JPH11126817A - Stage for high vacuum - Google Patents
Stage for high vacuumInfo
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- JPH11126817A JPH11126817A JP29141997A JP29141997A JPH11126817A JP H11126817 A JPH11126817 A JP H11126817A JP 29141997 A JP29141997 A JP 29141997A JP 29141997 A JP29141997 A JP 29141997A JP H11126817 A JPH11126817 A JP H11126817A
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- Japan
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- partition wall
- vacuum chamber
- orifice
- arm
- axis direction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、電子線等の荷電粒
子線を用いて観察、描画、検査等を行う真空試料室で使
用する高真空用ステージに関する。本発明は、XY両方
向またはX,Yのいずれか一方向に移動する高真空用ス
テージに使用することができる。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a high vacuum stage used in a vacuum sample chamber for performing observation, drawing, inspection and the like using a charged particle beam such as an electron beam. INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention can be used for a high vacuum stage that moves in both XY directions or one of X and Y directions.
【0002】[0002]
【従来の技術】前記種類の高真空用ステージにおいて、
従来、XYテーブルを有する高真空用ステージが知られ
ている。従来のXYテーブルを有する高真空用ステージ
は、試料を支持する部分と、XYテーブルを駆動する部
分とが同一の高真空室内に配置されている。2. Description of the Related Art In a high vacuum stage of the type described above,
Conventionally, a high vacuum stage having an XY table has been known. In a conventional high vacuum stage having an XY table, a portion for supporting a sample and a portion for driving the XY table are arranged in the same high vacuum chamber.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】前記高真空用ステージ
では、「試料を配置する部分の真空を良くしたい」「ご
みを少なくしたい」という要求があり、最近その要求を
実現させるための工事が増えてきている。ステージが求
められている機能は、精度が良いこと、再現性が良いこ
と等で、それを実現させるため、加工精度、組立て精度
が要求され、この部分がステージの最も重要な項目にな
っている。In the stage for high vacuum, there is a demand for "improving the vacuum of a portion where a sample is to be placed" and "reducing the amount of dust". Recently, construction for realizing the demand has increased. Is coming. The functions that require a stage have good accuracy and good reproducibility.To achieve this, processing accuracy and assembly accuracy are required, and this is the most important item of the stage. .
【0004】一方、真空を良くするには「放出ガスを少
なくする」ことが基本である。その方法として、もっと
も一般的なものが「ベーク」である。しかし、ステージ
にとって「ベーク」することは、ステージの構成部品に
内在する「歪み」を「出させる」原因となり、ステージ
の「精度の劣化」を招く原因となっている。また、ステ
ージは移動機構を有し、複雑な構造にならざるを得ず、
「ガスが出難い構造、すなわち、長期にわたってガスが
放出される構造」、「ごみが出易い構造」となり、高真
空化と相容れない内容になっている。従来のステージ
は、試料がXYテーブルの駆動部分の上に直接載置さ
れ、試料を含めたXYステージ全体を高真空室に入れる
必要が有り、ベークをすれば「精度が悪くなる」、「そ
のままでは真空が良くならない」、「ゴミが出る」など
の問題がある。On the other hand, to improve the vacuum, it is fundamental to "reduce the amount of released gas". The most common method is “bake”. However, “baking” for the stage causes “distortion” inherent in the components of the stage to “extract” and causes “deterioration of accuracy” of the stage. In addition, the stage has a moving mechanism, it has to be a complicated structure,
"Structure in which gas is difficult to emit, that is, structure in which gas is released for a long period of time" and "Structure in which dust easily occurs" are incompatible with high vacuum. In the conventional stage, the sample is directly placed on the driving part of the XY table, and the entire XY stage including the sample needs to be put in a high vacuum chamber. Then the vacuum will not be improved "and" garbage will come out ".
【0005】本発明は、前述の事情に鑑み、下記の記載
内容(O01)を課題とする。 (O01)高真空用ステージの試料支持部分を配置した高
真空室内に、高真空用ステージの駆動機構を配置するこ
となく、前記試料支持部分の位置を移動調節できるよう
にすること。[0005] In view of the above circumstances, the present invention has the following content (O01). (O01) The position of the sample support portion can be moved and adjusted in a high vacuum chamber in which the sample support portion of the high vacuum stage is disposed without disposing a drive mechanism for the stage for high vacuum.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】次に、前記課題を解決す
るために案出した本発明を説明するが、本発明の要素に
は、後述の実施例の要素との対応を容易にするため、実
施例の要素の符号をカッコで囲んだものを付記する。ま
た、本発明を後述の実施例の符号と対応させて説明する
理由は、本発明の理解を容易にするためであり、本発明
の範囲を実施例に限定するためではない。Next, the present invention devised to solve the above-mentioned problems will be described. The elements of the present invention are used to facilitate correspondence with the elements of the embodiments described later. , The reference numerals of the elements of the embodiment are enclosed in parentheses. The reason why the present invention is described in correspondence with the reference numerals of the embodiments described below is to facilitate understanding of the present invention and not to limit the scope of the present invention to the embodiments.
【0007】(第1発明)前記課題を解決するために、
本出願の第1発明の高真空用ステージは、下記の要件を
備えたことを特徴とする、(A01)高真空室(A1)お
よび低真空室(A2)間を仕切る仕切壁(2)に形成さ
れたアーム貫通孔(3)を貫通して前記仕切壁(2)に
垂直な方向であるX軸方向に延びる連結アーム(4)、
(A02)前記連結アーム(4)の前記低真空室(A2)
に配置された部分を支持するとともに前記X軸方向およ
び前記X軸方向と垂直なY軸方向に移動可能なXYテー
ブル(8)、(A03)前記仕切壁(2)の高真空室(A
1)側または低真空室(A2)側の一方の壁面に沿って前
記壁面に隣接して配置されて前記仕切壁(2)との間に
形成される隙間(Sp)により空気流通路のオリフィス
を形成するとともに、前記仕切壁(2)に沿って移動可
能に配置され且つ前記連結アーム(4)が貫通する連結
アーム貫通孔(14a)を有するオリフィス形成用パネ
ル(14)、(A04)前記連結アーム(4)外周面の外
側を被覆し且つ前記連結アーム(4)外周面との間に形
成される隙間(Sa)により空気流通路のオリフィスを
形成する筒状内側面を有するとともに、前記仕切壁
(2)のアーム貫通孔(3)を貫通して前記オリフィス
形成用パネル(14)に気密に接続された筒状外側面を
有するオリフィス形成用筒部材(13)、(A05)前記
アーム貫通孔(3)のY軸方向の寸法よりも小さなY軸
方向の寸法を有し、前記アーム貫通孔(3)を貫通した
状態でY軸方向に移動可能な前記オリフィス形成用筒部
材(13)。(1st invention) In order to solve the aforementioned problem,
The stage for high vacuum of the first invention of the present application has the following requirements: (A01) a partition wall (2) for partitioning between a high vacuum chamber (A1) and a low vacuum chamber (A2); A connecting arm (4) that penetrates the formed arm through hole (3) and extends in the X-axis direction that is perpendicular to the partition wall (2);
(A02) The low vacuum chamber (A2) of the connecting arm (4)
The XY table (8) that supports the portion disposed in the X-axis direction and is movable in the X-axis direction and the Y-axis direction perpendicular to the X-axis direction. (A03) The high vacuum chamber (A) of the partition wall (2).
