JPH11134713A - Optical information recording medium - Google Patents

Optical information recording medium

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JPH11134713A
JPH11134713A JP9298477A JP29847797A JPH11134713A JP H11134713 A JPH11134713 A JP H11134713A JP 9298477 A JP9298477 A JP 9298477A JP 29847797 A JP29847797 A JP 29847797A JP H11134713 A JPH11134713 A JP H11134713A
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recording
change optical
reflective layer
phase
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a phase transition type optical disk which lessens cross erasure and is excellent in repeating characteristics by successively laminating a dielectric layer, lower reflection layer, dielectric layer, recording layer, dielectric layer and upper reflection layer on a substrate and using at least one kind of the metals selected from Au, Al, Ti, Cu and Cr or their alloys for the reflection layer. SOLUTION: The constitution obtd. by successively laminating the dielectric layer 2, the lower reflection layer 3, the dielectric layer 4, the recording layer 5, the dielectric layer 6 and the upper reflection layer 7 on the substrate 1 is adopted for the recording medium 10. The dielectric layer 2 suppresses the thermal deformation of the substrate 1 by heating up of the lower reflection layer 3 at the time of recording. The lower reflection layer 3 acts to suppress the cross erasure by making the absorptance at the time the recording layer 5 is in an amorphous state lower than the absorptance at the time the recording layer is in a crystalline state. Materials or metallic materials having a high refractive index and having a small coefft. attenuation are usable for the lower reflection layer 3.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、レーザ光の照射に
より情報の記録・再生を行う光学情報記録媒体に関し、
特に、相変化光ディスクに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical information recording medium for recording and reproducing information by irradiating a laser beam.
In particular, it relates to a phase change optical disk.

【0002】[0002]

【従来の技術】本発明に関する従来技術を過去の特許出
願から遡行調査すると、先ず、クロス消去低減のため
に、非晶質状態における吸収率Aaと結晶状態における
吸収率Acとの割合を改善する出願として、特開平1−
149238号公報,特開平7−93804号公報があ
る。また、線速度の適用範囲を拡大する目的の出願とし
て、近年では、特開平8−156423号公報があり、
消去率、特にオーバーライト後のジッタ特性の向上を目
指す出願として、特開平9−63119号公報がある。
最近では、「記録中ベリファイ動作」が可能な構成を提
示する出願として、特開平9−73660号公報があ
る。
2. Description of the Related Art A retrospective study of the prior art relating to the present invention from a past patent application shows that the ratio between the absorptivity Aa in the amorphous state and the absorptivity Ac in the crystalline state is improved to reduce cross erasure. As the application,
149238 and JP-A-7-93804. In addition, as an application for expanding the applicable range of the linear velocity, Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-156423 has recently been proposed.
Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-63119 is an application aimed at improving the erasing rate, particularly the jitter characteristics after overwriting.
Recently, Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-73660 has been filed as an application that proposes a configuration capable of performing the “verification operation during recording”.

【0003】また、本発明の光学情報記録媒体に関連す
る学術論文としては、以下に記載するものがあった。 筆者:森下 直樹 中村直正 鈴木克己 刊行物の題名:第5回相変化記録研究会 シンポジウム
予稿集 発行年月日:1993年11月25日 該当個所・図面;94ページ,Fig.1
Further, there are the following academic papers relating to the optical information recording medium of the present invention. Author: Naoki Morishita Naomasa Nakamura Katsumi Suzuki Title of publication: Fifth Meeting of the Phase Change Recording Society Symposium Proceedings Publication date: November 25, 1993 Applicable parts and drawings; Page 94, FIG. 1

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところで、従来の技術
では、高密度化のためにトラックピッチを狭めていく
と、情報の記録を行った際に、隣接トラックの情報を消
去してしまうという問題、いわゆるクロス消去の問題が
深刻であった。クロス消去低減のためには非晶質状態に
おける吸収率Aaを結晶状態における吸収率Acより低
くすることが有効である。
By the way, in the prior art, if the track pitch is reduced for higher density, the information on the adjacent track is erased when the information is recorded. The problem of so-called cross erasure was serious. To reduce cross erasure, it is effective to make the absorption rate Aa in the amorphous state lower than the absorption rate Ac in the crystalline state.

【0005】従来の相変化光ディスクでは、一般にAa
がAcより高くなっているが、AaをAcより低くする
技術としては、上記した特開平1−149238号公
報、特開平7−93804号公報、第5回相変化記録研
究会シンポジウム予稿集92−94ページ記載の技術な
どが知られている。これらの発明はクロス消去特性の改
善を目的としてAaを低くしたものではなく、マークエ
ッジ記録時のオーバライト特性改善を目的としてAcを
Aaより高くしたものであるが、結果的に、AaがAc
より低くなっているのでクロス消去低減に有効な技術と
なっている。
In a conventional phase change optical disk, generally, Aa
Is higher than Ac, but techniques for lowering Aa than Ac include techniques described in JP-A-1-149238 and JP-A-7-93804, and the 5th Symposium on Phase Change Recording Research Symposium. The technology described on page 94 is known. In these inventions, Ac is made higher than Aa for the purpose of improving the overwrite characteristic at the time of mark edge recording, but Aa is not made lower for the purpose of improving the cross erase characteristic.
Since it is lower, it is an effective technique for reducing cross erase.

