JPH1090113A - Interferometer - Google Patents

Interferometer

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Publication number
JPH1090113A
JPH1090113A JP26781396A JP26781396A JPH1090113A JP H1090113 A JPH1090113 A JP H1090113A JP 26781396 A JP26781396 A JP 26781396A JP 26781396 A JP26781396 A JP 26781396A JP H1090113 A JPH1090113 A JP H1090113A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lens
wave
wavefront
optical
light
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP26781396A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kenji Yamamoto
健二 山本
Isao Ichimura
功 市村
Fumisada Maeda
史貞 前田
Toshio Watanabe
俊夫 渡辺
Kiyoshi Osato
潔 大里
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP26781396A priority Critical patent/JPH1090113A/en
Publication of JPH1090113A publication Critical patent/JPH1090113A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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  • Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)
  • Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To highly accurately evaluate performance of a large numerical aperture(NA) lens by providing a reference wavefront generation means which generates a reference wavefront to interfere with a wavefront to be detected which runs an incident optical path in an opposite direction after being reflected at a reflecting means and passes again a lens to be detected. SOLUTION: A laser beam 11 is reflected at a polarizing reflecting face 13a of a polarization beam splitter(PBS) 13, runs along an optical axis 12 in a forward direction and penetrates a 1/4 wave plate 15 to be a circularly polarized light. The light passing the 1/4 wave plate 15 is reflected at a face 16a to be a reference wave R1 . The wave further penetrates a plane plate 16 and becomes a parallel light T1 . The parallel light T1 is refracted at a plane 19b to be a spherical wave-like wavefront and reaches a convex face 19a. The wavefront in a range S provided for reflection is directly reflected and consequently returns an original optical path to be a parallel plane wave again, which penetrates the plane plate 16, etc., and reaches a screen 21. A light and shade pattern because of an interference of the reference wave R1 and a wave R2 to be detected is projected onto the screen 21, and imaged by a CCD 22.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は光学レンズの性能を
評価するための干渉計に係り、特に開口数(NA)の高
いレンズの評価に適した干渉計に関する。
The present invention relates to an interferometer for evaluating the performance of an optical lens, and more particularly to an interferometer suitable for evaluating a lens having a high numerical aperture (NA).

【0002】[0002]

【従来の技術】光学レンズの評価方法の一つとして干渉
計を用いる方法がある。このような干渉計には、フィゾ
ー干渉計やトワイマン・グリーン干渉計等、各種のもの
がある。いずれの干渉計においても、被検体(光学レン
ズ)を透過した被検波面と干渉させるための参照波面
(基準波面)が必要となる点で共通し、その参照波面を
如何に正確に形成するかという点が干渉計の精度(すな
わち、評価精度)を左右する重要な要素となる。
2. Description of the Related Art One of the methods for evaluating an optical lens is a method using an interferometer. There are various types of such interferometers, such as a Fizeau interferometer and a Twyman-Green interferometer. All interferometers are common in that they require a reference wavefront (reference wavefront) to interfere with the test wavefront that has passed through the subject (optical lens), and how to accurately form that reference wavefront This is an important factor that affects the accuracy (that is, evaluation accuracy) of the interferometer.

【0003】図9は、フィゾー干渉計を用いた従来の光
学レンズ評価システムの概略構成を表すもので、具体的
にはいわゆるフリンジスキャン法を用いて評価を行うも
のである。この干渉計は、平行光束であるレーザ光10
1を反射して光軸102の方向に向ける偏光ビームスプ
リッタ(以下、PBSという。)103と、PBS10
3と被検レンズ104との間に光軸102と直交するよ
うにPBS103に近い方から順に配設された1/4波
長板105、平面プレート106およびアパーチャ10
7と、被検レンズ104の後方(レーザビームの進行方
向に着目すると往路方向)に順に配設された補正板10
8および凹面反射ミラー109と、PBS103の1/
4波長板105とは反対側に順に配設されたスクリーン
111および例えばCCD(電荷結合素子)を用いた撮
像装置112とを備えている。
FIG. 9 shows a schematic configuration of a conventional optical lens evaluation system using a Fizeau interferometer. Specifically, evaluation is performed using a so-called fringe scan method. This interferometer uses a laser beam 10 as a parallel light beam.
A polarizing beam splitter (hereinafter, referred to as PBS) 103 for reflecting light 1 toward the optical axis 102;
A quarter-wave plate 105, a plane plate 106, and an aperture 10 arranged between the lens 3 and the lens 104 to be inspected in the order from the one closer to the PBS 103 so as to be orthogonal to the optical axis 102.
7 and a correction plate 10 sequentially disposed behind the lens to be tested 104 (forward direction when focusing on the traveling direction of the laser beam).
8 and the concave reflecting mirror 109, and 1 /
A screen 111 and an image pickup device 112 using, for example, a CCD (charge-coupled device) are sequentially provided on the opposite side to the four-wavelength plate 105.

【0004】レーザ光101は直線偏光であり、PBS
103の偏光反射面103aにおいて100%の光が往
路方向に反射されるようになっている。1/4波長板1
05は、それを通過する光に対し、直交する2つの偏光
成分について90度の位相差を与えることにより、直線
偏光を円偏光にあるいは円偏光を直線偏光に変換するも
のである。平面プレート106は、1/4波長板105
と対向する面106aに反射防止処理が施され、被検レ
ンズ104と対向する面106bが4%程度の反射率を
有する高精度の平行平板であり、このうち、面106b
で内面反射して復路方向に向かう光が、干渉を生じさせ
る基準平面波としての参照波R1 となる。この平面プレ
ート106は、図示しないピエゾ素子等により、光軸1
02の方向にλ/4(光の波長の1/4)ずつ4段階の
移動が可能となっている。アパーチャ107は、被検レ
ンズ104に入射する光束を制限するための絞りであ
る。
The laser light 101 is linearly polarized light,
100% of the light is reflected on the polarization reflection surface 103a in the forward direction 103. 1/4 wavelength plate 1
Numeral 05 is for converting linearly polarized light into circularly polarized light or circularly polarized light into linearly polarized light by giving a 90-degree phase difference between two orthogonal polarization components to light passing therethrough. The flat plate 106 is a quarter-wave plate 105
The surface 106a opposed to the lens 106a is subjected to anti-reflection processing, and the surface 106b opposed to the test lens 104 is a high-precision parallel flat plate having a reflectance of about 4%.
The light that is internally reflected by the light source and travels in the backward direction becomes a reference wave R 1 as a reference plane wave that causes interference. The flat plate 106 is formed on the optical axis 1 by a piezo element (not shown) or the like.
It is possible to move in four steps in the direction of 02 by λ / 4 (1 / of the wavelength of light). The aperture 107 is a stop for restricting a light beam incident on the test lens 104.

