JPH11150344A - Hybrid ic module and manufacture thereof - Google Patents

Hybrid ic module and manufacture thereof

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JPH11150344A
JPH11150344A JP31733697A JP31733697A JPH11150344A JP H11150344 A JPH11150344 A JP H11150344A JP 31733697 A JP31733697 A JP 31733697A JP 31733697 A JP31733697 A JP 31733697A JP H11150344 A JPH11150344 A JP H11150344A
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JP
Japan
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thermal expansion
substrate
hybrid
synthetic resin
module
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JP31733697A
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Japanese (ja)
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Shigehiro Morishita
滋宏 森下
Hideki Asano
秀樹 浅野
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Hitachi Cable Ltd
Original Assignee
Hitachi Cable Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a hybrid IC module of a structure, wherein the dielectric constant of a fiber for forming woven fabrics or unwoven fabrics, which are a substrate constituent material, is low and the thermal expansion coefficient of the fiber is equal with that of a good conductivity film formation metal or is lower than that of the formation metal, and a method of manufacturing the module. SOLUTION: Woven fabrics or unwoven fabrics 12, which are formed of a low-thermal expansion polytetrafluoroethylene film 11, are impregnated with a synthetic resin 13 and at the same time, the resin 13 is made to solidify to form a substrate 2 and thereafter, with an electric circuit 3 formed on the surface of the substrate 2, various electronic components are mounted on the surface of the circuit 3.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ハイブリッドIC
モジュール及びその製造方法に係り、特に、電気信号の
高速伝送用、高速演算処理用ハイブリッドICモジュー
ル及びその製造方法に関するものである。
The present invention relates to a hybrid IC.
The present invention relates to a module and a method for manufacturing the same, and more particularly to a hybrid IC module for high-speed transmission of electric signals and high-speed arithmetic processing, and a method for manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の回路基板として、ガラス繊維で形
成した織布または不織布、アラミド樹脂繊維で形成した
織布または不織布などに合成樹脂を含浸させると共に、
その合成樹脂を固化させて基板を形成し、その基板の表
面に電気回路を形成したものが用いられている。
2. Description of the Related Art As a conventional circuit board, a synthetic resin is impregnated into a woven or non-woven fabric formed of glass fiber, a woven or non-woven fabric formed of aramid resin fiber, and the like.
One in which a substrate is formed by solidifying the synthetic resin and an electric circuit is formed on the surface of the substrate is used.

【0003】基板上に電気回路を形成する方法として
は、以下に挙げる方法がある。
As a method of forming an electric circuit on a substrate, there are the following methods.

【0004】 基板の片面に良導電性被膜を形成し、
その良導電性被膜の表面に感光性の高分子被膜を形成し
た後、電気回路パターンに相当する部分のみが光を透過
するように形成したマスクで高分子被膜をマスキング
し、そのマスクに対して光を照射すると共に、光が照射
された部分の高分子被膜を架橋硬化させ、その後、光が
照射されなかった部分の高分子被膜を薬液を用いて除去
すると共に、更に、高分子被膜が除去されて良導電性被
膜が露出した部分をエッチング除去して基板表面に電気
回路を形成する方法。
A good conductive film is formed on one side of a substrate,
After forming a photosensitive polymer film on the surface of the good conductive film, the polymer film is masked with a mask formed so that only a portion corresponding to an electric circuit pattern transmits light. At the same time as irradiating light, the polymer film in the light-irradiated portion is cross-linked and cured, and thereafter, the polymer film in the portion not irradiated with light is removed using a chemical solution, and further, the polymer film is further removed. A method of forming an electric circuit on a substrate surface by etching away the exposed portion of the good conductive film.

【0005】 基板の片面に良導電性被膜を形成し、
その良導電性被膜の表面に感光性の高分子被膜を形成し
た後、電気回路パターンに相当する部分のみが光を透過
しないように形成したマスクで高分子被膜をマスキング
し、そのマスクに対して光を照射すると共に、光が照射
された部分における高分子被膜の高分子鎖を切断崩壊さ
せ、その後、光が照射された部分の高分子被膜を薬液を
用いて除去すると共に、更に、高分子被膜が除去されて
良導電性被膜が露出した部分をエッチング除去して基板
表面に電気回路を形成する方法。
[0005] A good conductive film is formed on one side of the substrate,
After forming a photosensitive polymer film on the surface of the good conductive film, the polymer film is masked with a mask formed so that only the portion corresponding to the electric circuit pattern does not transmit light, and the mask is applied to the mask. While irradiating the light, the polymer chain of the polymer coating in the light-irradiated portion is cut and broken, and thereafter, the polymer coating in the light-irradiated portion is removed using a chemical solution, and further, the polymer is removed. A method of forming an electric circuit on a substrate surface by etching away a portion where a good conductive film is exposed by removing the film.

