JP2011208150A - Modified cyanate ester based resin composition, resin film and multilayer printed wiring board using the same, and method for manufacturing them - Google Patents

Modified cyanate ester based resin composition, resin film and multilayer printed wiring board using the same, and method for manufacturing them Download PDF

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恭 神代
Takayuki Sueyoshi
隆之 末吉
Koji Morita
高示 森田
Shigeo Sase
茂雄 佐瀬
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resin composition having excellent moisture resistance, heat resistance, solvent resistance and chemical resistance, suited for a build-up lamination system, achieving low loss of a high-frequency circuit, and having excellent moldability such as a circuit filling property, and a resin film and a multilayer printed wiring board using the same.SOLUTION: The modified cyanate ester based resin composition includes (A) a cyanate ester compound, (B) phenols, (C) a polyphenylene oxide, (D) a metal compound catalyst, and (E) an epoxy resin, or (A') a modified cyanate ester based resin formed by modifying (A) with (B), (C), (D), and (E). The resin film and the multilayer printed wiring board use the resin. A method for manufacturing them is also disclosed.

Description

本発明は、印刷配線板における絶縁層の形成に用いられる変性シアネートエステル系樹脂組成物に関し、また、該樹脂組成物から得られる樹脂フィルムおよび多層プリント配線板に関する。さらに、本発明は、それらの樹脂フィルムおよび多層プリント配線板の製造方法に関する。   The present invention relates to a modified cyanate ester resin composition used for forming an insulating layer in a printed wiring board, and also relates to a resin film and a multilayer printed wiring board obtained from the resin composition. Furthermore, this invention relates to the manufacturing method of those resin films and multilayer printed wiring boards.

電子機器の小型・高機能化に伴い、印刷配線板に用いるための、薄型・軽量で、かつ高密度配線が可能な基板材料が求められられるようになってきた。また、近年、小径でかつ必要な層間のみを非貫通穴で接続するIVH構造のビルドアップ積層方式の印刷配線板が開発され、急速に普及が進んでいる。ビルドアップ積層方式の印刷配線板の絶縁層には、ガラス布のような基材を含まない耐熱性樹脂が用いられ、IVH用の穴は、感光性樹脂を利用したホトリソグラフィーによるか、または熱硬化性樹脂をレーザ加工機によって熱分解するなどの方法によって形成されている。   Along with the downsizing and high functionality of electronic devices, there has been a demand for a substrate material that can be used in printed wiring boards and that is thin, lightweight, and capable of high-density wiring. In recent years, a printed wiring board having a build-up laminate system having a small diameter and connecting only necessary layers with non-through holes has been developed and is rapidly spreading. The insulating layer of the build-up laminated printed wiring board is made of a heat-resistant resin that does not contain a substrate such as glass cloth, and the hole for IVH is formed by photolithography using a photosensitive resin or by heat. It is formed by a method such as thermally decomposing a curable resin with a laser processing machine.

さらに近年では、大量のデータを高速で処理するために、コンピュータや情報機器端末などで、信号の高周波化が進んでいる。用いる周波数が高くなるにつれて、電気信号の伝送損失が大きくなる。それに対応するために、高周波化に対応した誘電特性を有する印刷配線板の開発が、強く求められている。   Furthermore, in recent years, in order to process a large amount of data at high speed, the frequency of signals has been increased in computers and information equipment terminals. As the frequency used increases, the transmission loss of electrical signals increases. In order to cope with this, there is a strong demand for the development of a printed wiring board having dielectric characteristics corresponding to higher frequencies.

高周波回路における伝送損失は、配線まわりの絶縁層(誘電体)の誘電特性で決まる誘電体損の影響が大きく、印刷配線板用基板(特に絶縁樹脂)の誘電率および誘電正接(tanδ)を低くすることが必要となる。たとえば移動体通信関連の機器では、信号の高周波化に伴い、準マイクロ波帯(1〜3GHz)における伝送損失を少なくするために、誘電正接の低い基板が強く望まれるようになっている。   Transmission loss in high-frequency circuits is greatly affected by dielectric loss determined by the dielectric properties of the insulating layer (dielectric) around the wiring, and the dielectric constant and dielectric loss tangent (tanδ) of the printed wiring board substrate (especially insulating resin) are low. It is necessary to do. For example, in devices related to mobile communication, a substrate having a low dielectric loss tangent is strongly desired in order to reduce transmission loss in the quasi-microwave band (1 to 3 GHz) as the frequency of signals increases.

さらにコンピュータなどの電子情報機器では、動作周波数が1GHzを越える高速マイクロプロセッサが搭載されるようになり、印刷配線板における高速パルス信号の遅延が問題になってきた。印刷配線板では、信号の遅延時間が、配線まわりの絶縁物の比誘電率εrの平方根に比例して長くなるため、高速コンピュータなどでは、誘電率の低い配線板用基板が求められている。 Furthermore, electronic information devices such as computers are equipped with high-speed microprocessors having an operating frequency exceeding 1 GHz, and delay of high-speed pulse signals on printed wiring boards has become a problem. In a printed wiring board, the signal delay time becomes longer in proportion to the square root of the dielectric constant ε r of the insulator around the wiring. Therefore, a high-speed computer or the like requires a wiring board substrate having a low dielectric constant. .

さらにこれらの配線板には、使用される環境の温度および湿度に影響を受けにくいこと、すなわち耐熱性および耐湿性が必要である。これらの特性に関して、プレッシャークッカ試験(PCT)の恒温恒湿槽を利用した耐湿試験、ならびに耐湿試験を行った試験片の耐熱性試験が課せられる場合がある。   Furthermore, these wiring boards need to be resistant to the temperature and humidity of the environment in which they are used, that is, heat resistance and moisture resistance. With respect to these characteristics, a moisture resistance test using a constant temperature and humidity chamber of a pressure cooker test (PCT) and a heat resistance test of a test piece subjected to the moisture resistance test may be imposed.

以上のような印刷配線板の技術動向に対応して、高周波帯域における誘電率と誘電正接が低いばかりでなく、前述のビルドアップ積層方式印刷配線板の製造に適し、かつ耐熱性および耐湿性に優れた絶縁フィルムが必要となってきた。   Corresponding to the above-mentioned technological trends in printed wiring boards, not only the dielectric constant and dielectric loss tangent in the high-frequency band are low, but also suitable for manufacturing the above-mentioned build-up laminated printed wiring boards, as well as heat resistance and moisture resistance. An excellent insulating film has become necessary.

従来から、誘電特性が良好なフィルム材料として、耐熱性熱可塑性樹脂(エンジニアリング・プラスチック)であるポリフェニレンオキシド(PPOまたはPPE)系樹脂が知られている。しかしながら、印刷配線板用の絶縁材料に適用するためには、実装時のはんだ接続工程に耐えられる耐熱性と、印刷配線板製造その他の工程に耐えられる耐溶媒性・耐薬品性などの改善が必要である。   Conventionally, a polyphenylene oxide (PPO or PPE) resin, which is a heat-resistant thermoplastic resin (engineering plastic), is known as a film material having good dielectric properties. However, in order to apply to insulating materials for printed wiring boards, improvements in heat resistance that can withstand the solder connection process during mounting, solvent resistance and chemical resistance that can withstand printed wiring board manufacturing and other processes, etc. is necessary.

そこで、耐熱性や耐溶媒性を改善する方法として、ポリフェニレンオキシドを熱硬化性樹脂で変性する方法が提案されている。たとえば、そのような樹脂フィルムとして、特公平1-53700号公報に開示されているように、ポリフェニレンオキシドに、熱硬化性樹脂の中では最も誘電率が低いシアネートエステル樹脂を配合した硬化性樹脂組成物を用いるポリフェニレンオキシド系フィルムがある。   Therefore, a method of modifying polyphenylene oxide with a thermosetting resin has been proposed as a method for improving heat resistance and solvent resistance. For example, as such a resin film, as disclosed in Japanese Patent Publication No. 1-53700, a curable resin composition in which polyphenylene oxide and a cyanate ester resin having the lowest dielectric constant among thermosetting resins are blended. There is a polyphenylene oxide film using a product.

しかしながら、このような樹脂組成物からなるフィルムは、樹脂同士の相溶性が悪いという問題点があり、硬化性樹脂としてシアネートエステル樹脂を単独で用いているため、樹脂硬化物の誘電特性は、誘電率が後述の他の組成物よりは比較的良好ではあるものの、誘電正接が誘電率の値の割に高いという傾向があり、高周波特性(特に伝送損失の低減)が不十分である。   However, a film made of such a resin composition has a problem that the compatibility between the resins is poor, and a cyanate ester resin is used alone as the curable resin. Although the rate is relatively better than the other compositions described later, the dielectric loss tangent tends to be higher than the value of the dielectric constant, and the high-frequency characteristics (particularly, reduction of transmission loss) are insufficient.

同様にシアネートエステル系の変性樹脂を用いる樹脂組成物としては、特公昭63-33506号公報に開示されているビスマレイミド/シアネートエステル変性樹脂とポリフェニレンオキシドとの樹脂組成物、および特開平5-311071号公報に開示されている変性フェノール樹脂/シアネートエステル系樹脂とポリフェニレンオキシドとの樹脂組成物などがある。   Similarly, as a resin composition using a cyanate ester-based modified resin, a resin composition of a bismaleimide / cyanate ester-modified resin and polyphenylene oxide disclosed in JP-B-63-33506, and JP-A-5-311071 are disclosed. And a resin composition of a modified phenolic resin / cyanate ester-based resin and polyphenylene oxide, which are disclosed in Japanese Laid-Open Patent Publication No. H11.

しかしながら、このような方法による樹脂組成物は、ポリフェニレンオキシドを変性する熱硬化性樹脂が、ビスマレイミド/シアネートエステル変性樹脂や変性フェノール樹脂/シアネートエステル系樹脂であるため、ポリフェニレンオキシドに対する相溶性が若干良好になるものの、シアネートエステル樹脂以外の他の熱硬化性樹脂を含有しているため、樹脂硬化物の誘電特性は、シアネートエステル樹脂単独で変性された樹脂よりも悪く、その結果、総合的には高周波特性がさらに不十分である。   However, the resin composition obtained by such a method is slightly compatible with polyphenylene oxide because the thermosetting resin for modifying polyphenylene oxide is a bismaleimide / cyanate ester modified resin or a modified phenol resin / cyanate ester resin. Although it becomes better, since it contains other thermosetting resin other than cyanate ester resin, the dielectric properties of the cured resin are worse than the resin modified with cyanate ester resin alone. Has further insufficient high-frequency characteristics.

また、熱可塑性樹脂であるポリフェニレンオキシド系樹脂に、熱硬化性を付与して耐熱性や耐溶媒性を改善するものとしては、特開平3−166225号公報に開示されている、ポリフェニレンオキシドと架橋性ポリマーおよび/またはモノマーとの樹脂組成物を流延して得られるフィルム、および特開平7-188362号公報に開示されている、不飽和基を有する特定の硬化性ポリフェニレンオキシドを適度に架橋させて得られるフィルムなどがある。   Moreover, as what improves thermostability and solvent resistance by imparting thermosetting property to a polyphenylene oxide resin which is a thermoplastic resin, it is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 3-166225, which is crosslinked with polyphenylene oxide. A film obtained by casting a resin composition with a polymerizable polymer and / or a monomer, and a specific curable polyphenylene oxide having an unsaturated group disclosed in JP-A-7-188362 There are films that can be obtained.

しかしながら、特開平3−166255号公報に開示されている方法は、ポリトリアリルイソシアヌラートやスチレンブタジエン共重合体のような架橋性ポリマーおよび/またはトリアリルイソシアヌラートのような架橋性モノマーを、ポリフェニレンオキシドに配合することにより、熱硬化性(ラジカル重合性)を付与しているが、配合する架橋性のポリマーおよびモノマーが極性の高い化合物であるため、未反応で残存する少量成分のために、樹脂硬化物の誘電特性が悪い。   However, the method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 3-166255 uses a crosslinkable polymer such as polytriallyl isocyanurate and styrene butadiene copolymer and / or a crosslinkable monomer such as triallyl isocyanurate. , By adding it to polyphenylene oxide, it gives thermosetting (radical polymerizability), but because the crosslinkable polymer and monomer to be blended are highly polar compounds, it is a small component that remains unreacted. Furthermore, the dielectric properties of the cured resin are poor.

また、特開平7-188362号公報に開示されている方法は、ポリフェニレンオキシド自身にアリル基などの不飽和基を導入したポリマーを用いるものである。該ポリマーは、本来、熱可塑性樹脂であるポリフェニレンオキシドの誘導体が主体となっているために溶融粘度が高いことに加えて、不飽和基のラジカル重合性を利用しているので連鎖反応的に一気に硬化が進むために、硬化時の最低溶融粘度が高く、かつ溶融粘度の上昇率も大きい。そのため、プレス成形の際に樹脂が充分に流動化できない。その結果、ボイドが発生して、回路充填性が不充分となり、また、多層化接着工程でのプレス条件の管理幅が狭くなるため、成形性が悪い。   In addition, the method disclosed in JP-A-7-188362 uses a polymer in which an unsaturated group such as an allyl group is introduced into polyphenylene oxide itself. Since the polymer is mainly composed of a derivative of polyphenylene oxide, which is a thermoplastic resin, it has a high melt viscosity and, in addition, utilizes radical polymerization of unsaturated groups. As curing proceeds, the minimum melt viscosity at the time of curing is high and the rate of increase in melt viscosity is also large. Therefore, the resin cannot be sufficiently fluidized during press molding. As a result, voids are generated, the circuit filling property becomes insufficient, and the control range of the press conditions in the multi-layer bonding process is narrowed, so that the moldability is poor.

