JPH11121425A - 処理槽及びそれを備えた基板処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 処理槽内で行う複数枚の基板に対する処理を
均一に行う。 【解決手段】 処理槽１０には、先端部５が閉塞され、
基端部３側から導入される処理液を、側面に並設された
多数の処理液噴出口１から処理槽１０内に噴出させる処
理液注入管４または９が取り付けられている。この処理
液注入管４または９は、各処理液噴出口１を形成する液
噴出部２の内径が、この液噴出管部２に処理液を導入す
る基端部３側の液導入口３ａの口径よりも大きくなるよ
うに形成した。さらに、処理液注入管９のように、液導
入口３ａから液噴出管部２に向けて内径が序々に大きく
なるスロープ状管部８を備えることが好ましい。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、先端部が閉塞さ
れ、基端部側から導入される処理液を、側面に並設され
た多数の処理液噴出口から槽内に噴出させる処理液注入
管を有し、複数枚の基板を処理液に浸漬させてこれら基
板を同時に処理するための処理槽及びその処理槽を備え
た基板処理装置に係り、特には、処理槽に取り付ける処
理液注入管の改良技術に関する。

【０００２】

【従来の技術】この種の処理槽は、処理槽内に処理液の
上昇流を形成するために、図８の縦断面図と横断面図に
示すように、先端部１００が閉塞され、基端部１０１側
から導入される処理液を、側面に並設された多数の処理
液噴出口１０２から処理槽１１０内に噴出させる処理液
注入管１０３が底部付近に取り付けらている。この処理
液注入管１０３は、従来、図８（ｂ）に示すように、基
端部１０１から先端部１００に至る管全体の内径ｉｄが
均一に形成された単一の管で製作されている。また、処
理液注入管１０３の基端部１０１への処理液の供給は処
理液供給管１２０を介して処理液供給部１３０から行わ
れる。処理液注入管１０３の基端部１０１側には、各処
理液噴出口１０２が形成されている管部分（液噴出管
部）１０４に処理液を導入する液導入口１０１ａや、処
理液供給管１２０に連結するための継手部１０１ｂが形
成されている。

【０００３】そして、処理槽１１０内に複数枚の基板Ｗ
が配列されて支持され、処理液注入管１０３の各処理液
噴出口１０２から噴出される処理液によって、処理槽１
１０内全体に形成される処理液の上昇流の中に各基板Ｗ
が浸漬されてこれら基板Ｗに所定の処理が行われる。

【０００４】例えば、エッチング処理は、処理液注入管
１０３の各処理液噴出口１０２から噴出された純水によ
り処理槽１１０内に純水が満たされた中に複数枚の基板
Ｗが浸漬された状態で、処理液注入管１０３の各処理液
噴出口１０２からエッチング作用があるフッ酸などの薬
液を噴出させて、処理槽１１０内の処理液を純水から薬
液に置換することで行われる。

【０００５】このように処理液注入管１０３の各処理液
噴出口１０２から処理槽１１０内に全体的に薬液を噴出
して、処理槽１１０内全体に薬液の上昇流を形成するこ
とで、処理槽１１０内全体の処理液の置換を効率よく行
うことができる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
処理槽１１０で、例えば、エッチング処理を行うと、処
理液注入管１０３の先端部１００側に配列される基板Ｗ
のエッチング量と、処理液注入管１０３の基端部１０１
側に配列される基板Ｗのエッチング量とに違いが生じる
など、各基板Ｗに対する処理にバラツキが生じて複数枚
の基板Ｗを均一に処理することができないという問題が
あった。

【０００７】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、処理槽内で行う複数枚の基板に対する
処理を均一に行うことができる処理槽及びそれを備えた
基板処理装置を提供することを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記課題の
発生原因を鋭意研究した結果、以下のような原因による
ことを突き止めた。

