JPH11101896A - Electron beam irradiation device - Google Patents
Electron beam irradiation deviceInfo
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- JPH11101896A JPH11101896A JP28289897A JP28289897A JPH11101896A JP H11101896 A JPH11101896 A JP H11101896A JP 28289897 A JP28289897 A JP 28289897A JP 28289897 A JP28289897 A JP 28289897A JP H11101896 A JPH11101896 A JP H11101896A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】この発明は、電子線のオンオ
フを瞬時に行う事ができるようにした電子線照射装置に
関する。電子線照射装置は、真空中で電子銃から電子を
発生させ、加速してビームとし、窓箔を通し大気中に取
り出し、被処理物に照射するようにしたものである。ビ
ームを走査する走査型とビームを走査しない非走査型が
ある。走査型の場合電子線発生部、加速管、走査機構、
走査管、照射窓、窓箔、搬送機構、筐体等よりなる。電
子線発生部は、カソードフィラメントを加熱し熱電子を
発生させることによって電子を発生させる。加速管は多
段の電極によって電圧を掛けて電子を加速するものであ
る。走査部はコイルによって磁場を生じこれによって電
子線を曲げるものである。交番磁場を掛ける事によって
ビームを左右に走査することができる。走査管は下側が
広がった三角形状の管である。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electron beam irradiation apparatus capable of turning on and off an electron beam instantaneously. The electron beam irradiator generates electrons from an electron gun in a vacuum, accelerates them into a beam, takes it out to the atmosphere through a window foil, and irradiates an object to be processed. There are a scanning type that scans a beam and a non-scanning type that does not scan a beam. In the case of scanning type, electron beam generator, accelerating tube, scanning mechanism,
It consists of a scanning tube, an irradiation window, a window foil, a transport mechanism, a housing and the like. The electron beam generator generates electrons by heating the cathode filament to generate thermoelectrons. The accelerating tube accelerates electrons by applying a voltage with multi-stage electrodes. The scanning unit generates a magnetic field by the coil, and thereby bends the electron beam. The beam can be scanned left and right by applying an alternating magnetic field. The scanning tube is a triangular tube with an expanded lower side.
【0002】走査管の下端にあるのが照射窓である。こ
こには窓箔が張ってある。窓箔によって上部の真空部
と、下部の大気圧部とが遮断される。搬送機構があって
被処理物はこれによって入口から照射窓の直下を経て出
口まで運ばれる。搬送機構は鉛板、鉄板などの遮蔽板や
コンクリ−トよりなる筐体によって囲まれる。電子線が
被処理物に当たるとX線を生ずる。これが外部に洩れな
いように照射窓直下の電子線照射部を巧みに遮蔽する必
要がある。また電子線が酸素と反応することによってオ
ゾンが発生する。これも有害である。そこで窒素ガスな
どを照射部に流してオゾンが発生しないようにしたり、
発生後のオゾンを許容濃度以下になるよう処理するなど
の工夫をしている。本発明はこのような電子線照射装置
においてビームの開閉を行う装置の改良に関する。[0002] At the lower end of the scanning tube is an irradiation window. Here is a window foil. The window foil cuts off the upper vacuum section and the lower atmospheric pressure section. There is a transport mechanism, whereby the object to be processed is carried from the entrance to the exit immediately below the irradiation window. The transport mechanism is surrounded by a shielding plate such as a lead plate or an iron plate or a housing made of concrete. When an electron beam hits the object to be processed, X-rays are generated. In order to prevent this from leaking to the outside, it is necessary to skillfully shield the electron beam irradiation section immediately below the irradiation window. In addition, ozone is generated when the electron beam reacts with oxygen. This is also harmful. So, flowing nitrogen gas etc. to the irradiation part to prevent ozone generation,
Some measures are taken, such as treating ozone after generation to an allowable concentration or less. The present invention relates to an improvement in a device for opening and closing a beam in such an electron beam irradiation device.
【0003】[0003]
【従来の技術】図1によって従来の走査型電子線照射装
置1の概略の構成を説明する。上方にはケーブル2によ
って高電圧が導かれる。電子線発生部3でカソードフィ
ラメントを加熱し熱電子を発生させアノード(照射窓)
との間の電界によって電子をビームとして取り出す。こ
れに続く加速管4は高電圧を分圧した複数の有孔電極間
に電子線を通す事によって所望のエネルギーに加速する
ものである。電子線は下向きに加速される。2. Description of the Related Art A schematic configuration of a conventional scanning electron beam irradiation apparatus 1 will be described with reference to FIG. A high voltage is guided upward by the cable 2. The cathode filament is heated by the electron beam generator 3 to generate thermoelectrons, and the anode (irradiation window)
Electrons are extracted as a beam by the electric field between. The accelerating tube 4 following this accelerates to a desired energy by passing an electron beam between a plurality of perforated electrodes obtained by dividing a high voltage. The electron beam is accelerated downward.
【0004】電子線の方向にz軸をとる。走査方向をy
方向とする。被処理物の搬送の方向がx方向である。加
速エネルギーは様々である。例えば300keV以上に
加速する場合は、多段加速の走査型が用いられる。走査
機構5はコイルよりなり例えばsinωtで磁場を交番
変化させることによって電子線7を左右に振る。走査管
6は下方が広がった台形形状の真空容器であり電子線7
が左右に振れる空間を与える。走査管6の下端には窓箔
が張られた照射窓8がある。[0004] The z-axis is taken in the direction of the electron beam. Scan direction is y
Direction. The direction of transport of the workpiece is the x direction. The acceleration energy varies. For example, when accelerating to 300 keV or more, a scanning type of multi-stage acceleration is used. The scanning mechanism 5 is made up of a coil, and swings the electron beam 7 left and right by changing the magnetic field alternately at, for example, sinωt. The scanning tube 6 is a trapezoidal vacuum container having a widened downward portion, and an electron beam 7.
Gives space to swing left and right. At the lower end of the scanning tube 6, there is an irradiation window 8 on which a window foil is stretched.
【0005】照射窓8の直下を被処理物9がx方向に通
過するようになっており、そのときに窓箔を通過した電
子線が被処理物にあたり、高分子架橋、塗膜硬化、殺菌
などの作用を及ぼす。窓箔はTi、Alなどの箔であ
る。An object 9 passes in the x-direction just below the irradiation window 8. At that time, the electron beam passing through the window foil hits the object, cross-linking the polymer, curing the coating, and sterilizing. It acts like. The window foil is a foil of Ti, Al, or the like.
【0006】照射窓8の直下には搬送コンベヤ等搬送機
構があり、これに乗せられた被処理物9が通過してゆ
く。テープのような連続体の被処理物の場合はコンベヤ
にのせず、ローラ間に貼ってローラを廻して、テープを
巻出してゆく。[0006] A transport mechanism such as a transport conveyor is provided immediately below the irradiation window 8, and a workpiece 9 placed on the transport mechanism passes therethrough. In the case of a continuous object to be processed, such as a tape, the tape is unwound without being put on a conveyor, and is put between rollers and the rollers are turned.
【0007】電子線照射を一次的に中断するために、機
械的なシャッター10が設けられる。これは照射窓と被
処理物の間に出入できるような金属製の板である。これ
はxy面内で直線往復運動するか、y軸回りに回転す
る。シャッター10が照射窓8の下に来ると電子ビーム
7はシャッター10に当たって遮られる。シャッター1
0は機械的手段によって電子ビームを一次的に遮断する
ものである。電子線は出たままであっても、シャッター
が閉じる事によって電子線をカットし被処理物に電子線
が当たるのを防ぐことができる。またシャッターを開い
て電子線照射を再開する事ができる。[0007] A mechanical shutter 10 is provided to temporarily interrupt the electron beam irradiation. This is a metal plate that can enter and exit between the irradiation window and the workpiece. It reciprocates linearly in the xy plane or rotates around the y axis. When the shutter 10 comes below the irradiation window 8, the electron beam 7 hits the shutter 10 and is blocked. Shutter 1
Numeral 0 is for temporarily blocking the electron beam by mechanical means. Even if the electron beam remains emitted, closing the shutter can cut the electron beam and prevent the electron beam from hitting the workpiece. The electron beam irradiation can be restarted by opening the shutter.
【0008】[0008]
【発明が解決しようとする課題】照射窓は長辺が1m以
上ある広い窓である。時に2mを越える事もある。これ
の全体を覆うシャッターであるから、かなり大きいもの
である。電子線の度重なる照射に耐える必要があるから
金属製でなければならない。かなり重いものであるか
ら、慣性が大きい。如何に速く動かそうとしても限界が
ある。モータや減速器の慣性もある。重いシャッターを
閉じるには数秒掛かる。電子線を迅速に遮断させたい場
合はそれでは間に合わない。反対に電子線を照射し始め
るときもシャッターを開くのに1〜2秒の遅れがある。The irradiation window is a wide window having a long side of 1 m or more. Sometimes it exceeds 2m. Because it is a shutter that covers the whole of this, it is quite large. Since it is necessary to withstand repeated irradiation of the electron beam, it must be made of metal. Since it is quite heavy, it has a large inertia. No matter how fast you move, there is a limit. There is also the inertia of motors and reducers. It takes a few seconds to close a heavy shutter. If you want to shut off the electron beam quickly, that is not enough. Conversely, there is also a delay of one to two seconds to open the shutter when electron beam irradiation begins.
【0009】目的用途によっては、さらに迅速にオンオ
フさせたい場合がある。たとえば高速で走行する被処理
物に対して瞬時にビーム立ち上げ立ち下げをしたいとい
う新しい要求があらわれつつある。機械的な開閉ではど
うしても時間的な遅れが大きく目的に沿わない。機械的
シャッターの開閉よりも迅速に電子ビーム(電子線)を
開閉できる装置を提供する事が本発明の目的である。Depending on the intended use, it may be desired to turn on and off more quickly. For example, there is a new demand for instantaneously raising and lowering a beam for an object running at a high speed. In mechanical opening and closing, the time delay is inevitably large and does not meet the purpose. It is an object of the present invention to provide a device capable of opening and closing an electron beam (electron beam) more quickly than opening and closing of a mechanical shutter.
【0010】[0010]
【課題を解決するための手段】加速管の電極とフィラメ
ントとの間に新たに2組の相反する方向の電源とスイッ
チを設けて加速管電極とフィラメント間の電圧Vを正負
方向に切り替える事によって電子ビームを発生させたり
停止させたりする。加速管電極の電圧をCとして、フィ
ラメント電圧をFとする。F>Cであればフィラメント
が高電位であるから電子ビームが電極方向に進行しな
い。機械的手段でなくて電気的な手段で電子ビームを遮
断するから開閉に要する時間は短くなる。A new power supply and two switches in opposite directions are provided between the electrode of the accelerating tube and the filament to switch the voltage V between the accelerating tube electrode and the filament in the positive and negative directions. Generate and stop the electron beam. Let C be the voltage of the accelerating tube electrode and F be the filament voltage. If F> C, the electron beam does not proceed in the electrode direction because the filament has a high potential. The time required for opening and closing is shortened because the electron beam is blocked by an electric means instead of a mechanical means.
【0011】[0011]
【発明の実施の形態】従来の電子線照射装置においてフ
ィラメントと加速管電極の電圧配分は分圧抵抗を直列に
並べることによってなされていた。であるから必ず、フ
ィラメント電圧よりも加速管電極は高電位であった。図
1によって従来例の電源構造を説明する。フィラメント
FはWなどの細線であって直流電源Vf(或いは交流電
源)によって加熱され熱電子を発生するようになってい
る。負の高電圧電源Vabによってフィラメントは負電
圧にバイアスされる。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS In a conventional electron beam irradiation apparatus, voltage distribution between a filament and an electrode of an accelerating tube has been performed by arranging voltage dividing resistors in series. Therefore, the accelerating tube electrode was always higher in potential than the filament voltage. A conventional power supply structure will be described with reference to FIG. The filament F is a thin wire such as W and is heated by a DC power supply Vf (or an AC power supply) to generate thermoelectrons. The filament is biased to a negative voltage by the negative high voltage power supply Vab.
【0012】電極E1、E2、E3…は中央部に開口の
ある金属板でありこれをフィラメント直下において直線
上に並べている。電極間は絶縁物が存在し絶縁物によっ
て加速管を真空室としているがここでは絶縁物の図示を
省略する。フィラメントには負電圧Vacが掛かってい
るがこれを抵抗列R1、R2、R3などによって分圧し
て加速電極E1、E2、…などに印加する。それで加速
電極には、分圧抵抗による降下分ずつ降下した電圧が掛
かるようになっている。フィラメント電圧F、電極電位
をE1、E2、…によって表現すると、F<E1<E2
<E3…というふうになる。この関係は固定的である。
変更する事はできない。The electrodes E1, E2, E3,... Are metal plates having an opening at the center and are arranged in a straight line immediately below the filament. An insulator exists between the electrodes, and the accelerating tube is used as a vacuum chamber by the insulator. However, the illustration of the insulator is omitted here. A negative voltage Vac is applied to the filament, and the voltage is divided by the resistance strings R1, R2, R3 and the like and applied to the accelerating electrodes E1, E2,... Thus, a voltage dropped by the drop due to the voltage dividing resistor is applied to the acceleration electrode. When the filament voltage F and the electrode potential are represented by E1, E2,..., F <E1 <E2
<E3 ... This relationship is fixed.
It cannot be changed.
【0013】本発明は加速管電極の任意のひとつEnと
フィラメントとの間に正負の電源とスイッチを設けて、
電極・フィラメント間の電位を正負に変更できるように
している。どの電極でも良いのであるが最上の第1電極
E1が最適である。第1電極とフィラメントの電圧差が
最も小さいから電源、スイッチが小容量で済むし配線が
最も単純である。本発明で用いスイッチは、機械的なも
のに限らず、半導体などを使用した可動部がない電気的
なスイッチを含んでいる。According to the present invention, a positive / negative power source and a switch are provided between any one of the electrodes of the accelerator tube En and the filament,
The potential between the electrode and the filament can be changed to positive or negative. Although any electrode may be used, the uppermost first electrode E1 is optimal. Since the voltage difference between the first electrode and the filament is the smallest, the power supply and the switch need only have a small capacity, and the wiring is the simplest. The switch used in the present invention is not limited to a mechanical switch, and includes an electric switch using a semiconductor or the like and having no movable part.
【0014】[実施形態]図3によって本発明の第1
の実施形態を説明する。フィラメントFと第1電極E1
の間に二組の電源・スイッチが設けられる。ひとつは、
スイッチSW1と負電源V1を直列につないだものであ
る。もうひとつはスイッチSW2と正電源V2を直列に
つないだものである。スイッチSW1とSW2は連動し
ており相補的に開閉する。一方が開いているときは他方
が閉じている。開閉は同時に行われる。FIG. 3 shows a first embodiment of the present invention.
An embodiment will be described. Filament F and first electrode E1
There are two sets of power supplies / switches between them. one is,
The switch SW1 and the negative power supply V1 are connected in series. The other is that the switch SW2 and the positive power supply V2 are connected in series. Switches SW1 and SW2 are interlocked and open and close complementarily. When one is open, the other is closed. Opening and closing are performed simultaneously.
【0015】SW1が閉じSW2が開いているときは、
フィラメントが電極E1より負電位になるから、熱電子
が電極によって引き寄せられる。電子ビームが加速管に
出てゆき加速される。電子線は被処理物に当たり、被処
理物は電子線処理を受ける。通常運転時はこのような状
態である。When SW1 is closed and SW2 is open,
Since the filament has a more negative potential than the electrode E1, thermoelectrons are attracted by the electrode. The electron beam exits the acceleration tube and is accelerated. The electron beam hits the object, and the object undergoes electron beam processing. This is the state during normal operation.
【0016】SW1が開きSW2が閉じている時は、フ
ィラメント電位が、電極E1よりも高くなる。F>E1
(=C)である。ために電子が電極E1によってフィラ
メントへと追い返される。電子線ビームが瞬時に止ま
る。スイッチの開閉だけでビームを遮断することができ
る。大きなシャッター板を動かす必要がないので短時間
で済む。またSW1を閉じSW2を開くとビームが発生
する。When SW1 is open and SW2 is closed, the filament potential becomes higher than that of the electrode E1. F> E1
(= C). For this reason, the electrons are driven back to the filament by the electrode E1. The electron beam stops instantaneously. The beam can be cut off simply by opening and closing the switch. Since it is not necessary to move a large shutter plate, it can be completed in a short time. When SW1 is closed and SW2 is opened, a beam is generated.
【0017】この例では、負電源Vacをフィラメント
Fにつないでいる。こうすると加速管電極の電圧が、S
W1、SW2によって変動する。これが望ましくないと
いう場合は、負電源Vacを第1電極E1につなぐよう
にしても良い。In this example, the negative power supply Vac is connected to the filament F. Then, the voltage of the accelerating tube electrode becomes S
It varies with W1 and SW2. If this is not desirable, a negative power supply Vac may be connected to the first electrode E1.
【0018】[実施形態]前述の例では電極に対する
フィラメントの相対電位を正負に切り替えるために二つ
の電源を使っている。これをひとつの電源にするとコス
ト削減できる。図4はそのような実施形態を示す。フィ
ラメントFと第1電極E1の間に電源V3と、相補的に
開閉する二つのスイッチSW3、SW4を設ける。SW
3のb接点とSW4のa接点が電源V3の+極につなが
れる。SW3のa接点とSW4のb接点がV3の−極に
つながれている。[Embodiment] In the above-described example, two power supplies are used to switch the relative potential of the filament to the electrode between positive and negative. Using this as a single power supply can reduce costs. FIG. 4 shows such an embodiment. A power supply V3 and two switches SW3 and SW4 that open and close complementarily are provided between the filament F and the first electrode E1. SW
The contact b of No. 3 and the contact a of SW4 are connected to the positive pole of the power supply V3. The contact a of SW3 and the contact b of SW4 are connected to the negative pole of V3.
【0019】SW3、SW4は同時にa接点に、あるい
はb接点に接触する。a接点に接触しているときは、フ
ィラメントが電極に対して負電圧になるから熱電子が引
き出される。被処理物に電子線照射がなされる。SW
3、SW4がb接点に切り替わったときは、電極に対し
てフィラメントが正電位(F>E1=C)になるので、
電子が電極E1によって排斥される。電子ビームが加速
管を通らない。電子線が停止するのである。これも電気
的な手段によって瞬時にビームを開閉することができ
る。SW3 and SW4 simultaneously contact the a contact or the b contact. When the filament is in contact with the a-contact, thermoelectrons are extracted because the filament has a negative voltage with respect to the electrode. An object is irradiated with an electron beam. SW
3. When the SW4 is switched to the contact b, the filament has a positive potential (F> E1 = C) with respect to the electrode.
Electrons are rejected by the electrode E1. The electron beam does not pass through the acceleration tube. The electron beam stops. This also allows the beam to be opened and closed instantly by electrical means.
【0020】[実施形態]加速管電極のうち、第1電
極とフィラメント間の電位を正負に切り替えるのが簡便
であるが、それに限るものではない。一般にn番目の電
極En(=C)とフィラメントの間に電源V1(正)、
V2(負)を設けてF、En間の電位を正負に切り替え
るようにしても良い。F>Cの場合電子ビームは停止す
る。F<Cの場合電子ビームが電極間を流れる。その場
合は、第1電極E1に加速電源Vacをつなぐようにす
る。[Embodiment] Of the accelerating tube electrodes, it is convenient to switch the potential between the first electrode and the filament to positive or negative, but the present invention is not limited to this. Generally, a power supply V1 (positive) is provided between the n-th electrode En (= C) and the filament,
V2 (negative) may be provided to switch the potential between F and En between positive and negative. When F> C, the electron beam stops. When F <C, the electron beam flows between the electrodes. In that case, an acceleration power supply Vac is connected to the first electrode E1.
【0021】[0021]
【発明の効果】従来は大きなシャッターを照射窓と被処
理物の間に進退させていたからビームの開閉に時間が掛
かっていた。本発明は加速管電極とフィラメントのバイ
アス電圧を正負に切り替えることによってビームを発生
させ停止させる。オンオフのために必要な時間が短くな
る。ビームの立ち上げ立ち下げが迅速で、高速走行する
被処理物への電子線照射をも巧妙正確に制御することが
できる。被処理物に未処理部分や線量超過部分などの不
良部分が発生するのを防ぐことができる。Conventionally, a large shutter is moved between the irradiation window and the object to be processed, so that it takes time to open and close the beam. In the present invention, the beam is generated and stopped by switching the bias voltage between the accelerating tube electrode and the filament to positive or negative. The time required for on / off is reduced. The beam rises and falls quickly, and it is also possible to control the irradiation of an electron beam to a high-speed traveling object with precision. It is possible to prevent a defective portion such as an unprocessed portion or a portion where the dose is exceeded from being generated on the workpiece.
【図1】走査型電子線照射装置の電子発生部、加速管
部、走査管などの概略を示す正面図。FIG. 1 is a front view schematically showing an electron generation unit, an acceleration tube unit, a scanning tube, and the like of a scanning electron beam irradiation apparatus.
【図2】従来例に係るフィラメントと加速管電極の間の
電位関係を示すための回路図。FIG. 2 is a circuit diagram showing a potential relationship between a filament and an accelerating tube electrode according to a conventional example.
【図3】本発明の第1実施形態において、フィラメント
と加速管電極の間に電源二つとスイッチ二つを設けて、
電極に対しフィラメントの電位を高電位に(F>E)し
てビームを停止し、電極に対しフィラメント電位を低電
位にしてビームを引き出させるようにしたことを示す回
路図。FIG. 3 In the first embodiment of the present invention, two power sources and two switches are provided between the filament and the accelerator tube electrode.
FIG. 9 is a circuit diagram showing that the filament is set at a high potential (F> E) with respect to the electrode to stop the beam, and the filament potential is set at a low potential with respect to the electrode so as to extract the beam.
【図4】本発明の第2実施形態において、フィラメント
と加速管電極の間に電源一つとスイッチ二つを設けて、
電極Eに対しフィラメントFの電位を高電位(F>E)
にしてビームを停止し、電極に対しフィラメント電位を
低電位にしてビームを引き出させるようにしたことを示
す回路図。FIG. 4 shows a second embodiment of the present invention, in which one power supply and two switches are provided between the filament and the accelerating tube electrode;
High potential of filament F with respect to electrode E (F> E)
FIG. 6 is a circuit diagram showing that the beam is stopped by setting the filament potential to a low potential with respect to the electrode to extract the beam.
F フィラメント E1 加速管の第1電極 E2 加速管の第2電極 E3 加速管の第3電極 V1 電極に対しフィラメントに負電位を与える電源 V2 電極に対しフィラメントに正電位を与える電源 Vf フィラメント電源 Vac 加速電源 R1 第1分圧抵抗 R2 第2分圧抵抗 R3 第3分圧抵抗 F Filament E1 First electrode of accelerating tube E2 Second electrode of accelerating tube E3 Third electrode of accelerating tube V1 Power source for applying a negative potential to filament to V1 electrode V2 Power source for applying a positive potential to filament to electrode Vf Filament power source Vac acceleration Power supply R1 First voltage divider R2 Second voltage divider R3 Third voltage divider
Claims (1)
間に一つ或いは二つの直流電源と二つのスイッチを設
け、電極に対するフィラメントの電位を正負に切り替え
る事によってフィラメント・加速管間で電子線を通過或
いは停止させるようにしたことを特徴とする電子線照射
装置。1. One or two DC power supplies and two switches are provided between a filament and one electrode of an acceleration tube, and an electron beam is switched between the filament and the acceleration tube by switching the potential of the filament with respect to the electrode between positive and negative. An electron beam irradiating apparatus characterized in that the electron beam irradiating device is passed or stopped.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28289897A JPH11101896A (en) | 1997-09-29 | 1997-09-29 | Electron beam irradiation device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28289897A JPH11101896A (en) | 1997-09-29 | 1997-09-29 | Electron beam irradiation device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11101896A true JPH11101896A (en) | 1999-04-13 |
Family
ID=17658541
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP28289897A Pending JPH11101896A (en) | 1997-09-29 | 1997-09-29 | Electron beam irradiation device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH11101896A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10256068B2 (en) | 2016-08-01 | 2019-04-09 | Hitachi, Ltd. | Charged particle beam apparatus |
-
1997
- 1997-09-29 JP JP28289897A patent/JPH11101896A/en active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10256068B2 (en) | 2016-08-01 | 2019-04-09 | Hitachi, Ltd. | Charged particle beam apparatus |
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