JPH11131118A - 予備還元炉 - Google Patents
予備還元炉Info
- Publication number
- JPH11131118A JPH11131118A JP30052497A JP30052497A JPH11131118A JP H11131118 A JPH11131118 A JP H11131118A JP 30052497 A JP30052497 A JP 30052497A JP 30052497 A JP30052497 A JP 30052497A JP H11131118 A JPH11131118 A JP H11131118A
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- JP
- Japan
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- oxygen
- fluidized bed
- reduction
- reduction furnace
- dispersion plate
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Abstract
(57)【要約】
【課題】入口ガス温度を昇温することなく、予備還元流
動層内の温度を所望の温度に保持することにより、分散
板ノズルの閉塞を防止し、連続操業が可能な予備還元炉
を提供する。 【解決手段】分散板６で上下に仕切られた予備還元炉本
体１の上側に位置し、流動層１０を形成する予備還元室
２と、炉本体の下側に位置し、分散板６を通して流動層
内に還元性ガスを流入する風箱９と、前記予備還元室２
に取り付けられた鉱石供給管１１及び鉱石抜出管１２
と、前記予備還元室内に取り付けられ、酸素を含むガス
を流動層内に吹込む酸素吹込管１３を備えている予備還
元炉。
動層内の温度を所望の温度に保持することにより、分散
板ノズルの閉塞を防止し、連続操業が可能な予備還元炉
を提供する。 【解決手段】分散板６で上下に仕切られた予備還元炉本
体１の上側に位置し、流動層１０を形成する予備還元室
２と、炉本体の下側に位置し、分散板６を通して流動層
内に還元性ガスを流入する風箱９と、前記予備還元室２
に取り付けられた鉱石供給管１１及び鉱石抜出管１２
と、前記予備還元室内に取り付けられ、酸素を含むガス
を流動層内に吹込む酸素吹込管１３を備えている予備還
元炉。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、鉄鉱石の溶融還元
設備おいて、溶融状態での還元工程の前に溶融還元炉の
還元性排ガスを利用して固体状態で予め予備還元を行う
ための流動層式予備還元炉に関する。
設備おいて、溶融状態での還元工程の前に溶融還元炉の
還元性排ガスを利用して固体状態で予め予備還元を行う
ための流動層式予備還元炉に関する。
【０００２】
【従来の技術】鉄鉱石の溶融還元においては、設備を溶
融還元炉と流動式の予備還元炉とから構成し、溶融還元
炉で発生する排ガスを予備還元炉流動層の流動化用還元
ガスとして利用する方法が提案されている。そして、こ
の流動層として鉄鉱石の予熱、還元に伴う粉化を抑制で
きるという点からバブリング流動層が有利であり、使用
されている。
融還元炉と流動式の予備還元炉とから構成し、溶融還元
炉で発生する排ガスを予備還元炉流動層の流動化用還元
ガスとして利用する方法が提案されている。そして、こ
の流動層として鉄鉱石の予熱、還元に伴う粉化を抑制で
きるという点からバブリング流動層が有利であり、使用
されている。
【０００３】この構成を有する溶融還元設備の一例が特
開平１−１４９９１２号公報に示されている。この設備
は、図４に示すような溶融還元炉１と予備還元炉２とか
ら構成され、鉄鉱石は予備還元炉２で予熱及び予備還元
された後、溶融還元炉１に供給され、溶融還元されて溶
銑となる。そして、溶融還元炉１で発生する還元性の高
温ガスは予備還元炉２へ導入される。
開平１−１４９９１２号公報に示されている。この設備
