a mixture thereof. Third of the present invention
In the first or second aspect of the present invention, the water-soluble solvent is
The present invention relates to an electrodeposition composition which is N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide, dimethylsulfoxide, N, N-dimethylacetamide, sulfolane, or a mixture thereof. A fourth aspect of the present invention relates to the electrodeposition method according to any one of the first to third aspects, wherein the electrodeposition composition is used or stored for electrodeposition at a liquid temperature of 15 ° C. or lower. .

【0006】本発明の電着用組成物は、芳香族テトラカ
ルボン酸二無水物と芳香族ジアミンとの反応生成物であ
ってペンダント型に酸基を有する芳香族ポリイミド樹脂
をベース樹脂とし、これにその樹脂が可溶な油溶性溶剤
と、同じくその樹脂が可溶な水溶性溶剤とを併用したこ
とを特徴とするものであり、貯蔵安定性に優れていると
共に、電着において平滑性および膜厚の均一性に優れた
塗膜を形成することができる。なお、「電着用組成物」
とは、電着に用いる混合液を意味し、以下「電着液」と
いうことがある。以下に本発明をさらに説明する。
The electrodeposition composition of the present invention comprises, as a base resin, an aromatic polyimide resin which is a reaction product of an aromatic tetracarboxylic dianhydride and an aromatic diamine and has a pendant acid group. It is characterized by the combined use of an oil-soluble solvent in which the resin is soluble and a water-soluble solvent in which the resin is also soluble, and has excellent storage stability, as well as smoothness and film in electrodeposition. A coating film with excellent thickness uniformity can be formed. In addition, "electrodeposition composition"
Means a mixed solution used for electrodeposition, and may hereinafter be referred to as "electrodeposition solution". Hereinafter, the present invention will be further described.

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】本発明においては、芳香族テトラ
カルボン酸二無水物と芳香族ジアミンとから得られる分
子量5,000〜100,000の縮合物であって、ペン
ダント型に酸基を有する溶剤可溶型の芳香族ポリイミド
樹脂を電着液のベース樹脂とする。ポリイミド骨格に
は、下記式のアミド酸構造単位と閉環したイミド構造単
位とが混在していてもよいが、アミド酸構造はイミド構
造と比較すると加水分解が起こりやすく、電着用組成物
の経時変化を招くので、アミド酸構造単位が少ないもの
を使用することが好ましい。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION In the present invention, a condensate having a molecular weight of 5,000 to 100,000 obtained from an aromatic tetracarboxylic dianhydride and an aromatic diamine and having a pendant acid group A solvent-soluble aromatic polyimide resin is used as a base resin for the electrodeposition liquid. The polyimide skeleton may contain an amide acid structural unit of the following formula and a ring-closed imide structural unit, but the amide acid structure is liable to undergo hydrolysis as compared with the imide structure, and changes with time of the electrodeposition composition. Therefore, it is preferable to use one having a small number of amic acid structural units.

【0008】[0008]

【化1】 Embedded image

【0009】なお上記の「ペンダント型の酸基を有する
芳香族ポリイミド樹脂」とは、芳香族性モノマーの重合
体であって、主鎖構造はイミド結合により構成されてお
り、酸基は樹脂の末端ではなく主鎖に懸吊された状態
(ペンダント型)で主鎖の任意の位置に置換されている
ポリイミド樹脂をいう。例えば下記式に構造を示すよう
に、モノマーとしてジアミノ安息香酸などの酸基を有す
る芳香族ジアミンおよび芳香族テトラカルボン酸を使用
して製造され、イミド結合を有する繰返し単位の側鎖に
酸基が置換された構造を有するポリイミド樹脂が挙げら
れる。イミド樹脂の酸基の種類としてはカルボン酸が好
ましい。
The above-mentioned "aromatic polyimide resin having a pendant acid group" is a polymer of an aromatic monomer, the main chain structure of which is constituted by imide bonds, and the acid group is a resin of the resin. A polyimide resin that is substituted at an arbitrary position in the main chain in a state of being suspended from the main chain instead of the terminal (pendant type). For example, as shown in the following formula, it is manufactured using an aromatic diamine and an aromatic tetracarboxylic acid having an acid group such as diaminobenzoic acid as a monomer, and an acid group is present on a side chain of a repeating unit having an imide bond. Examples include a polyimide resin having a substituted structure. Carboxylic acid is preferable as the kind of the acid group of the imide resin.

【0010】[0010]

【化2】 (ただし、−X−は単結合または−O−などの2価の基
である。)
Embedded image (However, -X- is a single bond or a divalent group such as -O-.)

