JPH11124451A - Modified cyanate ester-based resin film and its production - Google Patents

Modified cyanate ester-based resin film and its production

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JPH11124451A
JPH11124451A JP29057797A JP29057797A JPH11124451A JP H11124451 A JPH11124451 A JP H11124451A JP 29057797 A JP29057797 A JP 29057797A JP 29057797 A JP29057797 A JP 29057797A JP H11124451 A JPH11124451 A JP H11124451A
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cyanate ester
resin
modified cyanate
resin film
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康之 水野
Takeshi Sugimura
猛 杉村
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prepare the subject film having excellent heat resistance, resistance to solvents and resistance to chemicals, and suitable for a build-up lamination method and having excellent dielectric properties in a high-frequency wave zone by containing a specific cyanate esters compound, a specific phenolic compound, a polyphenylene ether resin and a metallic reaction catalyst, and making the resultant modified cyanate ester-based composition (semi) cure. SOLUTION: This film is obtained by (semi) curing a modified cyanate ester- based curable resin composition comprising (A) a cyanate esters compound e.g. 2,2-bis(4-cyanatophenyl)propane} expressed by formula I (R1 is CH2 , etc.; R2 and R3 are each H or methyl), (B) a monofunctional phenolic compound (e.g. p-tert-octylphenol) expressed by formula II (R4 is CH2 CH3 , etc.), (C) a polyphenylene ether resin e.g. an alloy polymer of poly(2,6-dimethyl-1,4- phenylene) ether with polystyrene} and (D) a metallic reaction catalyst.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、印刷配線板等にお
ける絶縁層の形成に用いられる変性シアネートエステル
系樹脂フィルム及びその製造方法に関する
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a modified cyanate ester resin film used for forming an insulating layer on a printed wiring board and the like, and a method for producing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】電子機器の小型・高機能化に伴い、印刷
配線板では薄型・軽量でかつ高密度配線が可能な基板材
料が求められられるようになった。近年、小径でかつ必
要な層間のみを非貫通穴で接続するIVH構造のビルド
アップ積層方式印刷配線板が開発され、急速に普及が進
んでいる。ビルドアップ積層方式印刷配線板の絶縁層に
はガラス布等の基材を含まない耐熱性樹脂が用いられて
おり、IVH用の穴は、感光性樹脂を利用したフォトリ
ソグラフィあるいは熱硬化性樹脂をレーザー加工機によ
って熱分解する等の方法で形成されている。
2. Description of the Related Art As electronic devices have become smaller and more sophisticated, there has been a demand for thinner, lighter, and higher-density substrate materials for printed wiring boards. In recent years, a build-up laminate type printed wiring board having an IVH structure, which has a small diameter and connects only necessary layers with non-through holes, has been developed and rapidly spread. The insulating layer of the build-up lamination type printed wiring board is made of a heat-resistant resin not containing a base material such as a glass cloth, and the hole for the IVH is made of photolithography using a photosensitive resin or a thermosetting resin. It is formed by a method such as thermal decomposition by a laser processing machine.

【0003】さらに近年では、大量のデータを高速で処
理するためコンピュータや情報機器端末などでは信号の
高周波化が進んでいるが、周波数が高くなる程電気信号
の伝送損失が大きくなるという問題があり、高周波化に
対応した印刷配線板の開発が強く求められている。高周
波回路での伝送損失は、配線周りの絶縁層(誘電体)の
誘電特性で決まる誘電体損の影響が大きく、印刷配線板
用基板(特に絶縁樹脂)の低誘電率及び低誘電正接(t
anδ)化が必要となる。例えば移動体通信関連の機器
では、信号の高周波化に伴い準マイクロ波帯(1〜3G
Hz)での伝送損失を少なくするため誘電正接の低い基
板が強く望まれるようになっている。
In recent years, the frequency of signals has been increasing in computers and information equipment terminals in order to process a large amount of data at a high speed. However, the higher the frequency, the greater the transmission loss of electric signals. There is a strong demand for the development of printed wiring boards that can handle high frequencies. Transmission loss in a high-frequency circuit is greatly affected by dielectric loss determined by the dielectric properties of an insulating layer (dielectric) around the wiring, and the low dielectric constant and low dielectric loss tangent (t) of the printed wiring board substrate (especially insulating resin)
anδ) is required. For example, in mobile communication related equipment, the quasi-microwave band (1-3G)
(Hz), a substrate having a low dielectric loss tangent is strongly demanded.

【0004】さらにコンピュータなどの電子情報機器で
は、動作周波数が200MHzを越える高速マイクロプ
ロセッサが搭載されるようになり、印刷配線板での高速
パルス信号の遅延が問題になってきた。信号の遅延時間
が印刷配線板では配線まわりの絶縁物の比誘電率εrの
平方根に比例して長くなるため、高速コンピュータなど
では誘電率の低い配線板用基板が求められている。
Further, electronic information devices such as computers have been equipped with high-speed microprocessors whose operating frequency exceeds 200 MHz, and the delay of high-speed pulse signals on printed wiring boards has become a problem. Since the signal delay time increases in the printed wiring board in proportion to the square root of the dielectric constant εr of the insulator around the wiring, a high-speed computer or the like requires a wiring board substrate having a low dielectric constant.

【0005】上述の印刷配線板の技術動向に対して、高
周波帯域での誘電率と誘電正接が低く、かつビルドアッ
プ積層方式印刷配線板の製造に適した耐熱性絶縁フィル
ムはこれまで開発されていなかった。
In response to the above-mentioned technical trends of printed wiring boards, heat-resistant insulating films having low dielectric constant and dielectric loss tangent in a high frequency band and suitable for manufacturing a build-up laminated printed wiring board have been developed. Did not.

【0006】従来から誘電特性が良好なフィルム材料と
して、耐熱性熱可塑性樹脂(エンジニアリング・プラス
チックス)のポリフェニレンエーテル(PPO又はPP
E)系樹脂が知られていたが、印刷配線板用の絶縁材料
に適用するためには、実装時のはんだ接続工程に耐えら
れる耐熱性と印刷配線板製造時のその他の工程での耐溶
剤性・耐薬品性などの改善が必要であった。
Conventionally, as a film material having good dielectric properties, polyphenylene ether (PPO or PP) of a heat-resistant thermoplastic resin (engineering plastics) has been used.
E) Although a resin is known, in order to apply it to an insulating material for a printed wiring board, it is necessary to have a heat resistance that can withstand the solder connection process at the time of mounting and a solvent resistance in other processes at the time of manufacturing the printed wiring board. Improvements in properties and chemical resistance were required.

【0007】この耐熱性や耐溶剤性を改善する方法とし
て、ポリフェニレンエーテル樹脂を熱硬化性樹脂で変性
する方法が提案されている。例えば、熱硬化性樹脂の中
では最も誘電率が低いシアネートエステル樹脂を用いた
樹脂フィルムとして、特公平1-53700号公報に示
されているようにポリフェニレンエーテル樹脂にシアネ
ートエステル樹脂を配合した硬化性樹脂組成物を用いる
ポリフェニレンエーテル樹脂系フィルムがある。同様
に、シアネートエステル系の変性樹脂を用いる樹脂組成
物として、特公昭63-33506号公報に示されてい
るビスマレイミド/シアネートエステル変性樹脂とポリ
フェニレンエーテル樹脂との樹脂組成物及び特開平5-
311071号公報に示されている変性フェノール樹脂
/シアネートエステル系樹脂とポリフェニレンエーテル
樹脂との樹脂組成物などがある。
As a method for improving the heat resistance and the solvent resistance, a method has been proposed in which a polyphenylene ether resin is modified with a thermosetting resin. For example, as a resin film using a cyanate ester resin having the lowest dielectric constant among thermosetting resins, a curable resin prepared by blending a cyanate ester resin with a polyphenylene ether resin as shown in JP-B-1-53700. There is a polyphenylene ether resin-based film using a resin composition. Similarly, as a resin composition using a cyanate ester-based modified resin, a resin composition of a bismaleimide / cyanate ester-modified resin and a polyphenylene ether resin disclosed in JP-B-63-33506 and JP-A-5-33506
There is a resin composition of a modified phenol resin / cyanate ester-based resin and a polyphenylene ether resin disclosed in Japanese Patent No. 311071.

【0008】また熱可塑性樹脂であるポリフェニレンエ
ーテル系樹脂に熱硬化性を付与して耐熱性や耐溶剤性を
改善するものとして、特公平5-77705号公報に示
されているポリフェニレンエーテル樹脂と架橋性ポリマ
/モノマとの樹脂組成物をキャスティングしたフィルム
及び特開平7-188362号公報に示されている不飽
和基を持つ特定の硬化性ポリフェニレンエーテル樹脂を
適度に架橋させたフィルムなどがある。
[0008] Further, as a material for imparting thermosetting properties to a polyphenylene ether-based resin which is a thermoplastic resin to improve heat resistance and solvent resistance, crosslinking with a polyphenylene ether resin disclosed in Japanese Patent Publication No. 5-77705 has been proposed. And a film obtained by appropriately cross-linking a specific curable polyphenylene ether resin having an unsaturated group as disclosed in JP-A-7-188362.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】特公平1-53700
号公報に示されるポリフェニレンエーテル樹脂にシアネ
ートエステル樹脂を配合した樹脂組成物からなるフィル
ムは、樹脂同士の相容性が悪いという問題点があり、硬
化性樹脂としてシアネートエステルを単独で用いている
ため、樹脂硬化物の誘電特性は、誘電率は後述の他の組
成物よりは比較的良好ではあるものの誘電正接が誘電率
の値の割に高いという傾向にあり、高周波特性(特に伝
送損失の低減)が不十分であるという問題点があった。
特公昭63-33506号公報や特開平5-311071
号公報に示される方法は、ポリフェニレンエーテル樹脂
を変性する熱硬化性樹脂がビスマレイミド/シアネート
エステル変性樹脂や変性フェノール樹脂/シアネートエ
ステル系樹脂であるため、ポリフェニレンエーテル樹脂
に対する相容性は若干良好になるものの、シアネートエ
ステル樹脂以外の他の熱硬化性樹脂を含有しているため
樹脂硬化物の誘電特性はシアネート樹脂単独で変性され
た樹脂よりも悪く、その結果高周波特性が更に不十分で
あるという問題点があった。
[Problems to be Solved by the Invention]
The film made of a resin composition in which a cyanate ester resin is blended with a polyphenylene ether resin shown in Japanese Patent Application Laid-Open Publication No. H10-154, has a problem that the compatibility between the resins is poor, and because a cyanate ester is used alone as a curable resin. As for the dielectric properties of the cured resin, although the dielectric constant is relatively better than other compositions described later, the dielectric loss tangent tends to be higher than the value of the dielectric constant. ) Was insufficient.
JP-B-63-33506 and JP-A-5-311071
According to the method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open Publication No. H11-150, the thermosetting resin that modifies the polyphenylene ether resin is a bismaleimide / cyanate ester-modified resin or a modified phenol resin / cyanate ester-based resin, so that the compatibility with the polyphenylene ether resin is slightly better. However, since it contains a thermosetting resin other than the cyanate ester resin, the dielectric properties of the cured resin are worse than the resin modified with the cyanate resin alone, and as a result, the high frequency properties are further insufficient. There was a problem.

【0010】特公平5-77705号公報に示される方
法は、ポリトリアリルイソシアヌレートやスチレンブタ
ジエン共重合体等の架橋性ポリマ及びトリアリルイソシ
アヌレート等の架橋性モノマをポリフェニレンエーテル
樹脂に配合することにより熱硬化性(ラジカル重合性)
を付与しているが、架橋性のポリマ及びモノマが極性の
高い化合物であるために未反応で残存する少量成分によ
って樹脂硬化物の誘電特性が悪化するという問題点があ
った。
[0010] The method disclosed in Japanese Patent Publication No. 5-77705 discloses a method in which a crosslinkable polymer such as polytriallyl isocyanurate and styrene butadiene copolymer and a crosslinkable monomer such as triallyl isocyanurate are blended into a polyphenylene ether resin. Thermosetting (radical polymerizable)
However, since the crosslinkable polymer and monomer are highly polar compounds, there has been a problem that the dielectric properties of the cured resin are deteriorated by the unreacted small components remaining.

【0011】また特開平7-188362号公報に示さ
れている方法は、ポリフェニレンエーテル樹脂自身にア
リル基などの不飽和基を導入したポリマを用いるもので
あるが、本来熱可塑性樹脂であるポリフェニレンエーテ
ルの誘導体が主体となっているため、もともと溶融粘度
が高いことに加え、不飽和基のラジカル重合性を利用し
ているので連鎖反応的に一気に硬化が進むため、硬化時
の最低溶融粘度が高くかつ溶融粘度の上昇率も大きいと
いう性質があり、プレス成形時に樹脂が十分に流動化で
きない結果、ボイドが発生して回路充填性が不十分とな
ったり、多層化接着工程でのプレス条件の管理幅が狭く
なる等成形性が悪いという問題点があった。
The method disclosed in JP-A-7-188362 uses a polymer in which an unsaturated group such as an allyl group is introduced into the polyphenylene ether resin itself. However, polyphenylene ether, which is a thermoplastic resin originally, is used. Because the derivatives are mainly used, the melt viscosity is originally high, and the radical polymerization of unsaturated groups is used, so the curing progresses at once in a chain reaction. In addition, it has the property that the rise rate of the melt viscosity is large, and as a result, the resin cannot be fluidized sufficiently during press molding, resulting in voids and insufficient circuit filling properties, and control of the pressing conditions in the multilayer bonding process There has been a problem that the moldability is poor such as a narrow width.

【0012】このような状況に鑑みて本発明者らは、先
に印刷配線板用樹脂組成物として特定のシアネートエス
テル樹脂を1価フェノール類化合物で変性した組成物を
用いる方法(特願平9−80033号)を提案した。こ
の方法によれば特定のシアネートエステル樹脂を1価フ
ェノール類化合物で変性することで高周波(GHz)帯
域での誘電特性、特に誘電正接が低い樹脂組成物を得る
ことができたが、使用する特定のシアネートエステル樹
脂が特殊かつ高価であるという問題点があった。
In view of such a situation, the present inventors have previously proposed a method of using a composition obtained by modifying a specific cyanate ester resin with a monohydric phenol compound as a resin composition for a printed wiring board (Japanese Patent Application No. Hei 9 (1994) -108,197). No. -80033). According to this method, a specific cyanate ester resin can be modified with a monohydric phenol compound to obtain a resin composition having a low dielectric property in a high frequency (GHz) band, particularly a low dielectric loss tangent. There is a problem that the cyanate ester resin is special and expensive.