【0005】被検レンズ104は、光ディスク装置にお
ける光ピックアップ用の対物レンズ等であり、高いNA
を有している。補正板108は、被検レンズ104がカ
バーガラスと組み合せて使用することを前提とするもの
である場合において、カバーガラスを通過する際に生ず
る光路差と等価な光路差を生じさせるためのものであ
る。例えば、被検レンズ104が上記の光ピックアップ
用の対物レンズの場合には、光ディスクの透明基板部分
がカバーガラスに相当する。
The test lens 104 is an objective lens or the like for an optical pickup in an optical disk device, and has a high NA.
have. The correction plate 108 is for generating an optical path difference equivalent to an optical path difference generated when the test lens 104 is used in combination with a cover glass when the test lens 104 passes through the cover glass. is there. For example, when the test lens 104 is the above-described objective lens for an optical pickup, the transparent substrate portion of the optical disk corresponds to a cover glass.

【0006】凹面反射ミラー109は、被検レンズ10
4によって一点に絞られたのち球面波状に広がった波面
をそのまま逆方向(復路方向)に反射するための高精度
の凹球面109aを備えている。この凹面反射ミラー1
09は、その凹球面109aの曲率中心110が被検レ
ンズ104の焦点位置と一致するように配置されてい
る。なお、凹球面109aの反射率は、そこで反射され
たのち補正板108、被検レンズ104および平面プレ
ート106を透過して戻ってきた被検波R2 の強度が参
照波R1 の強度と略等しくなるように設定されている。
[0006] The concave reflecting mirror 109 is used to
4 is provided with a high-precision concave spherical surface 109a for reflecting the wavefront which has been narrowed down to one point and then spread in a spherical wave shape in the reverse direction (return direction). This concave reflection mirror 1
Reference numeral 09 denotes an arrangement in which the center of curvature 110 of the concave spherical surface 109a matches the focal position of the lens 104 to be measured. Incidentally, the reflectance of the concave spherical surface 109a is where correction plate 108 after being reflected, substantially equal to the strength of the lens 104 and the plane plate 106 to be detected R 2 of intensity reference wave R 1 returned after passing through the It is set to be.

【0007】スクリーン111は、平面プレート106
の面106bで反射された参照波R1 と、凹面反射ミラ
ー109の凹球面109aで反射されたのち被検レンズ
104によって再び平面波状(平行光)に変換された被
検波R2 との干渉模様を視覚的に認識できるように映し
出すためのものである。スクリーン111上に映し出さ
れた干渉模様は撮像装置112によって撮像され、図示
しない信号処理回路によって処理されるようになってい
る。
The screen 111 includes a flat plate 106.
Interference pattern between the reference wave R 1 is reflected by the surface 106b, and the detection R 2 which is again converted into a plane wave (collimated light) by subject lens 104 after being reflected by the concave spherical surface 109a of the concave reflecting mirror 109 Is to be projected so as to be visually recognizable. The interference pattern projected on the screen 111 is imaged by the imaging device 112 and processed by a signal processing circuit (not shown).

【0008】次に、このような従来の評価システムの作
用を簡単に説明する。直線偏光であるレーザ光101は
PBS103の偏光反射面103aで略100%反射し
て光軸102に沿って往路方向に進み、1/4波長板1
05を透過して円偏光となる。1/4波長板105を透
過した光の一部は平面プレート106の面106aで反
射されて参照波R1 となる。この参照波R1 は、さらに
1/4波長板105を復路方向に透過して、元の直線偏
光の偏光方向と直交する偏光方向を有する直線偏光とな
る。このため、参照波R1 はPBS103を略100%
透過してスクリーン111上に到達する。
Next, the operation of such a conventional evaluation system will be briefly described. The laser light 101, which is linearly polarized light, is reflected by the polarization reflection surface 103a of the PBS 103 at approximately 100%, travels in the forward direction along the optical axis 102, and
05 and becomes circularly polarized light. Part of the light transmitted through the wavelength plate 105 is reflected by the surface 106 a of the flat plate 106 and becomes a reference wave R 1 . The reference wave R 1 further passes through the quarter-wave plate 105 in the backward direction, and becomes linearly polarized light having a polarization direction orthogonal to the polarization direction of the original linearly polarized light. Therefore, reference wave R 1 is substantially 100% PBS103
The light penetrates and reaches the screen 111.

【0009】一方、1/4波長板105を透過して円偏
光となり、さらに平面プレート106をも透過した平行
光T1 は、被検レンズ104によって絞られ、補正板1
08の後方に焦点を結んだ後、再び球面波状に広がって
凹面反射ミラー109に入射する。凹面反射ミラー10
9は、入射してきた球面波状の光波をその入射方向の反
対方向に反射する。この結果、入射光は元の光路を通っ
て被検レンズ104により再び平行平面波となり、平面
プレート106および1/4波長板105を順に透過す
る。このとき、1/4波長板105を透過することによ
り円偏光は、元の直線偏光の方向と直交する方向に偏光
する直線偏光となるので、PBS103を略100%透
過してスクリーン111上に到達する。
On the other hand, the parallel light T 1 transmitted through the quarter-wave plate 105 to become circularly polarized light, and further transmitted through the plane plate 106 is stopped down by the lens 104 to be inspected, and
After the focal point is formed behind 08, the light spreads again in a spherical wave shape and enters the concave reflecting mirror 109. Concave reflection mirror 10
Numeral 9 reflects the incoming spherical light wave in the direction opposite to the incident direction. As a result, the incident light passes through the original optical path, becomes a parallel plane wave again by the test lens 104, and sequentially transmits through the plane plate 106 and the 波長 wavelength plate 105. At this time, since the circularly polarized light becomes a linearly polarized light that is polarized in a direction orthogonal to the direction of the original linearly polarized light by passing through the 波長 wavelength plate 105, it passes through the PBS 103 approximately 100% and reaches the screen 111. I do.