【0006】 基板の両面に良導電性被膜を形成し、
その基板に貫通孔を形成すると共に、その貫通孔内面に
も良導電性被膜を形成した後、またはの方法を用い
て基板両面に電気回路を形成すると共に、貫通孔内面の
良導電性被膜で基板両面の電気回路を電気的に接続する
方法。
A good conductive film is formed on both sides of the substrate,
After forming a through hole in the substrate and forming a good conductive film on the inner surface of the through hole, or forming an electric circuit on both surfaces of the substrate using the above method, and forming a good conductive film on the inner surface of the through hole. A method of electrically connecting electric circuits on both sides of a board.

【0007】ここで、合成樹脂単独からなる基板ではな
く、ガラス繊維で形成した織布または不織布、アラミド
樹脂繊維で形成した織布または不織布などに合成樹脂を
含浸させると共に、その合成樹脂を固化させてなる基板
を用いるのは、以下に述べる理由からである。
Here, a synthetic resin is impregnated into a woven or nonwoven fabric made of glass fiber, a woven or nonwoven fabric made of aramid resin fiber, and the like, instead of a substrate made of synthetic resin alone, and the synthetic resin is solidified. The reason why the following substrate is used is as follows.

【0008】(a) 合成樹脂の熱膨張率が5.0〜
8.0×10-5-1、電気回路の良導電性被膜を形成す
る金属の熱膨張率が1.5〜2.0×10-5-1であ
り、合成樹脂単独からなる基板では両者の熱膨張率の差
が大きくなるため、基板に加えられる熱履歴に基づく膨
張・収縮により、電気回路を形成する良導電性被膜が損
傷するからである。
(A) The thermal expansion coefficient of the synthetic resin is 5.0 to 5.0.
8.0 × 10 −5 K −1 , a substrate forming a good conductive film of an electric circuit having a coefficient of thermal expansion of 1.5 to 2.0 × 10 −5 K −1 , and a substrate made of a synthetic resin alone In this case, the difference in the thermal expansion coefficient between the two becomes large, so that the good conductive film forming the electric circuit is damaged by expansion and contraction based on the thermal history applied to the substrate.

【0009】(b) 合成樹脂単独からなる基板では剛
性が低過ぎるため、外力が加わった時に基板の変形が生
じ易く、場合によっては電気回路に損傷が生じるおそれ
があるからである。
(B) A substrate made of a synthetic resin alone has too low rigidity, so that the substrate is likely to be deformed when an external force is applied, and in some cases, an electric circuit may be damaged.

【0010】近年、ICのような集積回路等をメイン基
板に取り付ける場合、直接メイン基板に取り付けるので
はなく、先ず、ICのような集積回路等をモジュールに
取り付けてハイブリッド化し、その後、ハイブリッドI
Cモジュールをメイン基板に取り付ける方法が採用され
ている。このハイブリッドICモジュールは、システム
を小型化・高性能化すべく、高密度実装および高機能化
を図ったものである。
In recent years, when an integrated circuit or the like such as an IC is mounted on a main substrate, the integrated circuit or the like such as an IC is first mounted on a module and hybridized instead of directly on the main substrate.
A method of attaching a C module to a main board is adopted. This hybrid IC module is designed for high-density mounting and high functionality in order to reduce the size and performance of the system.

【0011】近年における電子演算技術および情報処理
技術の進展により、電気信号の高速伝送性能および高速
演算処理性能の更なる向上が要求されるようになってお
り、電気回路の配線高密度化と共に、基板の低誘電率化
が図られている。
With the recent development of electronic arithmetic technology and information processing technology, it has been required to further improve the high-speed transmission performance of electric signals and the high-speed arithmetic processing performance. The dielectric constant of the substrate has been reduced.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、基板を
構成する織布または不織布の誘電率は、ガラス繊維を用
いた場合で4.5〜5.8、アラミド樹脂繊維を用いた
場合で3.5であり、低誘電率の合成樹脂を用いても、
織布または不織布と合成樹脂との複合基板の誘電率には
限界があるため、電子演算技術および情報処理技術を発
展させる上での障害となっていた。
However, the permittivity of the woven or non-woven fabric constituting the substrate is 4.5 to 5.8 when glass fiber is used, and 3.5 when aramid resin fiber is used. Even when using a synthetic resin having a low dielectric constant,
The dielectric constant of a composite substrate of a woven or non-woven fabric and a synthetic resin has a limit, which has been an obstacle to the development of electronic computing technology and information processing technology.

【0013】また、熱膨張率が比較的小さいガラス繊維
(2.7〜5.6×10-5-1)からなる織布または不
織布と合成樹脂とを複合させた基板においても、電気回
路の良導電性被膜を形成する金属の熱膨張率(1.5〜
2.0×10-5-1)に近付けるには限界があった。
[0013] Further, even in a substrate in which a woven or nonwoven fabric made of glass fiber (2.7 to 5.6 × 10 -5 K -1 ) having a relatively small coefficient of thermal expansion and a synthetic resin are combined, an electric circuit is also required. Coefficient of thermal expansion of metal forming a good conductive film of
2.0 × 10 −5 K −1 ).

