JP5376494B2 - Drawing apparatus and drawing method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、複数の微小なミラーを用いて、光源からの光をマルチビーム化する技術において、マルチビーム化された各ビームの光量を制御する技術に関する。 The present invention relates to a technique for controlling the light quantity of each beam that has been converted to a multi-beam in a technique for converting light from a light source into a multi-beam using a plurality of minute mirrors.
例えば、精密な微細パターンを描画する技術において、アレイ状に配置された複数の微小なミラーによって、光源からの光をマルチビーム化して描画する技術が知られている。例えば、このようなミラーデバイス(空間光変調素子)を用いた描画装置が特許文献1に記載されている。
For example, in a technique for drawing a precise fine pattern, a technique for drawing light from a light source into a multi-beam by using a plurality of minute mirrors arranged in an array is known. For example,
光変調の制御に関しては、各ピクセル(ビーム)の光量を単純にON/OFFするだけでなく、その光量を連続的に制御したいという要請がある。すなわち、各ビームの光量をデジタル的なON/OFFのみの出力ではなく、アナログ的な(連続階調)出力として得たいという要請がある。 Regarding the control of light modulation, there is a demand not only to simply turn on / off the light amount of each pixel (beam) but also to control the light amount continuously. That is, there is a demand to obtain the light quantity of each beam as an analog (continuous tone) output instead of a digital ON / OFF output.
例えば、描画に用いられる光源によっては、当該光源から出射される光が光量に関して一様な分布になっていない場合がある。このように光源から出射される光の光量分布が一様でない場合には、各微小ミラーに入射する光の光量が各微小ミラーの位置に応じて不均一となる。これをそのまま描画に用いると、ピクセルごとに照射される光の光量が不均一となるため、露光ムラの原因となる。したがって、描画装置では、光量分布が不均一な光を照射する光源を用いた場合であっても、各ビームの光量が一様になるようにキャリブレーションしたいという要請がある。 For example, depending on the light source used for drawing, the light emitted from the light source may not have a uniform distribution with respect to the amount of light. Thus, when the light quantity distribution of the light emitted from the light source is not uniform, the light quantity of the light incident on each minute mirror becomes non-uniform according to the position of each minute mirror. If this is used for drawing as it is, the amount of light irradiated to each pixel becomes non-uniform, which causes uneven exposure. Therefore, there is a demand for the drawing apparatus to calibrate so that the light quantity of each beam is uniform even when a light source that emits light with a non-uniform light quantity distribution is used.
また、連続階調画像を描画する場合にはピクセルごとに任意の光量を与えることが求められる。また、微細パターンを露光する場合、線幅やエッジを精度よく滑らかに描くためには、ピクセルごとに光量を微妙に制御することが求められる。また、ビーム配列グリッドをビーム階調でさらに細かく増やすという手法(サブグリッド)が求められることもある。 Further, when a continuous tone image is drawn, it is required to give an arbitrary amount of light to each pixel. When a fine pattern is exposed, it is required to finely control the amount of light for each pixel in order to draw a line width and an edge smoothly with high accuracy. In addition, there is a case where a technique (subgrid) of increasing the beam array grid more finely with the beam gradation is required.
本来ミラーデバイスは、光の進行方向を制御するものであって、光量を制御する機能は有していない。しかしながら、従来より、ミラーデバイスの各ビームの光量を個別に制御する手法がいくつか提案されている。 Originally, a mirror device controls the traveling direction of light and does not have a function of controlling the amount of light. However, conventionally, several methods for individually controlling the light amount of each beam of the mirror device have been proposed.
例えば、露光時間(光源が点灯している時間)内において、各ビームをONとする時間(ONとなる方向に向けて反射する時間)を制御することによって、積分光量を制御するパルス幅変調方式が提案されている。 For example, in the exposure time (time when the light source is lit), the pulse width modulation method for controlling the integrated light quantity by controlling the time for turning on each beam (the time for reflecting in the direction of turning on). Has been proposed.
また、各ミラーの配置角度を個別に制御可能とし、当該配置角度を任意の角度(所望の光量となる角度)に停止させた状態で光源からの光を入射させて反射させることによって光量を制御するミラー角度制御方式が提案されている。 In addition, the arrangement angle of each mirror can be individually controlled, and the amount of light is controlled by making light from the light source incident and reflecting in a state where the arrangement angle is stopped at an arbitrary angle (an angle at which a desired amount of light is obtained). A mirror angle control method has been proposed.
ところが、従来のパルス幅変調方式では、光源がエキシマレーザのようなパルスレーザである場合、ミラーの配置角度を変更する時間に比べてレーザ点灯時間(露光時間)が短いために、レーザ点灯時間内にミラーの配置角度を変更してレーザをON・OFFすることができないという問題があった。 However, in the conventional pulse width modulation method, when the light source is a pulse laser such as an excimer laser, the laser lighting time (exposure time) is shorter than the time for changing the mirror arrangement angle. However, there is a problem that the laser cannot be turned on and off by changing the mirror arrangement angle.
また、ミラー角度制御方式では、全てのミラーを任意の角度に精度よく停止させることが求められるが、ミラーデバイスは微小かつ複雑な構造物であり、全てのミラーを任意の角度に精度よく停止させることが可能な構造の設計、製造が極めて困難であるという問題があった。 Also, in the mirror angle control method, it is required to stop all mirrors at an arbitrary angle with high accuracy. However, the mirror device is a minute and complicated structure, and stops all mirrors at an arbitrary angle with high accuracy. However, there is a problem that it is extremely difficult to design and manufacture a possible structure.
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、複数の微小なミラーを用いて、光源からの光をマルチビーム化する技術において、マルチビーム化された各ビームの光量を、連続的な任意の値に、高精度に制御することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above problems, and in a technique for converting light from a light source into a multi-beam using a plurality of minute mirrors, the light amount of each beam converted into a multi-beam is continuously changed. The purpose is to control to an arbitrary value with high accuracy.