【0013】本発明は、耐熱性と耐溶剤性・耐薬品性が
良好で、かつ印刷配線板の薄形・軽量化と高密度化に有
効なビルドアップ積層方式に適した絶縁フィルムであっ
て、高周波帯域での誘電率と誘電正接が低く高周波回路
の低損失性を実現でき、しかも回路充填性などの成形性
が良好な変性シアネートエステル系樹脂フィルム及びそ
の製造方法を提供することを課題とした。
The present invention is an insulating film having good heat resistance, solvent resistance, and chemical resistance, and suitable for a build-up lamination method which is effective for reducing the thickness, weight, and density of a printed wiring board. It is an object of the present invention to provide a modified cyanate ester-based resin film having a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent in a high-frequency band, a low loss property of a high-frequency circuit, and a good moldability such as a circuit filling property, and a method for producing the same. did.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】本発明は、(A)式
(1)で示されるシアネートエステル類化合物、(B)
式(2)で示される1価フェノール類化合物、(C)ポ
リフェニレンエーテル樹脂及び(D)金属系反応触媒を
必須成分として含有する変性シアネートエステル系硬化
性樹脂組成物を半硬化もしくは硬化してなる変性シアネ
ートエステル系樹脂フィルムである。また、本発明は、
前記変性シアネートエステル系硬化性樹脂組成物が、
(A)式(1)で示されるシアネートエステル類化合物
の100重量部に対して、(B)式(2)で示される1
価フェノール類化合物を4〜30重量部、(C)ポリフ
ェニレンエーテル樹脂5〜500重量部及び(D)金属
系反応触媒を(A)シアネートエステル類化合物1gに
対して1〜300ppmを配合した硬化性樹脂組成物で
あると好ましい変性シアネートエステル系樹脂フィルム
である。また、(A)シアネートエステル類化合物と
(B)1価フェノール類化合物の一部又は全部を反応さ
せて得られる変性シアネートエステル樹脂と(C)ポリ
フェニレンエール樹脂及び(D)金属系反応触媒を必須
成分として含有する変性シアネートエステル系硬化性樹
脂組成物であると好ましい変性シアネートエステル系樹
脂フィルムである。そして、本発明は、前記の変性シア
ネートエステル系硬化性樹脂組成物と溶剤を含むワニス
を支持基材の片面に流延塗布し、加熱乾燥により溶剤を
除去し製膜する変性シアネートエステル系樹脂フィルム
の製造方法である。また、前記の変性シアネートエステ
ル系硬化性樹脂組成物において、(C)ポリフェニレン
エーテル樹脂の溶剤溶液中で、(A)シアネートエステ
ル類化合物と(B)1価フェノール類化合物の反応を行
い得られたワニスを用いてフィルムを作製すると好まし
く、さらに、(C)ポリフェニレンエーテル樹脂の芳香
族炭化水素系溶剤溶液中で、(A)シアネートエステル
類化合物と(B)1価フェノール類化合物の反応を行い
ワニスを作製すると好ましく、また、(C)ポリフェニ
レンエーテル樹脂の芳香族炭化水素系溶剤溶液中で、
(A)シアネートエステル類化合物と(B)1価フェノ
ール類化合物の反応を行い、さらにケトン系溶剤を配合
してワニスを作製すると好ましく、このワニスを支持基
材の片面に流延塗布し、加熱乾燥により溶剤を除去し製
膜する変性シアネートエステル系樹脂フィルムの製造方
法である。
The present invention relates to (A) a cyanate ester compound represented by the formula (1), (B)
A modified cyanate ester-based curable resin composition containing, as essential components, a monohydric phenol compound represented by the formula (2), (C) a polyphenylene ether resin, and (D) a metal-based reaction catalyst is semi-cured or cured. It is a modified cyanate ester resin film. Also, the present invention
The modified cyanate ester-based curable resin composition,
(A) With respect to 100 parts by weight of the cyanate ester compound represented by the formula (1), (B) 1 represented by the formula (2)
A curable composition containing 4 to 30 parts by weight of a polyhydric phenol compound, 5 to 500 parts by weight of (C) a polyphenylene ether resin, and 1 to 300 ppm of (D) a metal-based reaction catalyst per 1 g of (A) a cyanate ester compound. The modified cyanate ester-based resin film is preferably a resin composition. Further, (A) a cyanate ester compound and (B) a modified cyanate ester resin obtained by reacting part or all of a monohydric phenol compound, (C) a polyphenylene ale resin, and (D) a metal-based reaction catalyst are essential. The modified cyanate ester-based resin film is preferably a modified cyanate ester-based curable resin composition contained as a component. The present invention provides a modified cyanate ester-based resin film in which a varnish containing the modified cyanate ester-based curable resin composition and a solvent is cast and applied to one surface of a support substrate, and the solvent is removed by heating and drying to form a film. It is a manufacturing method of. Further, in the modified cyanate ester-based curable resin composition, (A) a cyanate ester compound and (B) a monohydric phenol compound were reacted in a solvent solution of a polyphenylene ether resin. It is preferable to prepare a film using a varnish. Further, in an aromatic hydrocarbon solvent solution of (C) a polyphenylene ether resin, (A) a cyanate ester compound and (B) a monohydric phenol compound are reacted to form a varnish. And (C) a solution of the polyphenylene ether resin in an aromatic hydrocarbon solvent,
It is preferable to prepare a varnish by reacting (A) a cyanate ester compound with (B) a monohydric phenol compound, and further blend a ketone-based solvent. The varnish is cast onto one surface of a supporting substrate, and heated. This is a method for producing a modified cyanate ester-based resin film in which a solvent is removed by drying to form a film.

【0015】[0015]

【化3】 Embedded image

【0016】[0016]

【化4】 Embedded image

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】本発明は、誘電特性の良好な変性
シアネートエステル樹脂に誘電特性が良好な熱可塑性樹
脂である(C)ポリフェニレンエーテル樹脂を配合する
ことにより誘電特性の向上を図っており、本来非相容系
であって均一な樹脂を得ることが困難であるシアネート
エステル樹脂とポリフェニレンエーテル樹脂とを、
(C)ポリフェニレンエーテル樹脂の溶剤溶液中で、
(A)シアネートエステル類化合物と(B)1価フェノ
ール類化合物の反応を行うといういわゆる“セミIPN
化の手法によって、フィルム用の均一な樹脂ワニスを製
造し、さらにそれを支持基材である銅箔やキャリヤフィ
ルムの片面に流延塗布し、加熱乾燥により溶剤を除去し
て相容化した樹脂フィルムを得る変性シアネートエステ
ル系樹脂フィルムの製造方法及変性シアネートエステル
系樹脂フィルムである。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention is intended to improve the dielectric properties by blending a modified cyanate ester resin having a good dielectric property with a polyphenylene ether resin (C) which is a thermoplastic resin having a good dielectric property. A cyanate ester resin and a polyphenylene ether resin, which are originally incompatible and difficult to obtain a uniform resin,
(C) In a solvent solution of polyphenylene ether resin,
The reaction of (A) a cyanate ester compound and (B) a monohydric phenol compound, so-called “semi-IPN”
A uniform resin varnish for films is produced by the method of conversion, and it is cast and applied to one side of a copper foil or carrier film as a supporting base material, and the resin is made compatible by removing the solvent by heating and drying. A method for producing a modified cyanate ester-based resin film for obtaining a film and a modified cyanate ester-based resin film.

【0018】高分子材料など誘電特性は双極子の配向分
極による影響が大きく、したがって分子内の極性基を少
なくすることにより低誘電率化が図れ、また極性基の運
動性を抑えることにより誘電正接を低くすることが可能
である。シアネートエステル樹脂は、極性の強いシアナ
ト基を有していながら硬化時には対称性かつ剛直なトリ
アジン構造を生成するので、熱硬化性樹脂としては最も
低い誘電率及び誘電正接の硬化物が得られるという特徴
がある。
The dielectric properties of polymer materials and the like are greatly affected by the orientation polarization of the dipole. Therefore, the dielectric constant can be reduced by reducing the number of polar groups in the molecule, and the dielectric loss tangent can be reduced by suppressing the mobility of the polar groups. Can be reduced. The cyanate ester resin has a strong polar cyanato group, but generates a symmetric and rigid triazine structure during curing, so that a cured product having the lowest dielectric constant and dielectric loss tangent as a thermosetting resin can be obtained. There is.

【0019】しかしながら、実際の硬化反応において
は、シアネートエステル樹脂中のすべてのシアナト基が
反応してトリアジン構造を生成するということは不可能
であり、硬化反応の進行に伴って反応系が流動性を失い
未反応のシアナト基として系内に残存することになる。
その結果、これまでのシアネートエステル樹脂では、本
来の硬化物が示すはずの特性よりは誘電率や誘電正接が
高い硬化物しか得られなかった。
However, in the actual curing reaction, it is impossible that all the cyanato groups in the cyanate ester resin react to form a triazine structure, and as the curing reaction proceeds, the reaction system becomes more fluid. And remains in the system as an unreacted cyanato group.
As a result, with the conventional cyanate ester resin, only a cured product having a higher dielectric constant and a higher dielectric tangent than the properties that the original cured product should exhibit can be obtained.

【0020】これに対して本発明の樹脂組成物では、
(B)1価フェノール類化合物を(A)シアネートエス
テル類化合物に対して適正量配合することで未反応とし
て残るシアナト基をイミドカーボネート化してその極性
を減じることにより硬化物の誘電率と誘電正接を本来の
値まで低下させようとしたものである。この目的で用い
る材料としては、シアナト基との反応性が高く、また単
官能で比較的低分子量でありかつシアネートエステル類
化合物との相容性が良い(分子構造に類似性があり)化
合物が適していると考えられる。本発明の樹脂組成物で
用いる1価のフェノール類化合物は、このような理由に
よって特定された化合物である。
On the other hand, in the resin composition of the present invention,
(B) An appropriate amount of a monohydric phenol compound is mixed with (A) a cyanate ester compound to convert an unreacted cyanato group into imide carbonate to reduce its polarity, thereby reducing the dielectric constant and dielectric loss tangent of the cured product. Is reduced to the original value. As a material used for this purpose, a compound having high reactivity with a cyanato group, a monofunctional compound having a relatively low molecular weight, and having good compatibility with a cyanate ester compound (having similarity in molecular structure) is used. Deemed suitable. The monohydric phenol compound used in the resin composition of the present invention is a compound specified for such a reason.

【0021】従来、シアネートエステル類化合物の三量
化反応(トリアジン環の生成)の助触媒として、ノニル
フェノール等のフェノール化合物がシアネートエステル
類化合物100重量部に対して1〜2重量部程度用いら
れる場合があった。しかし配合量が触媒量であったた
め、上記のような未反応のシアナト基と反応し低極性化
するという効果は認められなかった。しかるに本発明者
らがフェノール化合物の配合量について検討した結果、
フェノール化合物を従来の触媒量よりも多量に配合した
場合に硬化物の誘電率と誘電正接が低下することを認
め、かつ特定の1価フェノール類化合物を用いれば、配
合量が増える事による耐熱性の低下も抑制できることを
見出した。そのため本発明の方法によれば、これまでの
シアネートエステル樹脂単独の硬化物や、従来のエポキ
シ樹脂や多価フェノール類(片方の水酸基が未反応基と
して残り易いため誘電特性をかえって悪化させる)及び
ビスマレイミド等を配合した樹脂の硬化物よりも誘電率
と誘電正接の低い硬化物が得られるようになった。
Conventionally, as a cocatalyst for a trimerization reaction (formation of a triazine ring) of a cyanate ester compound, about 1 to 2 parts by weight of a phenol compound such as nonylphenol is used per 100 parts by weight of the cyanate ester compound. there were. However, since the compounding amount was a catalytic amount, the effect of reducing the polarity by reacting with the unreacted cyanato group as described above was not recognized. However, as a result of the present inventors examining the blending amount of the phenol compound,
It was found that when the phenol compound was added in a larger amount than the conventional catalyst amount, the dielectric constant and the dielectric loss tangent of the cured product were reduced, and when a specific monohydric phenol compound was used, the heat resistance was increased by increasing the compounding amount. Has been found to be able to suppress a decrease in the temperature. Therefore, according to the method of the present invention, a cured product of a conventional cyanate ester resin alone, a conventional epoxy resin or a polyhydric phenol (one of the hydroxyl groups is likely to remain as an unreacted group, so that the dielectric properties are rather deteriorated) and A cured product having a lower dielectric constant and a lower dielectric loss tangent than a cured product of a resin containing bismaleimide or the like can be obtained.

【0022】したがって本発明の樹脂組成物では、1価
フェノール類化合物の配合量が重要である。すなわち、
配合量が少ない場合は未反応として残存する全てのシア
ナト基と反応し低極性化することができず、配合量が必
要量より多い場合はかえって自分自身が未反応として残
存し、自身の水酸基の極性によって硬化物の誘電特性を
悪化させてしまうことになるからである。
Therefore, in the resin composition of the present invention, the amount of the monohydric phenol compound is important. That is,
If the compounding amount is small, it reacts with all the cyanato groups remaining as unreacted and cannot be reduced in polarity, and if the compounding amount is larger than the required amount, it itself remains unreacted and its own hydroxyl group This is because the polarity deteriorates the dielectric properties of the cured product.

【0023】本発明の変性シアネートエステル系樹脂フ
ィルムに用いられる変性シアネートエステル系硬化性樹
脂組成物は、(A)式(1)で示されるシアネートエス
テル類化合物、(B)式(2)で示される1価フェノー
ル類化合物、(C)ポリフェニレンエーテル樹脂及び
(D)金属系反応触媒を必須成分として含む。
The modified cyanate ester-based curable resin composition used in the modified cyanate ester-based resin film of the present invention comprises (A) a cyanate ester compound represented by the formula (1) and (B) a compound represented by the formula (2). (C) polyphenylene ether resin and (D) a metal-based reaction catalyst as essential components.