【０００９】まず、本発明者は、各基板Ｗに対する処理
にバラツキが生じるのは、処理液注入管１０３の各処理
液噴出口１０２からの処理液の噴出にバラツキがあるこ
とに起因すると予測し、従来使用されている処理液注入
管１０３を用いて、各処理液噴出口１０２からの処理液
の噴出状態を実験した。なお、実験に用いた処理液注入
管１０３は内径ｉｄが１６(mm)であり、また、液導入口
１０１ａから導入する処理液の流量を１０(l/min) とし
た。

【００１０】その結果、各処理液噴出口１０２から噴出
される処理液の水頭長に差が生じていることが確認され
た。すなわち、図９に示すように、処理液注入管１０３
の基端部１０１側の処理液噴出口１０２から先端部１０
０側の処理液噴出口１０２に近づくに従って、噴出され
る処理液の水頭長ｗｌが序々に大きくなるように変化し
ていた。なお、ラインｗｌｔは、先端部１００に最も近
い処理液噴出口１０２から噴出される処理液の水頭長を
示すラインである。

【００１１】この結果、従来の処理槽１１０で、例え
ば、エッチング処理を行うと、処理槽１１０のうち、処
理液注入管１０３の先端部１００側の領域での純水から
薬液への置換と、基端部１０１側の領域での純水から薬
液への置換とで、置換の進行に差が生じて、処理槽１１
０内全体の純水から薬液への置換が均一に行えず、各基
板Ｗごとのエッチング量に差が生じることになり、各基
板Ｗに対する処理にバラツキが生じて複数枚の基板Ｗが
均一に処理されなかった。

【００１２】次に、本発明者は、従来使用されている処
理液注入管１０３の各処理液噴出口１０２から噴出され
る処理液の水頭長ｗｌに差が生じる原因を考察した。そ
の結果、次のことを突き止めた。

【００１３】すなわち、処理液注入管１０３の各処理液
噴出口１０２から噴出される処理液の水頭長ｗｌは、図
９に示すように、液噴出管部１０４内の処理液の動圧ｍ
ｐと静圧ｓｐとの関係で決まる。動圧ｍｐは、管内で処
理液が流れる方向に働く圧力であり、管内に流れる処理
液の流速に依存する。一方、静圧ｓｐは、動圧ｍｐに直
交する方向、すなわち、各処理液噴出口１０２からの処
理液の噴出方向に働く圧力で、各処理液噴出口１０２か
ら噴出される処理液の水頭長ｗｌはこの静圧ｓｐに依存
する。また、ベルヌーイの定理より動圧ｍｐと静圧ｓｐ
との和は常に一定である。

【００１４】従来使用されている処理液注入管１０３
は、基端部１０１から先端部１００に至る管全体の内径
ｉｄが均一に形成されていて、先端部１００が閉塞され
ているので、管内に流される処理液の流速は、先端部１
００に近づくに従って遅くなり、動圧ｍｐは先端部１０
０に近づくに従って低下することになる。一方、動圧ｍ
ｐと静圧ｓｐとの和は常に一定であるので、静圧ｓｐは
先端部１００に近づくに従って高くなる。その結果、各
処理液噴出口１０２から噴出される処理液の水頭長ｗｌ
は、先端部１００に近づくに従って大きくなる。