【0011】本発明で使用するポリイミド樹脂の製法と
しては、芳香族テトラカルボン酸二無水物と芳香族ジア
ミンとをほぼ等量用い、有機極性溶媒中において加熱
し、重縮合を行う。必要であれば触媒を添加し、140
〜200℃に加熱して生成する水を共沸で除く方法が用
いられる。
As a method for producing the polyimide resin used in the present invention, an aromatic tetracarboxylic dianhydride and an aromatic diamine are used in substantially equal amounts, and heated in an organic polar solvent to carry out polycondensation. Add catalyst if necessary and add 140
A method is used in which water generated by heating to 200 ° C. is removed azeotropically.

【0012】使用する芳香族テトラカルボン酸二無水物
に特に制限はないが、通常ピロメリット酸二無水物、
3,4,3',4'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無
水物、3,4,3',4'−ビフェニルテトラカルボン酸二
無水物、ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水
物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エーテル無水
物などが用いられる。
The aromatic tetracarboxylic dianhydride used is not particularly limited, but is usually pyromellitic dianhydride,
3,4,3 ', 4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 3,4,3', 4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, diphenylsulfonetetracarboxylic dianhydride, bis (3,4 -Dicarboxyphenyl) ether anhydride and the like are used.

【0013】芳香族ジアミンは、上記のように樹脂の主
鎖に対してペンダント型に酸基を導入するために用いら
れ、芳香族ジアミノカルボン酸等の酸基を有する芳香族
ジアミンを、合成したポリイミド樹脂100gの酸価が
30〜200mmolの範囲になるような量で使用すること
ができる。このような酸基を有する芳香族ジアミンとし
ては、3,5−ジアミノ安息香酸、2,4−ジアミノフェ
ニル酢酸、2,5−ジアミノテレフタル酸、3,5−ジア
ミノパラトルイル酸、1,4−ジアミノ−2−ナフタリ
ンカルボン酸、3,5−ジアミノ−2−ナフタリンカル
ボン酸等が挙げられるが、好ましくは3,5−ジアミノ
安息香酸が用いられる。
The aromatic diamine is used to introduce an acid group into the main chain of the resin in a pendant manner as described above, and an aromatic diamine having an acid group such as aromatic diaminocarboxylic acid was synthesized. It can be used in an amount such that the acid value of 100 g of the polyimide resin is in the range of 30 to 200 mmol. Examples of the aromatic diamine having such an acid group include 3,5-diaminobenzoic acid, 2,4-diaminophenylacetic acid, 2,5-diaminoterephthalic acid, 3,5-diaminoparatoluic acid, and 1,4-diamine. Examples thereof include diamino-2-naphthalene carboxylic acid and 3,5-diamino-2-naphthalene carboxylic acid, and 3,5-diaminobenzoic acid is preferably used.

【0014】また、本発明におけるポリイミド樹脂の耐
熱性、機械強度、剛性および接着性を高めるために、他
のジアミンを併用することができる。他のジアミンにつ
いて特に制限はないが、一般的にはp,m,o−フェニレ
ンジアミン、2,4−ジアミノトルエン、2,5−ジアミ
ノトルエン、ジアミノキシレン、ジアミノジュレン、
1,5−ジアミノナフタレン、2,6−ジアミノナフタレ
ン、ベンジジン、4,4'−ジアミノテルフェニル、4,
4'−ジアミノジフェニルメタン、4,4'−ジアミノジ
フェニルエーテル、ジアミノジフェニルスルホン、2,
2−ビス(p−アミノフェニル)プロパン、1,2−ビス
アニリノエタン、3,3'−ジメチルベンジジン、3,3'
−ジメチル−4,4'−ジアミノジフェニルエーテル、
3,3'−ジメチル−4,4'−ジアミノジフェニルメタ
ン、4,4'−ビス(p−アミノフェノキシ)ビフェニル、
2,2−ビス[4−(p−アミノフェノキシ)フェニル]プ
ロパン、4,4'−ビス(3−アミノフェノキシフェニル)
ジフェニルスルホンなどの芳香族ジアミン類が挙げられ
る。
In order to improve the heat resistance, mechanical strength, rigidity and adhesiveness of the polyimide resin of the present invention, other diamines can be used in combination. The other diamine is not particularly limited, but is generally p, m, o-phenylenediamine, 2,4-diaminotoluene, 2,5-diaminotoluene, diaminoxylene, diaminodurene,
1,5-diaminonaphthalene, 2,6-diaminonaphthalene, benzidine, 4,4′-diaminoterphenyl,
4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylether, diaminodiphenylsulfone,
2-bis (p-aminophenyl) propane, 1,2-bisanilinoethane, 3,3′-dimethylbenzidine, 3,3 ′
-Dimethyl-4,4'-diaminodiphenyl ether,
3,3′-dimethyl-4,4′-diaminodiphenylmethane, 4,4′-bis (p-aminophenoxy) biphenyl,
2,2-bis [4- (p-aminophenoxy) phenyl] propane, 4,4'-bis (3-aminophenoxyphenyl)
And aromatic diamines such as diphenyl sulfone.

