JPH11128746A - 有機化合物変換反応に使用される新規触媒 - Google Patents
有機化合物変換反応に使用される新規触媒Info
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Abstract
の周期表第VIII族からの金属から成る新規触媒を提供す
る。 【解決手段】 少なくとも1つの耐火性酸化物から成る
担体と、元素周期表の第VIII族からの少なくとも1つの
金属から成る活性相とから構成される触媒において、該
触媒に化学吸着される一酸化炭素の体積が、金属1グラ
ム当たり180cm3 以上であり、かつ該触媒が、単一
の水素消費ピークから成る昇温還元分布を示すことを特
徴とする触媒である。
Description
担体および少なくとも1つの周期表第VIII族からの金属
から成る新規触媒に関する。この触媒はまた、アルカリ
金属から形成される群から選択されるもう1つの金属お
よび/または硫黄のようなメタロイドおよび/またはハ
ロゲンのような他の化学元素またはハロゲン化化合物を
含有してもよい。
上に担持された金属粒子の組織的特徴の制御は、文献に
おける多数の研究の主題であり、最近の研究において関
心の中心であり続ける。例えば粒度は、触媒がBoudart
に定義されたような「構造敏感」と称される反応に使用
される時、決定要因である。反応速度(またはターンオ
ーバー頻度(ターンオーバー頻度は、表面金属原子の数
が減少される反応速度として定義される))が、モノメ
タル触媒の場合、金属微結晶サイズに依存し、またはバ
イメタル触媒について表面組成に依存するならば、化学
的変換は「構造敏感」と呼ばれる。同様に、活性表面部
位を構成する金属の電子状態は、反応体の吸着エネルギ
ーを定め、その結果、触媒性能(活性、選択性および安
定性)を定める。文献は、一定の反応:PtまたはPd
をベースとする触媒上での直鎖または環状アルケン類の
水素化(鈍感反応)(J. C. Schlatter, M. Boudart,
J. Catal., 24, 1972, 482 およびM. Boudart, W.C. Ch
eng, J. Catal., 106, 1987, 134 )、アルキン類およ
びジオレフィン類の水素化(敏感反応)(S. Hub, L. Hi
laire, R. Touroude, Appl. Catal., 36, 1992, 307)、
パラフィンまたはナフテン化合物のC−C結合の水素化
分解(J. Barbier, P. Marecot, Nouv. J. Chim., 5, 1
981, 393およびJ. R. Anderson, Y. Shymoyama, Proc 5
th Int. Cong. Catal., Palm Beach, 1972, North Holl
and Publ. Co/Amer. Elsevier, Vol 1,1973, 55 )の構
造敏感または鈍感を確立することを目的とする研究の多
くの例を含む。
は、多くの研究の主題を形成してきた。アルミナのよう
な耐火性酸化物型担体に担持された、パラジウムまたは
ニッケルをベースとする金属相を含有する、担持された
金属触媒は、例えば現在、ガソリン水素化反応に使用さ
れる。
媒を調製するためのプロトコールは特に重要で、最大の
反応速度に対応する、金属粒子の最適のサイズを得るこ
とを目的とする。このように、ブタジエンの選択的水素
化の場合、最も活性な触媒は、約40オングストローム
の粒子を含有しなければならない。
オングストローム)、固定した粒度を課する反応の「構
造敏感な」性質は、金属の単位質量当たり、晒された金
属表面を実質的に制限し、その結果、触媒活性を制限す
る。
く、元素周期表第VIII族からの少なくとも1つの金属を
含有する触媒を調製できることを証明する。金属粒子の
サイズは一般に10オングストローム未満である。この
ことは担体に担持された金属原子の大部分が反応体に晒
されることを意味する。これらの触媒は、金属1グラム
当たり少なくとも180cm3 の化学吸着されるCOの
体積に特徴付けられる。それは80%以上の分散率(金
属分散率は、金属原子の総数に対する、表面に晒された
金属原子数の比として定義される)に相当する。この型
の触媒の昇温還元(programmed temperature reductio