【0024】本発明における(A)シアネートエステル
類化合物は、式(1)で示されように1分子中にシアナ
ト基を2個有するシアネートエステル類化合物である。
式(1)で示される化合物としては、例えば、ビス(4
−シアナトフェニル)エタン、2,2−ビス(4−シア
ナトフェニル)プロパン、2,2−ビス(3,5−ジメ
チル−4−シアナトフェニル)メタン、2,2−ビス
(4−シアナトフェニル)−1,1,1,3,3,3−
ヘキサフルオロプロパン、α,α’−ビス(4−シアナ
トフェニル)−m−ジイソプロピルベンゼン、フェノー
ル付加ジシクロペンタジエン重合体のシアネートエステ
ル化物等が挙げられる。その中でも、2,2−ビス(4
−シアナトフェニル)プロパン及び2,2−ビス(3,
5−ジメチル−4−シアナトフェニル)メタンが硬化物
の誘電特性と硬化性のバランスが特に良好であるため好
ましい。また(A)シアネートエステル類化合物は、1
種類を単独で用いてもよく、又は2種類以上を混合して
用いてもよい。
The cyanate ester compound (A) in the present invention is a cyanate ester compound having two cyanato groups in one molecule as shown by the formula (1).
Examples of the compound represented by the formula (1) include, for example, bis (4
-Cyanatophenyl) ethane, 2,2-bis (4-cyanatophenyl) propane, 2,2-bis (3,5-dimethyl-4-cyanatophenyl) methane, 2,2-bis (4-cy Anatophenyl) -1,1,1,3,3,3-
Examples thereof include hexafluoropropane, α, α′-bis (4-cyanatophenyl) -m-diisopropylbenzene, and a cyanate ester of a phenol-added dicyclopentadiene polymer. Among them, 2,2-bis (4
-Cyanatophenyl) propane and 2,2-bis (3,
5-Dimethyl-4-cyanatophenyl) methane is preferred because the balance between the dielectric properties and the curability of the cured product is particularly good. Further, (A) the cyanate ester compound is 1
The types may be used alone or as a mixture of two or more types.

【0025】本発明における(B)1価フェノール類化
合物は、式(2)で示される1価フェノール類であり、
耐熱性の良好な化合物が好ましい。式(2)で示される
化合物としては、p−tert−ブチルフェノール、p
−tert−アミルフェノール及びp−tert−オク
チルフェノールが挙げられ、その中でもp−tert−
オクチルフェノールがより好ましい。(B)1価フェノ
ール類化合物は、上記のうちいずれか1種類を単独で用
いてもよくまたは2種類以上を混合して用いてもよい。
The (B) monohydric phenol compound in the present invention is a monohydric phenol represented by the formula (2):
Compounds having good heat resistance are preferred. Examples of the compound represented by the formula (2) include p-tert-butylphenol and p-tert-butylphenol.
-Tert-amylphenol and p-tert-octylphenol, among which p-tert-
Octylphenol is more preferred. As the monohydric phenol compound (B), any one of the above compounds may be used alone, or two or more of them may be used in combination.

【0026】本発明における(B)1価フェノール類化
合物の配合量は、(A)シアネートエステル類化合物1
00重量部に対して4〜30重量部とするのが好まし
く、5〜25重量部とすることがより好ましく、5〜2
0重量部とすることが特に好ましい。(B)1価フェノ
ール類化合物の配合量が4重量部未満では十分な誘電特
性が得られず、特に高周波帯域での誘電正接が十分に低
くならない傾向がある。また30重量部を超えるとかえ
って誘電正接が高くなるという傾向があり望ましくな
い。したがって、高周波帯において誘電正接の低い変性
シアネートエステル系樹脂フィルムを得るためには、
(A)シアネートエステル類化合物に対して適切な配合
量の(B)1価フェノール類化合物を用いる必要があ
る。
In the present invention, the compounding amount of the (B) monohydric phenol compound is (A) the cyanate ester compound 1
The amount is preferably 4 to 30 parts by weight, more preferably 5 to 25 parts by weight, and more preferably 5 to 2 parts by weight with respect to 00 parts by weight.
It is particularly preferable to use 0 parts by weight. If the amount of the (B) monohydric phenol compound is less than 4 parts by weight, sufficient dielectric properties cannot be obtained, and the dielectric loss tangent particularly in a high frequency band tends not to be sufficiently low. If it exceeds 30 parts by weight, the dielectric loss tangent tends to be rather high, which is not desirable. Therefore, in order to obtain a modified cyanate ester-based resin film having a low dielectric loss tangent in a high frequency band,
It is necessary to use (B) a monohydric phenol compound in an appropriate amount with respect to (A) the cyanate ester compound.

【0027】本発明における(A)シアネートエステル
類化合物と(B)1価フェノール類化合物は、通常、そ
れぞれを反応させて得られる変性シアネートエステル樹
脂として用いられる。すなわち、(A)シアネートエス
テル類化合物のプレポリマ化とともに、(A)シアネー
トエステル類化合物に(B)1価フェノール類化合物を
付加させたイミドカーボネート化変性樹脂として用いら
れる。
The cyanate ester compound (A) and the monohydric phenol compound (B) in the present invention are generally used as a modified cyanate ester resin obtained by reacting each. That is, it is used as an imide carbonate-modified resin in which (A) a cyanate ester compound is prepolymerized and (B) a monohydric phenol compound is added to (A) a cyanate ester compound.

【0028】(A)シアネートエステル類化合物と
(B)1価フェノール類化合物を反応させる際には、
(B)1価フェノール類化合物を反応初期から上記の適
正配合量の全部を投入して反応させて変性シアネートエ
ステル樹脂としても良いし、反応初期は上記の適正配合
量の一部を反応させ、冷却後残りの(B)1価フェノー
ル類化合物を投入して、Bステージ化時あるいは硬化時
に反応させて変性シアネートエステル樹脂としても良
い。
When reacting (A) a cyanate ester compound with (B) a monohydric phenol compound,
(B) A modified cyanate ester resin may be prepared by charging the monohydric phenolic compound from the initial stage of the reaction and then reacting by adding all of the above proper amount, or a part of the above proper amount may be reacted at the beginning of the reaction, After cooling, the remaining (B) monohydric phenol compound may be charged and reacted at the time of B-stage or at the time of curing to obtain a modified cyanate ester resin.

【0029】本発明における(C)ポリフェニレンエー
テル樹脂としては、例えば、ポリ(2,6−ジメチル−
1,4−フェニレン)エーテル、ポリ(2,6−ジメチ
ル−1,4−フェニレン)エーテルとポリスチレンのア
ロイ化ポリマ、ポリ(2,6−ジメチル−1,4−フェ
ニレン)エーテルとスチレン−ブタジエンコポリマのア
ロイ化ポリマ等が挙げられ、その中でも、ポリ(2、6
−ジメチル−1,4−フェニレン)エーテルとポリスチ
レンのアロイ化ポリマ及びポリ(2,6−ジメチル−
1,4−フェニレン)エーテルとスチレン−ブタジエン
コポリマのアロイ化ポリマ等が好ましい。(C)ポリフ
ェニレンエーテル樹脂中のポリ(2,6−ジメチル−
1,4−フェニレン)エーテルの成分量は、50重量%
以上含有するポリマであることが硬化物の誘電特性が良
好であるために好ましいが、65重量%以上含有するポ
リマであることがより好ましい。
The polyphenylene ether resin (C) in the present invention includes, for example, poly (2,6-dimethyl-
Alloyed polymer of 1,4-phenylene) ether, poly (2,6-dimethyl-1,4-phenylene) ether and polystyrene, poly (2,6-dimethyl-1,4-phenylene) ether and styrene-butadiene copolymer And the like. Among them, poly (2,6)
-Dimethyl-1,4-phenylene) ether and polystyrene alloy and poly (2,6-dimethyl-)
Alloyed polymers of (1,4-phenylene) ether and styrene-butadiene copolymer are preferred. (C) Poly (2,6-dimethyl-) in polyphenylene ether resin
The component amount of 1,4-phenylene) ether is 50% by weight.
The polymer containing the above is preferable because the dielectric properties of the cured product are good, but the polymer containing more than 65% by weight is more preferable.

【0030】本発明における(C)ポリフェニレンエー
テル樹脂の配合量は、(A)シアネートエステル類化合
物100重量部に対して5〜500重量部とすることが
好ましく、10〜300重量部とすることがより好まし
く、15〜200重量部とすることが特に好ましい。
(C)ポリフェニレンエーテル樹脂の配合量が5重量部
未満では十分な誘電特性が得られなくなる傾向があり、
500重量部を超えると熱硬化成分である(A)シアネ
ートエステル樹脂の反応性が(C)ポリフェニレンエー
テル樹脂の希釈効果により悪くなり、得られた樹脂フィ
ルムの耐熱性や耐溶剤性が悪くなるという問題点が生じ
る。
The amount of the polyphenylene ether resin (C) in the present invention is preferably 5 to 500 parts by weight, more preferably 10 to 300 parts by weight, based on 100 parts by weight of the cyanate ester compound (A). More preferably, it is particularly preferably 15 to 200 parts by weight.
If the compounding amount of the (C) polyphenylene ether resin is less than 5 parts by weight, sufficient dielectric properties tend not to be obtained,
When the amount exceeds 500 parts by weight, the reactivity of the cyanate ester resin (A), which is a thermosetting component, becomes poor due to the dilution effect of the polyphenylene ether resin (C), and the heat resistance and solvent resistance of the obtained resin film deteriorate. Problems arise.

【0031】本発明の(D)金属系反応触媒は、(A)
シアネートエステル類化合物と(B)1価フェノール類
化合物との反応を促進するものであり、変性シアネート
エステル系硬化性樹脂組成物を製造する際の反応触媒及
び樹脂フィルムが硬化する際の硬化促進剤として用いら
れる。金属系反応触媒としては、マンガン、鉄、コバル
ト、ニッケル、銅、亜鉛等の金属触媒類が用いられ、具
体的には、2−エチルヘキサン酸塩やナフテン酸塩等の
有機金属塩化合物及びアセチルアセトン錯体などの有機
金属錯体として用いられる。変性シアネートエステル系
硬化性樹脂組成物を製造する際の反応促進剤と積層板を
製造する際の硬化促進剤で同一の金属系反応触媒を単独
で用いてもよく、またはそれぞれ別の2種類以上を用い
てもよい。
The metal-based reaction catalyst (D) of the present invention comprises (A)
A reaction catalyst for producing a modified cyanate ester-based curable resin composition and a curing accelerator for curing a resin film, which promotes a reaction between a cyanate ester compound and (B) a monohydric phenol compound. Used as As the metal-based reaction catalyst, metal catalysts such as manganese, iron, cobalt, nickel, copper, and zinc are used. Specifically, organic metal salt compounds such as 2-ethylhexanoate and naphthenate and acetylacetone It is used as an organometallic complex such as a complex. The same metal-based reaction catalyst may be used alone as the reaction accelerator for producing the modified cyanate ester-based curable resin composition and the curing accelerator for producing the laminated board, or two or more different each. May be used.

【0032】本発明における(D)金属系反応触媒の配
合量は、(A)シアネートエステル類化合物1gに対し
て1〜300ppmとすることが好ましく、1〜200
ppmとすることがより好ましく、2〜150ppmと
することが特に好ましい。(D)金属系反応触媒の配合
量が1ppm未満では反応性及び硬化性が不十分となる
傾向があり、300ppmを超えると反応の制御が難し
くなったり、硬化が速くなりすぎて流動性が乏しくなり
成形性が悪くなる傾向がある。また、本発明における
(D)金属系反応触媒の配合時期は、変性シアネートエ
ステル系硬化性樹脂組成物を製造する際に反応促進剤及
び硬化促進剤として必要な量を同時にまとめて配合して
もよいし、変性シアネートエステル系硬化性樹脂組成物
を製造する際に変性反応の促進に必要な量を用い、反応
終了後残りの触媒、又は別の金属系触媒を硬化促進剤と
して添加混合してもよい。
In the present invention, the amount of the metal-based reaction catalyst (D) is preferably 1 to 300 ppm, more preferably 1 to 200 ppm, per 1 g of the cyanate ester compound (A).
ppm is more preferable, and 2 to 150 ppm is particularly preferable. (D) If the amount of the metal-based reaction catalyst is less than 1 ppm, the reactivity and curability tend to be insufficient. If the amount exceeds 300 ppm, the control of the reaction becomes difficult, and the curing becomes too fast, resulting in poor fluidity. And the moldability tends to be poor. In addition, the compounding time of the metal-based reaction catalyst (D) in the present invention may be such that the amounts required as a reaction accelerator and a curing accelerator in the production of the modified cyanate ester-based curable resin composition are simultaneously combined. When using a modified cyanate ester-based curable resin composition, the amount necessary for promoting the modification reaction is used, and after the reaction is completed, the remaining catalyst or another metal-based catalyst is added and mixed as a curing accelerator. Is also good.