上記の課題を解決するため、請求項1の発明は、照射する光によってパターンを描画する描画装置であって、光を照射する光源と、前記光源からの光を変調する空間光変調ユニットと、前記空間光変調ユニットによって変調された光を導く光学系とを備え、前記空間光変調ユニットは、反射面の配置角度が第1角度となる状態と前記反射面の配置角度が第2角度となる状態との間で状態の切り替えが可能であるとともに、前記状態の切り替えが行われたときに、前記反射面の配置角度が前記第1角度と前記第2角度との間で連続的に変位する複数のミラーと、前記光源から照射される光を前記複数のミラーのそれぞれが反射させるべき方向に応じて、前記複数のミラーのそれぞれについて前記状態の切り替えを行うタイミングを個別に決定しつつ、前記複数のミラーの状態を個別に制御するミラー制御手段とを備え、前記光学系は、通過する光の位置によって光量が変化する光学素子を備え、前記複数のミラーのそれぞれが反射させるべき方向は、前記複数のミラーのそれぞれに対応した画素を描画するために必要とされる光の光量に応じて決定される。
In order to solve the above-mentioned problem, the invention of
また、請求項2の発明は、請求項1の発明に係る描画装置であって、前記ミラー制御手段は、反射面の配置角度が前記第1角度と前記第2角度との間で変位中の状態において、前記反射面が前記光源からの光を反射するように、前記反射面を有するミラーの状態の切り替えタイミングを決定する。
Further, the invention according to
また、請求項3の発明は、請求項1または2のいずれかの発明に係る描画装置であって、前記光源は、所定の周期で光を照射する。
Further, the invention of claim 3, a rendering apparatus according to any one of the
また、請求項4の発明は、請求項3の発明に係る描画装置であって、前記ミラー制御手段は、前記所定の周期に応じてタイミングを決定する。 Further, the invention of claim 4, a drawing apparatus according to the invention of claim 3, wherein the mirror control means that determine the timing according to the predetermined cycle.
また、請求項5の発明は、請求項3または4の発明に係る描画装置であって、前記光源は、パルスレーザである。 The invention of claim 5 is the drawing apparatus according to the invention of claim 3 or 4, wherein the light source, Ru Oh a pulsed laser.
また、請求項6の発明は、請求項5の発明に係る描画装置であって、前記パルスレーザは、エキシマレーザである。 The invention of claim 6 is the drawing apparatus according to the invention of claim 5, wherein the pulse laser is Ru Oh an excimer laser.
また、請求項7の発明は、請求項1ないし6のいずれかの発明に係る描画装置であって、前記光学素子は、アパーチャである。
The invention of claim 7 is the drawing apparatus according to any one of the
また、請求項8の発明は、光源から照射される光を光学系から照射することによってパターンを描画する描画方法であって、(a)反射面の配置角度が第1角度と第2角度との間で連続的に変位する複数のミラーのそれぞれが前記光源から照射される光を反射させるべき方向に応じて、前記反射面の配置角度が前記第1角度となる状態と前記反射面の配置角度が前記第2角度となる状態との間で前記複数のミラーの状態を切り替えるタイミングを、前記複数のミラーのそれぞれについて個別に決定する工程と、(b)前記(a)工程において、前記複数のミラーのそれぞれについて決定されたタイミングに応じて前記複数のミラーの状態を個別に制御する工程と、(c)前記(b)工程により制御された状態の前記複数のミラーに前記光源から照射される光を反射させることにより、前記光源から照射される光を変調して前記光学系に入射させる工程と、(d) 前記光学系が備える光学素子により、前記光学系に入射した光の光量を、当該光が通過する位置に応じて変化させる工程とを有し、前記複数のミラーのそれぞれが反射させるべき方向は、前記複数のミラーのそれぞれに対応した画素を描画するために必要とされる光の光量に応じて決定される。 The invention according to claim 8 is a drawing method for drawing a pattern by irradiating light emitted from a light source from an optical system, wherein (a) the reflection surface is arranged at a first angle and a second angle. A plurality of mirrors that are continuously displaced between the first and second reflection surfaces according to a direction in which the light emitted from the light source should be reflected, and the arrangement of the reflection surfaces A step of individually determining a timing for switching a state of the plurality of mirrors between a state where the angle is the second angle, and (b) in the step (a), A step of individually controlling the state of the plurality of mirrors according to the timing determined for each of the mirrors, and (c) the plurality of mirrors controlled by the step (b) are irradiated from the light source. Reflected light By the steps to be incident on the optical system by modulating light irradiated from the light source, the optical element provided in; (d) an optical system, the light amount of light incident on the optical system, the light And a direction to be reflected by each of the plurality of mirrors is a light amount required to draw a pixel corresponding to each of the plurality of mirrors. Will be decided accordingly .
また、請求項9の発明は、請求項8の発明に係る描画方法であって、前記(c)工程における複数のミラーは、反射面の配置角度が前記第1角度と前記第2角度との間で変位中の状態のものを含む。
The invention of
また、請求項10の発明は、請求項8または9の発明に係る描画方法であって、前記(c)工程において、前記光源は所定の周期で光を照射する。
The invention of
また、請求項11の発明は、請求項10の発明に係る描画方法であって、前記(a)工程において、前記複数のミラーの状態を切り替えるタイミングは、前記所定の周期に応じて決定される。
The invention of
請求項1ないし11に記載の発明は、複数のミラーのそれぞれが反射させるべき方向に応じて、複数のミラーのそれぞれについて状態の切り替えを行うタイミングを個別に決定しつつ、複数のミラーの状態を個別に制御することにより、光源からの光を、簡易な構造で、任意の方向に反射させることができる。 According to the first to eleventh aspects of the present invention, the state of the plurality of mirrors is determined while individually determining the timing for switching the state of each of the plurality of mirrors according to the direction in which each of the plurality of mirrors should reflect. By individually controlling, light from the light source can be reflected in an arbitrary direction with a simple structure.
請求項1ないし11に記載の発明は、複数のミラーのそれぞれが反射させるべき方向は、複数のミラーのそれぞれに対応した画素を描画するために必要とされる光の光量に応じて決定されることにより、光量を任意の値に調節できる。 According to the first to eleventh aspects of the present invention, the direction in which each of the plurality of mirrors should be reflected is determined according to the amount of light required to draw a pixel corresponding to each of the plurality of mirrors. Thus, the amount of light can be adjusted to an arbitrary value.
請求項3および10に記載の発明は、光源が所定の周期で光を照射することにより、一定の描画時間および描画間隔で描画することができ、制御が容易になる。 According to the third and tenth aspects of the present invention, when the light source irradiates light at a predetermined cycle, the light can be drawn at a constant drawing time and drawing interval, and the control becomes easy.
請求項5に記載の発明は、パルス幅変調方式を採用することが困難な構成であっても、光を反射するときの配置角度を、簡易な構造で、任意の値に調節できる。 In the invention according to claim 5 , even if it is difficult to adopt the pulse width modulation method, the arrangement angle when reflecting the light can be adjusted to an arbitrary value with a simple structure.
