JPH11118704A - Durability inspecting device and pulsed light irradiating device - Google Patents
Durability inspecting device and pulsed light irradiating deviceInfo
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- JPH11118704A JPH11118704A JP9291667A JP29166797A JPH11118704A JP H11118704 A JPH11118704 A JP H11118704A JP 9291667 A JP9291667 A JP 9291667A JP 29166797 A JP29166797 A JP 29166797A JP H11118704 A JPH11118704 A JP H11118704A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、光学部品や光学装
置等の被検査対象にパルス光を順次繰り返して照射して
当該被検査対象の耐久性検査を行う耐久性検査装置、及
びこれに用いることができるパルス光照射装置に関する
ものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a durability test apparatus for performing a durability test on an object to be inspected, such as an optical component or an optical device, by sequentially and repeatedly irradiating the object with pulsed light, and a durability inspection apparatus used therefor. And a pulsed light irradiation device.
【0002】[0002]
【従来の技術】半導体製造のためのレーザ光等を用いる
露光装置、レーザCVD装置、レーザアニール装置、レ
ーザドーピング装置、レーザ顕微鏡、レーザ描画装置、
レーザ溶接装置、及びそれらの構成部品(例えば、受光
素子、レンズ、ミラー、液晶素子、それらのパッケー
ジ)、その他の種々の光学部品や光学装置などについて
は、照射されるレーザ光等により劣化する(例えば、レ
ンズのコーティングが劣化したり、パッケージに用いら
れた樹脂が劣化したりする。)ことから、耐久性検査が
行われる。この耐久性検査は、被検査対象にパルス光を
順次繰り返して照射することにより行われる。2. Description of the Related Art An exposure apparatus using a laser beam or the like for manufacturing a semiconductor, a laser CVD apparatus, a laser annealing apparatus, a laser doping apparatus, a laser microscope, a laser drawing apparatus,
The laser welding apparatus, its components (for example, light receiving elements, lenses, mirrors, liquid crystal elements, and their packages), various other optical components and optical devices, and the like are deteriorated by laser light or the like ( For example, the durability of the lens is deteriorated or the resin used for the package is deteriorated.) The durability test is performed by sequentially and repeatedly irradiating the inspection object with pulsed light.
【0003】従来の耐久性検査装置の概略構成図を図5
に示す。この従来の耐久性検査装置は、順次繰り返して
パルス光を発生するパルス光源としてのレーザ光源1で
構成され、該レーザ光源1により発生されたパルス光が
被検査対象2に照射されるようになっている。[0005] FIG. 5 is a schematic configuration diagram of a conventional durability inspection apparatus.
Shown in This conventional durability inspection apparatus includes a laser light source 1 as a pulse light source that sequentially and repeatedly generates pulse light, and the pulse light generated by the laser light source 1 is applied to an object 2 to be inspected. ing.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記従
来の耐久性検査装置では、非常に長い検査時間を要する
欠点があった。However, the conventional durability inspection apparatus has a disadvantage that an extremely long inspection time is required.
【0005】すなわち、耐久性検査は、実使用時間の2
〜10倍の時間をかけて行われ、その後に被検査対象2
を評価する。そのため、前記従来の耐久性検査装置で
は、被検査対象2の実使用時間が例えば1年であるとす
ると、検査時間は2〜10年という長い期間となってい
た。[0005] That is, the durability test is performed in two hours of the actual use time.
It takes 10 to 10 times longer and then the inspection target 2
To evaluate. Therefore, in the conventional durability inspection apparatus, if the actual use time of the inspection target 2 is, for example, one year, the inspection time is a long period of 2 to 10 years.
【0006】このとき、被検査対象2に照射されるパル
ス光の1パルス当たりのパルス強度(ピーク光量)が実
使用時と同じであれば、照射されたパルス数で被検査対
象2の耐久性が決まる。このため、レーザ光源1のパル
ス光発生周波数を、実使用時に被検査対象2に照射され
るパルス光の周波数より上げることができれば、当該周
波数に反比例して、耐久性検査の検査時間を短くするこ
とができる。しかし、レーザ光源1のパルス光発生周波
数を上げるには限界があり、当該周波数を大幅に上げる
ことはできない。したがって、結局、検査時間はさほど
短縮することはできず、依然として非常に長い検査時間
を要することになる。At this time, if the pulse intensity (peak light quantity) per pulse of the pulse light applied to the inspection target 2 is the same as that in actual use, the durability of the inspection target 2 is determined by the number of applied pulses. Is determined. Therefore, if the pulse light generation frequency of the laser light source 1 can be made higher than the frequency of the pulse light applied to the inspection target 2 during actual use, the inspection time of the durability inspection is shortened in inverse proportion to the frequency. be able to. However, there is a limit in increasing the pulse light generation frequency of the laser light source 1, and the frequency cannot be significantly increased. Therefore, after all, the inspection time cannot be reduced so much, and a very long inspection time is still required.
【0007】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たもので、耐久性検査の検査時間を大幅に短縮すること
ができる耐久性検査装置、及びこれに用いることができ
るパルス光照射装置を提供することを目的とする。[0007] The present invention has been made in view of such circumstances, and provides a durability inspection apparatus capable of greatly reducing the inspection time of the durability inspection, and a pulse light irradiation apparatus that can be used for the durability inspection apparatus. The purpose is to provide.