【００１５】以上の考察を踏まえて、本発明者は、液噴
出管部１０４内における動圧ｍｐの変動を抑制するため
に、図１に示すように、各処理液噴出口１を形成する管
部分である液噴出管部２の内径ｉｄ_A が、この液噴出管
部２に処理液を導入する基端部３側の液導入口３ａの口
径ｉｄ_B よりも大きくなるように形成した処理液注入管
４を製作して、各処理液噴出口１からの処理液の噴出状
態を実験した。なお、実験に用いた処理液注入管４は、
液噴出管部２の内径ｉｄ_A を３０(mm)とし、液導入口の
口径ｉｄ_A を従来品の管内径ｉｄと同じ（ｉｄ_A ＝ｉｄ
＝１６(mm)）とし、また、処理液噴出口１の個数、各処
理液噴出口１の間の間隔、及び、先端部５に最も近い処
理液噴出口１（１_T ）と先端部５の内壁５ａとの間の距
離ｔｘを従来品と同じにしている。なお、液噴出管部２
の長さｐｌは３６０(mm)である。また、基端部３には、
図示しない処理液供給管（従来技術の符号１２０に相当
する管）と連結するための継手部６ａが形成された細管
６が接合され、その細管６の内径を液導入口３ａの口径
ｉｄ_A と同じに形成している。さらに、液導入口３ａか
ら導入する処理液の流量も従来品での実験と同じ１０(l
/min) とした。なお、処理液注入管４（液噴出管部２）
の先端部５は閉塞しており、液導入口３ａの周囲の段差
部７も閉塞している。

【００１６】この実験の結果、図１に示すように、基端
部３側の処理液噴出口１から噴出される処理液の水頭長
ｗｌに若干の乱れがあるが、全体的には、従来品に比べ
て各処理液噴出口１から噴出される処理液の水頭長ｗｌ
の差が抑制されていることが確認できた。

【００１７】図１の処理液注入管４は、口径の小さい液
導入口３ａからその口径より大きい内径の液噴出管部２
に処理液が流れ込む構造としたことにより、内径が管全
体で均一な従来品に比べて、液噴出管部２内における動
圧ｍｐの変動が抑制され、その結果、各処理液噴出口１
から噴出される処理液の水頭長ｗｌの差を抑制できたも
のである。従って、例えば、図１の処理液注入管４から
細管６を省略した構造、すなわち、側面に多数の処理液
噴出口１が並設され、先端部５と基端部３とが閉塞され
た管（液噴出管部２）の基端部３側の閉塞壁にその管の
内径（ｉｄ_A ）よりも小さい口径の開口を設け、その開
口を液導入口３ａとしたような構造の処理液注入管でも
図１の処理液注入管４と同様の効果を得ることができ
る。なお、この変形については、以下の図２、図３の各
処理液注入管についても同様に適用できる。

【００１８】次に、本発明者は、図１の構造の処理液注
入管４において、基端部３側の処理液噴出口１から噴出
される処理液の水頭長ｗｌに乱れが生じる原因を考察し
た。その結果、図１の構造の処理液注入管４は、液導入
口３ａの周囲の段差部７の内側の管内部分７ａで、液導
入口３ａから液噴出管部２に流れ込む処理液に乱流が生
じ、その乱流の影響で基端部３側の処理液噴出口１から
噴出される処理液の水頭長ｗｌに乱れが生じるとの結論
に達した。

【００１９】例えば、基端部３に最も近い処理液噴出口
１（１_B ）と、段差部７の内壁７ｂとの間の距離ｂｘを
十分に大きくとれば、段差部７の内側の管内部分７ａで
の処理液の乱流による影響を受けずに、基端部３側の処
理液噴出口１から噴出される処理液の水頭長に乱れがな
くなることが期待できる。しかしながら、この処理液注
入管４は、処理槽に取り付けられるものであり、処理槽
全体の構造や、その処理槽を組み込む基板処理装置の全
体的な構造上、処理液注入管４全体の管長に制限が設け
られることもある。

【００２０】そこで、本発明者は、上記距離ｂｘをでき
る限り短くしつつ、段差部７の内側の管内部分７ａでの
処理液に乱流の発生を抑制するために、図１の構造の処
理液注入管４をさらに改良して、図２に示すように、液
導入口３ａから液噴出管部２に向けて内径が序々に大き
くなるスロープ状管部８を備えた処理液注入管９を製作
して、各処理液噴出口１からの処理液の噴出状態を実験
した。なお、実験に用いた処理液注入管９はスロープ状
管部８の傾斜角度θを略６０°とした。その他、液噴出
管部２の内径ｉｄ_A 、液導入口３ａの口径及び細管６の
内径ｉｄ_B 、液噴出管部２の長さｐｌ、処理液噴出口１
の個数、各処理液噴出口１の間の間隔、前記距離ｔｘは
図１の処理液注入管４と同じとし、また、液導入口３ａ
から導入する処理液の流量も上記各実験と同じ１０(l/m
in) とした。なお、前記傾斜角度θは、９０°よりも小
さければよく、９０°より小さければ前記６０°より大
きくても小さくてもよいが、小さくなるほど乱流の発生
を抑制できて好ましい。

