JPH11125902A - Resist composition for forming colored image - Google Patents

Resist composition for forming colored image

Info

Publication number
JPH11125902A
JPH11125902A JP28952897A JP28952897A JPH11125902A JP H11125902 A JPH11125902 A JP H11125902A JP 28952897 A JP28952897 A JP 28952897A JP 28952897 A JP28952897 A JP 28952897A JP H11125902 A JPH11125902 A JP H11125902A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pigment
parts
resist
photopolymerization initiator
weight
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP28952897A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shigeo Hozumi
滋郎 穂積
Hiroya Nakagawa
弘也 中川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Chemical Co Ltd filed Critical Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority to JP28952897A priority Critical patent/JPH11125902A/en
Publication of JPH11125902A publication Critical patent/JPH11125902A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Optical Filters (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a resist compsn. having satisfactory sensitivity and giving a transparent colored image having high light transmissivity even when a mask which does not sufficiently transmit light of <=310 nm wavelength is used. SOLUTION: The resist compsn. contains a pigment, a carboxyl group-contg. copolymer, a photopolymerizable monomer, a photopolymn. initiator and a solvent. A phosphine oxide compd. represented by the formula (where R<1> -R<0> are each H, a 1-4C alkyl or 1-4C alkoxy) is used as at least a part of the photopolymn. initiator.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、カラー液晶表示装
置や撮像素子などに使用される着色画像(画素とも呼ば
れる)を形成するためのレジスト組成物に関するもので
ある。さらに詳しくは、透明性に優れ、少ない露光量で
硬化膜を形成することのできる着色画像形成用レジスト
組成物に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a resist composition for forming a colored image (also referred to as a pixel) used in a color liquid crystal display device or an image pickup device. More specifically, the present invention relates to a colored image forming resist composition having excellent transparency and capable of forming a cured film with a small amount of exposure.

【0002】[0002]

【従来の技術】カラー液晶表示装置や撮像素子などにお
けるカラーフィルターは通常、ガラス基板やシリコンウ
ェハー上に、赤、緑及び青の三原色画素を形成すること
により製造されている。また、これら画素間を遮光する
ためのブラックマトリックスを設けるのが普通である。
そして、これら各色の画素を形成するには、遮光層がパ
ターン形成されたガラス基板やシリコンウェハー上に、
各色に相当する顔料を含有するレジスト液をスピンコー
ターにより均一に塗布した後、加熱乾燥(プリベーク)
し、その塗膜を露光、現像する方法が採用されており、
これらの操作をカラーフィルターに必要とされる色毎に
繰り返すことにより、各色の画像を得ている。このよう
なレジストとして、顔料及びバインダー樹脂とともに、
光重合性モノマー及び光重合開始剤を含有する組成物が
多く使用されている。また、ブラックマトリックスの形
成にも、黒色顔料を含有するレジストを用いることがあ
る。
2. Description of the Related Art A color filter in a color liquid crystal display device or an image pickup device is usually manufactured by forming three primary color pixels of red, green and blue on a glass substrate or a silicon wafer. Further, it is usual to provide a black matrix for shielding light between these pixels.
Then, in order to form pixels of these colors, on a glass substrate or a silicon wafer on which a light-shielding layer is formed by patterning,
After uniformly applying a resist solution containing a pigment corresponding to each color with a spin coater, heating and drying (prebaking)
And the method of exposing and developing the coating film is adopted,
By repeating these operations for each color required for the color filter, an image of each color is obtained. As such a resist, together with a pigment and a binder resin,
Compositions containing a photopolymerizable monomer and a photopolymerization initiator are often used. In addition, a resist containing a black pigment may be used for forming a black matrix.

【0003】露光は、所定のパターンが形成されたマス
クを通して行うことになる。使用されるマスクはガラス
製であるが、多くの場合、赤、緑及び青の各画素を形成
する際には、その製造コストの比較的安いソーダ石灰ガ
ラス製のものが使用される。ソーダ石灰ガラスは、主要
成分の関係で、310nm以下の波長の光をほとんど通さ
ない。そこで、ソーダ石灰ガラス製マスクを使用する場
合、用いるレジストには少なくとも、310nm以上の波
長域に十分な感度を有することが必要となる。そのた
め、レジスト中の光重合開始剤成分には、310nm以上
の波長域に強い吸収を有する化合物が用いられる。
Exposure is performed through a mask on which a predetermined pattern is formed. The mask used is made of glass, but in many cases, when forming the red, green and blue pixels, a soda-lime glass whose production cost is relatively low is used. Soda-lime glass hardly transmits light having a wavelength of 310 nm or less because of its main components. Therefore, when a soda-lime glass mask is used, the resist to be used must have sufficient sensitivity at least in a wavelength region of 310 nm or more. Therefore, a compound having strong absorption in a wavelength region of 310 nm or more is used as the photopolymerization initiator component in the resist.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところが、ソーダ石灰
ガラス製マスクの使用を前提にして、310nm以上の波
長域に強い吸収を有する光重合開始剤を配合したレジス
トから画素を形成した場合、光重合開始剤の吸収域が例
えば、青色画素の光透過域に重なり、結果として画素の
光透過率を低下させる原因になる。一方、画素、特に青
色画素の透過率を上げるために、310nm以上の波長域
の吸収が小さい光重合開始剤を含有するレジストを使用
した場合、感度が不足して、目的とする厚さの硬化膜が
得られないという問題がある。
However, on the assumption that a soda-lime glass mask is used, when a pixel is formed from a resist containing a photopolymerization initiator having a strong absorption in a wavelength region of 310 nm or more, photopolymerization is difficult. For example, the absorption area of the initiator overlaps the light transmission area of the blue pixel, which results in a decrease in the light transmission of the pixel. On the other hand, when a resist containing a photopolymerization initiator having a small absorption in a wavelength region of 310 nm or more is used to increase the transmittance of a pixel, particularly a blue pixel, the sensitivity is insufficient and the target thickness is hardened. There is a problem that a film cannot be obtained.

【0005】本発明の目的は、着色画像を形成する際、
例えばソーダ石灰ガラスのような、310nm以下の波長
の光を透過しにくいマスクを使用した場合でも、十分な
感度を有し、かつ光透過率が高くて透明な着色画像を与
えるレジスト組成物を提供することにある。
An object of the present invention is to form a colored image
Provide a resist composition that has sufficient sensitivity and has a high light transmittance to give a transparent colored image even when using a mask that does not easily transmit light having a wavelength of 310 nm or less, such as soda lime glass. Is to do.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の従
来技術の問題点を解決すべく鋭意研究を行った結果、顔
料やバインダー樹脂などとともに、特定構造を有する光
重合開始剤を含有するレジスト組成物を用いれば、31
0nm以下に十分な光透過域を有しないマスクを使用して
も、優れた結果が得られることを見出し、本発明を完成
するに至った。
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted intensive studies to solve the above-mentioned problems of the prior art, and as a result, they have contained a photopolymerization initiator having a specific structure together with pigments and binder resins. If a resist composition is used, 31
It has been found that excellent results can be obtained even when a mask having no sufficient light transmission region at 0 nm or less is used, and the present invention has been completed.

【0007】すなわち本発明は、(A)顔料、(B)カ
ルボキシル基含有共重合体、(C)光重合性モノマー、
(D)光重合開始剤、及び(E)溶剤を含有し、その光
重合開始剤が、下式(I)で示されるフォスフィンオキ
シド化合物を含有する着色画像形成用レジスト組成物を
提供するものである。
That is, the present invention provides (A) a pigment, (B) a carboxyl group-containing copolymer, (C) a photopolymerizable monomer,
(D) a photopolymerization initiator and (E) a solvent which provides a colored image-forming resist composition containing a phosphine oxide compound represented by the following formula (I): It is.

【0008】 [0008]

【0009】式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R
6 、R7 、R8 及びR9 は互いに独立に、水素、炭素数
1〜4のアルキル又は炭素数1〜4のアルコキシを表
す。
Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R
6 , R 7 , R 8 and R 9 independently represent hydrogen, alkyl having 1 to 4 carbons or alkoxy having 1 to 4 carbons.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明のレジスト組成物は、顔料分散型と呼ばれるもの
であって、溶剤中に顔料が分散され、さらにバインダー
樹脂、光重合性モノマー及び光重合開始剤、任意にその
他の添加剤が、溶解又は分散されている。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail.
The resist composition of the present invention is what is called a pigment dispersion type, in which a pigment is dispersed in a solvent, and further, a binder resin, a photopolymerizable monomer and a photopolymerization initiator, optionally other additives are dissolved or Distributed.