【0015】これらの芳香族テトラカルボン酸二無水物
と芳香族ジアミンとをほぼ等量用いて、有機極性溶媒中
で加熱脱水し、溶剤可溶型のポリイミド樹脂とすること
ができる。有機極性溶媒としては、後に述べるポリイミ
ド樹脂を溶解する水溶性溶剤が好ましい。このような水
溶性溶剤を使用することにより、反応生成物である芳香
族ポリイミド樹脂は、溶剤に溶解したポリイミド溶液と
して得られる。
A solvent-soluble polyimide resin can be obtained by heating and dehydrating an aromatic tetracarboxylic dianhydride and an aromatic diamine in an organic polar solvent by using substantially equal amounts thereof. As the organic polar solvent, a water-soluble solvent that dissolves a polyimide resin described later is preferable. By using such a water-soluble solvent, an aromatic polyimide resin as a reaction product is obtained as a polyimide solution dissolved in the solvent.

【0016】電着用組成物に対するペンダント型に酸基
を有する芳香族ポリイミド樹脂の配合濃度は、固形分換
算で0.5〜20重量%の範囲が好ましい。水は0.5〜
80重量%の範囲が適当である。
The concentration of the pendant aromatic polyimide resin having an acid group in the electrodeposition composition is preferably in the range of 0.5 to 20% by weight in terms of solid content. Water is 0.5-
A range of 80% by weight is suitable.

【0017】本発明で用いる溶剤可溶型のポリイミド樹
脂を溶解する水溶性溶媒として、具体的には、N−メチ
ルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキシド、N,N−ジメチルアセトアミド、スル
ホラン、またはこれらの混合物などが挙げられる。これ
らの水溶性溶媒は、電着用組成物に対して2.5〜80
重量%の割合で配合する。これよりも少ないと、樹脂分
の析出等が起こり、またこれより多い場合には次に述べ
る油溶性溶剤の添加効果が低下することがあるので、い
ずれも好ましくない。さらに、この範囲を上下いずれに
超える場合も、水分散またはエマルジョンの安定性が低
下したり、塗膜の平滑性が損なわれるなどの問題が生ず
る。
As the water-soluble solvent for dissolving the solvent-soluble polyimide resin used in the present invention, specifically, N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide, dimethylsulfoxide, N, N-dimethylacetamide, sulfolane Or a mixture thereof. These water-soluble solvents are used in an amount of from 2.5 to 80 based on the composition for electrodeposition.
It is blended in a ratio of weight%. If the amount is less than this, precipitation of the resin component occurs, and if it is more than this, the effect of adding the oil-soluble solvent described below may be reduced, and neither is preferable. Further, when the above range is exceeded, the stability of the aqueous dispersion or emulsion is lowered, and the smoothness of the coating film is impaired.

【0018】本発明においては、上記の水溶性溶媒のほ
かに、樹脂が可溶な油溶性溶剤を必須成分とする。油溶
性溶剤は、電着後の被塗物に析出したポリイミド樹脂の
フロー性を高め、塗膜の平滑性を向上させる点で効果が
ある。またその結果として、電着液の貯蔵安定性を高め
ることができる。ここで油溶性溶剤とは、実質的に水に
不溶性かまたは難溶性の有機溶剤を意味する。上記の樹
脂を溶解する油溶性溶剤としては、1−アセトナフト
ン、アセトフェノン、ベンジルアセトン、メチルアセト
フェノン、ジメチルアセトフェノン、プロピオフェノ
ン、バレロフェノン、アニソール、安息香酸メチル、安
息香酸ベンジル、またはこれらの混合物が挙げられる。
油溶性溶剤は電着用組成物に対して0.5〜60重量%
の割合で配合する。これより少ないと油溶性溶剤の添加
効果が小さく、また反対に多い場合には樹脂分の析出等
が起こりいずれも好ましくない。またこの範囲を上下い
ずれに超える場合も、水分散またはエマルジョンの安定
性が低下したり、塗膜の平滑性が損なわれるなどの問題
が生ずる。
In the present invention, an oil-soluble solvent in which a resin is soluble is an essential component in addition to the above-mentioned water-soluble solvent. The oil-soluble solvent is effective in improving the flowability of the polyimide resin deposited on the object to be coated after the electrodeposition and improving the smoothness of the coating film. As a result, the storage stability of the electrodeposition liquid can be improved. Here, the oil-soluble solvent means an organic solvent that is substantially insoluble or hardly soluble in water. Examples of the oil-soluble solvent that dissolves the above resin include 1-acetonaphthone, acetophenone, benzylacetone, methylacetophenone, dimethylacetophenone, propiophenone, valerophenone, anisole, methyl benzoate, benzyl benzoate, and mixtures thereof. .
The oil-soluble solvent is 0.5 to 60% by weight based on the composition for electrodeposition.
In a proportion of If the amount is less than this, the effect of adding the oil-soluble solvent is small. Also, when the above range is exceeded, the stability of the aqueous dispersion or emulsion is lowered, and the smoothness of the coating film is impaired.