このような状況を解決するために、本発明者らは、先に印刷配線板用樹脂組成物として、特定のシアネートエステル樹脂を1価フェノール類で変性した組成物を用いる方法(特開平10−273532号公報、特開平11−124452号公報および特開平11−124453号公報参照)を提案した。この方法によれば、特定のシアネートエステル樹脂を1価フェノール類で変性することにより、高周波(GHz)帯域における誘電特性に優れ、特に誘電正接が低い樹脂組成物を得ることができる。しかしながら、これら樹脂組成物を多層配線板材料として用いた場合に、厳しい環境下における耐湿性試験で、剥離を生じる傾向があった。   In order to solve such a situation, the present inventors previously used a method in which a specific cyanate ester resin is modified with a monohydric phenol as a resin composition for a printed wiring board (Japanese Patent Laid-Open No. Hei 10-2010). No. 273532, Japanese Patent Laid-Open Nos. 11-124453, and 11-124453 have been proposed. According to this method, by modifying a specific cyanate ester resin with a monohydric phenol, it is possible to obtain a resin composition having excellent dielectric characteristics in a high frequency (GHz) band and particularly having a low dielectric loss tangent. However, when these resin compositions are used as a multilayer wiring board material, peeling tends to occur in a moisture resistance test under a severe environment.

本発明の課題は、以上の状況に対応して、耐熱性、耐湿性、耐溶媒性および耐薬品性が良好で、かつ印刷配線板の薄形・軽量化と高密度化に有効なビルドアップ積層方式に適した絶縁フィルムを形成して、高周波帯域での誘電率および誘電正接が低く、高周波回路の低損失性を実現でき、しかも耐熱性、耐湿性および回路充填性などの成形性が良好な硬化性樹脂組成物、ならびにそれを用いた樹脂フィルムおよび多層プリント配線板、およびそれらの製造方法を提供することである。   The subject of the present invention is a build-up that has good heat resistance, moisture resistance, solvent resistance, and chemical resistance in response to the above situation, and is effective for reducing the thickness, weight and density of printed wiring boards. Forming an insulating film suitable for the lamination method, low dielectric constant and dielectric loss tangent in the high frequency band, low loss of high frequency circuits, and good moldability such as heat resistance, moisture resistance and circuit fillability Curable resin composition, resin film and multilayer printed wiring board using the same, and production method thereof

本発明は、
(A)1分子中に少なくとも2個のシアナト基を有するシアネートエステル化合物;
(B)フェノール類;
(C)熱可塑性樹脂;および
(D)エポキシ樹脂
を含むことを特徴とする変性シアネートエステル系樹脂組成物に関する。特に、
(A)が、一般式〔1〕:
The present invention
(A) a cyanate ester compound having at least two cyanato groups in one molecule;
(B) phenols;
The present invention relates to a modified cyanate ester-based resin composition comprising (C) a thermoplastic resin; and (D) an epoxy resin. In particular,
(A) is represented by the general formula [1]:

Figure 2011208150
Figure 2011208150

(式中、R1は、 (Wherein R 1 is

Figure 2011208150
Figure 2011208150

を表し;そして
2およびR3は、たがいに同一でも異なっていてもよく、水素またはメチル基を表す);
で示されるシアネートエステル化合物である、変性シアネートエステル系樹脂組成物に関し;また、
(B)が、一般式〔2〕:
And R 2 and R 3 may be the same or different and each represents hydrogen or a methyl group);
A modified cyanate ester-based resin composition which is a cyanate ester compound represented by:
(B) is represented by the general formula [2]:

Figure 2011208150
Figure 2011208150

(式中、R4およびR5は、たがいに同一でも異なっていてもよく、水素原子またはメチル基を表し;そして
nは1または2である)
で示される1価フェノール類である、変性シアネートエステル系樹脂組成物に関し;さらに、
(C)が、ポリフェニレンオキシドである、変性シアネートエステル系樹脂組成物に関する。
(Wherein R 4 and R 5 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a methyl group; and n is 1 or 2)
A modified cyanate ester-based resin composition, which is a monohydric phenol represented by:
(C) relates to a modified cyanate ester-based resin composition, which is polyphenylene oxide.

また、本発明は、(A)1分子中に少なくとも2個のシアナト基を有するシアネートエステル化合物と、(B)フェノール類とを反応させて得られる(A′)変性シアネートエステル樹脂シアネートエステル化合物を、(C)、(D)および(E)とともに含む変性シアネートエステル系樹脂組成物に関する。   The present invention also provides (A) a modified cyanate ester resin cyanate ester compound obtained by reacting (A) a cyanate ester compound having at least two cyanato groups in one molecule and (B) a phenol. , (C), (D) and a modified cyanate ester-based resin composition to be included together with (E).

さらに、本発明は、これらの変性シアネートエステル系樹脂組成物を用いて得られる樹脂フィルムおよび多層プリント配線板、ならびにそれらの製造方法に関する。   Furthermore, this invention relates to the resin film and multilayer printed wiring board obtained using these modified cyanate ester-type resin compositions, and their manufacturing method.

本発明の樹脂組成物を用いることにより、フィルム単独での取扱が可能な樹脂フィルムを作製することが可能である。この樹脂フィルムは、耐溶媒性が優れ、かつその硬化物は、高周波帯域での誘電率や誘電正接が低く、さらに多層配線板材料として用いた場合には、耐湿性、成形性、はんだ耐熱性および銅箔ピール強さなどが良好であるので、高速デジタル信号や無線通信関連の高周波信号を扱う機器に用いられる印刷配線板の、特にビルドアップ積層方式による製造に好適である。本発明の樹脂フィルムを用いることにより、コンピュータの高速化や高周波関連機器の低損失化に適した多層プリント配線板を容易に製造することが可能となる。   By using the resin composition of the present invention, it is possible to produce a resin film that can be handled alone. This resin film has excellent solvent resistance, and its cured product has a low dielectric constant and dielectric loss tangent in the high frequency band. Further, when used as a multilayer wiring board material, it has moisture resistance, moldability, and solder heat resistance. In addition, since the copper foil peel strength and the like are good, it is suitable for manufacturing a printed wiring board used for a device that handles high-speed digital signals and high-frequency signals related to wireless communication, particularly by a build-up lamination method. By using the resin film of the present invention, it becomes possible to easily produce a multilayer printed wiring board suitable for increasing the speed of computers and reducing the loss of high-frequency related equipment.

本発明の変性シアネートエステル系樹脂組成物は、(A)1分子中に少なくとも2個のシアナト基を有するシアネートエステル化合物、好ましくは前記の一般式〔1〕で示されるシアネートエステル化合物;(B)フェノール類、好ましくは前記の一般式〔2〕で示される1価フェノール類;(C)熱可塑性樹脂、好ましくはポリフェニレンオキシド;(D)金属化合物触媒;および(E)エポキシ樹脂を必須成分として含むことを特徴とする。   The modified cyanate ester-based resin composition of the present invention includes (A) a cyanate ester compound having at least two cyanate groups in one molecule, preferably a cyanate ester compound represented by the general formula [1]; Phenols, preferably monohydric phenols represented by the above general formula [2]; (C) thermoplastic resin, preferably polyphenylene oxide; (D) metal compound catalyst; and (E) epoxy resin as essential components It is characterized by that.

本発明のもう一つのタイプの変性シアネートエステル系樹脂組成物は、(A)1分子中に少なくとも2個のシアナト基を有するシアネートエステル化合物、好ましくは一般式〔1〕で示されるシアネートエステル化合物と;(B)フェノール類、好ましくは一般式〔2〕で示される1価フェノール類とを反応させて得られる(A′)変性シアネートエステル樹脂シアネートエステル化合物を、(C)、(D)および(E)とともに含み、場合によっては、さらに(B)フェノール類を含む樹脂組成物である。   Another type of modified cyanate ester resin composition of the present invention comprises (A) a cyanate ester compound having at least two cyanate groups in one molecule, preferably a cyanate ester compound represented by the general formula [1] (B) a phenol, preferably a (A ′) modified cyanate ester resin cyanate ester compound obtained by reacting with a monohydric phenol represented by the general formula [2], (C), (D) and ( E), and in some cases, (B) a resin composition further containing phenols.

本発明に用いられる(A)シアネートエステル化合物は、1分子中に少なくとも2個のシアナト基を有し、好ましくは一般式〔1〕で示されるように、1分子中にシアナト基を2個有する、特定の構造のシアネートエステル化合物である。式〔1〕で示される化合物としては、たとえば、ビス(4−シアナトフェニル)エタン、2,2−ビス(4−シアナトフェニル)プロパン、ビス(3,5−ジメチル−4−シアナトフェニル)メタン、2,2−ビス(4−シアナトフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、α,α′−ビス(4−シアナトフェニル)−m−ジイソプロピルベンゼン、フェノール付加ジシクロペンタジエン重合体のシアネートエステル化物などが挙げられる。その中でも、2,2−ビス(4−シアナトフェニル)プロパン、2,2−ビス(3,5−ジメチル−4−シアナトフェニル)メタンなどが、硬化物の誘電特性と硬化性のバランスが良好なことから特に好ましい。一般式〔1〕で示される以外のシアネートエステル化合物としては、これらのシアネートエステル化合物のシアナト基が環化してトリアジン環を形成した三量体または五量体、ノボラック構造を有するトリシアナト化合物などを挙げることができる。これらの(A)シアネートエステル化合物は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。   The (A) cyanate ester compound used in the present invention has at least two cyanate groups in one molecule, and preferably has two cyanate groups in one molecule as shown by the general formula [1]. A cyanate ester compound having a specific structure. Examples of the compound represented by the formula [1] include bis (4-cyanatophenyl) ethane, 2,2-bis (4-cyanatophenyl) propane, and bis (3,5-dimethyl-4-cyanatophenyl). ) Methane, 2,2-bis (4-cyanatophenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, α, α'-bis (4-cyanatophenyl) -m-diisopropylbenzene And cyanate esterified products of phenol-added dicyclopentadiene polymers. Among them, 2,2-bis (4-cyanatophenyl) propane, 2,2-bis (3,5-dimethyl-4-cyanatophenyl) methane, etc. have a balance between the dielectric properties and curability of the cured product. It is particularly preferable because it is good. Examples of cyanate ester compounds other than those represented by the general formula [1] include trimers or pentamers in which the cyanate group of these cyanate ester compounds is cyclized to form a triazine ring, and tricyanate compounds having a novolak structure. be able to. These (A) cyanate ester compounds may be used individually by 1 type, and 2 or more types may be mixed and used for them.

本発明に用いられる(B)は、フェノール類であり、(A)成分に由来する未反応のシアナト基と反応して、誘電率と誘電正接を下げる機能を有する。該フェノール類としては、p−t−ブチルフェノール、p−t−アミルフェノール、p−t−オクチルフェノール、p−t−ノニルフェノールのような1価フェノール類;カテコール、レゾルシノール、ヒドロキノン、ビスフェノールF、ビスフェノールAのような2価フェノール類;およびピロガロールのような3個以上のフェノール性水酸基を有する多価フェノールが例示されるが、誘電率および誘電正接を下げる効果から、1価フェノール類が好ましく、シアナト基との反応性が高く、また単官能で比較的低分子量であり、かつシアネートエステル樹脂との相溶性が優れていること、および耐熱性が良好なことから、一般式〔2〕で示される1価フェノール類がさらに好ましい。一般式〔2〕で示される化合物としては、たとえば、p−ベンジルフェノール、p−(α−クミル)フェノールなどが挙げられる。このような(B)フェノール類は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。   (B) used in the present invention is a phenol and has a function of reacting with an unreacted cyanato group derived from the component (A) to lower the dielectric constant and dielectric loss tangent. Examples of the phenols include monohydric phenols such as pt-butylphenol, pt-amylphenol, pt-octylphenol, and pt-nonylphenol; catechol, resorcinol, hydroquinone, bisphenol F, and bisphenol A. And polyhydric phenols having three or more phenolic hydroxyl groups such as pyrogallol are exemplified, but monohydric phenols are preferred from the effect of lowering dielectric constant and dielectric loss tangent, and cyanate group The monovalent compound represented by the general formula [2] is highly reactive, monofunctional and has a relatively low molecular weight, excellent compatibility with cyanate ester resins, and good heat resistance. More preferred are phenols. Examples of the compound represented by the general formula [2] include p-benzylphenol and p- (α-cumyl) phenol. Such (B) phenols may be used individually by 1 type, and 2 or more types may be mixed and used for them.

本発明における(B)フェノール類の配合量は、十分な誘電特性を有する硬化物が得られ、特に高周波帯域において十分に低い誘電正接が得られることから、(A)シアネートエステル化合物100重量部に対して2〜40重量部が好ましく、5〜30重量部がより好ましく、5〜25重量部が特に好ましい。   The blended amount of (B) phenols in the present invention provides a cured product having sufficient dielectric properties, and a sufficiently low dielectric loss tangent can be obtained particularly in the high frequency band. Therefore, the amount of (A) cyanate ester compound is 100 parts by weight. The amount is preferably 2 to 40 parts by weight, more preferably 5 to 30 parts by weight, and particularly preferably 5 to 25 parts by weight.

本発明においては、(A)シアネートエステル化合物と(B)1価フェノール類またはフェノール樹脂とは、両者を反応させて得られる(A′)変性シアネートエステル樹脂として用いることができる。すなわち、(A)シアネートエステル化合物のプレポリマー化とともに、(B)1価フェノール類を付加させた変性樹脂として用いられる。この反応は、本発明の樹脂組成物を調製する前にあらかじめ行ってもよく、樹脂組成物の溶液中で、または後述のように、樹脂組成物を硬化させるいずれかの工程で行ってもよい。   In the present invention, (A) cyanate ester compound and (B) monohydric phenols or phenol resin can be used as (A ′) modified cyanate ester resin obtained by reacting both. That is, it is used as a modified resin to which (B) monohydric phenols are added together with (A) prepolymerization of a cyanate ester compound. This reaction may be performed in advance before preparing the resin composition of the present invention, or may be performed in a solution of the resin composition or in any step of curing the resin composition as described below. .