以下、本発明の好適な実施の形態について、添付の図面を参照しつつ、詳細に説明する。 DESCRIPTION OF EXEMPLARY EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of the invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
<1. 実施の形態>
図1は、発明に係る描画装置1を示す図である。なお、以下の説明では、図1に示すようにX軸、Y軸およびZ軸を定義する。
<1. Embodiment>
FIG. 1 shows a
描画装置1は、可動ステージ10、描画ヘッド11および制御部12を備え、可動ステージ10に支持された基板9に微細なパターン(像)を描画する装置として構成されている。
The
なお、パターンを描画する対象物は基板9に限定されるものではなく、紙や立体的な物体であってもよい。また、本発明における描画装置は、描画される像が視認できるものに限定されるものではなく、例えば、露光装置をも含む概念である。また、描画装置1の1回の描画動作によって描画される画像はn個の画素から形成されており(nは1以上の整数)、以下の説明では、n番目の画素に対応する構成について「n」の添え字を付すものとする。
The object on which the pattern is drawn is not limited to the
可動ステージ10の上面は水平面に加工されており、基板9を水平姿勢で保持する機能を有している。可動ステージ10は、図示しない吸着口から吸引を行うことにより、載置された基板9の裏面を吸着して当該基板9を所定の位置に保持する。
The upper surface of the
また、可動ステージ10は、制御部12からの制御信号に応じて、X軸方向およびY軸方向に直線的に移動することが可能とされている。すなわち、詳細は省略するが、可動ステージ10は、基板9をY軸方向に移動させる主走査駆動機構と、基板9をX軸方向に移動させる副走査駆動機構とを備えている。このような機構としては、例えば、リニアモータを採用することができる。
The
これにより、描画装置1は、描画ヘッド11から照射される光を基板9の表面の任意の位置に照射することが可能とされている。このように、描画装置1から照射されるレーザ光は基板9の表面を像面として結像される。
Thereby, the
描画ヘッド11は、レーザ光を照射する光源としてのレーザ発振器13、レーザ発振器13から照射されたレーザ光を所定の方向に導く照明光学系14、照明光学系14によって導かれたレーザ光を変調する空間光変調ユニット2、および、変調されたレーザ光を基板9に結像させる結像光学系15を備えている。
The drawing
レーザ発振器13は、制御部12から周期Tで伝達されるリセット信号に応じて、所定のパルス幅のレーザ光を断続的に点灯させる(パルスレーザとなる)。すなわち、本実施の形態におけるレーザ発振器13は、周期T(所定の周期)でレーザ光を照射する。
The
描画間隔が短い場合、その間に可動ステージ10の移動を完了しなければならないため、可動ステージ10を比較的高速で移動させる必要がある。一方、描画間隔が長くなると、可動ステージ10の移動を完了するための許容時間が長くなるので、可動ステージ10を低速で移動させることが可能となるものの、描画に要する時間が長くなり処理自体が遅延する。
When the drawing interval is short, the movement of the
しかし、本実施の形態におけるレーザ発振器13は、先述のように、一定の描画時間(パルス幅)および一定の描画間隔(周期T)で描画するため、可動ステージ10の移動速度を一定に保つことが可能であり、駆動制御が容易になるとともに、速度変更によって可動ステージ10の移動が不安定になることを防止することができる。なお、本実施の形態における描画装置1では、パルスレーザを照射するレーザ発振器13としてエキシマレーザを採用する。また、パルス幅は、10[nsec]ないし数十[nsec]程度である。
However, as described above, the
照明光学系14は、ミラー140、レンズ141およびミラー142,143を備えている。
The illumination
レーザ発振器13から照射され、照明光学系14に入射したレーザ光は、ミラー140およびレンズ141によりミラー142へと導かれる。また、ミラー142はレンズ141によって導かれたレーザ光をミラー143に向けて反射し、ミラー143は入射したレーザ光を空間光変調ユニット2(空間光変調デバイス20)に向けて反射する。すなわち、ミラー142およびミラー143によって、レーザ光は所定の角度(入射角)で空間光変調ユニット2に入射するように調整される。
Laser light emitted from the
このように、照明光学系14は、レーザ発振器13から照射されたレーザ光の光路を適宜調整して空間光変調ユニット2に導く機能を有している。なお、照明光学系14が備える構成は本実施の形態に示すものに限定されるものではなく、レーザ光の光路上に適宜、別のレンズやミラー等の光学素子が配置されてもよい。
Thus, the illumination
照明光学系14によって導かれたレーザ光が入射される空間光変調ユニット2は、空間光変調デバイス20と、ミラー制御部21とを備えている。
The spatial
空間光変調デバイス20は、シリコン基板の上に、微少なミラーが格子状に多数配列した構造を有している。以下、空間光変調デバイス20が備える微小ミラーを「マイクロミラー」と称し、他のミラー(例えばミラー142)と区別する。
The spatial
空間光変調デバイス20の各マイクロミラーは、描画装置1によって描画される画像の各画素に対応している。したがって、空間光変調デバイス20はn個のマイクロミラーを有している。
Each micromirror of the spatial
本実施の形態における空間光変調ユニット2では、このような空間光変調デバイス20としてDMD(Digital Micromirror Device)を採用する。ただし、本発明はDMDに限定されるものではなく、例えば、マイクロミラー方式のSLM(Spatial Light Modulators)であってもよい。
The spatial
空間光変調デバイス20の各マイクロミラーは、ミラー制御部21から各マイクロミラーに対して伝達される開始信号に応じて、所定の角度だけ傾くことが可能なように設計されている。具体的には、空間光変調デバイス20における複数のマイクロミラーの反射面の配置角度θ(反射面とXZ平面との成す角)は、ミラー制御部21からの開始信号に応じて、θon(第1角度)とθoff(第2角度)との間で変位する。
Each micromirror of the spatial
本実施の形態では、通常時において各マイクロミラーの反射面の配置角度θはθoffとなっている。この状態で、開始信号が与えられたマイクロミラーは、反射面の配置角度θをθoffからθonへと変位させる動作を開始する。すなわち、開始信号とは、反射面の配置角度θがθoffとなっている状態のマイクロミラーに対して、配置角度θがθonとなる状態へと状態の切り替えを行うタイミングを示す信号である。 In the present embodiment, the arrangement angle θ of the reflection surface of each micromirror is θ off during normal operation. In this state, the micromirror to which the start signal is given starts the operation of displacing the arrangement angle θ of the reflecting surface from θ off to θ on . That is, the start signal is a signal indicating the timing of switching the state to the state in which the arrangement angle θ is θ on with respect to the micromirror in the state in which the arrangement angle θ of the reflecting surface is θ off. .