【0008】[0008]
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するた
め、本発明の第1の態様による耐久性検査装置は、被検
査対象にパルス光を順次繰り返して照射して当該被検査
対象の耐久性検査を行う耐久性検査装置であって、順次
繰り返してパルス光を発生するパルス光源と、前記パル
ス光源からの前記パルス光を複数に分割し、分割された
複数のパルス光のうちの全部又は一部の複数のパルス光
を、互いに時間的に重ならないように少なくともその一
部に時間遅延を与えて合成し、単位時間当たりの繰り返
し回数が前記パルス光源からの前記パルス光に比べて増
大するとともに各々のピーク光量が略同一であるパルス
光を生成する繰り返し回数増大手段と、を備え、前記繰
り返し回数増大手段により生成された前記パルス光を前
記被検査対象に照射するものである。In order to solve the above-mentioned problems, a durability inspection apparatus according to a first aspect of the present invention repeatedly irradiates an object to be inspected with pulsed light sequentially and repeatedly. A durability inspection apparatus for performing inspection, comprising: a pulse light source that sequentially generates pulsed light; a pulse light source that divides the pulse light from the pulse light source into a plurality of pieces; and all or one of the plurality of divided pulse lights. The plurality of pulsed lights of the unit are synthesized by giving a time delay to at least a part thereof so as not to overlap each other in time, and the number of repetitions per unit time increases as compared with the pulsed light from the pulsed light source. Means for increasing the number of repetitions for generating pulsed light having substantially the same peak light amount, and irradiating the inspection object with the pulsed light generated by the means for increasing the number of repetitions. Is shall.
【0009】この第1の態様によれば、前記従来の耐久
性検査装置と異なり、パルス光源が発生したパルス光が
直接被検査対象に照射されるのではなく、パルス光源が
発生したパルス光に基づいて繰り返し回数増大手段が生
成したパルス光であって、単位時間当たりの繰り返し回
数が増大したパルス光が、被検査対象に照射される。繰
り返し回数増大手段は、パルス光源からのパルス光を複
数に分割し、分割された複数のパルス光のうちの全部又
は一部の複数のパルス光を、互いに時間的に重ならない
ように少なくともその一部に時間遅延を与えて合成する
ので、繰り返し回数増大手段により生成され被検査対象
に照射されるパルス光の単位時間当たりの繰り返し回数
は、パルス光源が発生するパルス光の単位時間当たりの
繰り返し回数に対して2倍以上となる。According to the first aspect, unlike the conventional durability inspection apparatus, the object to be inspected is not directly irradiated with the pulse light generated by the pulse light source, but is applied to the pulse light generated by the pulse light source. The object to be inspected is irradiated with the pulse light generated by the repetition number increasing means based on the pulse number, the pulse light having an increased number of repetitions per unit time. The means for increasing the number of repetitions divides the pulsed light from the pulsed light source into a plurality of light beams, and at least one of the divided plurality of the pulsed light beams so that they do not temporally overlap each other. The pulse number generated by the repetition number increasing means and applied to the object to be inspected is determined by the number of repetitions per unit time of the pulse light generated by the pulse light source. More than twice.
【0010】このように、前記第1の態様によれば、パ
ルス光源が発生するパルス光の単位時間当たりの繰り返
し回数に対して2倍以上の、単位時間当たりの繰り返し
回数を有するパルス光を被検査対象に照射することがで
きるので、検査時間を大幅に短縮することができる。As described above, according to the first aspect, the pulse light having the number of repetitions per unit time that is twice or more the number of repetitions per unit time of the pulse light generated by the pulse light source is received. Since irradiation can be performed on the inspection target, the inspection time can be significantly reduced.
【0011】なお、繰り返し回数増大手段は前述したよ
うにしてパルス光を生成するので、生成されたパルス光
のピーク光量は、パルス光源が発生したパルス光のピー
ク光量に比べて低下することになる。したがって、発生
するパルス光のピーク光量の十分に高いパルス光源を用
いて、例えば、繰り返し回数増大手段が生成したパルス
光のピーク光量が、実使用時に被検査対象に照射される
パルス光のピーク光量と略一致するようにしておけばよ
い。Since the means for increasing the number of repetitions generates pulse light as described above, the peak light quantity of the generated pulse light is lower than the peak light quantity of the pulse light generated by the pulse light source. . Therefore, for example, by using a pulse light source having a sufficiently high peak light quantity of the generated pulse light, for example, the peak light quantity of the pulse light generated by the repetition number increasing means is reduced to the peak light quantity of the pulse light irradiated to the inspection object in actual use. It may be made to substantially match with.
【0012】ところで、耐久性検査の検査精度を高める
ため、耐久性検査は実使用時の状態にできるだけ近い状
態において行うべきである。しかし、耐久性検査時にお
いて、被検査対象に照射されるパルス光の各々が時間的
に重複していたり、被検査対象に照射されるパルス光の
各々のピーク光量が大きく異なっていたりすると、実使
用時の状態からかけ離れてしまうため、耐久性検査の検
査精度が低下してしまう。この点、前記第1の態様によ
れば、被検査対象に照射されるパルス光の各々は時間的
に重ならないとともに、被検査対象に照射されるパルス
光の各々のピーク光量が略同一であるので、耐久性検査
の検査精度が高くなる。Incidentally, in order to increase the inspection accuracy of the durability inspection, the durability inspection should be performed in a state as close as possible to the state in actual use. However, at the time of the durability test, if each of the pulse lights applied to the object to be inspected overlaps with each other in time, or if the peak light amounts of the pulse lights applied to the object to be inspected are greatly different from each other, the actual situation may occur. Since it is far from the state at the time of use, the inspection accuracy of the durability test is reduced. In this regard, according to the first aspect, the pulse lights irradiated on the inspection target do not overlap with each other in time, and the peak light amounts of the pulse lights irradiated on the inspection target are substantially the same. Therefore, the inspection accuracy of the durability inspection is increased.