The orifice of the air flow passage is formed by a gap (Sp) formed adjacent to the wall surface along one wall surface on the 1) side or the low vacuum chamber (A2) side and formed with the partition wall (2). And an orifice forming panel (14) having a connecting arm through hole (14a) which is movably disposed along the partition wall (2) and through which the connecting arm (4) passes. The connecting arm (4) has a cylindrical inner surface that covers the outside of the outer peripheral surface and forms an orifice of an air flow passage by a gap (Sa) formed between the connecting arm (4) and the outer peripheral surface. An orifice forming cylinder member (13) having a cylindrical outer surface airtightly connected to the orifice forming panel (14) through an arm through hole (3) of the partition wall (2), (A05) the arm Y-axis direction of through hole (3) The have a size smaller Y-axis than the dimension, the arm through hole (3) movable in the Y-axis direction in a state passing through a said orifice forming tubular member (13).
【0008】(第1発明の作用)前記特徴を備えた本出
願の第1発明の高真空用ステージでは、高真空室(A
1)および低真空室(A2)間を仕切る仕切壁(2)に垂
直な方向であるX軸方向に延びる連結アーム(4)は、
前記仕切壁(2)に形成されたアーム貫通孔(3)を貫
通する。前記X軸方向および前記X軸方向と垂直な前記
仕切壁(2)に沿ったY軸方向に移動可能なXYテーブ
ル(8)は前記連結アーム(4)の前記低真空室(A
2)に配置された部分を支持する。前記仕切壁(2)の
高真空室(A1)側または低真空室(A2)側の一方の壁
面に沿って前記壁面に隣接して配置されたオリフィス形
成用パネル(14)は、前記仕切壁(2)との間に形成
される隙間(Sp)により空気流通路のオリフィスを形
成する。前記連結アーム(4)は、前記オリフィス形成
用パネル(14)の連結アーム貫通孔(14a)を貫通
する。また、オリフィス形成用筒部材(13)の筒状内
側面は、前記連結アーム(4)外周面の外側を被覆し且
つ前記連結アーム(4)外周面との間に形成される隙間
(Sa)により空気流通路のオリフィスを形成する。(Operation of the First Invention) In the high vacuum stage of the first invention of the present application having the above-mentioned features, the high vacuum chamber (A
1) and a connecting arm (4) extending in the X-axis direction which is a direction perpendicular to the partition wall (2) that partitions between the low vacuum chamber (A2) and
It penetrates through an arm through hole (3) formed in the partition wall (2). The XY table (8) movable in the Y-axis direction along the X-axis direction and the partition wall (2) perpendicular to the X-axis direction is provided in the low vacuum chamber (A) of the connection arm (4).
2) Support the part arranged. The orifice forming panel (14) disposed adjacent to the partition wall (2) along one of the high vacuum chamber (A1) side and the low vacuum chamber (A2) side of the partition wall (2) includes the partition wall. An orifice of the air flow passage is formed by the gap (Sp) formed between the air flow passage (2). The connecting arm (4) passes through the connecting arm through hole (14a) of the orifice forming panel (14). Further, a cylindrical inner surface of the orifice forming cylindrical member (13) covers an outer peripheral surface of the connecting arm (4) and a gap (Sa) formed between the outer peripheral surface and the connecting arm (4). This forms an orifice in the air flow passage.
【0009】前記オリフィス形成用パネル(14)に気
密に接続されたオリフィス形成用筒部材(13)の筒状
外側面は、前記仕切壁(2)のアーム貫通孔(3)を貫
通する。前記オリフィス形成用筒部材(13)のY軸方
向の寸法は、前記アーム貫通孔(3)のY軸方向の寸法
よりも小さいので、オリフィス形成用筒部材(13)は
前記仕切壁(2)のアーム貫通孔(3)を貫通した状態
でY軸方向に移動可能である。前記オリフィス形成用筒
部材(13)と気密に接続された前記オリフィス形成用
パネル(14)は、オリフィス形成用筒部材(13)が
前記Y軸方向に移動するとき、前記仕切壁(2)に沿っ
て前記Y軸方向に移動可能である。The cylindrical outer surface of the orifice forming tubular member (13) airtightly connected to the orifice forming panel (14) passes through the arm through hole (3) of the partition wall (2). Since the dimension of the orifice forming tubular member (13) in the Y-axis direction is smaller than the dimension of the arm through hole (3) in the Y-axis direction, the orifice forming tubular member (13) is formed of the partition wall (2). Can be moved in the Y-axis direction while passing through the arm through hole (3). The orifice forming panel (14) airtightly connected to the orifice forming tubular member (13) is attached to the partition wall (2) when the orifice forming tubular member (13) moves in the Y-axis direction. Along the Y-axis.
【0010】前述のようにオリフィス形成用筒部材(1
3)のY軸方向の寸法が前記アーム貫通孔(3)のY軸
方向の寸法よりも小さいので、前記オリフィス形成用筒
部材(13)と前記アーム貫通孔(3)との間には空間
がある。この空間を(Sc)とすると、前記高真空室
(A1)および低真空室(A2)の間の気体連通路は次の
2系統が有る。なお、前記オリフィス形成用筒部材(1
3)の筒状内側面と前記連結アーム(4)外周面との間
に形成される前記隙間(Sa)を「筒・アーム間オリフ
ィス(Sa)」といい、前記仕切壁(2)と前記オリフ
ィス形成用パネル(14)との間に形成される隙間(S
p)を「壁・パネル間オリフィス(Sp)」ということに
する。 (1)第1気体連通路 高真空室(A1)……筒・アーム間オリフィス(Sa)…
…低真空室(A2) (2)第2気体連通路 (2−1)オリフィス形成用パネル(14)が高真空室
(A1)に設けられた場合: 高真空室(A1)……壁・パネル間オリフィス(Sp)…
…筒・貫通孔間の空間(Sc)……低真空室(A2) (2−2)オリフィス形成用パネル(14)が低真空室
(A2)に設けられた場合: 低真空室(A2)……壁・パネル間オリフィス(Sp)…
…筒・貫通孔間の空間(Sc)……高真空室(A1)As described above, the orifice forming tubular member (1)
Since the dimension in the Y-axis direction of 3) is smaller than the dimension of the arm through-hole (3) in the Y-axis direction, a space is provided between the orifice forming tubular member (13) and the arm through-hole (3). There is. Assuming that this space is (Sc), the gas communication passage between the high vacuum chamber (A1) and the low vacuum chamber (A2) has the following two systems. The orifice forming tubular member (1)
The gap (Sa) formed between the inner cylindrical surface of (3) and the outer peripheral surface of the connecting arm (4) is referred to as an “orifice between cylinder and arm (Sa)”, and the partition wall (2) and the orifice (Sa). A gap (S) formed with the orifice forming panel (14)
p) is referred to as “wall / panel orifice (Sp)”. (1) First gas communication passage High vacuum chamber (A1) ... orifice between cylinder and arm (Sa) ...