n:PTR)による特徴付けは、50℃〜300℃(好
ましくは100℃〜200℃)の温度範囲を中心とする
単一な水素消費ピークを生じる。水素の塩析は低温(約
70℃)で観察されない。塩析は一般に、金属水素化物
の生成に関係し、PTRにおけるT=約70℃の強度の
水素生成シグナルによって特徴付けられる。
に下記の方法を用いて測定される:200℃で水素気流
中2時間、次いでヘリウム中2時間の処理後、一酸化炭
素を室温まで冷却し、既知の体積のCOを注入する前
に、ヘリウム中で保持する。COの消費は、次いで気相
クロマトグラフィーで測定される。
相の還元によって消費される水素の量の測定に基づく。
このようにして得られるPTR分布は、温度の関数とし
ての還元の強度を示す。還元ピークを積分して、消費さ
れる水素の量が得られる。この方法は、一般に5℃/分
の温度上昇を伴う、200℃での2時間の先の焼成によ
るその場での再酸化を含む。再酸化後、試料を5%の水
素および95%のアルゴンから成る気流中、室温から9
00℃まで、5℃/分で温度を上昇させることにより還
元し、20cm3 /分の流速で注入する。
付けるもう1つの特性決定技術は、EXAFS(広域X
線吸収微細構造)にある。実際、この分光技術は、一定
の元素の付近に位置する元素の直接的な決定を(性質お
よび数の点で)可能にする。このように、あらゆる調製
法によって担持された金属の環境を知ることができる。
は、10℃〜800℃の範囲の温度および0.1〜10
MPaの範囲の圧力で作用する。
に適用できる:・選択的水素化によるオレフィン留分の
接触精製。この型の変換に一般に使用される条件は、平
均温度が25℃〜200℃の範囲、圧力が0.1〜10
MPaの範囲および炭化水素に対する水素のモル比が1
〜150の範囲にある。原料は一般に、1分子当たり5
〜12個の炭素原子を含有する水蒸気分解留分である;
・400℃〜800℃の範囲、0.1〜2MPaの範囲
の圧力および炭化水素に対する水素のモル比0〜20で
行われる接触水素化分解方法;・当業者に既知の条件
下、より詳細には、10℃〜400℃の範囲の平均温度
および0.1〜10MPaの範囲の圧力下での、アルキ
ン、ジエンまたはオレフィン官能基、あるいは芳香族官
能基を含有する炭化水素の水素化方法;および・当業者
に既知の条件下、より詳細には、10℃〜500℃の範
囲の平均温度および0.1〜10MPaの範囲の圧力下
での、アルデヒド、ケトン、エステル、酸またはニトロ
官能基のような有機官能基の水素化方法。
ム、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化チタン、酸化
ジルコニウムまたは酸化トリウムのような、元素周期表
の第IIA 、IIIA、IVB およびIVA 族からの金属の酸化物
から一般に選択される少なくとも1つの耐火性酸化物か
ら成り、該酸化物は単独で、または混合物として、また
は周期表からの他の金属の酸化物と混合されて使用され
る。活性炭も使用され得る。X型、Y型、モルデナイ
ト、フォージャサイト、ZSM−5、ZSM−4、ZS
M−8等の型のゼオライトまたは分子篩、さらには第II
A 、IIIA、IVB および/またはIVA 族からの金属の酸化
物とゼオライト物質との混合物も使用され得る。
は、有利には5〜400m2 /gの範囲、好ましくは5
〜150m2 /gの範囲の比表面積を有するアルミナで
ある。
体は、シリカ、炭素およびアルミナである。
常イリジウム、ニッケル、パラジウム、白金、ロジウム
およびルテニウムから選択される。白金とパラジウムは
炭化水素転換反応に好ましい金属である。ロジウムとル
テニウムは官能基を有する分子(ファインケミカルス)
の変換に好ましい金属である。重量百分率は0.01%
〜10%、好ましくは0.1%〜5%になるように選択
される。触媒はまた、アルカリ金属、アルカリ土類金属
および(硫黄のような)メタロイドから形成される群か
ら選択される付加的元素を含有してもよい。重量百分率
は0.01%〜10%、好ましくは0.02%〜5%の
範囲になるように選択される。
よって調製することができ、本発明は特殊な含浸方法に
限定されない。複数の溶液が使用されるとき、中間体の
乾燥および/または焼成を行なうことができる。
物、ハロゲン化化合物、硝酸塩、酢酸塩および塩化物か