【0019】本発明においては、樹脂中にペンダント型
に存在する酸基を中和して塩に変え、ポリイミド樹脂に
部分的な水溶性または水分散性を保持させるために、塩
基性含窒素化合物を配合することが必要である。具体的
には、トリエチルアミン、トリメチルアミン、トリプロ
ピルアミン、トリブチルアミン、ピリジン、N−エチル
ピペリジン、N−メチルモルホリン、トリエタノールア
ミン等の塩基性含窒素化合物が挙げられる。塩基性含窒
素化合物の使用量は、用いるポリイミド樹脂が水−溶剤
系中に安定して分散または溶解するために必要な量によ
って決まる。従って、ポリイミド樹脂の酸基等の量に応
じて適宜に任意の量を加えることができるが、通常は理
論中和量の30モル%以上であればよい。具体的には、
通常、樹脂100重量部あたり1〜100重量部の塩基
性含窒素化合物を用いることにより、本発明に用いるポ
リイミド樹脂を水−溶剤中に安定して分散または溶解さ
せることが可能である。
In the present invention, a basic nitrogen-containing compound is used to neutralize an acid group present in a pendant form in the resin to convert it into a salt and to maintain the polyimide resin partially water-soluble or water-dispersible. Is necessary. Specific examples include basic nitrogen-containing compounds such as triethylamine, trimethylamine, tripropylamine, tributylamine, pyridine, N-ethylpiperidine, N-methylmorpholine, and triethanolamine. The amount of the basic nitrogen-containing compound used depends on the amount necessary for the polyimide resin to be used to stably disperse or dissolve in the water-solvent system. Accordingly, an arbitrary amount can be appropriately added according to the amount of the acid group or the like of the polyimide resin, but usually, it is sufficient that the amount is 30 mol% or more of the theoretical neutralization amount. In particular,
Usually, by using 1 to 100 parts by weight of the basic nitrogen-containing compound per 100 parts by weight of the resin, the polyimide resin used in the present invention can be stably dispersed or dissolved in water-solvent.

【0020】電着用組成物からなる電着液の調製は以下
のようにして行うことができる。例えば、前記の合成法
によりポリイミド樹脂の水溶性溶剤による溶液が得られ
るので、この溶液に樹脂を溶解する油溶性溶剤を加え、
必要によりさらに水溶性溶剤を加えると共に、塩基性含
窒素化合物を添加した後、水を滴下して混合する。この
ようにして、樹脂が可溶な油溶性溶剤0.5〜60重量
%、樹脂が可溶な水溶性溶剤2.5〜80重量%、水0.
5〜80重量%、樹脂の酸基と中和塩を形成する塩基性
含窒素化合物からなる固形分濃度が0.5〜20重量
%、好ましくは5〜 10%の組成物が得られ、その形
態は、分散液、溶液またはエマルジョンのいずれかであ
る。なお添加順序は特に限定されず、上記以外の添加順
序によっても電着液を調製することが可能である。
The preparation of the electrodeposition solution comprising the electrodeposition composition can be carried out as follows. For example, a solution of a polyimide resin in a water-soluble solvent is obtained by the above synthesis method, and an oil-soluble solvent that dissolves the resin is added to this solution.
If necessary, a water-soluble solvent is further added, and a basic nitrogen-containing compound is added. Then, water is added dropwise and mixed. Thus, the resin-soluble oil-soluble solvent is 0.5 to 60% by weight, the resin-soluble water-soluble solvent is 2.5 to 80% by weight, and the water is 0.5%.
A composition having a solid content of 0.5 to 20% by weight, preferably 5 to 10%, comprising a basic nitrogen-containing compound which forms a neutralized salt with an acid group of the resin is obtained. The form is either a dispersion, a solution or an emulsion. The order of addition is not particularly limited, and the electrodeposition solution can be prepared by an addition order other than the above.

【0021】また、上記のほかに、本発明の目的を損な
わない範囲で他の成分を加えることが可能である。この
ような成分としては、着色、隠蔽効果などを目的とする
顔料、充填材などが挙げられる。
In addition to the above, other components can be added within a range that does not impair the object of the present invention. Examples of such components include pigments and fillers for the purpose of coloring, hiding, and the like.