(A)シアネートエステル化合物と(B)フェノール類を反応させる際には、反応の初期から、上記の適正配合量の(B)フェノール類の全量を投入して反応させて、(A′)変性シアネートエステル樹脂としてもよいし、反応の初期には上記の適正配合量の一部を反応させ、冷却後、残りの(B)1価フェノール類またはフェノール樹脂を添加して、Bステージ化または硬化の段階で反応させて、(A′)変性シアネートエステル樹脂を形成させてもよい。反応条件は、通常、温度40〜140℃である。   (A) When the cyanate ester compound and (B) phenol are reacted, from the initial stage of the reaction, the whole amount of (B) phenol having the above-mentioned appropriate blending amount is added and reacted, and (A ′) modification Cyanate ester resin may be used, and at the beginning of the reaction, a part of the above-mentioned appropriate blending amount is reacted, and after cooling, the remaining (B) monohydric phenol or phenol resin is added to form a B stage or cure. (A ′) A modified cyanate ester resin may be formed by reacting at the step. The reaction conditions are usually a temperature of 40 to 140 ° C.

本発明は、誘電特性の良好な変性シアネートエステル樹脂に(C)熱可塑性樹脂、特に誘電特性が良好なポリフェニレンオキシドを配合することにより、誘電特性が向上すること、ならびに本来非相溶系であって均一な樹脂を得ることが困難であるシアネートエステル樹脂とポリフェニレンオキシドとを、本発明者らが見出した方法、すなわち(C)熱可塑性樹脂、特にポリフェニレンオキシドの溶媒溶液中で、(A)シアネートエステル化合物と(B)フェノール類の反応を行う、いわゆる“セミIPN”化の方法によって、硬化性フィルム用の均一な樹脂ワニスを製造し、さらにそれを銅箔やキャリヤフィルムの片面に流延塗布し、加熱乾燥により溶媒を除去することにより、相溶化樹脂フィルムが得られることに、大きな特徴がある。   In the present invention, (C) a thermoplastic resin, particularly polyphenylene oxide having a good dielectric property, is blended with a modified cyanate ester resin having a good dielectric property. Cyanate ester resin and polyphenylene oxide, which are difficult to obtain a uniform resin, are obtained by the method found by the present inventors, that is, (C) a thermoplastic resin, particularly in a solvent solution of polyphenylene oxide. A uniform resin varnish for a curable film is produced by a so-called “semi-IPN” method in which a compound and (B) a phenol are reacted. Further, it is cast on one side of a copper foil or a carrier film. The compatibilized resin film can be obtained by removing the solvent by heat drying.

本発明に用いられる(C)は、熱可塑性樹脂であり、ポリフェニレンオキシド、ポリフェニレンスルフィド、ポリフェニレンナフタラート、ポリエーテルイミドなどが例示され、誘電特性に優れることから、ポリフェニレンオキシドが好ましい。ここでポリフェニレンオキシドとは、アルキル基のような置換基を有していてもよいベンゼン環がエーテル結合によって結合しているポリマーであり、ポリスチレン、スチレン−ブタジエンコポリマー、ABSなどによって変成したものを包含する。上記置換基としては、メチル基が好ましい。該ポリフェニレンオキシドとしては、たとえば、ポリ(2,6−ジメチル−1,4−フェニレン)オキシド、ポリ(2,6−ジメチル−1,4−フェニレン)オキシドとポリスチレンのポリマーアロイ、ポリ(2,6−ジメチル−1,4−フェニレン)オキシドとスチレン−ブタジエンコポリマーのポリマーロイなどが挙げられ、その中でも、ポリ(2、6−ジメチル−1,4−フェニレン)オキシドとポリスチレンのポリマーアロイ、およびポリ(2,6−ジメチル−1,4−フェニレン)オキシドとスチレン−ブタジエンコポリマーのポリマーアロイなどがより好ましい。ポリマーアロイ中のポリ(2,6−ジメチル−1,4−フェニレン)オキシドの量は、硬化物の誘電特性が良好であることから、50重量%以上であることがさらに好ましく、65重量%以上であることが特に好ましい。   (C) used in the present invention is a thermoplastic resin, and examples thereof include polyphenylene oxide, polyphenylene sulfide, polyphenylene naphthalate, and polyetherimide. Polyphenylene oxide is preferable because of excellent dielectric properties. Here, polyphenylene oxide is a polymer in which a benzene ring which may have a substituent such as an alkyl group is bonded by an ether bond, and includes those modified by polystyrene, styrene-butadiene copolymer, ABS or the like. To do. As the substituent, a methyl group is preferable. Examples of the polyphenylene oxide include poly (2,6-dimethyl-1,4-phenylene) oxide, polymer alloy of poly (2,6-dimethyl-1,4-phenylene) oxide and polystyrene, and poly (2,6 A polymer alloy of dimethyl-1,4-phenylene) oxide and a styrene-butadiene copolymer, among which a polymer alloy of poly (2,6-dimethyl-1,4-phenylene) oxide and polystyrene, and poly (2, A polymer alloy of 2,6-dimethyl-1,4-phenylene) oxide and styrene-butadiene copolymer is more preferable. The amount of poly (2,6-dimethyl-1,4-phenylene) oxide in the polymer alloy is more preferably 50% by weight or more and 65% by weight or more because the dielectric properties of the cured product are good. It is particularly preferred that

本発明における(C)熱可塑性樹脂、特にポリフェニレンオキシドの配合量は、熱硬化成分である(A)シアネートエステル樹脂の十分な反応性および硬化性が得られ、かつ十分な誘電特性を有する硬化物、特に耐熱性および耐溶媒性に優れた樹脂フィルムが得られることから、(A)シアネートエステル化合物100重量部に対して5〜500重量部が好ましく、10〜300重量部がより好ましく、10〜200重量部が特に好ましい。   In the present invention, (C) a thermoplastic resin, in particular, polyphenylene oxide is blended in a cured product having sufficient dielectric properties and sufficient reactivity and curability of (A) cyanate ester resin, which is a thermosetting component. In particular, since a resin film excellent in heat resistance and solvent resistance can be obtained, 5 to 500 parts by weight is preferable with respect to 100 parts by weight of (A) cyanate ester compound, more preferably 10 to 300 parts by weight, 200 parts by weight are particularly preferred.

本発明に用いられる(D)エポキシ樹脂は、分子中に2個以上のエポキシ基を有する低〜高分子量の化合物であり、たとえば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂、サリチルアルデヒドノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールFノボラック型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、ヒダントイン型エポキシ樹脂およびイソシアヌラート型エポキシ樹脂;それらの水素添加物およびハロゲン化物;ならびに前記樹脂から選ばれた2種以上の混合物などが挙げられる。脂環式エポキシ樹脂としては、ビス(ジシクロペンタジエン)型をはじめとするジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、シクロヘキセンオキシド型エポキシ樹脂などが挙げられる。これらのうち、分子骨格の対称性に優れ、誘電特性に優れた樹脂硬化物が得られることから、ビス(ジシクロペンタジエン)型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂などが好ましい。   The (D) epoxy resin used in the present invention is a low to high molecular weight compound having two or more epoxy groups in the molecule, such as bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy. Resin, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, bisphenol A novolac type epoxy resin, salicylaldehyde novolac type epoxy resin, bisphenol F novolac type epoxy resin, alicyclic epoxy resin, glycidyl ester type epoxy resin, glycidylamine type Examples thereof include epoxy resins, hydantoin type epoxy resins and isocyanurate type epoxy resins; hydrogenated products and halides thereof; and a mixture of two or more selected from the above resins. Examples of alicyclic epoxy resins include bis (dicyclopentadiene) type dicyclopentadiene type epoxy resins and cyclohexene oxide type epoxy resins. Among these, a resin cured product having excellent molecular skeleton symmetry and excellent dielectric properties can be obtained. Therefore, bis (dicyclopentadiene) type epoxy resin, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S Type epoxy resin is preferred.

本発明における(D)エポキシ樹脂の配合量は、耐湿性に優れた硬化物が得られ、かつ硬化物の誘電特性、特に誘電正接の上昇が抑制されることから、(A)シアネートエステル化合物100重量部に対して10〜600重量部が好ましく、30〜500重量部がより好ましい。また、本発明において(E)エポキシ樹脂を配合する段階は、変性シアネート系樹脂組成物を製造する際に、添加剤として必要な量をまとめて配合してもよいし、変性シアネート系樹脂組成物を製造する変性反応が終了した後に添加してもよい。特に、変性反応が終了した後に添加することにより、優れた誘電特性が得られる傾向がある。   The blending amount of the epoxy resin (D) in the present invention is such that a cured product excellent in moisture resistance can be obtained, and an increase in the dielectric properties of the cured product, particularly the dielectric loss tangent, is suppressed. The amount is preferably 10 to 600 parts by weight, more preferably 30 to 500 parts by weight with respect to parts by weight. In the present invention, the step (E) of blending the epoxy resin may be blended in a necessary amount as an additive when producing the modified cyanate resin composition, or the modified cyanate resin composition. It may be added after the modification reaction for producing is completed. In particular, excellent dielectric properties tend to be obtained by adding after the modification reaction is completed.

本発明において、(A)シアネートエステル化合物と(B)フェノール類、特に1価フェノール類との反応を促進するために、(E)金属化合物触媒を用いることができる。該(E)金属化合物触媒は、変性シアネート系樹脂を含む樹脂組成物を製造する際に、反応触媒として用いてもよく、また該樹脂組成物から得られる樹脂フィルムが硬化する際に、硬化促進剤として用いてもよい。金属化合物触媒としては、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛などの金属原子を含有する有機化合物が用いられ、具体的には、オクタン酸塩、2−エチルヘキサン酸塩およびナフテン酸塩などの有機酸金属塩;ならびにアセチルアセトン錯体などの有機リガンドを有する金属錯体が例示される。変性シアネート系樹脂組成物を製造する際の反応促進剤と、積層板を製造する際の硬化促進剤とは、同一の金属化合物触媒を単独で用いてもよく、またはそれぞれ別の2種以上を用いてもよい。   In the present invention, a metal compound catalyst (E) can be used to promote the reaction between (A) a cyanate ester compound and (B) a phenol, particularly a monohydric phenol. The (E) metal compound catalyst may be used as a reaction catalyst in the production of a resin composition containing a modified cyanate resin, and the curing is accelerated when the resin film obtained from the resin composition is cured. It may be used as an agent. As the metal compound catalyst, organic compounds containing metal atoms such as manganese, iron, cobalt, nickel, copper, and zinc are used. Specifically, octanoate, 2-ethylhexanoate, naphthenate, and the like. And metal complexes having an organic ligand such as an acetylacetone complex. The reaction accelerator for producing the modified cyanate-based resin composition and the curing accelerator for producing the laminated plate may be the same metal compound catalyst alone, or two or more different types of each. It may be used.

本発明における(E)金属化合物触媒の配合量は、十分な反応性および適切な硬化速度が得られ、また反応の制御が容易であって、成形、硬化の際に、流動性の不足により成形性が悪くなることがないことから、(A)シアネートエステル化合物に対して1〜300重量ppmが好ましく、1〜200重量ppmがさらに好ましい。また、本発明において(E)金属化合物触媒を配合する段階は、変性シアネート系樹脂組成物を製造する際に、反応促進剤および硬化促進剤として必要な量をまとめて配合してもよいし、変性シアネート系樹脂組成物を製造する際には変性反応の促進に必要な量を用い、該反応の終了後に、硬化促進剤として同一の触媒、または別の金属化合物触媒を添加してもよい。   In the present invention, the compounding amount of the (E) metal compound catalyst is sufficient to obtain sufficient reactivity and an appropriate curing rate, and the reaction is easy to control, and the molding is caused by insufficient fluidity during molding and curing. 1-300 ppm by weight is preferable with respect to the (A) cyanate ester compound, and 1-200 ppm by weight is more preferable. Further, in the present invention, the step of blending the metal compound catalyst (E) may be performed by collectively blending the necessary amounts as a reaction accelerator and a curing accelerator when producing a modified cyanate resin composition, When the modified cyanate resin composition is produced, an amount necessary for promotion of the modification reaction may be used, and after the reaction, the same catalyst or another metal compound catalyst may be added as a curing accelerator.