【0033】本発明の変性シアネートエステル系樹脂フ
ィルムに用いる組成物には、上記必須成分以外に必要に
応じて難燃剤、無機充填剤及びその他添加剤を配合する
ことができる。難燃剤の例としては、トリブロモフェノ
ールやテトラブロモビスフェノールAなどの臭素化フェ
ノール系、テトラブロモビスフェノールA型エポキシ樹
脂や臭素化ノボラック型エポキシ樹脂などの臭素化エポ
キシ樹脂系、臭素化ポリスチレンや臭素化ポリカーボネ
ートなどの臭素化熱可塑性樹脂系、デカブロモジフェニ
ルエーテルに代表されるポリブロモジフェニルエーテル
系、1,2−ジブロモ−4−(1,2−ジブロモエチ
ル)シクロヘキサン、テトラブロモシクロヘキサン、テ
トラブロモシクロオクタン及びヘキサブロモシクロドデ
カンなどの臭素化炭化水素系、2,4,6−トリス(ト
リブロモフェノキシ)−1,3,5−トリアジンなどの
臭素化トリフェニルシアヌレート系難燃剤等が挙げられ
る。その中でも、1,2−ジブロモ−4−(1,2−ジ
ブロモエチル)シクロヘキサン、テトラブロモシクロオ
クタン、ヘキサブロモシクロドデカン及び2,4,6−
トリス(トリブロモフェノキシ)−1,3,5−トリア
ジン等の難燃剤が、シアネートエステル類化合物と反応
性を有しないため得られる硬化物の誘電特性が良好であ
るので好ましい。
The composition used for the modified cyanate ester-based resin film of the present invention may contain, if necessary, a flame retardant, an inorganic filler and other additives in addition to the above essential components. Examples of the flame retardant include brominated phenols such as tribromophenol and tetrabromobisphenol A, brominated epoxy resins such as tetrabromobisphenol A type epoxy resin and brominated novolak type epoxy resin, brominated polystyrene and brominated. Brominated thermoplastic resin such as polycarbonate, polybromodiphenyl ether represented by decabromodiphenyl ether, 1,2-dibromo-4- (1,2-dibromoethyl) cyclohexane, tetrabromocyclohexane, tetrabromocyclooctane and hexa Brominated hydrocarbon flame retardants such as bromocyclododecane; and brominated triphenyl cyanurate flame retardants such as 2,4,6-tris (tribromophenoxy) -1,3,5-triazine. Among them, 1,2-dibromo-4- (1,2-dibromoethyl) cyclohexane, tetrabromocyclooctane, hexabromocyclododecane and 2,4,6-
Flame retardants such as tris (tribromophenoxy) -1,3,5-triazine are preferred because they have no reactivity with cyanate ester compounds and thus have good dielectric properties of the resulting cured product.

【0034】本発明における難燃剤の配合量は、(A)
シアネートエステル類化合物、(B)1価フェノール類
化合物及び(C)ポリフェニレンエーテル樹脂の総量1
00重量部に対して5〜50重量部とすることが好まし
く、5〜40重量部とすることがより好ましく、10〜
30重量部とすることが特に好ましい。難燃剤の配合量
が5重量部未満では耐燃性が不十分となる傾向があり、
50重量部を超えると樹脂の耐熱性が低下する傾向があ
る。
In the present invention, the compounding amount of the flame retardant is (A)
Total amount of cyanate ester compound, (B) monohydric phenol compound and (C) polyphenylene ether resin is 1
It is preferably 5 to 50 parts by weight, more preferably 5 to 40 parts by weight, and more preferably 10 to 100 parts by weight.
Particularly preferred is 30 parts by weight. If the amount of the flame retardant is less than 5 parts by weight, the flame resistance tends to be insufficient,
If the amount exceeds 50 parts by weight, the heat resistance of the resin tends to decrease.

【0035】無機充填剤としては、シリカ、アルミナ、
水酸化アルミニウム、炭酸カルシウム、クレイ、タル
ク、窒化珪素、窒化ホウ素、酸化チタン、チタン酸バリ
ウム、チタン酸鉛、チタン酸ストロンチウム等を使用す
ることができる。この配合量としては、本発明の樹脂組
成物の総量100重量部に対して、300重量部以下と
することが、本発明の変性シアネートエステル系樹脂フ
ィルムが均一でかつ良好な取扱性を得るために好まし
い。
As the inorganic filler, silica, alumina,
Aluminum hydroxide, calcium carbonate, clay, talc, silicon nitride, boron nitride, titanium oxide, barium titanate, lead titanate, strontium titanate and the like can be used. The amount is preferably 300 parts by weight or less based on 100 parts by weight of the total amount of the resin composition of the present invention so that the modified cyanate ester-based resin film of the present invention can obtain uniform and good handleability. Preferred.

【0036】本発明の変性シアネートエステル系樹脂フ
ィルムを製造するには、以上説明した変性シアネートエ
ステル系硬化性樹脂組成物を溶剤に溶解して10〜50
重量%のワニスとし、支持基材の片面にバーコータやロ
ールコータなどを用いて流延塗布し、加熱乾燥により溶
剤を除去してフィルム(製膜)とすることができる。
To produce the modified cyanate ester-based resin film of the present invention, the modified cyanate ester-based curable resin composition described above is dissolved in
A varnish of weight% is cast on one surface of the supporting substrate using a bar coater or a roll coater, and the solvent is removed by heating and drying to form a film (film formation).

【0037】上記のワニスを製造する場合に用いられる
溶剤の具体例としては、ベンゼン、トルエン、キシレン
等の芳香族炭化水素類、トリクロロエチレン、クロロベ
ンゼン等のハロゲン化炭化水素類、N、N−ジメチルホ
ルムアミド、N、N−ジメチルアセトアミド等のアミド
系やN−メチルピロリドンなどの窒素系溶剤などが用い
られる。特にベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族
炭化水素類(芳香族炭化水素系溶剤)がより好ましい。
これらの溶剤類は1種類単独で用いてもよく又は2種類
以上を混合して用いてもよい。芳香族炭化水素系溶剤の
配合量は、樹脂組成物の全体量100重量部に対して1
00〜900重量部が好ましく、100〜600重量部
がより好ましく、150〜400重量部が特に好まし
い。
Specific examples of the solvent used for producing the above varnish include aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, halogenated hydrocarbons such as trichloroethylene and chlorobenzene, and N, N-dimethylformamide. Amides such as N, N, N-dimethylacetamide and nitrogen solvents such as N-methylpyrrolidone. In particular, aromatic hydrocarbons (aromatic hydrocarbon solvents) such as benzene, toluene, and xylene are more preferable.
These solvents may be used alone or as a mixture of two or more. The amount of the aromatic hydrocarbon solvent is 1 to 100 parts by weight of the total amount of the resin composition.
The amount is preferably from 00 to 900 parts by weight, more preferably from 100 to 600 parts by weight, and particularly preferably from 150 to 400 parts by weight.

【0038】またアセトン、メチルエチルケトン、メチ
ルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類を
芳香族炭化水素系溶剤類と併用した場合はワニスが懸濁
溶液となるが、より高濃度の溶液が得られるという利点
がある。しかし、ケトン類の配合量が多すぎると樹脂組
成物が分離沈降する恐れがあるので、ケトン系溶剤の配
合量は芳香族炭化水素系溶剤100重量部に対して25
0重量部以下とするが好ましい。
When ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone are used in combination with aromatic hydrocarbon solvents, the varnish becomes a suspension solution, but the advantage is that a higher concentration solution can be obtained. is there. However, if the amount of the ketone is too large, the resin composition may separate and settle. Therefore, the amount of the ketone solvent is 25 parts by weight based on 100 parts by weight of the aromatic hydrocarbon solvent.
It is preferably 0 parts by weight or less.

【0039】本発明に用いる支持基材は、銅やアルミニ
ウム等の金属箔、ポリエステルやポリイミド等の樹脂フ
ィルム、あるいはこれらの樹脂フィルムの表面に離型剤
を塗布したものなどを用いることができる。支持基材に
銅箔を用いた場合は、銅箔をそのまま回路導体として使
用することができる利点があり、また支持基材に離型剤
処理が施されていると支持基材から変性シアネートエス
テル系樹脂フィルムを引き剥がす際や支持基材付フィル
ムを基板に積層した後支持基材だけを剥離する際の作業
性を向上させる上で好ましい。
As the supporting substrate used in the present invention, a metal foil such as copper or aluminum, a resin film such as polyester or polyimide, or a resin film coated with a release agent on the surface thereof can be used. When a copper foil is used as the supporting base material, there is an advantage that the copper foil can be used as it is as a circuit conductor, and when the supporting base material is subjected to a release agent treatment, the modified cyanate ester is removed from the supporting base material. It is preferable from the viewpoint of improving workability when peeling the base resin film or when peeling off only the support substrate after laminating the film with the support substrate on the substrate.

【0040】このように支持基材の片面に絶縁性の樹脂
層を形成した変性シアネートエステル系樹脂フィルム
は、以下に示す方法によって印刷配線板の製造に供する
ことができる。例えば、支持基材を除去したフィルム状
の樹脂を1枚または複数枚積層しその上下に銅箔を配置
してプレス成形するか、あるいは支持基材である銅箔に
ワニスを塗工した変性シアネートエステル系樹脂フィル
ムをフィルム同士を合わせるように貼り合わせ、さらに
必要ならばその間に樹脂フィルム基材を除去した変性シ
アネートエステル系樹脂フィルムを1枚以上介在させて
プレス成形することによって印刷配線板用の銅張積層板
を製造することができる。
The modified cyanate ester-based resin film in which the insulating resin layer is formed on one surface of the supporting base material can be used for the production of a printed wiring board by the following method. For example, a modified cyanate obtained by laminating one or a plurality of film-shaped resins from which a supporting base material has been removed, placing copper foil on the upper and lower sides of the resin and press-forming, or applying a varnish to the copper foil as a supporting base material An ester-based resin film is bonded so that the films are bonded together, and if necessary, a modified cyanate ester-based resin film from which the resin film base material has been removed is press-formed with one or more interposed therebetween to form a printed circuit board. Copper clad laminates can be manufactured.

【0041】また、従来のガラス布基材の銅張積層板あ
るいは上記の銅張積層板に回路を形成後、支持基材を除
去した変性シアネートエステル系樹脂フィルムを1枚以
上積層し、さらにその上に銅箔や回路形成基板を配置し
てプレス成形するか、または支持基材としての銅箔に塗
工した変性シアネートエステル系樹脂フィルムを配置し
てプレス成形することにより多層配線板用の基板を製造
することができる。
Further, after forming a circuit on the conventional copper-clad laminate of a glass cloth substrate or the above-mentioned copper-clad laminate, one or more modified cyanate ester-based resin films from which the supporting substrate has been removed are laminated, and A substrate for a multilayer wiring board by arranging a copper foil or a circuit forming substrate thereon and press-forming, or arranging a modified cyanate ester-based resin film coated on a copper foil as a supporting base material and press-molding the same. Can be manufactured.

【0042】なお、回路の形成には、従来の方法を適用
することができる。例えば、銅張積層板又は多層配線板
用基板に必要に応じて貫通又は非貫通穴を明け、ついで
無電解めっき又は必要に応じて電気めっきを施して穴内
壁を導体化した後、導通穴部の保護とエッチングレジス
トの形成及びエッチングによる非配線部分の銅の除去な
どの工程により回路を形成することができる。
A conventional method can be applied to the formation of the circuit. For example, a perforated or non-perforated hole is formed in the copper clad laminate or the multilayer wiring board substrate as necessary, and then the inner wall of the hole is made conductive by electroless plating or electroplating as necessary. A circuit can be formed by processes such as protection of the substrate, formation of an etching resist, and removal of copper in a non-wiring portion by etching.

【0043】さらに本発明の変性シアネートエステル系
樹脂フィルムでは、貫通又は非貫通穴を明ける方法とし
てドリル穴明け及びレーザ加工を採用することができ
る。レーザ加工の場合には、レーザショットにより直に
穴を形成するダイレクト・イメージング法や金属製マス
ク等を用いるコンフォーマル・マスク法でレーザ穴明け
が可能であるが、本発明に示される変性シアネートエス
テル系樹脂フィルムの一例である銅箔を支持基材とした
場合は、貫通又は非貫通穴を形成すべき場所をエッチン
グによって除去した銅箔をマスクとして用いてレーザ穴
明けを行うことができる。
Further, in the modified cyanate ester-based resin film of the present invention, drilling and laser processing can be employed as a method for drilling through or non-through holes. In the case of laser processing, laser drilling can be performed by a direct imaging method in which holes are directly formed by laser shots or a conformal mask method using a metal mask, but the modified cyanate ester shown in the present invention is used. When a copper foil, which is an example of a system resin film, is used as a supporting base material, laser drilling can be performed using a copper foil in which a portion where a through or non-through hole is to be formed is removed by etching as a mask.

【0044】[0044]

【実施例】以下、実施例により本発明をより具体的に説
明する。表1に示す配合量に従い変性シアネートエステ
ル系硬化性樹脂組成物ワニスを製造し、半硬化状の樹脂
フィルムを作製した。
The present invention will be described more specifically with reference to the following examples. A modified cyanate ester-based curable resin composition varnish was produced according to the compounding amounts shown in Table 1, and a semi-cured resin film was produced.

【0045】(実施例1)温度計、冷却管、攪拌装置を
備えた1リットルの4つ口セパラブルフラスコに、トル
エン450gと(C)ポリフェニレンエーテル樹脂とし
てノニルPKN4752(日本ジーイープラスチックス
株式会社製商品名)120gを投入し、80℃に加熱し
攪拌溶解した。次に(A)シアネートエステル類化合物
として2,2−ビス(4−シアナトフェニル)プロパン
(ArocyB−10、旭チバ株式会社製商品名)60
g、(B)1価フェノール類化合物としてp−tert
−オクチルフェノール(和光純薬工業株式会社製)5g
を投入溶解後、(D)金属系反応触媒としてナフテン酸
コバルト(Co含有量=8重量%、日本化学産業株式会
社製)の10重量%トルエン希釈溶液0.8gを添加し
還流温度で1時間反応させた。室温まで冷却し変性シア
ネートエステル系硬化性樹脂組成物ワニス(固形分濃度
=31重量%)を製造した。
Example 1 450 g of toluene and nonyl PKN4752 as a (C) polyphenylene ether resin (manufactured by Nippon GE Plastics Co., Ltd.) were placed in a 1-liter four-neck separable flask equipped with a thermometer, a cooling pipe, and a stirrer. (Product name) 120 g was charged, heated to 80 ° C., and dissolved by stirring. Next, (A) 2,2-bis (4-cyanatophenyl) propane (ArocyB-10, trade name, manufactured by Asahi Ciba Co., Ltd.) 60 as a cyanate ester compound
g, (B) p-tert as a monohydric phenol compound
-Octylphenol (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 5 g
After adding and dissolving, (D) 0.8 g of a 10% by weight toluene dilute solution of cobalt naphthenate (Co content = 8% by weight, manufactured by Nippon Chemical Industry Co., Ltd.) was added as a metal-based reaction catalyst, and the mixture was refluxed for 1 hour. Reacted. After cooling to room temperature, a modified cyanate ester-based curable resin composition varnish (solid content = 31% by weight) was produced.