【0022】本発明の組成物による電着塗装において
は、従来知られている方法をそのまま用いることができ
る。ただし、本発明を用いるときは、電着時または電着
液保存時の液温を低くすることができる。すなわち、樹
脂が可溶な油溶性溶剤を配合していない従来の電着用組
成物を用いる場合には、15℃以下の低温で電着を行う
と、得られた塗膜の平滑性が十分でなかったり、十分な
膜厚が得られなかった。しかしながら、本発明の電着用
組成物は、15℃以下の低温であっても電着に使用する
ことができ、かつ同様の低温において貯蔵することも可
能である。これは、本発明の電着用組成物において、ポ
リイミド樹脂の加水分解安定性が飛躍的に向上している
ためであると推測される。
In the electrodeposition coating using the composition of the present invention, a conventionally known method can be used as it is. However, when the present invention is used, the liquid temperature during electrodeposition or storage of the electrodeposition liquid can be lowered. That is, when a conventional electrodeposition composition containing no oil-soluble solvent in which the resin is soluble is used, when the electrodeposition is performed at a low temperature of 15 ° C. or less, the resulting coating film has sufficient smoothness. Or no sufficient film thickness was obtained. However, the electrodeposition composition of the present invention can be used for electrodeposition even at a low temperature of 15 ° C. or lower, and can be stored at the same low temperature. This is presumed to be because the hydrolytic stability of the polyimide resin in the electrodeposition composition of the present invention has been dramatically improved.

【0023】具体的な電着塗装の方法としては、導電性
被塗物を陽極として本発明のポリイミド電着液に浸漬
し、電圧20〜400V、通電時間30秒〜10分の通
電条件で導電性被塗物の表面に電着膜を形成する。次い
で、水洗、風乾の後、140〜350℃の範囲において
使用する溶剤に適した温度で30分〜1時間加熱して焼
き付けを行う。
As a specific electrodeposition coating method, a conductive object to be coated is immersed in the polyimide electrodeposition solution of the present invention as an anode, and a voltage of 20 to 400 V is applied for 30 seconds to 10 minutes. An electrodeposited film is formed on the surface of the conductive coating object. Next, after washing with water and air drying, baking is performed by heating at a temperature suitable for the solvent used in the range of 140 to 350 ° C. for 30 minutes to 1 hour.

【0024】本発明の電着用組成物を適用し得る導電性
被塗物は、金属に特に制限はなく導電性のものであれば
よい。例えば、銅、アルミニウム、鉄、ステンレス鋼、
ニッケル、あるいは合金などの金属材料が用いられる。
特に本発明において有用な被塗物は銅箔または銅板であ
って、これによりフレキシブルプリント基板用の銅−ポ
リイミド基板が得られる。従来のように銅箔とポリイミ
ドフィルムとの間に接着剤を挟んで加熱圧着する方法と
異なり、より安価で組成の多様なポリイミド基板を得る
ことができる。
The conductive object to which the composition for electrodeposition of the present invention can be applied is not particularly limited to metal, and may be any conductive material. For example, copper, aluminum, iron, stainless steel,
A metal material such as nickel or an alloy is used.
Particularly, the object to be coated which is useful in the present invention is a copper foil or a copper plate, whereby a copper-polyimide substrate for a flexible printed board is obtained. Unlike a conventional method in which an adhesive is sandwiched between a copper foil and a polyimide film and then heat-pressed, a polyimide substrate of various compositions at lower cost can be obtained.

【0025】[0025]