【００２１】この実験の結果、図２に示すように、基端
部３側の処理液噴出口１から噴出される処理液の水頭長
ｗｌの乱れもほとんどなくなり、さらに、全体的には、
各処理液噴出口１から噴出される処理液の水頭長ｗｌの
差が、図１の構造の処理液注入管４よりもさらに抑制さ
れたことを確認できた。なお、各処理液噴出口１から噴
出される処理液の全体的な水頭長ｗｌの差が、図１の構
造の処理液注入管４よりもさらに抑制されたのは、段差
部７の内側の管内部分７ａでの処理液の乱流の発生を抑
制したことにより、液噴出管部２内の処理液の動圧ｍｐ
の変動が一層抑制された結果であると推測される。

【００２２】なお、スロープ状管部８は、液導入口３ａ
から液噴出管部２に向けて内径が序々に大きくなってい
ればよいので、図２に示すように、内径が曲線状になだ
らかに大きくなるように構成する以外にも、例えば、図
３（ａ）に示すように、断面形状で内径が直線状に大き
くなるように、すなわち、テーパー状に構成してもよ
い。さらに、スロープ状管部８は管内径が徐々に大きく
なっていればよいので、管外形を管内径に追従させる必
要はなく、例えば、スロープ状管部８を図３（ｂ）、
（ｃ）に示すように構成してもよい。図３各図のように
スロープ状管部８を形成しても図２の構造の処理液注入
管９と同様の効果を得ることができる。

【００２３】以上に述べた研究を基に、本発明者は、上
記目的を達成し得る以下の請求項１ないし３に記載の発
明をなすに至った。

【００２４】すなわち、請求項１に記載の発明に係る処
理槽は、先端部が閉塞され、基端部側から導入される処
理液を、側面に並設された多数の処理液噴出口から槽内
に噴出させる処理液注入管を有し、複数枚の基板を処理
液に浸漬させてこれら基板を同時に処理するための処理
槽において、前記処理液注入管は、前記各処理液噴出口
を形成する液噴出管部の内径が、この液噴出管部に処理
液を導入する基端部側の液導入口の口径よりも大きくな
るように形成したことを特徴とするものである。

【００２５】請求項２に記載の発明に係る処理槽は、上
記請求項１に記載の処理槽において、前記処理液注入管
は、前記液導入口から前記液噴出管部に向けて内径が序
々に大きくなるスロープ状管部を備えていることを特徴
とするものである。

【００２６】請求項３に記載の発明に係る基板処理装置
は、上記請求項１または２に記載の処理槽を備えたこと
を特徴とするものである。

【００２７】

【作用】請求項１に記載の発明によれば、処理槽に取り
付ける処理液注入管を、各処理液噴出口を形成する液噴
出管部の内径が、この液噴出管部に処理液を導入する基
端部側の液導入口の口径よりも大きくなるように形成し
たので、液噴出管部内の処理液の動圧の変動が抑制さ
れ、それに伴って、各処理液噴出口での処理液の静圧が
略同じになり、従来の処理液注入管に比べて各処理液噴
出口から噴出される処理液の水頭長の差を抑制すること
ができる。従って、各処理液噴出口から処理槽内に均一
な条件で処理液を噴出して処理することができる。