【0046】このワニスをバーコータの一種であるコン
マ型コータ(株式会社ヒラノテクシード製)を用いて厚
さ50μmの離型剤付きのポリエチレンテレフタレート
(PET)フィルム(ピューレックスA−63,株式会
社帝人製商品名)に塗工、乾燥(130℃)し、樹脂層
厚さ30〜33μmのPETフィルム付樹脂フィルムを
作製した。得られた変性シアネートエステル系樹脂フィ
ルムはカッタナイフで切断しても樹脂割れや粉落ちがな
く、取扱性に優れていた。
The varnish was coated with a 50 μm-thick polyethylene terephthalate (PET) film (Purex A-63, manufactured by Teijin Co., Ltd.) with a release agent having a thickness of 50 μm using a comma type coater (a type of bar coater, manufactured by Hirano Techseed Co., Ltd.) Co., Ltd.) and dried (130 ° C.) to produce a resin film with a PET film having a resin layer thickness of 30 to 33 μm. The resulting modified cyanate ester-based resin film was excellent in handleability without resin cracking or powder dropping even when cut with a cutter knife.

【0047】(実施例2)温度計、冷却管、攪拌装置を
備えた1リットルの4つ口セパラブルフラスコに、トル
エン240gとポリフェニレンエーテル樹脂(ノニルP
KN4752、日本ジーイープラスチックス株式会社製
商品名)160gを投入し、80℃に加熱し攪拌溶解し
た。次に2,2−ビス(4−シアナトフェニル)プロパ
ン(ArocyB−10、旭チバ株式会社製商品名)8
0g、p−tert−オクチルフェノール(和光純薬工
業株式会社製)2gを投入溶解後、ナフテン酸マンガン
(Mn含有量=8重量%、日本化学産業株式会社製)の
10重量%トルエン希釈溶液0.3gを添加し還流温度
で3時間反応させた。ついで反応液を冷却し、内温が9
0℃になったらメチルエチルケトン(MEK)300g
を攪拌しながら投入し懸濁化させた。さらに室温まで冷
却した後、p−tert−ブチルフェノール(和光純薬
製)5g、ナフテン酸亜鉛(Zn含有量=8重量%、日
本化学産業株式会社製)の10重量%トルエン希釈溶液
0.2gを投入溶解し変性シアネートエステル系硬化性
樹脂組成物ワニス(固形分濃度=31重量%)を製造し
た。
Example 2 240 g of toluene and a polyphenylene ether resin (nonyl P) were placed in a 1-liter four-neck separable flask equipped with a thermometer, a cooling pipe, and a stirrer.
160 g of KN4752 (trade name, manufactured by Nippon GE Plastics Co., Ltd.) was added, and the mixture was heated to 80 ° C. and dissolved by stirring. Next, 2,2-bis (4-cyanatophenyl) propane (ArocyB-10, trade name, manufactured by Asahi Ciba Co., Ltd.) 8
After dissolving 0 g and 2 g of p-tert-octylphenol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), a 10 wt% toluene diluted solution of manganese naphthenate (Mn content = 8 wt%, manufactured by Nippon Chemical Industry Co., Ltd.) was added. 3 g was added and reacted at reflux temperature for 3 hours. Then, the reaction solution was cooled and the internal temperature was 9
When the temperature reaches 0 ° C, 300 g of methyl ethyl ketone (MEK)
Was added with stirring to suspend. After further cooling to room temperature, 5 g of p-tert-butylphenol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries) and 0.2 g of a 10% by weight toluene diluted solution of zinc naphthenate (Zn content = 8% by weight, manufactured by Nippon Chemical Industry Co., Ltd.) were added. The solution was charged and dissolved to produce a modified cyanate ester-based curable resin composition varnish (solid content = 31% by weight).

【0048】このワニスを用いて実施例1と同様にし
て、樹脂層厚さ30〜33μmのPETフィルム付樹脂
フィルムを作製した。得られた樹脂フィルムはカッタナ
イフで切断しても樹脂割れや粉落ちがなく、取扱性に優
れていた。
Using this varnish, a resin film with a PET film having a resin layer thickness of 30 to 33 μm was prepared in the same manner as in Example 1. The resin film obtained was excellent in handleability without resin cracking or powder dropping even when cut with a cutter knife.

【0049】(実施例3)温度計、冷却管、攪拌装置を
備えた1リットルの4つ口セパラブルフラスコに、トル
エン450gとポリフェニレンエーテル樹脂(ノニルP
KN4752、日本ジーイープラスチックス株式会社製
商品名)105gを投入し、80℃に加熱し攪拌溶解し
た。次に2,2−ビス(4−シアナトフェニル)プロパ
ン(ArocyB−10、旭チバ株式会社製商品名)7
5g、p−tert−オクチルフェノール(和光純薬工
業株式会社製)15g、ナフテン酸コバルト(Co含有
量=8重量%、日本化学産業株式会社製)の10重量%
トルエン希釈溶液0.7gを添加し還流温度で2時間反
応させた。反応液を室温まで冷却した後、ナフテン酸亜
鉛(Zn含有量=8重量%、日本化学産業株式会社製)
の10重量%トルエン希釈溶液0.1gを添加し攪拌溶
解して変性シアネートエステル系硬化性樹脂組成物ワニ
ス(固形分濃度=31重量%)を製造した。
Example 3 450 g of toluene and a polyphenylene ether resin (nonyl P) were placed in a 1-liter four-neck separable flask equipped with a thermometer, a cooling pipe, and a stirrer.
105 g of KN4752 (trade name, manufactured by Nippon GE Plastics Co., Ltd.) was charged, heated to 80 ° C., and dissolved by stirring. Next, 2,2-bis (4-cyanatophenyl) propane (ArocyB-10, trade name, manufactured by Asahi Ciba Co., Ltd.) 7
5 g, 15 g of p-tert-octylphenol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), 10% by weight of cobalt naphthenate (Co content = 8% by weight, manufactured by Nippon Chemical Industry Co., Ltd.)
0.7 g of a diluted toluene solution was added, and the mixture was reacted at a reflux temperature for 2 hours. After cooling the reaction solution to room temperature, zinc naphthenate (Zn content = 8% by weight, manufactured by Nippon Chemical Industry Co., Ltd.)
Then, 0.1 g of a 10% by weight toluene-diluted solution was added and dissolved by stirring to prepare a modified cyanate ester-based curable resin composition varnish (solid concentration = 31% by weight).

【0050】このワニスを用いて実施例1と同様にし
て、樹脂層厚さ30〜33μmのPETフィルム付樹脂
フィルムを作製した。得られた樹脂フィルムはカッタナ
イフで切断しても樹脂割れや粉落ちがなく、取扱性に優
れていた。
Using this varnish, a resin film with a PET film having a resin layer thickness of 30 to 33 μm was produced in the same manner as in Example 1. The resin film obtained was excellent in handleability without resin cracking or powder dropping even when cut with a cutter knife.

【0051】(実施例4)温度計、冷却管、攪拌装置を
備えた1リットルの4つ口セパラブルフラスコに、トル
エン450gとポリフェニレンエーテル樹脂(ノニルP
KN4752、日本ジーイープラスチックス株式会社製
商品名)90gを投入し、80℃に加熱し攪拌溶解し
た。次に2,2−ビス(4−シアナトフェニル)プロパ
ン(ArocyB−10、旭チバ株式会社製商品名)9
0g、p−tert−オクチルフェノール(和光純薬工
業株式会社製)11gを投入溶解後、ナフテン酸マンガ
ン(Mn含有量=8重量%、日本化学産業株式会社製)
の10重量%トルエン希釈溶液0.7gを添加し還流温
度で6時間反応させた。ついで室温まで冷却し変性シア
ネートエステル系硬化性樹脂組成物ワニス(固形分濃度
=30重量%)を製造した。
Example 4 450 g of toluene and a polyphenylene ether resin (nonyl P) were placed in a 1-liter four-neck separable flask equipped with a thermometer, a cooling pipe, and a stirrer.
90 g of KN4752 (trade name, manufactured by Nippon GE Plastics Co., Ltd.) was charged, heated to 80 ° C., and dissolved by stirring. Next, 2,2-bis (4-cyanatophenyl) propane (ArocyB-10, trade name, manufactured by Asahi Ciba Co., Ltd.) 9
0 g and 11 g of p-tert-octylphenol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) were added and dissolved. Manganese naphthenate (Mn content = 8% by weight, manufactured by Nippon Chemical Industry Co., Ltd.)
Was added thereto and reacted at reflux temperature for 6 hours. Then, the mixture was cooled to room temperature to produce a modified cyanate ester-based curable resin composition varnish (solid content concentration = 30% by weight).

【0052】このワニスを用いて実施例1と同様にし
て、樹脂層厚さ30〜33μmのPETフィルム付樹脂
フィルムを作製した。得られた樹脂フィルムはカッタナ
イフで切断しても樹脂割れや粉落ちがなく、取扱性に優
れていた。
Using this varnish, a resin film with a PET film having a resin layer thickness of 30 to 33 μm was produced in the same manner as in Example 1. The resin film obtained was excellent in handleability without resin cracking or powder dropping even when cut with a cutter knife.

【0053】(実施例5)温度計、冷却管、攪拌装置を
備えた1リットルの4つ口セパラブルフラスコに、トル
エン450gとポリフェニレンエーテル樹脂(ノニルP
KN4752、日本ジーイープラスチックス株式会社製
商品名)60gを投入し、80℃に加熱し攪拌溶解し
た。次にビス(3,5−ジメチル−4−シアナトフェニ
ル)メタン(ArocyM−10、旭チバ株式会社製商
品名)120g、p−tert−アミルフェノール(和
光純薬工業株式会社製)6gを投入溶解後、ナフテン酸
マンガン(Mn含有量=8重量%、日本化学産業株式会
社製)の10重量%トルエン希釈溶液0.4gを添加し
還流温度で6時間反応させた。ついで反応液を室温まで
冷却した後、ナフテン酸コバルト(Co含有量=8重量
%、日本化学産業株式会社製)の10重量%トルエン希
釈溶液0.2gを添加し攪拌溶解して変性シアネートエ
ステル系硬化性樹脂組成物ワニス(固形分濃度=29重
量%)を製造した。
Example 5 450 g of toluene and a polyphenylene ether resin (nonyl P) were placed in a 1-liter four-neck separable flask equipped with a thermometer, a condenser, and a stirrer.
60 g of KN4752 (trade name, manufactured by Nippon GE Plastics Co., Ltd.) was charged, and the mixture was heated to 80 ° C. and dissolved by stirring. Next, 120 g of bis (3,5-dimethyl-4-cyanatophenyl) methane (ArocyM-10, trade name of Asahi Ciba Co., Ltd.) and 6 g of p-tert-amylphenol (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) are charged. After dissolution, 0.4 g of a 10% by weight toluene diluted solution of manganese naphthenate (Mn content = 8% by weight, manufactured by Nippon Chemical Industry Co., Ltd.) was added, and the mixture was reacted at reflux temperature for 6 hours. Then, after cooling the reaction solution to room temperature, 0.2 g of a 10% by weight toluene diluted solution of cobalt naphthenate (Co content = 8% by weight, manufactured by Nippon Chemical Industry Co., Ltd.) was added, and the mixture was stirred and dissolved to obtain a modified cyanate ester system. A curable resin composition varnish (solid content = 29% by weight) was produced.

【0054】このワニスを用いて実施例1と同様にし
て、樹脂層厚さ30〜33μmPETフィルム付樹脂フ
ィルムを作製した。得られた樹脂フィルムはカッタナイ
フで切断しても樹脂割れや粉落ちがなく、取扱性に優れ
ていた。
Using this varnish, a resin film with a PET film having a thickness of 30 to 33 μm was prepared in the same manner as in Example 1. The resin film obtained was excellent in handleability without resin cracking or powder dropping even when cut with a cutter knife.

【0055】(比較例1)温度計、冷却管、攪拌装置を
備えた1リットルの4つ口セパラブルフラスコに、トル
エン360gとポリフェニレンエーテル樹脂(ノニルP
KN4752、日本ジーイープラスチックス株式会社製
商品名)120gを投入し、80℃に加熱し攪拌溶解
し、ワニス(固形分濃度=25重量%)を製造した。こ
のワニスを用いて実施例1と同様にして、樹脂層厚さ3
0〜33μmのPETフィルム付樹脂フィルムを作製し
た。得られた樹脂フィルムはカッタナイフで切断しても
樹脂割れや粉落ちがなく、取扱性に優れていた。
(Comparative Example 1) 360 g of toluene and a polyphenylene ether resin (nonyl P) were placed in a 1-liter four-neck separable flask equipped with a thermometer, a cooling pipe, and a stirrer.
120 g of KN4752 (trade name, manufactured by Nippon GE Plastics Co., Ltd.) was charged, and the mixture was heated to 80 ° C. and dissolved by stirring to produce a varnish (solid content = 25% by weight). Using this varnish, in the same manner as in Example 1, the resin layer thickness 3
A resin film with a PET film of 0 to 33 μm was produced. The resin film obtained was excellent in handleability without resin cracking or powder dropping even when cut with a cutter knife.