は、図４に示すような溶融還元炉１と予備還元炉２とか
ら構成され、鉄鉱石は予備還元炉２で予熱及び予備還元
された後、溶融還元炉１に供給され、溶融還元されて溶
銑となる。そして、溶融還元炉１で発生する還元性の高
温ガスは予備還元炉２へ導入される。
【０００４】予備還元炉２は、図５に示すように、ガス
噴出用の多数の分散板ノズル７を有する分散板６で上下
に区分され、分散板ノズル７から還元ガスを吹込み、鉄
鉱石の流動層１０が形成され、鉄鉱石を予熱し予備還元
がなされている。
噴出用の多数の分散板ノズル７を有する分散板６で上下
に区分され、分散板ノズル７から還元ガスを吹込み、鉄
鉱石の流動層１０が形成され、鉄鉱石を予熱し予備還元
がなされている。
【０００５】鉄鉱石の還元反応は、鉱石銘柄、炉内滞留
時間、粒径、ガス中還元性ガスの割合、及び雰囲気温度
（層内温度）等によって決定されるが、これらの操業条
件が一定の場合、層内温度が高いほど鉄鉱石の還元率は
向上する。このため、鉄鉱石の還元の観点からは流動層
の層内温度は高いほど有利であるが、層内温度を８００
℃以上に設定した場合、予備還元された高温の鉄鉱石を
予備還元流動層から排出した際に、貯留ホッパー内部で
鉄鉱石が凝集して大塊となり、ホッパーから排出するこ
とが困難になる。従って、予備還元流動層の層内温度は
７００〜７５０℃に設定することが操業上有利である。
時間、粒径、ガス中還元性ガスの割合、及び雰囲気温度
（層内温度）等によって決定されるが、これらの操業条
件が一定の場合、層内温度が高いほど鉄鉱石の還元率は
向上する。このため、鉄鉱石の還元の観点からは流動層
の層内温度は高いほど有利であるが、層内温度を８００
℃以上に設定した場合、予備還元された高温の鉄鉱石を
予備還元流動層から排出した際に、貯留ホッパー内部で
鉄鉱石が凝集して大塊となり、ホッパーから排出するこ
とが困難になる。従って、予備還元流動層の層内温度は
７００〜７５０℃に設定することが操業上有利である。
【０００６】一方、溶融還元炉からの２０００℃近くの
高温の還元性ガスは、予備還元流動層へ連結する水冷式
の排ガスダクト及び水冷式のサイクロン型集塵装置によ
って冷却され、予備還元炉の風箱部では約７５０℃に低
下する。この還元性ガスを分散板を通して層内に導入す
ると、鉱石の顕熱や付着水分の蒸発熱、還元熱などによ
って冷却されて、層内温度が約５５０℃に低下し、所定
の鉱石還元率（１０％以上）を得ることができない。
高温の還元性ガスは、予備還元流動層へ連結する水冷式
の排ガスダクト及び水冷式のサイクロン型集塵装置によ
って冷却され、予備還元炉の風箱部では約７５０℃に低
下する。この還元性ガスを分散板を通して層内に導入す
ると、鉱石の顕熱や付着水分の蒸発熱、還元熱などによ
って冷却されて、層内温度が約５５０℃に低下し、所定
の鉱石還元率（１０％以上）を得ることができない。
【０００７】そこで、特開平１−１４９９１２号公報の
発明では、予備還元流動層の層内温度を高めるために、
予備還元炉入口のガスダクト内に酸素を吹込み、この部
分燃焼熱により、入口ガス温度を約１０００℃以上に昇
温している。しかし、入口ガス温度が１０００℃以上に
なると、予備還元炉の分散板にＮａ，Ｋ，Ｓなどの低融
点化合物を有するダストが付着し、分散板ノズルが閉塞
し、その結果連続操業ができない。
発明では、予備還元流動層の層内温度を高めるために、
予備還元炉入口のガスダクト内に酸素を吹込み、この部
分燃焼熱により、入口ガス温度を約１０００℃以上に昇
温している。しかし、入口ガス温度が１０００℃以上に
なると、予備還元炉の分散板にＮａ，Ｋ，Ｓなどの低融
点化合物を有するダストが付着し、分散板ノズルが閉塞
し、その結果連続操業ができない。
【０００８】分散板のダスト防止を図る技術として特開
平８−１９９２１２号が開示されている。この技術は、
金属構造体の分散板の内部に冷却用流体を流して分散板
仮面及びノズル孔内面の温度を低下させて還元ガス中の
ダストの付着を防止するものである。特公平８−２６３
８０号には、分散板の内部に冷却用流体を流すとともに