【0006】しかしながら、これら従来の技術は以下の
ような問題点を有している。第1の問題点は、トラック
ピッチを狭めることができないことである。上記問題点
が生じる理由は、情報の書き換えを行う際に、隣接トラ
ックに記録されているデータを消去してしまうクロス消
去が生じてしまうためである。また、従来の技術の第2
の問題点は、クロス消去の抑制が可能な従来の相変化光
ディスクでは、情報の書き換え可能回数が低線速下では
特に大幅に制限されていることである。
[0006] However, these conventional techniques have the following problems. The first problem is that the track pitch cannot be reduced. The reason that the above problem occurs is that when information is rewritten, cross erasure that erases data recorded on an adjacent track occurs. In addition, the second of the prior art
The problem is that, in a conventional phase-change optical disc capable of suppressing cross erasure, the number of times that information can be rewritten is greatly limited particularly at a low linear velocity.

【0007】上記第2の問題点が生じる理由は、クロス
消去の抑制が可能な従来の相変化光ディスクでは熱負荷
が高くなる構成を取っているためである。例えば、第5
回相変化記録研究会シンポジウム予稿集の94ページ,
Fig.1が開示する例では、反射層らしき構造体とし
て、基板直上に、「吸収性のある半透明金属層」と称す
る層を設けているが、この層は、極薄の金薄膜であるが
故に、情報の記録時に反射層がレーザ光を吸収し、昇温
するため、反射層直下の基板に熱負荷がかかり、情報の
繰り返し書き換え回数が限られるという問題を生じてい
た。また、基板と上記「吸収性のある半透明金属層」間
には、伝熱防止用の緩衝体として作用する層が設けられ
ていないので、この点からも、反射層の昇温に伴う基板
の熱変形を抑制し、繰り返し特性を向上させる課題は達
成できていない。
The second problem occurs because the conventional phase-change optical disc capable of suppressing cross erasure has a structure in which the heat load is increased. For example, the fifth
94 pages of the proceedings of the Symposium
FIG. In the example disclosed by No. 1, a layer called “absorptive semi-transparent metal layer” is provided immediately above the substrate as a structure that may be a reflective layer. However, since this layer is an extremely thin gold thin film, However, when recording information, the reflective layer absorbs the laser beam and raises the temperature, so that a thermal load is applied to the substrate immediately below the reflective layer, and the number of times of rewriting information repeatedly is limited. Further, since a layer acting as a buffer for preventing heat transfer is not provided between the substrate and the “absorptive translucent metal layer”, the substrate accompanying the temperature rise of the reflective layer is also considered from this point. However, the problem of suppressing thermal deformation and improving repetition characteristics has not been achieved.

【0008】図13は、上記予稿集の94ページ,Fi
g. 1に開示されている図である。図13が示す構造に
おいては、ディスク130は、ポリカ−ボネ−ト(Po
lycarbonate)の基板131上に直接Au層
132が置かれ、次に、ZnS−SiO2 層133、G
2 Sb2 Te5 層134、ZnS−SiO2 層層13
5、Al合金層136、UV樹脂層137が、順に積層
されている。反射層の役割を果たすと推定されるAu層
132については14nmと極薄になっている。
FIG. 13 shows page 94 of the above-mentioned proceedings, Fi.
g. FIG. 1 is a diagram disclosed in FIG. In the structure shown in FIG. 13, the disk 130 is made of polycarbonate (Po).
An Au layer 132 is placed directly on a lycarbonate substrate 131, and then a ZnS—SiO 2 layer 133, G
e 2 Sb 2 Te 5 layer 134, ZnS-SiO 2 layer layer 13
5, an Al alloy layer 136 and a UV resin layer 137 are sequentially stacked. The Au layer 132, which is assumed to play the role of a reflective layer, is as thin as 14 nm.

【0009】また、特開平1−149238号公報では
反射層として極薄膜の金属を用いているため、放熱性が
悪く、熱負荷が高いので、特に線速8m/s以下の低線
速下では、繰り返し書き換え回数が制限されるという問
題を生じていた。また、特開平7−93804号公報で
は繰り返し特性は確保できるものの、短波長光源使用時
にはAaをAcより大幅に低下させることができないと
いう問題が生じていた。
In Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-149238, since a very thin metal is used as the reflective layer, the heat dissipation is poor and the heat load is high, and particularly at a low linear velocity of 8 m / s or less. However, there has been a problem that the number of times of rewriting is limited. Further, in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 7-93804, although repetition characteristics can be ensured, there has been a problem that when a short wavelength light source is used, Aa cannot be reduced significantly from Ac.