【0010】この結果、スクリーン111上には、参照
波R1 と被検波R2 との干渉により生じた干渉縞(明暗
模様)が映し出され、この干渉縞が撮像装置112によ
って撮像される。そして、平面プレート106をλ/4
ずつ光軸方向に4段階に移動させてスクリーン111に
映し出される干渉の明暗を変化させ、この明暗の変化を
図示しない信号処理回路によって処理することによって
フリンジスキャン法による性能評価を行う。
As a result, interference fringes (bright and dark patterns) caused by interference between the reference wave R 1 and the test wave R 2 are projected on the screen 111, and the interference fringes are imaged by the imaging device 112. Then, the flat plate 106 is set to λ / 4
The light beam is moved in four steps in the optical axis direction to change the intensity of the interference projected on the screen 111, and the change in the intensity is processed by a signal processing circuit (not shown) to evaluate the performance by the fringe scan method.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】このように、従来の干
渉計では、被検レンズ104によって絞られたのち球面
波状に拡がった波面を逆向きに反射する球面波反射手段
として、球面精度の高い凹面反射ミラー109を用いて
いた。しかしながら、近年の光ディスク分野において
は、高密度化を実現するために高NAの光ピックアップ
用の対物レンズが試作されつつあり、今後益々、高NA
レンズの評価が必要となる可能性がある。このような高
NAレンズの場合には開口角θ(図9)が大きいことか
ら、凹面反射ミラー109の凹球面109aのうち実際
に反射に供する面積も大きくなる。したがって、高精度
な凹球面が広範囲に要求されることとなるが、このよう
な球面ミラーを製作することは実際上極めて困難であ
り、その製作コストも非常に高価となるのが実情であ
る。
As described above, in the conventional interferometer, the spherical wave reflecting means for reflecting the wavefront which is narrowed down by the lens 104 to be inspected and then spread in a spherical wave shape in the opposite direction has a high spherical precision. The concave reflection mirror 109 was used. However, in the field of optical discs in recent years, an objective lens for an optical pickup having a high NA is being trial-produced in order to realize a higher density.
Lens evaluation may be required. In the case of such a high NA lens, since the aperture angle θ (FIG. 9) is large, the area of the concave spherical surface 109a of the concave reflecting mirror 109 that is actually used for reflection is also large. Therefore, a high-precision concave spherical surface is required in a wide range. However, it is actually extremely difficult to manufacture such a spherical mirror, and the manufacturing cost is extremely high.

【0012】また、凹面反射ミラー109は重量および
サイズが大きく、また、中心部が薄い形状を有している
ため、たとえ凹球面109aを理想的球面形状に製作で
きたとしても、自重、温度あるいは干渉計に組み込む際
の固定治具等により歪みが生じやすく、取り扱いが容易
でない。
Further, since the concave reflecting mirror 109 is large in weight and size, and has a thin central portion, even if the concave spherical surface 109a can be manufactured to have an ideal spherical shape, its own weight, temperature, or Distortion is likely to occur due to a fixing jig or the like when incorporated in the interferometer, and handling is not easy.

【0013】さらに、上記したように、カバーガラスと
組み合せて使用することを前提とした被検レンズを評価
する場合にはカバーガラスに相当する補正板108が必
要となるが、この補正板108が薄い場合には製作が困
難であると共に、強度が小さいことから容易に変形し、
取り扱いに問題がある。特に、被検レンズ104が光ピ
ックアップ用の対物レンズの場合、その高NA化を進め
るためには、光ディスク基板のスキューにより発生する
コマ収差に対する対策が必要となるが、このコマ収差は
NAの3乗に比例し、ディスク基板の厚さに反比例する
ことから、ディスク基板を薄くする必要があり、その結
果、干渉計に使用する補正板108の厚さが非常に薄く
なる傾向にある。そして、薄い補正板は強度が小さく容
易に歪んだり変形することから、その製作および取り扱
いの困難さは益々増大することが予想される。
Further, as described above, when evaluating a test lens which is assumed to be used in combination with a cover glass, a correction plate 108 corresponding to the cover glass is required. If it is thin, it is difficult to manufacture, and it is easily deformed due to its low strength.
There is a problem with handling. In particular, when the test lens 104 is an objective lens for an optical pickup, in order to increase the NA, it is necessary to take measures against coma caused by skew of the optical disk substrate. Since it is proportional to the power and inversely proportional to the thickness of the disk substrate, it is necessary to make the disk substrate thinner. As a result, the thickness of the correction plate 108 used for the interferometer tends to be very thin. Since the thin correction plate has low strength and is easily distorted or deformed, it is expected that manufacturing and handling of the correction plate will become more difficult.

【0014】本発明はかかる問題点を解決するためにな
されたもので、その課題は、高NAレンズの性能評価を
高精度で行うことができると共に、製作および取り扱い
が容易な干渉計を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve such a problem, and an object of the present invention is to provide an interferometer which can evaluate the performance of a high NA lens with high accuracy and is easy to manufacture and handle. It is in.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】本発明の干渉計は、被検
レンズ通過後の球面波状の光波を球面波状を保ったまま
反射する反射手段と、反射手段での反射後、入射光路を
逆進して再び被検レンズを通過して得られる被検波面と
干渉させるための基準の参照波面を生成する参照波面生
成手段とを備え、被検波面と参照波面との干渉を利用し
て被検レンズの光学特性を評価するための干渉計であっ
て、反射手段として、少なくとも凸球面を有する光学レ
ンズを用いて構成したものである。反射手段としては、
例えば、凸球面および平面からなる光学レンズを用い、
この光学レンズの平面側を被検レンズに対向させて被検
レンズの光軸と略垂直に配置する。そして、被検レンズ
通過後の光波を光学レンズの平面側に入射させて、光学
レンズの凸球面の曲率中心を中心とする球面波状の波面
に転換すると共に、この球面波状の波面を光学レンズの
凸球面の内面で反射させて入射光路を逆進させることに
より被検波面を得るようにする。光学レンズとして半球
体を用いる場合には、その曲率中心が被検レンズの焦点
位置と一致するように配置する。また、被検レンズが、
その収束光路上に他の媒質体を配置した状態で使用され
るものである場合においては、光学レンズは、媒質体と
光学的に等価な厚さだけ半球体よりも厚く形成し、被検
レンズ通過後の光波が凸球面の曲率中心で焦点を結ぶよ
うに配置する。さらに、光学レンズの凸球面側を被検レ
ンズに対向させて配置し、被検レンズ通過後の光波を光
学レンズの凸球面で反射させて入射光路を逆進させるこ
とにより被検波面を得るようにすることも可能である
The interferometer of the present invention comprises a reflecting means for reflecting a spherical wave light wave after passing through a lens to be inspected while maintaining the spherical wave shape, and an incident light path after reflection by the reflecting means. And a reference wavefront generating means for generating a reference wavefront as a reference for causing interference with a test wavefront obtained by passing through the test lens again. The interference between the test wavefront and the reference wavefront is provided. An interferometer for evaluating the optical characteristics of an inspection lens, which is configured using an optical lens having at least a convex spherical surface as a reflection unit. As reflection means,
For example, using an optical lens composed of a convex spherical surface and a plane,
The plane side of the optical lens is arranged to be substantially perpendicular to the optical axis of the lens to be measured, facing the lens to be measured. Then, the light wave after passing through the lens to be measured is made incident on the plane side of the optical lens to be converted into a spherical wavefront centered on the center of curvature of the convex spherical surface of the optical lens, and this spherical wavefront is converted into an optical lens. The wavefront to be detected is obtained by reversing the incident optical path by reflecting the light on the inner surface of the convex spherical surface. When a hemisphere is used as the optical lens, the optical lens is arranged such that the center of curvature coincides with the focal position of the lens to be measured. Also, the test lens is
In the case where the optical lens is used in a state where another medium is arranged on the convergent light path, the optical lens is formed to be thicker than the hemisphere by a thickness optically equivalent to the medium, and the lens to be measured is formed. The light waves after passing are arranged so as to be focused at the center of curvature of the convex spherical surface. Further, the convex spherical surface side of the optical lens is arranged to face the test lens, and the light wave after passing through the test lens is reflected by the convex spherical surface of the optical lens to reverse the incident optical path so as to obtain the test wave surface. It is also possible to