分散板の上面に耐火物層を設けて、分散板上面からの抜
熱による流動層内部の温度低下を防止する技術が提案さ
れている。しかし、いずれも還元ガスを冷却するので、
還元ガスの顕熱を有効に利用するという観点からは問題
がある。
平８−１９９２１２号が開示されている。この技術は、
金属構造体の分散板の内部に冷却用流体を流して分散板
仮面及びノズル孔内面の温度を低下させて還元ガス中の
ダストの付着を防止するものである。特公平８−２６３
８０号には、分散板の内部に冷却用流体を流すとともに
分散板の上面に耐火物層を設けて、分散板上面からの抜
熱による流動層内部の温度低下を防止する技術が提案さ
れている。しかし、いずれも還元ガスを冷却するので、
還元ガスの顕熱を有効に利用するという観点からは問題
がある。
【０００９】更に、三日間程度の短時間操業では、これ
らの冷却型分散板を用いることによりダスト付着を回避
出来るものの、それ以上の連続操業を続けると分散板へ
のダスト付着が発生し、根本的な解決策にはならない。
らの冷却型分散板を用いることによりダスト付着を回避
出来るものの、それ以上の連続操業を続けると分散板へ
のダスト付着が発生し、根本的な解決策にはならない。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、入口
ガス温度を昇温することなく、予備還元流動層内の温度
を所望の温度に保持することにより、分散板ノズルの閉
塞を防止し、連続操業が可能な予備還元炉を提供するこ
とである。
ガス温度を昇温することなく、予備還元流動層内の温度
を所望の温度に保持することにより、分散板ノズルの閉
塞を防止し、連続操業が可能な予備還元炉を提供するこ
とである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、分散
板で上下に仕切られた予備還元炉本体の上側に位置し、
流動層を形成する予備還元室と、炉本体の下側に位置
し、分散板を通して流動層内に還元性ガスを流入する風
箱と、前記予備還元室に取り付けられた鉱石供給管及び
鉱石抜出管と、前記予備還元室内に取り付けられ、酸素
を含むガスを予備還元室に吹込む酸素吹込管を備えてい
る予備還元炉である。
板で上下に仕切られた予備還元炉本体の上側に位置し、
流動層を形成する予備還元室と、炉本体の下側に位置
し、分散板を通して流動層内に還元性ガスを流入する風
箱と、前記予備還元室に取り付けられた鉱石供給管及び
鉱石抜出管と、前記予備還元室内に取り付けられ、酸素
を含むガスを予備還元室に吹込む酸素吹込管を備えてい
る予備還元炉である。
【００１２】請求項２の発明は、流動層底部から酸素吹
込管の酸素吹込口までの高さＬｂは、流動層の高さＬｆ
に対し、０．５Ｌｆ≦Ｌｂ≦１．５Ｌｆの範囲内にある
請求項１に記載の予備還元炉である。
込管の酸素吹込口までの高さＬｂは、流動層の高さＬｆ
に対し、０．５Ｌｆ≦Ｌｂ≦１．５Ｌｆの範囲内にある
請求項１に記載の予備還元炉である。
【００１３】請求項３の発明は、酸素吹込管の酸素吹込
方向は、鉛直方向に対して３０〜６０゜の範囲にある請
求項１又は２に記載の予備還元炉である。請求項４の発
明は、酸素吹込管はスライド可能に取り付けられている
請求項１乃至３のいずれか１に記載の予備還元炉であ
る。
方向は、鉛直方向に対して３０〜６０゜の範囲にある請
求項１又は２に記載の予備還元炉である。請求項４の発
明は、酸素吹込管はスライド可能に取り付けられている
請求項１乃至３のいずれか１に記載の予備還元炉であ
る。
【００１４】請求項５の発明は、酸素吹込管の基端側に
酸素予熱装置を接続している請求項１乃至４のいずれか
１に記載の予備還元炉である。請求項６の発明は、酸素
予熱装置は、酸素を６５０℃以上に加熱するものである
請求項５に記載の予備還元炉である。
酸素予熱装置を接続している請求項１乃至４のいずれか
１に記載の予備還元炉である。請求項６の発明は、酸素
予熱装置は、酸素を６５０℃以上に加熱するものである
請求項５に記載の予備還元炉である。
【００１５】
