JPH1110593A - Substrate drilling device - Google Patents

Substrate drilling device

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Publication number
JPH1110593A
JPH1110593A JP16452497A JP16452497A JPH1110593A JP H1110593 A JPH1110593 A JP H1110593A JP 16452497 A JP16452497 A JP 16452497A JP 16452497 A JP16452497 A JP 16452497A JP H1110593 A JPH1110593 A JP H1110593A
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JP
Japan
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substrate
positioning table
drilling
image
suction
Prior art date
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Pending
Application number
JP16452497A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kiyohide Tamaki
清英 玉木
Toshiyuki Nagamine
利行 長峰
Akihiko Nishide
明彦 西出
Hideyuki Tomizawa
英行 富沢
Tetsuya Kudo
哲矢 工藤
Masaaki Sonoda
正明 園田
Hiroaki Kobayashi
博昭 小林
Kiichiro Uyama
喜一郎 宇山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba FA Systems Engineering Corp
Original Assignee
Toshiba FA Systems Engineering Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba FA Systems Engineering Corp filed Critical Toshiba FA Systems Engineering Corp
Priority to JP16452497A priority Critical patent/JPH1110593A/en
Publication of JPH1110593A publication Critical patent/JPH1110593A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/0266Marks, test patterns or identification means
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/0011Working of insulating substrates or insulating layers
    • H05K3/0044Mechanical working of the substrate, e.g. drilling or punching

Landscapes

  • Jigs For Machine Tools (AREA)
  • Control Of Cutting Processes (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To precisely drill at a specified position against a standard mark even when it is a sheet type substrate. SOLUTION: This device has driving means 8, 9 to move a positioning table 6 fixed by protruding a part of a substrate 4 having a standard mark, a radiation detector 5 to detect a picture image of the standard mark by radiation, a computing means to compute positional slipping quantity of the substrate 4 by slipping quantity of a picture image signal of the standard mark by receiving it, a control means to correct positional slipping quantity of the substrate 4 by controlling the driving means 8, 9 in accordance with the computed positional slipping quantity and a drilling means 10 to drill at a specified position against the standard mark on an protruding part.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、基板を製造する基
板穴あけ装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate drilling apparatus for manufacturing a substrate.

【0002】[0002]

【従来の技術】多層張り合わされた電気回路基板(以
下、多層基板と云う)を製造するとき、各層それぞれの
基板に基準穴をあけ、ロッドで穴位置を揃えて接合する
方法が一般的に行われている。基準穴は基板のプリント
パターンと同時に印刷された基準マークをもとにあけら
れるので各層をずれなく接合することができる。基板の
基準マーク位置を検出するのに可視光あるいはX線が用
いられる。上記の基準穴をあける従来の基板穴あけ装置
としては、例えば図20に示すようなものがある。同図
(a)は平面図、同図(b)は正面図、同図(c)は側
面図である。この従来技術では基準マークの位置検出に
X線が用いられており、X線遮蔽室90内には、X線管
81、X線検出器88及び穴あけ部89a,89bがx
フレーム87に一体で保持され、x駆動部85で水平x
方向に駆動されるようになっている。これに対し基板8
3を固定したyテーブル84は、y駆動部86で水平y
方向に駆動されるようになっている。82はコリメータ
である。X線検出器88は2次元の分解能を持ち、基板
83が視野に入ると透過像の信号を出力する。基板83
には例えば円形の基準マークが印刷されており、図示省
略の制御部がX線検出器88の出力を受け取り、基準マ
ークが視野中央にくるようにx駆動部85及びy駆動部
86を制御してx,y方向の駆動を行う。さらにX線検
出器88と穴あけ部89a,89bの差分だけx方向の
駆動を行ってから穴あけを行う。これにより基準マーク
の中央に穴をあけることができる。基板83は、その周
辺下部がyテーブル84で支えられ、また周辺が上側よ
りクランプされている。yテーブル84の基板83下部
は穴になっており、基板83は周辺部を除き上下とも障
害物がないように支えられている。穴あけするとき、下
部穴あけ部89bから当て板を上昇させて基板83を下
から支え、上部穴あけ部89aから回転するドリル歯を
降下させて穴をあける。
2. Description of the Related Art When manufacturing an electric circuit board having a multi-layer structure (hereinafter, referred to as a "multi-layer substrate"), a method is generally used in which a reference hole is formed in each substrate of each layer, and holes are aligned with rods and joined. Have been done. Since the reference hole is formed based on the reference mark printed at the same time as the printed pattern of the substrate, each layer can be joined without displacement. Visible light or X-rays are used to detect the reference mark position on the substrate. As a conventional substrate drilling device for drilling the above-mentioned reference hole, for example, there is one as shown in FIG. 1A is a plan view, FIG. 1B is a front view, and FIG. 1C is a side view. In this conventional technique, X-rays are used for detecting the position of a reference mark, and an X-ray tube 81, an X-ray detector 88, and holes 89a and 89b are provided in an X-ray shielding room 90.
It is held integrally with the frame 87, and the horizontal x
It is driven in the direction. On the other hand, the substrate 8
3 is fixed to the y table 84 by the y drive unit 86.
It is driven in the direction. 82 is a collimator. The X-ray detector 88 has a two-dimensional resolution, and outputs a transmission image signal when the substrate 83 enters the field of view. Substrate 83
For example, a circular fiducial mark is printed, and a control unit (not shown) receives the output of the X-ray detector 88 and controls the x driving unit 85 and the y driving unit 86 so that the fiducial mark is located at the center of the field of view. X and y directions. Further, after the driving in the x direction is performed by the difference between the X-ray detector 88 and the drilling units 89a and 89b, drilling is performed. This makes it possible to make a hole in the center of the reference mark. The substrate 83 has its lower periphery supported by a y-table 84 and its periphery clamped from above. The lower portion of the substrate 83 of the y-table 84 is a hole, and the substrate 83 is supported so that there are no obstacles in the upper and lower portions except for the peripheral portion. When drilling, the backing plate is raised from the lower drilled portion 89b to support the substrate 83 from below, and the rotating drill teeth are lowered from the upper drilled portion 89a to drill a hole.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】従来の基板穴あけ装置
は基板を周辺で支え、下から当て板を当てて穴をあける
方式であるため、薄くて曲がりやすいシート状基板に適
用できないという問題点がある。この種の基板に旧来、
フレキシブル基板という一般名でカメラやプリンターな
どでよく使われているものがあるが、これらは殆ど単層
基板である。近年、導電性バンプ層間接続方式(Buried
Bump Interconnection Technique )という方式の基板
が開発されている。これは銅箔にパターンをエッチング
レジストで印刷するとともに層間接続のためのバンプを
印刷し、これにプラスチックの絶縁シートを加熱接合し
た後、基準穴をあけ、さらにパターンをエッチング処理
して単層基板を仕上げ、この単層基板を重ね、加熱接合
して多層にするものである。銅箔と絶縁シートを接合す
るときバンプが絶縁シートを破り、絶縁シート側に頭を
出し、層間をつなぐ役目をする。この方式で30cm角を
超え、数十層もの多層基板が作られようとしている。従
来の基板穴あけ装置はこのようなシート状基板には適用
できない。また、従来の基板穴あけ装置は穴あけが1つ
ずつであり処理速度が遅い。
The conventional substrate drilling device is a method in which the substrate is supported around the periphery and a hole is made by applying a patch from below, so that it cannot be applied to a thin and easily bent sheet-like substrate. is there. Traditionally this kind of substrate,
Although there is a flexible substrate commonly used in cameras and printers under the generic name, these are almost single-layer substrates. In recent years, conductive bump interlayer connection (Buried
A board of the type called "Bump Interconnection Technique" has been developed. In this method, a pattern is printed on copper foil with an etching resist, bumps for interlayer connection are printed, a plastic insulating sheet is heated and joined, a reference hole is made, and the pattern is further etched to form a single-layer substrate. And the single-layer substrates are stacked and joined by heating to form a multilayer. When joining the copper foil and the insulation sheet, the bumps break the insulation sheet, and the head is exposed on the insulation sheet side, and serves to connect the layers. With this method, a multilayer substrate exceeding 30 cm square and as many as several tens of layers is being manufactured. The conventional substrate drilling apparatus cannot be applied to such a sheet-like substrate. In addition, the conventional substrate drilling device performs drilling one by one and has a low processing speed.

【0004】本発明は、上記に鑑みてなされたもので、
薄くて曲がりやすいシート状の基板であっても、基準マ
ークに対し定められた位置に正確に穴あけすることがで
き、またその穴あけ処理を効率よく進めることができる
基板穴あけ装置を提供することを目的とする。
[0004] The present invention has been made in view of the above,
It is an object of the present invention to provide a substrate drilling apparatus that can accurately drill a hole at a predetermined position with respect to a fiducial mark even in the case of a thin and easily bendable sheet-like substrate, and that can efficiently advance the drilling process. And

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、請求項1記載の発明は、基準マークを持つ基板の一
部をはみ出して固定する位置決めテーブルと、該位置決
めテーブルを前記基板の面に沿って動かす駆動手段と、
放射線を前記基板に照射する放射線発生手段と、2次元
の分解能を持ち前記放射線による前記基準マークの画像
を検出する放射線検出器と、該放射線検出器から前記基
準マークの画像の信号を受けそのずれ量より前記基板の
位置ずれ量を算出する演算手段と、算出された前記位置
ずれ量を基に前記駆動手段を制御して前記基板の位置ず
れ量を修正する制御手段と、前記はみ出し部における前
記基準マークに対して一定の位置に穴をあける穴あけ手
段とを有することを要旨とする。この構成により、位置
決めテーブル上に基板がはみ出して固定される。位置決
めテーブルが測定位置に動かされ、基板に放射線が照射
されて放射線検出器から基準マークの画像が得られる。
演算手段でこの画像のずれ量より基板の位置ずれ量が算
出される。制御手段はこの算出された位置ずれ量を基に
駆動手段を制御して、位置決めテーブルを穴あけ手段に
移動させ、基板のはみ出し部の部分で基準マークに対し
定められた位置に穴をあける。これにより、基板がずれ
て位置決めテーブルに固定されても基準マークに対して
一定の位置に穴があけられる。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a positioning table for fixing a portion of a substrate having a reference mark by protruding a part of the substrate, and fixing the positioning table to a surface of the substrate. Driving means for moving along
A radiation generating means for irradiating the substrate with radiation, a radiation detector having a two-dimensional resolution and detecting an image of the fiducial mark by the radiation, and receiving a signal of the image of the fiducial mark from the radiation detector and shifting Calculating means for calculating the amount of displacement of the substrate from the amount; control means for controlling the driving means based on the calculated amount of displacement to correct the amount of displacement of the substrate; and The gist of the present invention is to have a drilling means for drilling a hole at a predetermined position with respect to the reference mark. With this configuration, the substrate protrudes from the positioning table and is fixed. The positioning table is moved to the measurement position, the substrate is irradiated with radiation, and an image of the reference mark is obtained from the radiation detector.
The amount of displacement of the substrate is calculated from the amount of displacement of the image by the calculating means. The control means controls the driving means on the basis of the calculated positional deviation amount, moves the positioning table to the drilling means, and drills a hole at a position defined with respect to the reference mark at the protruding portion of the substrate. Thereby, even if the substrate is shifted and fixed to the positioning table, a hole is formed at a fixed position with respect to the reference mark.