厳密に言えば、製造誤差などによって各マイクロミラーごとに配置角度θは微妙に異なっている。したがって、例えば、(n−1)番目の画素に対応するマイクロミラーについてのθonの値「θon,n−1」は、n番目の画素に対応するマイクロミラーのθonの値「θon,n」と異なっている場合もあり得る。本実施の形態においてマイクロミラーの反射面の配置角度θにおけるθon(あるいはθoff)とは、当該マイクロミラーにON信号(あるいはOFF信号)を与え続けたときに、最終的に変位が停止するときの反射面の配置角度θとして定義する。 Strictly speaking, the arrangement angle θ is slightly different for each micromirror due to a manufacturing error or the like. Thus, for example, (n-1) th theta on for micro mirrors corresponding to the pixel values "θ on, n-1" is, n-th micromirror corresponding to the pixel theta on value "theta on , N ". In this embodiment, θ on (or θ off ) at the arrangement angle θ of the reflecting surface of the micromirror is that when the ON signal (or OFF signal) is continuously applied to the micromirror, the displacement finally stops. Is defined as an arrangement angle θ of the reflection surface.
図2は、マイクロミラーに開始信号が与えられたときの経過時間tと配置角度θとの関係を例示する図である。 FIG. 2 is a diagram illustrating the relationship between the elapsed time t and the arrangement angle θ when the start signal is given to the micromirror.
図2に示す例では、開始信号が与えられることによって配置角度θの変位が開始され、時間t1経過後において配置角度θが「θon」となり、配置角度θが「θon」の状態が時間(t2−t1)だけ経過するまで維持された後、配置角度θが再び「θoff」へと変位している。一般的なミラーデバイスにおいて、マイクロミラーの反射面の配置角度θが「θoff」から「θon」まで傾くのに要する時間t1は、数μsecから数十μsec程度である。 In the example shown in FIG. 2, the displacement of the arrangement angle θ is started by giving a start signal, and after the time t1, the arrangement angle θ becomes “θ on ” and the arrangement angle θ is “θ on ”. After being maintained until (t2-t1) elapses, the arrangement angle θ is displaced again to “θ off ”. In a general mirror device, the time t1 required for the arrangement angle θ of the reflection surface of the micromirror to tilt from “θ off ” to “θ on ” is about several μsec to several tens μsec.
このように、空間光変調デバイス20の複数のマイクロミラーのそれぞれは、開始信号により、反射面の配置角度θが「θoff」から「θon」と連続的に変位する。なお、図2に示す例では、時間t1が経過するまでの間、配置角度θが等速で連続的に変位している。しかし、配置角度θが、連続的、かつ、再現性があるように変位するのであれば、その変位速度は必ずしも「等速」に限定されるものではない。すなわち、n番目の画素に対応するマイクロミラーに開始信号が与えられてからの経過時間を「tn」、当該マイクロミラーの反射面の配置角度θを「θn」、連続関数fnを用いて次の式1と表すことができればよい。
Thus, each of the plurality of micromirrors of the spatial
θn=fn(tn)・・・式1
θ n = f n (t n ) ...
そして、本実施の形態における関数fnは、図2に示す関数となるが、一般的なミラーデバイスは式1を満足する。
The function f n in the present embodiment is the function shown in FIG. 2, but a general mirror device satisfies
また、関数fnが連続関数であることから、関数fnには逆関数Fnが存在し、式2が成立する。
Further, since the function f n is a continuous function, the function f n has an inverse function F n , and
tn=Fn(θn)・・・式2 t n = F n (θ n ) (2)
すなわち、n番目の画素に対応するマイクロミラーについて、所望する配置角度θnが決まれば、式2によって、当該マイクロミラーに開始信号を与えるタイミングを決定することができる。なお、関数Fnも再現性のある関数であるため、実験等により予め求めて、特性データとして記憶しておくことができる。
That is, for the micromirror corresponding to the nth pixel, when the desired arrangement angle θ n is determined, the timing at which the start signal is given to the micromirror can be determined by
図3は、ミラー制御部21の構成を示すブロック図である。図3に示すように、ミラー制御部21は、開始信号生成部210、メモリ211および演算部212を備えている。
FIG. 3 is a block diagram illustrating a configuration of the
開始信号生成部210は、制御部12から周期Tで伝達されるリセット信号を遅延させる複数の遅延回路から構成されている。
The start
開始信号生成部210における各遅延回路には、空間光変調デバイス20の各マイクロミラーがそれぞれ一対一で対応しており、対応する遅延回路とマイクロミラーとが独立した信号線で互いに接続されている。すなわち、各遅延回路も描画されるパターンの各画素に対応しており、開始信号生成部210はn個の遅延回路を備えている。
Each delay circuit in the start
開始信号生成部210の各遅延回路には、制御部12から先述のリセット信号が同時に入力される。そして、各遅延回路によってそれぞれ遅延されたリセット信号は、各遅延回路に対応するマイクロミラーにおける開始信号として、それぞれのマイクロミラーに個別に、先述の信号線によって伝達される。
The above-described reset signal is simultaneously input from the
すなわち、本実施の形態における開始信号生成部210は、レーザ発振器13においてパルスレーザを点灯させるタイミングを決定するためのリセット信号を基準として、開始信号を生成する機能を有している。
That is, the start
なお、各遅延回路における遅延時間は、後述する演算部212によって演算され、各遅延回路に伝達される。また、与えられた遅延時間だけ入力信号(本実施の形態ではリセット信号)を遅延させて出力する遅延回路は、既知の技術を用いてアナログ回路あるいはデジタル回路によって容易に実現できる。
Note that the delay time in each delay circuit is calculated by a
メモリ211は、それぞれが「0」または「1」の値を記憶することが可能な複数のメモリセルを備えている。また、メモリ211が備える複数のメモリセルは、所定数(1以上の整数)のメモリセルからなるn個のメモリセル群に区分されている。
The
メモリ211の各メモリセル群は、描画するパターンを構成する各画素にそれぞれ対応している。したがって、各メモリセル群には、対応する画素の画素値が制御部12から書き込まれる。例えば、各メモリセル群が8個のメモリセルによって構成されている場合、各メモリセル群は、対応する画素について0ないし255の範囲の画素値を画素データとして記憶することができる。なお、メモリセル群に記憶される画素値を「Q」とし、例えば、n番目の画素の画素値を「Qn」とする。
Each memory cell group of the
なお、描画するパターンを構成する各画素において中間階調(連続階調)を表現する必要がない場合には各メモリセル群が備えるメモリセルは1個で足りる。一方、中間階調を表現する必要がある場合には各メモリセル群は階調数に応じた複数個のメモリセルが必要となる。 Note that in the case where it is not necessary to express intermediate gradation (continuous gradation) in each pixel constituting the pattern to be drawn, one memory cell is sufficient for each memory cell group. On the other hand, when it is necessary to express intermediate gradation, each memory cell group requires a plurality of memory cells corresponding to the number of gradations.