【0016】本発明の干渉計では、被検レンズ通過後の
光波は、少なくとも凸球面を有する光学レンズによって
その波面形状を保ったまま反射され、その後、入射光路
を逆進して再び被検レンズを通過して被検波面となる。
この被検波面は、参照波面生成手段によって生成された
基準の参照波面と干渉して干渉縞を形成する。
In the interferometer of the present invention, the light wave after passing through the lens to be inspected is reflected by at least the optical lens having a convex spherical surface while maintaining its wavefront shape, and then travels backward in the incident optical path and is again returned to the lens to be inspected. , And becomes a test wavefront.
The test wavefront interferes with the reference wavefront generated by the reference wavefront generator to form an interference fringe.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して詳細に説明する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.

【0018】図1は本発明の一実施の形態に係るフィゾ
ー干渉計を用いた光学レンズ評価システムの概略構成を
表すもので、このシステムは、フリンジスキャン法を用
いて評価を行うものである。この干渉計は、平行光束で
あるレーザ光11を反射して光軸12の方向に向けるP
BS13と、PBS13と被検レンズ14との間に光軸
12と直交するようにPBS13に近い方から順に配設
された1/4波長板15、平面プレート16およびアパ
ーチャ17と、被検レンズ14の後方(レーザビームの
進行方向に着目すると往路方向)に配設された半球状レ
ンズ19と、PBS13の1/4波長板15とは反対側
に順に配設されたスクリーン21および例えばCCDを
用いた撮像装置22とを備えている。ここで、半球状レ
ンズ19は本発明における反射手段に対応し、平面プレ
ート16は本発明における参照波面生成手段に対応す
る。
FIG. 1 shows a schematic configuration of an optical lens evaluation system using a Fizeau interferometer according to an embodiment of the present invention. This system performs evaluation using a fringe scan method. This interferometer reflects a laser beam 11 that is a parallel light beam and directs the laser beam 11 in the direction of an optical axis 12.
A quarter wavelength plate 15, a plane plate 16 and an aperture 17, which are arranged between the BS 13 and the PBS 13 and the lens 14 in order from the one closer to the PBS 13 so as to be orthogonal to the optical axis 12; (A forward direction when focusing on the traveling direction of the laser beam), and a screen 21 and a CCD, for example, which are sequentially arranged on the opposite side to the quarter wavelength plate 15 of the PBS 13. And an imaging device 22. Here, the hemispherical lens 19 corresponds to the reflecting means in the present invention, and the flat plate 16 corresponds to the reference wavefront generating means in the present invention.

【0019】レーザ光11は直線偏光であり、PBS1
3の偏光反射面13aにおいて100%の光が往路方向
に反射されるようになっている。1/4波長板15は、
それを通過する光に対し、直交する2つの偏光成分につ
いて90度の位相差を与えることにより、直線偏光を円
偏光にあるいは円偏光を直線偏光に変換するものであ
る。平面プレート16は、1/4波長板15と対向する
面16aに反射防止処理が施され、被検レンズ14と対
向する平面16bが4%程度の反射率を有する高精度の
平行平板であり、このうち平面16bで内面反射して復
路方向に向かう光が、干渉を生じさせる基準平面波とし
ての参照波R1 となる。この平面プレート16は、図示
しないピエゾ素子等により、光軸12の方向にλ/4ず
つ4段階の移動が可能となっている。アパーチャ17
は、被検レンズ14に入射する光束を制限するための絞
りである。被検レンズ14は、例えば光ディスク装置に
おける光ピックアップ用の対物レンズ等であり、高いN
Aを有している。
The laser light 11 is linearly polarized light,
The third polarized light reflecting surface 13a reflects 100% of the light in the forward direction. The quarter-wave plate 15 is
By giving a 90-degree phase difference between two orthogonally polarized light components to light passing therethrough, linearly polarized light is converted into circularly polarized light or circularly polarized light is converted into linearly polarized light. The flat plate 16 is a high-precision parallel flat plate having a surface 16a facing the quarter-wave plate 15 subjected to antireflection treatment, and a flat surface 16b facing the test lens 14 having a reflectance of about 4%. light directed toward the backward direction by internal reflection at these planes 16b becomes the reference wave R 1 as a reference plane wave causing interference. The flat plate 16 can be moved in four steps in the direction of the optical axis 12 by λ / 4 by a piezo element or the like (not shown). Aperture 17
Is a stop for restricting a light beam incident on the test lens 14. The test lens 14 is, for example, an objective lens for an optical pickup in an optical disk device, and has a high N
A.