【0056】(比較例2)温度計、冷却管、攪拌装置を
備えた1リットルの4つ口セパラブルフラスコに、メチ
ルエチルケトン(MEK)240gと2,2−ビス(4
−シアナトフェニル)プロパン(ArocyB−10、
旭チバ株式会社製商品名)120g、p−tert−オ
クチルフェノール(和光純薬工業株式会社製)2gを投
入し攪拌溶解後、ナフテン酸コバルト(Co含有量=8
重量%、日本化学産業株式会社製)の10重量%トルエ
ン希釈溶液1.2gを添加し還流温度で2時間反応さ
せ、室温まで冷却しワニス(固形分濃度=35重量%)
を製造した。このワニスを用いて実施例1と同様にし
て、樹脂層厚さ30〜33μmのPETフィルム付樹脂
フィルムを作製したが、得られた樹脂フィルムはカッタ
ナイフで切断した際に樹脂割れや粉落ちが発生し、PE
Tフィルムを剥離すると樹脂フィルム単体で取扱うこと
ができなかった。
Comparative Example 2 In a 1-liter four-neck separable flask equipped with a thermometer, a condenser, and a stirrer, 240 g of methyl ethyl ketone (MEK) and 2,2-bis (4
-Cyanatophenyl) propane (ArocyB-10,
120 g of p-tert-octylphenol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) and 120 g of p-tert-octylphenol were added and dissolved by stirring. Cobalt naphthenate (Co content = 8)
1.2% of a 10% by weight toluene solution of 10% by weight (manufactured by Nippon Chemical Industry Co., Ltd.) was added and reacted at reflux temperature for 2 hours.
Was manufactured. Using this varnish, a resin film with a PET film having a resin layer thickness of 30 to 33 μm was produced in the same manner as in Example 1, but when the obtained resin film was cut with a cutter knife, resin cracking and powder dropping occurred. Occurs, PE
When the T film was peeled off, it could not be handled by the resin film alone.

【0057】(比較例3)実施例4において、トルエン
450gにポリフェニレンエーテル樹脂(ノニルPKN
4752、日本ジーイープラスチックス株式会社製商品
名)90gを投入し80℃に加熱して攪拌溶解し、次に
2,2−ビス(4−シアナトフェニル)プロパン(Ar
ocyB−10、旭チバ株式会社製商品名)の替わりに
そのオリゴマ(ArocyB−30、旭チバ株式会社製
商品名)90gを投入して80℃で1時間加熱溶解し
た。ついで常温まで冷却し、p−tert−オクチルフ
ェノール(和光純薬工業株式会社製)の替わりにノニル
フェノール(三井東圧化学株式会社製)1g、ナフテン
酸マンガンの替わりにナフテン酸コバルト(Co含有量
=8重量%、日本化学産業株式会社製)の10重量%ト
ルエン希釈溶液1gを添加してワニス(固形分濃度=2
9重量%)を製造した。しかし、このワニスは1日後に
ポリフェニレンエーテル樹脂の凝集分離物が観察され、
結局、樹脂フィルムを作製することができなかった。
(Comparative Example 3) In Example 4, 450 g of toluene was added to a polyphenylene ether resin (nonyl PKN).
4752, Nippon GE Plastics Co., Ltd. (90 g) was charged, heated to 80 ° C. and dissolved by stirring, and then 2,2-bis (4-cyanatophenyl) propane (Ar
90 g of the oligomer (ArocyB-30, trade name, manufactured by Asahi Ciba Co., Ltd.) was placed instead of ocyB-10, trade name, manufactured by Asahi Ciba Co., Ltd., and the mixture was heated and melted at 80 ° C. for 1 hour. Then, the mixture was cooled to room temperature, 1 g of nonylphenol (manufactured by Mitsui Toatsu Chemicals, Inc.) instead of p-tert-octylphenol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), and cobalt naphthenate (Co content = 8) instead of manganese naphthenate. 1% of a 10% by weight toluene solution of 10% by weight of Nippon Chemical Industry Co., Ltd.
9% by weight). However, this varnish was observed agglomerated separation of polyphenylene ether resin after one day,
As a result, a resin film could not be produced.

【0058】[0058]

【表1】 項目 (A)シアネートエステル (B)1価フェノール ゥホ゜リフェニレンエーテル (D)金属系反応触媒 実施例1 B-10 60部 POP 5部 PPO 120部 Co 0.8部 実施例2 B-10 80部 POP 2部 PPO 160部 Mn 0.3部 PBP 5部 Zn 0.2部 実施例3 B-10 75部 POP 15部 PPO 105部 Co 0.7部 Zn 0.1部 実施例4 B-10 90部 POP 11部 PPO 90部 Mn 0.7部 実施例5 M-10 120部 PAP 6部 PPO 60部 Mn 0.4部 Co 0.2部 比較例1 − − PPO 120部 − 比較例2 B-10 120部 POP 2部 − Co 1.2部 比較例3 B-30 90部 NP 1部 PPO 90部 Co 1.0部 比較例4 B-10 60部 BPA 1部 PPO 120部 Co 0.8部 比較例5 B-10 90部 NP 2部 PPO 90部 Mn 0.7部 [Table 1] Item (A) Cyanate ester (B) Monohydric phenol / polyphenylene ether (D) Metal-based reaction catalyst Example 1 B-10 60 parts POP 5 parts PPO 120 parts Co 0.8 part Example 2 B-10 80 parts POP 2 parts PPO 160 part Mn 0.3 part PBP 5 part Zn 0.2 part Example 3 B-10 75 part POP 15 part PPO 105 part Co 0.7 part Zn 0.1 part Example 4 B-10 90 part POP 11 part PPO 90 part Mn 0.7 part Example 5 M-10 120 parts PAP 6 parts PPO 60 parts Mn 0.4 part Co 0.2 parts Comparative Example 1--PPO 120 parts- Comparative Example 2 B-10 120 parts POP 2 parts-Co 1.2 parts Comparative Example 3 B-30 90 Part NP 1 part PPO 90 part Co 1.0 part Comparative example 4 B-10 60 part BPA 1 part PPO 120 part Co 0.8 part Comparative example 5 B-10 90 part NP 2 part PPO 90 part Mn 0.7 part

【0059】(A)B−10(旭チバ株式会社製商品名);2,
2-ビス(4-シアナトフェニル)プロパン M−10(旭チバ株式会社製商品名);ビス(3,5-ジメチル
-4-シアナトフェニル)メタン B−30(旭チバ株式会社製商品名);2,2-ビス(4-シア
ナトフェニル)プロパンのオリゴマ (B)PBP(和光純薬工業株式会社製);p−tert
−ブチルフェノール PAP(和光純薬工業株式会社製);p−tert−ア
ミルフェノール POP(和光純薬工業株式会社製);p−tert−オ
クチルフェノール NP(三井東圧化学株式会社製);ノニルフェノール BPA(三井東圧化学株式会社製);ビスフェノール
A、2,2-ビス(4-ヒドロキシフェニル)プロパン (C)PPO(ノニルPKN4752、日本ジーイープラ
スチックス株式会社製商品名);ポリフェニレンエーテ
ル樹脂 (D)Co;ナフテン酸コバルト(Co=8重量%、日本
化学産業株式会社製)の10重量%トルエン希釈溶液 Zn;ナフテン酸亜鉛(Zn=8重量%、日本化学産業
株式会社製)の10重量%トルエン希釈溶液 Mn;ナフテン酸マンガン(Mn=8重量%、日本化学
産業株式会社製)の10重量%トルエン希釈溶液
(A) B-10 (trade name, manufactured by Asahi Ciba Co., Ltd.);
2-bis (4-cyanatophenyl) propane M-10 (trade name, manufactured by Asahi Ciba Co., Ltd.); bis (3,5-dimethyl
-4-cyanatophenyl) methane B-30 (trade name, manufactured by Asahi Ciba Co., Ltd.); an oligomer of 2,2-bis (4-cyanatophenyl) propane (B) PBP (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.); p-tert
-Butylphenol PAP (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.); p-tert-amylphenol POP (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.); p-tert-octylphenol NP (manufactured by Mitsui Toatsu Chemicals, Inc.); Nonylphenol BPA (Mitsui Bisphenol A, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane (C) PPO (Nonyl PKN4752, trade name, manufactured by Nippon GE Plastics Co., Ltd.); Polyphenylene ether resin (D) Co; 10% by weight toluene diluted solution of cobalt naphthenate (Co = 8% by weight, manufactured by Nippon Chemical Industry Co., Ltd.) Zn; 10% by weight toluene diluted solution of zinc naphthenate (Zn = 8% by weight, manufactured by Nippon Chemical Industry Co., Ltd.) Mn: 10% by weight toluene of manganese naphthenate (Mn = 8% by weight, manufactured by Nippon Chemical Industry Co., Ltd.) Interpretation solution

【0060】つぎに、実施例1〜5のPETフィルム付
樹脂フィルムについて、樹脂フィルム単独での取扱性と
硬化後のフィルムの耐溶剤性の評価を行った。実施例1
のPETフィルム付樹脂フィルムからPETフィルムを
剥離し、得られた樹脂フィルムを12枚と、その上下に
電解銅箔の鏡面を剥離面として用いて重ね、200℃、
1.5MPaで1時間プレス成形を行い、厚さ約0.4
mmの変性シアネートエステル系樹脂の硬化フィルムを
作製した。同様にして実施例2〜5の樹脂フィルムをプ
レス成形してそれぞれの樹脂の硬化フィルムを作製し
た。また、比較例1のPETフィルム付樹脂フィルムに
ついて、樹脂フィルムをPETフィルムから剥離し、そ
の12枚と上下に電解銅箔の鏡面を剥離面として用いて
重ね、200℃、1.5MPaで1時間プレスし、厚さ
約0.4mmの樹脂成形フィルムを作製した。比較例2
のPETフィルム付樹脂フィルムについても同様に行っ
たが、比較例2のPETフィルム付樹脂フィルムは、シ
アネートエステル樹脂単独のフィルムであるためPET
フィルムを剥離しようとすると、樹脂フィルム自体が脆
いため割れてしまいフィルム単独で扱うことができなか
った。その結果、樹脂の硬化フィルムを作製することが
できなかった。
Next, with respect to the resin films with a PET film of Examples 1 to 5, the handleability of the resin film alone and the solvent resistance of the cured film were evaluated. Example 1
The PET film was peeled from the resin film with the PET film, and the obtained 12 resin films were stacked on top and bottom of each other using the mirror surface of the electrolytic copper foil as a peeling surface.
Press molding at 1.5 MPa for 1 hour, thickness about 0.4
A cured film of a modified cyanate ester resin having a thickness of 2 mm was prepared. Similarly, the resin films of Examples 2 to 5 were press-molded to produce cured films of the respective resins. Moreover, about the resin film with a PET film of the comparative example 1, the resin film was peeled off from the PET film, and the 12 sheets were superimposed on top and bottom using the mirror surface of the electrolytic copper foil as a peeling surface, and 200 ° C., 1.5 MPa for 1 hour. Pressing was performed to produce a resin molded film having a thickness of about 0.4 mm. Comparative Example 2
The same procedure was carried out for the resin film with a PET film of the above. However, since the resin film with a PET film of Comparative Example 2 was a film of a cyanate ester resin alone, PET was used.
When the film was to be peeled, the resin film itself was brittle and was broken, so that the film could not be handled alone. As a result, a cured resin film could not be produced.

【0061】上記の樹脂硬化フィルムを50mm角に切
断し、トルエン中に浸漬し室温で60分間放置した。実
施例1〜5の樹脂硬化フィルムは、膨潤あるいは外観に
変化が見られなかった。また、別に用意した実施例1〜
5の樹脂硬化フィルムの表面を、トルエン又はメチルエ
チルケトン(MEK)を含ませた布で数回擦ってフィル
ム表面の異常の有無を観察したが、実施例1〜5の樹脂
硬化フィルムでは、フィルム表面の異常は見られなかっ
た。以上のことから実施例1〜5の樹脂硬化フィルム
は、耐溶剤性が良好であることが確認できた。
The above cured resin film was cut into 50 mm square, immersed in toluene, and left at room temperature for 60 minutes. The resin cured films of Examples 1 to 5 did not show any swelling or change in appearance. In addition, Examples 1 to 1 prepared separately
5 was rubbed several times with a cloth impregnated with toluene or methyl ethyl ketone (MEK) to observe the film surface for abnormalities. In the resin cured films of Examples 1 to 5, No abnormalities were seen. From the above, it was confirmed that the resin cured films of Examples 1 to 5 had good solvent resistance.

【0062】同様に、比較例1の樹脂成形フィルムを5
0mm角に切断し、トルエン中に浸漬し室温で60分間
放置したところ、ポリフェニレンエーテル単独の樹脂成
形フィルムであるため膨潤し、一部は溶解してしまっ
た。また別の樹脂成形フィルムの表面をトルエンを含ま
せた布で数回擦ったところ、フィルムの表面が溶けてべ
たつきが発生した。また別の樹脂成形フィルムの表面を
メチルエチルケトン(MEK)を含ませた布で数回擦っ
たところ、フィルムにひびわれ(亀裂)が生じ、遂には
穴が明いて割れてしまった。以上の結果より、本発明の
変性シアネートエステル系樹脂フィルムは、フィルム単
独での取扱性が可能でありかつ耐溶剤性も良好であるこ
とが確認できた。
Similarly, the resin molded film of Comparative Example 1
When cut into 0 mm square, immersed in toluene and allowed to stand at room temperature for 60 minutes, it swelled and partially dissolved because it was a resin molded film of polyphenylene ether alone. When the surface of another resin molded film was rubbed several times with a cloth containing toluene, the surface of the film was melted and sticky occurred. When the surface of another resin molded film was rubbed several times with a cloth impregnated with methyl ethyl ketone (MEK), the film was cracked (cracked), and finally a hole was made and broken. From the above results, it was confirmed that the modified cyanate ester-based resin film of the present invention can be handled by the film alone and has good solvent resistance.

【0063】つぎに、実施例2〜5の変性シアネートエ
ステル系硬化性樹脂組成物ワニスを用いて無機充填剤を
添加した樹脂フィルムを作製し、その硬化物のGHz帯
での誘電特性、ガラス転移温度及び引張弾性率を測定し
た。
Next, a resin film to which an inorganic filler was added was prepared using the modified cyanate ester-based curable resin composition varnishes of Examples 2 to 5, and the dielectric properties and glass transition of the cured product in the GHz band were obtained. The temperature and tensile modulus were measured.