【0011】顔料は、着色画像形成用レジストに通常用
いられる有機顔料又は無機顔料であることができる。無
機顔料としては、金属酸化物や金属錯塩のような金属化
合物が挙げられ、具体的には、鉄、コバルト、アルミニ
ウム、カドミウム、鉛、銅、チタン、マグネシウム、ク
ロム、亜鉛、アンチモンなどの金属の酸化物又は複合金
属酸化物が挙げられる。また、有機顔料として具体的に
は、カラーインデックス(Colour Index)(The Societ
y of Dyers and Colourists 出版)で、ピグメント(Pi
gment )に分類されている化合物が挙げられる。これら
の顔料は、それぞれ単独で、又は2種以上組み合わせて
用いることができる。より具体的には、以下のようなカ
ラーインデックス(C.I.)番号の化合物が挙げられる
が、これらに限定されるわけではない。
The pigment may be an organic pigment or an inorganic pigment usually used for a colored image forming resist. Examples of the inorganic pigment include metal compounds such as metal oxides and metal complex salts.Specifically, iron, cobalt, aluminum, cadmium, lead, copper, titanium, magnesium, chromium, zinc, and antimony Oxides or composite metal oxides are mentioned. As the organic pigment, specifically, a color index (Color Index) (The Societ
y of Dyers and Colorists published)
gment). These pigments can be used alone or in combination of two or more. More specifically, compounds having the following color index (CI) numbers can be mentioned, but are not limited thereto.

【0012】C.I.ピグメントイエロー 20, 24, 31, 53,
83, 86, 93, 94, 109, 110, 117,125, 137, 138, 139,
147, 148, 153, 154, 166 及び 173;C.I.ピグメント
オレンジ 13, 31, 36, 38, 40, 42, 43, 51, 55, 59, 6
1, 64及び 65;C.I.ピグメントレッド 9, 97, 105, 12
2, 123, 144, 149, 166, 168, 176,177, 180, 192, 21
5, 216 及び 224;C.I.ピグメントバイオレット 14, 1
9, 23, 29, 32, 33, 36, 37 及び 38;C.I.ピグメント
ブルー 15(15:3, 15:4, 15:6 など), 21, 22, 28, 60
及び64;C.I.ピグメントグリーン 7, 10, 15, 25, 36
及び 47;C.I.ピグメントブラウン 28;C.I.ピグメント
ブラック 1 及び 7 など。
CI Pigment Yellow 20, 24, 31, 53,
83, 86, 93, 94, 109, 110, 117,125, 137, 138, 139,
147, 148, 153, 154, 166 and 173; CI Pigment Orange 13, 31, 36, 38, 40, 42, 43, 51, 55, 59, 6
1, 64 and 65; CI Pigment Red 9, 97, 105, 12
2, 123, 144, 149, 166, 168, 176,177, 180, 192, 21
5, 216 and 224; CI Pigment Violet 14, 1
9, 23, 29, 32, 33, 36, 37 and 38; CI Pigment Blue 15 (15: 3, 15: 4, 15: 6 etc.), 21, 22, 28, 60
And 64; CI Pigment Green 7, 10, 15, 25, 36
And 47; CI Pigment Brown 28; CI Pigment Black 1 and 7.

【0013】顔料は、着色画像形成用レジスト組成物中
の全固形分量を基準に、好ましくは5〜60重量%、よ
り好ましくは10〜50重量%の範囲で用いられる。
The pigment is used in an amount of preferably 5 to 60% by weight, more preferably 10 to 50% by weight, based on the total solid content in the colored image forming resist composition.

【0014】バインダー樹脂は、未露光塗膜にアルカリ
現像性を付与するものであり、また顔料の分散媒として
作用することもある。本発明では、かかるバインダー樹
脂として、カルボキシル基を有する共重合体が用いられ
る。カルボキシル基を有する共重合体は、カルボキシル
基含有モノマーと、それに共重合が可能な他のモノマー
との共重合体である。
The binder resin imparts alkali developability to the unexposed coating film, and may also act as a pigment dispersion medium. In the present invention, a copolymer having a carboxyl group is used as the binder resin. The copolymer having a carboxyl group is a copolymer of a carboxyl group-containing monomer and another monomer copolymerizable therewith.

【0015】カルボキシル基含有モノマーは、例えば、
不飽和モノカルボン酸や不飽和ジカルボン酸など、分子
中に少なくとも1個のカルボキシル基を有する不飽和カ
ルボン酸であることができ、具体的には、アクリル酸、
メタクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、
フマル酸などが挙げられる。これらは、それぞれ単独
で、又は2種以上組み合わせて用いることができる。ま
た、これらカルボキシル基含有モノマーに共重合が可能
なモノマーは、重合性不飽和結合を有する化合物であ
る。 具体的には、スチレンやα−メチルスチレン、ビ
ニルトルエンのような芳香族ビニル化合物、メチル(メ
タ)アクリレートやエチル(メタ)アクリレート、ブチ
ル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メ
タ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレートのよ
うな不飽和カルボン酸エステル、アミノエチルアクリレ
ートのような不飽和カルボン酸アミノアルキルエステ
ル、グリシジル(メタ)アクリレートのような不飽和カ
ルボン酸グリシジルエステル、酢酸ビニルやプロピオン
酸ビニルのようなカルボン酸ビニルエステル、(メタ)
アクリロニトリルやα−クロロアクリロニトリルのよう
なシアン化ビニル化合物などが挙げられる。これらのモ
ノマーも、それぞれ単独で、又は2種以上組み合わせて
用いることができる。 この共重合体において、カルボ
キシル基含有モノマーは、モノマー全体に対し、好まし
くは10〜50重量%、より好ましくは15〜40重量
%の範囲で用いられる。
The carboxyl group-containing monomer is, for example,
It can be an unsaturated carboxylic acid having at least one carboxyl group in the molecule, such as an unsaturated monocarboxylic acid or unsaturated dicarboxylic acid, and specifically, acrylic acid,
Methacrylic acid, crotonic acid, itaconic acid, maleic acid,
Fumaric acid and the like. These can be used alone or in combination of two or more. Further, a monomer copolymerizable with these carboxyl group-containing monomers is a compound having a polymerizable unsaturated bond. Specifically, styrene, α-methylstyrene, aromatic vinyl compounds such as vinyltoluene, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, benzyl Unsaturated carboxylic acid esters such as (meth) acrylate, unsaturated carboxylic acid aminoalkyl esters such as aminoethyl acrylate, unsaturated carboxylic acid glycidyl esters such as glycidyl (meth) acrylate, vinyl acetate and vinyl propionate Carboxylic acid vinyl ester, (meth)
And vinyl cyanide compounds such as acrylonitrile and α-chloroacrylonitrile. These monomers can also be used alone or in combination of two or more. In this copolymer, the carboxyl group-containing monomer is used in an amount of preferably 10 to 50% by weight, more preferably 15 to 40% by weight, based on the whole monomer.

【0016】このようなカルボキシル基を有する共重合
体の好ましい具体例としては、ベンジルメタクリレート
/メタクリル酸共重合体、ベンジルメタクリレート/メ
タクリル酸/スチレン共重合体、メチルメタクリレート
/メタクリル酸共重合体、メチルメタクリレート/メタ
クリル酸/スチレン共重合体などが挙げられる。これら
のカルボキシル基を有する共重合体は、ポリスチレン換
算重量平均分子量が10,000〜400,000 の範囲にあるのが
好ましく、より好ましくは 20,000〜300,000の範囲であ
る。カルボキシル基含有共重合体は、レジスト組成物中
の全固形分量を基準に、一般には5〜90重量%、好ま
しくは20〜70重量%の範囲で含有される。
Preferred specific examples of such a copolymer having a carboxyl group include benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer, benzyl methacrylate / methacrylic acid / styrene copolymer, methyl methacrylate / methacrylic acid copolymer, methyl Examples include methacrylate / methacrylic acid / styrene copolymer. These copolymers having a carboxyl group preferably have a weight-average molecular weight in terms of polystyrene of 10,000 to 400,000, more preferably 20,000 to 300,000. The carboxyl group-containing copolymer is generally contained in the range of 5 to 90% by weight, preferably 20 to 70% by weight, based on the total solid content in the resist composition.

