JPH11102517A - Manufacture of magnetic recording medium - Google Patents

Manufacture of magnetic recording medium

Info

Publication number
JPH11102517A
JPH11102517A JP26462797A JP26462797A JPH11102517A JP H11102517 A JPH11102517 A JP H11102517A JP 26462797 A JP26462797 A JP 26462797A JP 26462797 A JP26462797 A JP 26462797A JP H11102517 A JPH11102517 A JP H11102517A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
vacuum
hydrogen
torr
partial pressure
recording medium
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP26462797A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Satoshi Nagai
智 永井
Katsumi Endo
克巳 遠藤
Takeshi Miyamura
猛史 宮村
Hirohide Mizunoya
博英 水野谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kao Corp
Original Assignee
Kao Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kao Corp filed Critical Kao Corp
Priority to JP26462797A priority Critical patent/JPH11102517A/en
Publication of JPH11102517A publication Critical patent/JPH11102517A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To suppress the deterioration of mechanical characteristics and corrosion resistance due to presence of hydrogen as impurities by controlling the partial pressure of hydrogen and steam in a vacuum vessel at the time of evaporation within specified ranges when a metallic thin-film type magnetic layer is formed by an evaporation method in the vacuum vessel. SOLUTION: A feed roll 12 and a wind-up roll 14 for making a base film 11 travel on a can roll 13 in a vacuum chamber 16 are arranged, and the heating pretreatment of the vacuum chamber 16 is conducted and water adsorbed onto an interior wall is removed. Total pressure is adjusted in approximately 5×10<-6> Torr, a magnetic material 18 in a crucible 15 is irradiated with electron beams by an electron gun 19, and the magnetic material 18 is dissolved and an evaporation atmosphere is obtained. The partial pressure of hydrogen and steam is controlled so as to be kept within a range of 1×10<-7> -5×10<-6> Torr after the vapor of the magnetic material 18 is stabilized. Accordingly, a magnetic layer, in which corrosion resistance and mechanical characteristics are improved, can be formed onto the base film 11.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気記録媒体の製
造方法に関する。より詳しくは本発明は、耐食性及び機
械的特性の改善された磁気記録媒体を製造することので
きる方法に関するものである。
[0001] The present invention relates to a method for manufacturing a magnetic recording medium. More specifically, the present invention relates to a method for producing a magnetic recording medium having improved corrosion resistance and mechanical properties.

【0002】[0002]

【従来の技術】ビデオテープあるいはフロッピーディス
ク等により代表される磁気記録媒体は、従来においては
塗布法により磁性層を形成することにより製造されてい
る。しかし近年、磁気記録媒体に対する高密度記録化へ
の要求が強くなるにつれ、塗布法による磁性層では対応
が困難となってきている。そこで最近では、磁性材料を
高密度で充填してなる、金属薄膜型の磁性層を有する磁
気記録媒体が注目されている。中でも真空蒸着法は、他
の方法に比べて装置が簡便であり、かつ安定した成膜が
可能なことから、こうした金属薄膜型の磁性層を形成す
る方法として主流となりつつある。
2. Description of the Related Art A magnetic recording medium represented by a video tape, a floppy disk or the like is conventionally manufactured by forming a magnetic layer by a coating method. However, in recent years, as the demand for high-density recording on a magnetic recording medium has increased, it has become difficult to respond to a magnetic layer formed by a coating method. Therefore, recently, a magnetic recording medium having a metal thin film type magnetic layer, which is filled with a magnetic material at a high density, has attracted attention. Above all, the vacuum deposition method is becoming mainstream as a method of forming such a metal thin film type magnetic layer because the apparatus is simpler and stable film formation is possible as compared with other methods.

【0003】ところで真空蒸着法は、その名が示す通り
真空下において行われるものであるが、完全な真空を得
ることは困難であり、ある程度の不純物の存在はやむを
得ないところである。しかしながら、例えば不純物とし
て水素が存在すると、これは高エネルギーの金属蒸気流
と接した場合に容易に金属内に入り込み、水素脆性とし
て知られる脆化をもたらす。また長期の時間経過に伴
い、金属内で酸素と反応して耐食性に悪影響を与えるこ
とも知られている。
[0003] By the way, the vacuum deposition method is performed under a vacuum as the name implies, but it is difficult to obtain a complete vacuum, and the presence of some impurities is inevitable. However, for example, if hydrogen is present as an impurity, it easily penetrates into the metal when in contact with a high-energy metal vapor stream, resulting in embrittlement known as hydrogen embrittlement. It is also known that, as the time elapses over a long period of time, it reacts with oxygen in the metal to adversely affect corrosion resistance.

【0004】また他の例として、炭素が不純物として存
在すると、これは金属蒸気流と接した場合にやはり金属
内に取り込まれ、水素と同様に機械的性質を低下させた
り、場合によっては磁気特性をも低下させる。そこで真
空蒸着法により金属磁性材料を溶解してその蒸気を発生
させ、支持体上に付着させることにより成膜を行うに際
しては、完全な真空は無理としても、こうした不具合が
生じないようにできるだけ高い真空度を達成することが
望まれる。
[0004] As another example, if carbon is present as an impurity, it is also incorporated into the metal when it comes into contact with the metal vapor stream, deteriorating its mechanical properties like hydrogen, and in some cases, its magnetic properties. Also reduce. Therefore, when forming a film by dissolving a metallic magnetic material by a vacuum deposition method to generate a vapor thereof and attaching it to a support, even if a perfect vacuum is impossible, it is as high as possible so as not to cause such problems. It is desired to achieve a degree of vacuum.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】上記のように、蒸着を
行う容器内の真空度を可能な限り上げること、即ち不純
物を可能な限り排気することが望ましい。しかし、到達
真空度を高く設定すればするほど、真空排気装置は大型
化する。これは設備投資の面から相当の負担になる。ま
た実操業においては、高い真空度を達成できる真空排気
装置が設置されていても、時間的な制約から必要な高真
空を得ることができないといった問題もある。
As described above, it is desirable to increase the degree of vacuum in the container for vapor deposition as much as possible, that is, to exhaust impurities as much as possible. However, the higher the ultimate vacuum degree is set, the larger the vacuum exhaust device becomes. This imposes a considerable burden on capital investment. Further, in actual operation, there is a problem that even if a vacuum exhaust device capable of achieving a high degree of vacuum is installed, a necessary high vacuum cannot be obtained due to time constraints.

【0006】また一方、真空蒸着では磁性層を酸化させ
るために酸化性ガスが導入されたりすることからも理解
されるように、必ずしも全ての物質が真空容器から排除
されなければならない訳ではない。またアルゴンなどの
不活性ガスは、金属蒸気の飛行を妨げない程度であれば
存在していても構わないと考えられる。だが従来は、真
空容器内の圧力は全圧による真空度により管理されてお
り、個別の物質や不純物の濃度については十分な顧慮は
払われていなかった。しかし個々の不純物について許容
可能な範囲を見極め、これを全圧と共に制御することが
できれば、真空蒸着を行うに際して極めて有用である。
そこで本発明は、こうした観点から真空容器内の圧力を
好適に制御するための方法を提供することを課題として
いる。
On the other hand, as can be understood from the fact that an oxidizing gas is introduced to oxidize a magnetic layer in vacuum deposition, not all substances have to be necessarily removed from a vacuum vessel. Further, it is considered that an inert gas such as argon may be present as long as it does not hinder the flight of the metal vapor. However, in the past, the pressure in the vacuum vessel was controlled by the degree of vacuum based on the total pressure, and sufficient attention was not paid to the concentrations of individual substances and impurities. However, if it is possible to determine the allowable range of each impurity and control it together with the total pressure, it is extremely useful when performing vacuum deposition.
Therefore, an object of the present invention is to provide a method for suitably controlling the pressure in a vacuum vessel from such a viewpoint.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、特に磁気
記録媒体の特性に対して悪影響を及ぼすか否かという観
点から、真空容器内に存在する不純物について個別に検
討を行ってきた。その結果、真空チャンバ内において、
特定の不純物を含むガスの分圧を制御しつつ磁気記録媒
体の製造を行うことにより、特に耐食性や機械的な特性
の改善を図ることができることを見出し、本発明に至っ
たものである。
Means for Solving the Problems The present inventors have individually studied impurities present in a vacuum vessel, particularly from the viewpoint of whether or not the properties of a magnetic recording medium are adversely affected. As a result, in the vacuum chamber,
The present inventors have found that by manufacturing a magnetic recording medium while controlling the partial pressure of a gas containing a specific impurity, it is possible to particularly improve corrosion resistance and mechanical characteristics, and have accomplished the present invention.

【0008】即ち本発明はその第一の側面において、真
空容器内で蒸着法により磁気記録媒体を製造する方法で
あって、蒸着時における真空容器内の水素及び水蒸気の
分圧を1×10-7〜5×10-6Torrの範囲に制御することを
特徴とするものである。上述したように、真空成膜時に
水素が不純物として存在すると、水素脆性により磁気記
録媒体の機械的特性や耐食性の劣化を招くが、本発明の
如く水素及び水蒸気の分圧を1×10-7〜5×10-6Torrの
範囲に制御することによって、こうした影響は最小限に
抑制することができる。
That is, according to the first aspect of the present invention, there is provided a method for producing a magnetic recording medium by a vapor deposition method in a vacuum vessel, wherein the partial pressure of hydrogen and water vapor in the vacuum vessel during vapor deposition is reduced to 1 × 10 −. It is characterized in that it is controlled within the range of 7 to 5 × 10 −6 Torr. As described above, if hydrogen is present as an impurity during vacuum film formation, the mechanical properties and corrosion resistance of the magnetic recording medium are deteriorated due to hydrogen embrittlement. However, as in the present invention, the partial pressure of hydrogen and water vapor is reduced to 1 × 10 −7. By controlling to within the range of -5 × 10 -6 Torr, such effects can be minimized.

【0009】また本発明の第二の側面によれば、さらに
一酸化炭素及び二酸化炭素の分圧が2×10-7Torr以下へ
と制御される。これらの分圧の下限は低い程良いが、現
実に得られるのは10-8Torrのオーダ迄である。これによ
れば、さらに炭素の取り込みによる機械的性質の低下を
実質的に防ぐことが可能となる。
According to the second aspect of the present invention, the partial pressures of carbon monoxide and carbon dioxide are further controlled to 2 × 10 −7 Torr or less. The lower the lower limit of these partial pressures is, the better, but what is actually obtained is on the order of 10 -8 Torr. According to this, it is possible to further substantially prevent a decrease in mechanical properties due to the incorporation of carbon.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】上に述べたように本発明によれ
ば、蒸着による成膜に際して、真空容器内は水素及び水
蒸気の分圧が1×10-7〜5×10-6Torrとなるように制御
される。また好ましくは一酸化炭素及び二酸化炭素の分
圧が2×10-7Torr以下となるように制御される。このよ
うな水素及び水蒸気、一酸化炭素及び二酸化炭素の分圧
を達成するためには、一般には真空容器内の全圧を5×
10-6Torr程度以下とすることが必要である。しかしなが
ら、こうした全圧の制御は必ずしも水素、水蒸気、一酸
化炭素及び二酸化炭素に関する上記の範囲の制御に直結
するものではないから、個別の場合に応じてこれらの物
質の分圧をモニターし、所要の値が得られるように全圧
の制御を行うことが必要である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS As described above, according to the present invention, when forming a film by vapor deposition, the partial pressure of hydrogen and water vapor is 1 × 10 −7 to 5 × 10 −6 Torr in the vacuum chamber. Is controlled as follows. Preferably, the partial pressure of carbon monoxide and carbon dioxide is controlled to be 2 × 10 −7 Torr or less. In order to achieve such partial pressures of hydrogen and water vapor, carbon monoxide and carbon dioxide, the total pressure in a vacuum vessel is generally 5 ×
It is necessary to keep it at about 10 -6 Torr or less. However, such control of the total pressure does not necessarily directly relate to the control of the above ranges for hydrogen, water vapor, carbon monoxide and carbon dioxide. It is necessary to control the total pressure so as to obtain the value of

【0011】水素及び水蒸気の分圧は、1×10-7〜5×
10-6Torrの範囲内に制御される。1×10-7を下回る分圧
とするためには排気装置が複雑化且つ大型化する傾向が
あり、コスト面や時間的な制約から有利ではない。また
5×10-6Torrより分圧が大きいと、得られる膜の機械的
特性や耐食性が劣化する傾向がある。他方、一酸化炭素
及び二酸化炭素の分圧は2×10-7Torr以下となるように
制御される。これらの分圧が2×10-7Torrより大きい場
合には、機械的特性をさらに改良するという目的が達成
されにくくなる。
The partial pressure of hydrogen and water vapor is 1 × 10 -7 to 5 ×
It is controlled within the range of 10 -6 Torr. In order to reduce the partial pressure to less than 1 × 10 −7 , the exhaust system tends to be complicated and large, which is not advantageous in terms of cost and time. If the partial pressure is larger than 5 × 10 −6 Torr, the mechanical properties and corrosion resistance of the obtained film tend to deteriorate. On the other hand, the partial pressures of carbon monoxide and carbon dioxide are controlled to be 2 × 10 −7 Torr or less. When these partial pressures are higher than 2 × 10 −7 Torr, the object of further improving the mechanical properties is hardly achieved.

【0012】本発明によれば、上述の分圧は真空容器内
において蒸着時に得られねばならない。一般に蒸着操作
は、容器内を真空排気した後に電子ビーム加熱などによ
って金属蒸気を発生させて蒸着雰囲気を得ることにより
行われるが、容器内の全圧は金属蒸気の発生とともに急
激に上昇し、またこれと共に水素、水蒸気、一酸化炭素
及び二酸化炭素の分圧が上昇するという過程を辿る。そ
してその後全圧は緩やかに回復し、従って不純物の分圧
も降下する。蒸着は、こうして得られた安定した真空状
態の下で継続されるものであり、本発明において分圧が
制御される「蒸着時」は、こうした安定化された状態を
意図したものである。これは例えば時間を基準として、
金属蒸気発生後30分以降を「蒸着時」として捉えること
ができる。しかし他の基準によって蒸着時を判断するこ
ともまた許容される。なお分圧の測定は、例えば真空容
器に接続された四重極質量分析計によって行うことがで
きる。
According to the invention, the above-mentioned partial pressure has to be obtained during the deposition in a vacuum vessel. Generally, the vapor deposition operation is performed by evacuating the inside of the container and then generating a metal vapor by electron beam heating or the like to obtain a vapor deposition atmosphere, but the total pressure in the container rises rapidly with the generation of the metal vapor, and At the same time, the process follows that the partial pressures of hydrogen, water vapor, carbon monoxide and carbon dioxide increase. Then, the total pressure gradually recovers, and the partial pressure of the impurities also drops. The deposition is continued under the thus obtained stable vacuum state, and the "at the time of deposition" in which the partial pressure is controlled in the present invention is intended for such a stabilized state. This is, for example, based on time,
The time after 30 minutes after the generation of metal vapor can be regarded as “at the time of vapor deposition”. However, it is also acceptable to judge the time of vapor deposition according to other criteria. The measurement of the partial pressure can be performed by, for example, a quadrupole mass spectrometer connected to a vacuum vessel.

【0013】本発明における水素、水蒸気、一酸化炭素
及び二酸化炭素の分圧の制御は、例えば真空容器のベー
キング、使用される金属ペレットの高純度化、ベースフ
ィルムのボンバード、導入されるガスの高純度化など
の、幾つもの要因によって左右されうるが、最も大きな
制御要因は適切な排気系を備えることである。一般に真
空蒸着装置の排気装置としては、クライオポンプ等が通
常使用されているが、これらは特に水素に対する排気能
力が低く、蒸着時に必要な水素分圧を達成できるか否か
は疑わしい。本発明のように個々のガスに着目して分圧
を制御する場合は、他の真空ポンプ、例えば強力なター
ボ分子ポンプ、油拡散ポンプなどと適切に併用するとい
った、特別な配慮が必要となる場合が多い。
In the present invention, the partial pressures of hydrogen, water vapor, carbon monoxide and carbon dioxide are controlled, for example, by baking a vacuum vessel, purifying the metal pellets used, bombarding the base film, and controlling the gas introduced. Although it can depend on a number of factors, such as purification, the biggest controlling factor is having a suitable exhaust system. In general, a cryopump or the like is generally used as an evacuation device for a vacuum evaporation apparatus. However, these have a particularly low evacuation ability for hydrogen, and it is doubtful whether a required hydrogen partial pressure during evaporation can be achieved. When controlling the partial pressure by paying attention to individual gases as in the present invention, special considerations such as appropriately using in combination with other vacuum pumps, for example, powerful turbo molecular pumps, oil diffusion pumps, etc., are required. Often.

【0014】本発明の磁気記録媒体の製造方法は、主と
して磁性層の成膜に用いることができる。これは例えば
電子ビームによる真空蒸着によって行われ、磁性層を形
成する強磁性金属材料としては、例えばCo、 Ni、 Fe等
の強磁性金属、或いはFe−Co、Fe−Ni、Co−Ni、Fe−Co
−Ni、Fe−Cu、Co−Cu、Co−Au、Co−Y 、Co−La、Co−
Pr、Co−Gd、Co−Sm、Co−Pt、Ni−Cu、Mn−Bi、Mn−S
b、Mn−Al、Fe−Cr、Co−Cr、Ni−Cr、Fe−Co−Cr、Ni
−Co−Cr等の強磁性合金が挙げられる。特に鉄、コバル
ト、ニッケルを主成分とする強磁性合金及びこれらの窒
化物などから選ばれる少なくとも1種が好ましい。特に
本発明では水素あるいは炭素の発生源となる不純物の濃
度が300ppm以下の原料が使用されることが望ましい。例
えばコバルトのペレット中には水素や一酸化炭素が還元
性ガスとして含まれているが、これらの濃度ができるだ
け低いことが望まれるものである。
The method for manufacturing a magnetic recording medium of the present invention can be used mainly for forming a magnetic layer. This is performed, for example, by vacuum deposition using an electron beam. As the ferromagnetic metal material forming the magnetic layer, for example, a ferromagnetic metal such as Co, Ni, Fe, or Fe-Co, Fe-Ni, Co-Ni, Fe −Co
-Ni, Fe-Cu, Co-Cu, Co-Au, Co-Y, Co-La, Co-
Pr, Co-Gd, Co-Sm, Co-Pt, Ni-Cu, Mn-Bi, Mn-S
b, Mn-Al, Fe-Cr, Co-Cr, Ni-Cr, Fe-Co-Cr, Ni
-Co-Cr and other ferromagnetic alloys. In particular, at least one selected from ferromagnetic alloys containing iron, cobalt, and nickel as main components and nitrides thereof is preferable. In particular, in the present invention, it is desirable to use a raw material having a concentration of impurities of 300 ppm or less as a source of hydrogen or carbon. For example, cobalt pellets contain hydrogen and carbon monoxide as reducing gas, and it is desired that their concentrations be as low as possible.

【0015】また真空蒸着により磁性層を形成するに際
しては、酸化性ガスを導入し、磁性層表面に酸化物を形
成することにより耐久性の向上を図ることが好ましい
が、酸化性ガスの純度を高くして、それに含まれる不純
物ガス、特に水素や炭素の発生源となるガスの濃度を50
ppm以下にすることが好ましい。磁性層は1層あるいは
2層以上の層から形成され、高周波記録に対応するため
には層の多い方が有利であるが、実用的な範囲としては
2〜5層が適当であると考えられる。磁性層の厚みには
特に限定はないが、50〜500nmとすることが好ましく、
特に実用的な範囲としては80〜300nmであることが好ま
しい。
In forming the magnetic layer by vacuum deposition, it is preferable to improve the durability by introducing an oxidizing gas and forming an oxide on the surface of the magnetic layer. And raise the concentration of the impurity gas contained in it, especially the
It is preferable that the content be less than ppm. The magnetic layer is formed of one layer or two or more layers. To cope with high-frequency recording, it is advantageous to have many layers, but it is considered that 2 to 5 layers are appropriate as a practical range. . The thickness of the magnetic layer is not particularly limited, but is preferably 50 to 500 nm,
Particularly, a practical range is preferably from 80 to 300 nm.

【0016】本発明の磁気記録媒体の製造方法において
は、一般に支持体上に磁性層が成膜されることによって
磁気記録媒体が得られるが、こうした支持体としては、
従来公知のものを使用することができる。例えばプラス
チックフィルムであれば、ポリエチレンテレフタレート
(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)のよ
うなポリエステル;ポリエチレン、ポリプロピレン等の
ポリオレフィン;セルローストリアセテート、セルロー
スジアセテート等のセルロース誘導体;ポリカーボネー
ト;ポリ塩化ビニル;ポリイミド;芳香族ポリアミド等
をあげることができる。しかし価格の点からはPETが
好ましい。こうした支持体は通常、ロール状に巻かれて
蒸着用の真空容器に隣接した室に配置され、この室と真
空容器を隔てる壁に設けられたスリットを介して真空容
器内へと導入されるが、この場合に支持体が不純物を運
び込まないように、上記の室内においてはボンバード等
の公知の処理を行うことが好ましい。
In the method for producing a magnetic recording medium of the present invention, a magnetic recording medium is generally obtained by forming a magnetic layer on a support.
Conventionally known ones can be used. For example, in the case of a plastic film, polyesters such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN); polyolefins such as polyethylene and polypropylene; cellulose derivatives such as cellulose triacetate and cellulose diacetate; polycarbonate; polyvinyl chloride; And aromatic polyamides. However, PET is preferred in terms of price. Such a support is usually wound in a roll and placed in a chamber adjacent to a vacuum vessel for vapor deposition, and introduced into the vacuum vessel through a slit provided in a wall separating the chamber and the vacuum vessel. In this case, it is preferable to perform a known treatment such as bombarding in the above-mentioned chamber so that the support does not carry impurities.

【0017】本発明の磁気記録媒体の製造方法は、支持
体の磁性層とは反対側の面にバックコート層を蒸着法に
より形成するために用いることもできる。こうしたバッ
クコート層は、例えばCuやNi、Al等の金属や、Si、Ge等
の半金属を電子ビーム蒸着し、これと同時又はその後に
酸化、窒化あるいは炭化処理等を行って形成することが
できる。この場合に本発明に従って水素及び水蒸気、さ
らには一酸化炭素及び二酸化炭素の分圧を制御すること
により、得られるバックコート層を耐食性及び機械的特
性に優れたものとすることができる。このようなバック
コート層の厚みは特に限定されず、材質や使用する目的
により適宜決定される。しかし厚みは一般的には500nm
以下であることが好ましい。
The method for producing a magnetic recording medium of the present invention can also be used to form a back coat layer on the surface of the support opposite to the magnetic layer by vapor deposition. Such a back coat layer may be formed by e-beam evaporation of a metal such as Cu, Ni, or Al, or a metalloid such as Si or Ge, and simultaneously or afterward performing oxidation, nitridation, or carbonization. it can. In this case, by controlling the partial pressures of hydrogen and water vapor, furthermore, carbon monoxide and carbon dioxide according to the present invention, the resulting back coat layer can be made excellent in corrosion resistance and mechanical properties. The thickness of the back coat layer is not particularly limited, and is appropriately determined depending on the material and the purpose of use. But the thickness is generally 500nm
The following is preferred.

【0018】なお本発明により製造された磁気記録媒体
には、必要に応じて保護層あるいは潤滑層等を適宜設け
ることができる。例えば保護層は、ダイヤモンドライク
カーボンなどの高硬度の物質をCVD法などを用いて磁
性層の上及び/又はバックコート層の上に成膜すること
によって形成できる。また潤滑層は、磁気記録媒体の最
外層に、パーフルオロポリエーテルに代表されるフッ素
系潤滑剤を塗布したり噴霧したりすることによって形成
できる。
The magnetic recording medium manufactured according to the present invention can be provided with a protective layer, a lubricating layer, and the like as needed. For example, the protective layer can be formed by depositing a high-hardness material such as diamond-like carbon on the magnetic layer and / or on the back coat layer using a CVD method or the like. The lubricating layer can be formed by applying or spraying a fluorine-based lubricant represented by perfluoropolyether on the outermost layer of the magnetic recording medium.

【0019】図1は、本発明に使用される真空蒸着装置
の具体例を示す。ここには図示しない真空排気装置に接
続された真空チャンバー16と、真空チャンバー16内に設
けられたキャンロール13と、キャンロール13上で支持体
11を走行させるための巻き出しロール12及び巻き取りロ
ール14が適宜配置されている。
FIG. 1 shows a specific example of a vacuum deposition apparatus used in the present invention. Here, a vacuum chamber 16 connected to a vacuum exhaust device (not shown), a can roll 13 provided in the vacuum chamber 16, and a support on the can roll 13
An unwind roll 12 and a take-up roll 14 for running the 11 are appropriately arranged.

【0020】本発明の製造方法を実施するには、まず例
えば真空チャンバー16の加熱前処理(ベーキング処理)
を行い、内壁に吸着されている水を除去する。その後ク
ライオポンプ/ターボ分子ポンプ等により全圧を5×10
-6Torr程度に調節し、ルツボ15内の磁性材料18に電子銃
19より電子ビームを照射し、磁性材料18を融解して蒸着
雰囲気とする。磁性材料18の蒸気が安定化発生してか
ら、即ち例えば融解開始から30分後に、水素及び水蒸気
の分圧が1×10-7〜5×10-6Torrの範囲となり、一酸化
炭素及び二酸化炭素の分圧が2×10-7Torr以下となるよ
うに制御を行う。水素などの不純物ガスの分圧は、真空
チャンバー16に接続された四重極質量分析計17により測
定される。
In order to carry out the manufacturing method of the present invention, first, for example, a pre-heating treatment (baking treatment) of the vacuum chamber 16 is performed.
To remove the water adsorbed on the inner wall. After that, the total pressure was increased to 5 × 10 by cryopump / turbo molecular pump, etc.
Adjust to about -6 Torr, and place an electron gun on the magnetic material 18 in the crucible 15
An electron beam is irradiated from 19 to melt the magnetic material 18 to make a vapor deposition atmosphere. After the vapor of the magnetic material 18 is stabilized, that is, for example, 30 minutes after the start of melting, the partial pressures of hydrogen and water vapor are in the range of 1 × 10 −7 to 5 × 10 −6 Torr, and carbon monoxide and carbon dioxide Control is performed so that the partial pressure of carbon is 2 × 10 −7 Torr or less. The partial pressure of the impurity gas such as hydrogen is measured by a quadrupole mass spectrometer 17 connected to a vacuum chamber 16.

【0021】この場合、分圧の制御は真空排気装置とし
て例えば油拡散ポンプなどを組み合わせて用いることに
よって行われる他、磁性材料18の純度の選択や、真空チ
ャンバー16内に支持体11が進入する前に行われ得るボン
バード処理や、ガス導入管20から導入される酸化性ガス
の純度の選択なども含むものである。このようにして分
圧を所定範囲に制御することにより、支持体上に耐食性
及び機械的特性の改善された磁性層が形成される。
In this case, the partial pressure is controlled by using, for example, an oil diffusion pump or the like as a vacuum evacuation device, selecting the purity of the magnetic material 18, and moving the support 11 into the vacuum chamber 16. This also includes a bombardment process that can be performed before, selection of the purity of the oxidizing gas introduced from the gas introduction pipe 20, and the like. By controlling the partial pressure in a predetermined range in this manner, a magnetic layer having improved corrosion resistance and mechanical properties is formed on the support.

【0022】図2は、図1で図示しなかった真空排気系
についての詳細を例示的に示している。この例では、真
空チャンバにクライオポンプ2機と、ターボ分子ポンプ
及び油拡散ポンプそれぞれ2機と、またこれらに適する
メカニカルブースターポンプ及びロータリーポンプとが
併設されている。しかし、使用されるポンプの種類及び
組み合わせは、本発明の範囲内で適宜選択可能である。
例えば荒引きはロータリーポンプとメカニカルブースタ
ーポンプで、10-4Torr台になったらクライオポンプで、
といった具合である。
FIG. 2 exemplarily shows details of the evacuation system not shown in FIG. In this example, two cryopumps, two turbo molecular pumps and two oil diffusion pumps, and a mechanical booster pump and a rotary pump suitable for these are provided in the vacuum chamber. However, the type and combination of pumps used can be appropriately selected within the scope of the present invention.
For example, roughing is a rotary pump and a mechanical booster pump, in the cryopump Once turned 10 -4 Torr table,
And so on.

【0023】[0023]

【実施例】【Example】

実施例1〜4及び比較例1〜4 <製造方法>図1の如き真空蒸着装置を使用して、磁性
層の成膜を行った。真空チャンバーの容積は700リット
ルであり、真空排気装置としては図2に示すように、70
00リットル/秒の排気能力を有するクライオポンプ2
機、2000リットル/秒の排気能力を有するターボ分子ポ
ンプ2機、及び2000リットル/秒の排気能力を有する油
拡散ポンプ2機と、さらにそれぞれに適するメカニカル
ブースターポンプ及びロータリーポンプを併設した。蒸
着に先立ち、真空チャンバー内壁に吸着している水分を
加熱処理(ベーキング)によりとばした。
Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 4 <Production Method> A magnetic layer was formed using a vacuum evaporation apparatus as shown in FIG. The volume of the vacuum chamber is 700 liters.
Cryopump 2 with a pumping capacity of 00 liter / second
And two turbo-molecular pumps having a pumping capacity of 2000 l / s, and two oil diffusion pumps having a pumping capacity of 2000 l / s, and a mechanical booster pump and a rotary pump suitable for each pump. Prior to the vapor deposition, the moisture adsorbed on the inner wall of the vacuum chamber was blown off by heat treatment (baking).

【0024】支持体としては厚み4.5μmのポリアミドフ
ィルムを使用し、磁性材料としては純度99.9%の金属コ
バルトを使用した。なお支持体には、真空チャンバーに
入る前にボンバード処理を施した。また水素及び水蒸気
の分圧を実験的に制御するために、真空チャンバー中に
水蒸気をアルゴンをキャリアガスとして導入した。また
同様にして一酸化炭素及び二酸化炭素の分圧を制御する
ために、金属コバルト中に炭素を必要に応じて含有させ
た。なお各々の不純物ガスの分圧は、真空チャンバーに
接続された分圧真空計(アネルバ(株)製、QIG-066)
を用いて、コバルトの蒸気が発生してから30分後に測定
した。実施例1〜4及び比較例1〜4の水素及び水蒸
気、一酸化炭素、二酸化炭素の分圧は、それぞれ表1に
示す通りに制御された。
A 4.5 μm thick polyamide film was used as a support, and 99.9% pure metal cobalt was used as a magnetic material. The support was bombarded before entering the vacuum chamber. In order to experimentally control the partial pressures of hydrogen and water vapor, water vapor was introduced into the vacuum chamber using argon as a carrier gas. Similarly, in order to control the partial pressures of carbon monoxide and carbon dioxide, carbon was contained in metallic cobalt as required. The partial pressure of each impurity gas was measured using a partial pressure gauge connected to a vacuum chamber (QIG-066, manufactured by Anelva).
The measurement was carried out 30 minutes after the generation of the cobalt vapor by using. The partial pressures of hydrogen and water vapor, carbon monoxide, and carbon dioxide in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 4 were controlled as shown in Table 1, respectively.

【0025】なお蒸着原子の最大入射角及び最小入射角
はそれぞれ90°及び60°、成膜速度は100nm/sec、磁性
層の膜厚は180nmとした。磁性層を成膜した後、得られ
た原反にバックコート層及び潤滑層を形成し、6.35mm幅
にスリットし、DVCカセットにローディングして磁気記
録媒体を作製した。
The maximum incident angle and the minimum incident angle of the deposited atoms were 90 ° and 60 °, respectively, the deposition rate was 100 nm / sec, and the thickness of the magnetic layer was 180 nm. After forming the magnetic layer, a back coat layer and a lubricating layer were formed on the obtained raw material, slit to a width of 6.35 mm, and loaded on a DVC cassette to produce a magnetic recording medium.

【0026】[0026]

【表1】 [Table 1]

【0027】<評価>実施例1〜4及び比較例1〜4に
おいて得られた試料に対して、機械的性質及び耐食性の
評価を行った。
<Evaluation> The samples obtained in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 4 were evaluated for mechanical properties and corrosion resistance.

【0028】機械的性質については、引っ掻き強度試験
を行って評価した。試験装置として薄膜評価用走査型ス
クラッチテスタ(島津製作所製SST-101)を用い、先端
径10μmのダイヤモンドスタイラスを振幅50μmで微少振
動させながら試料表面を走行させ、徐々に荷重を増加さ
せた。膜が破壊される最小の荷重を膜表面の機械的強度
の目安とした。また耐食性については、60℃、相対湿度
90%の環境下に1週間曝した後の、静磁気特性Bs(飽和
磁束密度)の変化量(%)で評価を行った。以上の結果
を表2に示す。
The mechanical properties were evaluated by performing a scratch strength test. A scanning scratch tester for thin film evaluation (SST-101 manufactured by Shimadzu Corporation) was used as a test apparatus, and a diamond stylus having a tip diameter of 10 μm was run on the sample surface while slightly vibrating with an amplitude of 50 μm, and the load was gradually increased. The minimum load at which the film was broken was taken as a measure of the mechanical strength of the film surface. For corrosion resistance, 60 ° C, relative humidity
The evaluation was made based on the change (%) in the magnetostatic property Bs (saturated magnetic flux density) after exposure for one week in a 90% environment. Table 2 shows the above results.

【0029】[0029]

【表2】 [Table 2]

【0030】[0030]

【発明の効果】表2からも明らかな通り、本発明の製造
方法により、水素及び水蒸気の分圧を1×10-7〜5×10
-6Torrの範囲に制御した場合、耐食性及び機械的特性の
向上が見られ、またさらに一酸化炭素及び二酸化炭素の
分圧を2×10-7Torr以下とすることにより、機械的特性
をさらに改善することができる。
As is clear from Table 2, the partial pressures of hydrogen and water vapor are reduced by 1 × 10 −7 to 5 × 10 5 by the production method of the present invention.
When the pressure is controlled in the range of -6 Torr, the corrosion resistance and the mechanical properties are improved, and the mechanical properties are further improved by setting the partial pressures of carbon monoxide and carbon dioxide to 2 × 10 -7 Torr or less. Can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の製造方法の実施に用いることのできる
真空蒸着装置の一例を示す概略図である。
FIG. 1 is a schematic view showing an example of a vacuum evaporation apparatus that can be used for carrying out the manufacturing method of the present invention.

【図2】本発明の製造方法の実施に用いることのできる
真空蒸着装置の一例を、排気系の詳細について例示する
概略図である。
FIG. 2 is a schematic view illustrating an example of a vacuum evaporation apparatus that can be used for carrying out the manufacturing method of the present invention, with respect to details of an exhaust system.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 ベースフィルム 12 巻き出しロール 13 キャンロール 14 巻き取りロール 15 るつぼ 16 真空チャンバーの内壁 17 四重極質量分析計 18 磁性材料 19 電子銃 20 ガス導入管 11 Base film 12 Unwind roll 13 Can roll 14 Take-up roll 15 Crucible 16 Inner wall of vacuum chamber 17 Quadrupole mass spectrometer 18 Magnetic material 19 Electron gun 20 Gas inlet tube

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 水野谷 博英 栃木県芳賀郡市貝町赤羽2606 花王株式会 社研究所内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on front page (72) Inventor Hirohide Mizunoya 2606 Akabane, Kaimachi, Haga-gun, Tochigi Pref.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 真空容器内で蒸着法により磁気記録媒体
を製造する方法であって、蒸着時における前記容器内の
水素及び水蒸気の分圧を1×10-7〜5×10-6Torrの範囲
に制御することを特徴とする、磁気記録媒体の製造方
法。
1. A method for producing a magnetic recording medium by a vapor deposition method in a vacuum vessel, wherein a partial pressure of hydrogen and water vapor in the vessel at the time of vapor deposition is 1 × 10 −7 to 5 × 10 −6 Torr. A method for manufacturing a magnetic recording medium, characterized in that the magnetic recording medium is controlled within a range.
【請求項2】 さらに蒸着時における前記容器内の一酸
化炭素及び二酸化炭素の分圧を2×10-7Torr以下に制御
することを特徴とする、請求項1の製造方法。
2. The method according to claim 1, further comprising controlling a partial pressure of carbon monoxide and carbon dioxide in said container to 2 × 10 −7 Torr or less at the time of vapor deposition.
JP26462797A 1997-09-29 1997-09-29 Manufacture of magnetic recording medium Pending JPH11102517A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP26462797A JPH11102517A (en) 1997-09-29 1997-09-29 Manufacture of magnetic recording medium

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP26462797A JPH11102517A (en) 1997-09-29 1997-09-29 Manufacture of magnetic recording medium

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH11102517A true JPH11102517A (en) 1999-04-13

Family

ID=17405976

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP26462797A Pending JPH11102517A (en) 1997-09-29 1997-09-29 Manufacture of magnetic recording medium

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH11102517A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009084408A1 (en) * 2007-12-28 2009-07-09 Ulvac, Inc. Film formation device and film formation method
JP2010198659A (en) * 2009-02-23 2010-09-09 Showa Denko Kk Treatment apparatus, in-line type film depositing device, and method for manufacturing magnetic recording medium

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009084408A1 (en) * 2007-12-28 2009-07-09 Ulvac, Inc. Film formation device and film formation method
JP5167282B2 (en) * 2007-12-28 2013-03-21 株式会社アルバック Film forming apparatus and film forming method
JP2010198659A (en) * 2009-02-23 2010-09-09 Showa Denko Kk Treatment apparatus, in-line type film depositing device, and method for manufacturing magnetic recording medium

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0546014B2 (en)
JPS6154022A (en) Magnetic recording medium
JPH11102517A (en) Manufacture of magnetic recording medium
JPS6148128A (en) Manufacture of magnetic recording medium
JPH0685216B2 (en) Method of manufacturing magnetic recording medium
JPS5841443A (en) Manufacture of magnetic recording medium
JPH11102518A (en) Production method of magnetic recording medium
JPS59124035A (en) Manufacture of magnetic recording medium
JP2008033996A (en) Magnetic recording medium
JPH08102054A (en) Production of magnetic recording medium and production device therefor
JPH06103570A (en) Production of magnetic recording medium
JPH11102519A (en) Method and apparatus for producing magnetic recording medium
JPH07114731A (en) Production of magnetic recording medium
JPH0798831A (en) Magnetic recording medium, its production and producing device
JPS60179925A (en) Magnetic recording medium and its production
JPH1173643A (en) Production of magnetic recording medium
JPH0636281A (en) Manufacture of magnetic recording medium
JPS58166537A (en) Manufacturing device for magnetic recording medium
JPH01125723A (en) Production of perpendicular magnetic recording medium
JPH0969220A (en) Magnetic recording medium
JPS60185224A (en) Magnetic recording medium
JPH08279136A (en) Magnetic recording medium
JPH09198647A (en) Magnetic recording medium
JPH0798832A (en) Magnetic recording medium, its production and producing device
JPH10283633A (en) Production of magnetic recording medium