【００２８】請求項２に記載の発明によれば、請求項１
に記載の発明における処理液注入管をさらに改良して、
液導入口から液噴出管部に向けて内径が序々に大きくな
るスロープ状管部を備えたので、液導入口から液噴出管
部に流れ込む処理液の乱流が抑制でき、処理液注入管を
できる限り短くしつつ、処理液注入管の基端部側の処理
液噴出口から噴出される処理液の水頭長の乱れも抑制す
ることができ、各処理液噴出口から噴出される処理液の
水頭長のさらなる均一化を図ることができる。また、液
導入口から液噴出管部に流れ込む処理液の乱流が抑制さ
れたことに伴い、請求項１に記載の発明における処理液
注入管よりもさらに、各処理液噴出口から噴出される処
理液の全体的な水頭長の差を抑制することができる。従
って、各処理液噴出口から処理槽内にさらに均一な条件
で処理液を噴出して処理することができる。

【００２９】請求項３に記載の発明によれば、装置に備
えられた請求項１または２に記載の発明に係る処理槽
で、複数枚の基板を処理液に浸漬させて処理する。

【００３０】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を説明する。図４（ａ）は本発明の一実施形態
に係る処理槽の構成を示す縦断面図であり、図４（ｂ）
はその平面図、図５（ａ）は図１の構造の処理液注入管
を取り付けた場合の処理槽の横断面図、図５（ｂ）は図
２の構造の処理液注入管を取り付けた場合の処理槽の横
断面図である。

【００３１】図に示す処理槽１０は、略箱型の形状を有
し、その底面１０ａが正面視でＶ字型となるように中央
部を下方に窪ませて形成されている。処理槽１０の側面
１０ｂの上部には、処理槽１０の上部から溢れた処理液
を回収する回収部１１が設けられている。回収部１１に
は、排液管１２が接続されていて、回収部１１で回収し
た処理液を排液ドレイン１３に流すように構成されてい
る。また、処理槽１０の底面１０ａには、排液口１４が
設けられている。この排液口１４は、開閉弁１５が介装
された配管１６を介して排液管１２に接続され、開閉弁
１５を開に切り換えることで、処理槽１０内の処理液を
底部から排液ドレイン１３に排出することができるよう
になっている。

【００３２】この処理槽１０内には、複数枚の基板Ｗを
所定の間隔を開けて整列させて支持する支持部材１７が
設けられている。この支持部材１７は図示しない昇降機
構により昇降自在に構成されている。

【００３３】そして、この処理槽１０には、２本の処理
液注入管４または９が処理槽１０の底面１０ａと側面１
０ｂとを連結するように取り付けられている。各処理液
注入管４または９はそれぞれ、各処理液噴出口１を処理
槽１０内に臨ませ、かつ、各処理液噴出口１からの処理
液の噴出方向が水平面よりやや下方を向くように配設さ
れている。なお、処理液注入管４、９の構成は先に詳述
したので、共通する部分は図１、図２と同一符号を付し
てその詳述を省略する。

【００３４】各処理液注入管４または９の基端部３に
は、先端部が二股に分かれた処理液供給管２０が接続さ
れ、この処理液供給管２０を介して、各処理液注入管４
または９に、処理液供給部２１から処理液が供給される
ようになっている。

【００３５】処理槽１０での処理が単一の処理液を用い
たもの（例えば、純水のみによる純水洗浄処理や、単一
の薬液を用いた薬液洗浄処理など）である場合には、処
理液供給部２１は単一の処理液を供給するように構成さ
れる。また、処理槽１０での処理が複数の処理液を用い
たものである（例えば、純水による純水洗浄処理と薬液
による薬液洗浄処理とを行う）場合には、処理液供給部
２１は複数の処理液を選択的に供給できるように構成さ
れる。