メモリ211の各メモリセル群に記憶された各画素データは、演算部212によって参照され、後述する演算に用いられる。
Each pixel data stored in each memory cell group of the
演算部212は、メモリ211の各メモリセル群に記憶されている画素データに基づいて、開始信号生成部210の各遅延回路における遅延時間を求めて各遅延回路に伝達する機能を有する。
The
結像光学系15は、アパーチャ150、ミラー151および結像レンズ152を備えている。
The imaging
図4は、アパーチャ150の表面に形成される入射面153を例示する図である。図4に示す例では、(n−1)番目の画素に対応する入射面153n-1と、n番目の画素に対応する入射面153nとを示す。
FIG. 4 is a diagram illustrating an
アパーチャ150の空間光変調ユニット2に対向する側の表面には、それぞれが描画されるパターンの画素に対応する複数の入射面153が一面に形成される。言い換えれば、アパーチャ150の空間光変調ユニット2に対向する側の表面は、n個の入射面153に分割されている。
On the surface of the
各入射面153には、同じ画素に対応するマイクロミラーからの反射光(レーザ光)のみが入射するように配置されている。すなわち、n番目の画素に対応したマイクロミラーからの反射光のみがn番目の画素に対応した入射面153nに入射されるとともに、n番目の画素に対応した入射面153nにはn番目の画素に対応したマイクロミラー以外のマイクロミラーからの反射光が入射することはない。
Each
また、各入射面153には、それぞれ受光領域154が形成されており、受光領域154に入射したレーザ光だけがアパーチャ150を透過し、描画ヘッド11から照射される。言い換えれば、入射面153に入射したレーザ光のうち、受光領域154以外の領域に入射したレーザ光はアパーチャ150によって遮蔽される。
In addition, a
図4に示す領域80は、n番目の画素に対応するマイクロミラーの反射面の配置角度θが「θon,n」となった状態のときに、当該マイクロミラーによって反射されたレーザ光が入射する領域を示すものである。すなわち、配置角度θが「θon」となったとき、マイクロミラーによって反射されたレーザ光の全光束は対応する受光領域154に入射される(ただし製造誤差によるズレがない場合)。したがって、当該レーザ光の全光量が対応する画素を描画するために照射されるレーザ光の光量となる。
In the
また、図4に示す領域81は、n番目の画素に対応するマイクロミラーの反射面の配置角度θが「θoff,n」となった状態のときに、当該マイクロミラーによって反射されたレーザ光が入射する領域を示すものである。すなわち、配置角度θが「θoff」となったとき、マイクロミラーによって反射されたレーザ光の全光束は受光領域154に入射しない状態となる(ただし製造誤差によるズレがない場合)。したがって、対応する画素を描画するために照射されるレーザ光の光量は「0」となる。 4 is a laser beam reflected by the micromirror when the arrangement angle θ of the reflection surface of the micromirror corresponding to the nth pixel is “θ off, n ”. Indicates a region where the light is incident. That is, when the arrangement angle θ becomes “θ off ”, the total light flux of the laser light reflected by the micromirror is not incident on the light receiving region 154 (provided that there is no deviation due to manufacturing errors). Therefore, the amount of laser light emitted to draw the corresponding pixel is “0”.
先述のように、本実施の形態におけるマイクロミラーの反射面の配置角度θは、「θon」と「θoff」との間を連続的に変位するので、例えば、n番目の画素に対応するマイクロミラーによって反射されたレーザ光が入射しうる領域は、結局、図4に示す領域82となる。
As described above, the arrangement angle θ of the reflection surface of the micromirror in the present embodiment is continuously displaced between “θ on ” and “θ off ”, and therefore corresponds to, for example, the nth pixel. The region where the laser beam reflected by the micromirror can be incident becomes the
図4に示す領域83は、配置角度θが「θon,n-1」と「θoff,n-1」との間で変位しているときに、(n−1)番目の画素に対応するマイクロミラーにレーザ光が照射され反射されたレーザ光が入射する領域を示す。このような場合には、反射されたレーザ光の一部だけが受光領域154に入射し、その他の部分は遮蔽される。すなわち、領域83と受光領域154との重なる領域84に入射したレーザ光のみがアパーチャ150を透過し、そのレーザ光の光量は、反射されたレーザ光の全光束が受光領域154に入射した場合に比べて、アパーチャ150に遮蔽された分だけ減少する。
A
すなわち、アパーチャ150を透過するレーザ光の光量は、領域84の面積に依存し、当該面積は、配置角度θに依存する。逆に言えば、n番目の画素を描画するために照射すべきレーザ光の光量を「Ωn」とすると、当該光量Ωnを得るための配置角度θnは、連続関数Snを用いて式3と表すことができる。
That is, the amount of laser light that passes through the
θn=Sn(Ωn)・・・式3 θ n = S n (Ω n ) Equation 3
なお、関数Snは、再現性のある関数であるため、実験等により予め求めて特性データとして記憶しておくことができる。 Since the function Sn is a reproducible function, it can be obtained in advance through experiments or the like and stored as characteristic data.
このように、アパーチャ150は、通過するレーザ光の位置によって光量が変化する光学素子として構成されている。
As described above, the
アパーチャ150は、各受光領域154に入射した複数のレーザ光を互いに平行な向き(Y軸方向に平行な向き)に調整するとともに、各レーザ光のスポット形状を同一の形状に調整する機能を有する。
The
本実施の形態における受光領域154には、様々な配置角度θで反射されたレーザ光が入射する。したがって、アパーチャ150は受光領域154に入射したレーザ光の光軸をY軸方向となるように揃える機能を有しており、これによってアパーチャ150を通過した全てのレーザ光がY軸方向に進行する状態となる。
Laser light reflected at various arrangement angles θ is incident on the
また、本実施の形態では、図4に示す領域84の例のように、受光領域154に入射するレーザ光のスポット形状がマイクロミラーの反射面形状とはならない場合がある。このままのスポット形状で、レーザ光を基板9に照射すると、ムラの原因となる。したがって、アパーチャ150は各レーザ光の光量を揃えムラをなくす。
In the present embodiment, as in the example of the
アパーチャ150を通過したレーザ光はミラー151に向けて出射される。
The laser light that has passed through the
アパーチャ150からミラー151に向けて出射されたレーザ光は、ミラー151によって反射され、結像レンズ152を介して像面たる基板9の表面に照射される。これにより、当該レーザ光に対応する画素の位置に当該レーザ光が照射され、所望の画素が描画される。
The laser light emitted from the
ここで、演算部212が遅延時間を求めることができる原理を説明する。
Here, the principle by which the
本実施の形態における描画装置1では周期Tのリセット信号ごとにレーザ光が照射される。したがって、m回目のレーザ光が照射されるタイミングは「mT」である。また、n番目の画素に対応するマイクロミラーにm回目の描画のための開始信号が与えられてからの経過時間を「tn,m」とすると、m回目の描画のためのレーザ光は当該開始信号が与えられてから「tn,m」経過したときに照射されるので、m回目の開始信号が与えられるタイミングτn,mは、式4で表される。
In the
τn,m=mT−tn,m・・・式4 τ n, m = mT−t n, m Equation 4
また、(m−1)回目の描画からm回目の開始信号が与えられるまでの時間(n番目の画素に対応する遅延回路のm回目の描画に対する遅延時間)は、次の式5で表される。 The time from the (m−1) th drawing until the mth start signal is given (the delay time for the mth drawing of the delay circuit corresponding to the nth pixel) is expressed by the following Expression 5. The
dn,m=τn,m−(m−1)T・・・式5 d n, m = τ n, m − (m−1) T Equation 5
したがって、式4を式5に代入すると、式6が成立する。 Therefore, when Expression 4 is substituted into Expression 5, Expression 6 is established.