【0017】光重合性モノマーは、単官能モノマーの
他、2官能、その他の多官能モノマーであることができ
る。単官能モノマーの具体例としては、ノニルフェニル
カルビトールアクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェ
ノキシプロピルアクリレート、2−エチルヘキシルカル
ビトールアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレ
ート、N−ビニルピロリドンなどが挙げられる。また2
官能モノマーの具体例としては、1,6−ヘキサンジオ
ールジ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ
(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メ
タ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)
アクリレート、ビスフェノールAのビス(アクリロイロ
キシエチル)エーテル、3−メチルペンタンジオールジ
(メタ)アクリレートなどが挙げられ、その他の多官能
モノマーとしては、トリメチロールプロパントリ(メ
タ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)
アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)ア
クリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)ア
クリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)ア
クリレートなどが挙げられる。なかでも、2官能以上の
多官能モノマーが好ましく用いられる。光重合性モノマ
ーは、レジスト組成物中の全固形分量を基準に、一般に
は5〜90重量%、好ましくは20〜70重量%の範囲
で含有される。
The photopolymerizable monomer can be a bifunctional or other polyfunctional monomer in addition to a monofunctional monomer. Specific examples of the monofunctional monomer include nonylphenyl carbitol acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, 2-ethylhexyl carbitol acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, and N-vinylpyrrolidone. Also 2
Specific examples of the functional monomer include 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, and triethylene glycol di (meth) acrylate.
Acrylates, bis (acryloyloxyethyl) ether of bisphenol A, 3-methylpentanediol di (meth) acrylate, and the like, and other polyfunctional monomers include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri ( Meta)
Examples include acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, and dipentaerythritol hexa (meth) acrylate. Among them, a bifunctional or higher polyfunctional monomer is preferably used. The photopolymerizable monomer is generally contained in the range of 5 to 90% by weight, preferably 20 to 70% by weight, based on the total solid content in the resist composition.

【0018】次に、光重合開始剤として本発明では、前
記式(I)のフォスフィンオキシド化合物を用いる。
式(I)において、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R
6 、R7 、R8 及びR9 は、互いに同一でも異なっても
よく、水素、炭素数1〜4のアルキル又は炭素数1〜4
のアルコキシである。ここでアルキルの例としては、メ
チル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソ
ブチル、tert−ブチルなどが挙げられ、またアルコキシ
の例としては、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブト
キシなどが挙げられる。式(I)のフォスフィンオキシ
ド化合物のなかでは、R1 、R2 及びR3 の二つ又は三
つ、並びにR4 、R5 及びR6 の二つ又は三つがそれぞ
れアルキルであるもの、とりわけ下式(II)に相当する
ものが有利である。
Next, in the present invention, the phosphine oxide compound of the above formula (I) is used as a photopolymerization initiator.
In the formula (I), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R
6 , R 7 , R 8 and R 9 may be the same or different from each other, and may be hydrogen, alkyl having 1 to 4 carbons or 1 to 4 carbons.
Is an alkoxy. Here, examples of alkyl include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, tert-butyl and the like, and examples of alkoxy include methoxy, ethoxy, propoxy, butoxy and the like. Among the phosphine oxide compounds of the formula (I), two or three of R 1 , R 2 and R 3 and two or three of R 4 , R 5 and R 6 are each alkyl, especially Those corresponding to the following formula (II) are advantageous.

【0019】 [0019]

【0020】式中、R11、R12、R14及びR15は互いに
独立に、炭素数1〜4のアルキルを表し、R13、R16
17及びR18は互いに独立に、水素又は炭素数1〜4の
アルキルを表す。
In the formula, R 11 , R 12 , R 14 and R 15 each independently represent alkyl having 1 to 4 carbon atoms, and R 13 , R 16 ,
R 17 and R 18 independently represent hydrogen or alkyl having 1 to 4 carbons.

【0021】上記式(I)又は式(II)で示されるフォ
スフィンオキシド化合物は、特開平6-298818 号公報や
特開昭 61-130296号公報に記載の方法に従って、対応す
る無置換の又は置換されたベンゾイルクロリド1種又は
2種と、無置換の又は置換されたフェニルフォスフィン
とを反応させて、ジベンゾイルフォスフィン化合物とな
し、これを酸化することにより、製造できる。かかるフ
ォスフィンオキシド系光重合開始剤として具体的には、
次式(III)
The phosphine oxide compound represented by the above formula (I) or (II) can be prepared according to the method described in JP-A-6-298818 or JP-A-61-130296. It can be produced by reacting one or two kinds of substituted benzoyl chlorides with unsubstituted or substituted phenylphosphine to form a dibenzoylphosphine compound, and oxidizing the compound. Specifically, as such a phosphine oxide-based photopolymerization initiator,
The following formula (III)

【0022】 [0022]

【0023】の構造を有し、チバガイギー社から“イル
ガキュア 819”の商品名で販売されているビス(2,
4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルフォスフィン
オキシドがあり、この化合物は本発明において好ましく
用いられる。その他の具体例としては、ビス(2,6−
ジメチルベンゾイル)フェニルフォスフィンオキシド、
ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)(2,5−
ジメチルフェニル)フォスフィンオキシドなども挙げる
ことができる。
The screw (2, 2) sold by Ciba-Geigy under the trade name of "Irgacure 819"
4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide, which is preferably used in the present invention. Other specific examples include bis (2,6-
Dimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide,
Bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) (2,5-
(Dimethylphenyl) phosphine oxide and the like.

【0024】本発明においては、光重合開始剤として、
前記式(I)のジベンゾイルフェニルフォスフィンオキ
シド化合物を用いることが必須であるが、その他の光重
合開始剤を混合して使用することもできる。併用される
光重合開始剤は、この分野で通常用いられているもので
あることができ、例えば、アセトフェノン系、ベンゾイ
ン系、ベンゾフェノン系、チオキサントン系、トリアジ
ン系、その他の開始剤が挙げられる。より具体的には、
以下のような化合物を挙げることができ、これらの1種
又は2種以上を式(I)のフォスフィンオキシド化合物
と組み合わせて用いることができる。
In the present invention, as the photopolymerization initiator,
It is essential to use the dibenzoylphenylphosphine oxide compound of the formula (I), but other photopolymerization initiators can be used in combination. The photopolymerization initiator to be used in combination can be one commonly used in this field, and examples thereof include acetophenone-based, benzoin-based, benzophenone-based, thioxanthone-based, triazine-based, and other initiators. More specifically,
The following compounds can be mentioned, and one or more of these can be used in combination with the phosphine oxide compound of the formula (I).

【0025】(a) アセトフェノン系開始剤 ジエトキシアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチ
ル−1−フェニルプロパン−1−オン、ベンジルジメチ
ルケタール、2−ヒドロキシ−1−〔4−(2−ヒドロ
キシエトキシ)フェニル〕−2−メチルプロパン−1−
オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、
2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モ
ルホリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメ
チルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)ブタン−
1−オン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−〔4−
(1−メチルビニル)フェニル〕プロパン−1−オンの
オリゴマーなど。
(A) acetophenone initiator diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzyldimethylketal, 2-hydroxy-1- [4- (2-hydroxyethoxy) Phenyl] -2-methylpropane-1-
On, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone,
2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butane-
1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1- [4-
(1-methylvinyl) phenyl] oligomers of propan-1-one and the like.

【0026】(b) ベンゾイン系開始剤 ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエ
チルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベン
ゾインイソブチルエーテルなど。
(B) Benzoin initiators Benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether and the like.

【0027】(c) ベンゾフェノン系開始剤 ベンゾフェノン、o−ベンゾイル安息香酸メチル、4−
フェニルベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4′−メチ
ルジフェニルサルファイド、3,3′,4,4′−テト
ラ(tert−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノ
ン、2,4,6−トリメチルベンゾフェノンなど。
(C) Benzophenone initiator Benzophenone, methyl o-benzoylbenzoate,
Phenylbenzophenone, 4-benzoyl-4'-methyldiphenylsulfide, 3,3 ', 4,4'-tetra (tert-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone and the like.

【0028】(d) チオキサントン系開始剤 2−イソプロピルチオキサントン、4−イソプロピルチ
オキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,
4−ジクロロチオキサントン、1−クロロ−4−プロポ
キシチオキサントンなど。
(D) Thioxanthone initiator 2-isopropylthioxanthone, 4-isopropylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone,
4-dichlorothioxanthone, 1-chloro-4-propoxythioxanthone and the like.