本発明の変性シアネート系樹脂組成物に、上記の必須成分以外に、必要に応じて、難燃剤、無機および有機の充填剤、硬化促進剤ならびにその他の添加剤を配合することができる。難燃剤の例としては、トリブロモフェノール、テトラブロモビスフェノールAのような臭素化フェノール化合物;デカブロモジフェニルエーテルに代表されるポリブロモジフェニルエーテル;1,2−ジブロモ−4−(1,2−ジブロモエチル)シクロヘキサン、テトラブロモシクロヘキサン、ヘキサブロモシクロドデカンのような臭素化炭化水素;テトラブロモビスフェノールA型エポキシ樹脂、臭素化ノボラック型エポキシ樹脂のような臭素化エポキシ樹脂;臭素化ポリスチレン、臭素化ポリカーボネートのような臭素化熱可塑性樹脂;2,4,6−トリス(トリブロモフェノキシ)−1,3,5−トリアジンのような臭素化トリフェニルシアヌラートなどが挙げられる。その中でも、1,2−ジブロモ−4−(1,2−ジブロモエチル)シクロヘキサン、テトラブロモシクロオクタン、ヘキサブロモシクロドデカンおよび2,4,6−トリス(トリブロモフェノキシ)−1,3,5−トリアジンなどの難燃剤が、シアネートエステル化合物と反応性を有しないため、得られる硬化物の誘電特性が良好なことから好ましい。   In addition to the above essential components, the modified cyanate resin composition of the present invention may contain a flame retardant, an inorganic and organic filler, a curing accelerator, and other additives as necessary. Examples of flame retardants include brominated phenol compounds such as tribromophenol and tetrabromobisphenol A; polybromodiphenyl ethers typified by decabromodiphenyl ether; 1,2-dibromo-4- (1,2-dibromoethyl) Brominated hydrocarbons such as cyclohexane, tetrabromocyclohexane and hexabromocyclododecane; Brominated epoxy resins such as tetrabromobisphenol A type epoxy resin and brominated novolak type epoxy resin; such as brominated polystyrene and brominated polycarbonate Brominated thermoplastic resin; Brominated triphenyl cyanurate such as 2,4,6-tris (tribromophenoxy) -1,3,5-triazine and the like. Among them, 1,2-dibromo-4- (1,2-dibromoethyl) cyclohexane, tetrabromocyclooctane, hexabromocyclododecane and 2,4,6-tris (tribromophenoxy) -1,3,5- A flame retardant such as triazine is preferable because it has no reactivity with the cyanate ester compound, and thus the obtained cured product has good dielectric properties.

本発明における難燃剤の配合量は、十分な耐燃性および耐熱性を有する硬化物が得られることから、(A)シアネートエステル化合物、(B)1価フェノール類またはフェノール樹脂および(C)ポリフェニレンオキシドの総量に対して5〜300重量%が好ましく、5〜200重量%がより好ましい。   The blending amount of the flame retardant in the present invention is such that a cured product having sufficient flame resistance and heat resistance is obtained, so that (A) a cyanate ester compound, (B) a monohydric phenol or phenol resin, and (C) polyphenylene oxide. 5 to 300% by weight is preferable and 5 to 200% by weight is more preferable.

無機充填剤としては、シリカ、アルミナ、水酸化アルミニウム、酸化チタン、クレイ、タルク、窒化ケイ素、窒化ホウ素、炭酸カルシウム、チタン酸バリウム、チタン酸鉛、チタン酸ストロンチウムなどを使用することができる。また有機充填剤としては、シリコーン樹脂、アクリルゴム、ブタジエンゴム、ポリブタジエン型コアシェルゴム、パルプなどを使用することができる。充填剤の配合量は、均一でかつ良好な取扱性を有する成形材料、特に硬化性フィルムを得るために、本発明の樹脂組成物の総量に対して、300重量%以下が好ましい。   As the inorganic filler, silica, alumina, aluminum hydroxide, titanium oxide, clay, talc, silicon nitride, boron nitride, calcium carbonate, barium titanate, lead titanate, strontium titanate and the like can be used. As the organic filler, silicone resin, acrylic rubber, butadiene rubber, polybutadiene type core shell rubber, pulp, and the like can be used. The blending amount of the filler is preferably 300% by weight or less based on the total amount of the resin composition of the present invention in order to obtain a molding material having uniform and good handling properties, particularly a curable film.

エポキシ樹脂の硬化促進剤として、イミダゾール化合物、有機リン化合物、第三級アミン、第四級アンモニウム塩などを使用することができる。   An imidazole compound, an organic phosphorus compound, a tertiary amine, a quaternary ammonium salt, or the like can be used as an epoxy resin curing accelerator.

該硬化促進剤の配合量は、十分な硬化促進作用が発現し、かつ反応の制御が容易であって、適切な硬化速度が得ら例、流動性が十分で良好な成形性が得られることから、エポキシ樹脂に対して、0.01〜25重量%の範囲が好ましく、0.01〜20重量%の範囲がより好ましい。   The blending amount of the curing accelerator exhibits a sufficient curing accelerating action and is easy to control the reaction. For example, an appropriate curing rate can be obtained, and fluidity is sufficient and good moldability can be obtained. Therefore, the range of 0.01 to 25% by weight is preferable with respect to the epoxy resin, and the range of 0.01 to 20% by weight is more preferable.

本発明の樹脂組成物は、上記の各成分を、通常の方法により混合して調製することができる。各成分を、有機溶媒に溶解ないし分散させて、ワニスの形態に調製することが好ましい。また、本発明の樹脂組成物の各成分を、溶媒に溶解ないし分散させて、有効成分10〜70重量%の樹脂ワニスとし、キャリヤフィルムの片面に、バーコータやロールコータなどを用いて塗布した後、加熱乾燥により溶媒を除去して、半硬化状か、または通常、150〜250℃に加熱することにより、硬化状の樹脂フィルムを形成させること(製膜)ができる。   The resin composition of the present invention can be prepared by mixing the above-mentioned components by a usual method. Each component is preferably prepared in the form of a varnish by dissolving or dispersing it in an organic solvent. Further, after each component of the resin composition of the present invention is dissolved or dispersed in a solvent to obtain a resin varnish having an active ingredient content of 10 to 70% by weight, it is applied to one side of the carrier film using a bar coater or a roll coater. The solvent is removed by heat drying and the resin film is semi-cured or usually heated to 150 to 250 ° C. to form a curable resin film (film formation).

上記の樹脂ワニスを製造する場合に用いられる溶媒の例としては、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類;トリクロロエチレン、クロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類;N、N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジメチルアセトアミドのようなアミド類;N−メチルピロリドンのような窒素含有溶媒などが用いられる。特にベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類が好ましい。これらの溶媒類は、単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。芳香族炭化水素類を溶媒として用いる場合の配合量は、樹脂組成物の全体量に対して25〜900重量%が好ましく、40〜600重量%がより好ましく、40〜400重量%が特に好ましい。   Examples of the solvent used in producing the above resin varnish include aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; halogenated hydrocarbons such as trichloroethylene and chlorobenzene; N, N-dimethylformamide, Amides such as N, N-dimethylacetamide; nitrogen-containing solvents such as N-methylpyrrolidone are used. In particular, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene are preferred. These solvents may be used alone or in combination of two or more. The blending amount in the case of using aromatic hydrocarbons as a solvent is preferably 25 to 900% by weight, more preferably 40 to 600% by weight, and particularly preferably 40 to 400% by weight with respect to the total amount of the resin composition.

また、上記の芳香族炭化水素系溶媒に、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンのようなケトン系溶媒を併用すると、ワニスが懸濁溶液にはなるが、より高濃度の溶液が得られるという利点がある。しかし、ケトン系溶媒の配合量が多すぎると、樹脂組成物が分離沈降するおそれがあるので、ケトン系溶媒の配合量は、芳香族炭化水素系溶媒に対して250重量%以下が好ましい。   Moreover, when a ketone solvent such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone is used in combination with the above aromatic hydrocarbon solvent, the varnish becomes a suspension solution, but a higher concentration solution is obtained. There are advantages. However, if the amount of the ketone solvent is too large, the resin composition may be separated and settled. Therefore, the amount of the ketone solvent is preferably 250% by weight or less based on the aromatic hydrocarbon solvent.

樹脂フィルムを形成する際に用いるキャリヤフィルムは、銅、アルミニウムのような金属箔;ポリエステル、ポリイミドのような樹脂フィルム;またはこれらのキャリヤフィルムの表面に離型剤を塗布したものなどを用いることができる。キャリアフィルムに離型剤処理を施すことは、キャリヤフィルムから硬化性フィルムを引き剥がす際や、キャリア付きフィルムを基板に積層した後キャリヤフィルムを剥離する際の、作業性を向上させるうえで好ましい。   The carrier film used for forming the resin film may be a metal foil such as copper or aluminum; a resin film such as polyester or polyimide; or a surface of these carrier films coated with a release agent. it can. It is preferable to perform a release agent treatment on the carrier film in order to improve workability when peeling the curable film from the carrier film or peeling the carrier film after laminating the film with the carrier on the substrate.

以下、金属箔として銅箔、金属張積層板として銅張積層板を例として記述する。これらの記述は、銅以外の金属、たとえばアルミニウムを用いる場合にも適用される。   Hereinafter, a copper foil is described as an example of a metal foil, and a copper-clad laminate is described as an example of a metal-clad laminate. These descriptions also apply when a metal other than copper, for example, aluminum is used.

このようにキャリヤフィルムの片面に絶縁性の樹脂層を形成した硬化性フィルムは、たとえば、キャリヤフィルムを除去したシート状の樹脂を、1枚用いるか、複数枚積層し、その上下に銅箔を積層してプレス成形することにより、印刷配線板用の銅張積層板を製造することができる。プレス成形条件は、通常、温度150〜250℃、圧力0.1〜5MPa、時間0.5〜5時間である。   As for the curable film in which the insulating resin layer is formed on one side of the carrier film as described above, for example, a sheet-like resin from which the carrier film is removed is used or a plurality of sheets are laminated, and copper foil is formed on the upper and lower sides thereof. By laminating and press-molding, a copper-clad laminate for printed wiring boards can be produced. The press molding conditions are usually a temperature of 150 to 250 ° C., a pressure of 0.1 to 5 MPa, and a time of 0.5 to 5 hours.

また、銅箔の片面に、バーコータやロールコータなどを用いて樹脂ワニスを塗布した後、加熱乾燥により溶媒を除去し、銅箔付き樹脂フィルムとすることもできる。樹脂層の厚さは、通常1〜300μmである。該銅箔付き樹脂フィルムは、絶縁層上に回路形成をする際に、銅箔をそのまま回路導体として使用できるという利点がある。   Moreover, after apply | coating resin varnish to the single side | surface of copper foil using a bar coater, a roll coater, etc., a solvent is removed by heat drying and it can also be set as the resin film with copper foil. The thickness of the resin layer is usually 1 to 300 μm. The resin film with copper foil has an advantage that the copper foil can be used as a circuit conductor as it is when a circuit is formed on the insulating layer.

銅箔付き樹脂フィルムを、たとえば、樹脂層を合わせるように貼り合わせ、さらに必要ならばその間にキャリヤフィルムを除去した樹脂フィルムを1枚以上介在させてプレス成形することにより、印刷配線板用の銅張積層板を製造することができる。   A copper foil for printed wiring boards is formed by, for example, laminating a resin film with a copper foil so as to match the resin layers, and if necessary, interposing one or more resin films from which the carrier film has been removed. A tension laminate can be manufactured.

また、従来のガラス布基材の銅張積層板または上記の銅張積層板に回路を形成した後、キャリヤフィルムを除去した樹脂フィルムを1枚以上積層し、さらにその上に銅箔もしくは銅箔付き樹脂フィルムを配置してプレス成形するか、または銅箔付き樹脂フィルムを配置してプレス成形することにより、多層配線板用の基板を製造することができる。   Also, after forming a circuit on a conventional glass cloth base copper clad laminate or the above copper clad laminate, one or more resin films from which the carrier film has been removed are laminated, and a copper foil or copper foil is further laminated thereon. A substrate for a multilayer wiring board can be manufactured by arranging a press-attached resin film and press-molding, or placing a resin film with a copper foil and press-molding.

また、従来のガラス布基材の銅張積層板、または上記の銅張積層板に回路を形成した後、前記の樹脂ワニスを塗布・加熱乾燥し、その上に銅箔を配置してプレス成形することにより、多層配線板用の基板を製造することもできる。さらには、従来のガラス布基材の銅張積層板、または上記の銅張積層板に回路を形成した後、前記樹脂フィルムを1枚以上積層して、めっきを施すことにより、多層配線板用の基板を製造することもできる。   In addition, after forming a circuit on a conventional copper-clad laminate of glass cloth base or the above-mentioned copper-clad laminate, the resin varnish is applied and heated and dried, and then a copper foil is placed thereon and press molded. By doing so, a substrate for a multilayer wiring board can also be manufactured. Furthermore, after forming a circuit on a conventional copper-clad laminate of glass cloth substrate or the above-mentioned copper-clad laminate, one or more of the above resin films are laminated and plated to provide a multilayer wiring board. The substrate can also be manufactured.

なお、回路の形成には、従来の方法を適用することができる。たとえば、銅張積層板または多層配線板用基板に必要に応じて貫通孔もしくは非貫通孔を明け、ついで無電解めっきまたは電気めっきを施して孔内壁を導体化した後、導通孔部の保護、エッチングレジストの形成、およびエッチングによる非配線部分の銅の除去などの工程により、回路を形成することができる。   Note that a conventional method can be applied to the formation of the circuit. For example, through holes or non-through holes are drilled on a copper-clad laminate or multilayer wiring board substrate as necessary, then electroless plating or electroplating is applied to make the inner walls of the holes conductive, and then the conduction hole portions are protected, A circuit can be formed by a process such as formation of an etching resist and removal of copper in a non-wiring portion by etching.

さらに本発明の硬化性樹脂フィルムでは、貫通孔または非貫通孔を明ける方法として、ドリル孔明けまたはレーザ加工を採用することができる。レーザ加工の場合には、レーザショットにより直に孔を形成するダイレクト・イメージング法や、金属製マスクなどを用いるコンフォーマル・マスク法により、レーザ孔明けが可能である。本発明で得られる硬化性フィルムの一例である、銅箔をキャリアフィルムとした樹脂付き金属箔は、貫通孔または非貫通孔を形成すべき場所をあらかじめエッチングによって除去した銅箔をマスクとして用いて、レーザ孔明けを行うことができる。   Further, in the curable resin film of the present invention, drilling or laser processing can be employed as a method for forming a through hole or a non-through hole. In the case of laser processing, laser drilling can be performed by a direct imaging method in which holes are formed directly by laser shot, or a conformal mask method using a metal mask or the like. An example of a curable film obtained in the present invention, a metal foil with a resin using a copper foil as a carrier film, using as a mask a copper foil in which a place where a through hole or a non-through hole is to be formed is removed in advance by etching. Laser drilling can be performed.