【0064】(実施例6)実施例2の変性シアネートエ
ステル系硬化性樹脂組成物ワニス170gに、無機充填
剤として平均粒径5μmの溶融シリカ粉25gを加え、
さらに直径1.0mmセラミックビーズ200gを投入
し、AIMEX社製ビーズミルを用いて1500rpm
で1時間混練した。混練後、ビーズをろ別したワニスを
バーコータの一種であるコンマ型コータを用いて厚さ5
0μmの離型剤付きのポリエチレンテレフタレート(P
ET)フィルム(ピューレックスA−63,株式会社帝
人製商品名)に塗工、乾燥(130℃)し、樹脂層(フ
ィラ入り)厚さ55〜60μmのPETフィルム付フィ
ラ入り樹脂フィルムを作製した。得られたフィラ入り樹
脂フィルムはカッタナイフで切断しても樹脂割れや粉落
ちがなく、取扱性に優れていた。
Example 6 To 170 g of the modified cyanate ester-based curable resin composition varnish of Example 2, 25 g of fused silica powder having an average particle size of 5 μm was added as an inorganic filler.
Further, 200 g of ceramic beads having a diameter of 1.0 mm were put thereinto, and 1500 rpm using a bead mill manufactured by AIMEX.
For 1 hour. After kneading, the varnish from which the beads were filtered out was applied to a thickness of 5 mm using a comma type coater which is a type of bar coater.
Polyethylene terephthalate with a release agent of 0 μm (P
ET) Film (Purex A-63, trade name, manufactured by Teijin Limited) was coated and dried (130 ° C) to produce a resin film with a PET film and a filler having a thickness of 55 to 60 µm with a resin layer (with a filler). . The obtained resin film with a filler was excellent in handleability without resin cracking or powder dropping even when cut with a cutter knife.

【0065】(実施例7)実施例3の変性シアネートエ
ステル系硬化性樹脂組成物ワニスを用いた以外は実施例
6と同様にして樹脂層(フィラ入り)厚さ55〜60μ
mのPETフィルム付フィラ入り樹脂フィルムを作製し
た。得られたフィラ入り樹脂フィルムはカッタナイフで
切断しても樹脂割れや粉落ちがなく、取扱性に優れてい
た。
Example 7 A resin layer (with filler) having a thickness of 55 to 60 μm was prepared in the same manner as in Example 6 except that the modified cyanate ester-based curable resin composition varnish of Example 3 was used.
m, a resin-filled resin film with a PET film was prepared. The obtained resin film with a filler was excellent in handleability without resin cracking or powder dropping even when cut with a cutter knife.

【0066】(実施例8)実施例4の変性シアネートエ
ステル系硬化性樹脂組成物ワニス170gに、無機充填
剤として平均粒径5μmの溶融シリカ粉40gを加え、
さらに直径1.0mmセラミックビーズ200gを投入
し、AIMEX社製ビーズミルを用いて1500rpm
で1時間混練した。混練後、ビーズをろ別したワニスを
バーコータの一種であるコンマ型コータを用いて厚さ5
0μmの離型剤処理PETフィルム(ピューレックスA
−63,株式会社帝人製商品名)に塗工、乾燥(130
℃)し、フィラ入り樹脂層厚さ50〜55μmのPET
フィルム付フィラ入り樹脂フィルムを作製した。得られ
たフィラ入り樹脂フィルムはカッタナイフで切断しても
樹脂割れや粉落ちがなく、取扱性に優れていた。
(Example 8) To 170 g of the modified cyanate ester-based curable resin composition varnish of Example 4, 40 g of fused silica powder having an average particle size of 5 µm was added as an inorganic filler.
Further, 200 g of ceramic beads having a diameter of 1.0 mm were put thereinto, and 1500 rpm using a bead mill manufactured by AIMEX.
For 1 hour. After kneading, the varnish from which the beads were filtered out was applied to a thickness of 5 mm using a comma type coater which is a type of bar coater.
0 μm release agent-treated PET film (Purex A
-63, Teijin Co., Ltd.), and dried (130
° C), and PET with a filler-containing resin layer thickness of 50 to 55 µm
A resin film containing a filler with a film was produced. The obtained resin film with a filler was excellent in handleability without resin cracking or powder dropping even when cut with a cutter knife.

【0067】(実施例9)実施例5の変性シアネートエ
ステル系硬化性樹脂組成物ワニスを用いた以外は実施例
8と同様にしてフィラ入り樹脂層厚さ55〜60μmの
PET付フィラ入り樹脂フィルムを作製した。得られた
フィラ入り樹脂フィルムはカッタナイフで切断しても樹
脂割れや粉落ちがなく、取扱性に優れていた。
(Example 9) A filler-containing resin film having a thickness of 55 to 60 µm in the same manner as in Example 8 except that the modified cyanate ester-based curable resin composition varnish of Example 5 was used. Was prepared. The obtained resin film with a filler was excellent in handleability without resin cracking or powder dropping even when cut with a cutter knife.

【0068】(比較例4)実施例1において、p−te
rt−オクチルフェノールの替わりに2,2−ビス(4
−ヒドロキシフェニル)プロパン(BPA;ビスフェノ
ールA、三井東圧化学株式会社製)1gを用いた以外は
実施例1と同様に反応させて変性シアネートエステル系
硬化性樹脂組成物ワニス(固形分濃度=29重量%)を
製造した。このワニスを用いて実施例6と同様にして溶
融シリカ粉と混練及び塗工し、フィラ入り樹脂層厚さ5
5〜60μmのPETフィルム付フィラ入り樹脂フィル
ムを作製した。得られた樹脂フィルムはカッタナイフで
切断しても樹脂割れや粉落ちがなく、取扱性に優れてい
た。
(Comparative Example 4) In Example 1, p-te
Instead of rt-octylphenol, 2,2-bis (4
-Hydroxyphenyl) propane (BPA; bisphenol A, a modified cyanate ester-based curable resin composition varnish (solid content = 29) was reacted in the same manner as in Example 1 except that 1 g of bisphenol A, manufactured by Mitsui Toatsu Chemicals, Inc. was used. % By weight). Using this varnish, kneading and coating with a fused silica powder were carried out in the same manner as in Example 6 to obtain a filler-containing resin layer having a thickness of 5 mm.
A resin film with a filler having a PET film of 5 to 60 μm was produced. The resin film obtained was excellent in handleability without resin cracking or powder dropping even when cut with a cutter knife.

【0069】(比較例5)実施例4において、p−te
rt−オクチルフェノールの替わりにノニルフェノール
(三井東圧化学株式会社製)2gを用いた以外は実施例
4と同様に反応させて変性シアネートエステル系硬化性
樹脂組成物ワニス(固形分濃度=30重量%)を製造し
た。このワニスを用いて実施例6と同様にして溶融シリ
カ粉と混練及び塗工し、フィラ入り樹脂層厚さ55〜6
0μmのPETフィルム付フィラ入り樹脂フィルムを作
製した。得られた樹脂フィルムはカッタナイフで切断し
ても樹脂割れや粉落ちがなく、取扱性に優れていた。
(Comparative Example 5) In Example 4, p-te
The same reaction as in Example 4 was carried out except that 2 g of nonylphenol (manufactured by Mitsui Toatsu Chemicals, Inc.) was used instead of rt-octylphenol, and a modified cyanate ester-based curable resin composition varnish (solid content concentration: 30% by weight) Was manufactured. Using this varnish, kneading and coating were performed with fused silica powder in the same manner as in Example 6, and the filler-containing resin layer thickness 55 to 6
A resin film with a filler having a PET film of 0 μm was prepared. The resin film obtained was excellent in handleability without resin cracking or powder dropping even when cut with a cutter knife.

【0070】実施例6のPETフィルム付きフィラ入り
樹脂フィルムからPETフィルムを剥離し、得られたフ
ィラ入り樹脂フィルム12枚とその上下に厚み18μm
電解銅箔を重ね、200℃、1.5MPaの条件で1時
間プレス成形を行い、厚さ約0.6mmの両面銅張樹脂
硬化物を作製した。同様にして実施例7〜9及び比較例
4、5のPETフィルム付きフィラ入り樹脂フィルムを
厚さ18μm電解銅箔とプレス成形してそれぞれの両面
銅張樹脂硬化物を作製した。
The PET film was peeled off from the filler-containing resin film with the PET film of Example 6, and the resulting 12 resin-filled resin films and a thickness of 18 μm above and below them.
Electrolytic copper foil was overlaid and press-molded at 200 ° C. and 1.5 MPa for 1 hour to prepare a cured product of double-sided copper-clad resin having a thickness of about 0.6 mm. In the same manner, the resin films with fillers with PET films of Examples 7 to 9 and Comparative Examples 4 and 5 were press-formed with an 18 μm-thick electrolytic copper foil to produce cured double-sided copper-clad resins.

【0071】次いで、これらの両面銅張樹脂硬化物から
線路長約200mmのトリプレート線路共振器を化学エ
ッチングにより作製し、ネットワークアナライザを用い
て1GHz帯の伝送損失を測定することにより、1GH
zでの誘電率及び誘電正接をもとめた。また、銅箔を全
て化学エッチングで除去し、フィラ入り樹脂の硬化物か
ら、試験片を切出して広域粘弾性測定装置(株式会社レ
オロジー製DVE)を用いて引張モード(周波数;10
Hz、昇温;5℃/min)でガラス転移温度(Tg)
と引張弾性率/40℃を測定した。それらの結果を表2
に示した。
Next, a triplate line resonator having a line length of about 200 mm was manufactured from the cured product of the double-sided copper-clad resin by chemical etching, and the transmission loss in the 1 GHz band was measured using a network analyzer.
The dielectric constant and the dielectric loss tangent at z were determined. In addition, the copper foil was entirely removed by chemical etching, a test piece was cut out from the cured resin containing filler, and a tensile mode (frequency: 10; using a wide area viscoelasticity measuring device (DVE manufactured by Rheology Co., Ltd.)) was used.
Hz, temperature rise; 5 ° C./min), glass transition temperature (Tg)
And tensile modulus / 40 ° C. were measured. Table 2 shows the results.
It was shown to.

【0072】[0072]

【表2】 項目 誘電特性(1GHz) カ゛ラス転移温度 引張弾性率 誘電率 誘電正接 (℃) (MPa) 実施例6 2.7 0.0044 172 4740 実施例7 2.7 0.0053 174 4780 実施例8 2.8 0.0041 180 5440 実施例9 2.8 0.0045 186 5560 比較例4 3.3 0.0110 186 4840 比較例5 3.5 0.0120 170 4220 [Table 2] Item Dielectric properties (1 GHz) Glass transition temperature Tensile modulus Dielectric constant Dielectric loss tangent (° C.) (MPa) Example 6 2.7 0.0044 172 4740 Example 7 2.7 0.0053 174 4780 Example 8 2.8 0.0041 180 5440 Example 9 2.8 0.0045 186 5560 Comparative Example 4 3.3 0.0110 186 4840 Comparative Example 5 3.5 0.0120 170 4220

【0073】表2より、本発明の変性シアネートエステ
ル系樹脂フィルムを用いたフィラー入り樹脂フィルム
は、シアネートエステル類化合物を特定の1価フェノー
ル類と反応させているために、GHz帯の誘電特性、特
に誘電正接が低く、さらに耐熱性の目安となるガラス転
移温度及び機械的特性も良好であることが確認できた。
From Table 2, it can be seen that the filler-containing resin film using the modified cyanate ester-based resin film of the present invention reacts a cyanate ester compound with a specific monohydric phenol to obtain a dielectric property in the GHz band. In particular, it was confirmed that the dielectric loss tangent was low, and that the glass transition temperature and mechanical properties, which serve as a measure of heat resistance, were also good.

【0074】次に、実施例2〜4の変性シアネートエス
テル系硬化性樹脂組成物ワニスをそれぞれ用いて銅箔付
き樹脂フィルムを作製し、印刷配線板用多層材料として
の特性を評価した。
Next, a resin film with a copper foil was prepared using each of the varnishes of the modified cyanate ester-based curable resin compositions of Examples 2 to 4, and the properties as multilayer materials for printed wiring boards were evaluated.

【0075】(実施例10〜12)実施例2〜4の変性
シアネートエステル系硬化性樹脂組成物ワニスをバーコ
ータの一種であるコンマ型コータを用いて厚さ18μm
の電解銅箔の粗化面に塗工、乾燥(130℃)して、樹
脂層厚さ60〜70μmの銅箔付樹脂フィルムをそれぞ
れのワニスについて作製した。得られた樹脂フィルムは
カッタナイフで切断しても樹脂割れや粉落ちがなく、取
扱性に優れていた。
(Examples 10 to 12) The modified cyanate ester-based curable resin composition varnishes of Examples 2 to 4 were coated with a comma-type coater, which is a type of bar coater, to a thickness of 18 μm.
Was applied to the roughened surface of the electrolytic copper foil and dried (130 ° C.) to prepare a resin film with a copper foil having a resin layer thickness of 60 to 70 μm for each varnish. The resin film obtained was excellent in handleability without resin cracking or powder dropping even when cut with a cutter knife.

【0076】次いで、導体回路を形成したガラス布基材
エポキシ樹脂銅張積層板(基材厚さ;0.1mm)を内
層回路板(回路用銅箔厚さ;18μm)とし、その両面
に実施例10〜12の銅箔付き樹脂フィルムを、樹脂層
が内層回路に接するように重ね、200℃、2.5MP
aの条件で60分間プレス成形して4層配線板を作製し
た。
Next, an epoxy resin copper-clad laminate of glass cloth base material (base material thickness: 0.1 mm) on which a conductive circuit was formed was used as an inner layer circuit board (copper foil thickness for circuit; 18 μm), and the test was performed on both surfaces thereof. The resin films with copper foil of Examples 10 to 12 were overlaid so that the resin layer was in contact with the inner layer circuit, and 200 ° C., 2.5MP
Press molding was performed under the conditions of a for 60 minutes to produce a four-layer wiring board.

【0077】(比較例6)比較例5のワニスを用いて、
実施例10〜12と同様に、樹脂層厚さ60〜70μm
の銅箔付樹脂フィルムを作製し、ついでそれを用いて同
様に4層配線板を作製した。
Comparative Example 6 Using the varnish of Comparative Example 5,
As in Examples 10 to 12, resin layer thickness 60 to 70 μm
Was prepared, and then a four-layer wiring board was prepared in the same manner.