【0006】請求項2記載の発明は、上記請求項1記載
の基板穴あけ装置において、前記穴あけ手段は、前記位
置決めテーブルのテーブル面と同一面内にその上面があ
り前記基板のはみ出し部が載る受け手段と、該受け手段
の上に置かれた前記基板のはみ出し部を突いて穴をあけ
る突き手段とを有することを要旨とする。この構成によ
り、位置決めテーブルを穴あけ手段に移動させたとき、
基板のはみ出し部は受け手段上に接して置かれ、例えば
プレスロッド等の突き手段により穴があけられる。
According to a second aspect of the present invention, in the substrate drilling apparatus according to the first aspect, the drilling means has an upper surface in the same plane as a table surface of the positioning table, and a receiving portion on which the protruding portion of the substrate is mounted. Means and a protruding means for perforating a protruding portion of the substrate placed on the receiving means to form a hole. With this configuration, when the positioning table is moved to the drilling means,
The protruding portion of the substrate is placed in contact with the receiving means, and a hole is formed by a pushing means such as a press rod.

【0007】請求項3記載の発明は、上記請求項1記載
の基板穴あけ装置において、前記位置決めテーブルは、
空気吸着により基板を固定することを要旨とする。この
構成により、基板が例えばシート状のものであっても、
位置決めテーブル上に平面状に整えられて、基準マーク
の画像検出等が正確に行われる。
According to a third aspect of the present invention, in the substrate drilling apparatus according to the first aspect, the positioning table comprises:
The gist is to fix the substrate by air absorption. With this configuration, even if the substrate is, for example, a sheet,
It is arranged in a plane on the positioning table, and the image detection of the reference mark and the like are accurately performed.

【0008】請求項4記載の発明は、上記請求項1記載
の基板穴あけ装置において、前記基板を前記位置決めテ
ーブルへ補給する第1の基板送り手段と、前記位置決め
テーブル上の前記基板を収納部へ移動させる第2の基板
送り手段とを有し、前記第1、第2の基板送り手段は空
気吸着により前記基板を固定する吸着部を持つことを要
旨とする。この構成により、基板が基板送り手段上に空
気吸着により固定されて位置決めテーブルへ補給される
とともに、穴あけ終了後は収納部に送られて収納され
る。これにより、基板が例えばシート状のものであって
も、損傷のおそれなく、補給、収納を行うことが可能と
なる。
According to a fourth aspect of the present invention, in the substrate drilling apparatus of the first aspect, first substrate feeding means for replenishing the substrate to the positioning table, and the substrate on the positioning table to a storage section. A second substrate feeding means for moving the substrate, wherein the first and second substrate feeding means have a suction portion for fixing the substrate by air suction. With this configuration, the substrate is fixed on the substrate feeding means by air suction and supplied to the positioning table, and is also sent to the storage section and stored after completion of the drilling. Thus, even if the substrate is, for example, a sheet-like substrate, replenishment and storage can be performed without fear of damage.

【0009】請求項5記載の発明は、上記請求項1記載
の基板穴あけ装置において、前記演算手段は、前記駆動
手段で基板を四辺形状に駆動し、前記画像の画像修正を
行うことを要旨とする。この構成により、予め駆動手段
で基板を四辺形状に駆動し、そのとき得られる基準マー
クの画像から画像上の位置と実空間上の位置を対応させ
る画像較正が行われる。
According to a fifth aspect of the present invention, in the substrate drilling apparatus according to the first aspect, the calculating means drives the substrate into a quadrilateral shape by the driving means to correct the image of the image. I do. With this configuration, the substrate is preliminarily driven into a quadrilateral shape by the driving unit, and the image calibration is performed so that the position on the image and the position in the real space correspond from the image of the reference mark obtained at that time.

【0010】請求項6記載の発明は、上記請求項1記載
の基板穴あけ装置において、仮位置決めテーブルと、該
仮位置決めテーブル上で前記基板を突き当て板に当てて
仮位置決めする仮位置決め手段と、前記基板を前記仮位
置決めテーブルから前記位置決めテーブルへ移す基板送
り手段とを有することを要旨とする。この構成により、
基板が大きくずれることなく位置決めテーブル上に固定
されて、位置決めテーブルが測定位置に動かされたと
き、基準マークが放射線検出器の視野から外れることが
防止される。
According to a sixth aspect of the present invention, in the substrate drilling apparatus according to the first aspect, a temporary positioning table, a temporary positioning means for temporarily positioning the substrate on the temporary positioning table by abutting the substrate against an abutment plate, The present invention has a substrate feeding means for moving the substrate from the temporary positioning table to the positioning table. With this configuration,
The substrate is fixed on the positioning table without significant displacement, and when the positioning table is moved to the measurement position, the fiducial mark is prevented from deviating from the field of view of the radiation detector.

【0011】請求項7記載の発明は、上記請求項6記載
の基板穴あけ装置において、前記基板送り手段は、空気
吸着により前記基板を固定する吸着部を持つことを要旨
とする。この構成により、基板が例えばシート状のもの
であっても、仮位置決め状態が確実に保持されたまま位
置決めテーブル上に移される。
According to a seventh aspect of the present invention, in the substrate drilling apparatus according to the sixth aspect, the substrate feeding means has a suction portion for fixing the substrate by air suction. With this configuration, even if the substrate is, for example, a sheet, the substrate is moved onto the positioning table while the temporary positioning state is reliably maintained.

【0012】請求項8記載の発明は、上記請求項7記載
の基板穴あけ装置において、前記仮位置決めテーブルへ
前記基板を補充する基板補充部を有し、前記基板送り手
段は空気吸着により前記基板を固定する2つの吸着部を
持ち、前記基板を前記仮位置決めテーブルから前記位置
決めテーブルへ移すと同時に他の基板を前記基板補充部
から前記仮位置決めテーブルへ移すことを要旨とする。
この構成により、基板の仮位置決めテーブルから位置決
めテーブルへの移動と基板補充部から仮位置決めテーブ
ルへの補充とが、基板を傷めることなく、同時に連動し
て効率的に行われる。
According to an eighth aspect of the present invention, in the substrate drilling apparatus according to the seventh aspect, there is provided a substrate replenishing section for replenishing the temporary positioning table with the substrate, and the substrate feeding means removes the substrate by air suction. The gist of the present invention is to have two suction portions to be fixed, and to move the substrate from the temporary positioning table to the positioning table and at the same time to move another substrate from the substrate replenishing portion to the temporary positioning table.
With this configuration, the movement of the substrate from the temporary positioning table to the positioning table and the replenishment of the substrate from the substrate replenishing section to the temporary positioning table are simultaneously and efficiently performed without damaging the substrate.

【0013】請求項9記載の発明は、上記請求項2記載
の基板穴あけ装置において、前記穴あけ手段は、前記受
け手段との間に前記基板を挟み込む可動の押さえ手段を
有し、前記基板を押さえた状態で穴をあけることを要旨
とする。この構成により、基板が例えばシート状のもの
であっても平面状に整えられて、基準マークに対して正
確に一定の位置に穴があけられる。
According to a ninth aspect of the present invention, in the substrate drilling apparatus according to the second aspect, the piercing means has a movable pressing means for sandwiching the substrate between the substrate and the receiving means, and holds the substrate. The point is to make a hole in the state of being held. With this configuration, even if the substrate is, for example, a sheet, the substrate is arranged in a planar shape, and a hole is accurately formed at a predetermined position with respect to the reference mark.

【0014】請求項10記載の発明は、上記請求項2記
載の基板穴あけ装置において、前記受け手段の端部に
は、傾斜面を持ち前記基板のはみ出し部をガイドして当
該受け手段上に載せる基板ガイド手段を形成してなるこ
とを要旨とする。この構成により、基板が例えばシート
状のものであっても、基板のはみ出し部に垂れ下がりが
あっても、基板を傷めることなく確実に受け手段上に載
せることが可能となる。
According to a tenth aspect of the present invention, in the substrate drilling apparatus according to the second aspect, the receiving means has an inclined surface at an end thereof and guides the protruding portion of the substrate to be mounted on the receiving means. The gist is to form the substrate guide means. With this configuration, even if the substrate is, for example, a sheet-like substrate, or if the protruding portion of the substrate hangs down, the substrate can be reliably mounted on the receiving means without damaging the substrate.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0016】図1乃至図9は、本発明の第1の実施の形
態を示す図である。本実施の形態の基板穴あけ装置は、
手動で基板を補給するマニュアルタイプの万能機であ
る。基板サイズも種々のものに対応できる。まず、図1
及び図2を用いて、機構部分を中心にした構成を説明す
る。X線遮蔽室12の中には、放射線発生手段としての
X線管1と放射線検出器としてのX線検出器5が上下方
向に対向して配置されている。X線検出器5はX線に感
度のある撮像管とその制御部よりなり、2次元の分解能
を持っていて2次元画像を得る。2はコリメータであ
る。空気吸着により基板4を固定する位置決めテーブル
としての吸着テーブル6はテーブル面を水平にして駆動
手段としてのx駆動部8、y駆動部9により水平面内で
駆動される。基板ガイド11bが、その上面が吸着テー
ブル6のテーブル面と一致するように、また上側基板ガ
イド14が基板ガイド11bの上面と対向するように配
置されている。基板ガイド11b及び上側基板ガイド1
4には、それぞれX線ビーム3通過用の穴があけられて
いる。穴あけ手段としてのプレスユニット10(構成の
詳細は後述)が床より支持されている。X線遮蔽室12
には電動扉13が設けられており、吸着テーブル6は、
この電動扉13の部分を通ってX線遮蔽室12に出入り
できる。吸着テーブル6には空気吸入のためのポンプ、
パイプ、電磁弁などが付属しているが、図では省略され
ている。X線遮蔽室12の外の電動扉13の近くには、
基板ガイド11aに対し、それぞれ直交する面を持つ2
つの突き当て板7a,7bが床より支持されている。基
板ガイド11aの上面は、吸着テーブル6のテーブル面
と同一平面に設定されている。
FIG. 1 to FIG. 9 are views showing a first embodiment of the present invention. The substrate drilling apparatus according to the present embodiment includes:
It is a manual type universal machine that replenishes substrates manually. The substrate size can correspond to various ones. First, FIG.
The configuration centering on the mechanism will be described with reference to FIG. 2 and FIG. In the X-ray shielding room 12, an X-ray tube 1 as a radiation generating means and an X-ray detector 5 as a radiation detector are arranged to face each other in the vertical direction. The X-ray detector 5 is composed of an imaging tube sensitive to X-rays and its control unit, has a two-dimensional resolution, and obtains a two-dimensional image. 2 is a collimator. The suction table 6 as a positioning table for fixing the substrate 4 by air suction is driven in a horizontal plane by an x drive unit 8 and a y drive unit 9 as drive means with the table surface being horizontal. The substrate guide 11b is arranged so that its upper surface matches the table surface of the suction table 6, and the upper substrate guide 14 faces the upper surface of the substrate guide 11b. Board Guide 11b and Upper Board Guide 1
Each of the holes 4 has a hole for passing the X-ray beam 3. A press unit 10 (details of the configuration will be described later) as a punching means is supported by the floor. X-ray shielding room 12
Is provided with an electric door 13, and the suction table 6
The X-ray shielding room 12 can enter and exit through the electric door 13. The suction table 6 has a pump for sucking air,
Pipes, solenoid valves, etc. are attached, but are omitted in the figure. Near the electric door 13 outside the X-ray shielding room 12,
2 having a surface orthogonal to the substrate guide 11a
One abutment plate 7a, 7b is supported by the floor. The upper surface of the substrate guide 11a is set flush with the table surface of the suction table 6.