【0029】(e) トリアジン系開始剤 2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(4−メトキ
シフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス
(トリクロロメチル)−6−(4−メトキシナフチル)−
1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメ
チル)−6−ピペロニル−1,3,5−トリアジン、
2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(4−メトキ
シスチリル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス
(トリクロロメチル)−6−〔2−(5−メチルフラン
−2−イル)エテニル〕−1,3,5−トリアジン、
2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−〔2−(フラ
ン−2−イル)エテニル〕−1,3,5−トリアジン、
2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−〔2−(4−
ジエチルアミノ−2−メチルフェニル)エテニル〕−
1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメ
チル)−6−〔2−(3,4−ジメトキシフェニル)エ
テニル〕−1,3,5−トリアジンなど。
(E) Triazine initiator 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- ( 4-methoxynaphthyl)-
1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6-piperonyl-1,3,5-triazine,
2,4-bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxystyryl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (5-methylfuran-2- Yl) ethenyl] -1,3,5-triazine,
2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (furan-2-yl) ethenyl] -1,3,5-triazine,
2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (4-
Diethylamino-2-methylphenyl) ethenyl]-
1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (3,4-dimethoxyphenyl) ethenyl] -1,3,5-triazine and the like.

【0030】(f) その他の開始剤 2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフ
ィンオキシド、2,2′−ビス(o−クロロフェニル)
−4,4′,5,5′−テトラフェニル−1,2′−ビ
イミダゾール、10−ブチル−2−クロロアクリドン、
2−エチルアントラキノン、ベンジル、9,10−フェ
ナンスレンキノン、カンファーキノン、フェニルグリオ
キシル酸メチル、チタノセン化合物など。
(F) Other initiators 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 2,2'-bis (o-chlorophenyl)
-4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole, 10-butyl-2-chloroacridone,
2-ethylanthraquinone, benzyl, 9,10-phenanthrenequinone, camphorquinone, methyl phenylglyoxylate, titanocene compounds and the like.

【0031】また、光重合開始剤に光開始助剤を組み合
わせて用いることもできる。光開始助剤の具体例として
は、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミ
ン、トリイソプロパノールアミン、4−ジメチルアミノ
安息香酸メチル、4−ジメチルアミノ安息香酸エチル、
4−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、4−ジメチル
アミノ安息香酸2−エチルヘキシル、安息香酸2−ジメ
チルアミノエチル、N,N−ジメチルパラトルイジン、
4,4′−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン(通
称ミヒラーズケトン)、4,4′−ビス(ジエチルアミ
ノ)ベンゾフェノン、9,10−ジメトキシアントラセ
ン、2−エチル−9,10−ジメトキシアントラセン、
9,10−ジエトキシアントラセン、2−エチル−9,
10−ジエトキシアントラセンなどが挙げられる。これ
ら光開始助剤は、それぞれ単独で、又は2種以上組み合
わせて用いることができる。
Further, a photopolymerization initiator may be used in combination with a photoinitiator. Specific examples of the photoinitiating aid include triethanolamine, methyldiethanolamine, triisopropanolamine, methyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate,
Isoamyl 4-dimethylaminobenzoate, 2-ethylhexyl 4-dimethylaminobenzoate, 2-dimethylaminoethyl benzoate, N, N-dimethylparatoluidine,
4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone (commonly known as Michler's ketone), 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, 9,10-dimethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-dimethoxyanthracene,
9,10-diethoxyanthracene, 2-ethyl-9,
10-diethoxyanthracene and the like. These photoinitiating aids can be used alone or in combination of two or more.

【0032】前記式(I)のフォスフィンオキシド化合
物は、レジスト組成物中のカルボキシル基含有共重合体
及び光重合性モノマーの合計100重量部に対し、好ま
しくは0.01〜35重量部の範囲で、より好ましくは5
〜30重量部の範囲で使用される。また、他の光重合開
始剤を組み合わせて用いる場合、及び任意に光開始助剤
を用いる場合は、式(I)のフォスフィンオキシド化合
物を含めたこれらの合計量として、カルボキシル基含有
共重合体及び光重合性モノマーの合計100重量部に対
し、好ましくは3〜40重量部、より好ましくは5〜3
0重量部の範囲で使用される。
The phosphine oxide compound of the formula (I) is preferably used in an amount of 0.01 to 35 parts by weight based on 100 parts by weight of the total of the carboxyl group-containing copolymer and the photopolymerizable monomer in the resist composition. And more preferably 5
Used in the range of 3030 parts by weight. When other photopolymerization initiators are used in combination and, optionally, a photoinitiator is used, the total amount of these including the phosphine oxide compound of the formula (I) is defined as the carboxyl group-containing copolymer. And preferably 3 to 40 parts by weight, more preferably 5 to 3 parts by weight, based on 100 parts by weight of the photopolymerizable monomer.
Used in the range of 0 parts by weight.

【0033】溶剤は、この分野で用いられる各種のもの
であることができる。その具体例としては、エチレング
リコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノ
エチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエー
テル、エチレングリコールモノブチルエーテルのような
エチレングリコールモノアルキルエーテル類;ジエチレ
ングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコール
ジエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエ
ーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテルのよう
なジエチレングリコールジアルキルエーテル類;メチル
セロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテートの
ようなエチレングリコールアルキルエーテルアセテート
類;プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテー
ト、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテー
ト、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテ
ートのようなプロピレングリコールアルキルエーテルア
セテート類;ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳
香族炭化水素類;メチルエチルケトン、アセトン、メチ
ルアミルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキ
サノンのようなケトン類;エタノール、プロパノール、
ブタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、エチ
レングリコール、グリセリンのようなアルコール類;3
−エトキシプロピオン酸エチル、3−メトキシプロピオ
ン酸メチルのようなエステル類;γ−ブチロラクトンの
ような環状エステル類などが挙げられる。これらの溶剤
は、それぞれ単独で、又は2種類以上混合して用いるこ
とができる。溶剤の使用量は、それを含むレジスト組成
物全体の量を基準に、好ましくは60〜90重量%、よ
り好ましくは70〜85重量%である。
The solvent can be any of those used in this field. Specific examples thereof include ethylene glycol monoalkyl ethers such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, and ethylene glycol monobutyl ether; diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dipropyl ether, and diethylene glycol. Diethylene glycol dialkyl ethers such as dibutyl ether; ethylene glycol alkyl ether acetates such as methyl cellosolve acetate and ethyl cellosolve acetate; propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monopropyl Propylene glycol alkyl ether acetates such as chromatography ether acetate; benzene, toluene, aromatic hydrocarbons such as xylene; methyl ethyl ketone, acetone, methyl amyl ketone, methyl isobutyl ketone, ketones such as cyclohexanone; ethanol, propanol,
Alcohols such as butanol, hexanol, cyclohexanol, ethylene glycol and glycerin; 3
Esters such as ethyl ethoxypropionate and methyl 3-methoxypropionate; and cyclic esters such as γ-butyrolactone. These solvents can be used alone or in combination of two or more. The amount of the solvent to be used is preferably 60 to 90% by weight, more preferably 70 to 85% by weight, based on the total amount of the resist composition containing the solvent.

【0034】本発明の着色画像形成用レジスト組成物に
は、必要に応じて、充填剤、他の高分子化合物、界面活
性剤(顔料分散剤)、密着促進剤、酸化防止剤、紫外線
吸収剤、凝集防止材などの添加剤を混合使用することも
できる。充填剤として具体的には、ガラス、シリカ、ア
ルミナなどが、他の高分子化合物として具体的には、ポ
リビニルアルコール、ポリアクリル酸、ポリエチレング
リコールモノアルキルエーテル、ポリフロロアルキルア
クリレートなどが、界面活性剤(顔料分散剤)として
は、ノニオン系、カチオン系、アニオン系などの各種の
ものが、密着促進剤として具体的には、ビニルトリメト
キシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス
(2−メトキシエトキシ)シラン、N−(2−アミノエ
チル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、
N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメ
トキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラ
ン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3
−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、2−
(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキ
シシラン、3−クロロプロピルメチルジメトキシシラ
ン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン、3−メタ
クリロイロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メル
カプトプロピルトリメトキシシランなどが、酸化防止剤
として具体的には、2,2′−チオビス(4−メチル−
6−tert−ブチルフェノール)、2,6−ジ−tert−ブ
チルフェノールなどが、紫外線吸収剤として具体的に
は、2−(3−tert−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メ
チルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、アル
コキシベンゾフェノンなどが、また凝集剤として具体的
には、ポリアクリル酸ナトリウムなどが挙げられる。
The resist composition for forming a colored image of the present invention may contain, if necessary, a filler, another polymer compound, a surfactant (a pigment dispersant), an adhesion promoter, an antioxidant, and an ultraviolet absorber. Further, additives such as an anti-agglomeration material can be mixed and used. Specific examples of the filler include glass, silica, and alumina, and specific examples of other polymer compounds include polyvinyl alcohol, polyacrylic acid, polyethylene glycol monoalkyl ether, and polyfluoroalkyl acrylate. As the (pigment dispersant), various types such as nonionic, cationic, and anionic are used. Specific examples of the adhesion promoter include vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, and vinyltris (2-methoxyethoxy) silane. , N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane,
N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3
-Glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 2-
(3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-chloropropylmethyldimethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, etc. are oxidized. Specific examples of the inhibitor include 2,2'-thiobis (4-methyl-
6-tert-butylphenol), 2,6-di-tert-butylphenol and the like, specifically, 2- (3-tert-butyl-2-hydroxy-5-methylphenyl) -5-chloro Benzotriazole, alkoxybenzophenone and the like, and specific examples of the coagulant include sodium polyacrylate.