【0010】その他、近年に出願された特開平8−15
6423号公報と特開平9−63119号公報について
吟味してみても、下記の点で、本発明の技術が開示する
記録媒体の構造とは異なっている。図11は、特開平8
−156423号公報が開示する光ディスクの構造であ
る。
[0010] In addition, Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 8-15 filed recently
Examination of JP-A-6423 and JP-A-9-63119 reveals that the structure of the recording medium disclosed in the technology of the present invention is different in the following points. FIG.
156423 discloses the structure of an optical disc.

【0011】図11に示すように、この光ディスク11
1は、光透過性基板112上に、第1の保護層113、
記録層114、第2の保護層115、反射層116、U
V硬化樹脂保護層117がこの順に積層されている。こ
の構造においては、反射層116が唯一の反射層となっ
ている。図12は、特開平9−73660号公報が開示
する光学的記録媒体の構造である。
[0011] As shown in FIG.
1, a first protective layer 113 on a light-transmitting substrate 112;
Recording layer 114, second protective layer 115, reflective layer 116, U
The V-cured resin protective layers 117 are laminated in this order. In this structure, the reflection layer 116 is the only reflection layer. FIG. 12 shows the structure of an optical recording medium disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-73660.

【0012】図12に示すように、この光学的記録媒体
120は、透明基板122上に、第一保護膜123、記
録膜124、第二保護膜125、反射膜126、紫外線
硬化樹脂127がこの順に積層されている。この構造に
おいても、反射層らしきものは反射膜126のただ一つ
である。また、特開平9−63119号公報について
は、図は全く開示されていないが、明細書の記述によれ
ば、やはり反射層は只一つであり、同公報はその材質を
特定しているに過ぎない。
As shown in FIG. 12, in the optical recording medium 120, a first protective film 123, a recording film 124, a second protective film 125, a reflection film 126, and an ultraviolet curing resin 127 are formed on a transparent substrate 122. They are stacked in order. Also in this structure, only one of the reflective films 126 is considered to be a reflective layer. Further, JP-A-9-63119 does not disclose any drawings, but according to the description in the specification, there is still only one reflective layer, and the publication specifies the material. Not just.

【0013】それ故、これらの出願で開示された技術に
おいても、上記の問題点は構造的には解決されていな
い。本発明は、以上のような従来のディスク装置技術に
おける問題点に鑑みてなされたものであり、よって、本
発明の第1の目的は、クロス消去が少なく、かつ、繰り
返し特性に優れた相変化光ディスクを提供することにあ
る。
[0013] Therefore, even in the techniques disclosed in these applications, the above problems are not structurally solved. The present invention has been made in view of the above-mentioned problems in the conventional disk drive technology, and accordingly, a first object of the present invention is to provide a phase change having less cross erasure and excellent repetition characteristics. An optical disk is provided.

【0014】また、本発明の第2の目的は、高密度化を
達成しても、なおかつ、性能特性と信頼性の面で、従来
より優れた相変化光ディスクを提供することにある。
It is a second object of the present invention to provide a phase-change optical disc which achieves higher density and which is superior in performance characteristics and reliability to the conventional one.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明の態様によれば、基板上に誘電体層、下部反
射層、誘電体層、記録層、誘電体層、上部反射層を順に
積層したこと、を特徴とする相変化光ディスクが提供さ
れる。前記前記相変化光ディスクの上部反射層として
は、Au,Al,Ti,Cu,Crから選ばれた少なく
とも1種の金属又はそれらの合金を用いることが可能で
ある。
According to an embodiment of the present invention, a dielectric layer, a lower reflective layer, a dielectric layer, a recording layer, a dielectric layer, and an upper reflective layer are provided on a substrate. Are sequentially stacked, thereby providing a phase-change optical disc. As the upper reflective layer of the phase change optical disk, at least one metal selected from Au, Al, Ti, Cu, and Cr or an alloy thereof can be used.

【0016】また、前記の相変化光ディスクの上部反射
層の膜厚を40nm以上300nm以下とすることが可
能である。前記相変化光ディスクの下部反射層としては
SiあるいはGeを用いることが可能である。また、前
記の相変化光ディスクの下部反射層の膜厚を10nm以
上120nm以下とすることも可能である。
Further, the thickness of the upper reflective layer of the phase-change optical disk can be set to 40 nm or more and 300 nm or less. It is possible to use Si or Ge as the lower reflective layer of the phase change optical disk. Further, the thickness of the lower reflective layer of the phase-change optical disk can be set to 10 nm or more and 120 nm or less.