... Low vacuum chamber (A2) (2) Second gas communication passage (2-1) When orifice forming panel (14) is provided in high vacuum chamber (A1): High vacuum chamber (A1) ... Orifice between panels (Sp) ...
... Space between cylinder and through hole (Sc) ... Low vacuum chamber (A2) (2-2) When orifice forming panel (14) is provided in low vacuum chamber (A2): Low vacuum chamber (A2) …… Orifice between wall and panel (Sp)…
… Space between cylinder and through hole (Sc) …… High vacuum chamber (A1)
【0011】前記第1および第2の気体連通路にはいず
れもオリフィス(Sa)および(Sp)が有るので、気体
の流れが防止され、高真空室(A1)および(A2)間の
真空差が保持される。また、前記XYテーブル(8)が
Y軸方向に移動したときには、XYテーブル(8)の移
動に伴い前記連結アーム(4)がY軸方向に移動し、連
結アーム(4)が貫通する連結アーム貫通孔(14a)
を有するオリフィス形成用パネル(14)および連結ア
ーム(4)の外周を被覆するオリフィス形成用筒部材
(13)もY軸方向に移動する。このとき、前記筒・ア
ーム間オリフィス(Sa)および前記壁・パネル間オリ
フィス(Sp)の間隔は変化しないので、気体の流れが
防止され、高真空室(A1)および(A2)間の真空差が
保持される。Since the first and second gas communication paths each have orifices (Sa) and (Sp), the flow of gas is prevented, and the vacuum difference between the high vacuum chambers (A1) and (A2) is reduced. Is held. When the XY table (8) moves in the Y-axis direction, the connection arm (4) moves in the Y-axis direction with the movement of the XY table (8), and the connection arm (4) penetrates the connection arm. Through hole (14a)
The orifice forming panel (14) and the orifice forming cylindrical member (13) covering the outer periphery of the connecting arm (4) also move in the Y-axis direction. At this time, since the distance between the orifice (Sa) between the cylinder and the arm and the orifice (Sp) between the wall and the panel does not change, gas flow is prevented, and the vacuum difference between the high vacuum chambers (A1) and (A2) is reduced. Is held.
【0012】また、前記XYテーブル(8)がX軸方向
に移動したときには、前記連結アーム(4)がX軸方向
に移動する。このとき、連結アーム(4)は前記オリフ
ィス形成用筒部材(13)の軸方向に移動するが、この
とき、前記筒・アーム間オリフィス(Sa)および前記
壁・パネル間オリフィス(Sp)の間隔は変化しないの
で、気体の流れも変化せず、高真空室(A1)および
(A2)間の真空差が保持される。When the XY table (8) moves in the X-axis direction, the connecting arm (4) moves in the X-axis direction. At this time, the connecting arm (4) moves in the axial direction of the orifice forming tubular member (13). At this time, the distance between the orifice (Sa) between the cylinder and the arm and the orifice (Sp) between the wall and the panel is adjusted. Does not change, the gas flow does not change, and the vacuum difference between the high vacuum chambers (A1) and (A2) is maintained.
【0013】(第2発明)また、前記課題を解決するた
めに、本出願の第2発明の高真空用ステージは、下記の
要件を備えたことを特徴とする、(B01)高真空室(A
1)および低真空室(A2)間を仕切る仕切壁(2)に形
成されたアーム貫通孔(3)を貫通して前記仕切壁
(2)に垂直な方向であるX軸方向に延びる連結アーム
(4)、(B02)前記連結アーム(4)の前記低真空室
(A2)に配置された部分を支持するとともに前記X軸
方向に移動可能なX軸テーブル(10)、(B03)前記
仕切壁(2)の高真空室(A1)側または低真空室(A
2)側の一方の壁面に沿って前記壁面に隣接して配置さ
れ前記仕切壁(2)との間に形成される隙間(Sp)に
より空気流通路のオリフィスを形成するとともに、前記
連結アーム(4)が貫通する連結アーム貫通孔(14
a)を有するオリフィス形成用パネル(14)、(B0
4)前記連結アーム(4)外周面の外側を被覆し且つ前
記連結アーム(4)外周面との間に形成される隙間(S
a)により空気流通路のオリフィスを形成する筒状内側
面を有するとともに、前記仕切壁(2)のアーム貫通孔
(3)を貫通して前記オリフィス形成用パネル(14)
に気密に接続された筒状外側面を有するオリフィス形成
用筒部材(13)。(Second Invention) In order to solve the above problems, a high vacuum stage according to a second invention of the present application has the following requirements. (B01) A high vacuum chamber ( A
1) and a connecting arm that extends through an arm through hole (3) formed in a partition wall (2) that partitions between the low vacuum chamber (A2) and the X-axis direction perpendicular to the partition wall (2). (4), (B02) an X-axis table (10) that supports a portion of the connecting arm (4) arranged in the low vacuum chamber (A2) and is movable in the X-axis direction (B03). High vacuum chamber (A1) side of wall (2) or low vacuum chamber (A
2) An orifice of an air flow passage is formed by a gap (Sp) formed along the one wall surface on the side adjacent to the wall surface and formed between the partition wall and the connecting arm. 4) penetrates through the connecting arm through hole (14).
a) orifice forming panel (14) having (a)
4) A gap (S) that covers the outer periphery of the connection arm (4) and is formed between the connection arm and the outer periphery of the connection arm (4).
The orifice forming panel (14) having a cylindrical inner surface forming an orifice of an air flow passage according to (a) and passing through an arm through hole (3) of the partition wall (2).
A tubular member (13) for forming an orifice having a tubular outer surface air-tightly connected to the orifice.
【0014】(第2発明の作用)前記特徴を備えた本出
願の第2発明の高真空用ステージでは、前記第1発明の
XYテーブル(8)の代わりにX軸テーブル(10)を
使用しているので、前記第1発明のXYテーブル(8)
がX軸方向へ移動する場合と同様の作用を奏する。(Operation of the Second Invention) In the high vacuum stage according to the second invention of the present application having the above features, an X-axis table (10) is used instead of the XY table (8) of the first invention. The XY table (8) of the first invention.
Has the same effect as in the case of moving in the X-axis direction.