以下、実施例により、本発明をより詳細に説明する。本発明は、これらの実施例によって限定されるものではない。表1に示す原料および配合量により、フィルム成形用ワニスを調製し、半硬化状の樹脂フィルムを作製して、それぞれの評価を行った。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. The present invention is not limited by these examples. A film-forming varnish was prepared from the raw materials and blending amounts shown in Table 1, semi-cured resin films were prepared, and each evaluation was performed.

実施例1
温度計、冷却管、攪拌装置を備えた4つ口セパラブルフラスコに、トルエン270gとポリフェニレンオキシド(ノニルPKN4752、日本ジーイープラスチックス株式会社商品名)70gを仕込み、攪拌しつつ80℃に加熱して溶解した。次に2,2−ビス(4−シアナトフェニル)プロパン(ArocyB−10、旭チバ株式会社商品名)140gおよびp−(α−クミル)フェノール(サンテクノケミカル株式会社商品名)8gを添加して溶解した後、ナフテン酸マンガン(Mn含有量6重量%、日本化学産業株式会社商品名)をトルエンでMn分0.6重量%に希釈した溶液0.4gを添加し、還流温度で3時間反応させた。この後、室温まで冷却し、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂(HP−7200H、大日本インキ化学工業株式会社商品名)を140gおよびイミダゾール系硬化促進剤(キュアゾール2MZ−CNS、四国化成株式会社商品名)を6g添加して1時間攪拌することにより、フィルム成形用樹脂ワニス(固形分濃度45重量%)を調製した。
Example 1
A four-necked separable flask equipped with a thermometer, a condenser, and a stirrer was charged with 270 g of toluene and 70 g of polyphenylene oxide (Nonyl PKN4752, a trade name of GE Plastics, Inc.) and heated to 80 ° C. while stirring. Dissolved. Next, 140 g of 2,2-bis (4-cyanatophenyl) propane (Arocy B-10, trade name of Asahi Ciba Co., Ltd.) and 8 g of p- (α-cumyl) phenol (trade name of Sun Techno Chemical Co., Ltd.) were added. After dissolution, 0.4 g of a solution obtained by diluting manganese naphthenate (Mn content 6% by weight, trade name, Nippon Chemical Industry Co., Ltd.) with toluene to a Mn content of 0.6% by weight is added, and the reaction is performed at reflux temperature for 3 hours. I let you. Then, it cools to room temperature, 140 g of dicyclopentadiene type epoxy resins (HP-7200H, Dainippon Ink Chemical Co., Ltd. trade name) and imidazole curing accelerators (Curesol 2MZ-CNS, trade name of Shikoku Kasei Co., Ltd.) 6 g was added and stirred for 1 hour to prepare a resin varnish for film formation (solid content concentration 45% by weight).

この樹脂ワニスを、バーコータの一種であるコンマコータ(株式会社ヒラノテクシード製)を用いて、厚さ50μmの離型剤付きのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(ピューレックスA−63,株式会社帝人商品名)に塗工して乾燥(140℃)し、樹脂層厚さ30〜33μmのキャリヤフィルム付樹脂フィルムを作製した。得られた樹脂フィルムは、カッタナイフで切断しても樹脂割れや粉落ちがなく、取扱性に優れていた。   This resin varnish is applied to a polyethylene terephthalate (PET) film (Purex A-63, Teijin product name) with a release agent of 50 μm in thickness using a comma coater (manufactured by Hirano Techseed Co., Ltd.) which is a type of bar coater. It was applied and dried (140 ° C.) to prepare a resin film with a carrier film having a resin layer thickness of 30 to 33 μm. The obtained resin film was excellent in handleability because it did not crack or fall off even when cut with a cutter knife.

実施例2
温度計、冷却管、攪拌装置を備えた4つ口セパラブルフラスコに、トルエン300gとポリフェニレンオキシド(ノニルPKN4752、日本ジーイープラスチックス株式会社商品名)70gを仕込み、攪拌しつつ80℃に加熱して溶解した。次に2,2−ビス(4−シアナトフェニル)プロパン(ArocyB−10、旭チバ株式会社商品名)230gおよびp−(α−クミル)フェノール(サンテクノケミカル株式会社商品名)5gを添加して溶解した後、ナフテン酸マンガン(Mn含有量6重量%、日本化学産業株式会社商品名)をトルエンでMn分0.6重量%に希釈した溶液0.5gを添加し、還流温度で6時間反応させた。さらに室温まで冷却した後、p−(α−クミル)フェノール(サンテクノケミカル株式会社商品名)21gおよび多官能エポキシ樹脂(エピコート1031、油化シェルエポキシ株式会社商品名)230gを添加して溶解することにより、フィルム成形用樹脂ワニス(固形分濃度36重量%)を調製した。
Example 2
A four-neck separable flask equipped with a thermometer, a condenser, and a stirrer was charged with 300 g of toluene and 70 g of polyphenylene oxide (Nonyl PKN4752, a trade name of Nippon GE Plastics Co., Ltd.) and heated to 80 ° C. while stirring. Dissolved. Next, 230 g of 2,2-bis (4-cyanatophenyl) propane (Arocy B-10, trade name of Asahi Ciba Co., Ltd.) and 5 g of p- (α-cumyl) phenol (trade name of Sun Techno Chemical Co., Ltd.) were added. After dissolution, 0.5 g of a solution obtained by diluting manganese naphthenate (Mn content: 6% by weight, trade name, Nippon Chemical Industry Co., Ltd.) with toluene to a Mn content of 0.6% by weight is added, and the reaction is performed at reflux temperature for 6 hours. I let you. After further cooling to room temperature, 21 g of p- (α-cumyl) phenol (trade name of Sun Techno Chemical Co., Ltd.) and 230 g of polyfunctional epoxy resin (Epicoat 1031, trade name of Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.) are added and dissolved. Thus, a resin varnish for film molding (solid content concentration: 36% by weight) was prepared.

このワニスを用い、実施例1と同様にして、樹脂層厚さ30〜33μmのキャリヤフィルム付樹脂フィルムを作製した。得られた樹脂フィルムは、カッタナイフで切断しても樹脂割れや粉落ちがなく、取扱性に優れていた。   Using this varnish, a resin film with a carrier film having a resin layer thickness of 30 to 33 μm was produced in the same manner as in Example 1. The obtained resin film was excellent in handleability because it did not crack or fall off even when cut with a cutter knife.

実施例3
温度計、冷却管、攪拌装置を備えた4つ口セパラブルフラスコに、トルエン400gとポリフェニレンオキシド(ノニルPKN4752、日本ジーイープラスチックス株式会社商品名)100gを仕込み、攪拌しつつ80℃に加熱して溶解した。次に2,2−ビス(4−シアナトフェニル)プロパン(ArocyB−10、旭チバ株式会社商品名)67gおよびp−(α−クミル)フェノール(サンテクノケミカル株式会社商品名)8gを添加して溶解した後、ナフテン酸コバルト(Co含有量8重量%、日本化学産業株式会社商品名)をトルエンでCo分0.8重量%に希釈した溶液0.3gを添加し、還流温度で2時間反応させた。反応液を室温まで冷却した後、o−クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(ESCN−190−3、住友化学工業株式会社商品名)60gを添加し、攪拌して溶解することにより、フィルム成形用樹脂ワニス(固形分濃度37重量%)を調製した。
Example 3
A four-necked separable flask equipped with a thermometer, a condenser, and a stirrer was charged with 400 g of toluene and 100 g of polyphenylene oxide (Nonyl PKN4752, a trade name of Nippon GE Plastics Co., Ltd.) and heated to 80 ° C. while stirring. Dissolved. Next, 67 g of 2,2-bis (4-cyanatophenyl) propane (Arocy B-10, trade name of Asahi Ciba Co., Ltd.) and 8 g of p- (α-cumyl) phenol (trade name of Sun Techno Chemical Co., Ltd.) were added. After dissolution, 0.3 g of a solution obtained by diluting cobalt naphthenate (Co content: 8% by weight, trade name of Nippon Chemical Industry Co., Ltd.) with toluene to 0.8% by weight of Co is added and reacted at reflux temperature for 2 hours. I let you. After cooling the reaction solution to room temperature, 60 g of o-cresol novolac type epoxy resin (ESCN-190-3, trade name of Sumitomo Chemical Co., Ltd.) is added, and the mixture is stirred and dissolved to obtain a resin varnish for film molding ( A solid content concentration of 37% by weight) was prepared.

このワニスを用い、実施例1と同様にして、樹脂層厚さ30〜33μmのキャリヤフィルム付樹脂フィルムを作製した。得られた樹脂フィルムは、カッタナイフで切断しても樹脂割れや粉落ちがなく、取扱性に優れていた。   Using this varnish, a resin film with a carrier film having a resin layer thickness of 30 to 33 μm was produced in the same manner as in Example 1. The obtained resin film was excellent in handleability because it did not crack or fall off even when cut with a cutter knife.

実施例4
温度計、冷却管、攪拌装置を備えた4つ口セパラブルフラスコに、トルエン230gとポリフェニレンオキシド(ノニルPKN4752、日本ジーイープラスチックス株式会社商品名)75gを仕込み、攪拌しつつ80℃に加熱して溶解した。次に2,2−ビス(4−シアナトフェニル)プロパン(ArocyB−10、旭チバ株式会社商品名)75gおよびp−(α−クミル)フェノール(サンテクノケミカル株式会社製)5gを添加して溶解した後、ナフテン酸マンガン(Mn含有量6重量%、日本化学産業株式会社商品名)をトルエンでMn分0.6重量%に希釈した溶液0.2gを添加し、還流温度で6時間反応させた。さらに室温まで冷却した後、トルエン200g、p−(α−クミル)フェノール(サンテクノケミカル株式会社商品名)3g、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂(HP−7200、大日本インキ化学工業株式会社商品名)80gおよびイミダゾール系硬化触媒4gを投入して溶解することにより、フィルム成形用樹脂ワニス(固形分濃度40重量%)を調製した。
Example 4
A four-necked separable flask equipped with a thermometer, a condenser, and a stirrer was charged with 230 g of toluene and 75 g of polyphenylene oxide (Nonyl PKN4752, a trade name of Nippon GE Plastics Co., Ltd.) and heated to 80 ° C. while stirring. Dissolved. Next, 75 g of 2,2-bis (4-cyanatophenyl) propane (Arocy B-10, trade name of Asahi Ciba Co., Ltd.) and 5 g of p- (α-cumyl) phenol (manufactured by Sun Techno Chemical Co., Ltd.) are added and dissolved. After that, 0.2 g of a solution obtained by diluting manganese naphthenate (Mn content: 6% by weight, trade name, Nippon Chemical Industry Co., Ltd.) with toluene to a Mn content of 0.6% by weight was added and reacted at reflux temperature for 6 hours. It was. After further cooling to room temperature, 200 g of toluene, 3 g of p- (α-cumyl) phenol (trade name of Sun Techno Chemical Co., Ltd.), 80 g of dicyclopentadiene type epoxy resin (HP-7200, trade name of Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) Then, 4 g of an imidazole-based curing catalyst was added and dissolved to prepare a resin varnish for film forming (solid content concentration: 40% by weight).

このワニスを用い、実施例1と同様にして、樹脂層厚さ30〜33μmのキャリヤフィルム付樹脂フィルムを作製した。得られた樹脂フィルムは、カッタナイフで切断しても樹脂割れや粉落ちがなく、取扱性に優れていた。   Using this varnish, a resin film with a carrier film having a resin layer thickness of 30 to 33 μm was produced in the same manner as in Example 1. The obtained resin film was excellent in handleability because it did not crack or fall off even when cut with a cutter knife.

実施例5
温度計、冷却管、攪拌装置を備えた4つ口セパラブルフラスコに、トルエン200gとポリフェニレンオキシド(ノニルPKN4752、日本ジーイープラスチックス株式会社商品名)30gを仕込み、攪拌しつつ80℃に加熱して溶解した。次にビス(3,5−ジメチル−4−シアナトフェニル)メタン(ArocyM−10、旭チバ株式会社商品名)100gおよびp−(α−クミル)フェノール(サンテクノケミカル株式会社商品名)2gを添加して溶解した後、ナフテン酸マンガン(Mn含有量6重量%、日本化学産業株式会社商品名)をトルエンでMn分0.6重量%に希釈した溶液0.2gを添加し、還流温度で5時間反応させた。ついで反応液を冷却し、内温が90℃になったときに、攪拌しながらメチルエチルケトン(MEK)100gを投入して懸濁化させた。反応液を室温まで冷却した後、p−(α−クミル)フェノール(サンテクノケミカル株式会社商品名)2g、ナフテン酸コバルト(Co含有量8重量%、日本化学産業株式会社商品名)トルエンでCo分0.8重量%に希釈した溶液0.2gを添加し、ついでサリチルアルデヒドノボラック型エポキシ樹脂(EPPN502、日本化薬株式会社商品名)110gおよびイミダゾール1gを添加し、攪拌して溶解することにより、フィルム成形用樹脂ワニス(固形分濃度45重量%)を調製した。
Example 5
A four-necked separable flask equipped with a thermometer, a condenser, and a stirrer was charged with 200 g of toluene and 30 g of polyphenylene oxide (Nonyl PKN4752, a trade name of Nippon GE Plastics Co., Ltd.), and heated to 80 ° C. while stirring. Dissolved. Next, 100 g of bis (3,5-dimethyl-4-cyanatophenyl) methane (Arocy M-10, trade name of Asahi Ciba Co., Ltd.) and 2 g of p- (α-cumyl) phenol (trade name of Sun Techno Chemical Co., Ltd.) are added. After dissolution, 0.2 g of a solution obtained by diluting manganese naphthenate (Mn content: 6% by weight, trade name, Nippon Chemical Industry Co., Ltd.) with toluene to a Mn content of 0.6% by weight was added, and the mixture was refluxed at 5%. Reacted for hours. Subsequently, the reaction solution was cooled, and when the internal temperature reached 90 ° C., 100 g of methyl ethyl ketone (MEK) was added and suspended while stirring. After cooling the reaction solution to room temperature, 2 g of p- (α-cumyl) phenol (trade name of Sun Techno Chemical Co., Ltd.), cobalt naphthenate (Co content 8 wt%, trade name of Nippon Chemical Industry Co., Ltd.), toluene and Co content. By adding 0.2 g of a solution diluted to 0.8% by weight, and then adding 110 g of salicylaldehyde novolak type epoxy resin (EPPN502, Nippon Kayaku Co., Ltd., trade name) and 1 g of imidazole, and stirring to dissolve, A film-forming resin varnish (solid content concentration: 45% by weight) was prepared.