【実施例】以下に実施例を示し本発明をさらに詳しく説
明する。例中の「%」は重量を基準とするものである。 <実施例1> (ポリイミドの製造)特開平9−104839号公報記
載の実施例1の製造法に従ってブロックポリイミドを合
成し、20%のポリイミドワニスを得た。製造法は以下
の通りである。ガラス製のセパラブル三つ口フラスコを
使用し、これに攪拌機、窒素導入管および冷却管の下部
にストップコックを備えた水分受容器を取り付けた。窒
素を流通させ、さらに攪拌しながら反応器をシリコーン
油浴中に漬けて加熱し反応を行った。反応温度はシリコ
ーン油浴の温度で表した。まず、フラスコに3,4,3',
4'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物64.4
4g(0.2モル)、ビス−[4−(3−アミノフェノキ
シ)フェニル]スルホン42.72g(0.1モル)、バレ
ロラクトン3g(0.03モル)、ピリジン4.8g
(0.06モル)、NMP(N−メチルピロリドン)4
00gおよびトルエン90gを入れ、室温で30分間攪
拌し、次いで昇温し、180℃において1時間、200
rpm で攪拌しながら反応を行った。反応後、トルエン−
水留出分 30mlを除いた。残留物を空冷して、3,
4,3',4'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物
32.22g(0.1モル)、3,5−ジアミノ安息香酸
15.22g(0.1モル)、2,6−ジアミノピリジン
11.01g(0.1モル)、NMP222gおよびトル
エン45gを添加し、室温で1時間攪拌(200rpm)
し、次いで昇温して180℃で1時間、加熱攪拌した。
トルエン−水留出分15mlを除き、以後は留出分を系
外に除きながら、180℃で3時間、加熱および攪拌を
行って反応を終了した。これにより20%ポリイミドワ
ニスを得た。
The present invention will be described in more detail with reference to the following examples. "%" In the examples is based on weight. <Example 1> (Production of polyimide) A block polyimide was synthesized according to the production method of Example 1 described in JP-A-9-104439 to obtain a polyimide varnish of 20%. The production method is as follows. A glass separable three-necked flask was used, which was equipped with a stirrer, a nitrogen inlet tube, and a water receiver equipped with a stopcock below the cooling tube. The reactor was immersed in a silicone oil bath and heated with stirring while flowing nitrogen to carry out the reaction. The reaction temperature was represented by the temperature of the silicone oil bath. First, add 3,4,3 ',
4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride 64.4
4 g (0.2 mol), bis- [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfone 42.72 g (0.1 mol), valerolactone 3 g (0.03 mol), pyridine 4.8 g
(0.06 mol), NMP (N-methylpyrrolidone) 4
Then, the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes, and then heated to 180 ° C for 1 hour at 200 ° C.
The reaction was performed while stirring at rpm. After the reaction, toluene
30 ml of water distillate was removed. Air-cool the residue,
32.22 g (0.1 mol) of 4,3 ′, 4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride 15.22 g (0.1 mol) of 3,5-diaminobenzoic acid, 2,6-diaminopyridine 11. 01 g (0.1 mol), 222 g of NMP and 45 g of toluene were added and stirred at room temperature for 1 hour (200 rpm).
Then, the mixture was heated and stirred at 180 ° C. for 1 hour.
The reaction was completed by heating and stirring at 180 ° C. for 3 hours while removing the toluene-water distillate (15 ml) and thereafter removing the distillate from the system. Thus, a 20% polyimide varnish was obtained.

【0026】得られたポリイミドの基本的な骨格構造
は、前記構造式で表されるものである。ポリイミドの酸
価は、電位差滴定(0.05N エタノール性KOH溶液
使用)により測定したところ、90mmol/100g-固形分で
あった。この酸価のうち、63mmol/100g-固形分に相当
する酸は、樹脂モノマーとして用いた3,5−ジアミノ
安息香酸のカルボキシル基に由来し、このカルボキシル
基はペンダント型の酸基である。残りの酸価は残存する
アミド酸構造や樹脂末端の酸に由来するものである。
The basic skeleton structure of the obtained polyimide is represented by the above structural formula. The acid value of the polyimide was determined by potentiometric titration (using a 0.05N ethanolic KOH solution) to be 90 mmol / 100 g-solids. Of the acid value, the acid corresponding to 63 mmol / 100 g-solids is derived from the carboxyl group of 3,5-diaminobenzoic acid used as the resin monomer, and the carboxyl group is a pendant acid group. The remaining acid value is derived from the remaining amic acid structure and the acid at the terminal of the resin.

【0027】(電着塗料溶液の調整)上記で得られた2
0%ポリイミドワニスにN−メチルピロリドンを加え、
15%ポリイミドワニスとしたもの1,000gに、ア
セトフェノン450gおよびトリエチルアミン6.5g
を加え、撹拌しながら水375gを滴下して水性電着液
を調製し、固形分濃度8.9%、pH7.7の電着エマル
ジョン組成物を得た。以下の実施例においても、これと
ほぼ同じ組成のものを用いた。
(Preparation of Electrodeposition Coating Solution)
Add N-methylpyrrolidone to 0% polyimide varnish,
To 1,000 g of a 15% polyimide varnish, 450 g of acetophenone and 6.5 g of triethylamine were added.
Was added, and 375 g of water was added dropwise with stirring to prepare an aqueous electrodeposition solution, whereby an electrodeposition emulsion composition having a solid content of 8.9% and a pH of 7.7 was obtained. In the following examples, those having almost the same composition were used.