【発明の実施の形態】予備還元炉は、図１に示すよう
に、予備還元炉本体２を分散板６により上下に仕切り、
その上部に流動層１０を形成する予備還元室８を設け、
下部に風箱９を設けている。風箱９は、還元炉からの還
元性ガスが流入するものである。予備還元室の側部に
は、鉄鉱石供給管１１と鉄鉱石抜出管１２が対向する位
置に取付けられている。予備還元室の頂部には排ガス排
出管１４が取付けられいる。さらに、予備還元室の側部
には、酸素を含むガスを予備還元室内に吹込むスライド
式の酸素吹込管１３が取付けられている。この酸素吹込
管は、酸素予熱装置１５と接続され、酸素を含むガスが
所定の温度に昇温された後予備還元室８に吹込み可能と
なっている。
に、予備還元炉本体２を分散板６により上下に仕切り、
その上部に流動層１０を形成する予備還元室８を設け、
下部に風箱９を設けている。風箱９は、還元炉からの還
元性ガスが流入するものである。予備還元室の側部に
は、鉄鉱石供給管１１と鉄鉱石抜出管１２が対向する位
置に取付けられている。予備還元室の頂部には排ガス排
出管１４が取付けられいる。さらに、予備還元室の側部
には、酸素を含むガスを予備還元室内に吹込むスライド
式の酸素吹込管１３が取付けられている。この酸素吹込
管は、酸素予熱装置１５と接続され、酸素を含むガスが
所定の温度に昇温された後予備還元室８に吹込み可能と
なっている。
【００１６】しかして、この予備還元炉によれば、鉄鉱
石供給管１１から供給された鉄鉱石に対して分散板６を
通して還元性ガスを供給することにより、予備還元室８
に流動層１０が形成される。酸素吹込管１３から酸素若
しくは酸素を含むガスを流動層内に吹込んで還元ガス中
のＣＯ，Ｈ2 成分を一部燃焼させ、その燃焼熱を流動し
ている鉄鉱石に着熱させる。着熱した鉄鉱石は、他の着
熱していない鉄鉱石と流動層内で良好に混合し、層内温
度は均一上昇して、設定温度７００〜７５０℃に昇温す
る。この場合、吹込み酸素量は、還元性ガス流量や設定
温度に応じて適宜決定される。例えば、還元性ガス流
量；４００００Ｎｍ3 ／ｈ、吹込み酸素量；１０００Ｎ
ｍ3 ／ｈで、この場合、約１５０℃昇温して７００℃に
上昇する。なお、空気を吹込む場合、例えば５０００Ｎ
ｍ3 ／ｈである。
石供給管１１から供給された鉄鉱石に対して分散板６を
通して還元性ガスを供給することにより、予備還元室８
に流動層１０が形成される。酸素吹込管１３から酸素若
しくは酸素を含むガスを流動層内に吹込んで還元ガス中
のＣＯ，Ｈ2 成分を一部燃焼させ、その燃焼熱を流動し
ている鉄鉱石に着熱させる。着熱した鉄鉱石は、他の着
熱していない鉄鉱石と流動層内で良好に混合し、層内温
度は均一上昇して、設定温度７００〜７５０℃に昇温す
る。この場合、吹込み酸素量は、還元性ガス流量や設定
温度に応じて適宜決定される。例えば、還元性ガス流
量；４００００Ｎｍ3 ／ｈ、吹込み酸素量；１０００Ｎ
ｍ3 ／ｈで、この場合、約１５０℃昇温して７００℃に
上昇する。なお、空気を吹込む場合、例えば５０００Ｎ
ｍ3 ／ｈである。
【００１７】ここで、酸素吹込管１３の配置数は鉱石へ
の着熱効率の点から予備還元室８の周囲に複数とするの
がよい。また、酸素吹込管の取付け角度は、排ガスの上
昇流によって燃焼火炎が上向きになって、層内への侵入
が阻害されて鉱石への着熱を低下させないように、下向
きに傾斜させる。ただし、傾斜角度が大きいと、流動層
中心部への着熱性能が悪化するため、傾斜角度を３０〜
６０゜の範囲に設定する。
の着熱効率の点から予備還元室８の周囲に複数とするの
がよい。また、酸素吹込管の取付け角度は、排ガスの上
昇流によって燃焼火炎が上向きになって、層内への侵入
が阻害されて鉱石への着熱を低下させないように、下向
きに傾斜させる。ただし、傾斜角度が大きいと、流動層
中心部への着熱性能が悪化するため、傾斜角度を３０〜
６０゜の範囲に設定する。
【００１８】酸素吹込管の予備還元流動層における高さ
方向位置（図１に示すＬｂ）は、鉄鉱石への着熱の面で
は下部ほど有利であるが、流動化している鉄鉱石によっ
て火炎が消炎するおそれがあるため、鉄鉱石の流動高さ