【0035】本発明のレジスト組成物は、例えば以下の
ようにして調製できる。すなわち、顔料を予め最終必要
量の溶媒のうちの部分量と混合し、顔料の平均粒子径が
0.2μm 以下程度となるまで、ビーズミルなどを用いて
分散させる。この際、必要に応じて分散剤が使用され、
またバインダー樹脂となるカルボキシル基含有共重合体
の一部又は全部が配合されることもある。得られた顔料
分散液(ミルベース)に、溶剤及びカルボキシル基含有
共重合体のそれぞれ残量、さらに光重合性モノマー及び
光重合開始剤、必要に応じて使用されるその他の成分
を、所定の濃度となるように添加し、目的の着色画像形
成用レジスト組成物を得る。
The resist composition of the present invention can be prepared, for example, as follows. That is, the pigment is previously mixed with a partial amount of the final required amount of the solvent, and dispersed using a bead mill or the like until the average particle diameter of the pigment becomes about 0.2 μm or less. At this time, a dispersant is used if necessary,
A part or all of the carboxyl group-containing copolymer serving as a binder resin may be blended. The obtained pigment dispersion (mill base) is mixed with a solvent, a carboxyl group-containing copolymer, a residual amount, a photopolymerizable monomer, a photopolymerization initiator, and other components used as required at a predetermined concentration. To obtain the desired colored image forming resist composition.

【0036】こうして調製されたレジスト組成物は、例
えば以下のようにして基材上に塗布し、光硬化及び現像
をして着色画像とすることができる。まず、レジスト液
を基材(通常はガラス基板)上にスピンコートし、溶剤
を加温乾燥(プリベーク)することにより、平滑な塗膜
を得る。このときの塗膜の膜厚は、およそ1〜2μm程
度である。得られた塗膜に、目的の画像を形成するため
のネガマスクを介して紫外線を照射する。この際、露光
部全体に均一に平行光線が照射され、かつマスクと基板
の正確な位置合わせが行われるよう、マスクアライナー
などの装置を使用するのが好ましい。さらにこの後、硬
化の終了した塗膜を希アルカリ水溶液に接触させて未露
光部を溶解させ、現像することにより、目的とする画像
が得られる。現像後、必要に応じて150〜230℃で
10〜60分程度の後硬化(ポストベーク)を施すこと
もできる。
The resist composition thus prepared can be applied to a substrate, for example, as described below, and cured by light and developed to form a colored image. First, a resist solution is spin-coated on a substrate (usually a glass substrate), and the solvent is heated and dried (prebaked) to obtain a smooth coating film. At this time, the thickness of the coating film is about 1-2 μm. The obtained coating film is irradiated with ultraviolet rays through a negative mask for forming a target image. At this time, it is preferable to use a device such as a mask aligner so that the entire exposed portion is uniformly irradiated with parallel rays and the mask and the substrate are accurately aligned. Thereafter, the cured coating film is brought into contact with a dilute aqueous alkaline solution to dissolve the unexposed portion and develop it, thereby obtaining an intended image. After the development, post-baking (post-baking) at 150 to 230 ° C. for about 10 to 60 minutes can be performed, if necessary.

【0037】パターニング露光後の現像に使用する現像
液は、通常、アルカリ性化合物と界面活性剤を含む水溶
液である。アルカリ性化合物は、無機及び有機のアルカ
リ性化合物のいずれでもよい。無機アルカリ性化合物の
具体例としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、
燐酸水素二ナトリウム、燐酸二水素ナトリウム、燐酸水
素二アンモニウム、燐酸二水素アンモニウム、燐酸二水
素カリウム、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、炭酸
ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸
水素カリウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、ア
ンモニアなどが挙げられる。また、有機アルカリ性化合
物の具体例としては、テトラメチルアンモニウムヒドロ
キシド、2−ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウム
ヒドロキシド、モノメチルアミン、ジメチルアミン、ト
リメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、
トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプ
ロピルアミン、エタノールアミンなどが挙げられる。こ
れらの無機及び有機アルカリ性化合物は、それぞれ単独
で又は2種以上組み合わせて用いることができる。アル
カリ現像液中のアルカリ性化合物の好ましい濃度は、
0.01〜10重量%の範囲であり、より好ましくは0.0
5〜5重量%である。
The developer used for the development after the patterning exposure is usually an aqueous solution containing an alkaline compound and a surfactant. The alkaline compound may be any of inorganic and organic alkaline compounds. Specific examples of the inorganic alkaline compound include sodium hydroxide, potassium hydroxide,
Disodium hydrogen phosphate, sodium dihydrogen phosphate, diammonium hydrogen phosphate, ammonium dihydrogen phosphate, potassium dihydrogen phosphate, sodium silicate, potassium silicate, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, sodium borate , Potassium borate, ammonia and the like. Further, specific examples of the organic alkaline compound include tetramethylammonium hydroxide, 2-hydroxyethyltrimethylammonium hydroxide, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine,
Triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, ethanolamine and the like. These inorganic and organic alkaline compounds can be used alone or in combination of two or more. The preferred concentration of the alkaline compound in the alkaline developer is
0.01 to 10% by weight, more preferably 0.0 to 10% by weight.
5 to 5% by weight.

【0038】また界面活性剤は、ノニオン系界面活性
剤、カチオン系界面活性剤又はアニオン系界面活性剤の
いずれでもよい。ノニオン系界面活性剤の具体例として
は、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシ
エチレンアリールエーテル、ポリオキシエチレンアルキ
ルアリールエーテル、その他のポリオキシエチレン誘導
体、オキシエチレン/オキシプロピレンブロックコポリ
マー、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン
ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビ
トール脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、ポ
リオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン
アルキルアミンなどが挙げられる。アニオン系界面活性
剤の具体例としては、ラウリルアルコール硫酸エステル
ナトリウムやオレイルアルコール硫酸エステルナトリウ
ムのような高級アルコール硫酸エステル塩類、ラウリル
硫酸ナトリウムやラウリル硫酸アンモニウムのようなア
ルキル硫酸塩類、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウ
ムやドデシルナフタレンスルホン酸ナトリウムのような
アルキルアリールスルホン酸塩類などが挙げられる。カ
チオン系界面活性剤の具体例としては、ステアリルアミ
ン塩酸塩やラウリルトリメチルアンモニウムクロライド
のようなアミン塩又は第四級アンモニウム塩などが挙げ
られる。これらの界面活性剤は、それぞれ単独で用いる
ことも、また2種以上組み合わせて用いることもでき
る。アルカリ現像液中の界面活性剤の濃度は、通常0.0
1〜10重量%の範囲、好ましくは0.05〜8重量%、
より好ましくは0.1〜5重量%である。
The surfactant may be a nonionic surfactant, a cationic surfactant, or an anionic surfactant. Specific examples of the nonionic surfactant include polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene aryl ether, polyoxyethylene alkyl aryl ether, other polyoxyethylene derivatives, oxyethylene / oxypropylene block copolymer, sorbitan fatty acid ester, and polyoxyethylene alkyl ether. Oxyethylene sorbitan fatty acid ester, polyoxyethylene sorbitol fatty acid ester, glycerin fatty acid ester, polyoxyethylene fatty acid ester, polyoxyethylene alkylamine and the like can be mentioned. Specific examples of anionic surfactants include higher alcohol sulfates such as sodium lauryl alcohol sulfate and sodium oleyl alcohol sulfate; alkyl sulfates such as sodium lauryl sulfate and ammonium lauryl sulfate; sodium dodecylbenzene sulfonate; Alkyl aryl sulfonates such as sodium dodecylnaphthalene sulfonate, and the like. Specific examples of the cationic surfactant include amine salts such as stearylamine hydrochloride and lauryltrimethylammonium chloride, and quaternary ammonium salts. These surfactants can be used alone or in combination of two or more. The concentration of the surfactant in the alkali developer is usually 0.0
1 to 10% by weight, preferably 0.05 to 8% by weight,
More preferably, the content is 0.1 to 5% by weight.