dn,m=T−tn,m・・・式6 d n, m = T−t n, m Expression 6
ここで、予め特性データに記憶されている関数Sn,Fnを用いると、式3および式2から式7および式8が求まる。
Here, when functions S n and F n stored in advance in the characteristic data are used, Expression 7 and Expression 8 are obtained from Expression 3 and
θn,m=Sn(Ωn,m)・・・式7 θ n, m = S n (Ω n, m ) Equation 7
tn,m=Fn(θn,m)・・・式8 t n, m = F n (θ n, m ) Equation 8
m回目の描画において、n番目の画素を描画するために必要なレーザ光の光量Ωn,mは、n番目の画素に対応したメモリセル群にm回目の画素データとして記憶される画素値Qn,mによって求まる。 In the m-th drawing, the light amount Ω n, m of the laser beam necessary for drawing the n-th pixel is a pixel value Q stored as the m-th pixel data in the memory cell group corresponding to the n-th pixel. It is obtained by n, m .
したがって、各画素について、式7、式8、式6を演算することにより、演算部212は、各画素に対応した遅延回路における遅延時間を求めることができる。
Thus, for each pixel, Equation 7, Equation 8, by calculating the equation 6, the
以上が描画装置1の構成および機能の説明である。次に、描画装置1を用いてパターンを描画する描画方法について説明する。
The above is the description of the configuration and function of the
図5は、本発明に係る描画方法を示す流れ図である。なお、図5に示すステップS11の処理が開始されるまでに、可動ステージ10に基板9が載置され、可動ステージ10(基板9)の描画ヘッド11に対する相対位置が決定されているものとする。
FIG. 5 is a flowchart showing a drawing method according to the present invention. It is assumed that the
制御部12は、レーザ発振器13と空間光変調ユニット2のミラー制御部21(開始信号生成部210)とにリセット信号の伝達を開始するとともに、ミラー制御部21のメモリ211に次回の描画に係る画素データを書き込む(ステップS11)。なお、最初に描画を開始する場合には、1回目のリセット信号のみレーザ発振器13に入力しないように制御してもよい。
The
次に、ミラー制御部21の演算部212が遅延時間を演算し、開始信号生成部210に伝達する。これにより、開始信号生成部210の各遅延回路によって制御部12から伝達されたリセット信号がそれぞれ遅延され、各マイクロミラーの切り替えタイミング(開始信号を与えるタイミング)が決定される(ステップS12)。
Next, the
ステップS12においてそれぞれの遅延回路において個別に決定されたタイミングに、各開始信号が、開始信号生成部210から空間光変調デバイスの各マイクロミラーに伝達される。これにより、空間光変調デバイス20の複数のマイクロミラーのそれぞれについて決定されたタイミングに応じて当該複数のマイクロミラーの状態が個別に制御される(ステップS13)。すなわち、各マイクロミラーは開始信号を与えられた瞬間から、配置角度θを「θon」に変位させる動作を開始する。
Each start signal is transmitted from the
次のリセット信号がレーザ発振器13に与えられると、レーザ発振器13はレーザ光を所定のパルス幅で照射し(ステップS14)、レーザ発振器13から照射されたレーザ光が照明光学系14に導かれて、空間光変調ユニット2(空間光変調デバイス20)の各マイクロミラーに同時に照射される(ステップS14)。
When the next reset signal is given to the
図6は、n番目の画素に対応したマイクロミラーについてのタイミングを示す図である。 FIG. 6 is a diagram illustrating the timing for the micromirror corresponding to the nth pixel.
ステップS14におけるレーザ光の照射は、レーザ光が照射される各マイクロミラーの配置角度θを「θon」に変位させる動作の完了を待って実行されるわけではない。したがって、ステップS14が実行され、レーザ光が照射されたマイクロミラーの中には配置角度θを「θon」に変位させる動作を完了していないものも存在する。すなわち、ステップS14においてレーザ光が照射される複数のマイクロミラーは、反射面の配置角度θが「θon」と「θoff」との間で変位中の状態のものを含む。 The laser beam irradiation in step S14 is not executed after completion of the operation of displacing the arrangement angle θ of each micromirror irradiated with the laser beam to “θ on ”. Accordingly, some micromirrors that have been subjected to step S14 and irradiated with laser light have not completed the operation of displacing the arrangement angle θ to “θ on ”. In other words, the plurality of micromirrors irradiated with laser light in step S14 include those in a state where the arrangement angle θ of the reflecting surface is displaced between “θ on ” and “θ off ”.
図6に示す例では、3回の描画が実行されているが、当該マイクロミラーについては、いずれも反射面の配置角度θが「θon」と「θoff」との間で変位中の状態でレーザ光が照射されている。 In the example shown in FIG. 6, the drawing is performed three times. However, for each of the micromirrors, the reflection surface arrangement angle θ is being displaced between “θ on ” and “θ off ”. The laser beam is irradiated.
描画装置1では、図6に示すように、レーザ発振器13から照射されるレーザ光はパルスレーザであって、レーザ光の点灯時間(パルス幅)は、マイクロミラーの遷移時間に比べて充分短い。したがって、変位中のマイクロミラーにレーザ光を照射することにより、本実施の形態における空間光変調ユニット2は、各マイクロミラーを所望の配置角度の状態に停止させる構造を有しなくても、所望の配置角度(所望の反射角)でレーザ光を反射することができる。したがって、描画時の光量を画素ごとに連続的に変化させることができる。
In the
図6に示す例では、3回の描画において、いずれも異なる配置角度θの状態のときにレーザ光が照射されている。したがって、3回の描画において、n番目の画素を描画するためのレーザ光の反射方向はいずれも異なる。 In the example shown in FIG. 6, the laser light is irradiated when the drawing is performed three times at different arrangement angles θ. Therefore, in the three times of drawing, the reflection directions of the laser beams for drawing the nth pixel are all different.