【0015】(第3発明)また、前記課題を解決するた
めに、本出願の第3発明の高真空用ステージは、下記の
要件を備えたことを特徴とする、(C01)高真空室(A
1)および低真空室(A2)間を仕切る仕切壁(2)に形
成されたアーム貫通孔(3)を貫通して前記仕切壁
(2)に垂直な方向であるX軸方向に延びる連結アーム
(4)、(C02)前記連結アーム(4)の前記低真空室
(A2)に配置された部分を支持するとともに前記仕切
壁(2)に沿ったY軸方向に移動可能なY軸テーブル
(9)、(C03)前記仕切壁(2)の高真空室(A1)
側または低真空室(A2)側の一方の壁面に沿って前記
壁面に隣接して配置され前記仕切壁(2)との間に形成
される隙間(Sp)により空気流通路のオリフィスを形
成するとともに、前記連結アーム(4)が貫通する連結
アーム貫通孔(14a)を有するオリフィス形成用パネ
ル(14)、(C04)前記連結アーム(4)外周面の外
側を被覆し且つ前記連結アーム(4)外周面との間に形
成される隙間(Sa)により空気流通路のオリフィスを
形成する筒状内側面を有するとともに、前記仕切壁
(2)のアーム貫通孔(3)を貫通して前記オリフィス
形成用パネル(14)に気密に接続された筒状外側面を
有するオリフィス形成用筒部材(13)、(C05)前記
アーム貫通孔(3)のY軸方向の寸法よりも小さなY軸
方向の寸法を有し、前記アーム貫通孔(3)を貫通した
状態でY軸方向に移動可能な前記オリフィス形成用筒部
材(13)。(Third invention) In order to solve the above problems, a high vacuum stage according to a third invention of the present application has the following requirements. (C01) A high vacuum chamber ( A
1) and a connecting arm that extends through an arm through hole (3) formed in a partition wall (2) that partitions between the low vacuum chamber (A2) and the X-axis direction perpendicular to the partition wall (2). (4), (C02) A Y-axis table that supports a portion of the connecting arm (4) disposed in the low vacuum chamber (A2) and is movable in the Y-axis direction along the partition wall (2). 9), (C03) High vacuum chamber (A1) of the partition wall (2)
An orifice of the air flow passage is formed by a gap (Sp) formed adjacent to the wall surface along one wall surface on the side of the low vacuum chamber (A2) and the partition wall (2). And an orifice forming panel (14) having a connecting arm through hole (14a) through which the connecting arm (4) penetrates, (C04) covering the outside of the outer peripheral surface of the connecting arm (4); A) a cylindrical inner surface defining an orifice of an air flow passage by a gap (Sa) formed between the orifice and the outer peripheral surface, and passing through an arm through hole (3) of the partition wall (2); An orifice forming cylindrical member (13) having a cylindrical outer surface hermetically connected to a forming panel (14), and (C05) a Y-axis direction smaller than the Y-axis dimension of the arm through hole (3). Having dimensions, said arc Through holes (3) movable in the Y-axis direction in a state passing through a said orifice forming tubular member (13).
【0016】(第3発明の作用)前記特徴を備えた本出
願の第3発明の高真空用ステージでは、前記第1発明の
XYテーブル(8)の代わりにY軸テーブル(9)を使
用しているので、前記第1発明のXYテーブル(8)が
Y軸方向へ移動する場合と同様の作用を奏する。(Operation of the Third Invention) In the high vacuum stage of the third invention of the present application having the above features, a Y-axis table (9) is used instead of the XY table (8) of the first invention. Therefore, the same operation as when the XY table (8) of the first invention moves in the Y-axis direction is achieved.
【0017】[0017]
(実施例)次に図面を参照しながら、本発明の高真空用
ステージの実施の形態の具体例(実施例)を説明する
が、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
なお、以後の説明の理解を容易にするために、図面にお
いて直交座標軸X軸、Y軸、Z軸を定義し、X軸方向を
前後方向、Y軸方向を左右方向、Z軸方向を上下方向と
いうことにする。また、矢印X方向またはX側を前方ま
たは前側、矢印−X方向または−X側を後方または後
側、矢印Y方向またはY側を左方または左側、矢印−Y
方向または−Y側を右方または右側、 矢印Z方向また
はZ側を上方または上側、矢印−Z方向または−Z側を
下方または下側とする。さらに図中、「○」の中に
「・」が記載されたものは紙面の裏から表に向かう矢印
を意味し、「○」の中に「×」が記載されたものは紙面
の表から裏に向かう矢印を意味するものとする。EXAMPLES Next, specific examples (embodiments) of embodiments of the high vacuum stage of the present invention will be described with reference to the drawings, but the present invention is not limited to the following examples.
In order to facilitate understanding of the following description, orthogonal coordinate axes X axis, Y axis, and Z axis are defined in the drawings, the X axis direction is the front-back direction, the Y axis direction is the left-right direction, and the Z axis direction is the up-down direction. I will say that. Further, the arrow X direction or X side is forward or front side, the arrow -X direction or -X side is rear or rear side, the arrow Y direction or Y side is left or left side, and the arrow -Y
The direction or -Y side is defined as right or right, the arrow Z direction or Z side is defined as upper or upper side, and the arrow -Z direction or -Z side is defined as lower or lower side. Furthermore, in the figure, those with “•” in “「 ”mean the arrow pointing from the back of the paper to the front, and those with“ x ”in“ ○ ”from the table on the paper It shall mean an arrow pointing to the back.
【0018】(実施例1)図1は本発明の高真空用ステ
ージの実施例1の説明図であり、図1Aは全体斜視図、
図1Bは試料テーブルへの試料ホルダの装着状態を示す
図で前記図1Aの矢印IB−IB線断面図である。図1に
おいて、高真空用ステージSを収容するチャンバーA
は、外壁1および仕切壁2等により構成されており、前
記仕切壁2によって高真空室A1および低真空室A2に分
けられている。前記高真空室A1の外壁1には試料交換
用開口部1aが設けられている。高真空室A1は、前記試
料交換用開口部1aを介して接続された図示しない試料
交換室ととの間で試料交換を行うように構成されてい
る。前記試料交換用開口部1aは図示しない仕切弁によ
り開閉されるように構成されている。(Embodiment 1) FIG. 1 is an explanatory view of Embodiment 1 of a high vacuum stage of the present invention. FIG. 1A is an overall perspective view.
FIG. 1B is a diagram showing a mounting state of the sample holder on the sample table, and is a cross-sectional view taken along the line IB-IB in FIG. 1A. In FIG. 1, a chamber A accommodating a stage S for high vacuum.
Is composed of an outer wall 1, a partition wall 2 and the like, and is divided into a high vacuum chamber A1 and a low vacuum chamber A2 by the partition wall 2. An opening 1a for sample exchange is provided on the outer wall 1 of the high vacuum chamber A1. The high vacuum chamber A1 is configured to exchange a sample with a sample exchange chamber (not shown) connected through the sample exchange opening 1a. The sample exchange opening 1a is configured to be opened and closed by a gate valve (not shown).
【0019】前記仕切壁2には、前記仕切壁2をX軸方
向に貫通するアーム貫通孔3が形成されている。アーム
貫通孔3はY軸方向に延びる内面3yおよびZ軸方向に
延びる内面3zを有する長方形の孔である。前記アーム
貫通孔3を貫通する連結アーム4の前端部4aは前記高
真空室A1内に配置され、後端部4bは前記低真空室A2
内に配置されている。前記アーム前端部4aには試料テ
ーブル6が支持されており、試料テーブル6上面にはホ
ルダ装着用突出部7が形成されている。前記ホルダ装着
用突出部7は前記試料交換用開口部1aを通って搬送さ
れる試料ホルダH(図1B参照)を試料テーブル6に装
着するための部材である。試料ホルダHを試料テーブル
6に装着する構成としては、従来周知の種々の構成を採
用することが可能である。The partition wall 2 is provided with an arm through hole 3 penetrating the partition wall 2 in the X-axis direction. The arm through hole 3 is a rectangular hole having an inner surface 3y extending in the Y-axis direction and an inner surface 3z extending in the Z-axis direction. The front end 4a of the connecting arm 4 passing through the arm through hole 3 is disposed in the high vacuum chamber A1, and the rear end 4b is connected to the low vacuum chamber A2.