【0020】半球状レンズ19は、凸球面19aと平面
19bとを有し、このうち平面19bの側を被検レンズ
14に対向させ、光軸12と直交するように配置されて
いる。凸球面19aの曲率中心19c(図2)は光軸1
2上に配置されている。被検レンズ14によって絞られ
た光は平面19bに入射するようになっている。図2に
拡大して示したように、半球状レンズ19は半球体より
もdだけ厚く形成されており、その光軸方向の配置位置
は、平面19bから入射した球面状の光波が凸球面19
aの曲率中心19cにおいて1点に集光するように微調
整されている。曲率中心19cで1点に集まった光は、
さらに球面波状に広がり、凸球面19aの内面におい
て、波面形状を保ったまま正反射をし、復路方向に逆進
するようになっている。ここで、半球状レンズ19にお
ける厚さdの部分は、被検レンズ14がカバーガラス
(光ピックアップ用の対物レンズの場合には、光ディス
クの透明基板部分)と組み合せて使用することを前提と
するものである場合において、カバーガラスを通過する
際に生ずる光路差と等価な光路差を生じさせるために付
加された部分であり、従来の補正板108(図9)の代
わりを務めるものである。なお、凸球面19aの反射率
は、そこで反射され被検レンズ14および平面プレート
16を透過して戻ってきた被検波R2 の強度が参照波R
1 の強度と略等しくなるように設定されている。
The hemispherical lens 19 has a convex spherical surface 19a and a plane 19b, of which the plane 19b is opposed to the lens 14 to be measured, and is arranged so as to be orthogonal to the optical axis 12. The center of curvature 19c (FIG. 2) of the convex spherical surface 19a is the optical axis 1
2 are arranged. The light converged by the test lens 14 is incident on the plane 19b. 2, the hemispherical lens 19 is formed to be thicker than the hemisphere by d, and the arrangement position in the optical axis direction is such that the spherical light wave incident from the plane 19b is a convex spherical surface 19b.
Fine adjustment is made so that light is condensed at one point at the center of curvature 19c of a. The light gathered at one point at the center of curvature 19c is
Further, it spreads in a spherical wave shape, and at the inner surface of the convex spherical surface 19a, regular reflection is performed while maintaining the wavefront shape, and the light travels backward in the backward direction. Here, the thickness d portion of the hemispherical lens 19 is based on the assumption that the test lens 14 is used in combination with a cover glass (in the case of an objective lens for an optical pickup, a transparent substrate portion of an optical disk). In this case, the portion is added to generate an optical path difference equivalent to the optical path difference generated when the light passes through the cover glass, and serves as a substitute for the conventional correction plate 108 (FIG. 9). Incidentally, the reflectance of the convex spherical surface 19a is where the reflected subject lens 14 and the detection intensity of R 2 is the reference wave R that the planar plate 16 has returned to transmission
It is set to be approximately equal to the intensity of 1 .

【0021】被検レンズ14は、2枚のレンズ14a、
14bから構成された高NAレンズであり、理想的に
は、平面波を完全な球面波に変換するようになってい
る。なお、被検レンズ14は、単一レンズ構成、あるい
は2群以上のレンズ群で構成されるものであっても差し
支えない。スクリーン21は、平面プレート16の平面
16bで内面反射された参照波R1 と、半球状レンズ1
9の凸球面19aで反射されたのち被検レンズ14によ
って再び平面波状(平行光)に変換された被検波R2
の干渉模様を視覚的に認識できるように映し出すための
ものである。スクリーン21上に映し出された干渉模様
は、撮像装置22によって撮像され、図示しないマイク
ロコンピュータによって処理されるようになっている。
The test lens 14 has two lenses 14a,
14b, which is a high NA lens, and ideally converts a plane wave into a perfect spherical wave. The test lens 14 may have a single lens configuration or a configuration including two or more lens groups. The screen 21 includes the reference wave R 1 internally reflected by the plane 16 b of the plane plate 16 and the hemispherical lens 1.
The interference pattern with the test wave R 2 , which is reflected by the convex lens 19 a and converted into a plane wave (parallel light) by the test lens 14 again after being reflected by the test lens 14, is projected so as to be visually recognized. The interference pattern projected on the screen 21 is imaged by the imaging device 22 and processed by a microcomputer (not shown).

【0022】次に、このようなレンズ評価システムの作
用を説明する。直線偏光であるレーザ光11はPBS1
3の偏光反射面13aで略100%反射して光軸12に
沿って往路方向に進み、1/4波長板15を透過して円
偏光となる。1/4波長板15を透過した光の一部は平
面プレート16の面16aで反射されて参照波R1 とな
り、さらに1/4波長板15を復路方向に透過して、元
の直線偏光の偏光方向と直交する偏光方向を有する直線
偏光となる。このため、参照波R1 はPBS13を略1
00%透過してスクリーン21上に到達する。
Next, the operation of such a lens evaluation system will be described. Laser light 11 which is linearly polarized light is PBS1
The third polarized light reflecting surface 13a reflects approximately 100%, travels in the forward direction along the optical axis 12, and passes through the quarter-wave plate 15 to become circularly polarized light. Part of the light transmitted through the quarter-wave plate 15 becomes the reference wave R 1 is reflected by the surface 16a of the flat plate 16, and further transmitted through the quarter wavelength plate 15 in the backward direction, the original linearly polarized light It becomes linearly polarized light having a polarization direction orthogonal to the polarization direction. For this reason, the reference wave R 1 is approximately 1
The light reaches the screen 21 by transmitting 00%.

【0023】一方、1/4波長板15を透過して円偏光
となり、さらに平面プレート16をも透過した平行光T
1 は、被検レンズ14によって集光され、焦点を結ぶ前
に半球状レンズ19の平面19bに入射する。この半球
状レンズ19中に入射した光は、平面19bで屈折して
曲率中心19cを中心とする球面波状の波面となり、厚
さdを進んだ後に曲率中心19cで焦点を結んだ後、さ
らにPを中心とする球面波状の波面に広がりながら半球
状レンズ19内を進み、凸球面19aに達する。凸球面
19aのうち、反射に供する範囲Sは高精度の球面とし
て形成されているため、入射光波はそこで正反射(垂直
反射)を受け、入射波面をそのまま保って入射方向にそ
のまま逆進する。この結果、元の光路を通って被検レン
ズ14により再び平行平面波となり、平面プレート16
および1/4波長板15を順に透過する。このとき、1
/4波長板15を透過することにより円偏光は、元の直
線偏光の方向と直交する方向に偏光する直線偏光となる
ので、PBS13を略100%透過してスクリーン21
上に到達する。
On the other hand, the parallel light T transmitted through the quarter-wave plate 15 to become circularly polarized light and further transmitted through the flat plate 16
1 is condensed by the test lens 14 and enters the plane 19b of the hemispherical lens 19 before focusing. The light incident on the hemispherical lens 19 is refracted on the plane 19b to form a spherical wavefront centered on the center of curvature 19c. After traveling through the thickness d, the light is focused on the center of curvature 19c, and further focused on P. The light travels through the hemispherical lens 19 while spreading on a spherical wavefront centered at the center, and reaches a convex spherical surface 19a. In the convex spherical surface 19a, the range S provided for reflection is formed as a high-precision spherical surface, so that the incident light wave receives specular reflection (vertical reflection) there, and keeps the incident wavefront as it is and moves backward in the incident direction. As a result, a parallel plane wave is formed again by the test lens 14 through the original optical path, and the plane plate 16
And 1 / wavelength plate 15 in order. At this time, 1
Since the circularly polarized light becomes a linearly polarized light that is polarized in a direction orthogonal to the direction of the original linearly polarized light by transmitting through the 波長 wavelength plate 15, the screen 21 is transmitted by almost 100% through the PBS 13.
Reach the top.