【0078】(比較例7)実施例10〜12で用いたと
同じガラス布基材エポキシ樹脂銅張積層板を内層回路板
とし、その両面に、公称厚さ70μmの多層配線板用ガ
ラス布基材エポキシ樹脂プリプレグ(FR−4グレー
ド)1枚と18μm厚みの電解銅箔を積層し、180
℃、2.5MPaの条件で60分間プレス成形して4層
配線板を作製した。
(Comparative Example 7) The same glass cloth base material as used in Examples 10 to 12 was used as the inner layer circuit board, and on both sides thereof, a glass cloth base material for a multilayer wiring board having a nominal thickness of 70 μm. One layer of epoxy resin prepreg (FR-4 grade) and 18 μm thick electrolytic copper foil are laminated,
Press molding was performed at 2.5 ° C. for 60 minutes to prepare a four-layer wiring board.

【0079】実施例10〜12及び比較例6、7の4層
印刷配線板について、以下に示す方法により成形性(ボ
イドやカスレの有無)、はんだ耐熱性及び銅箔ピール強
さを評価した。その結果を表3に示した。
With respect to the four-layer printed wiring boards of Examples 10 to 12 and Comparative Examples 6 and 7, the moldability (the presence or absence of voids and blurring), solder heat resistance and copper foil peel strength were evaluated by the following methods. Table 3 shows the results.

【0080】<特性評価方法> ・成形性;4層配線板の外層銅箔を化学エッチングによ
って全て除去し、目視にて内層回路への樹脂の充填性
(ボイドやカスレの有無)を評価した。 ・はんだ耐熱性:外層銅箔付きの50mm角4層板を2
60℃の溶融はんだに浮かべ、ふくれが発生するまでの
時間を測定した。 ・銅箔ピール強さ:JIS−C−6481に準拠して測
定した。 ・耐燃性:FR−4グレードの0.2mm厚基板の銅箔
を全面エッチングし、その両側に実施例または比較例の
銅箔付き樹脂フィルムをプレス成形した試験片を作製
し、UL−94垂直試験法に準拠して測定した。
<Characteristics Evaluation Method> Formability: The outer layer copper foil of the four-layer wiring board was completely removed by chemical etching, and the filling property of resin into the inner layer circuit (the presence or absence of voids and blurring) was visually evaluated.・ Solder heat resistance: Two 50mm square 4-layer plates with outer copper foil
Floating on the molten solder at 60 ° C., and the time until blistering was measured. -Copper foil peel strength: Measured according to JIS-C-6481. -Flame resistance: FR-4 grade 0.2 mm thick copper foil was etched over its entire surface, and a test piece was prepared by pressing both sides of the resin film with copper foil of the example or the comparative example, and UL-94 vertical. It was measured according to the test method.

【0081】[0081]

【表3】 項目 成形性 はんだ耐熱性(秒) ピール強さ(KN/m) 実施例10 ホ゛イト゛、カスレ無し >180 1.5 実施例11 ホ゛イト゛、カスレ無し >180 1.5 実施例12 ホ゛イト゛、カスレ無し >180 1.6 比較例 6 ホ゛イト゛、カスレ無し 59 1.2 比較例 7 ホ゛イト゛、カスレ無し >180 1.5 [Table 3] Item Moldability Solder heat resistance (sec) Peel strength (KN / m) Example 10 Wheel, no blur> 180 1.5 Example 11 wheel, no blur> 180 1.5 Example 12 wheel, no blur> 180 1.6 Comparative Example 6 White, no blur 59 1.2 Comparative Example 7 White, no blur> 180 1.5

【0082】表3から明らかなように、実施例10〜1
2の銅箔付き樹脂フィルムは多層配線板材料として成形
性が良好であり、かつ変性シアネートエステル系樹脂を
特定の1価フェノール化合物と反応させたことにより本
発明の銅箔付き樹脂フィルムを用いた4層配線板は、は
んだ耐熱性が良好であり、従来のガラス布を基材に用い
た接着用プリプレグと同様の特性を持っていることが確
認できた。
As apparent from Table 3, Examples 10 to 1
The resin film with a copper foil of No. 2 has good moldability as a multilayer wiring board material, and the resin film with a copper foil of the present invention was used by reacting a modified cyanate ester-based resin with a specific monohydric phenol compound. It was confirmed that the four-layer wiring board had good soldering heat resistance, and had the same properties as the adhesive prepreg using the conventional glass cloth as the base material.

【0083】[0083]

【発明の効果】本発明の変性シアネートエステル系樹脂
フィルムは、フィルム単独での取扱性が可能で耐溶剤性
に優れ、かつその硬化物は高周波帯域での誘電率や誘電
正接が低く、ガラス転移温度や弾性率が高く、さらには
多層配線板材料として、成形性、はんだ耐熱性及び銅箔
ピール強さなども良好であるので、高速デジタル信号や
無線通信関連の高周波信号を扱う機器に用いる印刷配線
板の、特にビルドアップ積層方式による製造に好適な絶
縁性樹脂フィルムである。本発明の樹脂フィルムを用い
ることにより、コンピュータの高速化や高周波関連機器
の低損失化に適した印刷配線板を容易に製造することが
可能となる。
The modified cyanate ester-based resin film of the present invention can be handled by itself and has excellent solvent resistance, and the cured product has a low dielectric constant and dielectric loss tangent in a high frequency band, and has a glass transition. High temperature and elastic modulus, and good moldability, solder heat resistance, copper foil peel strength, etc. as a multilayer wiring board material, so printing used in equipment that handles high-speed digital signals and high-frequency signals related to wireless communication It is an insulating resin film suitable for manufacturing a wiring board, particularly by a build-up lamination method. By using the resin film of the present invention, it becomes possible to easily manufacture a printed wiring board suitable for increasing the speed of a computer and reducing the loss of high-frequency related equipment.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 根岸 春巳 茨城県下館市大字小川1500番地 日立化成 工業株式会社下館工場内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Harumi Negishi 1500 Ogawa Oji, Shimodate City, Ibaraki Pref.Hitachi Chemical Industry Co., Ltd.

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 (A)式(1)で示されるシアネートエ
ステル類化合物と、(B)式(2)で示される1価フェ
ノール類化合物、(C)ポリフェニレンエーテル樹脂及
び(D)金属系反応触媒を必須成分として含有する変性
シアネートエステル系硬化性樹脂組成物を半硬化もしく
は硬化してなる変性シアネートエステル系樹脂フィル
ム。 【化1】 【化2】
(A) a cyanate ester compound represented by the formula (1), (B) a monohydric phenol compound represented by the formula (2), (C) a polyphenylene ether resin, and (D) a metal-based reaction. A modified cyanate ester-based resin film obtained by semi-curing or curing a modified cyanate ester-based curable resin composition containing a catalyst as an essential component. Embedded image Embedded image
【請求項2】 変性シアネートエステル系硬化性樹脂組
成物が、(A)シアネートエステル類化合物の100重
量部に対して、(B)1価フェノール類化合物を4〜3
0重量部、(C)ポリフェニレンエーテル樹脂5〜50
0重量部及び(D)金属系反応触媒を(A)シアネート
エステル類化合物1gに対し1〜300ppmを配合し
た硬化性樹脂組成物である請求項1に記載の変性シアネ
ートエステル系樹脂フィルム。
2. The modified cyanate ester-based curable resin composition is prepared by adding (B) a monohydric phenol compound to 4 to 3 parts by weight of 100 parts by weight of (A) a cyanate ester compound.
0 parts by weight, (C) 5 to 50 polyphenylene ether resin
The modified cyanate ester resin film according to claim 1, wherein the curable resin composition is a curable resin composition in which 0 parts by weight and (D) 1 to 300 ppm of a metal reaction catalyst (A) are added to 1 g of the cyanate ester compound.
【請求項3】 変性シアネートエステル系硬化性樹脂組
成物が、(A)シアネートエステル類化合物と(B)1
価フェノール類化合物の一部又は全部を反応させて得ら
れる変性シアネートエステル樹脂と、(C)ポリフェニ
レンエール樹脂及び(D)金属系反応触媒を必須成分と
して含有する変性シアネートエステル系硬化性樹脂組成
物である請求項1または請求項2に記載の変性シアネー
トエステル系樹脂フィルム。
3. The modified cyanate ester-based curable resin composition comprises (A) a cyanate ester compound and (B) 1
Cyanate ester-based curable resin composition containing (C) polyphenylene ale resin and (D) metal-based reaction catalyst as essential components The modified cyanate ester-based resin film according to claim 1 or 2, wherein
【請求項4】 (A)シアネートエステル類化合物が、
2,2−ビス(4−シアナトフェニル)プロパンまたは
2,2−ビス(3,5−ジメチル−4−シアナトフェニ
ル)メタンのいずれか1種以上である請求項1ないし請
求項3のいずれかに記載の変性シアネートエステル系樹
脂フィルム。
4. The method according to claim 1, wherein (A) the cyanate ester compound is
4. The method according to claim 1, wherein the compound is at least one of 2,2-bis (4-cyanatophenyl) propane and 2,2-bis (3,5-dimethyl-4-cyanatophenyl) methane. A modified cyanate ester-based resin film as described in the above item.
【請求項5】 (B)1価フェノール類化合物が、p−
tert−ブチルフェノール、p−tert−アミルフ
ェノールまたはp−tert−オクチルフェノールのう
ちいずれか1種類以上である請求項1ないし請求項4の
いずれかに記載の変性シアネートエステル系樹脂フィル
ム。
5. The method according to claim 1, wherein (B) the monohydric phenol compound is p-
The modified cyanate ester-based resin film according to any one of claims 1 to 4, wherein the modified cyanate ester-based resin film is at least one of tert-butylphenol, p-tert-amylphenol, and p-tert-octylphenol.
【請求項6】 (C)ポリフェニレンエーテル樹脂が、
ポリ(2,6−ジメチル−1,4−フェニレル)エーテ
ルとポリスチレンまたはスチレン−ブタジエンコポリマ
とのアロイ化ポリマであって、ポリ(2,6−ジメチル
−1,4−フェニレル)エーテルを50重量%以上含有
する請求項1ないし請求項5のいずれかに記載の変性シ
アネートエステル系樹脂フィルム。
6. The polyphenylene ether resin (C),
An alloyed polymer of poly (2,6-dimethyl-1,4-phenyler) ether and polystyrene or styrene-butadiene copolymer, wherein poly (2,6-dimethyl-1,4-phenyler) ether is 50% by weight. The modified cyanate ester-based resin film according to any one of claims 1 to 5, which contains the above.
【請求項7】 (D)金属系反応触媒が、マンガン、
鉄、コバルト、ニッケル、銅または亜鉛の2−エチルヘ
キサン酸塩、ナフテン酸塩若しくはアセチルアセトン錯
体から選ばれる1種類以上である請求項1ないし請求項
6のいずれかに記載の変性シアネートエステル系樹脂フ
ィルム。
7. (D) The metal-based reaction catalyst is manganese,
7. The modified cyanate ester-based resin film according to claim 1, which is at least one selected from 2-ethylhexanoate, naphthenate and acetylacetone complex of iron, cobalt, nickel, copper or zinc. .
【請求項8】 請求項1ないし請求項7のいずれかに記
載の変性シアネートエステル系硬化性樹脂組成物と溶剤
を含むワニスを支持基材の片面に流延塗布し、加熱乾燥
により溶剤を除去し製膜することを特徴とする変性シア
ネートエステル系樹脂フィルムの製造方法。
8. A varnish containing the modified cyanate ester-based curable resin composition according to claim 1 and a solvent is applied to one surface of a supporting substrate by casting, and the solvent is removed by heating and drying. A method for producing a modified cyanate ester-based resin film, comprising forming a film.
【請求項9】 請求項1ないし請求項7のいずれかに記
載の変性シアネートエステル系硬化性樹脂組成物におい
て、(C)ポリフェニレンエーテル樹脂の溶剤溶液中
で、(A)シアネートエステル類化合物と(B)1価フ
ェノール類化合物の反応を行いワニスを作製し、支持基
材の片面に流延塗布し、加熱乾燥により溶剤を除去し製
膜することを特徴とする変性シアネートエステル系樹脂
フィルムの製造方法。
9. The modified cyanate ester-based curable resin composition according to any one of claims 1 to 7, wherein (A) a cyanate ester compound and (A) a solvent solution of a polyphenylene ether resin. B) Manufacture of a modified cyanate ester resin film characterized by reacting a monohydric phenol compound to produce a varnish, casting and applying the varnish to one surface of a support substrate, removing the solvent by heating and drying, and forming a film. Method.
【請求項10】 請求項1ないし請求項7のいずれかに
記載の変性シアネートエステル系硬化性樹脂組成物にお
いて、(C)ポリフェニレンエーテル樹脂の芳香族炭化
水素系溶剤溶液中で、(A)シアネートエステル類化合
物と(B)1価フェノール類化合物の反応を行いワニス
を作製する請求項9または請求項10に記載の変性シア
ネートエステル系樹脂フィルムの製造方法。
10. The modified cyanate ester-based curable resin composition according to any one of claims 1 to 7, wherein (A) cyanate in a solution of the polyphenylene ether resin in an aromatic hydrocarbon solvent. The method for producing a modified cyanate ester-based resin film according to claim 9 or 10, wherein a varnish is produced by reacting the ester compound with the (B) monohydric phenol compound.
【請求項11】 請求項1ないし請求項7のいずれかに
記載の変性シアネートエステル系硬化性樹脂組成物にお
いて、(C)ポリフェニレンエーテル樹脂の芳香族炭化
水素系溶剤溶液中で、(A)シアネートエステル類化合
物と(B)1価フェノール類化合物の反応を行い、さら
にケトン系溶剤を配合してワニスを作製する請求項8な
いし請求項10のいずれかに記載の変性シアネートエス
テル系樹脂フィルムの製造方法。
11. The modified cyanate ester-based curable resin composition according to any one of claims 1 to 7, wherein (C) a cyanate ester solution in a solution of a polyphenylene ether resin in an aromatic hydrocarbon solvent. The production of the modified cyanate ester resin film according to any one of claims 8 to 10, wherein the ester compound is reacted with the (B) monohydric phenol compound, and a varnish is prepared by further mixing a ketone solvent. Method.
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