【0014】そこで本発明は、上記課題を解決し、基板
構成材である織布または不織布を形成するための繊維の
誘電率が低く、かつ、その繊維の熱膨張率が良導電性被
膜の形成金属と同等又はそれ以下であるハイブリッドI
Cモジュール及びその製造方法を提供することにある。
Therefore, the present invention solves the above-mentioned problems, and has a low dielectric constant of a fiber for forming a woven or nonwoven fabric which is a constituent material of a substrate, and has a good thermal expansion coefficient of the fiber to form a conductive film. Hybrid I equal to or less than metal
An object of the present invention is to provide a C module and a method of manufacturing the same.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に請求項1の発明は、低熱膨張性ポリテトラフルオロエ
チレン繊維で形成した織布または不織布に合成樹脂を含
浸させると共に、その合成樹脂を固化させて基板を形成
した後、その基板の表面に電気回路を形成すると共に、
その電気回路の表面に各種電子部品を搭載するものであ
る。
Means for Solving the Problems In order to solve the above-mentioned problems, the invention according to claim 1 impregnates a synthetic resin into a woven or non-woven fabric formed of low thermal expansion polytetrafluoroethylene fibers, and uses the synthetic resin for the impregnation. After solidification to form a substrate, an electric circuit is formed on the surface of the substrate,
Various electronic components are mounted on the surface of the electric circuit.

【0016】請求項2の発明は、基板の表面に電気回路
を形成し、その電気回路の表面に各種電子部品を搭載し
てなり、かつ、メイン基板の表面に取り付けられるハイ
ブリッドICモジュールにおいて、上記基板が、低熱膨
張性ポリテトラフルオロエチレン繊維からなる織布また
は不織布と合成樹脂とを複合させてなるものである。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a hybrid IC module comprising an electric circuit formed on a surface of a substrate, various electronic components mounted on the surface of the electric circuit, and being mounted on a surface of the main substrate. The substrate is a composite of a woven or non-woven fabric made of low thermal expansion polytetrafluoroethylene fiber and a synthetic resin.

【0017】請求項3の発明は、上記低熱膨張性ポリテ
トラフルオロエチレン繊維の長さ方向の熱膨張率が、上
記電気回路を形成する金属の熱膨張率よりも小さい請求
項2記載のハイブリッドICモジュールである。
According to a third aspect of the present invention, there is provided the hybrid IC according to the second aspect, wherein a coefficient of thermal expansion in a length direction of the low thermal expansion polytetrafluoroethylene fiber is smaller than a coefficient of thermal expansion of a metal forming the electric circuit. Module.

【0018】請求項4の発明は、上記低熱膨張性ポリテ
トラフルオロエチレン繊維の長さ方向の熱膨張率が20
〜250℃の温度範囲で0以下であり、かつ、上記低熱
膨張性ポリテトラフルオロエチレン繊維の引張破断強度
が0.5GPa以上である請求項2又は請求項3記載の
ハイブリッドICモジュールである。
According to a fourth aspect of the present invention, the low thermal expansion polytetrafluoroethylene fiber has a coefficient of thermal expansion of 20 in the longitudinal direction.
4. The hybrid IC module according to claim 2, wherein the temperature is from 0 to 250 ° C. and the tensile breaking strength of the low thermal expansion polytetrafluoroethylene fiber is 0.5 GPa or more. 5.

【0019】請求項5の発明は、上記合成樹脂がフッ素
系合成樹脂である請求項2記載のハイブリッドICモジ
ュールである。
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided the hybrid IC module according to the second aspect, wherein the synthetic resin is a fluorine-based synthetic resin.

【0020】以上の構成によれば、低熱膨張性ポリテト
ラフルオロエチレン繊維で形成した織布または不織布に
合成樹脂を含浸させると共に、その合成樹脂を固化させ
て基板を形成した後、その基板の表面に電気回路を形成
すると共に、その電気回路の表面に各種電子部品を搭載
するため、基板構成材である織布または不織布を形成す
るための繊維の誘電率が低く、かつ、その繊維の熱膨張
率が良導電性被膜の形成金属と同等又はそれ以下である
ハイブリッドICモジュールを得ることができる。
According to the above construction, a synthetic resin is impregnated into a woven or non-woven fabric formed of low thermal expansion polytetrafluoroethylene fibers, and the synthetic resin is solidified to form a substrate. In addition to forming an electric circuit on the surface of the electric circuit and mounting various electronic components on the surface of the electric circuit, the fiber for forming a woven or non-woven fabric which is a component of the substrate has a low dielectric constant and a thermal expansion of the fiber. A hybrid IC module having a rate equal to or less than that of the metal forming the good conductive film can be obtained.

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を説明
する。
Embodiments of the present invention will be described below.