【0039】以上のようなレジスト液の塗布、乾燥、得
られる乾燥塗膜へのパターニング露光、そして現像とい
う各操作を経て、レジスト中の顔料の色に相当する画素
が得られ、さらにこれらの操作を、カラーフィルターに
必要とされる色の数だけ繰り返すことにより、カラーフ
ィルターが得られる。すなわち、カラーフィルターは通
常、赤、緑及び青の各画素を基板上に配置したものであ
るが、ある色に相当する顔料を含む本発明のレジスト組
成物を用いて上記の操作を行うことにより、その色の画
素を得、他の色についても所望の色に相当する顔料を含
む本発明のレジスト組成物を用いて同様の操作を行い、
三色の画素を基板上に配置することができる。もちろ
ん、三色のうちいずれか一色又は二色にのみ、本発明の
レジスト組成物を適用することも可能である。また、遮
光層であるブラックマトリックスの形成に、黒色顔料を
含む本発明のレジスト組成物を用いることもできる。
Through the above operations of coating and drying the resist solution, patterning exposure to the obtained dried coating film, and developing, pixels corresponding to the color of the pigment in the resist are obtained. Is repeated by the number of colors required for the color filter to obtain a color filter. That is, a color filter is usually one in which each pixel of red, green and blue is arranged on a substrate, but by performing the above operation using the resist composition of the present invention containing a pigment corresponding to a certain color. The same operation was performed using the resist composition of the present invention containing a pigment corresponding to the desired color for the other colors to obtain a pixel of that color,
Three color pixels can be arranged on the substrate. Of course, the resist composition of the present invention can be applied to only one or two of the three colors. Further, the resist composition of the present invention containing a black pigment can be used for forming a black matrix which is a light shielding layer.

【0040】[0040]

【実施例】以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説
明するが、本発明はこれらの実施例によって限定される
ものではない。例中、含有量ないし使用量を表す%及び
部は、特にことわらないかぎり重量基準である。また、
実施例及び比較例で用いたカルボキシル基含有共重合体
及び光重合性モノマーは次のとおりである。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to the following examples, but the present invention is not limited to these examples. In the examples, percentages and parts representing the content or the used amount are based on weight unless otherwise specified. Also,
The carboxyl group-containing copolymer and the photopolymerizable monomer used in Examples and Comparative Examples are as follows.

【0041】(B)カルボキシル基含有共重合体: ベ
ンジルメタクリレート/メタクリル酸の重量比80/2
0の共重合体(ポリスチレン換算重量平均分子量 35,00
0 ) (C)光重合性モノマー: ジペンタエリスリトールヘ
キサアクリレート(日本化薬社製の“カヤラッド DPH
A”)
(B) Carboxyl group-containing copolymer: weight ratio of benzyl methacrylate / methacrylic acid 80/2
0 (polystyrene-equivalent weight average molecular weight 35,00
0) (C) Photopolymerizable monomer: dipentaerythritol hexaacrylate (“Kayarad DPH” manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
A ”)

【0042】さらに、用いた光重合開始剤は次のとおり
であり、以下、特に表中ではそれぞれの記号で表示す
る。
Further, the photopolymerization initiators used are as follows, and are indicated below by the respective symbols, particularly in the tables.

【0043】(D)光重合開始剤 D1: ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェ
ニルフォスフィンオキシド(チバガイギー社製の“イル
ガキュア 819”) DA: 2−メチル−1−〔4−(メチルチオ)フェニ
ル〕−2−モルフォリノプロパノン−1(チバガイギー
社製の“イルガキュア 907”) DB: 2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−
モルフォリノフェニル)−ブタノン−1(チバガイギー
社製の“イルガキュア 369”) DC: 2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−ピペロ
ニル−1,3,5−トリアジン(日本シーベルヘグナー
社製の“トリアジン PP”) DD: 2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフ
ォスフィンオキシド(BASF社製の“ルシリン TP
O”)
(D) Photopolymerization initiator D1: bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide (“Irgacure 819” manufactured by Ciba Geigy) DA: 2-methyl-1- [4- (methylthio) ) Phenyl) -2-morpholinopropanone-1 (“Irgacure 907” manufactured by Ciba-Geigy) DB: 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-
Morpholinophenyl) -butanone-1 ("Irgacure 369" manufactured by Ciba Geigy) DC: 2,4-bis (trichloromethyl) -6-piperonyl-1,3,5-triazine ("Triazine manufactured by Siebel-Hegner Japan") PP ") DD: 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide (" Lucillin TP manufactured by BASF)
O ”)

【0044】実施例1及び比較例1〜3(青色レジス
ト) 予め、表1記載の顔料と顔料分散剤の各全量を、溶剤で
あるプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテー
トの部分量と混合し、ビーズミルを用いて顔料を十分に
分散させて微細化処理し、これにプロピレングリコール
モノメチルエーテルアセテートの残量を含む残りの成分
を加えて混合し、表1に示す組成のレジスト液を得た。
Example 1 and Comparative Examples 1 to 3 (blue resist) The total amount of each of the pigment and the pigment dispersant shown in Table 1 was previously mixed with a partial amount of propylene glycol monomethyl ether acetate as a solvent, and the mixture was mixed with a bead mill. Then, the pigment was sufficiently dispersed and subjected to micronizing treatment, and the remaining components including the remaining amount of propylene glycol monomethyl ether acetate were added thereto and mixed to obtain a resist solution having the composition shown in Table 1.

【0045】[0045]

【表1】 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 実施例1 比較例1 比較例2 比較例3 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 顔料:C.I.ヒ゜ク゛メントフ゛ルー 15:6 4.8 部 4.8 部 4.8 部 4.8 部 C.I.ヒ゜ク゛メントハ゛イオレット 23 0.2 部 0.2 部 0.2 部 0.2 部 ────────────────────────────────── カルボキシル基含有共重合体 7.3 部 7.3 部 7.9 部 8.6 部 ────────────────────────────────── 光重合性モノマー 3.1 部 3.1 部 3.4 部 3.7 部 ────────────────────────────────── 光重合開始剤:D1 3.1 部 − − − DA − 3.1 部 − − DB − − 2.2 部 − DC − − − 1.2 部 ────────────────────────────────── ノニオン系の顔料分散剤 1.5 部 1.5 部 1.5 部 1.5 部 ──────────────────────────────────フ゜ロヒ゜レンク゛リコールモノメチルエーテルアセテート 80 部 80 部 80 部 80 部 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━Table 1 Example 1 Comparative Example 1 Comparative Example 2 Comparative Example 3顔料 Pigment: CI pigment blue 15: 6 4.8 parts 4.8 parts 4.8 parts 4.8 parts CI Pigment Violet 23 0.2 part 0.2 part 0.2 part 0.2 part Polymer 7.3 parts 7.3 parts 7.9 parts 8.6 parts ────────────────────────────────── Photopolymerizable monomer 3.1 parts 3.1 part 3.4 part 3.7 part ────────────────────────────────── Photopolymerization initiator: D1 3.1 part − − − DA − 3.1 part − − DB − − 2.2 part − DC − − − 1.2 part ──── ────────────────────────────── Nonionic pigment dispersant 1.5 parts 1.5 parts 1.5 parts 1.5 parts ────── ────────────────────────────Propylene glycol monomethyl ether acetate 80 parts 80 parts 80 parts 80 parts ━━━━━━━━━ ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━

【0046】2インチ角の石英製ガラス基板を、中性洗
剤、水及びアルコールで順次洗浄してから、乾燥した。
このガラス基板上に、上で調製したそれぞれのレジスト
液を所定の膜厚となるようにスピンコートし、次にクリ
ーンオーブン中、100℃で3分間プリベークした。こ
のレジスト膜に厚さ1.3mm のソーダ石灰ガラスをかぶ
せ、ウシオ電機社製の超高圧水銀ランプを用いて、ソー
ダ石灰ガラスの上から塗膜全面に200mJ/cm2 の露光
量で光照射した。その後、220℃で30分間ポストベ
ークを行い、透過率測定用試料とした。この試料を用い
て、415nm及び460nmの2波長で塗膜の透過率を測
定した。透過率測定は、光重合開始剤による塗膜の着色
の影響を受けやすい青色塗膜についてのみ行った。結果
を表2に示す。
A 2-inch square quartz glass substrate was washed sequentially with a neutral detergent, water and alcohol, and then dried.
Each of the resist solutions prepared above was spin-coated on the glass substrate so as to have a predetermined thickness, and then prebaked in a clean oven at 100 ° C. for 3 minutes. The resist film was covered with 1.3 mm thick soda-lime glass, and the entire coating was irradiated with light at an exposure of 200 mJ / cm 2 from above the soda-lime glass using an ultra-high pressure mercury lamp manufactured by Ushio Inc. . Thereafter, post-baking was performed at 220 ° C. for 30 minutes to obtain a transmittance measurement sample. Using this sample, the transmittance of the coating film was measured at two wavelengths of 415 nm and 460 nm. The transmittance measurement was performed only on the blue coating film which is easily affected by the coloring of the coating film by the photopolymerization initiator. Table 2 shows the results.