【0017】さらに、前記相変化光ディスクの下部反射
層としては、上記の他に、Au,Al,Ti,Cu,C
rから選ばれた少なくとも1種の金属又はそれらの合金
を用いることも可能である。さらに、前記相変化光ディ
スクの下部反射層の膜厚としては、上記の他に10nm
以上30nm以下とする仕様も可能である。
Further, in addition to the above, Au, Al, Ti, Cu, C
It is also possible to use at least one metal selected from r or an alloy thereof. Further, the thickness of the lower reflective layer of the phase-change optical disk may be 10 nm in addition to the above.
A specification of not less than 30 nm is also possible.

【0018】そして、前記相変化光ディスクにおいて
は、非晶質状態における記録層の吸収率が結晶状態にお
ける記録層の吸収率より低くなるように設定することも
できる。本発明の相変化光ディスクの作用を述べると、
先ず、クロス消去を抑制するには、非晶質部の吸収率を
低くすることが効果的であることに着目した。それ故、
下部反射層としてSiあるいはGe等の透過率の高い材
料あるいは膜厚10−30nmの極薄金属を用いること
により、非晶質部の反射率を高めて、非晶質部の吸収率
を低くすることを可能としている。
In the phase-change optical disk, the absorption of the recording layer in the amorphous state may be set to be lower than the absorption of the recording layer in the crystalline state. To describe the operation of the phase change optical disk of the present invention,
First, attention has been paid to the fact that it is effective to reduce the absorptance of the amorphous portion to suppress cross erasure. Therefore,
By using a material having a high transmittance such as Si or Ge or a very thin metal having a film thickness of 10 to 30 nm as the lower reflective layer, the reflectance of the amorphous portion is increased and the absorptance of the amorphous portion is reduced. It is possible.

【0019】なお、下部反射層も光を吸収するので、情
報の記録時には下部反射層の温度が上昇する。下部反射
層と基板の間に伝熱防止層として誘電体層を設けること
により、基板への熱負荷を低減し、繰り返し特性を向上
させることができる。
Since the lower reflective layer also absorbs light, the temperature of the lower reflective layer rises when recording information. By providing a dielectric layer as a heat transfer preventing layer between the lower reflective layer and the substrate, the heat load on the substrate can be reduced, and the repetition characteristics can be improved.

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】次に、本発明の相変化光ディスク
の実施の形態について、図1〜図10を参照して説明す
る。図1は、本発明の第1の実施形態に係る相変化光デ
ィスクの構成図である。図1が示す実施形態において
は、記録媒体10は、基板1上に、第一誘電体層2、下
部反射層3、第二誘電体層4、記録層5、第三誘電体層
6、上部反射層7を、順に積層した構成を取る。
Next, an embodiment of a phase change optical disk according to the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 1 is a configuration diagram of a phase-change optical disc according to the first embodiment of the present invention. In the embodiment shown in FIG. 1, a recording medium 10 includes a first dielectric layer 2, a lower reflective layer 3, a second dielectric layer 4, a recording layer 5, a third dielectric layer 6, A configuration in which the reflective layers 7 are sequentially stacked is adopted.

【0021】第一誘電体層2は、記録時の下部反射層3
の昇温による基板1の熱変形を抑制する。下部反射層3
は、記録層5が非晶質状態にある時の反射率を高め、非
晶質状態にある時の吸収率を結晶状態にある時の吸収率
より低くして、クロス消去を抑制する働きをしている。
The first dielectric layer 2 comprises a lower reflective layer 3 for recording.
The thermal deformation of the substrate 1 due to the temperature rise is suppressed. Lower reflective layer 3
Has the function of increasing the reflectivity when the recording layer 5 is in the amorphous state and lowering the absorptance when in the amorphous state than the absorptivity when in the crystalline state, thereby suppressing cross erasure. doing.

【0022】下部反射層3としては、屈折率が大きく、
消衰係数が小さい材料あるいは金属材料を用いることが
できる。記録層5が結晶状態にある時の吸収率を確保す
るために、下部反射層3の膜厚は、屈折率が大きく、消
衰係数が小さい材料の場合には10nm以上120nm
以下とし、金属材料の場合には10nm以上30nm以
下とすることが望ましい。
The lower reflective layer 3 has a large refractive index,
A material having a small extinction coefficient or a metal material can be used. In order to secure an absorptivity when the recording layer 5 is in a crystalline state, the thickness of the lower reflective layer 3 should be 10 nm or more and 120 nm in the case of a material having a large refractive index and a small extinction coefficient.
In the case of a metal material, the thickness is preferably 10 nm or more and 30 nm or less.

【0023】結晶状態にある時の記録層の吸収率が低下
しすぎると、レーザ光を使って記録することができなく
なるからである。記録層5はレーザ光の照射により反射
率が可逆的に変化する相変化材料である。上部反射層7
としては、放熱性を高め繰り返し特性を向上させるため
に金属材料を用いる。
This is because if the absorptance of the recording layer in the crystalline state is too low, recording cannot be performed using laser light. The recording layer 5 is a phase change material whose reflectivity changes reversibly by irradiation with laser light. Upper reflective layer 7
For this purpose, a metal material is used in order to enhance heat dissipation and improve repetition characteristics.