Is located within. A sample table 6 is supported on the arm front end 4a, and a holder mounting projection 7 is formed on the upper surface of the sample table 6. The holder mounting protrusion 7 is a member for mounting the sample holder H (see FIG. 1B) conveyed through the sample replacement opening 1a on the sample table 6. As a configuration for mounting the sample holder H on the sample table 6, various conventionally known configurations can be adopted.
【0020】前記低真空室A2にはXYテーブル8が配
置されている。XYテーブル8はY軸方向(前記仕切壁
2に沿う方向)に移動可能なY軸テーブル9と前記Y軸
テーブル9上でX軸方向(仕切壁2に垂直な方向)に移
動可能なX軸テーブル10を有している。前記XYテー
ブル8のY軸テーブル9およびX軸テーブル10の駆動
装置は図示していないが、従来周知である。また、前記
XYテーブル8しては、市販されている製品を使用する
ことができる。前記連結アーム4の後端部4bはXYテ
ーブル8のX軸テーブル10の上面に連結されている。An XY table 8 is arranged in the low vacuum chamber A2. The XY table 8 has a Y-axis table 9 movable in the Y-axis direction (a direction along the partition wall 2) and an X-axis movable on the Y-axis table 9 in the X-axis direction (a direction perpendicular to the partition wall 2). It has a table 10. A drive device for the Y-axis table 9 and the X-axis table 10 of the XY table 8 is not shown, but is conventionally known. Further, as the XY table 8, a commercially available product can be used. The rear end 4b of the connection arm 4 is connected to the upper surface of the X-axis table 10 of the XY table 8.
【0021】前記Y軸テーブル9の前側面にはブラケッ
ト11が取付られている。ブラケット11にはオリフィ
ス形成部材12の筒部材(オリフィス形成用筒部材)1
3の後端部(−X側の端部)が取り付けられている。前
記筒部材13の前端には連結アーム貫通孔14aを有す
るパネル(オリフィス形成用パネル)14が一体的に結
合されている。前記筒部材13およびパネル14により
オリフィス形成部材12が構成されている。前記筒部材
13は前記連結アーム4の外側を被覆するように配置さ
れ、筒部材13内側面と連結アーム4の外側面との間に
は非常に狭い隙間(筒・アーム間オリフィス)Saが形
成されている。また、前記仕切壁2と前記パネル14と
の間には非常に狭い隙間(壁・パネル間オリフィス)S
pが形成されている。また、前記仕切壁2のアーム貫通
孔3の前記内面3y,3zと前記筒部材13の外側面との
間には比較的大きな空間(筒・貫通孔間の空間)Scが
形成されている。A bracket 11 is mounted on a front side surface of the Y-axis table 9. The bracket 11 has a tubular member (orifice forming tubular member) 1 of an orifice forming member 12.
3 is attached to the rear end (the end on the -X side). A panel (orifice forming panel) 14 having a connecting arm through hole 14a is integrally connected to the front end of the cylindrical member 13. The orifice forming member 12 is constituted by the cylindrical member 13 and the panel 14. The cylindrical member 13 is arranged so as to cover the outside of the connecting arm 4, and a very narrow gap (orifice between the tube and the arm) Sa is formed between the inner surface of the cylindrical member 13 and the outer surface of the connecting arm 4. Have been. Also, a very narrow gap (wall / panel orifice) S between the partition wall 2 and the panel 14
p is formed. A relatively large space (space between the cylinder and the through hole) Sc is formed between the inner surfaces 3y and 3z of the arm through holes 3 of the partition wall 2 and the outer surface of the cylindrical member 13.
【0022】前記構成を備えた実施例1では、前記仕切
壁2により仕切られた高真空室A1と低真空室A2との間
の気体連通路は次の2系統である。 (1)第1気体連通路 高真空室A1……筒・アーム間オリフィスSa……低真空
室A2 (2)第2気体連通路 高真空室A1……壁・パネル間オリフィスSp……筒・貫
通孔間の空間……低真空室A2In the first embodiment having the above structure, the gas communication passage between the high vacuum chamber A1 and the low vacuum chamber A2 partitioned by the partition wall 2 is of the following two systems. (1) First gas communication passage High vacuum chamber A1 ... orifice Sa between cylinder and arm ... Low vacuum chamber A2 (2) Second gas communication passage High vacuum chamber A1 ... Orifice Sp between wall and panel Sp ... cylinder Space between through-holes ... Low vacuum chamber A2
【0023】(実施例1の作用)前記実施例1では高真
空室A1および低真空室A2の気体連通路は2系統だけで
あり、前記2系統の各気体連通路を通って気体が低真空
室A2から高真空室A1に移動するには、前記壁・パネル
間オリフィスSpまたは筒・アーム間オリフィスSaのい
ずれかを通る必要がある。したがって、前記壁・パネル
間オリフィスSpおよび筒・アーム間オリフィスSaを非
常に狭くすること、ならびに前記壁・パネル間オリフィ
スSpの面積を適当に大きくすることおよび前記筒・ア
ーム間オリフィスSaのX軸方向の長さを適当に長くす
ることによりにより、高真空室A1を低真空室A2に比べ
て高真空に保持することができる。(Operation of the First Embodiment) In the first embodiment, the gas communication passages of the high vacuum chamber A1 and the low vacuum chamber A2 are only two systems, and the gas passes through each of the two systems. In order to move from the chamber A2 to the high vacuum chamber A1, it is necessary to pass through either the wall / panel orifice Sp or the cylinder / arm orifice Sa. Therefore, the orifice Sp between the wall and the panel and the orifice Sa between the cylinder and the arm are made very narrow, and the area of the orifice Sp between the wall and the panel is made appropriately large and the X-axis of the orifice Sa between the cylinder and the arm. By appropriately increasing the length in the direction, the high vacuum chamber A1 can be maintained at a higher vacuum than the low vacuum chamber A2.
【0024】また、Y軸テーブル9をY軸方向に移動さ
せた場合、筒部材13およびパネル14を有するオリフ
ィス形成部材12はY軸テーブルと一体的に移動する。
このとき、前記筒部材13および連通アーム4は一体的
にY軸方向に移動するので、前記筒・アーム間オリフィ
スSaの間隙は変化しない。また、前記パネル14は仕
切壁2に沿って移動するので、前記壁・パネル間オリフ
ィスSpの間隙も変化しない。したがって、Y軸テーブ
ル9が移動しても前記第1および第2の気体連通路はい
ずれも前記オリフィスSaおよびSpにより気体の自由な
連通が防止される。When the Y-axis table 9 is moved in the Y-axis direction, the orifice forming member 12 having the cylindrical member 13 and the panel 14 moves integrally with the Y-axis table.
At this time, since the cylinder member 13 and the communication arm 4 move integrally in the Y-axis direction, the gap between the cylinder-arm orifice Sa does not change. In addition, since the panel 14 moves along the partition wall 2, the gap between the wall and panel orifice Sp does not change. Therefore, even if the Y-axis table 9 moves, both the first and second gas communication passages prevent free communication of gas by the orifices Sa and Sp.