【0047】一方、上の透過率測定用試料と同様にプリ
ベーク及びソーダ石灰ガラス製マスクを通した光照射を
行った後、ノニオン系界面活性剤を含有する0.2%炭酸
ナトリウム水溶液からなる現像液に1分間浸漬し、次い
で水洗し、さらに220℃で30分間ポストベークし
て、残膜感度確認用試料とした。残膜感度の評価は、プ
リベーク及び光照射後、現像液に浸漬することなくポス
トベークを行った試料と残膜厚を比較することにより行
った。現像液に浸漬することなくポストベークを行った
試料と現像液に浸漬後ポストベークを行った試料とで、
膜厚がほぼ同じであれば、この照射露光量(200mJ/
cm2 )での残膜感度があると判定される。結果を同じく
表2に示す。
On the other hand, in the same manner as in the transmittance measurement sample above, after pre-baking and light irradiation through a soda-lime glass mask, a development using a 0.2% aqueous solution of sodium carbonate containing a nonionic surfactant was carried out. The sample was immersed in the solution for 1 minute, washed with water, and post-baked at 220 ° C. for 30 minutes to obtain a sample for checking the sensitivity of the remaining film. The residual film sensitivity was evaluated by comparing the residual film thickness with the sample that had been post-baked without being immersed in a developer after pre-baking and light irradiation. The post-baked sample was immersed in the developer and the post-baked sample was immersed in the developer.
If the film thickness is almost the same, this irradiation exposure amount (200 mJ /
It is determined that there is a residual film sensitivity in cm 2 ). The results are also shown in Table 2.

【0048】[0048]

【表2】 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 実施例1 比較例1 比較例2 比較例3 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 光重合開始剤 D1 DA DB DC ─────────────────────────────────── 塗膜透過率 塗膜厚さ 1.4μm 1.4μm 1.4μm 1.4μm 415nm透過率 61.5 % 61.9 % 59.0 % 51.0 % 460nm透過率 83.2 % 83.2 % 80.7 % 73.7 % ─────────────────────────────────── 200mJ/cm2 残膜感度 未現像でポストベーク後の膜厚 1.4μm 1.4μm 1.4μm 1.4μm 現像、ポストベーク後の膜厚 1.4μm 剥離 1.4μm 1.4μm 露光、現像後の膜減り なし あり なし なし ─────────────────────────────────── 総合判定 ○ × × × ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━[Table 2] Example 1 Comparative Example 1 Comparative Example 2 Comparative Example 3 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ Photopolymerization initiator D1 DA DB DC ──────透過 Film transmittance Film thickness 1.4μm 1.4μm 1.4μm 1.4μm 415nm transmittance 61.5% 61.9% 59.0% 51.0% 460nm transmittance 83.2% 83.2% 80.7% 73.7% ───────────────────────────────── ── 200 mJ / cm 2 film thickness after post-baking in the remaining film sensitivity undeveloped 1.4 [mu] m 1.4 [mu] m 1.4 [mu] m 1.4 [mu] m development, thickness 1.4 [mu] m peel 1.4 [mu] m 1.4 [mu] m exposure after post-baking, there no film loss after development None None ──────────────────────────────── ─── Overall judgment ○ × × × ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━

【0049】表2からわかるように、ビス(2,4,6
−トリメチルベンゾイル)フェニルフォスフィンオキシ
ドを光重合開始剤とした実施例1の組成物は、塗膜透過
率が高く、200mJ/cm2 残膜感度も確認できたのに対
し、他の光重合開始剤を用いた比較例の組成では、塗膜
透過率の高いものは200mJ/cm2 の残膜感度を達成で
きず、逆に200mJ/cm2 残膜感度を確認できたものは
塗膜透過率が低いという結果になった。
As can be seen from Table 2, the screw (2,4,6
The composition of Example 1 in which -trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide was used as a photopolymerization initiator had a high coating film transmittance and a sensitivity of 200 mJ / cm 2 remaining film. In the composition of the comparative example using the agent, those having a high coating film transmittance could not attain a residual film sensitivity of 200 mJ / cm 2 , while those having a 200 mJ / cm 2 residual film sensitivity could be confirmed to have the coating film transmittance. Was low.

【0050】実施例2及び比較例4〜5(赤色レジス
ト) 予め、 C.I.ピグメントレッド 177 が4.5部と C.I.ピ
グメントイエロー 139が1.5部からなる顔料、及びノニ
オン系の顔料分散剤1.8部を、プロピレングリコールモ
ノメチルエーテルアセテート24部と混合し、ビーズミ
ルを用いて顔料を十分に分散させて微細化処理し、これ
にプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
56部、カルボキシル基含有共重合体6.6部、光重合性
モノマー2.8部及び表3に示す光重合開始剤2.8部を加
えて混合し、レジスト液を得た。このレジスト液を用い
て、実施例1と同様の方法で残膜感度の評価を行った。
結果を併せて表3に示す。
Example 2 and Comparative Examples 4 to 5 (Red Resist) A pigment consisting of 4.5 parts of CI Pigment Red 177 and 1.5 parts of CI Pigment Yellow 139, and a nonionic pigment dispersant 1. 8 parts were mixed with 24 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate, the pigment was sufficiently dispersed using a bead mill and finely treated, and 56 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate and a carboxyl group-containing copolymer 6.6 were added. Parts, 2.8 parts of a photopolymerizable monomer and 2.8 parts of a photopolymerization initiator shown in Table 3 were added and mixed to obtain a resist solution. Using this resist solution, the sensitivity of the residual film was evaluated in the same manner as in Example 1.
Table 3 also shows the results.

【0051】[0051]

【表3】 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 実施例2 比較例4 比較例5 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 光重合開始剤 D1 DA DD ────────────────────────────── 200mJ/cm2 残膜感度 未現像でポストベーク後の膜厚 1.4μm 1.4μm 1.4μm 現像、ポストベーク後の膜厚 1.3μm 剥離 0.8μm 露光、現像後の膜減り 概ねなし あり あり ────────────────────────────── 総合判定 ○ × × ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━Table 3 Example 2 Comparative Example 4 Comparative Example 5 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ Photopolymerization initiator D1 DA DD ──────────────────── ────────── 200 mJ / cm 2 Residual film sensitivity Undeveloped film thickness after post-baking 1.4 μm 1.4 μm 1.4 μm Film thickness after developing and post-baking 1.3 μm Peeling 0.8 μm After exposure and development Film reduction Almost none Yes Yes 総 合 Overall judgment ○ × × ○ ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━

【0052】表3からわかるように、ビス(2,4,6
−トリメチルベンゾイル)フェニルフォスフィンオキシ
ドを光重合開始剤とした実施例2の組成物は、200mJ
/cm2残膜感度が確認できたのに対し、他の光重合開始
剤を用いた比較例の組成では、200mJ/cm2 の残膜感
度を達成できなかった。
As can be seen from Table 3, the screws (2, 4, 6
The composition of Example 2 using (trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide as a photopolymerization initiator was 200 mJ
/ Cm 2 remaining film sensitivity was confirmed, whereas the composition of the comparative example using another photopolymerization initiator could not achieve a remaining film sensitivity of 200 mJ / cm 2 .

【0053】実施例3及び比較例6〜7(緑色レジス
ト) 予め、C.I.ピグメントグリーン 36 が5.7部と C.I.ピ
グメントイエロー 139が2.3部からなる顔料、及びノニ
オン系の顔料分散剤2.1部を、プロピレングリコールモ
ノメチルエーテルアセテート32部と混合し、ビーズミ
ルを用いて顔料を十分に分散させて微細化処理し、これ
にプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
48部、カルボキシル基含有共重合体5.9部、光重合性
モノマー2.5部及び表4に示す光重合開始剤2.5部を加
えて混合し、レジスト液を得た。このレジスト液を用い
て、実施例1と同様の方法で残膜感度の評価を行った。
結果を併せて表4に示す。
Example 3 and Comparative Examples 6 to 7 (Green Resist) A pigment consisting of 5.7 parts of CI Pigment Green 36 and 2.3 parts of CI Pigment Yellow 139, and a nonionic pigment dispersant 2. One part was mixed with 32 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate, the pigment was sufficiently dispersed using a bead mill, and the mixture was subjected to micronization treatment. This was mixed with 48 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate and a copolymer having a carboxyl group of 5.9. , 2.5 parts of a photopolymerizable monomer and 2.5 parts of a photopolymerization initiator shown in Table 4 were added and mixed to obtain a resist solution. Using this resist solution, the sensitivity of the residual film was evaluated in the same manner as in Example 1.
Table 4 also shows the results.