【0017】図3の(a),(b)を用いて、プレスユ
ニット10の構成の詳細を説明する。同図(a)は正面
図、同図(b)は同図(a)のA−A線部分を断面で示
す側面図である。プレスユニット単体としては、従来と
同等のものである。支柱15の上に、穴16aがあけら
れた受け手段としての受け板16及び2つのスライドガ
イド21が固定されている。各スライドガイド21の部
分には、それぞれスプリング22が設けられている。受
け板16の上面は、吸着テーブル6の上面と同一平面に
設定されている。また受け板16の端部には傾斜面を持
つ基板ガイド16bが形成され、基板4のはみ出し部に
垂れ下がりがあっても、この基板ガイド16bでガイド
して受け板16上に載せることができるようになってい
る。スライドガイド21にはスライド板20が上下にス
ライド可能に支持され、支柱15より支持される駆動シ
リンダー23で駆動されてスライドする。駆動シリンダ
ー23は、圧縮空気と電磁弁で動作する。スライド板2
0には突き手段としてのプレスロッド18が固定され、
また押さえ手段としての押さえ板17がスプリング19
を介して取り付けられている。スライド板20が降下し
たとき、プレスロッド18は押さえ板17の穴をくぐり
抜け、受け板16の穴16aにはまり込むようになって
いる。
The details of the configuration of the press unit 10 will be described with reference to FIGS. FIG. 1A is a front view, and FIG. 1B is a side view showing a cross section taken along line AA of FIG. 1A. The press unit itself is equivalent to the conventional one. A receiving plate 16 as a receiving means having a hole 16a and two slide guides 21 are fixed on the column 15. Each slide guide 21 is provided with a spring 22. The upper surface of the receiving plate 16 is set flush with the upper surface of the suction table 6. Further, a substrate guide 16b having an inclined surface is formed at an end of the receiving plate 16, so that even if the protruding portion of the substrate 4 has a droop, it can be guided by the substrate guide 16b and placed on the receiving plate 16. It has become. A slide plate 20 is supported on the slide guide 21 so as to be slidable up and down, and is driven and slid by a drive cylinder 23 supported by the support 15. The drive cylinder 23 operates with compressed air and a solenoid valve. Slide plate 2
At 0, a press rod 18 as a pushing means is fixed,
The holding plate 17 as a holding means is provided with a spring 19.
Attached through. When the slide plate 20 descends, the press rod 18 passes through the hole of the holding plate 17 and fits into the hole 16 a of the receiving plate 16.

【0018】図4は、制御系を中心にしたシステム構成
を示している。制御手段としての機構制御部25は演算
手段としての画像処理部26及び各種機構部に接続され
ている。各種機構部は、吸着テーブル6、x駆動部8、
y駆動部9、プレスユニット10、電動扉13等であ
る。機構制御部25は各種機構部のシーケンス動作を記
憶しており、記憶に基づき制御するが、動作タイミング
と動作種の選択、動作量などは画像処理部26からの信
号に基づいている。画像処理部26は画像メモリ等を付
けた通常のパーソナルコンピュータである。X線管1は
X線制御部29を介して画像処理部26に接続されてい
る。X線制御部29はX線管1に電力を供給するととも
に管電圧、管電流の制御を行い、また画像処理部26か
らの信号に基づき、X線のON・OFFを制御する。X
線検出器5はデータ収集部30を介して画像処理部26
に接続されている。X線検出器5の出力ビデオ信号はデ
ータ収集部30でデジタル信号に変換され、画像加算で
ノイズの少ない画像とされ、画像処理部26へ送られ
る。画像加算や画像転送の開始は、画像処理部26から
の信号で行われる。またデータ収集部30は、画像モニ
タ31に接続されており、収集した画像の表示が行われ
る。画像処理部26はマンマシンインターフェースとし
てのキーボード27と表示器28に接続されている。こ
こで、システム起動、メニュー選択、較正値入力、パラ
メータ入力等が行われる。
FIG. 4 shows a system configuration centering on a control system. The mechanism control unit 25 as a control unit is connected to an image processing unit 26 as a calculation unit and various mechanism units. Various mechanism units include a suction table 6, an x drive unit 8,
The y drive unit 9, the press unit 10, the electric door 13, and the like. The mechanism control unit 25 stores the sequence operations of the various mechanism units and performs control based on the storage. The operation timing, the selection of the operation type, the operation amount, and the like are based on signals from the image processing unit 26. The image processing unit 26 is a normal personal computer provided with an image memory and the like. The X-ray tube 1 is connected to an image processing unit 26 via an X-ray control unit 29. The X-ray control unit 29 supplies electric power to the X-ray tube 1 and controls the tube voltage and the tube current, and controls ON / OFF of the X-ray based on a signal from the image processing unit 26. X
The line detector 5 is connected to the image processing unit 26 via the data collection unit 30.
It is connected to the. The output video signal of the X-ray detector 5 is converted into a digital signal by the data collection unit 30, converted into an image with little noise by image addition, and sent to the image processing unit 26. The start of image addition and image transfer is performed by a signal from the image processing unit 26. Further, the data collection unit 30 is connected to the image monitor 31 and displays the collected images. The image processing section 26 is connected to a keyboard 27 and a display 28 as a man-machine interface. Here, system startup, menu selection, calibration value input, parameter input, and the like are performed.

【0019】図5は、基板4を示している。対象の基板
4は、導電性バンプ層間接続方式の多層基板に接合する
前の単層基板である。1枚のプラスチック絶縁シートの
下面に銅箔が貼られており、上面に層間接続のためのバ
ンプ群32が銅箔側からシートを破って頭を出してい
る。バンプ群32の脇には同時に印刷された基準マーク
としての基準バンプが頭を出している。各基準バンプは
それぞれ4個のバンプB1a〜B1d,B2a〜B2d,B3a〜
B3d,B4a〜B4dよりなっている。基板4の外形はバン
プ及び銅箔パターンと正確には合っていないので、外形
ではなく、基準バンプを基準として図示するように各基
準バンプB1a〜B1d,B2a〜B2d,B3a〜B3d,B4a〜
B4dとも、その4個の中心に基準穴H1 ,H2 ,H3 ,
H4 をあける。
FIG. 5 shows the substrate 4. The target substrate 4 is a single-layer substrate before bonding to a multilayer substrate of a conductive bump interlayer connection type. Copper foil is adhered to the lower surface of one plastic insulating sheet, and a bump group 32 for interlayer connection breaks the sheet from the copper foil side to protrude the head on the upper surface. At the side of the bump group 32, a reference bump serving as a reference mark printed simultaneously protrudes. Each reference bump has four bumps B1a-B1d, B2a-B2d, B3a-
B3d and B4a to B4d. Since the outer shape of the substrate 4 does not exactly match the bumps and the copper foil pattern, the reference bumps B1a to B1d, B2a to B2d, B3a to B3d, B4a to
B4d also has reference holes H1, H2, H3,
Open H4.

【0020】次に、画像処理部26の制御による穴あけ
動作を、図6のフローチャート、図7の吸着テーブル位
置及び図8のバンプ像を用いて説明する。フローは、主
な項目のみについて説明し、X線のON・OFF、電動
扉13の開閉等は省略してある。まず、機構制御部25
へ指令を送って(以下、指令は省略)、吸着テーブル6
を基板セット位置、ベクトルR0 に移動させる。このと
き、電動扉13が開かれる(基板通過時;開、X線ON
時;閉となるが以下省略)(ステップ101)。次に、
操作者は基板4を突き当て板7a,7bに押し当てるよ
うに吸着テーブル6にセットする。キーボード27より
セット終了信号があると基板4は空気吸着で固定される
(ステップ102)。図7に示すように、吸着テーブル
6を測定位置[1]、ベクトルR1 へ移動させる。この
とき、基板4に垂れ下がりや捲れ上がりがあっても基板
ガイド11b、上側基板ガイド14により平面状に整え
られる(ステップ103)。X線ONとし、X線検出器
5により基準バンプB1a〜B1dの透過像を得る。図8に
示すように、基準バンプB1a〜B1d像の平均バンプ位置
1 の画像センターCからのずれより、実空間でのバン
プの位置ずれベクトルΔR1 を求める(ステップ10
4)。図7に示すように、吸着テーブル6を測定位置
[2]、ベクトルR2 へ移動させる(ステップ10
5)。X線検出器5により基準バンプB2a〜B2dの透過
像を得た後、X線OFFとする。図8に示すように、基
準バンプB2a〜B2d像の平均バンプ位置M2 の画像セン
ターCからのずれより、実空間でのバンプの位置ずれベ
クトルΔR2 を求める(ステップ106)。ベクトルR
1 ,R2 ,ΔR1 ,ΔR2 より次の(1),(2)式で
補正された穴あけ位置[1],[2]を求める。
Next, the drilling operation under the control of the image processing unit 26 will be described with reference to the flowchart of FIG. 6, the suction table position of FIG. 7, and the bump image of FIG. In the flow, only main items are described, and ON / OFF of X-rays, opening / closing of the electric door 13 and the like are omitted. First, the mechanism control unit 25
To the suction table 6 (hereinafter, the command is omitted).
Is moved to the substrate setting position, the vector R0 . At this time, the electric door 13 is opened (when the substrate passes; open, X-ray ON)
Time; closed, but omitted hereafter) (step 101). next,
The operator sets the substrate 4 on the suction table 6 so as to press it against the abutment plates 7a and 7b. When there is a set end signal from the keyboard 27, the substrate 4 is fixed by air suction (step 102). As shown in FIG. 7, the measurement positions a suction table 6 [1], it is moved to the vector R 1. At this time, even if the substrate 4 hangs or turns up, the substrate 4 is adjusted to a planar shape by the substrate guide 11b and the upper substrate guide 14 (step 103). X-rays are turned on, and transmission images of the reference bumps B1a to B1d are obtained by the X-ray detector 5. As shown in FIG. 8, the displacement vector ΔR 1 of the bump in the real space is obtained from the displacement of the average bump position M 1 of the reference bump B 1 a to B 1 d images from the image center C (step 10).
4). As shown in FIG. 7, the measurement positions a suction table 6 [2], is moved to the vector R 2 (Step 10
5). After the transmission images of the reference bumps B2a to B2d are obtained by the X-ray detector 5, the X-rays are turned off. As shown in FIG. 8, from the deviation from the image center C of the average bump position M 2 of the reference bump B2a~B2d image, it obtains the positional deviation vector [Delta] R 2 bumps in the real space (step 106). Vector R
Drilling positions [1] and [2] corrected by the following equations (1) and (2) are obtained from 1 , R 2 , ΔR 1 and ΔR 2 .