【0025】また、X軸テーブル10をX軸方向(前後
方向)に移動させた場合、オリフィス形成部材12は移
動しない。この場合、前記壁・パネル間オリフィスSp
の間隙は変化しない。また、前記X軸テーブル10の移
動により前記連結アーム4が前記筒部材13の内側をX
軸方向に移動するが、このとき、前記筒・アーム間オリ
フィスSaの間隙は変化しない。したがって、X軸テー
ブル10が移動しても前記第1および第2の気体連通路
はいずれも前記オリフィスSaおよびSpにより気体の自
由な連通が防止される。したがって、高真空室A1およ
び低真空室A2間に真空差を保持することができる。ま
た、ベークをする「高真空室」、ベークをしない「低真
空室」にはっきり分けることが出来るので、ベークによ
るXYテーブル8の移動精度の劣化をも防ぐことが出来
る。また、「高真空室」の収容物が「試料部分」だけと
なったため、放出ガス(gas)も少なく、ゴミの発生源
もない「試料を汚染しない」環境を作り出せる。When the X-axis table 10 is moved in the X-axis direction (front-back direction), the orifice forming member 12 does not move. In this case, the orifice Sp between the wall and the panel
Does not change. Further, the movement of the X-axis table 10 causes the connecting arm 4 to move the inside of the cylindrical member 13 X
Although it moves in the axial direction, the gap between the orifice Sa between the cylinder and the arm does not change at this time. Therefore, even when the X-axis table 10 moves, the first and second gas communication passages are prevented from freely communicating with each other by the orifices Sa and Sp. Therefore, a vacuum difference can be maintained between the high vacuum chamber A1 and the low vacuum chamber A2. In addition, since the baking can be clearly divided into a "high vacuum chamber" and a "low vacuum chamber" not baking, it is possible to prevent the deterioration of the movement accuracy of the XY table 8 due to the baking. In addition, since the “high vacuum chamber” contains only the “sample portion”, it is possible to create an environment “without polluting the sample” that emits little gas and has no source of dust.
【0026】(実施例2)図2は本発明の高真空用ステ
ージの実施例2の説明図であり、前記実施例1の図1A
に対応する図である。なお、この実施例2の説明におい
て、前記実施例1の構成要素に対応する構成要素には同
一の符号を付して、その詳細な説明を省略する。この実
施例2では、前記オリフィス形成部材12は、筒部材1
3と前記筒部材13に連結されたパネル14およびパネ
ル16とにより構成されている。パネル16は前記仕切
壁2の低真空室A2側の壁面との間に僅かな隙間Sqを形
成している。なお、この隙間Sqはパネル16が仕切壁
2に沿って移動するために必要な隙間であって、気体通
路のオリフィスを形成するための隙間ではない。(Embodiment 2) FIG. 2 is an explanatory view of Embodiment 2 of the high vacuum stage of the present invention.
FIG. In the description of the second embodiment, components corresponding to the components of the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted. In the second embodiment, the orifice forming member 12 is
3 and a panel 14 and a panel 16 connected to the tubular member 13. The panel 16 forms a slight gap Sq between the partition wall 2 and the wall surface on the low vacuum chamber A2 side. The gap Sq is a gap required for the panel 16 to move along the partition wall 2, and is not a gap for forming the orifice of the gas passage.
【0027】この実施例2では、筒部材13を支持する
前記実施例1のブラケット11が省略されて、前記筒部
材13のY軸方向およびZ軸方向の位置は、前記連結ア
ーム4の外側面(Y側面およびZ側面)によって定めら
れている。また、前記筒部材13のX軸方向の位置は、
前記連結仕切壁2の前後両側(X軸方向両側)に配置さ
れた前記パネル14,16によって定められている。し
たがって、この実施例2のオリフィス形成部材12は、
前記筒部材13および仕切壁2により支持されている。In the second embodiment, the bracket 11 of the first embodiment for supporting the cylindrical member 13 is omitted, and the position of the cylindrical member 13 in the Y-axis direction and the Z-axis direction is determined by the outer surface of the connecting arm 4. (Y side and Z side). The position of the cylindrical member 13 in the X-axis direction is
It is determined by the panels 14 and 16 arranged on both front and rear sides (both sides in the X-axis direction) of the connection partition wall 2. Therefore, the orifice forming member 12 of the second embodiment is
It is supported by the cylindrical member 13 and the partition wall 2.
【0028】この実施例2では、前記パネル14,16
は、前記仕切壁2と対向する面にベアリング(図3参
照)Bが装着されて、前記仕切壁2沿って移動するとき
に滑らかに移動できるように構成されるとともに、前記
壁・パネル間オリフィスSpの隙間を適切に保持できる
ように構成されている。図3は実施例2の壁・パネル間
オリフィスSpおよび筒・アーム間オリフィスSaの間隙
を適切に保持するためのベアリングの説明図である。図
3において、前記筒部材13およびパネル14,16に
はベアリングBの装着部に対応して孔Paが形成されて
おり、前記孔Paに対応してベアリング支持ケースCが
固着されている。前記ベアリング支持ケースCには軸C
aが固定されており、軸Caには球状のベアリングBが回
転可能に支持されている。前記軸CaはベアリングBが
回転移動する方向に垂直な方向に延びている。前記球状
のベアリングBにより前記筒部材13またはパネル1
4,16は、前記連結アーム4または仕切壁2との間隔
が一定に保持された状態でスムーズに移動可能となって
いる。In the second embodiment, the panels 14, 16
A bearing (see FIG. 3) B is mounted on a surface facing the partition wall 2 so as to be able to move smoothly when moving along the partition wall 2, and the orifice between the wall and the panel is provided. It is configured so that the gap of Sp can be appropriately held. FIG. 3 is an explanatory view of a bearing for properly maintaining the gap between the orifice Sp between the wall and the panel and the orifice Sa between the cylinder and the arm according to the second embodiment. In FIG. 3, a hole Pa is formed in the cylindrical member 13 and the panels 14 and 16 corresponding to the mounting portion of the bearing B, and a bearing support case C is fixed corresponding to the hole Pa. The shaft C is mounted on the bearing support case C.
a is fixed, and a spherical bearing B is rotatably supported on the shaft Ca. The shaft Ca extends in a direction perpendicular to the direction in which the bearing B rotates. The cylindrical member 13 or the panel 1 is formed by the spherical bearing B.
The members 4 and 16 can move smoothly with the distance between the connecting arm 4 and the partition wall 2 kept constant.