【００３６】処理槽１０（底面１０ａ、側面１０ｂ、回
収部１１など）や、処理液注入管４、９は、例えば、石
英で構成される。図１の構造の処理液注入管４を石英で
つくる場合は、細管６と、液噴出管部２となる内径が太
い管とを個別に製造し、これら２本の管を溶接により接
合する。また、図２の構造の処理液注入管９を石英でつ
くる場合は、細管６と、液噴出管部２となる内径が太い
管とを個別に製造し、液噴出管部２となる管の一端側を
熱した状態で引き延ばしてスロープ部７を形成し、その
後、両管を溶接により接合する。

【００３７】なお、処理槽１０や、処理液注入管４、９
は石英に限らず、ＰＶＣ（塩化ビニル樹脂）やＰＥＥＫ
（ポリエーテルエーテルケトン）、ＰＴＦＥ（ポリテト
ラフルオロエチレン）などの材料で構成されていてもよ
い。

【００３８】先に説明したように、図１または図２の構
造の処理液注入管４または９によれば、各処理液噴出口
１から噴出される処理液の水頭長を均一化するように改
良されているので、そのような処理液注入管４または９
を取り付けた上記実施形態に係る処理槽１０によれば、
各処理液噴出口１から処理槽１０内への処理液の噴出を
均一な条件でおこなうことができ、複数枚の各基板Ｗに
対する処理を均一に行うことができる。

【００３９】例えば、上記実施形態に係る処理槽１０に
おいて、処理液注入管４または９の各処理液噴出口１か
ら噴出された純水により処理槽１０内に純水が満たされ
た中に複数枚の基板Ｗが支持部材１７に支持されて浸漬
された状態で、処理液注入管４または９の各処理液噴出
口１からフッ酸などの薬液が噴出させて、処理槽１０内
の処理液を純水から薬液に置換してエッチング処理を行
う場合、各処理液注入管４または９の各処理液噴出口１
から噴出される薬液の水頭長の均一化が図られているの
で、処理槽１０内全体での純水から薬液への置換の進行
が均一に行われ、各基板Ｗごとのエッチング量に差が生
じることになく、各基板Ｗに対する処理を均一に行うこ
とができる。

【００４０】また、上記実施形態に係る処理槽１０によ
れば、処理液注入管４または９の各処理液噴出口１から
噴出された所定の処理液により処理槽１０内にその処理
液が満たされた中に複数枚の基板Ｗが支持部材１７に支
持されて浸漬された状態で、処理液注入管４または９の
各処理液噴出口１から処理槽１０内の処理液と同じ処理
液を噴出させ続けて行うような、単一の処理液による処
理の場合にも、各処理液注入管４または９の各処理液噴
出口１から噴出される薬液の水頭長の均一化が図られて
いるので、各基板Ｗは同じ処理条件で処理され、各基板
Ｗの処理を均一に行うことができる。

【００４１】図６（ａ）は本発明の別の実施形態に係る
処理槽の底部付近の構成を示す縦断面図であり、図６
（ｂ）、（ｃ）は処理液注入管及び処理液注入外管の構
成を示す横断面図である。なお、図６（ｂ）は内側の処
理液注入管を図１の構造の処理液注入管で構成した場合
を示し、図６（ｃ）は図２の構造の処理液注入管で構成
した場合を示している。

【００４２】この実施形態は、図１または図２の構造の
処理液注入管４または９の液噴出管部２の周囲にさらに
処理液注入外管３０を取り付けて、２重管構造に構成し
ている。各処理液注入外管３０の両端部は閉塞されてお
り、その側面に、処理液注入管４または９の処理液噴出
口１と同数の処理液噴出口３１が、処理液注入管４また
は９の各処理液噴出口１の間隔と同じ間隔で形成されて
いる。各処理液注入外管３０はそれぞれ、各処理液噴出
口３１を処理槽１０内に臨ませ、かつ、各処理液噴出口
３１からの処理液の噴出方向が水平面よりやや下方を向
くように配設されている。各処理液注入管４または９と
各処理液注入外管３０とは同芯状に配設され、各処理液
噴出口１からの処理液の噴出方向と、各処理液噴出口３
１からの処理液の噴出方向とは、互いに反対方向となる
ように構成されている。また、各処理液噴出口１と各処
理液噴出口３１との軸方向の位置にズレがないように、
すなわち、軸線ＣＪに直交する軸ＨＪ上に各処理液噴出
口１と各処理液噴出口３１とが配置されるように構成さ
れている。なお、処理液注入外管３０の処理液噴出口３
１は、処理液注入管４または９の各処理液噴出口１より
も大きく形成するのが好ましい。また、処理液注入外管
３０は、処理液注入管４または９と同様の材料で構成さ
れる。その他の構成は上記図４、図５の実施形態と同様
の構成を有するので、共通する部分は図４、図５と同一
符号を付してその詳述を省略する。