【0028】(電着実験)電着液を液温5℃に保ち、1
50×50×1.5mmの圧延銅板を陽極として50V
の電圧を印加し、60秒間荷電後、蒸留水で基板を洗浄
した。乾燥後、220℃で1時間加熱して絶縁銅板を得
た。発泡もなく外観は良好であり、光沢を有する塗膜が
得られた。塗膜は両面とも厚さが5.0±0.5μm、表
面粗さは±0.1μmであった。また、液温5℃で保存
した電着液は、1ヶ月後も物性にほとんど変化がなく、
同様の条件で電着を行うとほぼ同じ膜厚の電着膜が得ら
れた。なお、液温25℃で保存した電着液は、1ヶ月後
に酸価が増加していた。それを用いて上記の電着条件で
電着を行ったところ、低温電着であるにもかかわらず塗
膜の粗いものしか得られなかった。
(Electrodeposition experiment) The temperature of the electrodeposition solution was kept at 5 ° C.
50V with 50 × 50 × 1.5mm rolled copper plate as anode
After charging for 60 seconds, the substrate was washed with distilled water. After drying, it was heated at 220 ° C. for 1 hour to obtain an insulated copper plate. The appearance was good without foaming, and a glossy coating film was obtained. The coating film had a thickness of 5.0 ± 0.5 μm on both sides and a surface roughness of ± 0.1 μm. The electrodeposited solution stored at a liquid temperature of 5 ° C. has almost no change in physical properties even after one month.
When electrodeposition was performed under the same conditions, an electrodeposited film having substantially the same thickness was obtained. In addition, the acid value of the electrodeposition solution stored at a solution temperature of 25 ° C. increased after one month. Electrodeposition was carried out under the above conditions for electrodeposition. As a result, only a rough coating film was obtained despite low-temperature electrodeposition.

【0029】<実施例2> (電着塗料溶液の調製)実施例1で得た20%ポリイミ
ドワニスにN−メチルピロリドンを加え、15%ポリイ
ミドワニスとしたもの1,000gに、1−アセトナフ
トン450gおよびトリエチルアミン6.5gを加え、
撹拌しながら水375gを滴下して、固形分濃度8.9
%、pH7.9の電着エマルジョン組成物を得た。 (電着実験)電着液を液温5℃に保ち、150×50×
1.5mmの圧延銅板を陽極として200Vの電圧を印
加し、120秒間荷電後、蒸留水で基板を洗浄した。乾
燥後、220℃で1時間加熱して絶縁銅板を得た。発泡
もなく外観は良好であり、光沢を有する塗膜が得られ
た。塗膜の厚さは11±0.5μm、表面粗さは±0.1
μmであった。また、液温5℃で保存した電着液は、
1ヶ月後も電着液の物性にほとんど変化がなく、同様の
条件で電着を行うとほぼ同じ膜厚の電着膜が得られた。
なお、液温25℃で保存した電着液は、1ヶ月後に酸価
が増加していた。それを用いて上記の電着条件で電着を
行ったところ、低温電着であるにもかかわらず塗膜の粗
いものしか得られなかった。
<Example 2> (Preparation of electrodeposition coating solution) N-methylpyrrolidone was added to the 20% polyimide varnish obtained in Example 1 to prepare a 15% polyimide varnish. And 6.5 g of triethylamine,
While stirring, 375 g of water was added dropwise, and the solid content concentration was 8.9.
%, PH 7.9 was obtained. (Electrodeposition experiment) The electrodeposition liquid was kept at a liquid temperature of 5 ° C.
Using a 1.5 mm rolled copper plate as an anode, a voltage of 200 V was applied, and after charging for 120 seconds, the substrate was washed with distilled water. After drying, it was heated at 220 ° C. for 1 hour to obtain an insulated copper plate. The appearance was good without foaming, and a glossy coating film was obtained. The thickness of the coating film is 11 ± 0.5 μm and the surface roughness is ± 0.1
μm. The electrodeposition solution stored at a temperature of 5 ° C.
Even after one month, there was almost no change in the physical properties of the electrodeposition solution, and an electrodeposition film having substantially the same thickness was obtained by performing electrodeposition under the same conditions.
In addition, the acid value of the electrodeposition solution stored at a solution temperature of 25 ° C. increased after one month. Electrodeposition was carried out under the above conditions for electrodeposition. As a result, only a rough coating film was obtained despite low-temperature electrodeposition.