【0013】なお、繰り返し回数増大手段が生成するパ
ルス光の時間間隔は、全てのパルス光に関して、同一で
あってもよいし、同一でなくてもよい。この点は、後述
する本発明の第2の態様についても、同様である。The time interval of the pulse light generated by the repetition number increasing means may or may not be the same for all the pulse lights. This applies to a second embodiment of the present invention described later.
【0014】本発明の第2の態様によるパルス光照射装
置は、順次繰り返してパルス光を発生するパルス光源
と、前記パルス光源からの前記パルス光を複数に分割
し、分割された複数のパルス光のうちの全部又は一部の
複数のパルス光を、互いに時間的に重ならないように少
なくともその一部に時間遅延を与えて合成し、単位時間
当たりの繰り返し回数が前記パルス光源からの前記パル
ス光に比べて増大するとともに各々のピーク光量が略同
一であるパルス光を生成する繰り返し回数増大手段と、
を備え、前記繰り返し回数増大手段により生成された前
記パルス光を被照射対象に照射するものである。According to a second aspect of the present invention, there is provided a pulsed light irradiating apparatus comprising: a pulsed light source for sequentially and repeatedly generating pulsed light; and a plurality of divided pulsed lights from the pulsed light source. All or some of the plurality of pulsed lights are synthesized by giving a time delay to at least a part thereof so as not to overlap with each other, and the number of repetitions per unit time is the pulsed light from the pulsed light source. Means for increasing the number of repetitions for generating pulsed light that is increased compared to
And irradiating the irradiation target with the pulsed light generated by the repetition number increasing means.
【0015】この第2の態様によるパルス光照射装置
は、前記第1の態様による耐久性検査装置としても用い
ることができるものであるが、その用途に限定されるも
のではない。The pulse light irradiation device according to the second embodiment can be used as the durability inspection device according to the first embodiment, but is not limited to its use.
【0016】[0016]
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施の形態によ
る耐久性検査装置について、図1乃至図3を参照して説
明する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A durability inspection apparatus according to one embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS.
【0017】図1は、本実施の形態による耐久性検査装
置を示す概略構成図である。図2(a)は図1中のパル
ス光源11が発生したパルス光を示す図、図2(b)は
図1中の繰り返し回数増大部12が生成したパルス光を
示す図である。なお、図2(a)(b)において、縦軸
は光量を示し、横軸は時間を示す。図3は、図1中の光
遅延器22〜24の一例を示す概略構成図である。FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing a durability inspection apparatus according to the present embodiment. FIG. 2A is a diagram illustrating pulse light generated by the pulse light source 11 in FIG. 1, and FIG. 2B is a diagram illustrating pulse light generated by the repetition number increasing unit 12 in FIG. In FIGS. 2A and 2B, the vertical axis indicates the light amount, and the horizontal axis indicates time. FIG. 3 is a schematic configuration diagram showing an example of the optical delay units 22 to 24 in FIG.
【0018】本実施の形態による耐久性検査装置は、順
次繰り返してパルス光を発生するパルス光源11と、繰
り返し回数増大部12とを備え、繰り返し回数増大部1
2で生成したパルス光を被検査対象13に照射する。The durability inspection apparatus according to the present embodiment includes a pulse light source 11 for sequentially and repeatedly generating a pulse light, and a repetition number increasing unit 12.
The inspection object 13 is irradiated with the pulse light generated in Step 2.
【0019】本実施の形態では、パルス光源11として
エキシマレーザ光源が用いられている。また、被検査対
象13は、エキシマレーザ光を用いる種々の光学装置
(例えば、露光装置、レーザCVD装置、レーザアニー
ル装置、レーザドーピング装置、レーザ顕微鏡、レーザ
描画装置、レーザ溶接装置など)、あるいはそれらの構
成部品(例えば、受光素子、レンズ、ミラー、液晶素
子、それらのパッケージなど)とされている。もっと
も、本発明では、パルス光源11はエキシマレーザ光源
に限定されるものではないし、被検査対象13も前記例
示に限定されるものではない。In the present embodiment, an excimer laser light source is used as the pulse light source 11. The object 13 to be inspected may be any of various optical devices using excimer laser light (for example, an exposure device, a laser CVD device, a laser annealing device, a laser doping device, a laser microscope, a laser drawing device, a laser welding device, or the like), or (For example, a light receiving element, a lens, a mirror, a liquid crystal element, a package thereof, and the like). However, in the present invention, the pulse light source 11 is not limited to the excimer laser light source, and the object 13 to be inspected is not limited to the above example.
【0020】なお、エキシマレーザ光源から発せられる
エキシマレーザ光は、通常、発振周波数が101〜103
Hz程度、1パルス当たりのエネルギーが101〜103
mJ、1パルスの時間幅(半値幅)が約10nsであ
り、エキシマレーザ光源は、極めて短い時間に極めて強
力な光を発生させるパルス光源である。The excimer laser light emitted from the excimer laser light source usually has an oscillation frequency of 10 1 to 10 3.
Hz, energy per pulse is 10 1 to 10 3
The excimer laser light source is a pulse light source that generates extremely powerful light in a very short time, with a time width (half width) of mJ and one pulse being about 10 ns.