【００４３】この処理槽１０によれば、処理液注入管４
または９の各処理液噴出口１から噴出された処理液は、
処理液注入外管３０の内周面にぶつかり速度が減ぜられ
て２方向に分岐し、その後、処理液注入外管３０の内周
面と処理液注入管４または９の外周面との間の空間３２
を回り込んで、各処理液噴出口３１で２方向からの処理
液が合流し、各処理液噴出口３１から噴出されることに
なるので、各処理液噴出口３１から噴出される処理液の
水頭長をさらに均一にすることができる。

【００４４】なお、上記各実施形態に係る処理槽１０に
は、回収部１１を備えているが、回収部１１を備えてい
ない処理槽であっても本発明は同様に適用できる。

【００４５】このような処理槽１０は、各種のバッチ式
の基板処理装置に備えられる処理槽として用いることが
できる。

【００４６】例えば、図７（ａ）の平面図に示すよう
な、複数枚の基板に各種の洗浄処理を施す複数個の処理
槽を備えたウエットステーションと呼ばれる基板処理装
置の各処理槽として、上記実施形態に係る処理槽１０を
用いることにより、各処理槽での洗浄処理を均一に行う
ことができる。なお、図中の符号４０は搬入搬出部を示
し、この搬入搬出部４０で、カセットに収容された複数
枚の基板を取り出すととともに、処理済の基板をカセッ
トに収容する処理が行われる。符号４１は、搬入搬出部
４０でカセットから取り出された複数枚の基板を一括保
持して、各処理槽１０に順次搬送するとともに、処理済
の複数枚の基板を搬入搬出部４０に引き渡す動作を行う
搬送装置である。

【００４７】また、図７（ｂ）の縦断面図に示すよう
に、複数枚の基板Ｗに１または複数の洗浄処理を１台で
行う処理槽を密閉チャンバ５０内に収容し、かつ、ノズ
ル５１から密閉チャンバ５０内にＩＰＡ（イソプロピー
ルアルコール）などの有機溶剤を供給可能に構成した
り、さらに、密閉チャンバ５０内を減圧可能に構成する
などして複数枚の基板Ｗに対する洗浄処理と乾燥処理と
を密閉チャンバ５０内で行うように構成した基板処理装
置の処理槽として、上記実施形態に係る処理槽１０を用
いることにより、処理槽での洗浄処理を均一に行うこと
ができる。なお、図７（ｂ）では、密閉チャンバ５０の
底部に排気・排液口５１を備えていて、処理槽１０から
溢れ出た処理液を密閉チャンバ５０内に流して、排気・
排液口５１から排液管１２を介して排液ドレイン１３に
排出するように構成しているので、処理槽１０に回収部
１１を備えていないが、回収部１１を備えた処理槽１０
を密閉チャンバ５０に収容してもよい。

【００４８】さらに、実開平６−３１１４２号公報に開
示されているような１台以上の処理槽と基板乾燥装置と
を組み込んだ基板処理装置の処理槽として、上記実施形
態に係る処理槽１０を用いることにより、処理槽での洗
浄処理を均一に行うことができる。