このワニスを用い、実施例1と同様にして、樹脂層厚さ30〜33μmキャリヤフィルム付樹脂フィルムを作製した。得られた樹脂フィルムは、カッタナイフで切断しても樹脂割れや粉落ちがなく、取扱性に優れていた。   Using this varnish, a resin film with a carrier layer thickness of 30 to 33 μm was prepared in the same manner as in Example 1. The obtained resin film was excellent in handleability because it did not crack or fall off even when cut with a cutter knife.

比較例1
温度計、冷却管、攪拌装置を備えた4つ口セパラブルフラスコに、トルエン360gとポリフェニレンオキシド(ノニルPKN4752、日本ジーイープラスチックス株式会社商品名)120gを仕込み、攪拌しつつ80℃に加熱して溶解し、フィルム成形用樹脂ワニス(固形分濃度25重量%)を調製した。このワニスを用いて、実施例1と同様にして、樹脂層厚さ30〜33μmのキャリヤフィルム付樹脂フィルムを作製した。得られた樹脂フィルムは、カッタナイフで切断しても樹脂割れや粉落ちがなく、取扱性に優れていた。
Comparative Example 1
A four-necked separable flask equipped with a thermometer, a condenser, and a stirrer is charged with 360 g of toluene and 120 g of polyphenylene oxide (Nonyl PKN4752, a trade name of GE Plastics, Inc.) and heated to 80 ° C. while stirring. It melt | dissolved and the resin varnish for film forming (solid content concentration of 25 weight%) was prepared. Using this varnish, a resin film with a carrier film having a resin layer thickness of 30 to 33 μm was produced in the same manner as in Example 1. The obtained resin film was excellent in handleability because it did not crack or fall off even when cut with a cutter knife.

比較例2
温度計、冷却管、攪拌装置を備えた4つ口セパラブルフラスコに、メチルエチルケトン240g、2,2−ビス(4−シアナトフェニル)プロパン(ArocyB−10、旭チバ株式会社商品名)120gおよびp−(α−クミル)フェノール(サンテクノケミカル株式会社商品名)2gを仕込み、攪拌して溶解した後、ナフテン酸コバルト(Co含有量8重量%、日本化学産業株式会社製)をトルエンでCo分0.8重量%に希釈した溶液1.2gを添加し、還流温度で2時間反応させた。室温まで冷却した後、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂(HP−7200、大日本インキ化学工業株式会社商品名)10gおよびイミダゾール系硬化触媒1gを添加し、攪拌して溶解することにより、フィルム成形用樹脂ワニス(固形分濃度36重量%)を調製した。このワニスを用いて、実施例1と同様にして、樹脂層厚さ30〜33μmのキャリヤフィルム付樹脂フィルムを作製した。得られた樹脂フィルムは、カッタナイフで切断した際に樹脂割れや粉落ちが発生し、キャリヤフィルムを剥離すると、樹脂フィルムを単独で取扱うことができなかった。
Comparative Example 2
In a four-necked separable flask equipped with a thermometer, a condenser, and a stirrer, 240 g of methyl ethyl ketone, 120 g of 2,2-bis (4-cyanatophenyl) propane (Arocy B-10, Asahi Ciba Co., Ltd. trade name) and p -(Α-cumyl) phenol (trade name of Sun Techno Chemical Co., Ltd.) 2 g was charged and dissolved by stirring, and then cobalt naphthenate (Co content 8% by weight, manufactured by Nippon Kagaku Sangyo Co., Ltd.) with toluene was allowed to have a Co content of 0. 1.2 g of a solution diluted to 8% by weight was added and reacted at reflux temperature for 2 hours. After cooling to room temperature, 10 g of dicyclopentadiene type epoxy resin (HP-7200, trade name of Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) and 1 g of imidazole-based curing catalyst are added and dissolved by stirring to form a film-forming resin. A varnish (solid concentration: 36% by weight) was prepared. Using this varnish, a resin film with a carrier film having a resin layer thickness of 30 to 33 μm was produced in the same manner as in Example 1. When the obtained resin film was cut with a cutter knife, resin cracking and powder falling occurred, and when the carrier film was peeled off, the resin film could not be handled alone.

比較例3
温度計、冷却管、攪拌装置を備えた4つ口セパラブルフラスコに、トルエン300gとポリフェニレンオキシド(ノニルPKN4752、日本ジーイープラスチックス株式会社商品名)70gを仕込み、攪拌しつつ80℃に加熱して溶解した。次に2,2−ビス(4−シアナトフェニル)プロパン(ArocyB−10、旭チバ株式会社商品名)230gおよびp−(α−クミル)フェノール(サンテクノケミカル株式会社商品名)5gを投入して溶解した後、ナフテン酸マンガン(Mn含有量6重量%、日本化学産業株式会社商品名)をトルエンでMn分0.6重量部に希釈した溶液0.5gを添加し還流温度で6時間反応させた。さらに室温まで冷却した後、p−(α−クミル)フェノール(サンテクノケミカル株式会社商品名)21g、およびナフテン酸コバルト(Co含有量8重量%、日本化学産業株式会社商品名)をトルエンでCo分0.8重量%に希釈した溶液1.2gおよびトルエン300gを投入して溶解することにより、フィルム成形用樹脂ワニス(固形分濃度=35重量%)を調製した。このワニスを用いて、実施例1と同様にして、樹脂層厚さ30〜33μmのキャリヤフィルム付樹脂フィルムを作製した。得られた樹脂フィルムは、カッタナイフで切断しても樹脂割れや粉落ちがなく、取扱性に優れていた。
Comparative Example 3
A four-neck separable flask equipped with a thermometer, a condenser, and a stirrer was charged with 300 g of toluene and 70 g of polyphenylene oxide (Nonyl PKN4752, a trade name of Nippon GE Plastics Co., Ltd.) and heated to 80 ° C. while stirring. Dissolved. Next, 230 g of 2,2-bis (4-cyanatophenyl) propane (Arocy B-10, trade name of Asahi Ciba Co., Ltd.) and 5 g of p- (α-cumyl) phenol (trade name of Sun Techno Chemical Co., Ltd.) were added. After dissolution, 0.5 g of a solution obtained by diluting manganese naphthenate (Mn content: 6% by weight, trade name, Nippon Kagaku Sangyo Co., Ltd.) with toluene to a Mn content of 0.6 parts by weight was added and reacted at reflux temperature for 6 hours. It was. After further cooling to room temperature, 21 g of p- (α-cumyl) phenol (trade name of Sun Techno Chemical Co., Ltd.) and cobalt naphthenate (Co content 8 wt%, trade name of Nippon Chemical Industry Co., Ltd.) with toluene are used as Co components. A resin varnish for forming a film (solid content concentration = 35% by weight) was prepared by adding and dissolving 1.2 g of a solution diluted to 0.8% by weight and 300 g of toluene. Using this varnish, a resin film with a carrier film having a resin layer thickness of 30 to 33 μm was produced in the same manner as in Example 1. The obtained resin film was excellent in handleability because it did not crack or fall off even when cut with a cutter knife.

比較例4
温度計、冷却管、攪拌装置を備えた4つ口セパラブルフラスコに、トルエン100g、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂(HP−7200、大日本インキ化学工業株式会社商品名)400gおよびイミダゾール系硬化触媒5gを仕込み、攪拌しつつ80℃に加熱して溶解することにより、フィルム成形用樹脂ワニス(固形分濃度80重量%)を調製した。このワニスを用いて、実施例1と同様にして、樹脂層厚さ30〜33μmのキャリヤフィルム付樹脂フィルムを作製した。得られた樹脂フィルムは、カッタナイフで切断した際に樹脂割れや粉落ちが発生し、キャリヤフィルムを剥離すると、樹脂フィルムを単独で取扱うことができなかった。
Comparative Example 4
In a 4-neck separable flask equipped with a thermometer, a condenser, and a stirrer, 100 g of toluene, 400 g of dicyclopentadiene type epoxy resin (HP-7200, trade name of Dainippon Ink and Chemicals) and 5 g of imidazole-based curing catalyst Was heated and dissolved at 80 ° C. with stirring to prepare a resin varnish for film forming (solid content concentration 80% by weight). Using this varnish, a resin film with a carrier film having a resin layer thickness of 30 to 33 μm was produced in the same manner as in Example 1. When the obtained resin film was cut with a cutter knife, resin cracking and powder falling occurred, and when the carrier film was peeled off, the resin film could not be handled alone.

実施例1〜5および比較例1〜4に用いた原料を、まとめて表1に示す。   Table 1 summarizes the raw materials used in Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 4.

Figure 2011208150
Figure 2011208150

表1において略号で示した原料の内容は、次のとおりである。
(A)B−10:2,2−ビス(4−シアナトフェニル)プロパン(旭チバ株式会社商品名);
M−10:ビス(3,5−ジメチル−4−シアナトフェニル)メタン(旭チバ株式会社商品名);
B−30:2,2−ビス(4−シアナトフェニル)プロパンのオリゴマー(旭チバ株式会社商品名);
(B)PCP:p−(α−クミル)フェノール(サンテクノケミカル株式会社製)(旭チバ株式会社商品名);
(C)PPO:ポリフェニレンオキシド(ノニルPKN4752、日本ジーイープラスチックス株式会社商品名);
(D)HP:ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂(HP−7200、大日本インキ化学工業株式会社商品名);
HP−H:ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂(HP−7200H、大日本インキ化学工業株式会社商品名);
1031:多官能エポキシ樹脂(エピコート1031、油化シェルエポキシ株式会社商品名);
ESCN:o−クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(ESCN−190−3、住友化学工業株式会社商品名);
502:サリチルアルデヒドノボラック型エポキシ樹脂(EPPN502、日本化薬株式会社商品名);
(E)Co:ナフテン酸コバルト(Co分8重量%、日本化学産業株式会社商品名)を、Co分0.8重量%のトルエン希釈溶液として使用;
Mn:ナフテン酸マンガン(Mn分6重量%、日本化学産業株式会社商品名)を、Mn分0.6重量%のトルエン希釈溶液として使用。
The contents of the raw materials indicated by abbreviations in Table 1 are as follows.
(A) B-10: 2,2-bis (4-cyanatophenyl) propane (trade name of Asahi Ciba Co., Ltd.);
M-10: Bis (3,5-dimethyl-4-cyanatophenyl) methane (trade name of Asahi Ciba Co., Ltd.);
B-30: 2,2-bis (4-cyanatophenyl) propane oligomer (trade name of Asahi Ciba Co., Ltd.);
(B) PCP: p- (α-cumyl) phenol (manufactured by Sun Techno Chemical Co., Ltd.) (trade name of Asahi Ciba Co., Ltd.);
(C) PPO: polyphenylene oxide (nonyl PKN4752, trade name of GE Plastics, Inc.);
(D) HP: dicyclopentadiene type epoxy resin (HP-7200, trade name of Dainippon Ink & Chemicals, Inc.);
HP-H: dicyclopentadiene type epoxy resin (HP-7200H, trade name of Dainippon Ink & Chemicals, Inc.);
1031: polyfunctional epoxy resin (Epicoat 1031, trade name of Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.);
ESCN: o-cresol novolac type epoxy resin (ESCN-190-3, trade name of Sumitomo Chemical Co., Ltd.);
502: Salicylaldehyde novolak type epoxy resin (EPPN502, Nippon Kayaku Co., Ltd. trade name);
(E) Co: Cobalt naphthenate (Co content: 8% by weight, trade name of Nippon Chemical Industry Co., Ltd.) is used as a toluene diluted solution having a Co content of 0.8% by weight;
Mn: Manganese naphthenate (Mn content: 6% by weight, trade name of Nippon Chemical Industry Co., Ltd.) was used as a toluene diluted solution with a Mn content of 0.6% by weight.

次に、実施例1〜5のキャリヤフィルム付き樹脂フィルムについて、樹脂フィルム単独での取扱性と、硬化後のフィルムの耐溶媒性の評価を行った。   Next, for the resin films with a carrier film of Examples 1 to 5, the handling property of the resin film alone and the solvent resistance of the cured film were evaluated.

取扱性の評価
実施例1〜5で得られたキャリヤフィルム付き樹脂フィルムから、それぞれキャリヤフィルムを剥離し、得られた樹脂フィルム12枚を重ね、さらにその上下に、電解銅箔の鏡面を剥離面として用いて重ね、200℃、1.5MPaで1時間プレス成形を行い、厚さ約0.4mmの樹脂硬化フィルムを作製した。
Evaluation of handleability Each carrier film was peeled from each of the resin films with a carrier film obtained in Examples 1 to 5, and 12 sheets of the obtained resin films were stacked. And then press-molded at 200 ° C. and 1.5 MPa for 1 hour to produce a cured resin film having a thickness of about 0.4 mm.