【0029】前記構成を備えた実施例2では、前記実施
例1と同様に、前記仕切壁2により仕切られた高真空室
A1と低真空室A2との間の気体連通路は次の2系統であ
る。 (1)第1気体連通路 高真空室A1……筒・アーム間オリフィスSa……低真空
室A2 (2)第2気体連通路 高真空室A1……壁・パネル間オリフィスSp……筒・貫
通孔間の空間……低真空室A2In the second embodiment having the above-described configuration, similarly to the first embodiment, the gas communication passage between the high vacuum chamber A1 and the low vacuum chamber A2 partitioned by the partition wall 2 has the following two systems. It is. (1) First gas communication passage High vacuum chamber A1 ... orifice Sa between cylinder and arm ... Low vacuum chamber A2 (2) Second gas communication passage High vacuum chamber A1 ... Orifice Sp between wall and panel Sp ... cylinder Space between through-holes ... Low vacuum chamber A2
【0030】(実施例2の作用)前記構成を備えた高真
空用ステージの実施例2では、Y軸テーブル9が移動す
るときには前記パネル14,16が仕切壁2にガイドさ
れながらY軸テーブル9と共に移動する。このとき、前
記筒・アーム間オリフィスSaの隙間は変化せず、ま
た、壁・パネル間オリフィスSpの隙間も変化しない。
また、X軸テーブル10が移動するときには前記連結ア
ーム4は前記筒部材3の内側をX軸方向に移動する。こ
のとき、前記壁・パネル間オリフィスSpは変化せず、
また、筒・アーム間オリフィスSaの隙間も変化しな
い。したがって、この実施例2も前記実施例1と同様の
作用に、XYテーブル8が移動しても前記第1および第
2の気体連通路はいずれも前記オリフィスSaおよびSp
により気体の自由な連通が防止される。したがってこの
実施例2の高真空ステージは、高真空室A1および低真
空室A2間に真空差を保持することができるので、前記
実施例1と同様の作用を奏する。(Operation of the Second Embodiment) In the second embodiment of the high vacuum stage having the above configuration, when the Y-axis table 9 moves, the panels 14 and 16 are guided by the partition wall 2 while the Y-axis table 9 is moved. Move with. At this time, the gap between the cylinder and arm orifice Sa does not change, and the gap between the wall and panel orifice Sp does not change.
When the X-axis table 10 moves, the connecting arm 4 moves inside the cylindrical member 3 in the X-axis direction. At this time, the orifice Sp between the wall and the panel does not change,
Further, the gap between the orifice Sa between the cylinder and the arm does not change. Therefore, in the second embodiment, the first and second gas communication passages have the same orifices Sa and Sp even if the XY table 8 moves, in the same manner as the first embodiment.
This prevents free communication of gas. Therefore, the high vacuum stage of the second embodiment can maintain a vacuum difference between the high vacuum chamber A1 and the low vacuum chamber A2, and thus has the same operation as the first embodiment.
【0031】(変更例)以上、本発明の実施例を詳述し
たが、本発明は、前記実施例に限定されるものではな
く、特許請求の範囲に記載された本発明の要旨の範囲内
で、種々の変更を行うことが可能である。本発明の変更
実施例を下記に例示する。(Modifications) Although the embodiments of the present invention have been described in detail, the present invention is not limited to the above-described embodiments, but falls within the scope of the present invention described in the appended claims. Thus, various changes can be made. Modified embodiments of the present invention will be exemplified below.
【0032】(H01)実施例1,2ではXY平面内で移
動する高真空ステージについて説明したが、X軸方向の
み、Y軸方向のみ、またはZ軸方向のみに移動する高真
空ステージにも本発明を適用することか可能である。 (H02)実施例1,2において、筒部材3を低真空室A
2側に設ける代わりに高真空室A1側に設けることが可能
である。また、筒部材3は低真空室A2および高真空室
A1の両方に設けることが可能である。(H03)実施例
1,2において、連結アーム4の断面形状は長方形とす
る代わりに円形とすることが可能である。(H01) In the first and second embodiments, the high vacuum stage that moves in the XY plane has been described. However, the high vacuum stage that moves only in the X-axis direction, only the Y-axis direction, or only the Z-axis direction can be used. It is possible to apply the invention. (H02) In the first and second embodiments, the cylindrical member 3 is connected to the low vacuum chamber A
Instead of being provided on the second side, it can be provided on the high vacuum chamber A1 side. Further, the cylindrical member 3 can be provided in both the low vacuum chamber A2 and the high vacuum chamber A1. (H03) In Embodiments 1 and 2, the cross-sectional shape of the connecting arm 4 can be circular instead of rectangular.
【0033】[0033]
【発明の効果】前述の本発明の高真空用ステージは、下
記の効果を奏することができる。 (E01)高真空用ステージの試料支持部分を配置した高
真空室内に、高真空用ステージの駆動機構を配置するこ
となく、前記試料支持部分の位置を移動調節することが
できる。The high vacuum stage according to the present invention has the following advantages. (E01) The position of the sample support portion can be moved and adjusted in a high vacuum chamber in which the sample support portion of the high vacuum stage is disposed without disposing a drive mechanism for the high vacuum stage.
【図1】 図1は本発明の高真空用ステージの実施例1
の説明図であり、図1Aは全体斜視図、図1Bは試料テ
ーブルへの試料ホルダの装着状態を示す図で前記図1A
の矢印IB−IB線断面図である。FIG. 1 is a first embodiment of a high vacuum stage according to the present invention.
FIG. 1A is an overall perspective view, and FIG. 1B is a view showing a mounting state of a sample holder on a sample table.
3 is a sectional view taken along line IB-IB of FIG.
【図2】 図2は本発明の高真空用ステージの実施例2
の説明図であり、前記実施例1の図1Aに対応する図で
ある。FIG. 2 is a second embodiment of the high vacuum stage of the present invention.
FIG. 3 is a diagram corresponding to FIG. 1A of the first embodiment.
【図3】 図3は実施例2の壁・パネル間オリフィスS
pおよび筒・アーム間オリフィスSaの間隙を適切に保持
するためのベアリングの説明図である。FIG. 3 shows an orifice S between a wall and a panel according to a second embodiment.
FIG. 5 is an explanatory view of a bearing for appropriately holding the gap between the p and the orifice Sa between the cylinder and the arm.
A1…高真空室、A2…低真空室、Sa…筒アーム間オリ
フィス、Sc…空間(筒・貫通孔間の空間、Sp…隙間
(壁・パネル間オリフィス)、2…仕切壁、3…アーム
貫通孔、4…連結アーム、8…XYテーブル、9…Y軸
テーブル、10…X軸テーブル、13…オリフィス形成
用筒部材、14…オリフィス形成用パネル、14a…連
結アーム貫通孔、A1: high vacuum chamber, A2: low vacuum chamber, Sa: orifice between cylinder arms, Sc: space (space between cylinder and through hole, Sp: gap (orifice between wall and panel), 2: partition wall, 3 ... arm Through-hole, 4 ... connecting arm, 8 ... XY table, 9 ... Y-axis table, 10 ... X-axis table, 13 ... Orifice forming cylinder member, 14 ... Orifice forming panel, 14a ... Connecting arm through hole,
Claims (3)
真空用ステージ、(A01)高真空室および低真空室間を
仕切る仕切壁に形成されたアーム貫通孔を貫通して前記
仕切壁に垂直な方向であるX軸方向に延びる連結アー
ム、(A02)前記連結アームの前記低真空室に配置され
た部分を支持するとともに前記X軸方向および前記X軸
方向と垂直なY軸方向に移動可能なXYテーブル、(A
03)前記仕切壁の低真空室側または高真空室側の一方の
壁面に沿って前記壁面に隣接して配置されて前記仕切壁
との間に形成される隙間により空気流通路のオリフィス
を形成するとともに、前記仕切壁に沿って移動可能に配
置され且つ前記連結アームが貫通する連結アーム貫通孔
を有するオリフィス形成用パネル、(A04)前記連結ア
ーム外周面の外側を被覆し且つ前記連結アーム外周面と
の間に形成される隙間により空気流通路のオリフィスを
形成する筒状内側面を有するとともに、前記仕切壁のア
ーム貫通孔を貫通して前記オリフィス形成用パネルに気
密に接続されたオリフィス形成用筒部材、(A05)前記
アーム貫通孔のY軸方向の寸法よりも小さなY軸方向の
寸法を有し、前記アーム貫通孔を貫通した状態でY軸方
向に移動可能な前記オリフィス形成用筒部材。1. A high vacuum stage characterized by the following requirements: (A01) The partition wall penetrating through an arm through hole formed in a partition wall separating a high vacuum chamber and a low vacuum chamber. (A02) a connecting arm extending in the X-axis direction which is a direction perpendicular to the X-axis direction, and supporting a portion of the connecting arm disposed in the low vacuum chamber, in the X-axis direction and in the Y-axis direction perpendicular to the X-axis direction. Movable XY table, (A
03) The orifice of the air flow passage is formed by a gap formed between the partition wall and one of the low vacuum chamber side or the high vacuum chamber side and adjacent to the wall surface and formed between the partition wall and the partition wall. And an orifice forming panel movably disposed along the partition wall and having a connecting arm through hole through which the connecting arm passes. (A04) The outer surface of the connecting arm outer peripheral surface and the connecting arm outer periphery. An orifice formed having a cylindrical inner surface forming an orifice of an air flow passage by a gap formed between the orifice and an orifice of the partition wall, and being hermetically connected to the orifice forming panel through an arm through hole of the partition wall. A cylindrical member for use, (A05) having a dimension in the Y-axis direction smaller than the dimension of the arm through-hole in the Y-axis direction, and being movable in the Y-axis direction while passing through the arm through-hole. Orifice forming tubular member.