【００４９】その他の構成で洗浄処理、または、洗浄処
理及び乾燥処理を行う基板処理装置の処理槽としても上
記実施形態に係る処理槽１０を用いることもできる。

【００５０】さらに、洗浄処理や、洗浄処理及び乾燥処
理以外の基板処理を行う基板処理装置であっても、先端
部が閉塞され、基端部側から導入される処理液を、側面
に並設された多数の処理液噴出口から槽内に噴出させる
処理液注入管を有し、複数枚の基板を処理液に浸漬させ
てこれら基板を同時に処理するための処理槽を備えたも
のであれば、上記実施形態に係る処理槽１０を適用する
ことができる。

【００５１】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、請求項
１に記載の発明によれば、処理槽に取り付ける処理液注
入管を、各処理液噴出口を形成する液噴出管部の内径
が、この液噴出管部に処理液を導入する基端部側の液導
入口の口径よりも大きくなるように形成したので、従来
の処理液注入管に比べて各処理液噴出口から噴出される
処理液の水頭長の差を抑制することができる。従って、
従来装置に比べて、複数枚の各基板に対する処理をより
均一に行うことができる処理槽を実現することができ
る。

【００５２】請求項２に記載の発明によれば、請求項１
に記載の発明における処理液注入管をさらに改良して、
液導入口から液噴出管部に向けて内径が序々に大きくな
るスロープ状管部を備えたので、請求項１に記載に発明
における処理液注入管よりもさらに、各処理液噴出口か
ら噴出される処理液の水頭長の差を全体的に抑制するこ
とができ、複数枚の各基板に対する処理のさらなる均一
化が図れる処理槽を実現することができる。

【００５３】請求項３に記載の発明によれば、請求項１
または２に記載の発明で説明した効果が得られる処理槽
を備えた基板処理装置を実現することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】請求項１に記載の発明の要部である処理液注入
管の構成を示す横断面図である。

【図２】請求項２に記載の発明の要部である処理液注入
管の構成を示す横断面図である。

【図３】図２のスロープ状管部の各種の変形例の要部構
成を示す横断面図である。

【図４】本発明の一実施例に係る処理槽の構成を示す縦
断面図と平面図である。

【図５】図１の構造の処理液注入管を取り付けた場合の
処理槽の横断面図と図２の構造の処理液注入管を取り付
けた場合の処理槽の横断面図である。

【図６】本発明の別の実施例に係る処理槽の底部付近の
構成を示す縦断面図と、処理液注入管及び処理液注入外
管の構成を示す横断面図である。

【図７】本発明に係る処理槽を適用できる基板処理装置
の一例の構成を示す図である。

【図８】従来の処理槽の構成を示す縦断面図と横断面図
である。

【図９】従来の処理槽の問題点の発生原因を説明するた
めの図である。

【符号の説明】 １：処理液噴出口 ２：液噴出管部 ３：処理液注入管の基端部 ３ａ：液導入口 ４、９：処理液注入管 ５：処理液注入管の先端部 ８：スロープ状管部 １０：処理槽 Ｗ：基板 ｉｄ_A ：液噴出管部の内径 ｉｄ_B ：液導入口の口径

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 先端部が閉塞され、基端部側から導入さ
   れる処理液を、側面に並設された多数の処理液噴出口か
   ら槽内に噴出させる処理液注入管を有し、複数枚の基板
   を処理液に浸漬させてこれら基板を同時に処理するため
   の処理槽において、 前記処理液注入管は、前記各処理液噴出口を形成する液
   噴出管部の内径が、この液噴出管部に処理液を導入する
   基端部側の液導入口の口径よりも大きくなるように形成
   したことを特徴とする処理槽。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の処理槽において、 前記処理液注入管は、前記液導入口から前記液噴出管部
   に向けて内径が序々に大きくなるスロープ状管部を備え
   ていることを特徴とする処理槽。
3. 【請求項３】 請求項１または２に記載の処理槽を備え
   たことを特徴とする基板処理装置。