【0054】[0054]

【表4】 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 実施例3 比較例6 比較例7 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 光重合開始剤 D1 DA DD ────────────────────────────── 200mJ/cm2 残膜感度 未現像でポストベーク後の膜厚 1.4μm 1.4μm 1.4μm 現像、ポストベーク後の膜厚 1.4μm 剥離 1.0μm 露光、現像後の膜減り なし あり あり ────────────────────────────── 総合判定 ○ × × ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━Table 4 Example 3 Comparative Example 6 Comparative Example 7 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ Photopolymerization initiator D1 DA DD ──────────────────── ────────── 200 mJ / cm 2 Residual film sensitivity Undeveloped film thickness after post-baking 1.4 μm 1.4 μm 1.4 μm Film thickness after development and post-baking 1.4 μm Peeling 1.0 μm After exposure and development Film reduction No Yes Yes ────────────────────────────── Overall judgment ○ × × ━━━━━━━━━━ ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━

【0055】表4からわかるように、ビス(2,4,6
−トリメチルベンゾイル)フェニルフォスフィンオキシ
ドを光重合開始剤とした実施例3の組成物は、200mJ
/cm2残膜感度が確認できたのに対し、他の光重合開始
剤を用いた比較例の組成では、200mJ/cm2 の残膜感
度を達成できなかった。
As can be seen from Table 4, bis (2,4,6)
The composition of Example 3 using -trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide as a photopolymerization initiator was 200 mJ
/ Cm 2 remaining film sensitivity was confirmed, whereas the composition of the comparative example using another photopolymerization initiator could not achieve a remaining film sensitivity of 200 mJ / cm 2 .

【0056】[0056]

【発明の効果】本発明の着色画像形成用レジスト組成物
は、赤、青及び緑のいずれの組成においても、残膜感度
が良好であり、したがって少ない露光量で硬化膜を形成
することができる。また、特に310nm以下の波長の光
を十分に透過しないマスクを用いて青色画素を形成する
場合でも、この組成物を用いれば、透過率の高い塗膜を
形成でき、したがって透明度に優れた着色画像を形成す
ることができる。
The resist composition for forming a colored image of the present invention has a good residual film sensitivity regardless of the composition of red, blue and green, and can form a cured film with a small amount of exposure. . In addition, even when a blue pixel is formed using a mask that does not sufficiently transmit light having a wavelength of 310 nm or less, a colored film having high transmittance can be formed by using this composition, and thus a colored image having excellent transparency can be formed. Can be formed.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】(A)顔料、(B)カルボキシル基含有共
重合体、(C)光重合性モノマー、(D)光重合開始
剤、及び(E)溶剤を含有するレジスト組成物であっ
て、該光重合開始剤が、式(I) (式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、R7
8 及びR9 は互いに独立に、水素、炭素数1〜4のア
ルキル又は炭素数1〜4のアルコキシを表す)で示され
るフォスフィンオキシド化合物を含有することを特徴と
する着色画像形成用レジスト組成物。
A resist composition comprising (A) a pigment, (B) a carboxyl group-containing copolymer, (C) a photopolymerizable monomer, (D) a photopolymerization initiator, and (E) a solvent. Wherein the photopolymerization initiator has the formula (I) (Wherein, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 ,
R 8 and R 9 independently represent hydrogen, alkyl having 1 to 4 carbons or alkoxy having 1 to 4 carbons). Composition.
【請求項2】該フォスフィンオキシド化合物が、式(I
I) (式中、R11、R12、R14及びR15は互いに独立に、炭
素数1〜4のアルキルを表し、R13、R16、R17及びR
18は互いに独立に、水素又は炭素数1〜4のアルキルを
表す)で示される請求項1記載の組成物。
2. The phosphine oxide compound of the formula (I)
I) (Wherein, R 11 , R 12 , R 14 and R 15 independently represent alkyl having 1 to 4 carbons, and R 13 , R 16 , R 17 and R 15
18 independently represent hydrogen or alkyl having 1 to 4 carbons).
【請求項3】該フォスフィンオキシド化合物が、ビス
(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルフォスフ
ィンオキシドである請求項1記載の組成物。
3. The phosphine oxide compound according to claim 1, wherein
The composition according to claim 1, which is (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide.
【請求項4】該フォスフィンオキシド化合物が、カルボ
キシル基含有共重合体及び光重合性モノマーの合計10
0重量部に対して0.1〜35重量部の範囲で存在する請
求項1〜3のいずれかに記載の組成物。
4. The method according to claim 1, wherein the phosphine oxide compound comprises a carboxyl group-containing copolymer and a photopolymerizable monomer.
The composition according to any one of claims 1 to 3, which is present in the range of 0.1 to 35 parts by weight based on 0 part by weight.
JP28952897A 1997-10-22 1997-10-22 Resist composition for forming colored image Pending JPH11125902A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP28952897A JPH11125902A (en) 1997-10-22 1997-10-22 Resist composition for forming colored image

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP28952897A JPH11125902A (en) 1997-10-22 1997-10-22 Resist composition for forming colored image

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH11125902A true JPH11125902A (en) 1999-05-11

Family

ID=17744426

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP28952897A Pending JPH11125902A (en) 1997-10-22 1997-10-22 Resist composition for forming colored image

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH11125902A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006154825A (en) * 2004-11-30 2006-06-15 Dongjin Semichem Co Ltd Photosensitive resin composition, method for preparing the same and dry film resist comprising the same
JP2012241116A (en) * 2011-05-20 2012-12-10 Dnp Fine Chemicals Co Ltd Active energy ray-curable composition, method for forming coating film, and coating film

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006154825A (en) * 2004-11-30 2006-06-15 Dongjin Semichem Co Ltd Photosensitive resin composition, method for preparing the same and dry film resist comprising the same
KR100599810B1 (en) * 2004-11-30 2006-07-12 삼성에스디아이 주식회사 Photo sensitive resin composition, method for preparating the same, and dry film resist comprising the same
JP4628260B2 (en) * 2004-11-30 2011-02-09 東進セミケム株式会社 Photosensitive resin composition, method for producing the same, and dry film resist containing the same
JP2012241116A (en) * 2011-05-20 2012-12-10 Dnp Fine Chemicals Co Ltd Active energy ray-curable composition, method for forming coating film, and coating film

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3867177B2 (en) Radiation sensitive composition for color filter
JP4282783B2 (en) Radiation sensitive composition for color filter
JPH10332929A (en) Radiation-sensitive composition for color filter
JP2000035670A (en) Colored photosensitive resin composition
JP3807108B2 (en) Radiation sensitive composition for color filter
JP4834898B2 (en) Pigment dispersion, photosensitive coloring composition and color filter using the same
JP2000194132A (en) Color photosensitive resin composition
JP3661399B2 (en) Radiation sensitive composition for color filter
JP3721770B2 (en) Colored photosensitive resin composition
JPH1124245A (en) Photosensitive liquid for forming color image and manufacture of color filter by using same
JP2004361455A (en) Color photosensitive resin composition
KR101066504B1 (en) Photosensitive resin composition
JP4380333B2 (en) Photosensitive resin composition
JPH1172615A (en) Radiation sensitive composition for color filter
JP2000098606A (en) Colored photosensitive resin composition
JP2004109423A (en) Color photosensitive resin composition
JP2000047018A (en) Radiation-sensitive composition for color filter
JP4161677B2 (en) Colored photosensitive resin composition
JPH11211911A (en) Radiation sensitive composition for color filter
JPH1138225A (en) Radiation sensitive composition for color filter
JP2003302515A (en) Radiation sensitive composition, color filter, black matrix and liquid crystal display element
JP2000081508A (en) Color filter, its production and photosensitive coloring composition
JPH11125902A (en) Resist composition for forming colored image
JP2001174985A (en) Pigment dispersed photosensitive fluid, method for producing same and colored image forming method using same
JP2002357712A (en) Method for manufacturing color filter