比較例1で得られたキャリヤフィルム付き樹脂フィルムから、実施例1〜5のキャリヤフィルム付き樹脂フィルムと同様にして、樹脂成形フィルムを作製した。同様にして比較例2〜4の樹脂フィルムをプレス成形して、それぞれの樹脂硬化フィルムを作製した。しかしながら、比較例2のキャリヤフィルム付き樹脂フィルムは、樹脂フィルム層がシアネートエステル樹脂単独のフィルムであるため、キャリヤフィルムを剥離しようとすると、樹脂フィルム自体が脆いため割れてしまい、フィルム単独で扱うことができなかった。その結果、樹脂硬化フィルムを作製することができなかった。また、比較例4のキャリアフィルム付き樹脂フィルムは、樹脂フィルム層がエポキシ樹脂単独のフィルムのため、同様に樹脂フィルム自体が脆いため割れてしまい、フィルム単独で扱うことができず、樹脂硬化フィルムを作製することができなかった。   A resin molded film was produced from the resin film with a carrier film obtained in Comparative Example 1 in the same manner as the resin films with a carrier film in Examples 1 to 5. Similarly, the resin films of Comparative Examples 2 to 4 were press-molded to produce respective cured resin films. However, since the resin film with the carrier film of Comparative Example 2 is a film of the cyanate ester resin alone, when the carrier film is peeled off, the resin film itself is fragile and cracks, and the film is handled alone. I could not. As a result, a cured resin film could not be produced. Moreover, since the resin film layer of the resin film with a carrier film of the comparative example 4 is a film made of an epoxy resin alone, the resin film itself is also fragile and cracks, and the resin cured film cannot be handled alone. It could not be produced.

耐溶媒性の評価
上記のようにして得られた樹脂硬化フィルムを、50mm角に切断して、トルエン中に浸漬し、室温で60分間放置した。実施例1〜5の樹脂硬化フィルムは、膨潤および外観変化が見られなかった。また、別に用意した実施例1〜5の樹脂硬化フィルムの表面を、トルエンまたはメチルエチルケトンを含ませた布で数回擦ってフィルム表面の異常の有無を観察したが、いずれの樹脂硬化フィルムも、フィルム表面の異常は見られなかった。以上のことから、実施例1〜5の樹脂硬化フィルムは、耐溶媒性が良好であることが確認できた。
Evaluation of solvent resistance The cured resin film obtained as described above was cut into 50 mm squares, immersed in toluene, and allowed to stand at room temperature for 60 minutes. In the cured resin films of Examples 1 to 5, neither swelling nor appearance change was observed. Moreover, although the surface of the resin cured film of Examples 1-5 prepared separately was rubbed several times with the cloth containing toluene or methyl ethyl ketone, the presence or absence of abnormality of the film surface was observed. No surface abnormality was observed. From the above, it was confirmed that the cured resin films of Examples 1 to 5 had good solvent resistance.

しかしながら、比較例1の樹脂成形フィルムを50mm角に切断して、トルエン中に浸漬し、室温で60分間放置したところ、ポリフェニレンオキシド単独の樹脂成形フィルムであるため膨潤し、一部は溶解してしまった。また別の樹脂成形フィルムの表面をトルエンを含ませた布で数回擦ったところ、フィルムの表面が溶けてべたつきが発生した。また別の樹脂成形フィルムの表面をメチルエチルケトンを含ませた布で数回擦ったところ、フィルムにひびわれ(亀裂)が生じ、遂には穴が明いて切断してしまった。   However, the resin molded film of Comparative Example 1 was cut into 50 mm squares, immersed in toluene, and allowed to stand at room temperature for 60 minutes. As a result, the resin molded film of polyphenylene oxide alone swelled and partly dissolved. Oops. Further, when the surface of another resin molded film was rubbed several times with a cloth containing toluene, the surface of the film melted and stickiness was generated. Moreover, when the surface of another resin molded film was rubbed several times with a cloth containing methyl ethyl ketone, the film was cracked (cracked), and finally it was perforated and cut.

以上の結果から、本発明のポリフェニレンオキシド変性シアネートエステル系樹脂フィルムは、フィルムとして単独での取扱が可能であり、かつ耐溶媒性も良好であることが確認できた。   From the above results, it was confirmed that the polyphenylene oxide-modified cyanate ester resin film of the present invention can be handled alone as a film and has good solvent resistance.

誘電特性、ガラス転移温度および引張弾性率の評価
次に、実施例1〜5および比較例3で得られた硬化性フィルム用樹脂ワニスを用いた樹脂フィルムの硬化物について、ギガヘルツ帯での誘電特性、ガラス転移温度および引張弾性率を評価した。
Evaluation of Dielectric Properties, Glass Transition Temperature, and Tensile Elastic Modulus Next, for cured products of resin films using the resin varnishes for curable films obtained in Examples 1 to 5 and Comparative Example 3, dielectric properties in the gigahertz band The glass transition temperature and the tensile modulus were evaluated.

銅箔を化学エッチングで完全に除去した樹脂硬化物を、RFインピーダンス/マテリアルアナライザ(アジレントテクノロジー社製、HP 4291B)を用いて、1GHzにおける誘電率および誘電正接を測定した。また、銅箔を化学エッチングで完全に除去した樹脂の硬化物から、試験片を切出し、広域粘弾性測定装置(株式会社レオロジー製DVE)を用いて、引張モード(周波数;10Hz、昇温;5℃/min)でガラス転移温度(Tg)および40℃における引張弾性率を測定した。それらの結果を表2に示す。   The cured resin from which the copper foil was completely removed by chemical etching was measured for dielectric constant and dielectric loss tangent at 1 GHz using an RF impedance / material analyzer (manufactured by Agilent Technologies, HP 4291B). Further, a test piece was cut out from a cured resin obtained by completely removing the copper foil by chemical etching, and using a wide area viscoelasticity measuring device (DVE manufactured by Rheology Co., Ltd.), a tensile mode (frequency: 10 Hz, temperature increase: 5 The glass transition temperature (Tg) and the tensile modulus at 40 ° C. were measured at (° C./min). The results are shown in Table 2.

Figure 2011208150
Figure 2011208150

表2より、本発明の変性シアネートエステル系樹脂を用いた樹脂フィルムは、シアネートエステル類を特定の1価フェノール類と反応させているために、ギガヘルツ帯の誘電特性、特に誘電正接が低いことが確認できた。   From Table 2, since the resin film using the modified cyanate ester resin of the present invention is reacted with specific monohydric phenols, the cyanate ester has a low dielectric property, particularly a dielectric loss tangent. It could be confirmed.

多層配線板の作成と評価
次に、実施例1〜5および比較例3で得られた樹脂ワニスをそれぞれ用いて、銅箔付き樹脂フィルムを作製し、印刷配線板用多層材料としての特性を評価した。
Preparation and Evaluation of Multilayer Wiring Board Next, using each of the resin varnishes obtained in Examples 1 to 5 and Comparative Example 3, a resin film with a copper foil was prepared, and the characteristics as a multilayer material for printed wiring boards were evaluated. did.

実施例1〜5および比較例3で得られた樹脂ワニスを、バーコータの一種であるコンマコータ(株式会社ヒラノテクシード製)を用いて、厚さ18μmの電解銅箔の粗化面に塗工し、140℃で2分間乾燥して、樹脂層厚さ;60〜70μmの銅箔付樹脂フィルムを作製した。得られた樹脂フィルムは、いずれもカッタナイフで切断しても樹脂割れや粉落ちがなく、取扱性に優れていた。   The resin varnishes obtained in Examples 1 to 5 and Comparative Example 3 were coated on a roughened surface of an electrolytic copper foil having a thickness of 18 μm using a comma coater (manufactured by Hirano Techseed Co., Ltd.) which is a kind of bar coater. The resin film with a copper foil having a resin layer thickness of 60 to 70 μm was prepared by drying at 2 ° C. for 2 minutes. None of the obtained resin films were excellent in handleability because they did not crack or fall off even when cut with a cutter knife.

ついで、表面処理を施した導体回路(回路用銅箔厚さ;18μm)を形成したガラス布基材の内層回路板(基材厚さ;0.1mm)の両面に、前記銅箔付き樹脂フィルムを、樹脂層が内層回路に接するように重ね、200℃、2.5MPaの条件で60分プレス成形して、4層配線板を作製した。   Subsequently, the resin film with copper foil is formed on both surfaces of the inner layer circuit board (base material thickness: 0.1 mm) of the glass cloth base material on which the surface-treated conductor circuit (copper foil thickness for circuit; 18 μm) is formed. Were stacked so that the resin layer was in contact with the inner layer circuit, and press molded at 200 ° C. and 2.5 MPa for 60 minutes to produce a four-layer wiring board.

このようにして得られた4層印刷配線板について、以下に示す方法により、耐湿性、はんだ耐熱性および銅箔ピール強さを評価した。その結果を表3に示す。
<特性評価方法>
・成形性;4層配線板の外層銅を化学エッチングによって完全に除去し、目視により、内層回路への樹脂の充填性(ボイドやカスレの有無)を判定した。
・耐湿性:4層配線板の外層の銅箔を、化学エッチングによって完全に除去し、121℃、2.1気圧のプレッシャークッカ試験器に装入して、192時間経過後の、樹脂硬化物と内層銅箔面との接着性を観察した。
・はんだ耐熱性:外層銅箔付きの25mm角4層板を、260℃の溶融はんだに浮かべ、ふくれが発生するまでの時間を測定した。
・銅箔ピール強さ:JIS C6481に準拠して測定した。
The four-layer printed wiring board thus obtained was evaluated for moisture resistance, solder heat resistance, and copper foil peel strength by the following methods. The results are shown in Table 3.
<Characteristic evaluation method>
Moldability: The outer layer copper of the four-layer wiring board was completely removed by chemical etching, and the resin filling property (the presence or absence of voids or creaking) of the inner layer circuit was visually determined.
-Moisture resistance: The copper foil of the outer layer of the four-layer wiring board is completely removed by chemical etching, and the cured resin product after 192 hours has been loaded into a pressure cooker tester at 121 ° C and 2.1 atm. And the adhesiveness between the inner layer copper foil surfaces were observed.
Solder heat resistance: A 25 mm square four-layer plate with an outer layer copper foil was floated on 260 ° C. molten solder, and the time until blistering was measured.
Copper foil peel strength: measured in accordance with JIS C6481.

Figure 2011208150
Figure 2011208150

表3に示したように、実施例1〜5の樹脂ワニスから得られた銅箔付き樹脂フィルムを用いた4層配線板は、プレッシャークッカ試験によって剥がれを生ずることなく、耐湿性が高かった。それに対して、比較例3の樹脂ワニスから得られた樹脂フィルムを用いた配線板は、プレッシャークッカ試験において剥がれが認められ、耐湿性が劣っていた。この結果、本発明の銅箔付き樹脂フィルムは、配線板とした際の耐湿性が高いことが確認できた。また、これらの樹脂フィルムは、多層配線板材料として成形性が良好であった。さらに、本発明の樹脂組成物がシアネートエステル樹脂を特定の1価フェノール化合物と反応させたことにより、それを硬化して得られた本発明の銅箔付き樹脂フィルムを用いた4層配線板は、はんだ耐熱性が良好であり、従来のガラス布を基材に用いた接着用プリプレグと同様の特性を有することが確認できた。   As shown in Table 3, the four-layer wiring board using the resin film with copper foil obtained from the resin varnishes of Examples 1 to 5 had high moisture resistance without causing peeling by the pressure cooker test. On the other hand, the wiring board using the resin film obtained from the resin varnish of Comparative Example 3 was found to be peeled off in the pressure cooker test and was inferior in moisture resistance. As a result, it was confirmed that the resin film with copper foil of the present invention had high moisture resistance when used as a wiring board. Further, these resin films had good moldability as a multilayer wiring board material. Furthermore, the 4-layer wiring board using the resin film with copper foil of the present invention obtained by curing the cyanate ester resin with a specific monohydric phenol compound by the resin composition of the present invention reacts with It was confirmed that the heat resistance of the solder was good and that it had the same characteristics as those of the prepreg for bonding using a conventional glass cloth as a base material.

高分子材料などの誘電特性は、双極子の配向分極による影響が大きい。したがって分子内の極性基を少なくすることにより低誘電率化が図れ、また極性基の運動性を抑えることにより誘電正接を低くすることが可能になる。シアネートエステル樹脂は、極性の強いシアナト基を有していながら、硬化の際に、対称性かつ剛直なトリアジン構造を生成するので、熱硬化性樹脂としては最も低い誘電率および誘電正接を有する硬化物が得られる。   The dielectric properties of polymer materials and the like are greatly influenced by the orientation polarization of the dipole. Therefore, the dielectric constant can be lowered by reducing the polar groups in the molecule, and the dielectric loss tangent can be lowered by suppressing the mobility of the polar groups. Cyanate ester resin has a highly polar cyanate group, but generates a symmetric and rigid triazine structure upon curing. Therefore, the cured product has the lowest dielectric constant and dielectric loss tangent as a thermosetting resin. Is obtained.

しかしながら、実際の硬化反応においては、シアネートエステル樹脂中のすべてのシアナト基が反応してトリアジン構造を生成するということは不可能であり、硬化反応の進行に伴い、反応系が流動性を失って、未反応のシアナト基として系内に残存することになる。その結果、これまでのシアネートエステル樹脂では、本来の硬化物が示すはずの特性よりは、誘電率や誘電正接が高い硬化物しか得られなかった。   However, in the actual curing reaction, it is impossible for all cyanate groups in the cyanate ester resin to react to form a triazine structure, and as the curing reaction proceeds, the reaction system loses fluidity. , It remains in the system as an unreacted cyanato group. As a result, with the conventional cyanate ester resins, only cured products having a higher dielectric constant and dielectric loss tangent than the properties that the original cured product should exhibit were obtained.