ステップS14において照射されたレーザ光は、空間光変調デバイス20の各マイクロミラーによって所望の方向に反射されることにより変調され(ステップS15)、結像光学系15(アパーチャ150)に入射する(ステップS16)。 The laser light irradiated in step S14 is modulated by being reflected in a desired direction by each micromirror of the spatial light modulation device 20 (step S15), and is incident on the imaging optical system 15 (aperture 150) (step S15). S16).
さらに、結像光学系15に入射したレーザ光は、基板9の表面に導かれ、当該基板9の表面の所定の位置にそれぞれ照射され、各画素が描画される(ステップS17)。
Further, the laser light incident on the imaging
1回の描画が終了するたびに、描画装置1は、画像データに基づいて、全ての描画が終了したか否かを確認し(ステップS18)、未だ描画していない画素が残っている場合には、可動ステージ10を所定の位置に移動させた後、ステップS11からの処理を繰り返す。一方、全ての画素の描画を終了した場合には、処理を終了する。
Each time one drawing operation is completed, the
以上のように、描画装置1は、従来のパルス幅変調方式を適用することができない構成(エキシマレーザのような短波長のパルスレーザを照射するレーザ発振器13)を備えているにも関わらず、描画するレーザ光の光量を連続的に変更することができる。
As described above, the
また、開始信号のタイミングを制御することにより、ミラー角度制御方式のように、機械的、物理的にマイクロミラーの配置角度を直接制御するよりも、簡易な構造で実現でき、安定性、精度および分解能に優れた描画を行うことができる。 In addition, by controlling the timing of the start signal, it can be realized with a simple structure rather than directly controlling the arrangement angle of the micromirror mechanically and physically like the mirror angle control method, and the stability, accuracy and Drawing with excellent resolution can be performed.
また、描画に用いられる光源から出射される光は、光量に関して一様な分布であるとは限らない。このように光の光量分布が一様でない場合には、DMDなどの空間光変調デバイスの各マイクロミラーに入射する光の光量は、各マイクロミラーの位置に応じて不均一となる。 Further, the light emitted from the light source used for drawing is not always uniform in terms of the amount of light. When the light quantity distribution of light is not uniform in this way, the light quantity of light incident on each micromirror of a spatial light modulation device such as a DMD becomes non-uniform according to the position of each micromirror.
そして、入射する光の光量が異なるマイクロミラーについては、例え、反射面の配置角度を同じ値に制御したとしても、反射される光の光量は異なる値となってしまい、描画に寄与する光の光量は同じ値にならず、描画されたパターンのムラの原因となる。 And for micromirrors with different amounts of incident light, even if the arrangement angle of the reflecting surface is controlled to the same value, the amount of reflected light will be different, and the light contributing to drawing will be different. The amount of light does not become the same value, which causes unevenness in the drawn pattern.
さらに、製造誤差によって各マイクロミラーごとに光の反射方向が微妙に異なっていると、結果として、同じ画素値の画素に対応するマイクロミラーからの光の光量が同一にならない。 Furthermore, if the light reflection direction is slightly different for each micromirror due to a manufacturing error, the amount of light from the micromirror corresponding to the pixel having the same pixel value is not the same.
このように、従来の描画装置では、様々な要因によって画素間の誤差(描画時の光量誤差に起因する濃度誤差)が生じるという問題があった。 As described above, the conventional drawing apparatus has a problem that an error between pixels (density error caused by a light amount error during drawing) occurs due to various factors.
しかし、描画装置1では、各画素について、特性データ(関数Sn,Fn)が実験等により予め求められ、かつ、描画に係るレーザ光の光量を連続的に変更できるので、特性データによって画素間の誤差を抑制することができ、均一な描画を実現できる。
However, in the
<2. 変形例>
以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく様々な変形が可能である。
<2. Modification>
Although the embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications can be made.
例えば、開始信号生成部210をミラー制御部21に設けると説明したが、空間光変調デバイス20に設けてもよい。
For example, although it has been described that the start
また、所望の配置角度θを求める関数Snを実験により求めると説明したが、開始信号が与えられてからの光量変化を測定するこによって、いわば関数Snと関数Fnとの合成関数を求めて特性データとして記憶していてもよい。 Further, it is described that determined by experiment function S n to obtain the desired placement angle theta, by this measuring the change in amount of light from the given start signal, as it were a composite function of a function S n and the function F n It may be obtained and stored as characteristic data.
また、アパーチャ150に代えて、通過する光の位置によって光量が変化する光学素子、例えば、連続濃度可変フィルタなどを用いてもよい。
Further, instead of the
1 描画装置
10 可動ステージ
11 描画ヘッド
12 制御部
13 レーザ発振器
14 照明光学系
15 結像光学系
150 アパーチャ
2 空間光変調ユニット
20 空間光変調デバイス(複数のミラー)
21 ミラー制御部
210 開始信号生成部
211 メモリ
212 演算部
9 基板
T 周期
DESCRIPTION OF
21
Claims (11)
光を照射する光源と、
前記光源からの光を変調する空間光変調ユニットと、
前記空間光変調ユニットによって変調された光を導く光学系と、
を備え、
前記空間光変調ユニットは、
反射面の配置角度が第1角度となる状態と前記反射面の配置角度が第2角度となる状態との間で状態の切り替えが可能であるとともに、前記状態の切り替えが行われたときに、前記反射面の配置角度が前記第1角度と前記第2角度との間で連続的に変位する複数のミラーと、
前記光源から照射される光を前記複数のミラーのそれぞれが反射させるべき方向に応じて、前記複数のミラーのそれぞれについて前記状態の切り替えを行うタイミングを個別に決定しつつ、前記複数のミラーの状態を個別に制御するミラー制御手段と、
を備え、
前記光学系は、通過する光の位置によって光量が変化する光学素子を備え、
前記複数のミラーのそれぞれが反射させるべき方向は、前記複数のミラーのそれぞれに対応した画素を描画するために必要とされる光の光量に応じて決定される描画装置。 A drawing device for drawing a pattern by irradiating light,
A light source that emits light;
A spatial light modulation unit for modulating light from the light source;
An optical system for guiding light modulated by the spatial light modulation unit;
With
The spatial light modulation unit is
The state can be switched between a state where the arrangement angle of the reflection surface is the first angle and a state where the arrangement angle of the reflection surface is the second angle, and when the state is changed, A plurality of mirrors in which an arrangement angle of the reflecting surface is continuously displaced between the first angle and the second angle;
The state of the plurality of mirrors while individually determining the timing for switching the state for each of the plurality of mirrors according to the direction in which each of the plurality of mirrors should reflect the light emitted from the light source Mirror control means for individually controlling,
Equipped with a,
The optical system includes an optical element whose amount of light changes depending on the position of light passing therethrough,
The drawing device in which each of the plurality of mirrors is to be reflected is determined according to the amount of light required to draw a pixel corresponding to each of the plurality of mirrors .