【0022】本発明者らは、鋭意研究した結果、基板構
成材である織布または不織布を形成するための繊維材と
して、誘電率が2.1と低く、かつ、繊維長さ方向にお
ける熱膨張率が、電気回路を形成する金属の熱膨張率よ
りも小さい低熱膨張性ポリテトラフルオロエチレン(以
下、低熱膨張性PTFEと呼ぶ)を用いるということを
見出した。
As a result of extensive studies, the present inventors have found that as a fibrous material for forming a woven or non-woven fabric constituting a substrate, the dielectric constant is as low as 2.1 and the thermal expansion in the fiber length direction. It has been found that low-thermal-expansion polytetrafluoroethylene (hereinafter referred to as low-thermal-expansion PTFE) having a lower coefficient of thermal expansion than the metal forming the electric circuit is used.

【0023】本発明のハイブリッドICモジュールの斜
視図を図1に、本発明のハイブリッドICモジュールに
おける基板断面の拡大図を図2に示す。ここで、図2
(b)は図2(a)の要部拡大図である。
FIG. 1 is a perspective view of a hybrid IC module of the present invention, and FIG. 2 is an enlarged view of a cross section of a substrate in the hybrid IC module of the present invention. Here, FIG.
FIG. 2B is an enlarged view of a main part of FIG.

【0024】図1および図2に示すように、本発明のハ
イブリッドICモジュール1は、低熱膨張性PTFE繊
維11からなる織布(または不織布)12の積層体と合
成樹脂13とを複合させてなる基板(以下、ハイブリッ
ド集積回路基板と呼ぶ)2の表面に、良導電性被膜(電
気回路を形成する金属の被膜)15からなる電気回路3
を形成し、その電気回路3の表面に各種電子部品(IC
チップ5、電解コンデンサ6、コネクタ7など)を搭載
してなるものであり、ハイブリッドICモジュール1に
形成されたリード部4を介してメイン基板(図示せず)
の表面に取り付けられるものである。
As shown in FIGS. 1 and 2, the hybrid IC module 1 of the present invention is obtained by combining a laminate of a woven fabric (or nonwoven fabric) 12 made of PTFE fibers 11 with low thermal expansion and a synthetic resin 13. An electric circuit 3 composed of a highly conductive film (metal film forming an electric circuit) 15 on the surface of a substrate (hereinafter referred to as a hybrid integrated circuit substrate) 2
Is formed, and various electronic components (ICs) are formed on the surface of the electric circuit 3.
Chip 5, electrolytic capacitor 6, connector 7, etc.), and a main substrate (not shown) via lead portion 4 formed in hybrid IC module 1.
That can be attached to the surface of

【0025】次に、本発明の製造方法を説明する。Next, the manufacturing method of the present invention will be described.

【0026】先ず、PTFE(ポリテトラフルオロエチ
レン)系合成樹脂にペースト押出加工を施してPTFE
ポリマのモノフィラメントを形成する。
First, a PTFE (polytetrafluoroethylene) -based synthetic resin is subjected to paste extrusion to form a PTFE.
Form a polymer monofilament.

【0027】このモノフィラメントを融点以上の温度で
熱処理した後、そのモノフィラメントに延伸加工を施し
て、分子鎖が長手方向に配向し、かつ、長さ方向の熱膨
張率が電気回路を形成する金属の熱膨張率よりも小さい
低熱膨張性PTFE繊維11を形成する。
After the monofilament is heat-treated at a temperature equal to or higher than the melting point, the monofilament is subjected to a stretching process so that the molecular chains are oriented in the longitudinal direction and the coefficient of thermal expansion in the longitudinal direction is a metal that forms an electric circuit. The low thermal expansion PTFE fiber 11 having a smaller coefficient of thermal expansion is formed.

【0028】この低熱膨張性PTFE繊維11を用いて
織布(または不織布)12を形成する。その後、この織
布(または不織布)12の積層体に合成樹脂13を含浸
させると共に、この合成樹脂13を固化させてハイブリ
ッド集積回路基板2を形成する。
A woven (or non-woven) fabric 12 is formed using the low thermal expansion PTFE fiber 11. Thereafter, the laminate of the woven fabric (or non-woven fabric) 12 is impregnated with the synthetic resin 13 and the synthetic resin 13 is solidified to form the hybrid integrated circuit board 2.

【0029】このハイブリッド集積回路基板2の表面
に、上述した〜の方法を用いて電気回路3を形成す
ると共に、その電気回路3の表面に各種電子部品を搭載
してハイブリッドICモジュール1を作製する。
An electric circuit 3 is formed on the surface of the hybrid integrated circuit board 2 by using the above-mentioned methods (1) to (6), and various electronic components are mounted on the surface of the electric circuit 3 to produce the hybrid IC module 1. .