【0030】<比較例1> (電着塗料溶液の調製)実施例1で得た20%ポリイミ
ドワニスに N−メチルピロリドンを加え、15%ポリ
イミドワニスとしたもの1,000gに、トリエチルア
ミン6.5gを加え、撹拌しながら水825gを滴下し
て、固形分濃度8.9%、pH7.7の電着エマルジョン
組成物を得た。 (電着実験)電着液の液温を5℃に保ち、150×50
×1.5mmの圧延銅板を陽極として50Vの電圧を印
加し、60秒間荷電後、蒸留水で基板を洗浄した。乾燥
後、220℃で30分間加熱を行ったが、外観は塗面が
荒れており、樹脂で覆われていない部分が見られた。
<Comparative Example 1> (Preparation of Electrodeposition Coating Solution) N-methylpyrrolidone was added to the 20% polyimide varnish obtained in Example 1 to prepare a 15% polyimide varnish. Was added, and 825 g of water was added dropwise with stirring to obtain an electrodeposition emulsion composition having a solid content of 8.9% and a pH of 7.7. (Electrodeposition experiment) The temperature of the electrodeposition solution was kept at 5 ° C, and 150 x 50
A voltage of 50 V was applied using a rolled 1.5 mm copper plate as an anode, and after charging for 60 seconds, the substrate was washed with distilled water. After drying, heating was performed at 220 ° C. for 30 minutes, but the appearance was rough and the coating was not covered with resin.

【0031】[0031]

【発明の効果】本発明によれば、耐熱性、耐薬品性、お
よび電気特性に優れ、従来品よりも平滑で膜厚が均一な
塗膜を形成する新規な電着用組成物を提供することがで
きる。また低温における電着および貯蔵が可能であり、
使用上の許用温度範囲が広い。従って本発明の電着用組
成物は、電気電子材料の分野における絶縁材料として極
めて有用である。
According to the present invention, there is provided a novel electrodeposition composition which is excellent in heat resistance, chemical resistance, and electrical properties and forms a coating film having a smoother and more uniform film thickness than conventional products. Can be. Electrodeposition and storage at low temperatures are possible,
Wide temperature range for use. Therefore, the electrodeposition composition of the present invention is extremely useful as an insulating material in the field of electric and electronic materials.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 芳香族テトラカルボン酸二無水物と芳香
族ジアミンとの反応生成物であってペンダント型の酸基
を有する芳香族ポリイミド樹脂、該樹脂が可溶な油溶性
溶剤0.5〜60重量%、該樹脂が可溶な水溶性溶剤2.
5〜80重量%、水0.5〜80重量%および該樹脂の
酸基を中和するための塩基性含窒素化合物からなる固形
分濃度0.5〜20重量%の電着用組成物。
1. An aromatic polyimide resin having a pendant acid group, which is a reaction product of an aromatic tetracarboxylic dianhydride and an aromatic diamine, and an oil-soluble solvent in which the resin is soluble in a range of from 0.5 to 0.5. 60% by weight, a water-soluble solvent in which the resin is soluble 2.
An electrodeposition composition having a solid content of 0.5 to 20% by weight, comprising 5 to 80% by weight, 0.5 to 80% by weight of water and a basic nitrogen-containing compound for neutralizing acid groups of the resin.
【請求項2】 前記油溶性溶剤が、1−アセトナフト
ン、アセトフェノン、ベンジルアセトン、メチルアセト
フェノン、ジメチルアセトフェノン、プロピオフェノ
ン、バレロフェノン、アニソール、安息香酸メチル、安
息香酸ベンジル、またはこれらの混合物である請求項1
に記載の電着用組成物。
2. The oil-soluble solvent is 1-acetonaphthone, acetophenone, benzylacetone, methylacetophenone, dimethylacetophenone, propiophenone, valerophenone, anisole, methyl benzoate, benzyl benzoate, or a mixture thereof. 1
The composition for electrodeposition according to item 1.
【請求項3】 前記水溶性溶剤が、N−メチルピロリド
ン、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
シド、N,N−ジメチルアセトアミド、スルホラン、ま
たはこれらの混合物である請求項1または2に記載の電
着用組成物。
3. The electrode according to claim 1, wherein the water-soluble solvent is N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide, dimethylsulfoxide, N, N-dimethylacetamide, sulfolane, or a mixture thereof. Wear composition.
【請求項4】 請求項1から3のいずれかに記載の電着
用組成物を液温15℃以下で電着に用いまたは保存する
ことを特徴とする電着方法。
4. An electrodeposition method comprising using or storing the electrodeposition composition according to claim 1 at a liquid temperature of 15 ° C. or lower.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2002242779A (en) * 2000-12-04 2002-08-28 Futaba Industrial Co Ltd Manufacturing method for fuel inlet
JP2004197073A (en) * 2002-12-02 2004-07-15 Sankyo Seiki Mfg Co Ltd Electrodeposition material, motor and lens driving device
WO2024120097A1 (en) * 2022-12-07 2024-06-13 合肥汉之和新材料科技有限公司 Polyimide electrophoretic coating, preparation method therefor, and application thereof

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002242779A (en) * 2000-12-04 2002-08-28 Futaba Industrial Co Ltd Manufacturing method for fuel inlet
JP2004197073A (en) * 2002-12-02 2004-07-15 Sankyo Seiki Mfg Co Ltd Electrodeposition material, motor and lens driving device
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