【0024】この結果、スクリーン21上には、参照波
1 と被検波R2 との干渉による明暗模様が映し出さ
れ、これが撮像装置22によって撮像される。ここで、
平面プレート16は高精度の平行平面板であることか
ら、参照波R1 は略完全な(歪みのない)平面波形状を
有する。したがって、仮に被検レンズ14が理想的な光
学性能を備えていたとすると、被検波R2 もまた略完全
な平面波形状を有することとなり、スクリーン21上の
明度分布は略均一(全面が略同一の明度)となる。この
状態で、半球状レンズ19の凸球面19aの曲率中心1
9cを光軸12上から僅かにずらした場合には、スクリ
ーン21上には略直線状の明暗の干渉縞が映し出され
る。図3は、そのような干渉縞の例を表すものである。
この例はNAが0.8の被検レンズについての干渉縞
で、その波面収差をrms(2乗平均ルート)で表すと
0.028λという値になり、良好な光学性能を有して
いることが判る。
As a result, a light and dark pattern due to the interference between the reference wave R 1 and the test wave R 2 appears on the screen 21, and this is picked up by the image pickup device 22. here,
Since the plane plate 16 is a high-precision parallel plane plate, the reference wave R 1 has a substantially perfect (no distortion) plane wave shape. Therefore, assuming that the test lens 14 has ideal optical performance, the test wave R 2 also has a substantially perfect plane wave shape, and the brightness distribution on the screen 21 is substantially uniform (the entire surface is substantially the same). Lightness). In this state, the center of curvature 1 of the convex spherical surface 19a of the hemispherical lens 19 is
When 9c is slightly shifted from the optical axis 12, a substantially linear bright and dark interference fringe is projected on the screen 21. FIG. 3 shows an example of such an interference fringe.
In this example, the interference fringe of the lens to be inspected having an NA of 0.8 is 0.028λ when its wavefront aberration is represented by rms (root mean square), and it has good optical performance. I understand.

【0025】このようにして、半球状レンズ19の凸球
面19aの曲率中心19cを光軸12上から僅かにずら
してスクリーン21上に干渉縞を映し出し、その干渉縞
の曲がり具合を調べるという目視による性能判定が可能
であるが、この判定をより精度良く行うため、本システ
ムではフリンジスキャン法による性能評価を行う。この
フリンジスキャン法は、平面プレート16をλ/4ずつ
光軸方向に4段階に移動させてスクリーン21に映し出
される干渉模様(明暗模様)を変化させ、この明暗の変
化を撮像装置22によって撮像して、被検波R2 の波面
状態を定量的に判定するというもので、より詳細には次
のような内容の測定法である。
In this way, the center of curvature 19c of the convex spherical surface 19a of the hemispherical lens 19 is slightly displaced from the optical axis 12 to project interference fringes on the screen 21, and the degree of bending of the interference fringes is visually checked. Although performance judgment is possible, in order to make this judgment with higher accuracy, the present system performs performance evaluation by the fringe scan method. In this fringe scanning method, the plane plate 16 is moved in four steps in the optical axis direction by λ / 4 to change the interference pattern (light and dark pattern) projected on the screen 21. Te, those that determine the wavefront state of the detection R 2 quantitatively, the more measurement of the following contents in detail.

【0026】フリンジスキャン法について簡単に説明す
る。今、被検波R2 の波面形状をh(x,y)とし、変
化させる光路長をlとすると、スクリーン21上に現
れ、撮像装置22によって取り込まれる干渉縞の強度分
布I(x,y,l)は次の(1)式で表される。
The fringe scanning method will be briefly described. Now, assuming that the wavefront shape of the test wave R 2 is h (x, y) and the optical path length to be changed is l, the intensity distribution I (x, y, I) of the interference fringes that appears on the screen 21 and is captured by the imaging device 22. l) is represented by the following equation (1).

【0027】 I(x,y,l)=a(x,y)+b(x,y)cos{2π/λ[h(x, y)−l]} ……(1)I (x, y, l) = a (x, y) + b (x, y) cos {2π / λ [h (x, y) −1]} (1)

【0028】ここで、a(x,y)は干渉縞強度分布の
バイアス成分、b(x,y)は干渉縞のコントラスト変
化を表す項である。この(1)式は変数lに関して周期
関数になっているので、lに対してフーリエ変換を行
い、その結果から、フーリエ級数の1次の項に対応した
実部と虚部とを取り出し、これを変形すると、次の
(2)式が得られる。
Here, a (x, y) is a bias component of the interference fringe intensity distribution, and b (x, y) is a term representing a change in contrast of the interference fringe. Since the equation (1) is a periodic function with respect to the variable l, Fourier transform is performed on l, and a real part and an imaginary part corresponding to the first-order term of the Fourier series are extracted from the result. Is transformed, the following equation (2) is obtained.

【0029】 h(x,y)=(λ/2π)・tan-1{ΣI(x,y,ln )sin(2π n/N)/ΣI(x,y,ln )cos(2πn/N)} ……(2)[0029] h (x, y) = ( λ / 2π) · tan -1 {ΣI (x, y, l n) sin (2π n / N) / ΣI (x, y, l n) cos (2πn / N)} …… (2)

【0030】ここで、ln =n/N(n=0,1,2,
……,N−1)であり、Σはn=0からn=N−1まで
の総和を表す。
Here, l n = n / N (n = 0, 1, 2, 2, 3)
.., N-1), and Σ represents the sum from n = 0 to n = N-1.

【0031】ここで、N=4とすると、(2)式から次
の(3)式が得られる。
Here, if N = 4, the following equation (3) is obtained from the equation (2).

【0032】 h(x,y)=(λ/2π)・tan-1{(I1 −I3 )/(I0 −I2 )} ……(3)H (x, y) = (λ / 2π) · tan −1 {(I 1 −I 3 ) / (I 0 −I 2 )} (3)

【0033】ここで、I0 〜I3 はそれぞれI(x,
y,l0 )〜I(x,y,l3 )を意味し、平面プレー
ト16をそれぞれ0,λ/4,λ/2,3λ/4だけ移
動させたときの各段階において撮像装置22により得ら
れた干渉縞強度分布を表す。
Here, I 0 to I 3 are I (x,
y, l 0 ) to I (x, y, l 3 ), which are determined by the imaging device 22 at each stage when the plane plate 16 is moved by 0, λ / 4, λ / 2, 3λ / 4, respectively. 4 shows the obtained interference fringe intensity distribution.

【0034】この(3)式から、被検波R2 の波面形状
h(x,y)が得られ、そして、被検波R2 の各(x,
y)位置におけるh(x,y)の2乗の平均の平方根を
とることで球面収差のrmsに対応する値が得られる。
[0034] From this equation (3), the wavefront shape h (x, y) of the detection R 2 is obtained, and each of the detection R 2 (x,
By taking the square root of the average of the square of h (x, y) at the position y), a value corresponding to the rms of the spherical aberration is obtained.