ら形成される群から選択され得る。
なくとも1つの第VIII族金属化合物の水溶液を用いて担
体を含浸することによって得られ、溶液の体積は担体の
保持容量に相当する。含浸された担体は、次いで乾燥さ
れ、空気中で通常100℃〜約500℃で焼成され、次
いで水素中、通常約100℃〜約600℃の範囲、好ま
しくは約150℃〜約300℃の範囲の温度で還元され
る。
たは後に行なわれ得る。乾燥生成物を使用者の位置で直
接還元することもできる。
び刊行物、並びに1997年8月29日に提出された、
相当するフランス特許出願97/10878の完全な記
述は、これにより参照のために本明細書に含まれる。
制限することなく、本発明を例証する。
り触媒Aを調製した。この担体は直径2〜4mmのビー
ズの形態であった。担体は65m2 /gの比表面積を有
し、その細孔容積は0.6ml/gであった。含浸後、
触媒を120℃で乾燥し、450℃で焼成した。触媒A
のパラジウム含有量は0.3重量%であった。
を含有する溶液で含浸することにより触媒Bを調製し
た。この担体は直径2〜4mmのビーズの形態であっ
た。担体は139m2 /gの比表面積を有し、その細孔
容積は1.05ml/gであった。含浸後、触媒を12
0℃で乾燥し、200℃で焼成した。触媒Bのパラジウ
ム含有量は0.3重量%であった。
を含有する溶液で含浸することにより触媒Cを調製し
た。この担体は直径2〜4mmのビーズの形態であっ
た。担体は39m2 /gの比表面積を有し、その細孔容
積は0.57ml/gであった。含浸後、触媒を120
℃で乾燥し、200℃で焼成した。触媒Cのパラジウム
含有量は0.3重量%であった。
のトルエン溶液で含浸することにより触媒Dを調製し
た。この担体は直径2〜4mmのビーズの形態であっ
た。担体は39m2 /gの比表面積を有し、その細孔容
積は0.57ml/gであった。含浸後、触媒をトルエ
ン溶液で洗浄し、次いで120℃で乾燥し、気流中45
0℃で2時間焼成した。触媒Dのパラジウム含有量は
0.3重量%であった。
て実施例4を繰り返した。触媒Eを得た。
いて化学吸着されたCOの体積を決定した。表1に示さ
れる化学吸着されたCOの体積をPdのg当りのcm3
で表わす。
記のプロトコールを用いて行なった。図1〜4は触媒
A、B、CおよびDについての昇温還元の分布を示す。
致し、下記のことを示した: ・単一の「低温」還元ピーク(T<300℃); ・水素化パラジウムの分解に関連する水素生成の欠如。
少なくとも1つが300℃を超える温度にある複数の水
素消費シグナルを示した。触媒AのPTR分布も70℃
に近い温度に水素生成ピークを含んでいた。
た。
についてはパラジウムの近くの環境(第一近傍)での酸
素の存在を示し、一方、触媒Bについてはパラジウムは
他のパラジウム原子のみによって囲まれている。これら
の酸素原子は、アルミナ担体によって供給され得るのみ
であるが、触媒E上に存在するパラジウムとその担体と
の間に結合(故にかなり強い相互作用)があることを示
す。対照的に、類似の推論は、触媒B上に存在するパラ
ジウムとその担体との間に相互作用がない(またはほと
んどない)ことを示す。この相違は、使用される調製技
術の相違にあるとされ得る。
て、触媒A〜Eの水素化性質を評価した。パラジウムを
ベースとする触媒2gを水素流中200℃で2時間還元
し、次いで不活性ガス下、水素化反応器に移した。水素
化される原料は、n−ヘプタン180cm3 で希釈され
たジオレフィン(1,3−ブタジエン)12gを含有す
る混合物であった(この水素化において、1,3−ブタ
ジエンは1−ブテンに転換される)。試験温度を20℃
に、圧力を1MPaに保った。結果を表2に示す。水素
化活性をモル・分-1・gPd-1で表わす。
方、1−ブテンへの高い選択性は維持される。
化学吸着されたCOの同様の体積について、触媒Bの活
性は触媒Eより著しく高く(×44)、触媒Cの活性は
触媒Dより相当高い(×4000)。
て、触媒A、BおよびEの水素化性質を評価した。パラ
ジウムをベースとする触媒2gを水素流中200℃で2
時間還元し、次いで不活性ガス下、水素化反応器に移し
た。水素化される原料は、n−ヘプタン180cm3 で
希釈されたフェニルアセチレン13gを含有する混合物
であった(この水素化において、フェニルアセチレンは