【0021】前記繰り返し回数増大部12は、パルス光
源11からの前記パルス光を複数に分割し、分割された
複数のパルス光のうちの全部又は一部の複数のパルス光
を、互いに時間的に重ならないように少なくともその一
部に時間遅延を与えて合成し、単位時間当たりの繰り返
し回数が前記パルス光源からの前記パルス光に比べて増
大するとともに各々のピーク光量が略同一であるパルス
光を生成する。The number-of-repetitions increasing unit 12 divides the pulse light from the pulse light source 11 into a plurality of pulses, and divides all or some of the plurality of divided pulse lights with respect to time. A time delay is given to at least a part of the pulse light so as not to be overlapped, and the pulse light whose repetition number per unit time is increased as compared with the pulse light from the pulse light source and whose peak light amounts are substantially the same is obtained. Generate.
【0022】本実施の形態では、繰り返し回数増大部1
2は、図1に示すように、ハーフミラー14〜19と、
全反射ミラー20,21と、光遅延器22〜24とから
構成されている。In this embodiment, the number-of-repetitions increasing unit 1
2, half mirrors 14 to 19, as shown in FIG.
It comprises total reflection mirrors 20, 21 and optical delay units 22 to 24.
【0023】各光遅延器22〜24は、図3に示すよう
に、全反射ミラー31〜34で構成されている。この光
遅延器22〜24では、図3中右方向に進行して全反射
ミラー31に入射した光は、該全反射ミラー31により
反射され、更に全反射ミラー32と全反射ミラー33と
の間で複数回ジグザグに反射を繰り返す。その後、この
光は、全反射ミラー34により反射されて図3中右方向
に進行する。したがって、各光遅延器22〜24は、光
路長を増大させることにより入射光を遅延させることに
なる。本実施の形態では、各光遅延器22〜24の遅延
時間は、パルス光源11が発生するパルス光の周期Tよ
りかなり小さいΔTに設定されている。もっとも、各光
遅延器22〜24の遅延時間は、これに限定されるもの
ではなく、他の遅延時間に設定してもよいし、全てが同
一の遅延時間を有している必要もない。As shown in FIG. 3, each of the optical delay units 22 to 24 is composed of total reflection mirrors 31 to 34. In the optical delay units 22 to 24, the light traveling rightward in FIG. 3 and entering the total reflection mirror 31 is reflected by the total reflection mirror 31, and further reflected between the total reflection mirror 32 and the total reflection mirror 33. Repeat the reflection zigzag multiple times. Thereafter, this light is reflected by the total reflection mirror 34 and travels rightward in FIG. Therefore, each of the optical delay units 22 to 24 delays the incident light by increasing the optical path length. In the present embodiment, the delay time of each of the optical delay units 22 to 24 is set to ΔT which is considerably smaller than the period T of the pulse light generated by the pulse light source 11. However, the delay time of each of the optical delay units 22 to 24 is not limited to this, and may be set to another delay time, and it is not necessary that all of the optical delay units have the same delay time.
【0024】ハーフミラー14,16,18はそれぞれ
光分割器を構成し、ハーフミラー15,17,19はそ
れぞれ光混合器(光合成器)を構成している。The half mirrors 14, 16, and 18 each constitute an optical splitter, and the half mirrors 15, 17, and 19 each constitute an optical mixer (light combiner).
【0025】本実施の形態では、パルス光源11が発生
したパルス光は、ハーフミラー14に入射され、ハーフ
ミラー14を透過する光と、ハーフミラー14により反
射される光とに分割される。ハーフミラー14により反
射された光は、全反射ミラー20により反射された後
に、光遅延器22により遅延時間ΔTが与えられ、ハー
フミラー16に入射される。ハーフミラー16に入射さ
れた光は、ハーフミラー16により反射される光と、ハ
ーフミラー16を透過する光とに分割される。ハーフミ
ラー16により反射された光は、ハーフミラー15によ
って、ハーフミラー14を透過した光と合成され、当該
合成光はハーフミラー17へ向かう。ハーフミラー16
を透過した光は、光遅延器23により遅延時間ΔTが与
えられた後に、ハーフミラー18に入射される。ハーフ
ミラー18に入射された光は、ハーフミラー18により
反射される光と、ハーフミラー18を透過する光とに分
割される。ハーフミラー18により反射された光は、ハ
ーフミラー17によって、ハーフミラー15から出射し
てきた合成光と合成され、当該合成光はハーフミラー1
9へ向かう。ハーフミラー18を透過した光は、光遅延
器24により遅延時間ΔTが与えられた後に、全反射ミ
ラー21により反射される。この全反射ミラー21によ
り反射された光は、ハーフミラー19によって、ハーフ
ミラー17から出射してきた合成光と合成され、繰り返
し回数増大部12により生成されたパルス光として、被
検査対象13へ向けて出射される。In this embodiment, the pulse light generated by the pulse light source 11 is incident on the half mirror 14 and is divided into light transmitted through the half mirror 14 and light reflected by the half mirror 14. The light reflected by the half mirror 14 is reflected by the total reflection mirror 20, is given a delay time ΔT by the optical delay unit 22, and is incident on the half mirror 16. The light incident on the half mirror 16 is split into light reflected by the half mirror 16 and light transmitted through the half mirror 16. The light reflected by the half mirror 16 is combined with the light transmitted through the half mirror 14 by the half mirror 15, and the combined light travels to the half mirror 17. Half mirror 16
Is transmitted to the half mirror 18 after being given a delay time ΔT by the optical delay unit 23. The light incident on the half mirror 18 is split into light reflected by the half mirror 18 and light transmitted through the half mirror 18. The light reflected by the half mirror 18 is combined with the combined light emitted from the half mirror 15 by the half mirror 17, and the combined light is combined with the half mirror 1.
Go to 9. The light transmitted through the half mirror 18 is reflected by the total reflection mirror 21 after being given a delay time ΔT by the optical delay unit 24. The light reflected by the total reflection mirror 21 is combined with the combined light emitted from the half mirror 17 by the half mirror 19, and is directed toward the inspection target 13 as pulse light generated by the repetition number increasing unit 12. Is emitted.
【0026】以上の動作によって、パルス光源11が発
生する図2(a)に示すパルス光に基づいて、図2
(b)に示すパルス光が繰り返し回数増大部12から得
られ、この図2(b)に示すパルス光が被検査対象13
に照射される。With the above operation, based on the pulse light shown in FIG.
The pulse light shown in FIG. 2B is obtained from the repetition number increasing unit 12, and the pulse light shown in FIG.
Is irradiated.
【0027】図2(a)において、P0はパルス光源1
1が発生するパルス光の個々のパルスを示す。図2
(b)において、P1〜P4はパルス光源11が発生す
るパルス光の個々のパルスを示す。1個のパルスP0か
ら全部で4個のパルスP1〜P4が生成されている。パ
ルスP1は11→14→15→17→19の経路を通過
したパルス光に相当し、パルスP2は11→14→20
→22→16→15→17→19の経路を通過したパル
ス光に相当し、パルスP3は11→14→20→22→
16→23→18→17→19の経路を通過したパルス
光に相当し、パルスP4は11→14→20→22→1
6→23→18→24→21→19の経路を通過したパ
ルス光に相当し、これらのパルス光P1〜P4が互いに
時間的に重ならないように合成されていることがわか
る。したがって、被検査対象13に照射されるパルス光
(図2(b))の単位時間当たりの繰り返し回数は、パ
ルス光源11が発生したパルス光(図2(a))の単位
時間当たりの繰り返し回数の4倍となっている。In FIG. 2A, P0 is a pulse light source 1
1 shows the individual pulses of the pulsed light generated. FIG.
In (b), P1 to P4 indicate individual pulses of the pulse light generated by the pulse light source 11. A total of four pulses P1 to P4 are generated from one pulse P0. The pulse P1 corresponds to a pulsed light passing through the path of 11 → 14 → 15 → 17 → 19, and the pulse P2 corresponds to 11 → 14 → 20
→ 22 → 16 → 15 → 17 → 19 The pulse P3 corresponds to 11 → 14 → 20 → 22 →
The pulse light corresponds to the pulse light passing through the path of 16 → 23 → 18 → 17 → 19, and the pulse P4 is 11 → 14 → 20 → 22 → 1
It can be seen that the pulsed light beams P1 to P4 are synthesized so as not to temporally overlap with each other, corresponding to the pulsed light beams passing through the route of 6 → 23 → 18 → 24 → 21 → 19. Therefore, the number of repetitions per unit time of the pulse light (FIG. 2B) applied to the inspection target 13 is the number of repetitions per unit time of the pulse light (FIG. 2A) generated by the pulse light source 11. It is four times as large.
【0028】ところで、本実施の形態では、ハーフミラ
ー14の透過率が1/3(33%)、ハーフミラー15
の透過率が1/3(33%)、ハーフミラー16の透過
率が3/4(75%)、ハーフミラー17の透過率が3
/4(75%)、ハーフミラー18の透過率が1/3
(33%)、ハーフミラー19の透過率が2/3(67
%)に設定されている。これにより、図2(b)に示す
ように、各パルスP1〜P4のピーク光量が、元のパル
スP0のピーク光量の約1/18となって、互いに等し
くなっている。In this embodiment, the transmittance of the half mirror 14 is 1/3 (33%) and the half mirror 15
Is 1/3 (33%), the transmittance of the half mirror 16 is 3/4 (75%), and the transmittance of the half mirror 17 is 3
/ 4 (75%), the transmittance of the half mirror 18 is 1/3
(33%), the transmittance of the half mirror 19 is 2/3 (67
%). As a result, as shown in FIG. 2B, the peak light amounts of the respective pulses P1 to P4 become approximately 1/18 of the peak light amount of the original pulse P0 and are equal to each other.
【0029】本実施の形態によれば、図5に示す従来の
耐久性検査装置と異なり、パルス光源11が発生したパ
ルス光(図2(a))が直接被検査対象13に照射され
るのではなく、パルス光源11が発生したパルス光(図
2(a))に基づいて繰り返し回数増大部12が生成し
たパルス光であって、単位時間当たりの繰り返し回数が
4倍に増大したパルス光(図2(b))が、被検査対象
13に照射される。したがって、本実施の形態によれ
ば、耐久性検査の検査時間を大幅に短縮することができ
る。According to the present embodiment, unlike the conventional durability inspection apparatus shown in FIG. 5, the pulse light (FIG. 2A) generated by the pulse light source 11 is directly applied to the inspection object 13. Instead, the pulse light generated by the repetition number increasing unit 12 based on the pulse light (FIG. 2A) generated by the pulse light source 11 and having the repetition number per unit time quadrupled ( FIG. 2B irradiates the inspection target 13. Therefore, according to the present embodiment, the inspection time of the durability inspection can be significantly reduced.
【0030】また、本実施の形態によれば、被検査対象
13に照射されるパルス光(図2(b))の各々のパル
スP1〜P4は時間的に重ならないとともに、被検査対
象13に照射されるパルス光(図2(b))の各々のパ
ルスP1〜P4のピーク光量が略同一であるので、耐久
性検査の検査精度が高くなる。Further, according to the present embodiment, each of the pulses P1 to P4 of the pulse light (FIG. 2B) applied to the inspection target 13 does not overlap with time, and Since the peak light amounts of the respective pulses P1 to P4 of the irradiated pulse light (FIG. 2B) are substantially the same, the inspection accuracy of the durability inspection is increased.
【0031】次に、本発明の他の実施の形態による耐久
性検査装置について、図4を参照して説明する。Next, a durability test apparatus according to another embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
【0032】図4(a)は本実施の形態による耐久性検
査装置を示す概略斜視図、図4(b)はその高さ方向か
ら見た概略平面図である。図4において、図1中の要素
と同一又は対応する要素には同一符号を付し、その説明
は省略する。FIG. 4A is a schematic perspective view showing the durability test apparatus according to the present embodiment, and FIG. 4B is a schematic plan view seen from the height direction. 4, elements that are the same as or correspond to elements in FIG. 1 are given the same reference numerals, and descriptions thereof are omitted.
【0033】本実施の形態による耐久性検査装置が前述
した図1に示す耐久性検査装置と異なる所は、繰り返し
回数増大部12の構成のみである。The only difference between the durability test apparatus according to the present embodiment and the durability test apparatus shown in FIG.
【0034】本実施の形態では、繰り返し回数増大部1
2は、2つのミラーボックス41,42と、4つの全反
射ミラー43〜46とから構成されている。ミラーボッ
クス41,42は、同一の形状及び大きさを有する中空
の直方体に構成されている。In the present embodiment, the number-of-repetitions increasing unit 1
Reference numeral 2 denotes two mirror boxes 41 and 42 and four total reflection mirrors 43 to 46. The mirror boxes 41 and 42 are configured as hollow rectangular parallelepipeds having the same shape and size.
【0035】ミラーボックス41の4つの側壁41a,
41b,41c,41dの内面及びミラーボックス42
の4つの側壁42a,42b,42c,42dの内面
は、基本的に全反射ミラーとなっている。ミラーボック
ス41,42は、図4(b)中の直線Lを含み図4
(b)の紙面に垂直な平面に対して、互いに面対称とな
るように配置されている。The four side walls 41a of the mirror box 41,
Inner surfaces of 41b, 41c, 41d and mirror box 42
The inner surfaces of the four side walls 42a, 42b, 42c, 42d are basically total reflection mirrors. The mirror boxes 41 and 42 include the straight line L in FIG.
They are arranged so as to be plane-symmetric with respect to a plane perpendicular to the plane of FIG.
【0036】ミラーボックス41の側壁41dの上方に
おける当該側壁41dの幅方向の中点位置には、パルス
光源11が発生したパルス光(図2(a)に示すパルス
光と同じ)が入射される全透過窓51(単なる開口でも
よいし、透明部材により構成されてもよい。)が形成さ
れている。このパルス光は、全透過窓51を透過して、
側壁41aの幅方向の中点位置であって全透過窓51よ
り高さが低い所定位置に至るように入射される。このパ
ルス光の入射光路は、図4(b)の紙面に射影したとき
に、前記直線Lと直交するように、ミラーボックス41
が配置されている。The pulse light (same as the pulse light shown in FIG. 2A) generated by the pulse light source 11 is incident on the middle point in the width direction of the side wall 41d above the side wall 41d of the mirror box 41. A total transmission window 51 (a simple opening or a transparent member) may be formed. This pulse light passes through the total transmission window 51,
The light is incident so as to reach a predetermined position at a midpoint position in the width direction of the side wall 41 a and lower than the total transmission window 51. The incident optical path of the pulse light is such that when projected on the paper surface of FIG.
Is arranged.
【0037】側壁41aには部分的にハーフミラー部5
2〜54及び全透過窓55が形成されているが、これら
が形成されていないとすると、全透過窓51から入射し
たパルス光は、下方に順次ずれながら、側壁41a→側
壁41b→側壁41c→側壁41d→側壁41a→・・
・の順にこれらの側壁で順次全反射され、菱形に変形し
た螺旋の如き光路を形成することになる。ハーフミラー
部52は、全透過窓51から入射したパルス光が側壁4
1aで2回目に反射される位置に形成されている。ハー
フミラー部53は、全透過窓51から入射したパルス光
が側壁41aで4回目に反射される位置に形成されてい
る。ハーフミラー部54は、全透過窓51から入射した
パルス光が側壁41aで6回目に反射される位置に形成
されている。全透過窓55は、全透過窓51から入射し
たパルス光が側壁41aで8回目に到達する位置に形成
されている。The half mirror portion 5 is partially formed on the side wall 41a.
2 to 54 and the total transmission window 55 are formed, but assuming that these are not formed, the pulse light incident from the total transmission window 51 is sequentially shifted downward, and the side walls 41a → the side walls 41b → the side walls 41c → Side wall 41d → side wall 41a →
In this order, the light is totally reflected by these side walls in order and forms an optical path such as a spiral deformed into a rhombus. The half mirror section 52 is configured such that the pulse light incident from the total transmission window 51
1a, it is formed at the position where it is reflected for the second time. The half mirror portion 53 is formed at a position where the pulse light incident from the total transmission window 51 is reflected on the side wall 41a for the fourth time. The half mirror portion 54 is formed at a position where the pulse light incident from the total transmission window 51 is reflected on the side wall 41a for the sixth time. The total transmission window 55 is formed at a position where the pulse light incident from the total transmission window 51 reaches the eighth time on the side wall 41a.
【0038】したがって、ハーフミラー部52〜54か
らそれぞれ一部の光が分割されて外部に出射され、残り
の光が全透過窓55から外部に射出される。これらの出
射光の光路は、前記パルス光の入射光路と平行であり、
図4(b)の紙面に射影すれば前記パルス光の入射光路
と同一直線をなす。Accordingly, a part of the light is split from each of the half mirror portions 52 to 54 and emitted to the outside, and the remaining light is emitted to the outside from the total transmission window 55. The optical paths of these emitted lights are parallel to the incident optical path of the pulse light,
When projected onto the paper surface of FIG. 4 (b), it forms the same straight line as the incident light path of the pulse light.
【0039】ハーフミラー部52〜54及び全透過窓5
5からの出射光が、図4(b)中の直線Lを含み図4
(b)の紙面に垂直な平面にそれぞれ到達する位置に
は、前記全反射ミラー43〜46が図4(b)の紙面と
平行にそれぞれ配置されている。Half mirror sections 52 to 54 and total transmission window 5
5 includes a straight line L in FIG.
The total reflection mirrors 43 to 46 are respectively arranged in parallel with the paper surface of FIG. 4B at the positions reaching the planes perpendicular to the paper surface of FIG.
【0040】図4(b)中の直線Lを含み図4(b)の
紙面に垂直な平面に対して、全透過窓51,55及びハ
ーフミラー部52〜54と面対称となる位置において、
ミラーボックス42には、全透過窓61,65及びハー
フミラー部62〜64がそれぞれ形成されている。した
がって、全反射ミラー43〜46で反射された各光は、
ハーフミラー部62〜64及び全透過窓65からミラー
ボックス42内に入射され、当該ミラーボックス42内
で合成され、繰り返し回数増大部12により生成された
パルス光として、全透過窓61から被検査対象13へ向
けて出射される。At a position that is plane-symmetric with respect to the planes including the straight line L in FIG. 4B and perpendicular to the plane of FIG.
In the mirror box 42, all transmission windows 61 and 65 and half mirror portions 62 to 64 are respectively formed. Therefore, each light reflected by the total reflection mirrors 43 to 46 is
The half mirror portions 62 to 64 and the total transmission window 65 enter the mirror box 42, are synthesized in the mirror box 42, and are generated from the total transmission window 61 as pulse light generated by the repetition number increasing unit 12. 13 is emitted.
【0041】以上の動作によって、本実施の形態におい
ても、前述した実施の形態と同様に、パルス光源11が
発生する図2(a)に示すパルス光に基づいて、図2
(b)に示すパルス光が繰り返し回数増大部12から得
られ、この図2(b)に示すパルス光が被検査対象13
に照射される。With the above operation, in the present embodiment, as in the above-described embodiment, the pulse light source 11 generates the pulse light shown in FIG.
The pulse light shown in FIG. 2B is obtained from the repetition number increasing unit 12, and the pulse light shown in FIG.
Is irradiated.
【0042】本実施の形態では、図2(b)中のパルス
P1は全反射ミラー43を経由したパルス光に相当し、
パルス光P2は全反射ミラー44を経由したパルス光に
相当し、パルス光P3は全反射ミラー45を経由したパ
ルス光に相当し、パルス光P4は全反射ミラー46を経
由したパルス光に相当している。In the present embodiment, the pulse P1 in FIG. 2B corresponds to the pulse light passing through the total reflection mirror 43,
The pulse light P2 corresponds to the pulse light passing through the total reflection mirror 44, the pulse light P3 corresponds to the pulse light passing through the total reflection mirror 45, and the pulse light P4 corresponds to the pulse light passing through the total reflection mirror 46. ing.
【0043】なお、本実施の形態では、ハーフミラー部
52〜54,62〜64の透過率は、各パルスP1〜P
4のピーク光量が等しくなるように設定されている。In this embodiment, the transmittances of the half mirror sections 52 to 54 and 62 to 64 are determined by the respective pulses P1 to P1.
4 are set to be equal.
【0044】したがって、本実施の形態によっても、前
述した実施の形態と同一の利点が得られる。Therefore, the present embodiment also provides the same advantages as the above-described embodiment.
【0045】以上、本発明の各実施の形態について説明
したが、本発明はこれらの実施の形態に限定されるもの
ではない。Although the embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to these embodiments.
【0046】なお、前述した各実施の形態において、前
記パルス光源11及び繰り返し回数増大部12は、繰り
返し回数増大部12により生成されたパルス光(図2
(b))を被照射対象に照射するパルス光照射装置を構
成していることになる。これらのパルス光照射装置を耐
久性検査のために用いるのが前述した各実施の形態であ
ったが、当該パルス光照射装置は他の種々の用途に用い
ることができる。In each of the above-described embodiments, the pulse light source 11 and the repetition number increasing unit 12 use the pulse light generated by the repetition number increasing unit 12 (FIG. 2).
This constitutes a pulsed light irradiation device that irradiates (b)) to the irradiation target. In each of the above-described embodiments, these pulse light irradiation devices are used for the durability test. However, the pulse light irradiation device can be used for various other applications.
【0047】[0047]
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれ
ば、、耐久性検査の検査時間を大幅に短縮することがで
きるとともに検査精度の高い耐久性検査装置、及びこれ
に用いることができるパルス光照射装置を提供すること
ができる。As described above, according to the present invention, it is possible to drastically shorten the inspection time of the durability inspection and to obtain a high-accuracy durability inspection apparatus, and a pulse which can be used in the apparatus. A light irradiation device can be provided.
【図1】本発明の一実施の形態による耐久性検査装置を
示す概略構成図である。FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing a durability inspection apparatus according to an embodiment of the present invention.
【図2】図1に示す耐久性検査装置における各部のパル
ス光を示す図であり、図2(a)は図1中のパルス光源
が発生したパルス光を示す図、図2(b)は図1中の繰
り返し回数増大部が生成したパルス光を示す図である。2A and 2B are diagrams showing pulsed light of each part in the durability test apparatus shown in FIG. 1, FIG. 2A is a diagram showing pulsed light generated by a pulse light source in FIG. 1, and FIG. FIG. 2 is a diagram illustrating pulse light generated by a repetition number increasing unit in FIG. 1.
【図3】図3は、図1中の光遅延器の一例を示す概略構
成図である。FIG. 3 is a schematic configuration diagram illustrating an example of an optical delay unit in FIG. 1;
【図4】本発明の他の実施の形態による耐久性検査装置
を示す図であり、図4(a)はその概略斜視図、図4
(b)はその概略平面図である。FIG. 4 is a view showing a durability test apparatus according to another embodiment of the present invention, and FIG. 4 (a) is a schematic perspective view thereof, FIG.
(B) is a schematic plan view thereof.
【図5】従来の耐久性検査装置の概略構成図である。FIG. 5 is a schematic configuration diagram of a conventional durability inspection apparatus.
11 パルス光源 12 繰り返し回数増大部 13 被検査対象 14〜19 ハーフミラー 20,21 全反射ミラー 22〜24 光遅延器 31〜34 全反射ミラー 41,42 ミラーボックス 43〜46 全反射ミラー 51,55,61,65 全透過窓 52〜54,62〜64 ハーフミラー部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 Pulse light source 12 Repetition number increase part 13 Inspection object 14-19 Half mirror 20,21 Total reflection mirror 22-24 Optical delay device 31-34 Total reflection mirror 41,42 Mirror box 43-46 Total reflection mirror 51,55, 61,65 Total transmission window 52-54,62-64 Half mirror part
Claims (2)
照射して当該被検査対象の耐久性検査を行う耐久性検査
装置であって、 順次繰り返してパルス光を発生するパルス光源と、 前記パルス光源からの前記パルス光を複数に分割し、分
割された複数のパルス光のうちの全部又は一部の複数の
パルス光を、互いに時間的に重ならないように少なくと
もその一部に時間遅延を与えて合成し、単位時間当たり
の繰り返し回数が前記パルス光源からの前記パルス光に
比べて増大するとともに各々のピーク光量が略同一であ
るパルス光を生成する繰り返し回数増大手段と、 を備え、 前記繰り返し回数増大手段により生成された前記パルス
光を前記被検査対象に照射することを特徴とする耐久性
検査装置。1. A durability inspection apparatus for sequentially and repeatedly irradiating an object to be inspected with pulsed light to perform a durability inspection of the object to be inspected, comprising: a pulsed light source for sequentially and repeatedly generating pulsed light; The pulsed light from the light source is divided into a plurality of pulses, and all or some of the divided plurality of pulsed lights are given a time delay at least in part so as not to overlap each other in time. Means for increasing the number of repetitions per unit time as compared with the pulse light from the pulse light source and generating pulse light having substantially the same peak light amount. A durability inspection apparatus, wherein the pulse light generated by the number-of-times increasing means is applied to the object to be inspected.
ス光源と、 前記パルス光源からの前記パルス光を複数に分割し、分
割された複数のパルス光のうちの全部又は一部の複数の
パルス光を、互いに時間的に重ならないように少なくと
もその一部に時間遅延を与えて合成し、単位時間当たり
の繰り返し回数が前記パルス光源からの前記パルス光に
比べて増大するとともに各々のピーク光量が略同一であ
るパルス光を生成する繰り返し回数増大手段と、 を備え、 前記繰り返し回数増大手段により生成された前記パルス
光を被照射対象に照射することを特徴とするパルス光照
射装置。2. A pulse light source that sequentially generates pulse light repeatedly, and divides the pulse light from the pulse light source into a plurality of light beams, and all or a part of the plurality of divided pulse light beams. Are synthesized by giving a time delay to at least a part of them so that they do not overlap with each other, and the number of repetitions per unit time increases as compared with the pulsed light from the pulsed light source, and each peak light amount is substantially reduced. A pulse light irradiation apparatus, comprising: a repetition number increasing unit that generates the same pulse light; and irradiating the irradiation target with the pulse light generated by the repetition number increasing unit.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9291667A JPH11118704A (en) | 1997-10-08 | 1997-10-08 | Durability inspecting device and pulsed light irradiating device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9291667A JPH11118704A (en) | 1997-10-08 | 1997-10-08 | Durability inspecting device and pulsed light irradiating device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11118704A true JPH11118704A (en) | 1999-04-30 |
Family
ID=17771889
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9291667A Pending JPH11118704A (en) | 1997-10-08 | 1997-10-08 | Durability inspecting device and pulsed light irradiating device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH11118704A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012181537A (en) * | 2005-03-28 | 2012-09-20 | Olympus Corp | Optical pulse multiplex unit, optical pulse generator using the same, and optical pulse multiplexing method |
WO2015052893A1 (en) * | 2013-10-11 | 2015-04-16 | Dic株式会社 | Atr element, immersion probe, and spectrophotometer |
-
1997
- 1997-10-08 JP JP9291667A patent/JPH11118704A/en active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP5839641B2 (en) * | 2013-10-11 | 2016-01-06 | Dic株式会社 | ATR element, immersion probe, and spectrophotometer |
JPWO2015052893A1 (en) * | 2013-10-11 | 2017-03-09 | Dic株式会社 | ATR element, immersion probe, and spectrophotometer |
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