【0035】次に、図4および図5を参照して、本実施
の形態の特徴である半球状レンズ19の球面精度につい
て説明する。
Next, the spherical accuracy of the hemispherical lens 19, which is a feature of the present embodiment, will be described with reference to FIGS.

【0036】図4は、半球状レンズ19を製作する際の
元となる球面レンズの球面精度を測定する干渉計システ
ムの概略構成を表すものである。この図において、図1
と同一構成要素には同一符号を付すものとする。このシ
ステムでは、図1における被検レンズ14に代えて無限
系のヌルレンズ25を配置すると共に、半球状レンズ1
9に代えてこの半球状レンズ19の元となる球面レンズ
19′を配置している。ここで、ヌルレンズ25は、無
限光(平行光)を理想的な収束球面波に変換して光軸上
の一点に焦点を結ばせるために製作された特殊レンズで
ある。球面レンズ19′は、その曲率中心19cがヌル
レンズ25の焦点位置と一致するように配置されてい
る。その他の構成は図1と同様である。
FIG. 4 shows a schematic configuration of an interferometer system for measuring the spherical accuracy of a spherical lens from which the hemispherical lens 19 is manufactured. In this figure, FIG.
The same components as those described above are denoted by the same reference numerals. In this system, an infinite null lens 25 is arranged in place of the test lens 14 in FIG.
9 is replaced by a spherical lens 19 ′ serving as a base of the hemispherical lens 19. Here, the null lens 25 is a special lens manufactured to convert infinite light (parallel light) into an ideal convergent spherical wave and focus on one point on the optical axis. The spherical lens 19 ′ is arranged such that the center of curvature 19 c coincides with the focal position of the null lens 25. Other configurations are the same as those in FIG.

【0037】この干渉計システムでは、ヌルレンズ25
によって作られた理想的な収束球面波が被検対象の球面
レンズ19′に入射して正反射(垂直反射)し、元の光
路を逆進して再びヌルレンズ25を通過して被検波R2
となり、この被検波R2 が、平面プレート16の平面1
6bで反射した参照波R1 と干渉してスクリーン21状
に干渉縞を形成する。したがって、この干渉縞を解析す
ることにより、球面レンズ19′の球面精度を計測する
ことができる。
In this interferometer system, the null lens 25
The ideal convergent spherical wave produced by the above is incident on the spherical lens 19 'to be inspected, and is specularly reflected (perpendicularly reflected), reverses the original optical path, passes through the null lens 25 again, and is subjected to the test wave R 2.
This test wave R 2 is the plane 1 of the plane plate 16.
Interferes with the reference wave R 1 reflected by 6b forming interference fringes on a screen 21 shape. Therefore, by analyzing this interference fringe, the spherical accuracy of the spherical lens 19 'can be measured.

【0038】図5は、図4の干渉計システムによって得
られた球面レンズ19′の球面精度の測定例を表すもの
である。但し、この図は、目視確認に便利なように、図
4における球面レンズ19′の曲率中心19cを光軸上
から僅かにずらして配置したときの状態を表している。
この図は、球面レンズ19′の凸球面19aのうちNA
が0.8に相当する領域について得られた干渉縞であ
り、各干渉縞が略直線状となっている。その波面収差を
rmsで表すと0.008λという値になり、極めて高
精度の球面(理想的球面)に形成されていることが判
る。
FIG. 5 shows an example of measuring the spherical accuracy of the spherical lens 19 'obtained by the interferometer system of FIG. However, this figure shows a state where the center of curvature 19c of the spherical lens 19 'in FIG. 4 is slightly displaced from the optical axis so as to be convenient for visual confirmation.
This figure shows the NA of the convex spherical surface 19a of the spherical lens 19 '.
Are interference fringes obtained for a region corresponding to 0.8, and each interference fringe is substantially linear. When the wavefront aberration is represented by rms, the value is 0.008λ, which indicates that the wavefront aberration is formed on a highly accurate spherical surface (ideal spherical surface).

【0039】このように、本実施の形態では、被検レン
ズ14を透過した球面波状の波面を正反射させて元の光
路に戻すための手段として半球状レンズ19を用いるよ
うにしたので、従来の凹面反射ミラーに比べて小さく軽
く製作できる。このため、自重、温度あるいは取付治具
等による歪みが少なく、取り扱いが容易で長期間安定し
た測定が可能である。また、半球状レンズ19は、市販
の安価な球面レンズをカットして平面部を鏡面研磨する
ことにより比較的容易に製作でき、しかも、その球面精
度も図5に示したように十分なものを得ることができ
る。したがって、高精度の球面波反射手段を従来の凹面
反射ミラーに比べて容易かつ安価に製作することがで
き、干渉計全体としてのコストを低減することができ
る。
As described above, in the present embodiment, the hemispherical lens 19 is used as a means for specularly reflecting the wavefront of the spherical wave transmitted through the lens 14 to be detected and returning the wavefront to the original optical path. It can be made smaller and lighter than the concave reflection mirror. For this reason, distortion due to its own weight, temperature, mounting jig and the like is small, handling is easy, and stable measurement can be performed for a long time. Further, the hemispherical lens 19 can be manufactured relatively easily by cutting a commercially available inexpensive spherical lens and polishing the flat portion to a mirror surface, and also has a sufficient spherical precision as shown in FIG. Obtainable. Therefore, a highly accurate spherical wave reflecting means can be manufactured more easily and at lower cost than a conventional concave reflecting mirror, and the cost of the entire interferometer can be reduced.

【0040】しかも、図2から明らかなように、半球状
レンズ19への入射前における光束の開口角θに比べる
と、半球状レンズ19内における光束の開口角θ′の方
が小さくなっていることから、凸球面19aのうちの反
射に供せられる範囲Sの面積が従来よりも小さくなる。
すなわち、高精度(理想的球面形状)を確保しなければ
ならない面積が小さくて済み、この点でも半球状レンズ
19の製作が容易となる。
Further, as is apparent from FIG. 2, the opening angle θ 'of the light beam in the hemispherical lens 19 is smaller than the opening angle θ of the light beam before entering the hemispherical lens 19. Therefore, the area of the range S of the convex spherical surface 19a that is provided for reflection is smaller than that of the related art.
That is, the area in which high precision (ideal spherical shape) must be ensured is small, and this also facilitates the manufacture of the hemispherical lens 19.