（図１に示すＬｆ）の０．５〜１．５倍とする。
方向位置（図１に示すＬｂ）は、鉄鉱石への着熱の面で
は下部ほど有利であるが、流動化している鉄鉱石によっ
て火炎が消炎するおそれがあるため、鉄鉱石の流動高さ
（図１に示すＬｆ）の０．５〜１．５倍とする。
【００１９】また、酸素吹込管の予備還元流動層におけ
る高さ方向位置が、鉄鉱石の流動高さの０．５倍以下の
場合、消炎を防止するため、吹込酸素を酸素予熱装置１
５により着火温度の６５０℃以上に予め昇温させること
が有効である。酸素吹込管の高さ調節は、流動層の高さ
の変動など必要に応じて、スライド（突没）させること
により可能である。
る高さ方向位置が、鉄鉱石の流動高さの０．５倍以下の
場合、消炎を防止するため、吹込酸素を酸素予熱装置１
５により着火温度の６５０℃以上に予め昇温させること
が有効である。酸素吹込管の高さ調節は、流動層の高さ
の変動など必要に応じて、スライド（突没）させること
により可能である。
【００２０】
【実施例】予備還元炉の内径２．７ｍ、高さ９ｍ、溶融
還元炉からの発生ガス量４５，０００〜７３，０００ｍ
3 ／Ｈｒ、流動層内での発生ガス流速２ｍ／秒〜４ｍ／
秒、発生ガスの概略組成ＣＯ；３０％，ＣＯ2 ；３０
％，Ｎ2 ；４０％で、温度約９００℃、圧力約２．５ａ
ｔｍである。
還元炉からの発生ガス量４５，０００〜７３，０００ｍ
3 ／Ｈｒ、流動層内での発生ガス流速２ｍ／秒〜４ｍ／
秒、発生ガスの概略組成ＣＯ；３０％，ＣＯ2 ；３０
％，Ｎ2 ；４０％で、温度約９００℃、圧力約２．５ａ
ｔｍである。
【００２１】流動層の高さ1000ｍｍ±500 ｍｍ、酸素吹
込管の高さ1500ｍｍ、酸素の吹込み量2000Ｎｍ3 ／Ｈｒ
である。この実施例によれば、流動層内の温度は700 ℃
に維持され、予備還元が良好に行われた（還元率15
％）。また、30日間連続操業しても分散板の目詰まりは
なかった。
込管の高さ1500ｍｍ、酸素の吹込み量2000Ｎｍ3 ／Ｈｒ
である。この実施例によれば、流動層内の温度は700 ℃
に維持され、予備還元が良好に行われた（還元率15
％）。また、30日間連続操業しても分散板の目詰まりは
なかった。
【００２２】これに対し、他の操業条件が同じで、酸素
を風箱内に吹込んで、還元ガスと混合し、この混合ガス
を分散板を通して予備還元流動層内に導入した（比較
例）。この場合、分散板に目詰まりが生じて、72時間後
に操業を停止をせざるを得なかった。
を風箱内に吹込んで、還元ガスと混合し、この混合ガス
を分散板を通して予備還元流動層内に導入した（比較
例）。この場合、分散板に目詰まりが生じて、72時間後
に操業を停止をせざるを得なかった。
【００２３】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
流動層上部から酸素を含むガスを吹込んで、その酸素燃
焼熱により層内温度を上昇させるので、入口ガス温度は
昇温せず、分散板のノズル閉塞トラブルは回避され、連
続操業が可能となる。また、還元性ガスの顕熱を有効に
利用することができる。
流動層上部から酸素を含むガスを吹込んで、その酸素燃
焼熱により層内温度を上昇させるので、入口ガス温度は
昇温せず、分散板のノズル閉塞トラブルは回避され、連
続操業が可能となる。また、還元性ガスの顕熱を有効に
利用することができる。
【図１】本発明の還元炉の一例を示す図。
【図２】着熱効率とＬｂ／Ｌｆとの関係を示す図。
【図３】着熱効率と吹込み角度との関係をＬｂ／Ｌｆ＝
１．２及びＬｂ／Ｌｆ＝０．８の場合について示す図。
１．２及びＬｂ／Ｌｆ＝０．８の場合について示す図。
【図４】溶融還元設備の概要図。
【図５】従来の予備還元炉の概要図。
１…溶融還元炉，２…予備還元炉，６…分散板，７…分
散板ノズル，８…予備還元室，９…風箱，１０…流動
層，１１…鉱石供給管，１２…鉱石抜出管，１３…酸素
バーナー、１４…排ガス排出管、１５…酸素予熱装置
散板ノズル，８…予備還元室，９…風箱，１０…流動
層，１１…鉱石供給管，１２…鉱石抜出管，１３…酸素