真空用ステージ、(B01)高真空室および低真空室間を
仕切る仕切壁に形成されたアーム貫通孔を貫通して前記
仕切壁に垂直な方向であるX軸方向に延びる連結アー
ム、(B02)前記連結アームの前記低真空室に配置され
た部分を支持するとともに前記X軸方向に移動可能なX
軸テーブル、(B03)前記仕切壁の低真空室側または高
真空室側の一方の壁面に沿って前記壁面に隣接して配置
されて前記仕切壁との間に形成される隙間により空気流
通路のオリフィスを形成するとともに、前記連結アーム
が貫通する連結アーム貫通孔を有するオリフィス形成用
パネル、(B04)前記連結アーム外周面の外側を被覆し
且つ前記連結アーム外周面との間に形成される隙間によ
り空気流通路のオリフィスを形成する筒状内側面を有す
るとともに、前記仕切壁のアーム貫通孔を貫通して前記
オリフィス形成用パネルに気密に接続された筒状外側面
を有するオリフィス形成用筒部材。2. A high vacuum stage characterized by the following requirements: (B01) the partition wall penetrating through an arm through hole formed in a partition wall separating a high vacuum chamber and a low vacuum chamber. (B02) a connecting arm extending in the X-axis direction, which is a direction perpendicular to the X-axis direction, and (B02) supporting a portion of the connecting arm disposed in the low vacuum chamber and movable in the X-axis direction.
A shaft table, (B03) an air flow passage formed by a gap formed between the partition wall and one of the low vacuum chamber side and the high vacuum chamber side and adjacent to the wall face and formed between the wall and the partition wall; (B04) an orifice forming panel having a connecting arm through hole through which the connecting arm penetrates, and (B04) covering the outside of the connecting arm outer peripheral surface and being formed between the connecting arm outer peripheral surface and the connecting arm outer peripheral surface. An orifice forming cylinder having a cylindrical inner surface forming an orifice of an air flow passage by a gap, and having a cylindrical outer surface that is airtightly connected to the orifice forming panel through an arm through hole of the partition wall; Element.
真空用ステージ、(C01)高真空室および低真空室間を
仕切る仕切壁に形成されたアーム貫通孔を貫通して前記
仕切壁に垂直な方向であるX軸方向に延びる連結アー
ム、(C02)前記連結アームの前記低真空室に配置され
た部分を支持するとともに前記仕切壁に沿ったY軸方向
に移動可能なY軸テーブル、(C03)前記仕切壁の高真
空室側または低真空室側の一方の壁面に沿って前記壁面
に隣接して配置され前記仕切壁との間に形成される隙間
により空気流通路のオリフィスを形成するとともに、前
記連結アームが貫通する連結アーム貫通孔を有するオリ
フィス形成用パネル、(C04)前記連結アーム外周面の
外側を被覆し且つ前記連結アーム外周面との間に形成さ
れる隙間により空気流通路のオリフィスを形成する筒状
内側面を有するとともに、前記仕切壁のアーム貫通孔を
貫通して前記オリフィス形成用パネルに気密に接続され
た筒状外側面を有するオリフィス形成用筒部材、(C0
5)前記アーム貫通孔のY軸方向の寸法よりも小さなY
軸方向の寸法を有し、前記アーム貫通孔を貫通した状態
でY軸方向に移動可能な前記オリフィス形成用筒部材。3. A high vacuum stage characterized by the following requirements: (C01) said partition wall penetrating through an arm through hole formed in a partition wall separating a high vacuum chamber and a low vacuum chamber. (C02) a Y-axis table that supports a portion of the connection arm disposed in the low vacuum chamber and is movable in the Y-axis direction along the partition wall. (C03) The orifice of the air flow passage is formed along the one wall surface of the partition wall on the high vacuum chamber side or the low vacuum chamber side adjacent to the wall surface and formed by the gap formed between the partition wall and the partition wall. An orifice forming panel formed with a connecting arm through hole through which the connecting arm penetrates; (C04) a gap formed between the connecting arm outer peripheral surface and the outside of the connecting arm outer peripheral surface; Distribution Of which has a cylindrical inner surface that forms an orifice, the partition wall of the arm through hole through to the orifice forming tubular member having a connected tubular outer surface airtightly to said orifice forming panel, (C0
5) Y smaller than the dimension of the arm through hole in the Y-axis direction
The orifice forming cylinder member having an axial dimension and movable in the Y-axis direction while passing through the arm through hole.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29141997A JPH11126817A (en) | 1997-10-23 | 1997-10-23 | Stage for high vacuum |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29141997A JPH11126817A (en) | 1997-10-23 | 1997-10-23 | Stage for high vacuum |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11126817A true JPH11126817A (en) | 1999-05-11 |
Family
ID=17768642
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP29141997A Withdrawn JPH11126817A (en) | 1997-10-23 | 1997-10-23 | Stage for high vacuum |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH11126817A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6510755B1 (en) * | 1999-07-28 | 2003-01-28 | Kyocera Corporation | Slide apparatus and its stage mechanism for use in vacuum |
-
1997
- 1997-10-23 JP JP29141997A patent/JPH11126817A/en not_active Withdrawn
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6510755B1 (en) * | 1999-07-28 | 2003-01-28 | Kyocera Corporation | Slide apparatus and its stage mechanism for use in vacuum |
US6732610B2 (en) | 1999-07-28 | 2004-05-11 | Kyocera Corporation | Slide apparatus and its stage mechanism for use in vacuum |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
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