これに対して、本発明の樹脂組成物では、(B)フェノール類、特に一般式〔2〕で示される1価フェノール類を、(A)シアネートエステル樹脂に対して適正量配合することで、未反応で残るシアナト基をイミドカーボネート化してその極性を減じることにより、硬化物の誘電率と誘電正接を本来の値まで低下させることができた。   On the other hand, in the resin composition of the present invention, (B) phenols, in particular, monohydric phenols represented by the general formula [2] are blended in an appropriate amount with respect to (A) cyanate ester resin. It was possible to reduce the dielectric constant and dielectric loss tangent of the cured product to their original values by converting the unreacted remaining cyanate group to imide carbonate and reducing its polarity.

従来、シアネートエステルの三量化反応(トリアジン環の生成)の助触媒として、ノニルフェノール等のフェノール化合物が、シアネートエステル100重量部に対して1〜2重量部程度用いられる場合があった。しかし、配合量が触媒量であったため、上記のような未反応のシアナト基と反応し極性を下げるという効果は認められなかった。それに対して、本発明者らがフェノール化合物の配合量について検討した結果、フェノール化合物を従来の触媒量よりも多量に配合した場合に、硬化物の誘電率と誘電正接が低下することを認め、かつ特定の1価フェノール類を用いれば、配合量が増えることによる耐熱性の低下も抑制できることを見出した。そのため、本発明の方法によれば、これまでのシアネートエステル樹脂単独の硬化物、ならびに従来のエポキシ樹脂および多価フェノール類(これらは、一部の水酸基が未反応基として残り易いため、誘電特性をかえって悪化させる傾向がある)、あるいはビスマレイミドなどを配合した樹脂の硬化物よりも、誘電率と誘電正接の低い硬化物が得られる。   Conventionally, phenol compounds such as nonylphenol are sometimes used in an amount of about 1 to 2 parts by weight per 100 parts by weight of cyanate ester as a cocatalyst for the trimerization reaction of cyanate ester (generation of triazine ring). However, since the blending amount was a catalyst amount, the effect of reacting with the unreacted cyanato group as described above to lower the polarity was not recognized. On the other hand, as a result of studying the blending amount of the phenolic compound by the present inventors, when the phenolic compound is blended in a larger amount than the conventional catalyst amount, it is recognized that the dielectric constant and the dielectric loss tangent of the cured product are reduced, And when specific monohydric phenols were used, it discovered that the fall of the heat resistance by the compounding quantity increase could also be suppressed. Therefore, according to the method of the present invention, conventional cured products of cyanate ester resins alone, as well as conventional epoxy resins and polyhydric phenols (since some of these hydroxyl groups tend to remain as unreacted groups, the dielectric properties Or a cured product having a lower dielectric constant and dielectric loss tangent than a cured product of a resin blended with bismaleimide or the like.

ところで、配線板用絶縁材料には、樹脂材料の吸水率が低いことが望まれ、さらに加湿後にも接着力が維持される必要がある。これは、電子機器の製造工程および使用環境を考慮した特性であり、耐湿性試験としてプレッシャクッカ等の恒湿恒温層を使用した加速試験等に代表されるように、高い耐湿性が必要となる。本発明では、エポキシ樹脂を変性シアネートエステル系樹脂に添加することにより、耐湿性が高く、誘電率や誘電正接が低い新規樹脂組成物を提供することが可能である。これを銅箔やキャリアフィルムの片面に流延塗布し、加熱乾燥により溶媒を除去して相溶性樹脂フィルムを得ることができる。   By the way, the insulating material for wiring boards is desired to have a low water absorption rate of the resin material, and it is necessary to maintain the adhesive force even after humidification. This is a characteristic that takes into account the manufacturing process and use environment of electronic equipment, and high humidity resistance is required as represented by an accelerated test using a constant temperature and constant temperature layer such as a pressure cooker as a moisture resistance test. . In the present invention, it is possible to provide a novel resin composition having high moisture resistance and low dielectric constant and dielectric loss tangent by adding an epoxy resin to the modified cyanate ester resin. This can be cast coated on one side of a copper foil or carrier film, and the solvent can be removed by heat drying to obtain a compatible resin film.

本発明の変性シアネートエステル系硬化性樹脂組成物から得られるフィルムは、特に高周波特性に優れているので、無線通信関連の端末機器やアンテナおよび高クロック周波数のマイクロプロセッサを搭載する高速コンピュータなどの印刷配線板用の製造に適している。   Since the film obtained from the modified cyanate ester-based curable resin composition of the present invention is particularly excellent in high-frequency characteristics, printing such as high-speed computers equipped with wireless communication-related terminal devices, antennas, and high clock frequency microprocessors, etc. Suitable for manufacturing for wiring boards.

さらに、本発明のフィルムより、配線板にガラス布などの基材を含まないことによって、印刷配線板の薄形化や軽量化が可能で、かつビルドアップ積層方式によってIVH(インタスティシャル・バイアホール)構造の接続孔が容易に形成でき、配線の高密度化にも有効な、耐熱性絶縁ワニスおよびフィルムが提供される。   Furthermore, by not including a substrate such as glass cloth in the wiring board from the film of the present invention, the printed wiring board can be made thinner and lighter, and IVH (interstitial via) can be formed by a build-up lamination method. Provided are a heat-resistant insulating varnish and a film that can be easily formed with a connection hole having a (hole) structure and are effective in increasing the density of wiring.

Claims (19)

(A)1分子中に少なくとも2個のシアナト基を有するシアネートエステル化合物;
(B)フェノール類;
(C)熱可塑性樹脂;および
(D)エポキシ樹脂
を含むことを特徴とする変性シアネートエステル系樹脂組成物。
(A) a cyanate ester compound having at least two cyanato groups in one molecule;
(B) phenols;
(C) a thermoplastic resin; and (D) a modified cyanate ester-based resin composition comprising an epoxy resin.
(A)が、一般式〔1〕:
Figure 2011208150

(式中、R1は、
Figure 2011208150

を表し;そして
2およびR3は、たがいに同一でも異なっていてもよく、水素またはメチル基を表す);
で示されるシアネートエステル化合物である、請求項1記載の樹脂組成物。
(A) is represented by the general formula [1]:
Figure 2011208150

(Wherein R 1 is
Figure 2011208150

And R 2 and R 3 may be the same or different and each represents hydrogen or a methyl group);
The resin composition of Claim 1 which is a cyanate ester compound shown by these.
(B)が、一般式〔2〕:
Figure 2011208150

(式中、R4およびR5は、たがいに同一でも異なっていてもよく、水素原子またはメチル基を表し;そして
nは1または2である)
で示される1価フェノール類である、請求項1または2記載の樹脂組成物。
(B) is represented by the general formula [2]:
Figure 2011208150

(Wherein R 4 and R 5 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a methyl group; and n is 1 or 2)
The resin composition of Claim 1 or 2 which is monohydric phenol shown by these.
(C)が、ポリフェニレンオキシドである、請求項1〜3のいずれか1項記載の樹脂組成物。   The resin composition according to any one of claims 1 to 3, wherein (C) is polyphenylene oxide. (A)シアネートエステル化合物100重量部に対して、(B)フェノール類の量が4〜30重量部である、請求項1〜4のいずれか1項記載の樹脂組成物。   (A) The resin composition of any one of Claims 1-4 whose quantity of (B) phenols is 4-30 weight part with respect to 100 weight part of cyanate ester compounds. (A)シアネートエステル化合物が、2,2−ビス(4−シアナトフェニル)プロパンもしくは2,2−ビス(3,5−ジメチル−4−シアナトフェニル)メタンのいずれか1種またはこれらの混合物である、請求項1〜5のいずれか1項記載の樹脂組成物。   (A) The cyanate ester compound is any one of 2,2-bis (4-cyanatophenyl) propane and 2,2-bis (3,5-dimethyl-4-cyanatophenyl) methane, or a mixture thereof. The resin composition according to any one of claims 1 to 5, wherein (A′)1分子中に少なくとも2個のシアナト基を有するシアネートエステル化合物と、フェノール類とを反応させて得られる変性シアネートエステル樹脂;
(C)熱可塑性樹脂;および
(D)エポキシ樹脂
を含み、場合によっては、さらに(B)フェノール類を含むことを特徴とする変性シアネートエステル系樹脂組成物。
(A ′) a modified cyanate ester resin obtained by reacting a cyanate ester compound having at least two cyanato groups in one molecule with phenols;
A modified cyanate ester-based resin composition comprising (C) a thermoplastic resin; and (D) an epoxy resin, and optionally (B) a phenol.
(B)フェノール類が、p−(α−クミル)フェノールである、請求項1〜7のいずれか1項記載の樹脂組成物。   (B) The resin composition of any one of Claims 1-7 whose phenols are p-((alpha) -cumyl) phenol. (C)ポリフェニレンオキシドが、ポリ(2,6−ジメチル−1,4−フェニレン)エーテルと、ポリスチレンまたはスチレン−ブタジエンコポリマーとを含むポリマーアロイであり、うちポリ(2,6−ジメチル−1,4−フェニレン)エーテルが50重量%以上である、請求項1〜8のいずれか1項記載の樹脂組成物。   (C) Polyphenylene oxide is a polymer alloy containing poly (2,6-dimethyl-1,4-phenylene) ether and polystyrene or styrene-butadiene copolymer, of which poly (2,6-dimethyl-1,4 The resin composition according to any one of claims 1 to 8, wherein -phenylene) ether is 50% by weight or more. (D)エポキシ樹脂が、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂、サリチルアルデヒドノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールFノボラック型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、ヒダントイン型エポキシ樹脂およびイソシアヌラート型エポキシ樹脂;ならびにそれらの水素添加物およびハロゲン化物からなる群より選ばれる1種または2種以上である、請求項1〜9のいずれか1項記載の樹脂組成物。   (D) The epoxy resin is bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, bisphenol A novolak type epoxy resin, salicylaldehyde novolak type epoxy resin. Bisphenol F novolac type epoxy resin, alicyclic epoxy resin, glycidyl ester type epoxy resin, glycidyl amine type epoxy resin, dicyclopentadiene type epoxy resin, hydantoin type epoxy resin and isocyanurate type epoxy resin; and hydrogenation thereof The resin composition of any one of Claims 1-9 which is 1 type, or 2 or more types chosen from the group which consists of a thing and a halide. さらに、(E)金属化合物触媒を含む、請求項1〜10のいずれか1項記載の樹脂組成物。   Furthermore, the resin composition of any one of Claims 1-10 containing (E) metal compound catalyst. (E)金属化合物触媒が、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅および亜鉛のオクタン酸塩、2−エチルヘキサン酸塩、ナフテン酸塩およびアセチルアセトン錯体から選ばれる1種または2種以上である、請求項11記載の樹脂組成物。   (E) The metal compound catalyst is one or more selected from octanoate, 2-ethylhexanoate, naphthenate and acetylacetone complex of manganese, iron, cobalt, nickel, copper and zinc, Item 11. The resin composition according to Item 11. (A)シアネートエステル化合物100重量部に対して、(D)エポキシ樹脂の量が10〜600重量部である、請求項1〜11のいずれか1項記載の樹脂組成物。   (A) The resin composition of any one of Claims 1-11 whose quantity of (D) epoxy resin is 10-600 weight part with respect to 100 weight part of cyanate ester compounds. 請求項1〜13のいずれか1項記載の樹脂組成物を含む絶縁ワニスを、半硬化もしくは硬化して得られる変性シアネートエステル系樹脂フィルム。   A modified cyanate ester-based resin film obtained by semi-curing or curing an insulating varnish containing the resin composition according to claim 1. 請求項1〜13のいずれか1項記載の樹脂組成物を含むワニスを、金属箔の片面に流延塗布する工程を含む方法によって作成された金属箔付き樹脂フィルム。   The resin film with metal foil produced by the method including the process of carrying out the cast application of the varnish containing the resin composition of any one of Claims 1-13 on the single side | surface of metal foil. 請求項14記載の樹脂フィルムまたは請求項15記載の金属箔付き樹脂フィルムを、あらかじめ内層回路を形成した配線板と積層した後、外層面に回路を形成し、該回路と内層回路とを電気的に導通させて作製した多層プリント配線板。   The resin film according to claim 14 or the resin film with metal foil according to claim 15 is laminated with a wiring board on which an inner layer circuit has been formed in advance, and then a circuit is formed on the outer layer surface to electrically connect the circuit and the inner layer circuit. Multi-layer printed wiring board made by conducting to. 請求項1〜13のいずれか1項記載の樹脂組成物を含むワニスを、キャリヤフィルムの片面に流延塗布する工程を含む方法によって製膜することを含む、樹脂フィルムの製造方法。   A method for producing a resin film, comprising forming a varnish containing the resin composition according to any one of claims 1 to 13 by a method comprising a step of casting and applying the varnish to one side of a carrier film. 請求項1〜13のいずれか1項記載の樹脂組成物を含むワニスを、金属箔の片面に流延塗布する工程を含む方法によって製膜することを含む、樹脂フィルムの製造方法。   A method for producing a resin film, comprising forming a varnish containing the resin composition according to any one of claims 1 to 13 by a method including a step of casting and applying the varnish to one side of a metal foil. 請求項1〜13のいずれか1項記載の樹脂組成物を含むワニスを、あらかじめ内層回路を形成した配線板に塗布する工程を含む方法によって製膜・硬化し、外層面の回路を形成して、該回路を内層回路と電気的に導通させることを含む、多層プリント配線板の製造方法。   A varnish containing the resin composition according to any one of claims 1 to 13 is formed and cured by a method including a step of applying the varnish to a wiring board on which an inner layer circuit has been formed in advance to form a circuit on the outer layer surface. A method for producing a multilayer printed wiring board, comprising electrically connecting the circuit to an inner layer circuit.
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