【0030】低熱膨張性PTFE繊維11の長さ方向の
熱膨張率は、良導電性被膜15の形成金属の熱膨張率よ
りも小さい1.5×10-6-1以下、好ましくは0以下
であり、また、低熱膨張性PTFE繊維11の引張破断
強度は、ハイブリッド集積回路基板の剛性の観点から
0.5GPa以上である。
The coefficient of thermal expansion in the longitudinal direction of the low thermal expansion PTFE fiber 11 is 1.5 × 10 −6 K −1 or less, preferably 0 or less, which is smaller than the coefficient of thermal expansion of the metal forming the good conductive film 15. The low thermal expansion PTFE fiber 11 has a tensile strength at break of 0.5 GPa or more from the viewpoint of the rigidity of the hybrid integrated circuit board.

【0031】低熱膨張性PTFE繊維11の繊維径は特
に限定するものではないが、100μm以下が好まし
い。
The fiber diameter of the low thermal expansion PTFE fiber 11 is not particularly limited, but is preferably 100 μm or less.

【0032】織布12(または不織布)に含浸させる合
成樹脂13としては、特に限定するものではないが、誘
電率の低いフッ素系合成樹脂が好ましく、例えば、PT
FE、四フッ化エチレン〜六フッ化プロピレン共重合
体、フッ化アクリル樹脂、フッ化エポキシ樹脂などが挙
げられ、特に、基板構成材である織布または不織布への
含浸性が良好なフッ化エポキシ樹脂が好ましい。
The synthetic resin 13 impregnated into the woven fabric 12 (or non-woven fabric) is not particularly limited, but a fluorine-based synthetic resin having a low dielectric constant is preferable.
FE, fluorinated ethylene-hexafluoropropylene copolymer, fluorinated acrylic resin, fluorinated epoxy resin, etc., and in particular, fluorinated epoxy having a good impregnation property to a woven or nonwoven fabric as a substrate constituent material Resins are preferred.

【0033】ここで、低熱膨張性PTFE繊維11の熱
膨張率が0以下ということは、高温になると熱収縮を起
こすということであるが、この低熱膨張性PTFE繊維
11からなる織布12(または不織布)には、合成樹脂
13を含浸・固化させている。
Here, the fact that the coefficient of thermal expansion of the low-thermal-expansion PTFE fiber 11 is 0 or less means that thermal contraction occurs at a high temperature. However, the woven fabric 12 (or The synthetic resin 13 is impregnated and solidified in the nonwoven fabric).

【0034】このため、合成樹脂13が低熱膨張性PT
FE繊維11の収縮の抵抗となり、高温においてもハイ
ブリッド集積回路基板2が収縮することがない。また、
ハイブリッド集積回路基板2とハイブリッド集積回路基
板2の表面に形成される電気回路3とが剥離するおそれ
もない。さらに、低熱膨張性PTFE繊維11の引張破
断強度が0.5GPa以上であるため、低熱膨張性PT
FE繊維11が、合成樹脂13による収縮抵抗(引張
力)を受けても破断するおそれがない。
For this reason, the synthetic resin 13 has a low thermal expansion PT
The resistance of shrinkage of the FE fiber 11 occurs, and the hybrid integrated circuit board 2 does not shrink even at a high temperature. Also,
There is no possibility that the hybrid integrated circuit board 2 and the electric circuit 3 formed on the surface of the hybrid integrated circuit board 2 are separated. Furthermore, since the tensile break strength of the low thermal expansion PTFE fiber 11 is 0.5 GPa or more, the low thermal expansion
Even if the FE fiber 11 receives shrinkage resistance (tensile force) due to the synthetic resin 13, there is no possibility of breaking.

【0035】すなわち、本発明のハイブリッドICモジ
ュールによれば、基板構成材である織布または不織布の
形成繊維として、低熱膨張性PTFE繊維を用いている
ため、低誘電率で、かつ、その熱膨張率が良導電性被膜
の形成金属と同等又はそれ以下のハイブリッド集積回路
基板を得ることができる。
That is, according to the hybrid IC module of the present invention, since the low thermal expansion PTFE fiber is used as the forming fiber of the woven or nonwoven fabric constituting the substrate, it has a low dielectric constant and its thermal expansion. A hybrid integrated circuit substrate having a rate equal to or less than that of the metal forming the good conductive film can be obtained.

【0036】尚、低熱膨張性PTFE繊維11は、ガラ
ス繊維などに比べて高価であるため、製造コストの観点
から、ハイブリッドICモジュール1のハイブリッド集
積回路基板2のみに適用することが好ましいが、電気信
号の高速伝送性能および高速演算処理性能の向上を優先
させる場合は、ハイブリッドICモジュール1を取り付
けるためのメイン基板に対しても適用しても良いことは
言うまでもない。
Since the low-thermal-expansion PTFE fiber 11 is more expensive than glass fiber or the like, it is preferably applied only to the hybrid integrated circuit board 2 of the hybrid IC module 1 from the viewpoint of manufacturing cost. When priority is given to improving the high-speed signal transmission performance and the high-speed arithmetic processing performance, it goes without saying that the present invention may be applied to a main board on which the hybrid IC module 1 is mounted.

【0037】[0037]

【実施例】ハイブリッド集積回路基板の構成材である織
布または不織布を形成するための低熱膨張性PTFE繊
維の製造実施例について述べる。
EXAMPLE An example of manufacturing a low thermal expansion PTFE fiber for forming a woven or nonwoven fabric as a constituent material of a hybrid integrated circuit board will be described.

【0038】低熱膨張性PTFE繊維の原料となるPT
FEポリマのファインパウダは固有の粘着性を有してい
るため、輸送および保管中における振動および自重によ
る力を受けることによって、粉末塊を形成しやすい。フ
ァインパウダ中に粉末塊が存在すると、ファインパウダ
の取り扱い性が悪化すると共に、押出助剤による均一な
含浸を困難にする。
PT as a raw material of low thermal expansion PTFE fiber
The fine powder of the FE polymer has an inherent tackiness, so that it is likely to form a powder mass by receiving the force of vibration and its own weight during transportation and storage. If powder lumps are present in the fine powder, the handleability of the fine powder deteriorates, and uniform impregnation with an extrusion aid becomes difficult.

【0039】この粉末塊を機械的にほぐそうとして何ら
かの力を加えると、この時の剪断力によってファインパ
ウダが容易に繊維化して押出成形に悪影響を及ぼすた
め、PTFEポリマのファインパウダに対して押出助剤
を配合する前に、ファインパウダの粒をできるだけ細か
くすると共に、その粘着性をできるだけ小さくすること
が極めて重要となってくる。
When any force is applied to mechanically loosen the powder mass, the fine powder is easily fiberized by the shearing force at this time and adversely affects extrusion molding. It is very important to make the fine powder grains as small as possible and to reduce the tackiness of the fine powder as much as possible before adding the auxiliary agent.

【0040】このため、PTFEポリマのファインパウ
ダを、4または8メッシュのふるいにかける必要があ
る。このPTFEポリマのファインパウダのふるい秤量
は、PTFEの室温転移転(約19℃)以下に調節され
た部屋で行うことが望ましい。
For this reason, it is necessary to pass fine powder of PTFE polymer through a 4 or 8 mesh sieve. The weighing of the fine powder of the PTFE polymer is desirably performed in a room adjusted to a room temperature transition temperature of PTFE (about 19 ° C.) or less.

【0041】このふるい秤量後のPTFEポリマのファ
インパウダと押出助剤との配合材を、十分な容量の密栓
付き乾燥広口ビン内に投入する。この時、次工程におけ
る配合材の混合性を良好にすべく、配合材のビン内への
投入量は、ビン容積の1/3〜2/3程度とする。
The blended material of the PTFE polymer fine powder and the extrusion aid after the weighing of the sieve is put into a dry-mouthed wide-mouth bottle with a sufficient capacity. At this time, in order to improve the mixing property of the compounding material in the next step, the amount of the compounding material to be charged into the bottle is set to about 1 / to / of the bottle volume.

【0042】配合材の投入終了後、すぐにビン口に気密
シールを貼り付けて押出助剤の揮散を防止すると共に、
ビンを軽く振とうさせて押出助剤を分散させる。その
後、ビンを回転架台に載せると共に、ビンを適当な速度
で回転させて、PTFEポリマのファインパウダと押出
助剤との混合・分散を行う。
Immediately after the introduction of the compounding material, an airtight seal is attached to the bottle mouth to prevent the volatilization of the extrusion aid,
Shake the bottle lightly to disperse the extrusion aid. Thereafter, the bottle is placed on a rotating base and the bottle is rotated at an appropriate speed to mix and disperse the PTFE polymer fine powder and the extrusion aid.

【0043】その後、押出助剤がファインパウダの二次
粒子に十分浸透して、ファインパウダの一次粒子の表面
が押出助剤によって濡れるようになるまで室温で静置す
る。その後、この混合材を、適当なメッシュサイズのふ
るいにかけて、混合によって生じた塊を除去する。
Thereafter, the extrusion aid is allowed to sufficiently penetrate into the secondary particles of the fine powder, and is left at room temperature until the surface of the primary particles of the fine powder becomes wet with the extrusion aid. Thereafter, the mixed material is sieved with an appropriate mesh size to remove lumps generated by mixing.

【0044】この混合材をプリフォーム装置のシリンダ
ー内に投入すると共に、圧縮を行ってビレットを形成す
る。この時、1〜10kgf/cm2 (約9.8×10
4 〜9.8×105 Pa)の圧縮力で、数分間の保持が
必要である。
The mixture is charged into a cylinder of a preform apparatus, and is compressed to form a billet. At this time, 1 to 10 kgf / cm 2 (about 9.8 × 10
With a compression force of 4 to 9.8 × 10 5 Pa), holding for several minutes is required.

【0045】ビレット形成後、このビレットにペースト
押出加工を施してモノフィラメントを形成する。この
時、押出助剤によって湿潤処理が施されたPTFEポリ
マのファインパウダを圧縮形成してなるビレットを用い
ているため、ビレットのペースト押出が容易であり、容
易にモノフィラメントを形成することができる。PTF
Eポリマのファインパウダのペースト押出の温度条件は
40〜60℃の範囲が好ましい。
After forming the billet, the billet is subjected to paste extrusion to form a monofilament. At this time, since a billet formed by compressing fine powder of PTFE polymer wetted with an extrusion aid is used, paste extruding of the billet is easy, and a monofilament can be easily formed. PTF
The temperature condition of the paste extrusion of the fine powder of the E polymer is preferably in the range of 40 to 60 ° C.

【0046】ここで、ペースト押出加工において重要な
ファクターは、押出機のシリンダー断面積とダイスの断
面積の比で表されるリダクション比であり、通常のペー
スト押出加工においても重要なファクターであるが、低
熱膨張性PTFEの繊維化の際には特別に重要なもので
ある。すなわち、PTFE繊維の低熱膨張化の本質は、
合成樹脂を構成するポリマ分子を、主鎖を構成する原子
間の結合角および各々の結合に対する回転角を可能な範
囲において伸長させ、その極限的に伸長させた分子鎖
を、繊維長手方向に極限まで配列させるところにある。
Here, an important factor in paste extrusion is a reduction ratio expressed by a ratio of a cross-sectional area of a cylinder of an extruder to a cross-sectional area of a die, and is an important factor in ordinary paste extrusion. This is particularly important when fiberizing low thermal expansion PTFE. That is, the essence of low thermal expansion of PTFE fiber is
The polymer molecules constituting the synthetic resin are extended to the extent possible in terms of the bond angle between the atoms constituting the main chain and the angle of rotation with respect to each bond, and the ultimately extended molecular chain is extended in the longitudinal direction of the fiber. It is up to the arrangement.

【0047】次に、このモノフィラメントに、PTFE
の融点(327℃)よりも高い温度(360〜390
℃)の熱処理を施して焼結を行う。
Next, PTFE was added to this monofilament.
Temperature (360-390) higher than the melting point of
C) and sintering is performed.

【0048】焼結後のモノフィラメントに、融点以上の
温度、40〜100倍程度の延伸倍率の延伸加工を施し
た後、直ちに急冷処理を施すことによって、分子鎖が長
手方向に配向した低熱膨張性PTFE繊維を作製する。
The monofilament after sintering is stretched at a temperature equal to or higher than the melting point and at a draw ratio of about 40 to 100 times, and then immediately subjected to a quenching treatment, whereby the molecular chains are oriented in the longitudinal direction to obtain a low thermal expansion property. Make PTFE fibers.

【0049】この低熱膨張性PTFE繊維を適当な長さ
に切断し、繊維の長さ方向における熱膨張率を測定す
る。熱膨張率は、TMA(熱機械分析)を用いると共
に、常温(20℃)時の繊維長さを基準とした各温度に
おける繊維長さの変化率を測定したものとする。
This low-thermal-expansion PTFE fiber is cut into an appropriate length, and the coefficient of thermal expansion in the length direction of the fiber is measured. The coefficient of thermal expansion is determined by using TMA (thermomechanical analysis) and measuring the rate of change in fiber length at each temperature based on the fiber length at normal temperature (20 ° C.).

【0050】低熱膨張性ポリテトラフルオロエチレン繊
維の温度と熱膨張の関係を図3に示す。図中の横軸は温
度(℃)を示し、縦軸は長さの変化量(%)を示してい
る。
FIG. 3 shows the relationship between the temperature and the thermal expansion of the low thermal expansion polytetrafluoroethylene fiber. In the figure, the horizontal axis indicates temperature (° C.), and the vertical axis indicates the amount of change in length (%).

【0051】図3に示すように、常温〜270℃の温度
範囲では、低熱膨張性PTFE繊維の熱膨張率は常に負
であり、また、250℃においては、常温の時に比べて
3〜4%縮んでおり、20〜250℃の平均熱膨張率は
−1.5×10-4-1である。
As shown in FIG. 3, in the temperature range from room temperature to 270 ° C., the coefficient of thermal expansion of the low thermal expansion PTFE fiber is always negative, and at 250 ° C., 3 to 4% as compared with that at room temperature. It is shrunk, and has an average coefficient of thermal expansion at -250 × 250 ° C. of −1.5 × 10 −4 K −1 .

【0052】[0052]

【発明の効果】以上要するに本発明によれば、基板構成
材である織布または不織布の形成繊維として、低熱膨張
性ポリテトラフルオロエチレン繊維を用いることで、低
誘電率で、かつ、その熱膨張率が良導電性被膜の形成金
属と同等又はそれ以下であるハイブリッド集積回路基板
を得ることができ、延いてはハイブリッドICモジュー
ルの高性能化を図ることができるという優れた効果を発
揮する。
In summary, according to the present invention, low-expansion polytetrafluoroethylene fibers are used as the forming fibers of the woven or non-woven fabric constituting the substrate, so that the fibers have a low dielectric constant and a high thermal expansion. It is possible to obtain a hybrid integrated circuit board whose efficiency is equal to or less than that of the metal forming the good conductive film, and thus has an excellent effect of improving the performance of the hybrid IC module.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明のハイブリッドICモジュールの斜視図
である。
FIG. 1 is a perspective view of a hybrid IC module according to the present invention.

【図2】本発明のハイブリッドICモジュールにおける
基板断面の拡大図である。
FIG. 2 is an enlarged view of a cross section of a substrate in the hybrid IC module of the present invention.

【図3】低熱膨張性ポリテトラフルオロエチレン繊維の
温度と熱膨張の関係を示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing the relationship between the temperature and the thermal expansion of a low thermal expansion polytetrafluoroethylene fiber.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ハイブリッドICモジュール 2 ハイブリッド集積回路基板(基板) 3 電気回路 11 低熱膨張性ポリテトラフルオロエチレン繊維 12 織布(織布または不織布) 13 合成樹脂 15 良導電性被膜(電気回路を形成する金属の被膜) DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Hybrid IC module 2 Hybrid integrated circuit board (substrate) 3 Electric circuit 11 Low thermal expansion polytetrafluoroethylene fiber 12 Woven cloth (woven cloth or nonwoven cloth) 13 Synthetic resin 15 Good conductive film (metal film forming electric circuit) )

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 低熱膨張性ポリテトラフルオロエチレン
繊維で形成した織布または不織布に合成樹脂を含浸させ
ると共に、その合成樹脂を固化させて基板を形成した
後、その基板の表面に電気回路を形成すると共に、その
電気回路の表面に各種電子部品を搭載することを特徴と
するハイブリッドICモジュールの製造方法。
1. A woven or non-woven fabric formed of low thermal expansion polytetrafluoroethylene fibers is impregnated with a synthetic resin, and the synthetic resin is solidified to form a substrate, and then an electric circuit is formed on the surface of the substrate. And mounting various electronic components on the surface of the electric circuit.
【請求項2】 基板の表面に電気回路を形成し、その電
気回路の表面に各種電子部品を搭載してなり、かつ、メ
イン基板の表面に取り付けられるハイブリッドICモジ
ュールにおいて、上記基板が、低熱膨張性ポリテトラフ
ルオロエチレン繊維からなる織布または不織布と合成樹
脂とを複合させてなることを特徴とするハイブリッドI
Cモジュール。
2. A hybrid IC module in which an electric circuit is formed on a surface of a substrate, various electronic components are mounted on the surface of the electric circuit, and the substrate is mounted on a surface of a main substrate. Hybrid I characterized by combining a woven or non-woven fabric made of conductive polytetrafluoroethylene fibers with a synthetic resin
C module.
【請求項3】 上記低熱膨張性ポリテトラフルオロエチ
レン繊維の長さ方向の熱膨張率が、上記電気回路を形成
する金属の熱膨張率よりも小さい請求項2記載のハイブ
リッドICモジュール。
3. The hybrid IC module according to claim 2, wherein a coefficient of thermal expansion of the low thermal expansion polytetrafluoroethylene fiber in a length direction is smaller than a coefficient of thermal expansion of a metal forming the electric circuit.
【請求項4】 上記低熱膨張性ポリテトラフルオロエチ
レン繊維の長さ方向の熱膨張率が20〜250℃の温度
範囲で0以下であり、かつ、上記低熱膨張性ポリテトラ
フルオロエチレン繊維の引張破断強度が0.5GPa以
上である請求項2又は請求項3記載のハイブリッドIC
モジュール。
4. The thermal expansion coefficient of the low thermal expansion polytetrafluoroethylene fiber in the longitudinal direction is 0 or less in a temperature range of 20 to 250 ° C., and the low thermal expansion polytetrafluoroethylene fiber has a tensile fracture. The hybrid IC according to claim 2 or 3, wherein the strength is 0.5 GPa or more.
module.
【請求項5】 上記合成樹脂がフッ素系合成樹脂である
請求項2記載のハイブリッドICモジュール。
5. The hybrid IC module according to claim 2, wherein said synthetic resin is a fluorine-based synthetic resin.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2002043081A1 (en) * 2000-11-27 2002-05-30 Daikin Industries, Ltd. Electrical insulating plate, prepreg laminate and method for producing them

Cited By (2)

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JP2002160316A (en) * 2000-11-27 2002-06-04 Daikin Ind Ltd Electric insulating plate, prepreg laminated body, and method for manufacturing them

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