【0021】[0021]

【数1】 上式でベクトルRp0 は実空間での画像センター位置を
基準とした穴あけ位置であり、予め較正して入力してあ
る(ステップ107)。補正された穴あけ位置[1]を
機構制御部25に送り移動を行う(ステップ108)。
プレスユニット10は駆動シリンダー23で押さえ板1
7を下降させ、受け板16との間に基板4を挟み、さら
にスプリング19を押し縮めてプレスロッド18を下降
させ、基板4に基準穴H1 をあける(ステップ10
9)。補正された穴あけ位置[2]を機構制御部25に
送り移動を行う(ステップ110)。ステップ109と
同様にして、基板4に基準穴H2 をあける(ステップ1
11)。吸着テーブル6を基板セット位置に戻す(ステ
ップ112)。以上で実稼働時のフローが完結する。こ
の他に較正やテストのフローがあり、メニュー選択で選
べるが『画像の較正』については後述する。上記のフロ
ーで基準穴H1 ,H2 があけられるが、操作者は基板4
を180゜回転させ同じことを繰り返すことで反対側の
基準穴H3 ,H4 をあけることができる。また、キーボ
ード27から測定位置を入力し直すことで基準バンプ位
置の異なる基板4に対応することができる。あける穴の
個数も1個にも3個にも何個にもキーボード27からの
入力により対応することができる。
(Equation 1) In the above equation, the vector R p0 is a drilling position based on the image center position in the real space, and is calibrated and input in advance (step 107). The corrected drilling position [1] is sent to the mechanism control unit 25 and moved (step 108).
The press unit 10 is driven by a driving cylinder 23 to hold the pressing plate 1.
7 is lowered, the substrate 4 is sandwiched between the receiving plate 16 and the spring 19, and the spring 19 is further compressed to lower the press rod 18 to make a reference hole H1 in the substrate 4 (step 10).
9). The corrected drilling position [2] is sent to the mechanism control unit 25 and moved (step 110). In the same manner as in step 109, a reference hole H2 is made in the substrate 4 (step 1).
11). The suction table 6 is returned to the substrate setting position (Step 112). The flow at the time of actual operation is completed as described above. In addition to this, there is a calibration and test flow, which can be selected by menu selection. "Image calibration" will be described later. The reference holes H1 and H2 are made in the above flow,
Is rotated by 180 ° and the same is repeated, so that the reference holes H3 and H4 on the opposite side can be opened. Further, by re-inputting the measurement position from the keyboard 27, it is possible to cope with a substrate 4 having a different reference bump position. The number of holes to be drilled can be one, three, or many by inputting from the keyboard 27.

【0022】『画像の較正』を、図9を用いて述べる。
上述したフローにおけるステップ104,106で、画
像上のずれから、実空間でのずれを求めているが、これ
には『画像の較正』を予め行って、変換係数を求めてお
く必要がある。これを以下に説明する。まず操作者は較
正用の1個のバンプが視野の中央付近に入るようにx駆
動部8、y駆動部9を手動操作する。この状態でキーボ
ード27から較正をスタートさせると画像処理部26は
自動的に以下の較正を行う。バンプをx,yにそって正
方形状に4点動かし透過像を得る。各透過像を重ねると
X線検出器5の走査線の傾斜のため図9に示すように、
ひしゃげた四辺形となる。各バンプA〜Dの実空間での
位置は(x,y座標で)
"Image calibration" will be described with reference to FIG.
In steps 104 and 106 in the flow described above, the shift in the real space is obtained from the shift on the image. For this, it is necessary to perform "image calibration" in advance to obtain the conversion coefficient. This will be described below. First, the operator manually operates the x-drive unit 8 and the y-drive unit 9 so that one calibration bump enters the vicinity of the center of the visual field. When calibration is started from the keyboard 27 in this state, the image processing unit 26 automatically performs the following calibration. The bump is moved four points in a square shape along x and y to obtain a transmission image. When the transmission images are superimposed, as shown in FIG. 9 due to the inclination of the scanning line of the X-ray detector 5,
It becomes a hilarious quadrilateral. The position of each bump A to D in the real space is (in x, y coordinates)

【数2】 である。次に、画像処理(2値化と画面内の面積最大の
連続領域部の重心求出)により各バンプ点の画像上の位
置(i,j座標で)、
(Equation 2) It is. Next, by image processing (binarization and calculation of the center of gravity of the continuous area portion having the largest area in the screen), the position (in the i and j coordinates) of each bump point on the image,

【数3】 を求める。x,y方向の単位ベクトルk,lは(i,j
座標で)
(Equation 3) Ask for. The unit vectors k and l in the x and y directions are (i, j
In coordinates)

【数4】 となるが、E,F,G,Hが計算できるので単位ベクト
ルk,lが求まる。これより、x,y座標→i,j座標
の変換式は、
(Equation 4) However, since E, F, G, and H can be calculated, the unit vectors k and l are obtained. From this, the conversion formula of x, y coordinates → i, j coordinates is:

【数5】 となり、変換行列(M)が求まる。(M)の逆行列(M
)を求めて、i,j座標→x,y座標の変換式
(Equation 5) And the transformation matrix (M) is obtained. Inverse matrix of (M) (M
* ) Is obtained, and the conversion formula of i, j coordinates → x, y coordinates

【数6】 が求まる。(逆行列の求め方はよく知られている)。こ
の変換行列を記憶して較正が終了する。
(Equation 6) Is found. (How to find the inverse matrix is well known). The calibration is completed by storing this conversion matrix.

【0023】上述したように、本実施の形態によれば、
基板4の基準マーク(基準バンプ)に対し定められた位
置に穴をあけることができ、薄くて曲がりやすいシート
状基板にも適用できる。そして入力定数を変えるだけで
種々の基板4に対応できる。X線を用いているので、可
視光では識別しにくいバンプの位置を正確に測定するこ
とが可能である。基板ガイドを用いているので基板4が
平面状に整えられ正確に測定できる。受け板16の上面
を吸着テーブル6の上面と高さを合わせてあり、また押
さえ板17で押さえるので基板4が平面状に整えられ正
確に穴をあけることができる。受け板16の端部には傾
斜面があるので、基板4のはみ出し部に垂れ下がりがあ
っても受け板16に載せることができる。突き当て板7
a,7bで仮位置決めを行うので基板4が大きくずれる
ことがなく、バンプがX線検出器5の視野から外れると
いうことがない。また、バンプを自動的にx,yにそっ
て正方形状に4点動かし、画像の較正を行うので機械
的、電気的な調整に頼らず、簡単に較正を行うことがで
きる。
As described above, according to the present embodiment,
A hole can be made at a position defined with respect to a reference mark (reference bump) on the substrate 4, and the present invention can be applied to a thin and easily bent sheet-like substrate. By changing input constants, various substrates 4 can be handled. Since X-rays are used, it is possible to accurately measure the positions of bumps that are difficult to identify with visible light. Since the substrate guide is used, the substrate 4 can be arranged in a planar shape and can be measured accurately. The upper surface of the receiving plate 16 is adjusted to the same height as the upper surface of the suction table 6, and is pressed by the pressing plate 17, so that the substrate 4 can be arranged in a planar shape and holes can be accurately formed. Since the end of the receiving plate 16 has an inclined surface, it can be placed on the receiving plate 16 even if the protruding portion of the substrate 4 hangs down. Butt plate 7
Since the provisional positioning is performed at a and 7b, the substrate 4 is not largely displaced, and the bumps are not out of the field of view of the X-ray detector 5. Further, since the bumps are automatically moved in four squares along the x and y to calibrate the image, the calibration can be easily performed without relying on mechanical and electrical adjustments.

【0024】なお、本実施の形態は、導電性バンプ層間
接続方式の基板に適応できるように設計されているが、
これに限らず他の方式の基板に対しても適応できること
は明らかである。基準マークはバンプに限られず、銅箔
や塗料などであってもよい。多層基板の内層の基準マー
クを用いて、多層基板の穴あけも可能である。基準穴以
外にも用いることができる。X線検出器5は撮像管でな
くとも2次元の分解能があれば何でもよい。例えば、X
線II(イメージインテンシファイアー)とテレビカメ
ラの組み合わせでも、CCDイメージセンサの上にシン
チレータを貼ったものでもよい。X線とX線検出器では
なく可視光とテレビカメラを用いてもよい。ただし、こ
の場合は基準マークはバンプや内層のマークには向か
ず、銅箔や塗料の外表面のパターンでなければならな
い。この場合は基板の上側にテレビカメラを設置し、上
側から照明する。テーブルへの基板の固定は吸着でなく
ても手動でクランプする方法を用いてもよい。手動で基
板を補給する方式なので手動クランプで生ずる能率低下
はそれほど問題にならない。穴あけは、プレスユニット
10を用いているが、回転するドリルを用いてもよい。
このときは、プレスロッド18の代わりに回転するドリ
ル歯を用いる。駆動シリンダー23もソレノイドやモー
タ等を用いてもよい。上側基板ガイド14に昇降機構を
付け、測定するとき基板を挟み込むようにしてもよい。
この場合、より曲がりやすい基板の場合も正確に測定可
能である。基板ガイド11bに吸着機能を持たせてもよ
い。吸着テーブル6に基板をセットするとき、レーザポ
インタを用いて基準マークの位置を合わせてセットする
ようにしてもよい。本実施の形態では、1回の測定で補
正量を求めているが、補正動作と測定を何度か繰り返す
ことで、より精度を上げることも可能である。ずれ方向
を求めて視野中心にくるまで動かす制御を行ってもよ
い。
Although the present embodiment is designed to be applicable to a substrate of a conductive bump interlayer connection system,
It is apparent that the present invention is not limited to this and can be applied to substrates of other types. The reference mark is not limited to the bump, but may be a copper foil, a paint, or the like. Drilling of the multilayer substrate is also possible using the reference mark of the inner layer of the multilayer substrate. Other than the reference hole can be used. The X-ray detector 5 is not limited to an image pickup tube, but may be any as long as it has a two-dimensional resolution. For example, X
A combination of the line II (image intensifier) and the television camera may be used, or a scintillator may be attached on the CCD image sensor. Visible light and a television camera may be used instead of the X-ray and the X-ray detector. However, in this case, the reference mark does not face the bump or the mark on the inner layer, and must be a pattern on the outer surface of the copper foil or paint. In this case, a television camera is installed on the upper side of the substrate, and illumination is performed from above. The fixing of the substrate to the table is not limited to suction, and a method of manually clamping may be used. Since the substrate is manually replenished, the reduction in efficiency caused by the manual clamping does not cause much problem. Although the press unit 10 is used for drilling, a rotating drill may be used.
At this time, rotating drill teeth are used instead of the press rod 18. The drive cylinder 23 may also use a solenoid, a motor, or the like. An elevating mechanism may be attached to the upper substrate guide 14 so that the substrate is sandwiched when measurement is performed.
In this case, accurate measurement can be performed even on a substrate that is more easily bent. The substrate guide 11b may have a suction function. When setting the substrate on the suction table 6, the position of the reference mark may be adjusted using a laser pointer. In the present embodiment, the correction amount is obtained by one measurement, but the accuracy can be further improved by repeating the correction operation and the measurement several times. Control may be performed to determine the direction of displacement and move it to the center of the field of view.

【0025】図10乃至図19には、本発明の第2の実
施の形態を示す。本実施の形態の基板穴あけ装置は、自
動で基板を補給する量産タイプの高能率機である。ま
ず、図10及び図11を用いて、機構部分を中心にした
構成を説明する。X線管1及びX線検出器5は、前記第
1の実施の形態のものと略同等のものが用いられてい
る。X線遮蔽室47の中には、空気吸着により基板34
cを固定する位置決めテーブルとしての吸着テーブル4
5が配置されている。吸着テーブル45はテーブル面を
水平にしてx駆動部42、y駆動部43及びθ駆動部4
4により水平面内で駆動される。吸着テーブル45に
は、後述する基準バンプの位置にX線ビーム3を妨げな
いように穴があけられている。プレスユニット46a,
46b(構成の詳細は後述)が床より支持されている。
X線遮蔽室47には、入口側、出口側にそれぞれ電動扉
48a,48bが設けられている。X線遮蔽室47の外
の入口側には、基板補充部37、仮位置決め部38及び
第1の基板送り手段としての基板送り機構35aがそれ
ぞれ床より支持されている。基板補充部37には、基板
34aが重ねて置かれている。仮位置決め部38は、水
平に固定された仮位置決めテーブル39と、その仮位置
決めテーブル39に対し、それぞれ直交する面を持つ2
つの突き当て板40a,40bと、基板34bを突き当
て板40a,40bに押しつけるプッシャー41a,4
1bとで構成されている。この2つの突き当て板40
a,40bとプッシャー41a,41bにより仮位置決
め手段が構成されている。基板送り機構35aは、固定
部50a、この固定部50aに対して水平方向に移動す
るスライド部51a、このスライド部51aに支持され
て上下する2つの上下動部52a,52bにそれぞれ固
定された吸着部36a,36bより成っている。2つの
上下動部52a,52bの間隔は、基板補充部37と仮
位置決めテーブル39間の間隔と等しくされている。上
記の他に、空気吸入のためのポンプ、パイプ、電磁弁な
どがあるが、図では省略されている。X線遮蔽室47の
外の出口側には、基板収納部49と第2の基板送り手段
としての基板送り機構35bがそれぞれ床より支持され
ている。基板収納部49には、基板34dが重ねて収納
される。基板送り機構35bは、入口側の基板送り機構
35aと同様に、固定部50b、スライド部51b、上
下動部52c及び吸着部36cより成っている。
FIGS. 10 to 19 show a second embodiment of the present invention. The substrate drilling apparatus according to the present embodiment is a mass production type high efficiency machine that automatically replenishes substrates. First, a configuration centering on the mechanism will be described with reference to FIGS. 10 and 11. As the X-ray tube 1 and the X-ray detector 5, those substantially equivalent to those of the first embodiment are used. In the X-ray shield room 47, the substrate 34 is absorbed by air.
Suction table 4 as positioning table for fixing c
5 are arranged. The suction table 45 has an x-drive unit 42, a y-drive unit 43, and a θ-drive unit 4 with the table surface horizontal.
4 in a horizontal plane. A hole is formed in the suction table 45 so as not to obstruct the X-ray beam 3 at a position of a reference bump described later. Press unit 46a,
46b (details of the configuration will be described later) is supported by the floor.
The X-ray shielding room 47 is provided with electric doors 48a and 48b on the entrance side and the exit side, respectively. On the entrance side outside the X-ray shielding chamber 47, a substrate replenishing unit 37, a temporary positioning unit 38, and a substrate feeding mechanism 35a as first substrate feeding means are supported by the floor, respectively. The substrate 34a is placed on the substrate replenishing section 37 in an overlapping manner. The temporary positioning section 38 includes a temporary positioning table 39 fixed horizontally, and two surfaces each having a surface orthogonal to the temporary positioning table 39.
Push plates 41a, 4 for pressing the two butting plates 40a, 40b and the substrate 34b against the butting plates 40a, 40b.
1b. These two butting plates 40
a, 40b and pushers 41a, 41b constitute temporary positioning means. The substrate feed mechanism 35a includes a fixed part 50a, a slide part 51a that moves in a horizontal direction with respect to the fixed part 50a, and suctions fixed to two vertically moving parts 52a and 52b supported by the slide part 51a and moving up and down. It consists of parts 36a and 36b. The distance between the two vertically moving parts 52a and 52b is equal to the distance between the substrate replenishing part 37 and the temporary positioning table 39. In addition to the above, there are a pump, a pipe, a solenoid valve, etc. for air suction, but these are omitted in the figure. On the exit side outside the X-ray shield room 47, a substrate storage unit 49 and a substrate feed mechanism 35b as a second substrate feed means are supported by the floor, respectively. In the substrate storage section 49, the substrates 34d are stored in an overlapping manner. The substrate feed mechanism 35b includes a fixed part 50b, a slide part 51b, a vertically moving part 52c, and a suction part 36c, like the substrate feed mechanism 35a on the entrance side.

【0026】図12の(a),(b)及び図13を用い
て、プレスユニット46a,46bの構成の詳細を説明
する。図12(a)は正面図、同図(b)は同図(a)
のB−B線部分の断面図、図13は図12(a)の側面
図である。プレスユニット単体としては、従来と同等の
ものである。2つの支柱55a,55bと、それぞれの
支柱55a,55bの上に取り付けられた構成より成る
が、それぞれの構成は同等のものであるので片方のみを
説明する。支柱55aの上に、2つの穴54a,54b
があけられた受け板56a及び2つのスライドガイド6
1a,61bが固定されている。各スライドガイド61
a,61bの部分には、それぞれスプリング62が設け
られている。受け板56aの上面は、吸着テーブル45
の上面と同一平面に設定されている。また受け板56a
の端部には傾斜面を持つ基板ガイド65aが形成され、
基板34cのはみ出し部に垂れ下がりがあっても、この
基板ガイド65aでガイドして受け板56a上に載せる
ことができるようになっている。スライドガイド61
a,61bにはスライド板60aが上下にスライド可能
に支持され、支柱55aよりシリンダー支柱64aを介
して支持される駆動シリンダー63aで駆動されてスラ
イドする。駆動シリンダー63aは、圧縮空気と電磁弁
で動作する。スライド板60aには2つのプレスロッド
58a,58bが固定され、また押さえ板57aがスプ
リング59を介して取り付けられている。スライド板6
0aが降下したとき、2つのプレスロッド58a,58
bは押さえ板57aの穴をくぐり抜け、それぞれ受け板
56aの穴54a,54bにはまり込むようになってい
る。
The details of the structure of the press units 46a and 46b will be described with reference to FIGS. 12 (a) and 12 (b) and FIG. FIG. 12A is a front view, and FIG. 12B is FIG.
FIG. 13 is a side view of FIG. 12A. The press unit itself is equivalent to the conventional one. It consists of two columns 55a, 55b and a configuration mounted on the respective columns 55a, 55b, but since each configuration is equivalent, only one will be described. Two holes 54a, 54b are provided on the support 55a.
Opened receiving plate 56a and two slide guides 6
1a and 61b are fixed. Each slide guide 61
A spring 62 is provided in each of the portions a and 61b. The upper surface of the receiving plate 56a is
Are set on the same plane as the upper surface of the. In addition, receiving plate 56a
A substrate guide 65a having an inclined surface is formed at the end of
Even if the protruding portion of the substrate 34c hangs down, it can be guided by the substrate guide 65a and placed on the receiving plate 56a. Slide guide 61
A slide plate 60a is slidably supported up and down by 61a and 61b, and is slid by being driven by a drive cylinder 63a supported by a support 55a via a cylinder support 64a. The drive cylinder 63a operates with compressed air and a solenoid valve. Two press rods 58a and 58b are fixed to the slide plate 60a, and a pressing plate 57a is attached via a spring 59. Slide plate 6
0a descends, the two press rods 58a, 58
b passes through the holes of the holding plate 57a and fits into the holes 54a and 54b of the receiving plate 56a, respectively.

【0027】図14は、制御系を中心にしたシステム構
成を示している。機構制御部70は画像処理部71及び
各種機構部に接続されている。各種機構部は、基板送り
機構35、吸着部36、プッシャー41、x駆動部4
2、y駆動部43、θ駆動部44、吸着テーブル45、
プレスユニット46、電動扉48等である。機構制御部
70は各種機構部のシーケンス動作を記憶しており、記
憶に基づき制御するが、動作タイミングと動作種の選
択、動作量などは画像処理部71からの信号に基づいて
いる。画像処理部71は画像メモリ等を付けた通常のパ
ーソナルコンピュータである。X線管1はX線制御部2
9を介して画像処理部71に接続されており、X線検出
器5はデータ収集部30を介して画像処理部71に接続
されている。またデータ収集部30は、画像モニタ31
に接続されており、収集した画像の表示が行われる。画
像処理部71はキーボード72と表示器73に接続され
ている。ここで、システム起動、メニュー選択、較正値
入力、パラメータ入力等が行われる。
FIG. 14 shows a system configuration centering on a control system. The mechanism control unit 70 is connected to the image processing unit 71 and various mechanism units. The various mechanism units include a substrate feeding mechanism 35, a suction unit 36, a pusher 41, and an x driving unit 4.
2, y drive unit 43, θ drive unit 44, suction table 45,
The press unit 46, the electric door 48, and the like. The mechanism control unit 70 stores the sequence operations of the various mechanism units and performs control based on the storage. The operation timing, the selection of the operation type, the operation amount, and the like are based on signals from the image processing unit 71. The image processing unit 71 is a normal personal computer provided with an image memory and the like. X-ray tube 1 is X-ray controller 2
The X-ray detector 5 is connected to the image processing unit 71 via the data collection unit 30. The data collection unit 30 includes an image monitor 31
, And the collected images are displayed. The image processing section 71 is connected to a keyboard 72 and a display 73. Here, system startup, menu selection, calibration value input, parameter input, and the like are performed.

【0028】図15は、基板34を示している。対象の
基板34は、導電性バンプ層間接続方式の多層基板に接
合する前の単層基板である。1枚のプラスチック絶縁シ
ートの下面に銅箔が貼られており、上面に層間接続のた
めのバンプ群32が銅箔側からシートを破って頭を出し
ている。バンプ群32の脇には同時に印刷された基準バ
ンプB1 ,B2 が頭を出している。基板34の外形はバ
ンプ及び銅箔パターンと正確には合っていないので、外
形ではなく、基準バンプB1 ,B2 を基準として図示さ
れる位置に基準穴H1 ,H2 ,H3 ,H4 をあける。
FIG. 15 shows the substrate 34. The target substrate 34 is a single-layer substrate before bonding to a multilayer substrate of a conductive bump interlayer connection type. Copper foil is adhered to the lower surface of one plastic insulating sheet, and a bump group 32 for interlayer connection breaks the sheet from the copper foil side to protrude the head on the upper surface. At the side of the bump group 32, simultaneously printed reference bumps B1 and B2 protrude. Since the outer shape of the substrate 34 does not exactly match the bump and the copper foil pattern, reference holes H1, H2, H3 and H4 are formed at positions shown in the figure based on the reference bumps B1 and B2 instead of the outer shape.

【0029】次に、画像処理部26の制御による穴あけ
動作を、図16のフローチャート、図17の吸着テーブ
ル位置、図18のバンプ像及び図19の補正量計算を用
いて説明する。フローは、主な項目のみについて説明
し、X線のON・OFF、電動扉48a,48bの開
閉、吸着のON・OFF、吸着部36a,36b,36
cの昇降等は省略してある。まず、機構制御部70へ指
令を送る(以下、指令は省略)。基板送り機構35aは
基板補充部37にある基板34aを吸着部36aで吸着
して仮位置決めテーブル39の上に移動させる。このと
き、電磁弁の開閉による吸着のON・OFF、吸着部3
6aの昇降等が行われる(以下、省略)(ステップ20
1)。プッシャー41a,41bにより基板34bの2
辺をそれぞれ突き当て板40a,40bに押し付けて仮
位置決めを行う(ステップ202)。図17に示すよう
に、吸着テーブル45を基板受け取り位置、ベクトルR
0 ,θ0 に設定する(ステップ203)。基板送り機構
35aは仮位置決めテーブル39の上の基板34bを吸
着部36bで吸着して吸着テーブル45に移動させる。
吸着テーブル45はこれを吸着し固定する。移動時、電
動扉48aが開かれる(基板通過時;開、X線ON時;
閉となるが以下省略)(ステップ204)。ステップ2
04と同時に、次の基板34aを吸着部36aで吸着し
て仮位置決めテーブル39の上に移動させる(ステップ
205)。図17に示すように、吸着テーブル45を測
定位置[1]、ベクトルR1 ,θ0 へ移動させる(θは
不変)(ステップ206)。図18に示すように、X線
ONとし、X線検出器5により基準バンプB1 の透過像
を得る。基準バンプB1 像の画像センターCからのずれ
より、実空間でのバンプの位置ずれベクトルΔR1 を求
める(ステップ207)。図17に示すように、吸着テ
ーブル45を測定位置[2]、ベクトルR2 ,θ0 へ移
動させる(θは不変)(ステップ208)。図18に示
すように、X線検出器5により基準バンプB2 の透過像
を得た後、X線OFFとする。基準バンプB2像の画像
センターCからのずれより、実空間でのバンプの位置ず
れベクトルΔR2 を求める(ステップ209)。図19
に示すように、ベクトルR1 ,R2 ,ΔR1 ,ΔR2
り次の(9),(10)式で補正量ベクトルΔR,Δθ
を求める(ステップ210)。
Next, the drilling operation under the control of the image processing unit 26 will be described with reference to the flowchart of FIG. 16, the suction table position of FIG. 17, the bump image of FIG. 18, and the correction amount calculation of FIG. In the flow, only the main items will be described, and ON / OFF of X-rays, opening / closing of electric doors 48a and 48b, ON / OFF of suction, and suction units 36a, 36b and 36 will be described.
The elevation of c is omitted. First, a command is sent to the mechanism control unit 70 (hereinafter, the command is omitted). The substrate feeding mechanism 35a sucks the substrate 34a in the substrate replenishing unit 37 by the suction unit 36a and moves the substrate 34a onto the temporary positioning table 39. At this time, ON / OFF of the suction by opening and closing the solenoid valve, the suction unit 3
6a is performed (hereinafter, omitted) (step 20).
1). The pushers 41a and 41b are used to move the second of the substrates 34b.
The sides are pressed against the abutment plates 40a and 40b, respectively, to perform temporary positioning (step 202). As shown in FIG. 17, the suction table 45 is moved to the substrate receiving position, the vector R
0 and θ 0 (step 203). The substrate feed mechanism 35a sucks the substrate 34b on the temporary positioning table 39 by the suction unit 36b and moves the substrate 34b to the suction table 45.
The suction table 45 sucks and fixes it. When moving, the electric door 48a is opened (when the substrate passes; when the X-ray is ON;
Closed but omitted below) (step 204). Step 2
Simultaneously with 04, the next substrate 34a is sucked by the sucking section 36a and moved onto the temporary positioning table 39 (step 205). As shown in FIG. 17, the suction table 45 is moved to the measurement position [1] and the vectors R 1 and θ 0 (θ is unchanged) (step 206). As shown in FIG. 18, the X-ray is turned on, and the X-ray detector 5 obtains a transmission image of the reference bump B1. From the deviation from the image center C of the reference bump B1 image, it obtains the positional deviation vector [Delta] R 1 bump in the real space (step 207). As shown in FIG. 17, the suction table 45 is moved to the measurement position [2] and the vector R 2 , θ 0 (θ is unchanged) (step 208). As shown in FIG. 18, after the transmission image of the reference bump B2 is obtained by the X-ray detector 5, the X-ray is turned off. From the deviation from the image center C of the reference bump B2 image, it obtains the positional deviation vector [Delta] R 2 bumps in the real space (step 209). FIG.
As shown in the following, the correction amount vectors ΔR, Δθ are calculated from the vectors R 1 , R 2 , ΔR 1 , and ΔR 2 by the following equations (9) and (10).
(Step 210).

【0030】[0030]

【数7】 図17に示すように、次の(11),(12)式で補正
されたプレス位置を求め、
(Equation 7) As shown in FIG. 17, the corrected press position is obtained by the following equations (11) and (12).

【数8】 補正されたプレス位置を機構制御部70に送り移動を行
う。上式で、ベクトルRp0,θ0 は実空間での画像セン
ター位置を基準としたプレス位置であり、予め入力して
ある(ステップ211)。プレスユニット46a,46
bは駆動シリンダー63a,63bで押さえ板57a,
57bを下降させ、受け板56a,56bとの間に基板
34cを挟み、さらにスプリング59を押し縮めてプレ
スロッド58a〜58dを下降させ、基板34cに基準
穴H1 〜H4 をあける(ステップ212)。基板送り機
構35bは吸着テーブル45上にある基板34cを吸着
部36cで吸着して基板収納部49に移動させる(ステ
ップ213)。仮位置決めテーブル39の上に次の基板
があるかどうか(図示省略されているフォトセンサで)
を判定し、ない場合は終了、ある場合はステップ215
へ進む(ステップ214)。吸着テーブル45を基板受
け取り位置へ戻す(ステップ215)。ステップ215
と並行してプッシャー41a,41bにより次の基板3
4bの2辺をそれぞれ突き当て板40a,40bに押し
付けて仮位置決めを行う(ステップ216)。次にステ
ップ204に戻り繰り返す。上述したフローにおけるス
テップ207,209で、画像上のずれから、実空間で
のずれを求めているが、このために前記第1の実施の形
態で説明した『画像の較正』を予め行って、変換係数を
求めておく。以上で実稼働時のフローが完結する。この
他に較正やテストのフローがあり、メニュー選択で選べ
るが説明は省略する。上記のフローで基板補充部37に
重ねてある基板34aを自動的に次々と穴あけし、基板
収納部49へ重ねていく。本実施の形態は、同じ基板サ
イズで穴位置が同じ基板を多量に穴あけするためのもの
である。異種の基板に対応するためには、吸着テーブル
45、プレスユニット46a,46b等を交換、あるい
は調整する必要がある。
(Equation 8) The corrected press position is sent to the mechanism control unit 70 for movement. In the above equation, the vectors R p0 and θ 0 are press positions based on the image center position in the real space, and have been input in advance (step 211). Press units 46a, 46
b denotes drive cylinders 63a and 63b,
57b is lowered, the substrate 34c is sandwiched between the receiving plates 56a and 56b, and the spring 59 is further compressed to lower the press rods 58a to 58d to make reference holes H1 to H4 in the substrate 34c (step 212). The substrate feeding mechanism 35b sucks the substrate 34c on the suction table 45 by the suction unit 36c and moves the substrate 34c to the substrate storage unit 49 (Step 213). Whether the next substrate is on the temporary positioning table 39 (with a photo sensor not shown)
Is determined, and if not, the processing is terminated.
Go to (Step 214). The suction table 45 is returned to the substrate receiving position (Step 215). Step 215
In parallel with this, the next substrate 3 is pushed by pushers 41a and 41b.
The two sides of 4b are pressed against the abutment plates 40a and 40b, respectively, to perform temporary positioning (step 216). Next, the process returns to step 204 and is repeated. In steps 207 and 209 in the flow described above, the shift in the real space is obtained from the shift on the image. For this purpose, the “image calibration” described in the first embodiment is performed in advance. A conversion coefficient is obtained in advance. The flow at the time of actual operation is completed as described above. In addition, there are calibration and test flows, which can be selected by menu selection, but the description is omitted. In the above flow, the substrates 34 a stacked on the substrate replenishing section 37 are automatically pierced one after another and stacked on the substrate storage section 49. In the present embodiment, a large number of holes are drilled in a substrate having the same substrate size and the same hole position. In order to handle different types of substrates, it is necessary to replace or adjust the suction table 45, the press units 46a and 46b, and the like.

【0031】上述したように、本実施の形態によれば、
基板34の基準マーク(基準バンプ)に対し定められた
位置に穴をあけることができ、薄くて曲がりやすいシー
ト状基板にも適用できる。X線を用いているので、可視
光では識別しにくいバンプの位置を正確に測定すること
が可能である。吸着テーブル45を用いているので基板
34が平面状に整えられ正確に測定できる。吸着テーブ
ル45や基板送り機構35a,35bに空気吸着による
基板の固定を採用しているので基板34を傷めることな
く高速で移動させたり、基板34が平面状に整えられる
ので正確に穴あけしたりすることができる。受け板56
a,56bの上面を吸着テーブル45の上面と高さを合
わせてあり、また押さえ板57a,57bで押さえるの
で基板34が平面状に整えられ正確に穴をあけることが
できる。受け板56a,56bの端部には傾斜面を持つ
基板ガイド65a,65bがあるので基板34のはみ出
し部に垂れ下がりがあっても受け板56a,56bに載
せることができる。仮位置決め部38で仮位置決めを行
うので基板34が大きくずれることがなく、バンプがX
線検出器5の視野から外れるということがない。基板送
り機構35aに2つの吸着部36a,36bを設け、2
枚の基板34を同時に送るようにしたので、独立機構と
するのと比べ、機構の量が減り、機構同士の干渉が起こ
らない利点がある。また全自動で人手によらず多数枚の
基板の基準穴あけが可能で、1枚の基板の全ての穴が一
度にあけられ、高速で処理することが可能である。
As described above, according to the present embodiment,
A hole can be formed at a position defined with respect to a reference mark (reference bump) on the substrate 34, and the present invention can be applied to a thin and easily bent sheet-like substrate. Since X-rays are used, it is possible to accurately measure the positions of bumps that are difficult to identify with visible light. Since the suction table 45 is used, the substrate 34 is arranged in a planar shape and can be measured accurately. Since the suction table 45 and the substrate feeding mechanisms 35a and 35b adopt the fixation of the substrate by air suction, the substrate 34 can be moved at a high speed without being damaged, and the substrate 34 can be accurately drilled because the substrate 34 is arranged in a planar shape. be able to. Receiving plate 56
The upper surfaces of the substrates a and 56b have the same height as the upper surface of the suction table 45 and are pressed by the pressing plates 57a and 57b, so that the substrate 34 can be arranged in a planar shape and holes can be accurately formed. Since the substrate guides 65a and 65b having inclined surfaces are provided at the ends of the receiving plates 56a and 56b, the substrates 34 can be placed on the receiving plates 56a and 56b even if the protruding portions of the substrate 34 hang down. Since the temporary positioning is performed by the temporary positioning section 38, the substrate 34 is not largely displaced, and
There is no deviation from the field of view of the line detector 5. The substrate feeding mechanism 35a is provided with two suction portions 36a and 36b.
Since the plurality of substrates 34 are sent at the same time, there is an advantage that the number of mechanisms is reduced and interference between the mechanisms does not occur as compared with an independent mechanism. Further, the reference holes can be formed in a large number of substrates in a fully automatic manner without manual operation, and all the holes in one substrate can be formed at once, thereby enabling high-speed processing.

【0032】なお、本実施の形態において、1枚の基板
34を処理する度にX線を電気的にON・OFFさせる
代わりにONのままとし、代わりにX線シャッターで機
械的にON・OFFさせることもできる。これによりX
線管1の寿命を延ばすことができる。基板補充部37、
基板収納部49は基板34を載せる基板台をモータで昇
降できる構造とし、重ねて載せた基板34の最上部が同
じレベルを保つように制御することができる。このよう
にすることで、上下動部52a,52cのストロークが
小さくでき機構をコンパクトにすることができる。ま
た、重ねる基板34の量を増やすことができる。本実施
の形態では、x,y方向が直交するように調整されてい
るが、厳密に調整する代わりに画像処理部71で補正す
ることが可能である。現実の機構の座標x′,y′間の
直角からのずれをδとすると、理想座標でx,y移動さ
せたいとき、次の(13),(14)式で補正して指令
する移動量x′,y′を求めてやればよい。 x′=x+y*tan(δ) …(13) y′=y/cos(δ) …(14)
In this embodiment, each time one substrate 34 is processed, the X-ray is kept ON instead of being electrically turned ON / OFF, and is instead mechanically turned ON / OFF by an X-ray shutter. It can also be done. This gives X
The life of the wire tube 1 can be extended. Substrate replenishing unit 37,
The substrate accommodating portion 49 has a structure in which the substrate table on which the substrate 34 is mounted can be moved up and down by a motor, and can be controlled so that the uppermost portion of the substrate 34 stacked and superimposed maintains the same level. By doing so, the stroke of the vertically moving parts 52a, 52c can be reduced, and the mechanism can be made compact. Further, the amount of the substrate 34 to be stacked can be increased. In the present embodiment, the adjustment is performed so that the x and y directions are orthogonal to each other, but it is possible to correct the image by the image processing unit 71 instead of performing the strict adjustment. Assuming that the deviation from the right angle between the coordinates x ′ and y ′ of the actual mechanism is δ, when it is desired to move x and y in the ideal coordinates, the movement amount corrected and commanded by the following equations (13) and (14) x 'and y' may be obtained. x '= x + y * tan (δ) (13) y' = y / cos (δ) (14)

【0033】[0033]

【発明の効果】以上説明したように、請求項1記載の発
明によれば、基準マークを持つ基板の一部をはみ出して
固定する位置決めテーブルと、該位置決めテーブルを前
記基板の面に沿って動かす駆動手段と、放射線を前記基
板に照射する放射線発生手段と、2次元の分解能を持ち
前記放射線による前記基準マークの画像を検出する放射
線検出器と、該放射線検出器から前記基準マークの画像
の信号を受けそのずれ量より前記基板の位置ずれ量を算
出する演算手段と、算出された前記位置ずれ量を基に前
記駆動手段を制御して前記基板の位置ずれ量を修正する
制御手段と、前記はみ出し部における前記基準マークに
対して一定の位置に穴をあける穴あけ手段とを具備させ
たため、基板がずれて位置決めテーブルに固定されて
も、基準マークに対し定められた位置に正確に穴あけす
ることができる。
As described above, according to the first aspect of the present invention, a positioning table for fixing a part of a substrate having a reference mark so as to protrude, and moving the positioning table along the surface of the substrate. Driving means, radiation generating means for irradiating the substrate with radiation, a radiation detector having a two-dimensional resolution and detecting an image of the fiducial mark by the radiation, and a signal of the image of the fiducial mark from the radiation detector Calculating means for calculating the displacement amount of the substrate from the displacement amount; controlling means for controlling the driving means based on the calculated displacement amount to correct the displacement amount of the substrate; Since a punching means for punching a hole at a predetermined position with respect to the reference mark in the protruding portion is provided, even if the substrate is displaced and fixed to the positioning table, it does not face the reference mark. It can be accurately drilled defined position.

【0034】請求項2記載の発明によれば、前記穴あけ
手段は、前記位置決めテーブルのテーブル面と同一面内
にその上面があり前記基板のはみ出し部が載る受け手段
と、該受け手段の上に置かれた前記基板のはみ出し部を
突いて穴をあける突き手段とを具備させたため、穴あけ
手段において基板のはみ出し部が受け手段上に接して置
かれた状態で穴あけされて、そのはみ出し部の定められ
た位置に正確に穴あけすることができる。
According to the second aspect of the present invention, the piercing means includes a receiving means having an upper surface in the same plane as the table surface of the positioning table, on which the protruding portion of the substrate is mounted, and And a protruding means for protruding a hole by protruding the protruding portion of the placed substrate, so that the protruding portion of the substrate is perforated in a state where the protruding portion of the substrate is placed in contact with the receiving means, and the protruding portion is defined. It is possible to accurately drill a hole at a given position.

【0035】請求項3記載の発明によれば、前記位置決
めテーブルは、空気吸着により基板を固定するようにし
たため、基板が例えばシート状のものであっても、位置
決めテーブル上に平面状に整えられて、基準マークの画
像検出が正確に行われるので、基板の位置ずれ量を正し
く算出することができる。
According to the third aspect of the present invention, since the positioning table fixes the substrate by air suction, even if the substrate is, for example, a sheet-like substrate, it can be arranged on the positioning table in a planar shape. As a result, since the image of the reference mark is accurately detected, the amount of displacement of the substrate can be correctly calculated.

【0036】請求項4記載の発明によれば、前記基板を
前記位置決めテーブルへ補給する第1の基板送り手段
と、前記位置決めテーブル上の前記基板を収納部へ移動
させる第2の基板送り手段とを有し、前記第1、第2の
基板送り手段は空気吸着により前記基板を固定する吸着
部を持たせたため、基板が例えばシート状のものであっ
ても、損傷のおそれなく、位置決めテーブルへの補給及
び穴あけ終了後の収納部への収納を行うことができる。
According to the fourth aspect of the present invention, the first substrate feeding means for supplying the substrate to the positioning table, and the second substrate feeding means for moving the substrate on the positioning table to the storage section. And the first and second substrate feeding means have an adsorption portion for fixing the substrate by air adsorption. Therefore, even if the substrate is a sheet, for example, the substrate can be moved to the positioning table without fear of damage. Can be supplied and stored in the storage section after the drilling is completed.

【0037】請求項5記載の発明によれば、前記演算手
段は、前記駆動手段で基板を四辺形状に駆動し、前記画
像の画像修正を行うようにしたため、基準マークの画像
上の位置と実空間上の位置を対応させる予めの画像較正
を簡単に行うことができて、基準マークに対し定められ
た位置に正確に穴あけすることができる。
According to the fifth aspect of the present invention, the calculating means drives the substrate into a quadrilateral shape by the driving means and corrects the image of the image. Preliminary image calibration that corresponds to a position in space can be easily performed, and a hole can be accurately formed at a position determined with respect to the reference mark.

【0038】請求項6記載の発明によれば、仮位置決め
テーブルと、該仮位置決めテーブル上で前記基板を突き
当て板に当てて仮位置決めする仮位置決め手段と、前記
基板を前記仮位置決めテーブルから前記位置決めテーブ
ルへ移す基板送り手段とを具備させたため、位置決めテ
ーブルが測定位置に動かされたとき、基準マークが放射
線検出器の視野から外れることが防止されて、定められ
た位置への穴あけ処理を効率よく進めることができる。
According to the sixth aspect of the present invention, a temporary positioning table, temporary positioning means for temporarily positioning the substrate on the temporary positioning table by abutting the abutment plate, and moving the substrate from the temporary positioning table to the temporary positioning table Since the substrate feeding means for moving the positioning table to the positioning table is provided, when the positioning table is moved to the measurement position, the fiducial mark is prevented from deviating from the field of view of the radiation detector, and the drilling process at a predetermined position is efficiently performed. Can proceed well.

【0039】請求項7記載の発明によれば、前記基板送
り手段は、空気吸着により前記基板を固定する吸着部を
持つようにしたため、基板が例えばシート状のものであ
っても、仮位置決め状態を確実に保持したまま位置決め
テーブル上に移すことができる。
According to the seventh aspect of the present invention, the substrate feeding means has the suction portion for fixing the substrate by air suction. Can be transferred onto the positioning table while securely holding the position.

【0040】請求項8記載の発明によれば、前記仮位置
決めテーブルへ前記基板を補充する基板補充部を有し、
前記基板送り手段は空気吸着により前記基板を固定する
2つの吸着部を持ち、前記基板を前記仮位置決めテーブ
ルから前記位置決めテーブルへ移すと同時に他の基板を
前記基板補充部から前記仮位置決めテーブルへ移すよう
にしたため、基板が例えばシート状のものであっても、
基板の仮位置決めテーブルから位置決めテーブルへの移
動と基板補充部から仮位置決めテーブルへの補充とを、
基板を傷めることなく、同時に連動して効率的に行うこ
とができる。
According to the invention described in claim 8, a substrate replenishing section for replenishing the substrate to the temporary positioning table is provided,
The substrate feeding means has two suction portions for fixing the substrate by air suction, and transfers the substrate from the temporary positioning table to the positioning table and simultaneously transfers another substrate from the substrate replenishing portion to the temporary positioning table. Therefore, even if the substrate is, for example, a sheet,
The movement of the board from the temporary positioning table to the positioning table and the replenishment of the board from the board replenishment unit to the temporary positioning table,
It can be performed efficiently in conjunction with each other without damaging the substrate.

【0041】請求項9記載の発明によれば、前記穴あけ
手段は、前記受け手段との間に前記基板を挟み込む可動
の押さえ手段を有し、前記基板を押さえた状態で穴をあ
けるようにしたため、基板が例えばシート状のものであ
っても平面状に整えられて、基準マークに対して正確に
一定の位置に穴あけすることができる。
According to the ninth aspect of the present invention, the piercing means has a movable pressing means for holding the substrate between the receiving means and the receiving means, and pierces the substrate while pressing the substrate. Even if the substrate is, for example, a sheet, the substrate can be formed in a planar shape and can be accurately drilled at a fixed position with respect to the reference mark.

【0042】請求項10記載の発明によれば、前記受け
手段の端部には、傾斜面を持ち前記基板のはみ出し部を
ガイドして当該受け手段上に載せる基板ガイド手段を形
成したため、基板が例えばシート状のものであって、基
板のはみ出し部に垂れ下がりがあっても、基板を傷める
ことなく確実に受け手段上に載せることができる。
According to the tenth aspect of the present invention, the end of the receiving means is formed with a substrate guide means having an inclined surface for guiding the protruding portion of the substrate and mounting the substrate on the receiving means. For example, even if it is a sheet-like material, even if the protruding portion of the substrate hangs down, the substrate can be reliably mounted on the receiving means without damaging the substrate.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る基板穴あけ装置の第1の実施の形
態における機構部の構成を示す正面図である。
FIG. 1 is a front view showing the configuration of a mechanism in a first embodiment of a substrate punching device according to the present invention.

【図2】図1の平面図である。FIG. 2 is a plan view of FIG.

【図3】上記第1の実施の形態におけるプレスユニット
の構成図である。
FIG. 3 is a configuration diagram of a press unit according to the first embodiment.

【図4】上記第1の実施の形態における制御系のブロッ
ク図である。
FIG. 4 is a block diagram of a control system according to the first embodiment.

【図5】上記第1の実施の形態における基板の平面図で
ある。
FIG. 5 is a plan view of a substrate according to the first embodiment.

【図6】上記第1の実施の形態における穴あけ動作を説
明するためのフローチャートである。
FIG. 6 is a flowchart for explaining a drilling operation in the first embodiment.

【図7】上記第1の実施の形態において穴あけ動作に伴
う吸着テーブルの移動位置を説明するための図である。
FIG. 7 is a diagram for explaining a moving position of a suction table in association with a drilling operation in the first embodiment.

【図8】上記第1の実施の形態における基準バンプ像を
説明するための図である。
FIG. 8 is a diagram for explaining a reference bump image in the first embodiment.

【図9】上記第1の実施の形態における画像の較正を説
明するための図である。
FIG. 9 is a diagram for explaining image calibration in the first embodiment.

【図10】本発明の第2の実施の形態における機構部の
構成を示す正面図である。
FIG. 10 is a front view illustrating a configuration of a mechanism section according to a second embodiment of the present invention.

【図11】図10の平面図である。FIG. 11 is a plan view of FIG. 10;

【図12】上記第2の実施の形態におけるプレスユニッ
トの構成を示す正面図及び一部の断面図である。
FIG. 12 is a front view and a partial cross-sectional view illustrating a configuration of a press unit according to the second embodiment.

【図13】上記第2の実施の形態におけるプレスユニッ
トの構成を示す側面図である。
FIG. 13 is a side view illustrating a configuration of a press unit according to the second embodiment.

【図14】上記第2の実施の形態における制御系のブロ
ック図である。
FIG. 14 is a block diagram of a control system according to the second embodiment.

【図15】上記第2実施の形態における基板の平面図で
ある。
FIG. 15 is a plan view of a substrate according to the second embodiment.

【図16】上記第2の実施の形態における穴あけ動作を
説明するためのフローチャートである。
FIG. 16 is a flowchart for explaining a drilling operation according to the second embodiment.

【図17】上記第2の実施の形態において穴あけ動作に
伴う吸着テーブルの移動位置を説明するための図であ
る。
FIG. 17 is a diagram for explaining a moving position of a suction table in association with a drilling operation in the second embodiment.

【図18】上記第2の実施の形態における基準バンプ像
を説明するための図である。
FIG. 18 is a diagram for explaining a reference bump image in the second embodiment.

【図19】上記第2の実施の形態におけるプレス位置の
補正量計算を説明するための図である。
FIG. 19 is a diagram for explaining a correction amount calculation of a press position in the second embodiment.

【図20】従来の基板穴あけ装置の構成図である。FIG. 20 is a configuration diagram of a conventional substrate drilling apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 X線管(放射線発生手段) 4,34 基板 5 X線検出器(放射線検出器) 6,45 吸着テーブル(位置決めテーブル) 8,42 x駆動部(駆動手段) 9,43 y駆動部(駆動手段) 10,46a,46b プレスユニット(穴あけ手段) 16,56a,56b 受け板(受け手段) 16b,65a,65b 基板ガイド 17,57 押さえ板(押さえ手段) 18,58a〜58c プレスロッド(突き手段) 25,70 機構制御部(制御手段) 26,71 画像処理部(演算手段) 35a 入口側基板送り機構(第1の基板送り手段) 35b 出口側基板送り機構(第2の基板送り手段) 36a,36b,36c 吸着部 37 基板補充部 39 仮位置決めテーブル 40a,40b 突き当て板 41a,41b 突き当て板とともに仮位置決め手段を
構成するプッシャー 49 基板収納部 B1 〜B4 基準バンプ(基準マーク) H1 〜H4 基準穴
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 X-ray tube (radiation generating means) 4,34 Substrate 5 X-ray detector (radiation detector) 6,45 Suction table (positioning table) 8,42 x drive part (drive means) 9,43 y drive part (drive Means) 10, 46a, 46b Press unit (drilling means) 16, 56a, 56b Receiving plate (receiving means) 16b, 65a, 65b Board guide 17, 57 Pressing plate (pressing means) 18, 58a-58c Press rod (thrusting means) 25, 70 Mechanism control unit (control means) 26, 71 Image processing unit (calculation means) 35a Inlet-side substrate feed mechanism (first substrate feed means) 35b Outlet-side substrate feed mechanism (second substrate feed means) 36a , 36b, 36c Suction unit 37 Substrate replenishment unit 39 Temporary positioning table 40a, 40b Butt plate 41a, 41b Temporary positioning together with butt plate Pusher 49 substrate housing portion B1 which constitutes the means ~B4 reference bump (reference mark) H1 ~H4 reference holes

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 西出 明彦 東京都府中市晴見町2丁目24番地の1 東 芝エフエーシステムエンジニアリング株式 会社内 (72)発明者 富沢 英行 東京都府中市晴見町2丁目24番地の1 東 芝エフエーシステムエンジニアリング株式 会社内 (72)発明者 工藤 哲矢 東京都府中市晴見町2丁目24番地の1 東 芝エフエーシステムエンジニアリング株式 会社内 (72)発明者 園田 正明 東京都府中市晴見町2丁目24番地の1 東 芝エフエーシステムエンジニアリング株式 会社内 (72)発明者 小林 博昭 東京都府中市晴見町2丁目24番地の1 東 芝エフエーシステムエンジニアリング株式 会社内 (72)発明者 宇山 喜一郎 東京都府中市晴見町2丁目24番地の1 東 芝エフエーシステムエンジニアリング株式 会社内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing from the front page (72) Inventor Akihiko Nishiide 2-1-24-1 Harumi-cho, Fuchu-shi, Tokyo Toshiba FA System Engineering Co., Ltd. (72) Inventor Hideyuki Tomizawa 2 Harumi-cho, Fuchu-shi, Tokyo 24-1, Chome Toshiba FA System Engineering Co., Ltd. (72) Inventor Tetsuya Kudo 2--24-1, Harumicho, Fuchu-shi, Tokyo Toshiba FA System Engineering Co., Ltd. (72) Inventor Masaaki Sonoda Fuchu, Tokyo 2-24-24 Harumi-cho, Toshiba Toshiba FA System Engineering Co., Ltd. (72) Inventor Hiroaki Kobayashi 2-24-1, Harumicho, Fuchu-shi, Tokyo Toshiba FA System Engineering Co., Ltd. (72) Inventor Uyama Kiichiro Haru, Fuchu-shi, Tokyo 1 Toshiba Efue of 2-chome address 24 town system engineering shares in the company

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基準マークを持つ基板の一部をはみ出し
て固定する位置決めテーブルと、該位置決めテーブルを
前記基板の面に沿って動かす駆動手段と、放射線を前記
基板に照射する放射線発生手段と、2次元の分解能を持
ち前記放射線による前記基準マークの画像を検出する放
射線検出器と、該放射線検出器から前記基準マークの画
像の信号を受けそのずれ量より前記基板の位置ずれ量を
算出する演算手段と、算出された前記位置ずれ量を基に
前記駆動手段を制御して前記基板の位置ずれ量を修正す
る制御手段と、前記はみ出し部における前記基準マーク
に対して一定の位置に穴をあける穴あけ手段とを有する
ことを特徴とする基板穴あけ装置。
A positioning table that protrudes and fixes a part of a substrate having a reference mark, a driving unit that moves the positioning table along a surface of the substrate, a radiation generation unit that irradiates the substrate with radiation, A radiation detector having a two-dimensional resolution and detecting the image of the reference mark due to the radiation, and an operation of receiving a signal of the image of the reference mark from the radiation detector and calculating a positional deviation amount of the substrate from the deviation amount Means, control means for controlling the driving means based on the calculated displacement amount to correct the displacement amount of the substrate, and forming a hole at a predetermined position with respect to the reference mark in the protruding portion. A substrate drilling device, comprising: drilling means.
【請求項2】 前記穴あけ手段は、前記位置決めテーブ
ルのテーブル面と同一面内にその上面があり前記基板の
はみ出し部が載る受け手段と、該受け手段の上に置かれ
た前記基板のはみ出し部を突いて穴をあける突き手段と
を有することを特徴とする請求項1記載の基板穴あけ装
置。
2. The piercing means includes a receiving means having an upper surface in the same plane as a table surface of the positioning table and on which a protruding portion of the substrate is mounted, and a protruding portion of the substrate placed on the receiving means. 2. A punching device according to claim 1, further comprising: a punching means for punching holes.
【請求項3】 前記位置決めテーブルは、空気吸着によ
り基板を固定することを特徴とする請求項1記載の基板
穴あけ装置。
3. The substrate drilling device according to claim 1, wherein the positioning table fixes the substrate by air suction.
【請求項4】 前記基板を前記位置決めテーブルへ補給
する第1の基板送り手段と、前記位置決めテーブル上の
前記基板を収納部へ移動させる第2の基板送り手段とを
有し、前記第1、第2の基板送り手段は空気吸着により
前記基板を固定する吸着部を持つことを特徴とする請求
項1記載の基板穴あけ装置。
4. A first substrate feeding means for replenishing the substrate to the positioning table, and a second substrate feeding means for moving the substrate on the positioning table to a storage section, 2. The substrate drilling apparatus according to claim 1, wherein the second substrate feeding means has an adsorption part for fixing the substrate by air adsorption.
【請求項5】 前記演算手段は、前記駆動手段で基板を
四辺形状に駆動し、前記画像の画像修正を行うことを特
徴とする請求項1記載の基板穴あけ装置。
5. The apparatus according to claim 1, wherein the calculating means drives the substrate into a quadrilateral shape by the driving means to correct the image.
【請求項6】 仮位置決めテーブルと、該仮位置決めテ
ーブル上で前記基板を突き当て板に当てて仮位置決めす
る仮位置決め手段と、前記基板を前記仮位置決めテーブ
ルから前記位置決めテーブルへ移す基板送り手段とを有
することを特徴とする請求項1記載の基板穴あけ装置。
6. A tentative positioning table, tentative positioning means for tentatively positioning the substrate on the tentative positioning table by abutting the abutment plate, and substrate feeding means for moving the substrate from the tentative positioning table to the positioning table. The substrate drilling apparatus according to claim 1, further comprising:
【請求項7】 前記基板送り手段は、空気吸着により前
記基板を固定する吸着部を持つことを特徴とする請求項
6記載の基板穴あけ装置。
7. The substrate drilling apparatus according to claim 6, wherein said substrate feeding means has an adsorption section for fixing said substrate by air adsorption.
【請求項8】 前記仮位置決めテーブルへ前記基板を補
充する基板補充部を有し、前記基板送り手段は空気吸着
により前記基板を固定する2つの吸着部を持ち、前記基
板を前記仮位置決めテーブルから前記位置決めテーブル
へ移すと同時に他の基板を前記基板補充部から前記仮位
置決めテーブルへ移すことを特徴とする請求項7記載の
基板穴あけ装置。
8. A substrate replenishing section for replenishing the substrate to the temporary positioning table, wherein the substrate feeding means has two suction sections for fixing the substrate by air suction, and moves the substrate from the temporary positioning table. The substrate drilling apparatus according to claim 7, wherein another substrate is moved from the substrate replenishing unit to the temporary positioning table at the same time as the substrate is moved to the positioning table.
【請求項9】 前記穴あけ手段は、前記受け手段との間
に前記基板を挟み込む可動の押さえ手段を有し、前記基
板を押さえた状態で穴をあけることを特徴とする請求項
2記載の基板穴あけ装置。
9. The substrate according to claim 2, wherein said perforating means has movable pressing means for sandwiching said substrate between said receiving means and said perforating means, and perforates said substrate while pressing said substrate. Drilling equipment.
【請求項10】 前記受け手段の端部には、傾斜面を持
ち前記基板のはみ出し部をガイドして当該受け手段上に
載せる基板ガイド手段を形成してなることを特徴とする
請求項2記載の基板穴あけ装置。
10. A substrate guide means having an inclined surface at an end portion of said receiving means for guiding a protruding portion of said substrate to be mounted on said receiving means. Substrate drilling equipment.
JP16452497A 1997-06-20 1997-06-20 Substrate drilling device Pending JPH1110593A (en)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002030636A1 (en) * 2000-10-11 2002-04-18 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Circuit board production method and circuit board production data
KR101275130B1 (en) * 2011-06-23 2013-06-17 영신기계(주) The sheet blanking method that used cutting machine

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