前記ミラー制御手段は、反射面の配置角度が前記第1角度と前記第2角度との間で変位中の状態において、前記反射面が前記光源からの光を反射するように、前記反射面を有するミラーの状態の切り替えタイミングを決定する描画装置。 The drawing apparatus according to claim 1,
The mirror control unit is configured to change the reflection surface so that the reflection surface reflects light from the light source in a state where the arrangement angle of the reflection surface is being displaced between the first angle and the second angle. A drawing apparatus for determining a switching timing of a mirror state .
前記光源は、所定の周期で光を照射する描画装置。 The drawing apparatus according to claim 1 or 2,
The light source is a drawing apparatus that emits light at a predetermined cycle .
前記ミラー制御手段は、前記所定の周期に応じてタイミングを決定する描画装置。 The drawing apparatus according to claim 3 ,
The said mirror control means is a drawing apparatus which determines a timing according to the said predetermined period .
前記光源は、パルスレーザである描画装置。 The drawing apparatus according to claim 3 or 4 , wherein
The drawing apparatus , wherein the light source is a pulse laser .
前記パルスレーザは、エキシマレーザである描画装置。 The drawing apparatus according to claim 5 ,
The drawing apparatus , wherein the pulse laser is an excimer laser .
前記光学素子は、アパーチャである描画装置。 The drawing apparatus according to any one of claims 1 to 6 ,
The optical element is an aperture drawing device.
(a) 反射面の配置角度が第1角度と第2角度との間で連続的に変位する複数のミラーのそれぞれが前記光源から照射される光を反射させるべき方向に応じて、前記反射面の配置角度が前記第1角度となる状態と前記反射面の配置角度が前記第2角度となる状態との間で前記複数のミラーの状態を切り替えるタイミングを、前記複数のミラーのそれぞれについて個別に決定する工程と、
(b) 前記(a)工程において、前記複数のミラーのそれぞれについて決定されたタイミングに応じて前記複数のミラーの状態を個別に制御する工程と、
(c) 前記(b)工程により制御された状態の前記複数のミラーに前記光源から照射される光を反射させることにより、前記光源から照射される光を変調して前記光学系に入射させる工程と、
(d) 前記光学系が備える光学素子により、前記光学系に入射した光の光量を、当該光が通過する位置に応じて変化させる工程と、
を有し、
前記複数のミラーのそれぞれが反射させるべき方向は、前記複数のミラーのそれぞれに対応した画素を描画するために必要とされる光の光量に応じて決定される描画方法。 A drawing method for drawing a pattern by irradiating light from a light source from an optical system,
(a) Depending on the direction in which each of the plurality of mirrors whose disposition angle of the reflecting surface continuously displaces between the first angle and the second angle should reflect the light emitted from the light source, the reflecting surface The timing for switching the state of the plurality of mirrors between a state where the arrangement angle of the mirror is the first angle and a state where the arrangement angle of the reflecting surface is the second angle is individually set for each of the plurality of mirrors. A step of determining;
(b) in the step (a), the step of individually controlling the state of the plurality of mirrors according to the timing determined for each of the plurality of mirrors;
(c) modulating the light emitted from the light source to be incident on the optical system by reflecting the light emitted from the light source on the plurality of mirrors controlled in the step (b) When,
(d) a step of changing the amount of light incident on the optical system according to a position through which the light passes by an optical element included in the optical system;
Have
The drawing method in which the direction in which each of the plurality of mirrors should be reflected is determined in accordance with the amount of light required to draw the pixels corresponding to each of the plurality of mirrors .
前記(c)工程における複数のミラーは、反射面の配置角度が前記第1角度と前記第2角度との間で変位中の状態のものを含む描画方法。 The drawing method according to claim 8,
The drawing method in which the plurality of mirrors in the step (c) include a mirror in a state in which a reflection surface is displaced between the first angle and the second angle .
前記(c)工程において、前記光源は所定の周期で光を照射する描画方法。 The drawing method according to claim 8 , wherein:
In the step (c), the light source irradiates light at a predetermined cycle .
前記(a)工程において、前記複数のミラーの状態を切り替えるタイミングは、前記所定の周期に応じて決定される描画方法。 The drawing method according to claim 10, wherein
In the step (a), the timing for switching the states of the plurality of mirrors is determined according to the predetermined period.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008261330A JP5376494B2 (en) | 2008-10-08 | 2008-10-08 | Drawing apparatus and drawing method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008261330A JP5376494B2 (en) | 2008-10-08 | 2008-10-08 | Drawing apparatus and drawing method |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010093044A JP2010093044A (en) | 2010-04-22 |
JP5376494B2 true JP5376494B2 (en) | 2013-12-25 |
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ID=42255493
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008261330A Expired - Fee Related JP5376494B2 (en) | 2008-10-08 | 2008-10-08 | Drawing apparatus and drawing method |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5376494B2 (en) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5611016B2 (en) * | 2010-12-07 | 2014-10-22 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | Exposure apparatus, exposure method, and manufacturing method of display panel substrate |
US8823921B2 (en) * | 2011-08-19 | 2014-09-02 | Ultratech, Inc. | Programmable illuminator for a photolithography system |
JP6318572B2 (en) * | 2013-11-19 | 2018-05-09 | 株式会社リコー | Image processing apparatus and method, and image forming apparatus |
JP6818393B2 (en) * | 2016-09-01 | 2021-01-20 | 株式会社オーク製作所 | Exposure device |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SE9800665D0 (en) * | 1998-03-02 | 1998-03-02 | Micronic Laser Systems Ab | Improved method for projection printing using a micromirror SLM |
JP2005022250A (en) * | 2003-07-02 | 2005-01-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | Image recording method and image recording apparatus |
JP2006128194A (en) * | 2004-10-26 | 2006-05-18 | Canon Inc | Exposing apparatus and device manufacturing method |
JP4638826B2 (en) * | 2005-02-04 | 2011-02-23 | 富士フイルム株式会社 | Drawing apparatus and drawing method |
DE102008001511A1 (en) * | 2008-04-30 | 2009-11-05 | Carl Zeiss Smt Ag | Illumination optics for EUV microlithography and illumination system and projection exposure apparatus with such illumination optics |
-
2008
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20111006 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120220 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20120220 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20111006 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120919 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120925 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121115 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130821 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130918 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |