JPH11144656A - Scanning electron microscope and its similar device - Google Patents

Scanning electron microscope and its similar device

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JPH11144656A
JPH11144656A JP30250697A JP30250697A JPH11144656A JP H11144656 A JPH11144656 A JP H11144656A JP 30250697 A JP30250697 A JP 30250697A JP 30250697 A JP30250697 A JP 30250697A JP H11144656 A JPH11144656 A JP H11144656A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electron microscope
sample
scanning electron
electron beam
electrode
Prior art date
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Pending
Application number
JP30250697A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hiroko Iwabuchi
裕子 岩淵
Mitsugi Sato
佐藤  貢
Yoichi Ose
洋一 小瀬
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP30250697A priority Critical patent/JPH11144656A/en
Publication of JPH11144656A publication Critical patent/JPH11144656A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To detect the information signal electrons emitted from a sample with high efficiency even when a sample stage is inclined and reduce the aberration of a primary electron beam by providing a means correcting the axial asymmetry, caused by the inclination of the sample, of the electric field acting on the electron beam radiated to the sample. SOLUTION: A deflection electrode device 17 is formed with two electrodes arranged symmetrically with the optical axis of an electron beam, and they are applied with different voltages respectively. The voltages applied to two electrodes of the deflection electrode device 17 are controlled by a controller 18 interlockingly with the inclination angle of a sample stage 10 arranged with a sample respectively. If the voltages are properly selected, the electric field component negating the incorrect electric field component generated in the direction perpendicular to the electron beam axis by the inclination of the sample can be generated. The axial asymmetry of the electric field applied to the electron beam based on the inclination of the sample is corrected, thereby the occurrence of astigmatism causing resolution deterioration can be suppressed.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は電子ビームでもって
試料を照射して得られる試料特有の情報信号に基づいて
試料の走査像を得る走査電子顕微鏡およびその類似装置
に関する。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a scanning electron microscope for obtaining a scanned image of a sample based on information signals unique to the sample obtained by irradiating the sample with an electron beam, and a similar device.

【0002】[0002]

【従来の技術】走査電子顕微鏡において、試料を高分解
能で観察する手段として、特開昭57−172643号公報に記
載されているように、レンズ電界を対物レンズ下部に発
生させて、試料から発生する二次電子を対物レンズ部に
配置した電極に印加した正の電圧で加速して対物レンズ
の上部で検出する方法や、リターディング法として知ら
れているように、試料に負電圧を印加して一次電子を試
料の直前で減速させる方法がある。この場合にも、試料
から発生した二次電子は、試料に印加した電圧で加速さ
れて対物レンズ上部へ進行するため、対物レンズ上部で
二次電子を検出する必要がある。いずれの方法も試料と
対物レンズとの間には電界が発生している。
2. Description of the Related Art In a scanning electron microscope, as a means for observing a sample with high resolution, a lens electric field is generated under an objective lens as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 57-172643 to generate a sample from a sample. The secondary electrons to be accelerated by a positive voltage applied to the electrodes arranged in the objective lens are detected at the top of the objective lens, or a negative voltage is applied to the sample, as is known as the retarding method. There is a method in which the primary electrons are decelerated just before the sample. Also in this case, since the secondary electrons generated from the sample are accelerated by the voltage applied to the sample and proceed to the upper part of the objective lens, it is necessary to detect the secondary electrons at the upper part of the objective lens. In either method, an electric field is generated between the sample and the objective lens.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】上記従来技術では、試
料を傾斜させた場合、試料と対物レンズ間の電界の軸対
称性が崩れ、電子ビーム軸上に横方向の電界成分が発生
するため、非点収差が増大し、高分解能を得ることは困
難である。また、そのような電界の軸対称性が崩れる
と、試料から発生した情報信号電子の軌道も乱されるた
め、対物レンズ上部に配置した検出器に到達しなくな
り、したがって情報信号の検出ができなくなる。
In the above prior art, when the sample is tilted, the axial symmetry of the electric field between the sample and the objective lens is broken, and a horizontal electric field component is generated on the electron beam axis. Astigmatism increases and it is difficult to obtain high resolution. In addition, if the axial symmetry of such an electric field is broken, the trajectory of the information signal electrons generated from the sample is also disturbed, so that the information signal cannot reach the detector arranged above the objective lens, and therefore the information signal cannot be detected. .

【0004】本発明の目的は、試料ステージを傾斜させ
た場合でも非点収差の発生を抑制し、これによって分解
能の低下を防止するとともに、試料からの情報信号を高
効率検出することに適した走査電子顕微鏡およびその類
似装置を提供することにある。
An object of the present invention is to suppress the occurrence of astigmatism even when the sample stage is tilted, thereby preventing a reduction in resolution, and suitable for detecting information signals from the sample with high efficiency. It is to provide a scanning electron microscope and similar devices.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明の走査電子顕微鏡
は、電子ビームを発生する電子銃と、その電子ビームで
試料を照射する前記電子ビームを前記試料に収束する対
物レンズと、前記電子ビームで前記試料を走査するよう
に前記電子ビームを偏向する手段と、前記照射によって
前記試料から発生する該試料を特徴づける情報信号を検
出する検出器と、前記試料を前記電子ビームに対して傾
斜させる手段とを有する走査電子顕微鏡およびその類似
装置において、試料と対物レンズとの間に前記電子ビー
ムに対して加速または、減速作用を有する電界を発生さ
せる手段と、前記試料を照射する前記電子ビームに対し
て作用する前記電界の、前記試料の傾斜による電界の非
軸対称性を補正する手段とを備えていることにある。
A scanning electron microscope according to the present invention comprises an electron gun for generating an electron beam, an objective lens for irradiating the sample with the electron beam, and an objective lens for converging the electron beam on the sample. Means for deflecting the electron beam so as to scan the sample, a detector for detecting an information signal generated from the sample by the irradiation and characterizing the sample, and tilting the sample with respect to the electron beam. Means for generating an electric field having an action of accelerating or decelerating the electron beam between a sample and an objective lens, and applying the electron beam to irradiate the sample with the electron beam. Means for correcting non-axial symmetry of the electric field acting on the electric field due to the tilt of the sample.

【0006】[0006]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明を詳
細に説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail with reference to the drawings.

【0007】図1は本発明の一実施例の概略構成図であ
る。電子銃の陰極1と引出電極3の間に印加される電圧
V1により陰極1から放出された一次電子ビーム2は、
陰極1と加速電極4との間に印加されるVacc で加速さ
れる。一次電子ビーム2は、レンズ制御電源14で制御
された集束レンズ5および対物レンズ6により試料8に
集束されて試料8に照射される。偏向器7aおよび7b
は一次電子ビーム2を二次元的に偏向し、これによって
試料上で一次電子ビーム2が二次元的に走査される。偏
向器7aおよび7bの走査信号は観察倍率に応じて偏向
制御回路12により制御される。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of an embodiment of the present invention. The primary electron beam 2 emitted from the cathode 1 by the voltage V1 applied between the cathode 1 and the extraction electrode 3 of the electron gun is
It is accelerated by Vacc applied between the cathode 1 and the accelerating electrode 4. The primary electron beam 2 is focused on the sample 8 by the focusing lens 5 and the objective lens 6 controlled by the lens control power supply 14 and irradiates the sample 8. Deflectors 7a and 7b
Deflects the primary electron beam 2 two-dimensionally, thereby scanning the primary electron beam 2 two-dimensionally on the sample. The scanning signals of the deflectors 7a and 7b are controlled by the deflection control circuit 12 according to the observation magnification.

【0008】一次電子ビーム2の照射によって試料8か
ら発生する情報信号電子15は、引き上げ電極16に印
加される正電圧Vseで形成される光軸方向の電界によっ
て加速され、対物レンズ6を通して情報信号検出器9b
により検出され、増幅器21を介して像表示装置13に
試料の拡大像として表示される。なお、引き上げ電極1
6に印加される正電圧によって、一次電子ビーム2は対
物レンズを通過する間は印加されている正電圧の分、加
速される。これによって一次電子ビーム2は対物レンズ
6を通過している間は高い加速電圧を持つことになるの
で、一次電子ビームの収差を低減させることができる。
さらに対物レンズ6を通過した後は元の加速電圧に戻る
ので、高加速の一次電子ビームによる試料へのダメージ
も抑えることができる。
The information signal electrons 15 generated from the sample 8 by the irradiation of the primary electron beam 2 are accelerated by an electric field in the optical axis direction formed by the positive voltage Vse applied to the pull-up electrode 16, and passed through the objective lens 6. Detector 9b
Is displayed on the image display device 13 via the amplifier 21 as an enlarged image of the sample. The lifting electrode 1
Due to the positive voltage applied to 6, the primary electron beam 2 is accelerated by the amount of the applied positive voltage while passing through the objective lens. As a result, the primary electron beam 2 has a high accelerating voltage while passing through the objective lens 6, so that the aberration of the primary electron beam can be reduced.
Further, after passing through the objective lens 6, the voltage returns to the original accelerating voltage, so that damage to the sample due to the highly accelerated primary electron beam can be suppressed.

【0009】偏向電極17は、図2に示すように、電子
ビームの光軸に対して対称に配置された2枚の電極19
および20から構成され、それぞれ異なる電圧が印加さ
れる。この偏向電極装置17の電極19および20に印
加される電圧は、それぞれ試料8が配置されている試料
ステージ10の傾斜角度に連動して制御部18で制御さ
れる。その電圧を適切に選択すれば、試料の傾斜によっ
て電子ビーム軸と直交する方向に発生する不正の電界成
分を打ち消す電界成分を発生することができる。これに
よって、電子ビームに作用する電界の試料傾斜に基づく
非軸対称性の補正がなされ、したがって、分解能低下の
原因となる非点収差の発生が抑えられる。
As shown in FIG. 2, the deflection electrode 17 has two electrodes 19 symmetrically arranged with respect to the optical axis of the electron beam.
And 20, and different voltages are applied to each. The voltage applied to the electrodes 19 and 20 of the deflection electrode device 17 is controlled by the control unit 18 in conjunction with the tilt angle of the sample stage 10 on which the sample 8 is disposed. If the voltage is appropriately selected, an electric field component that cancels an illegal electric field component generated in a direction orthogonal to the electron beam axis due to the tilt of the sample can be generated. This corrects the non-axial symmetry based on the sample tilt of the electric field acting on the electron beam, and therefore suppresses the generation of astigmatism that causes a reduction in resolution.

【0010】また、この不正電界を補正することによ
り、試料8から発生した情報信号電子の軌道の乱れも抑
えられるため、情報信号電子を効率よく対物レンズの上
部(電子源側)に輸送することができる。なお、この実
施例の場合、制御部18が偏向電極装置17に対する印
加電圧の供給源であるが制御部と電源部が別れていても
よい。対物レンズ上部には直交電磁界発生器(L)24
が配置されており、各々の電界と磁界の強さは、一次電
子に対しては偏向作用を打ち消し合い、対物レンズの上
部に輸送された情報信号電子に対しては、情報信号検出
器9b側に偏向作用を発生するように制御される。した
がって、直交電磁界発生器(L)24により、一次電子
の軌道に影響を与えずに、試料から発生した情報信号電
子が情報信号検出器9bで効率よく検出される。
Further, by correcting the irregular electric field, the disturbance of the trajectory of the information signal electrons generated from the sample 8 can be suppressed, so that the information signal electrons can be efficiently transported to the upper part (electron source side) of the objective lens. Can be. In this embodiment, the control unit 18 is a supply source of the applied voltage to the deflection electrode device 17, but the control unit and the power supply unit may be separated. A quadrature electromagnetic field generator (L) 24 is located above the objective lens.
Are arranged, and the strength of each electric field and magnetic field cancels the deflecting action for primary electrons, and the information signal detector 9b side for information signal electrons transported to the upper part of the objective lens. Is controlled to generate a deflection action. Therefore, the information signal electrons generated from the sample are efficiently detected by the information signal detector 9b without affecting the trajectory of the primary electrons by the orthogonal electromagnetic field generator (L) 24.

【0011】偏向電極17に印加される電圧は、試料の
傾斜角度に応じて発生する不正電界の補正に適した値に
なるように、予め実験により定められた関係を満たすよ
うに、制御部18により制御される。また、偏向電極1
7の印加電圧は、試料の形状に起因して生じる実験との
食い違いをさらに補正可能なように、手動による電圧の
設定も可能になっている。
The controller 18 adjusts the voltage applied to the deflection electrode 17 so as to satisfy a relationship determined in advance by experiments so that the voltage applied to the deflection electrode 17 becomes a value suitable for correcting an irregular electric field generated according to the tilt angle of the sample. Is controlled by The deflection electrode 1
The applied voltage of 7 can be manually set so that the discrepancy with the experiment caused by the shape of the sample can be further corrected.

【0012】図3は対物レンズ6の磁極下面と試料との
間において、偏向電極17を電子ビームの光軸の回りに
配置した例である。偏向電極17は図2,図4あるいは
図5に示すように2個,4個あるいは8個の電極で構成
することも可能であり、電極の枚数を多くしてそれぞれ
に異なる電圧を印加することにより、対物レンズと試料
との間に発生する不正電界をより高精度に補正できるよ
うになる。
FIG. 3 shows an example in which a deflection electrode 17 is arranged around the optical axis of the electron beam between the lower surface of the magnetic pole of the objective lens 6 and the sample. The deflection electrode 17 can be composed of two, four or eight electrodes as shown in FIG. 2, FIG. 4 or FIG. 5, and it is possible to increase the number of electrodes and apply different voltages to each of them. Thereby, the irregular electric field generated between the objective lens and the sample can be corrected with higher accuracy.

【0013】図6は偏向電極17を電子ビームの光軸を
基準にして傾斜された試料8、したがって試料ステージ
10と対向するように配置した例を示す。偏向電極装置
17に印加する電圧は試料ステージ10の傾斜に連動し
て制御部18によって制御される。偏向電極装置17に
電圧を印加することにより、電子ビームの光軸と直交す
る方向の成分を有する電界が発生し、試料ステージ10
が傾斜した場合に発生する光軸上の横方向の電界成分が
補正されるため、非点収差の発生が抑制されるととも
に、試料8から発生した情報信号電子15を対物レンズ
の上部へと進行させることができる。
FIG. 6 shows an example in which the deflection electrode 17 is arranged so as to face the sample 8 tilted with respect to the optical axis of the electron beam, that is, the sample stage 10. The voltage applied to the deflection electrode device 17 is controlled by the control unit 18 in conjunction with the inclination of the sample stage 10. By applying a voltage to the deflection electrode device 17, an electric field having a component in a direction orthogonal to the optical axis of the electron beam is generated, and the sample stage 10
Since the horizontal electric field component generated on the optical axis when the light is tilted is corrected, the generation of astigmatism is suppressed, and the information signal electrons 15 generated from the sample 8 travel to the upper part of the objective lens. Can be done.

【0014】図7は、情報信号電子15の検出手段とし
て、偏向電極17を電子の衝突により、光または電気信
号を発生する機能を持つ材料で構成した例である。一次
電子ビーム2を試料8に照射することによって試料8か
ら発生した情報信号電子15の内、エネルギーの低い信
号は、引き上げ電圧Vseの効果で対物レンズの上部へと
進行するが、エネルギーの高い信号電子(特に反射電
子)はその発散を十分に抑えられずに、その一部が偏向
電極17に衝突する。偏向電極17は、情報信号電子1
5の衝突により、衝突した信号電子の量に応じた光また
は電気信号が発生するため、これを像信号として取り出
すことができる。偏向電極17から得られた像信号は、
増幅器22を介して像表示装置13に試料の拡大像を表
示することができる。
FIG. 7 shows an example in which the deflecting electrode 17 is made of a material having a function of generating a light or an electric signal by collision of electrons as a means for detecting the information signal electrons 15. Among the information signal electrons 15 generated from the sample 8 by irradiating the sample 8 with the primary electron beam 2, the signal with low energy travels to the upper part of the objective lens due to the effect of the pull-up voltage Vse, but the signal with high energy Some of the electrons (especially reflected electrons) do not sufficiently suppress their divergence, and some of them collide with the deflection electrode 17. The deflecting electrode 17 is connected to the information signal electron 1.
Since the light or electric signal corresponding to the amount of the colliding signal electrons is generated by the collision of 5, the light or electric signal can be extracted as an image signal. The image signal obtained from the deflection electrode 17 is
An enlarged image of the sample can be displayed on the image display device 13 via the amplifier 22.

【0015】偏向電極17で検出された高エネルギー信
号電子と、対物レンズ6の上部に配置された情報信号検
出器9bにより検出された低エネルギー信号電子は、情
報信号切り換え手段50により各々単独の信号、また
は、量信号の合成のいずれかに選択されて像表示装置1
3で表示できる。この情報信号の切り換えにより、試料
から発生する情報信号の適切な情報のみが表示できるた
め、不要情報信号による像のS/N低下を防止できる。
The high-energy signal electrons detected by the deflection electrode 17 and the low-energy signal electrons detected by the information signal detector 9b disposed above the objective lens 6 are individually signaled by the information signal switching means 50. Or the display of the image display device 1 by selecting one of
3 can be displayed. By switching the information signal, only appropriate information of the information signal generated from the sample can be displayed, so that it is possible to prevent the S / N ratio of the image from being reduced due to the unnecessary information signal.

【0016】図8は電圧制御部23によって試料8に負
の電圧を印加して、対物レンズ磁界を通過中の一次電子
を対物レンズ磁極と試料との間で減速させる場合の構成
例である。対物レンズ6と偏向器7aおよび7bの間に
は互いに直交する電界と磁界を発生させる直交電磁界発
生器(L)24と、電子の衝突により二次電子を発生で
きる材料で構成される電極(L)25と、情報信号検出
器9bを配置している。試料8から発生して対物レンズ
6の上部に進行する情報信号電子15は、対物レンズ6
と試料8の間の減速電界によって逆に加速されるため、
直交電磁界発生器(L)24では十分な偏向作用が得ら
れず、電極(L)25に衝突して電極(L)25から二
次電子15aが放出される。
FIG. 8 shows an example of a configuration in which a negative voltage is applied to the sample 8 by the voltage control unit 23 so that primary electrons passing through the objective lens magnetic field are decelerated between the objective lens magnetic pole and the sample. Between the objective lens 6 and the deflectors 7a and 7b, an orthogonal electromagnetic field generator (L) 24 for generating an electric field and a magnetic field orthogonal to each other, and an electrode made of a material capable of generating secondary electrons by collision of electrons ( L) 25 and the information signal detector 9b. The information signal electrons 15 generated from the sample 8 and traveling to the upper part of the objective lens 6
Is accelerated by the decelerating electric field between
In the orthogonal electromagnetic field generator (L) 24, a sufficient deflection action cannot be obtained, and the secondary electron 15a is emitted from the electrode (L) 25 by colliding with the electrode (L) 25.

【0017】二次電子15aは直交電磁界発生器(L)
24で情報信号検出器9b側に偏向されるため情報信号
検出器9bで検出され、増幅器21を介して像表示装置
13に試料の拡大像として表示される。図8の構成によ
れば、試料8に負の電圧を印加した場合でも、試料8か
ら発生する情報信号を効率よく検出することができる。
The secondary electron 15a is a quadrature electromagnetic field generator (L)
Since the light is deflected by the information signal detector 9b at 24, it is detected by the information signal detector 9b and displayed on the image display device 13 via the amplifier 21 as an enlarged image of the sample. According to the configuration of FIG. 8, even when a negative voltage is applied to the sample 8, an information signal generated from the sample 8 can be detected efficiently.

【0018】試料8に印加される負電圧は一次電子ビー
ム2の初期加速電圧に対して信号電子が適切な軌道で進
行することをも考慮して、予め実験により定められた関
係を満たすように、電圧制御部23により制御される。
また試料8に印加される負電圧は電圧切り換え手段51
により0Vにすることもできる。このとき、試料8から
発生した情報信号電子15の内、エネルギーの小さい信
号電子は、直交電磁界発生器(L)24で情報信号検出
器9b側に直接偏向されて検出されるが、エネルギーの
大きな信号電子は直交電磁界発生器(L)24では十分
に偏向されないため、電極(L)25に衝突する。電極
(L)25に衝突したエネルギーの高い情報信号電子
は、電極(L)25で二次電子に変換されて直交電磁界
発生器(L)24で情報信号検出器9b側に偏向されて情
報信号検出器9bに検出される。
The negative voltage applied to the sample 8 is set so as to satisfy the relationship determined in advance by experiments, taking into account that the signal electrons travel in an appropriate trajectory with respect to the initial acceleration voltage of the primary electron beam 2. , And is controlled by the voltage control unit 23.
The negative voltage applied to the sample 8 is supplied to the voltage switching means 51.
To 0V. At this time, of the information signal electrons 15 generated from the sample 8, the signal electrons having small energy are directly deflected to the information signal detector 9b side by the orthogonal electromagnetic field generator (L) 24 and detected. Since large signal electrons are not sufficiently deflected by the orthogonal electromagnetic field generator (L) 24, they collide with the electrode (L) 25. High-energy information signal electrons that have collided with the electrode (L) 25 are converted into secondary electrons by the electrode (L) 25 and deflected by the orthogonal electromagnetic field generator (L) 24 to the information signal detector 9 b side, thereby obtaining information. The signal is detected by the signal detector 9b.

【0019】なお、このように試料8に負電圧を印加し
た状態で試料ステージ10を傾斜させると、接地電圧で
ある対物レンズ6との間に図12に示すような等電位線
の乱れが発生する。図12の例は−5kVの負電圧を印
加した場合を示したものである。対物レンズ6は接地電
位(0V)であるのでその間に電位差が生じ、この等電
位線の乱れによって情報信号電子15は、さらに傾斜方
向の側に強く曲がってしまう。この弊害を解消するため
にこの実施例では等電位線の乱れを打ち消すように偏向
電極17に対する電圧の印加を制御する。またこの等電
位線の乱れは一次電子線にも影響を与え、収差の原因と
もなるが、やはり偏向電極17に対する電圧の制御によ
ってその弊害を改善することができる。
When the sample stage 10 is tilted while a negative voltage is applied to the sample 8 as described above, disturbance of equipotential lines as shown in FIG. 12 occurs between the sample stage 10 and the objective lens 6 which is a ground voltage. I do. The example of FIG. 12 shows a case where a negative voltage of -5 kV is applied. Since the objective lens 6 is at the ground potential (0 V), a potential difference occurs between the two, and the information signal electrons 15 are further bent in the inclined direction due to the disturbance of the equipotential lines. In order to solve this problem, in this embodiment, the application of the voltage to the deflection electrode 17 is controlled so as to cancel the disturbance of the equipotential lines. The disturbance of the equipotential lines also affects the primary electron beam and causes aberration. However, by controlling the voltage to the deflecting electrode 17, the adverse effect can be improved.

【0020】また、試料8に負電圧を印加する場合、上
述したように情報信号電子15は加速され、その分強い
エネルギーを持つため偏向電極に、より強い偏向作用を
持たせることが望ましい。例えば試料に負電圧が印加さ
れる際には、印加されない時と比較して大きな電圧を偏
向電極に与えるように制御するようにすることが考えら
れる。但し実際に偏向電極に印加する電圧は、試料ステ
ージの傾斜角の大きさ,一次電子ビームの初速度,検出
する情報信号電子の種類,対物レンズと試料との距離
(ワーキングディスタンス)などの種々要件を勘案して
決定されるべきである。
When a negative voltage is applied to the sample 8, as described above, the information signal electrons 15 are accelerated and have a correspondingly high energy, so that it is desirable that the deflection electrode has a stronger deflection action. For example, when a negative voltage is applied to the sample, control may be performed so that a larger voltage is applied to the deflection electrode than when no negative voltage is applied. However, the voltage actually applied to the deflection electrode depends on various requirements such as the magnitude of the tilt angle of the sample stage, the initial velocity of the primary electron beam, the type of information signal electrons to be detected, and the distance (working distance) between the objective lens and the sample. Should be determined in consideration of

【0021】さらにこの実施例では、上述したように引
き上げ電極16を用いて、情報信号電子の引き上げ、一
次電子ビームの加速を行っている。そしてこの引き上げ
電極16に印加される電圧はその目的から正電圧であ
る。即ち試料に負電圧を印加した場合と同様の弊害が起
ることが考えられる。つまり対物レンズ6側に正電圧が
印加されるので、試料ステージを傾斜させた場合、図1
2の例と同様な等電子線の乱れが発生するからである。
Further, in this embodiment, as described above, the pull-up electrode 16 is used to pull up the information signal electrons and accelerate the primary electron beam. The voltage applied to the lifting electrode 16 is a positive voltage for the purpose. That is, it is conceivable that the same adverse effect as when a negative voltage is applied to the sample occurs. That is, since a positive voltage is applied to the objective lens 6 side, when the sample stage is tilted, FIG.
This is because the same disturbance of the isoelectronic beam as in the example 2 occurs.

【0022】また引き上げ電極に正電圧を印加し、さら
に試料に負電圧を印加した場合、対物レンズと試料間の
電位差はより大きなものとなり、試料を傾斜した際の等
電位線の乱れもより大きなものとなる。
When a positive voltage is applied to the lifting electrode and a negative voltage is further applied to the sample, the potential difference between the objective lens and the sample becomes larger, and the disturbance of equipotential lines when the sample is tilted becomes larger. It will be.

【0023】この弊害を解消するためにも偏向電極によ
って等電位線の乱れを制御する本発明実施例の技術は特
に有効である。
In order to solve this problem, the technique of the embodiment of the present invention in which the disturbance of the equipotential lines is controlled by the deflection electrode is particularly effective.

【0024】図9は図8における電極(L)25を電子
の衝突によって光または電気信号を発生する機能を持つ
検出器(L)26に置き換えた実施例である。試料8に
負の電圧が印加されているときには、検出器(L)26
で発生した信号は、試料8から発生して試料8と対物レ
ンズ6間で加速された情報信号電子の量を反映するが、
試料8に印加される電圧が0Vのときには、情報信号電
子の内、エネルギーの高い信号の量のみを反映した信号
となる。このとき、情報信号の内、エネルギーの低い情
報信号電子は直交電磁界発生器(L)24で直接偏向さ
れて検出器9bに検出される。これら検出器26,9b
の信号は、切り換え手段50によって各々単独の信号、
あるいは、両者の合成信号の選択が可能であり、選択さ
れた情報信号は、増幅器31を介して像表示装置13に
試料の拡大像として表示することができる。
FIG. 9 shows an embodiment in which the electrode (L) 25 in FIG. 8 is replaced by a detector (L) 26 having a function of generating a light or an electric signal by collision of electrons. When a negative voltage is applied to the sample 8, the detector (L) 26
The signal generated in the step reflects the amount of information signal electrons generated from the sample 8 and accelerated between the sample 8 and the objective lens 6,
When the voltage applied to the sample 8 is 0 V, the signal reflects only the amount of the high-energy signal among the information signal electrons. At this time, information signal electrons having low energy in the information signal are directly deflected by the orthogonal electromagnetic field generator (L) 24 and detected by the detector 9b. These detectors 26, 9b
Are individually output by the switching means 50,
Alternatively, it is possible to select a combined signal of the two, and the selected information signal can be displayed on the image display device 13 via the amplifier 31 as an enlarged image of the sample.

【0025】電極(L)25や検出器(L)26は光軸
のまわり、または光軸の近傍にあるため、偏向器7a,
7bの偏向範囲を制限することになり、その結果、観察
視野が制限されるといった問題がある。そこで電極
(L)25や検出器(L)26を可動式にすることで、
観察視野を広くとる必要が生じる場合には、一次電子ビ
ームの偏向範囲を制限しない距離まで遠ざけることが可
能となる。
Since the electrode (L) 25 and the detector (L) 26 are located around or near the optical axis, the deflectors 7a,
There is a problem that the deflection range of 7b is limited, and as a result, the observation visual field is limited. Therefore, by making the electrode (L) 25 and the detector (L) 26 movable,
If it is necessary to increase the observation field of view, it is possible to keep the primary electron beam at a distance that does not limit the deflection range.

【0026】図10は、一次電子ビームの偏向範囲を制
限しないで、試料からの情報信号電子を高効率に検出で
きるようにした実施例である。図10では、図8の電極
(L)25に対応する電極(U)29が偏向器7aおよび
7bよりも電子源側に配置されている。このため、電極
(U)29には、絞り板11を通過した一次電子ビーム
を遮断しない範囲の小さな透過孔にすることが可能にな
る。電極(U)29と偏向器7aの間には、直交電磁界
発生器(U)28が配置されているため、試料から発生
した情報信号電子の内、電極(U)29に衝突した電子
は、電極(U)29で二次電子に変換されて、直交電磁
界発生器(U)28で情報信号検出器9a側に偏向され
て検出される。
FIG. 10 shows an embodiment in which the information signal electrons from the sample can be detected with high efficiency without limiting the deflection range of the primary electron beam. In FIG. 10, the electrode of FIG.
An electrode (U) 29 corresponding to (L) 25 is arranged closer to the electron source than the deflectors 7a and 7b. For this reason, it is possible to make the electrode (U) 29 a small transmission hole in a range that does not block the primary electron beam that has passed through the aperture plate 11. Since the orthogonal electromagnetic field generator (U) 28 is disposed between the electrode (U) 29 and the deflector 7a, of the information signal electrons generated from the sample, electrons that collide with the electrode (U) 29 Are converted into secondary electrons by the electrode (U) 29 and deflected by the orthogonal electromagnetic field generator (U) 28 toward the information signal detector 9a to be detected.

【0027】図11は図10の電極(U)29を電子の
衝突で光、または、電気信号が発生できる検出器30に
置き換えた他の実施例である。検出器30では、検出器
30に衝突した信号を直接検出できるため、図10で配
置された直交電磁界発生器(U)28と検出器9aは配
置する必要がない。
FIG. 11 shows another embodiment in which the electrode (U) 29 of FIG. 10 is replaced by a detector 30 capable of generating light or an electric signal by collision of electrons. Since the detector 30 can directly detect a signal colliding with the detector 30, it is not necessary to arrange the orthogonal electromagnetic field generator (U) 28 and the detector 9a arranged in FIG.

【0028】[0028]

【発明の効果】対物レンズ磁界を通過中の一次電子を試
料に照射されるときよりも高いエネルギーにして分解能
を改善できる走査電子顕微鏡およびその類似装置におい
て、試料を任意の角度に傾斜しても、試料から発生する
情報信号電子を高い効率で検出でき、一次電子ビームの
収差の低減をも図ることができる。
As described above, in a scanning electron microscope and similar devices in which primary electrons passing through the objective lens magnetic field can be made higher in energy than when the sample is irradiated to improve the resolution, even if the sample is inclined at an arbitrary angle. Also, information signal electrons generated from the sample can be detected with high efficiency, and the aberration of the primary electron beam can be reduced.

【0029】また、試料から発生する情報信号電子のエ
ネルギーによって、検出信号を切り分けて、これらの信
号を選択、あるいは、合成することができるため、試料
に応じた最適コントラストを得ることができる。
Further, the detection signals can be separated by the energy of the information signal electrons generated from the sample, and these signals can be selected or synthesized, so that an optimum contrast according to the sample can be obtained.

【0030】さらに試料に負電圧を印加したり、引き上
げ電圧に正電圧を印加した場合の試料傾斜時の等電位線
の乱れも補正することが可能になるため、結果として一
次電子ビームの収差低減、情報信号電子の検出効率の向
上を図ることが可能になる。
Further, since it is possible to correct the disturbance of the equipotential lines when the sample is tilted when a negative voltage is applied to the sample or a positive voltage is applied to the pull-up voltage, the aberration of the primary electron beam is reduced as a result. Thus, it is possible to improve the detection efficiency of information signal electrons.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施例である走査電子顕微鏡の概略構
成図。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a scanning electron microscope according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1の偏向電極の構成を示す断面図。FIG. 2 is a sectional view showing a configuration of a deflection electrode in FIG. 1;

【図3】図1の対物レンズと試料ステージおよび偏向電
極の位置を示す側断面。
FIG. 3 is a side sectional view showing positions of an objective lens, a sample stage, and a deflection electrode in FIG. 1;

【図4】本発明の実施例である偏向電極の構成を示す断
面図。
FIG. 4 is a sectional view showing a configuration of a deflection electrode according to an embodiment of the present invention.

【図5】本発明の実施例である偏向電極の構成を示す断
面図。
FIG. 5 is a sectional view showing a configuration of a deflection electrode according to an embodiment of the present invention.

【図6】本発明の実施例である対物レンズと試料ステー
ジおよび偏向電極の位置を示す側面図。
FIG. 6 is a side view showing positions of an objective lens, a sample stage, and a deflection electrode according to an embodiment of the present invention.

【図7】本発明の実施例である走査電子顕微鏡の概略構
成図。
FIG. 7 is a schematic configuration diagram of a scanning electron microscope according to an embodiment of the present invention.

【図8】本発明の実施例である走査電子顕微鏡の動作を
説明する概略構成図。
FIG. 8 is a schematic diagram illustrating the operation of a scanning electron microscope according to an embodiment of the present invention.

【図9】図8の動作を説明する概略構成図。FIG. 9 is a schematic configuration diagram illustrating the operation of FIG.

【図10】本発明の実施例である走査電子顕微鏡の概略
構成図。
FIG. 10 is a schematic configuration diagram of a scanning electron microscope according to an embodiment of the present invention.

【図11】本発明の実施例である走査電子顕微鏡の概略
構成図。
FIG. 11 is a schematic configuration diagram of a scanning electron microscope according to an embodiment of the present invention.

【図12】負電圧を印加した試料の傾斜によって生じた
試料−対物レンズ間の等電位線を示す図。
FIG. 12 is a view showing equipotential lines between a sample and an objective lens, which are caused by the tilt of the sample to which a negative voltage is applied.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…陰極、2…一次電子ビーム、3…引出電極、4…加
速電極、5…集束レンズ、6…対物レンズ、7a,7b
…偏向器、8…試料、9a,9b…情報信号検出器、1
0…試料ステージ、11…絞り板、12…偏向制御回
路、13…像表示装置、14…レンズ制御電源、15…
情報信号電子、16…引き上げ電極、17…偏向電極装
置、18…制御部、19,20…電極、21,22…増
幅器、23…電圧制御部、24…直交電磁界発生器
(L)、25…電極(L)、26…検出器(L)、27
…画像制御部、28…直交電磁界発生器(U)、29…
電極(U)、30…検出器(U)、31…増幅器、50…
情報信号切り換え手段、51…負電圧切り換え手段。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Cathode, 2 ... Primary electron beam, 3 ... Extraction electrode, 4 ... Acceleration electrode, 5 ... Focusing lens, 6 ... Objective lens, 7a, 7b
... deflector, 8 ... sample, 9a, 9b ... information signal detector, 1
0: sample stage, 11: aperture plate, 12: deflection control circuit, 13: image display device, 14: lens control power supply, 15:
Information signal electrons, 16: lifting electrode, 17: deflection electrode device, 18: control unit, 19, 20: electrode, 21, 22, amplifier, 23: voltage control unit, 24: orthogonal electromagnetic field generator (L), 25 ... electrodes (L), 26 ... detectors (L), 27
... image control unit, 28 ... orthogonal electromagnetic field generator (U), 29 ...
Electrodes (U), 30: Detector (U), 31: Amplifier, 50:
Information signal switching means, 51 ... Negative voltage switching means.

Claims (18)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】電子ビームを発生する電子銃と、その電子
ビームで試料を照射する前記電子ビームを前記試料に収
束する対物レンズと、前記電子ビームで前記試料を走査
するように前記電子ビームを偏向する手段と、前記照射
によって前記試料から発生する該試料を特徴づける情報
信号を検出する検出器と、前記試料を前記電子ビームに
対して傾斜させる手段とを有する走査電子顕微鏡および
その類似装置において、試料と対物レンズとの間に前記
電子ビームに対して加速または、減速作用を有する電界
を発生させる手段と、前記試料を照射する前記電子ビー
ムに対して作用する前記電界の、前記試料の傾斜による
電界の非軸対称性を補正する手段とを備えていることを
特徴とする走査電子顕微鏡およびその類似装置。
1. An electron gun for generating an electron beam, an objective lens for irradiating a sample with the electron beam and converging the electron beam on the sample, and an electron beam for scanning the sample with the electron beam. A scanning electron microscope and similar devices having a means for deflecting, a detector for detecting an information signal characterizing the sample generated from the sample by the irradiation, and a means for tilting the sample with respect to the electron beam. Means for generating an electric field having an accelerating or decelerating action on the electron beam between the sample and the objective lens; and a tilt of the sample of the electric field acting on the electron beam irradiating the sample. And means for correcting non-axial symmetry of the electric field caused by the scanning electron microscope.
【請求項2】電子ビームを発生する電子銃と、その電子
ビームで試料を照射する前記電子ビームを前記試料に収
束する対物レンズと、前記電子ビームで前記試料を走査
するように前記電子ビームを偏向する手段と、前記照射
によって前記試料から発生する該試料を特徴づける情報
信号を前記対物レンズを通して引き出す電界を発生する
手段と、前記引き出された前記情報信号を検出する検出
器と、前記試料を前記電子ビームに対して傾斜させる手
段とを有する走査電子顕微鏡および、その類似装置にお
いて、前記試料を照射する前記電子ビームに作用する前
記電界の、試料の傾斜による非軸対称性を補正する手段
とを備えていることを特徴とする走査電子顕微鏡および
その類似装置。
2. An electron gun for generating an electron beam, an objective lens for irradiating the sample with the electron beam and converging the electron beam on the sample, and an electron beam for scanning the sample with the electron beam. Means for deflecting, means for generating an electric field for extracting an information signal generated from the sample by the irradiation, which characterizes the sample through the objective lens, a detector for detecting the extracted information signal, and A scanning electron microscope having means for tilting with respect to the electron beam, and a similar device, wherein means for correcting non-axial symmetry of the electric field acting on the electron beam irradiating the sample due to the tilt of the sample; A scanning electron microscope and a device similar to the scanning electron microscope, comprising:
【請求項3】請求項1または2に記載された走査電子顕
微鏡およびその類似装置において、電界の非軸対称性を
補正する手段は、前記電子ビームの光軸に対して直交す
る方向の成分をもつ電界を発生するように電圧が印加さ
れる偏向電極であることを特徴とする走査電子顕微鏡お
よびその類似装置。
3. The scanning electron microscope according to claim 1, wherein the means for correcting the non-axial symmetry of the electric field includes a component in a direction orthogonal to the optical axis of the electron beam. A scanning electron microscope and a device similar to the scanning electron microscope, wherein the deflection electrode is a deflection electrode to which a voltage is applied so as to generate an electric field.
【請求項4】請求項3に記載された走査電子顕微鏡およ
びその類似装置において、前記試料の傾斜角度を検出
し、その検出に応答して前記偏向電極の電圧を制御する
手段を備えていることを特徴とする走査電子顕微鏡およ
びその類似装置。
4. A scanning electron microscope according to claim 3, further comprising means for detecting a tilt angle of said sample and controlling a voltage of said deflection electrode in response to the detection. A scanning electron microscope and similar devices characterized by the above.
【請求項5】請求項3に記載された走査電子顕微鏡およ
びその類似装置において、前記偏向電極は、少なくとも
2個の電極から構成され、これらは前記対物レンズと前
記試料との間で前記電子ビームの光軸の周辺に配置され
ていることを特徴とする走査電子顕微鏡およびその類似
装置。
5. The scanning electron microscope according to claim 3, wherein the deflection electrode comprises at least two electrodes, which are provided between the objective lens and the sample. A scanning electron microscope and a device similar to the scanning electron microscope, wherein the scanning electron microscope is arranged around the optical axis.
【請求項6】請求項3に記載された走査電子顕微鏡およ
びその類似装置において、前記偏向電極は前記電子ビー
ムの光軸を基準として前記傾斜された試料と対向するよ
うに配置されていることを特徴とする走査電子顕微鏡お
よびその類似装置。
6. The scanning electron microscope according to claim 3, wherein the deflection electrode is arranged so as to face the inclined sample with respect to the optical axis of the electron beam. Scanning electron microscope and similar devices.
【請求項7】請求項1〜6のいずれかに記載された走査
電子顕微鏡およびその類似装置において、前記傾斜させ
る手段は、前記試料に負の電圧を印加する手段を備えた
ことを特徴とする走査電子顕微鏡およびその類似装置。
7. The scanning electron microscope according to claim 1, wherein said tilting means includes means for applying a negative voltage to said sample. Scanning electron microscope and similar devices.
【請求項8】請求項7に記載された走査電子顕微鏡およ
びその類似装置において、前記試料に負電圧が印加され
る場合と印加されない場合とで、前記電界の非軸対称性
を補正する条件を可変する制御手段を備えたことを特徴
とする走査電子顕微鏡およびその類似装置。
8. The scanning electron microscope according to claim 7, wherein the condition for correcting the non-axial symmetry of the electric field is determined depending on whether a negative voltage is applied to the sample or not. A scanning electron microscope and a similar device comprising a variable control means.
【請求項9】請求項1〜6のいずれかに記載された走査
電子顕微鏡およびその類似装置において、前記対物レン
ズ中の前記電子ビームの光軸を包囲する電極を備え、該
電極には正電圧が印加されることを特徴とする走査電子
顕微鏡およびその類似装置。
9. The scanning electron microscope according to claim 1, further comprising an electrode surrounding the optical axis of said electron beam in said objective lens, wherein said electrode has a positive voltage. Scanning electron microscope and a device similar thereto.
【請求項10】請求項9に記載された走査電子顕微鏡お
よびその類似装置において、前記電極に正電圧が印加さ
れる場合と印加されない場合とで、前記電界の非軸対称
性を補正する条件を可変する制御手段を備えたことを特
徴とする走査電子顕微鏡およびその類似装置。
10. The scanning electron microscope according to claim 9, wherein the condition for correcting the non-axial symmetry of the electric field is determined depending on whether a positive voltage is applied to the electrode or not. A scanning electron microscope and a similar device comprising a variable control means.
【請求項11】請求項3に記載された走査電子顕微鏡お
よびその類似装置において、前記偏向電極は、電子の衝
突によって光または電気信号を発生する部材で形成さ
れ、該光あるいは電気信号を像信号に変換する手段を備
えたことを特徴とする走査電子顕微鏡およびその類似装
置。
11. The scanning electron microscope according to claim 3, wherein the deflection electrode is formed of a member that generates a light or an electric signal by collision of electrons, and converts the light or the electric signal into an image signal. A scanning electron microscope and a device similar to the scanning electron microscope, characterized by comprising a means for converting the scanning electron microscope.
【請求項12】請求項1または2に記載された走査電子
顕微鏡およびその類似装置において、前記電子ビームの
光軸近傍には、電子の衝突により二次電子が発生する物
質で形成された電極が配置され、該二次電子が発生する
物質で形成された電極の近傍であって、該電極から発生
した二次電子を高効率良く検出することが可能な位置に
前記二次電子検出器が備えられていることを特徴とする
走査電子顕微鏡およびその類似装置。
12. The scanning electron microscope according to claim 1 or 2, wherein an electrode formed of a substance that generates secondary electrons by collision of electrons is provided near the optical axis of the electron beam. The secondary electron detector is provided at a position near the electrode formed of a substance from which the secondary electrons are generated and in which secondary electrons generated from the electrode can be detected with high efficiency. Scanning electron microscope and similar devices.
【請求項13】請求項12に記載された走査電子顕微鏡
およびその類似装置において、前記二次電子が発生する
物質で形成された電極は、前記電子ビームを走査するた
めの走査電極下に配置されると共に、前記電子ビームの
光軸と直交する方向に移動させる移動機構を備えている
ことを特徴とする走査電子顕微鏡およびその類似装置。
13. A scanning electron microscope according to claim 12, wherein an electrode formed of a material from which said secondary electrons are generated is arranged below a scanning electrode for scanning said electron beam. And a moving mechanism for moving the electron beam in a direction perpendicular to the optical axis of the electron beam.
【請求項14】請求項1または2に記載された走査電子
顕微鏡およびその類似装置において、前記電子ビームの
光軸近傍であり、かつ前記対物レンズ上に、電子の衝突
によって光または電気信号を発生させる電極を備えたこ
とを特徴とする走査電子顕微鏡およびその類似装置。
14. A scanning electron microscope according to claim 1 or 2, wherein a light or an electric signal is generated by collision of an electron near the optical axis of said electron beam and on said objective lens. A scanning electron microscope and an apparatus similar to the scanning electron microscope, wherein the scanning electron microscope is provided with an electrode to be made.
【請求項15】請求項14に記載された走査電子顕微鏡
およびその類似装置において、前記電子の衝突によって
光または電気信号を発生させる電極は、前記電子ビーム
を走査する走査電極下に配置されると共に、前記電子ビ
ームの光軸と直交する方向に移動させる移動機構を備え
ていることを特徴とする走査電子顕微鏡およびその類似
装置。
15. The scanning electron microscope according to claim 14, wherein an electrode for generating a light or an electric signal by collision of the electrons is arranged below a scanning electrode for scanning the electron beam. A scanning electron microscope comprising a moving mechanism for moving the electron beam in a direction perpendicular to the optical axis of the electron beam, and a device similar to the scanning electron microscope.
【請求項16】請求項1または2に記載された走査電子
顕微鏡およびその類似装置において、前記電子ビームの
光軸近傍であって該電子ビームを走査する走査電極上
に、電子の衝突によって光あるいは電気信号を発生させ
る電極を配置し、該光あるいは電気信号を像信号に変換
する手段を備えていることを特徴とする走査電子顕微鏡
およびその類似装置。
16. A scanning electron microscope according to claim 1 or 2, and a device similar to the scanning electron microscope, wherein an electron beam impinges on a scanning electrode near an optical axis of the electron beam and scans the electron beam. A scanning electron microscope and an apparatus similar to the above, wherein an electrode for generating an electric signal is arranged, and means for converting the light or the electric signal into an image signal is provided.
【請求項17】請求項1または2に記載された走査電子
顕微鏡およびその類似装置において、前記電子ビームに
対し、互いに直交する電界と磁界を発生させる直交電磁
界発生器を備え、前記電界と磁界は前記電子ビームに対
してはその偏向作用が打ち消し合い、前記情報信号に対
してはその偏向作用が共に前記検出器側に作用すること
を特徴とする走査電子顕微鏡およびその類似装置。
17. A scanning electron microscope according to claim 1 or 2, further comprising a quadrature electromagnetic field generator for generating an electric field and a magnetic field orthogonal to each other with respect to said electron beam. A scanning electron microscope and a similar device, wherein the electron beam has a deflecting action that cancels out, and the information signal has a deflecting action both acting on the detector side.
【請求項18】請求項17に記載された走査電子顕微鏡
およびその類似装置において、前記電子ビームの光軸近
傍には、電子の衝突により二次電子が発生する物質で形
成された電極が配置され、該二次電子が発生する物質で
形成された電極近傍であって、該電極から発生した二次
電子を前記二次電子検出器側に偏向可能な位置に、前記
直交電磁界発生器が備えられていることを特徴とする走
査電子顕微鏡およびその類似装置。
18. The scanning electron microscope according to claim 17, wherein an electrode formed of a substance that generates secondary electrons by collision of electrons is arranged near the optical axis of said electron beam. The orthogonal electromagnetic field generator is provided at a position near an electrode formed of a substance from which the secondary electrons are generated and at a position where the secondary electrons generated from the electrode can be deflected to the secondary electron detector side. Scanning electron microscope and similar devices.
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