スチレンに転換される)。試験温度を17℃に、圧力を
1MPaに保った。結果を表3に示す。水素化活性をモ
ル・分-1・gPd-1で表わす。
AおよびEより高く、一方、スチレンへの高い選択性は
維持された。
れるものを本発明で述べられた一般的または特殊な反応
体および/または条件に代えることにより、類似の結果
を伴って反復され得る。
徴を容易に決定することを可能にし、かつ発明の趣旨お
よび範囲を逸脱することなく、発明を種々の用途および
実行条件に適合させるために種々の変化または修飾を行
なうことを可能にするであろう。
である。
である。
である。
である。
Claims (13)
- 【請求項1】 少なくとも1つの耐火性酸化物から成る
担体と、元素周期表の第VIII族からの少なくとも1つの
金属から成る活性相とから構成される触媒において、該
触媒に化学吸着される一酸化炭素の体積が、金属1グラ
ム当たり180cm3 以上であり、かつ該触媒が、単一
の水素消費ピークから成る昇温還元分布を示すことを特
徴とする触媒。 - 【請求項2】 触媒の担体が、酸化マグネシウム、酸化
アルミニウム、酸化ケイ素、酸化チタン、酸化ジルコニ
ウムまたは酸化トリウムのような、周期表の第IIA 、II
IA、IVB およびIVA 族からの金属の酸化物から選択され
る少なくとも1つの耐火性酸化物から成り、該酸化物が
単独で、または混合物として、または周期表からの他の
金属の酸化物と混合されて使用されることを特徴とす
る、請求項1記載の触媒。 - 【請求項3】 触媒の担体が炭素から成ることを特徴と
する、請求項1記載の触媒。 - 【請求項4】 触媒の担体が、少なくとも1つのX型、
Y型、モルデナイト、フォージャサイト、ZSM−5、
ZSM−4またはZSM−8ゼオライトあるいは分子篩
から成り、場合により、周期表の第IIA 、IIIA、IVB お
よびIVA 族からの金属の少なくとも1つの酸化物と混合
されることを特徴とする、請求項1記載の触媒。 - 【請求項5】 周期表の第VIII族からの金属が、イリジ
ウム、ニッケル、パラジウム、白金、ロジウムおよびル
テニウムから、重量百分率で0.01%〜10%の範囲
で選択されることを特徴とする、請求項1〜4のいずれ
か1項記載の触媒。 - 【請求項6】 触媒がさらに、アルカリ金属、アルカリ
土類金属およびメタロイドから形成される群から選択さ
れる少なくとも1つの付加的元素を、重量百分率で0.
01%〜10%の範囲で含有することを特徴とする、請
求項1〜5のいずれか1項記載の触媒。 - 【請求項7】 選択的水素化によるオレフィン留分の接
触精製方法における、請求項1〜6のいずれか1項記載
の触媒の使用。 - 【請求項8】 1分子当たり5〜12個の炭素原子を含
有する、水蒸気分解装置からの炭化水素留分から成る原
料が、25℃〜200℃の範囲の平均温度、0.1〜1
0MPaの範囲の圧力および1〜150の範囲の炭化水
素に対する水素のモル比で処理される、請求項7記載の
使用。 - 【請求項9】 400℃〜800℃の範囲の温度、0.
1〜2MPaの範囲の圧力および0〜20の範囲の炭化
水素に対する水素のモル比で行われる接触水素化分解方
法における、請求項1〜6のいずれか1項記載の触媒の
使用。 - 【請求項10】 10℃〜400℃の範囲の平均温度お
よび0.1〜10MPaの範囲の圧力における、アルキ
ン、ジエンまたはオレフィン官能基、あるいは芳香族官
能基を含有する炭化水素の水素化方法における、請求項
1〜6のいずれか1項記載の触媒の使用。 - 【請求項11】 使用される触媒が、比表面積が5〜4
00m2 /gの範囲のアルミナ担体を有し、かつ第VIII
族金属として白金および/またはパラジウムを含有す
る、請求項7〜10のいずれか1項記載の使用。 - 【請求項12】 10℃〜500℃の範囲の平均温度お
よび0.1〜10MPaの範囲の圧力における、アルデ
ヒド、ケトン、エステル、酸またはニトロ官能基のよう
な有機官能基の水素化方法における、請求項1〜6のい
ずれか1項記載の触媒の使用。 - 【請求項13】 触媒が、シリカ、炭素またはアルミナ
担体を有し、かつ第VIII族金属としてロジウムおよび/
またはルテニウムを含有する、請求項12記載の使用。
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