【0024】上部反射層7の膜厚としては、繰り返し特
性向上及び膜質の観点から40nm以上300nm以下
とすることが望ましい。これは、上部反射層7の膜厚が
40nm以下であると、十分な放熱性が得られず繰り返
し特性が劣化し、また、上部反射層7の膜厚が300n
m以上になると反射層が剥離しやすくなるためである。
The thickness of the upper reflective layer 7 is desirably 40 nm or more and 300 nm or less from the viewpoint of improvement of repetition characteristics and film quality. This is because if the thickness of the upper reflective layer 7 is less than 40 nm, sufficient heat dissipation cannot be obtained, and the repetition characteristics are deteriorated.
This is because the reflective layer is likely to be peeled off when the thickness is more than m.

【0025】図2は、本発明の第2の実施形態に係る相
変化光ディスクの構成図である。図2が示す実施形態に
おいては、上記の第1の実施形態における上部反射層7
の材質が特定され、Au,Al,Ti,Cu,Crから
選ばれた少なくとも1種の金属又はそれらの合金を用い
る。図3は、本発明の第3の実施形態に係る相変化光デ
ィスクの構成図である。
FIG. 2 is a configuration diagram of a phase change optical disk according to a second embodiment of the present invention. In the embodiment shown in FIG. 2, the upper reflective layer 7 in the first embodiment described above is used.
Is specified, and at least one metal selected from Au, Al, Ti, Cu, and Cr or an alloy thereof is used. FIG. 3 is a configuration diagram of a phase-change optical disc according to the third embodiment of the present invention.

【0026】図3が示す実施形態においては、上記の第
1又は第2の実施形態における上部反射層7の膜厚が特
定され、40nm以上300nm以下となっている。図
4は、本発明の第4の実施形態に係る相変化光ディスク
の構成図である。図4が示す実施形態においては、上記
の第1〜第3のいずれかの実施形態における下部反射層
3の材質が特定され、SiあるいはGeを使用する。
In the embodiment shown in FIG. 3, the thickness of the upper reflective layer 7 in the first or second embodiment is specified, and is 40 nm or more and 300 nm or less. FIG. 4 is a configuration diagram of a phase-change optical disc according to the fourth embodiment of the present invention. In the embodiment shown in FIG. 4, the material of the lower reflective layer 3 in any one of the first to third embodiments is specified, and Si or Ge is used.

【0027】図5は、本発明の第5の実施形態に係る相
変化光ディスクの構成図である。図5が示す実施形態に
おいては、上記の第1〜第4のいずれかの実施形態にお
ける下部反射層3の膜厚が特定され、10nm以上12
0nm以下に設定されている。図6は、本発明の第6の
実施形態に係る相変化光ディスクの構成図である。
FIG. 5 is a configuration diagram of a phase-change optical disc according to a fifth embodiment of the present invention. In the embodiment shown in FIG. 5, the film thickness of the lower reflective layer 3 in any one of the first to fourth embodiments is specified, and
It is set to 0 nm or less. FIG. 6 is a configuration diagram of a phase-change optical disc according to the sixth embodiment of the present invention.

【0028】図6が示す実施形態においても、上記の第
1〜第3のいずれかの実施形態における下部反射層3の
材質が特定され、Au,Al,Ti,Cu,Crから選
ばれた少なくとも1種の金属又はそれらの合金を用い
る。図7は、本発明の第7の実施形態に係る相変化光デ
ィスクの構成図である。図7が示す実施形態において
は、上記の第1,第2,第3又は第6の実施形態におけ
る下部反射層3の膜厚が特定され、10nm以上30n
m以下となっている。
In the embodiment shown in FIG. 6, the material of the lower reflective layer 3 in any one of the first to third embodiments is specified, and at least one selected from Au, Al, Ti, Cu, and Cr is selected. One kind of metal or an alloy thereof is used. FIG. 7 is a configuration diagram of a phase-change optical disc according to the seventh embodiment of the present invention. In the embodiment shown in FIG. 7, the film thickness of the lower reflective layer 3 in the above-described first, second, third or sixth embodiment is specified, and is 10 nm or more and 30 n or more.
m or less.

【0029】次に、本発明の相変化光ディスクの特性に
ついて、図8〜図10を参照して説明する。図8は、本
発明の相変化光ディスクによって、記録を行った際の温
度上昇を示す説明図である。情報の記録を行う際、記録
層5の温度は、図8のグラフ部分に示すような分布を持
つ。
Next, the characteristics of the phase change optical disk of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 8 is an explanatory diagram showing a temperature rise when recording is performed by the phase change optical disk of the present invention. When recording information, the temperature of the recording layer 5 has a distribution as shown in the graph of FIG.

【0030】この時、隣接トラックに記録されているデ
ータ(非晶質マーク)が消去されないためには、図8に
示したマーク端8での温度が、記録層の結晶化温度以下
となる必要がある。マーク端8の温度上昇量は、非晶質
状態における吸収率Aaに比例する。本発明の相変化光デ
ィスクでは、下部反射層2により、非晶質状態の反射率
を高めてAaを低くしているので、マーク端8の温度上
昇量を従来技術より小さくすることができ、クロス消去
を抑制することができる。
At this time, the temperature at the mark end 8 shown in FIG. 8 must be lower than the crystallization temperature of the recording layer so that the data (amorphous mark) recorded on the adjacent track is not erased. There is. The amount of temperature rise at the mark end 8 is proportional to the absorptance Aa in the amorphous state. In the phase change optical disk of the present invention, the lower reflective layer 2 increases the reflectance in the amorphous state and lowers Aa. Erasure can be suppressed.

【0031】次に、下記の実施形態に関して、本発明の
相変化光ディスクの構成と動作を述べる。最初に、基板
1としてポリカーボネートを用い、第一誘電体層2とし
てZnS−SiO2 を140nm、下部反射層3として
Siを40nm、第二誘電体層4としてZnS−SiO
2 を140nm、記録層5としてGe2 Sb2 Te5
15nm、第三誘電体層6としてZnS−SiO2 を2
0nm、反射層7としてAlを100nm、順次スパッ
タリングにより積層することにより得た実施形態につい
て述べる。
Next, the configuration and operation of the phase change optical disk of the present invention will be described with reference to the following embodiments. First, a polycarbonate is used as the substrate 1, ZnS—SiO 2 is 140 nm as the first dielectric layer 2, Si is 40 nm as the lower reflective layer 3, and ZnS—SiO 2 is the second dielectric layer 4.
2 is 140 nm, Ge 2 Sb 2 Te 5 is 15 nm as the recording layer 5, and ZnS—SiO 2 is 2 as the third dielectric layer 6.
An embodiment obtained by sequentially stacking 0 nm and Al as the reflective layer 7 by 100 nm by sputtering will be described.

【0032】図9は、上記の相変化光ディスクの基板の
形状を示す外観図である。図9に示すように、ポリカー
ボネート基板上に形成された案内溝のピッチ(トラック
ピッチ)は1.1μmとした。上記相変化光ディスクに
おいて、結晶状態における吸収率Acは60%、非晶質
状態における吸収率Aaは45%とした。ディスクを線
速5m/sで回転させ、波長660nm、対物レンズの
開口数0.6の光ヘッドを用いて測定を行った。
FIG. 9 is an external view showing the shape of the substrate of the phase change optical disk. As shown in FIG. 9, the pitch (track pitch) of the guide grooves formed on the polycarbonate substrate was 1.1 μm. In the phase change optical disk, the absorption rate Ac in the crystalline state was 60%, and the absorption rate Aa in the amorphous state was 45%. The disk was rotated at a linear velocity of 5 m / s, and the measurement was performed using an optical head having a wavelength of 660 nm and a numerical aperture of the objective lens of 0.6.

【0033】まず、ランド部に、1MHz、duty比
=50%の信号を記録した後、隣接する両側グルーブ部
に1.5MHz、duty比=50%の信号を繰り返し
記録して、1MHz信号のキャリアの変化を測定した。
図10は、上記の相変化光ディスクのクロス消去特性を
示すグラフである。図10から明らかなように、隣接グ
ルーブ部で情報の書き換えを繰り返し行っても、1MH
zの信号はまったく影響を受けない。
First, a signal having a frequency of 1 MHz and a duty ratio of 50% is recorded on the land portion, and a signal having a frequency of 1.5 MHz and a duty ratio of 50% is repeatedly recorded on the adjacent groove portions. Was measured.
FIG. 10 is a graph showing the cross erase characteristics of the phase change optical disk. As is clear from FIG. 10, even when information is repeatedly rewritten in the adjacent groove portion, 1 MH
The signal at z is not affected at all.

【0034】なお、図10には、隣接するトラックに情
報を記録していない状態で測定した1MHz信号のキャ
リアCiと、隣接トラックで1.5MHzの信号を所定
回数繰り返し記録した後測定した1MHz信号のキャリ
アClとの差(Ci−Cl)を示した。上記の相変化光
ディスクを用いて、1MHz、duty比=50%の信
号を、繰り返し記録したところ、50万回の繰り返しま
で、1 MHz 信号のキャリアやノイズの変化は見られなか
った。
FIG. 10 shows a carrier Ci of a 1 MHz signal measured without recording information on an adjacent track, and a 1 MHz signal measured after repeatedly recording a 1.5 MHz signal a predetermined number of times on an adjacent track. (Ci-Cl) from the carrier Cl. When a signal of 1 MHz and a duty ratio = 50% was repeatedly recorded using the above-mentioned phase change optical disk, no change in the carrier or noise of the 1 MHz signal was observed until 500,000 repetitions.

【0035】次に、基板1としてポリカーボネートを用
い、誘電体層2としてZnS−SiO2 を140nm、
下部反射層3としてAlを10nm、誘電体層4として
ZnS−SiO2 を140nm、記録層5としてGe2
Sb2 Te5 を15nm、誘電体層6としてZnS−S
iO2 を20nm、反射層7としてAlを100nm、
順次スパッタリングにより積層して得られた実施形態に
ついて述べる。
Next, polycarbonate was used as the substrate 1 and ZnS—SiO 2 was 140 nm as the dielectric layer 2.
Al is 10 nm as the lower reflection layer 3, ZnS—SiO 2 is 140 nm as the dielectric layer 4, and Ge 2 is used as the recording layer 5.
15 nm of Sb 2 Te 5 and ZnS—S as the dielectric layer 6
iO 2 is 20 nm, Al is 100 nm as the reflection layer 7,
An embodiment obtained by sequentially laminating by sputtering will be described.

【0036】トラックピッチは前記実施形態と同様に
1.1μmとした。結晶状態における吸収率Acは70
%、非晶質状態における吸収率Aaは45%とした。上
記の相変化光ディスクを線速5m/sで回転させ、波長
660nm、対物レンズの開口数0.6の光ヘッドを用
いて測定を行った。前記実施形態と同様に、まずランド
部に1MHz、duty比=50%の信号を記録した
後、隣接する両側グルーブ部に1.5MHz、duty
比=50%の信号を繰り返し記録して、1MHz信号の
キャリアの変化を測定した。
The track pitch was set to 1.1 μm as in the above embodiment. The absorption rate Ac in the crystalline state is 70
%, And the absorptance Aa in the amorphous state was 45%. The phase change optical disk was rotated at a linear velocity of 5 m / s, and the measurement was performed using an optical head having a wavelength of 660 nm and a numerical aperture of the objective lens of 0.6. As in the above-described embodiment, first, a signal of 1 MHz and a duty ratio = 50% are recorded on the land portion, and then 1.5 MHz and a duty ratio of 1.5 MHz are recorded on the adjacent groove portions.
A signal having a ratio of 50% was repeatedly recorded, and the change in the carrier of the 1 MHz signal was measured.

【0037】この場合も、1MHzの信号はまったく影
響を受けなかった。この相変化光ディスクを用いて、1
MHz、duty比=50%の信号を繰り返し記録した
ところ、50万回までキャリアやノイズの変化は見られ
なかった。下部反射層3としては、上記実施形態以外
に、GeあるいはAu,Al,Ti,Cu,Cr又はそ
れらの合金を用いることもできる。また、上部反射層7
として、上記実施形態以外に、Au,Ti,Cu,Cr
又はそれらの合金、もしくは、Alとそれらの合金を用
いることもできる。
Again, the 1 MHz signal was not affected at all. Using this phase change optical disk, 1
When a signal of MHz and a duty ratio = 50% was repeatedly recorded, no change in carrier or noise was observed up to 500,000 times. As the lower reflective layer 3, other than the above-described embodiment, Ge or Au, Al, Ti, Cu, Cr, or an alloy thereof can be used. Also, the upper reflective layer 7
In addition to the above embodiment, Au, Ti, Cu, Cr
Alternatively, an alloy thereof, or Al and an alloy thereof can also be used.

【0038】[0038]

【発明の効果】本発明による相変化光ディスクの第1の
効果は、トラックピッチを狭めて記録密度を改善できる
ことである。その理由は、クロス消去を抑制することが
できるからである。本発明による相変化光ディスクの第
2の効果は、再生レーザ光が変動し、高パワーになって
もデータが消去されることを防ぐことができ、かつ、将
来、レーザ光源がさらに短波長化された際に、再生レー
ザ光によりデータが消去されることを防ぐことができ
る。
The first effect of the phase change optical disk according to the present invention is that the recording density can be improved by narrowing the track pitch. The reason is that cross erasure can be suppressed. The second effect of the phase change optical disk according to the present invention is that data can be prevented from being erased even when the reproduction laser beam fluctuates and the power becomes high, and the wavelength of the laser light source will be further shortened in the future. In this case, data can be prevented from being erased by the reproduction laser beam.

【0039】その理由は、非晶質状態の吸収率を低くし
ているからである。
The reason is that the absorptivity of the amorphous state is lowered.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施形態に係る相変化光ディス
クの構成図である。
FIG. 1 is a configuration diagram of a phase change optical disc according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第2の実施形態に係る相変化光ディス
クの構成図である。
FIG. 2 is a configuration diagram of a phase-change optical disc according to a second embodiment of the present invention.

【図3】本発明の第3の実施形態に係る相変化光ディス
クの構成図である。
FIG. 3 is a configuration diagram of a phase-change optical disc according to a third embodiment of the present invention.

【図4】本発明の第4の実施形態に係る相変化光ディス
クの構成図である。
FIG. 4 is a configuration diagram of a phase-change optical disc according to a fourth embodiment of the present invention.

【図5】本発明の第5の実施形態に係る相変化光ディス
クの構成図である。
FIG. 5 is a configuration diagram of a phase-change optical disc according to a fifth embodiment of the present invention.

【図6】本発明の第6の実施形態に係る相変化光ディス
クの構成図である。
FIG. 6 is a configuration diagram of a phase-change optical disc according to a sixth embodiment of the present invention.

【図7】本発明の第7の実施形態に係る相変化光ディス
クの構成図である。
FIG. 7 is a configuration diagram of a phase-change optical disc according to a seventh embodiment of the present invention.

【図8】本発明の相変化光ディスクによって、記録を行
った際の温度上昇を示す説明図である。
FIG. 8 is an explanatory diagram showing a temperature rise when recording is performed by the phase change optical disk of the present invention.

【図9】相変化光ディスクの基板の形状を示す外観図で
ある。
FIG. 9 is an external view showing a shape of a substrate of the phase change optical disk.

【図10】相変化光ディスクのクロス消去特性を示すグ
ラフである。
FIG. 10 is a graph showing a cross erase characteristic of a phase change optical disk.

【図11】特開平8−156423号公報が開示する光
ディスクの構造である。
FIG. 11 shows the structure of an optical disc disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-156423.

【図12】特開平9−73660号公報が開示する光学
的記録媒体の構造である。
FIG. 12 shows the structure of an optical recording medium disclosed in JP-A-9-73660.

【図13】第5回相変化記録研究会シンポジウム予稿集
の94ページ,Fig.1に開示された図である。
FIG. 13: Page 94 of the 5th Phase Change Recording Society Symposium Proceedings, FIG. 1 is a diagram disclosed in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板 2 第一誘電体層 3 下部反射層 4 第二誘電体層 5 記録層 6 第三誘電体層 7 上部反射層 8 マーク端 10 記録媒体 REFERENCE SIGNS LIST 1 substrate 2 first dielectric layer 3 lower reflective layer 4 second dielectric layer 5 recording layer 6 third dielectric layer 7 upper reflective layer 8 mark end 10 recording medium

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板上に誘電体層、下部反射層、誘電体
層、記録層、誘電体層、上部反射層をこの順に積層した
こと、 を特徴とする相変化光ディスク。
1. A phase-change optical disk comprising: a dielectric layer, a lower reflective layer, a dielectric layer, a recording layer, a dielectric layer, and an upper reflective layer laminated on a substrate in this order.
【請求項2】 上部反射層として、Au,Al,Ti,
Cu,Crから選ばれた少なくとも1種の金属又はそれ
らの合金を用いること、 を特徴とする請求項1記載の相変化光ディスク。
2. The method according to claim 1, wherein the upper reflective layer is made of Au, Al, Ti,
The phase-change optical disc according to claim 1, wherein at least one kind of metal selected from Cu and Cr or an alloy thereof is used.
【請求項3】 上部反射層の膜厚を40nm以上300
nm以下とすること、 を特徴とする請求項1又は2記載の相変化光ディスク。
3. The thickness of the upper reflective layer is 40 nm or more and 300
The phase-change optical disk according to claim 1, wherein the diameter is not more than nm.
【請求項4】 下部反射層として Si あるいは Ge を用
いること、 を特徴とする請求項1,2又は3記載の相変化光ディス
ク。
4. The phase change optical disk according to claim 1, wherein Si or Ge is used as the lower reflective layer.
【請求項5】 下部反射層の膜厚を10nm以上120
nm以下とすること、 を特徴とする請求項1乃至4の何れか1項に記載の相変
化光ディスク。
5. The film thickness of the lower reflective layer is 10 nm or more and 120
The phase change optical disc according to any one of claims 1 to 4, wherein the diameter is not more than nm.
【請求項6】 下部反射層として、Au,Al,Ti,
Cu,Crから選ばれた少なくとも1種の金属又はそれ
らの合金を用いること、 を特徴とする請求項1,2又は3記載の相変化光ディス
ク。
6. As a lower reflection layer, Au, Al, Ti,
4. The phase-change optical disc according to claim 1, wherein at least one kind of metal selected from Cu and Cr or an alloy thereof is used.
【請求項7】 下部反射層の膜厚を10nm以上30n
m以下とすること、 を特徴とする請求項1,2,3又は6記載の相変化光デ
ィスク。
7. The thickness of the lower reflective layer is 10 nm or more and 30 n or more.
7. The phase-change optical disk according to claim 1, wherein the value is not more than m.
【請求項8】 非晶質状態における記録層の吸収率が結
晶状態における記録層の吸収率より低いこと、 を特徴とする請求項1乃至7の何れか1項に記載の相変
化光ディスク。
8. The phase change optical disk according to claim 1, wherein the recording layer in the amorphous state has a lower absorption than the recording layer in the crystalline state.
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