バーナー、１４…排ガス排出管、１５…酸素予熱装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 関口 毅 東京都千代田区丸の内一丁目１番２号 日 本鋼管株式会社内 (72)発明者 田口 憲彦 東京都千代田区丸の内一丁目１番２号 日 本鋼管株式会社内 (72)発明者 川上 正弘 東京都千代田区丸の内一丁目１番２号 日 本鋼管株式会社内 (72)発明者 岩崎 克博 東京都千代田区丸の内一丁目１番２号 日 本鋼管株式会社内
Claims (6)
- 【請求項１】 分散板で上下に仕切られた予備還元炉本
体の上側に位置し、流動層を形成する予備還元室と、炉
本体の下側に位置し、分散板を通して流動層内に還元性
ガスを流入する風箱と、前記予備還元室に取り付けられ
た鉱石供給管及び鉱石抜出管と、前記予備還元室内に取
り付けられ、酸素を含むガスを予備還元室に吹込む酸素
吹込管を備えている予備還元炉。 - 【請求項２】 流動層底部から酸素吹込管の酸素吹込口
までの高さＬｂは、流動層の高さＬｆに対し、０．５Ｌ
ｆ≦Ｌｂ≦１．５Ｌｆの範囲内にある請求項１に記載の
予備還元炉。 - 【請求項３】 酸素吹込管の酸素吹込方向は、鉛直方向
に対して３０〜６０゜の範囲にある請求項１又は２に記
載の予備還元炉。 - 【請求項４】 酸素吹込管はスライド可能に取り付けら
れている請求項１乃至３のいずれか１に記載の予備還元
炉。 - 【請求項５】 酸素吹込管の基端側に酸素予熱装置を接
続している請求項１乃至４のいずれか１に記載の予備還
元炉。 - 【請求項６】 酸素予熱装置は、酸素を６５０℃以上に
加熱するものである請求項５に記載の予備還元炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30052497A JPH11131118A (ja) | 1997-10-31 | 1997-10-31 | 予備還元炉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30052497A JPH11131118A (ja) | 1997-10-31 | 1997-10-31 | 予備還元炉 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11131118A true JPH11131118A (ja) | 1999-05-18 |
Family
ID=17885864
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30052497A Pending JPH11131118A (ja) | 1997-10-31 | 1997-10-31 | 予備還元炉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11131118A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005116275A3 (en) * | 2004-05-31 | 2006-03-09 | Outokumpu Oy | A direct reduction apparatus and process |
| JP2008501072A (ja) * | 2004-05-31 | 2008-01-17 | オウトクンプ テクノロジー オサケイティオ ユルキネン | 単一流動層を用いた直接還元工程 |
| US7713329B2 (en) | 2002-12-23 | 2010-05-11 | Posco | Apparatus for manufacturing molten irons to improve operation of fluidized bed type reduction apparatus and manufacturing method using the same |
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