【0041】さらに、被検レンズ14がカバーガラス
(光ピックアップ用の対物レンズの場合には、光ディス
クの透明基板部分)と組み合せて使用することを前提と
するものである場合には、半球状レンズ19を完全な半
球体として形成するのではなく、半球体よりも、カバー
ガラスを通過する際に生ずる光路差を考慮して定まる値
dだけ厚く形成すれば、従来必要であった補正板108
(図9)が不要となる。このため、今後さらにカバーガ
ラス(光ディスクの透明基板部分)の薄型化が進んだ場
合にも、その厚さが極めて薄いがために製作および取り
扱いが困難な補正板を省略して、製作および取り扱いが
容易な半球状レンズ19の厚さを変えるだけで対応でき
る。
If the lens under test 14 is intended to be used in combination with a cover glass (in the case of an objective lens for an optical pickup, a transparent substrate portion of an optical disk), a hemispherical lens is used. If the correction plate 108 is not formed as a complete hemisphere but is formed to be thicker than the hemisphere by a value d determined in consideration of an optical path difference generated when passing through the cover glass, the correction plate 108 conventionally required
(FIG. 9) becomes unnecessary. For this reason, even if the cover glass (the transparent substrate portion of the optical disk) is further thinned in the future, the compensator which is difficult to manufacture and handle because the thickness is extremely thin is omitted, and the manufacture and handling are performed. This can be dealt with simply by changing the thickness of the hemispherical lens 19 easily.

【0042】次に、図1の半球状レンズ19の厚さ(言
い換えると、半球状レンズ19における半球体を超える
部分の厚さd)をどのようにして決定するかについて簡
単に説明する。
Next, how to determine the thickness of the hemispherical lens 19 in FIG. 1 (in other words, the thickness d of the hemispherical lens 19 beyond the hemisphere) will be briefly described.

【0043】上記したように、半球状レンズ19のうち
の厚さdの部分は、被検レンズ14がカバーガラス(光
ピックアップ用の対物レンズの場合には、光ディスクの
透明基板部分)と組み合せて使用することを前提とする
ものである場合において、カバーガラスを通過する際に
生ずる光路差と等価な光路差を生じさせるために付加さ
れた部分であり、従来の補正板108(図9)の代わり
を務めるものである。ここで、被検レンズ14は、カバ
ーガラス自身によって発生する球面収差を補正するよう
に設計されているものとする。
As described above, the portion having a thickness d of the hemispherical lens 19 is formed by combining the lens under test 14 with a cover glass (in the case of an objective lens for an optical pickup, a transparent substrate portion of an optical disk). In the case where it is assumed to be used, it is a portion added to generate an optical path difference equivalent to an optical path difference generated when passing through a cover glass, and is a part of the conventional correction plate 108 (FIG. 9). It is an alternative. Here, the test lens 14 is designed to correct spherical aberration generated by the cover glass itself.

【0044】今、半球状レンズ19における半球体を超
える部分の厚さdを、カバーガラスの厚さと同じ量に設
定したとすると、カバーガラスと半球状レンズ19の屈
折率の差によって生ずる球面収差が残ることになる。こ
こで、カバーガラスの屈折率をn、半球状レンズ19の
屈折率をn+Δnとしたとき、カバーガラスと同じ厚さ
の量d岳半球体より厚くした場合の半球状レンズ19の
残留球面収差W40n は、次の(4)式により表される。
If the thickness d of the portion of the hemispherical lens 19 that exceeds the hemisphere is set to the same amount as the thickness of the cover glass, the spherical aberration caused by the difference in the refractive index between the cover glass and the hemispherical lens 19 is assumed. Will remain. Here, assuming that the refractive index of the cover glass is n and the refractive index of the hemispherical lens 19 is n + Δn, the residual spherical aberration W of the hemispherical lens 19 when the thickness is larger than that of the cover glass is d. 40n is represented by the following equation (4).

【0045】 W40n ={d(NA)4 /8n3 }{−(n2 −3)(Δn/n) +(n2 −6)(Δn/n)2 }……(4)W 40n = {d (NA) 4 / 8n 3 } − (n 2 −3) (Δn / n) + (n 2 −6) (Δn / n) 2 } (4)

【0046】一方、半球状レンズ19の厚み誤差Δdに
よる残留球面収差W40d は、次の(5)式により表され
る。
On the other hand, the residual spherical aberration W 40d due to the thickness error Δd of the hemispherical lens 19 is expressed by the following equation (5).

【0047】 W40d ={(n+Δn)2 −1}(NA)4 Δd/8(n+Δn)3 ……(5)W 40d = {(n + Δn) 2 −1} (NA) 4 Δd / 8 (n + Δn) 3 (5)

【0048】したがって、球面収差が補正されるための
条件は、W40n +W40d =0となる。例えば、カバーガ
ラスの厚さ0.1mmでその屈折率が1.57とし、半
球状レンズ19の屈折率が1.52とすると、Δnは
0.05減少する。したがって、半球状レンズ19の厚
さを、半球からd+Δd=0.1014mmだけ厚くす
れば球面収差を完全に補正することができる。そして、
このようにして決定された厚さの半球状レンズ19を使
用し、被検レンズ14を通過した収束光が半球状レンズ
19の凸球面19aの曲率中心19cで焦点を結ぶよう
に配置することにより、球面収差を最小にすることがで
きる。
Therefore, the condition for correcting the spherical aberration is W 40n + W 40d = 0. For example, if the thickness of the cover glass is 0.1 mm and the refractive index is 1.57 and the refractive index of the hemispherical lens 19 is 1.52, Δn decreases by 0.05. Therefore, spherical aberration can be completely corrected by increasing the thickness of the hemispherical lens 19 from the hemisphere by d + Δd = 0.014 mm. And
The hemispherical lens 19 having the thickness determined in this manner is used, and the convergent light passing through the lens to be measured 14 is arranged so as to be focused at the center of curvature 19c of the convex spherical surface 19a of the hemispherical lens 19. , The spherical aberration can be minimized.

【0049】但し、実際の評価システムでは、上記の屈
折率の差による球面収差に加えて、干渉計の使用波長と
被検レンズ14が組み込まれる機器の使用波長の差によ
る色収差をも考慮しなければならない。しかし、この色
収差は被検レンズ14の設計仕様によって個々のレンズ
ごとに異なるので、実際には、光線追跡のシミュレーシ
ョンを行うことによって、上記の球面収差と色収差とを
合わせた収差を補正するように半球状レンズ19の厚さ
を設定する必要がある。すなわち、結局の所、半球状レ
ンズ19の最適厚さは光線追跡プログラムのシミュレー
ション結果によって決定されることとなる。
However, in an actual evaluation system, in addition to the above-mentioned spherical aberration due to the difference in refractive index, chromatic aberration due to the difference between the working wavelength of the interferometer and the working wavelength of the device in which the lens 14 to be tested is incorporated must be considered. Must. However, since this chromatic aberration differs for each lens depending on the design specification of the lens 14 to be inspected, in practice, a simulation of ray tracing is performed to correct the aberration combining the above spherical aberration and chromatic aberration. It is necessary to set the thickness of the hemispherical lens 19. That is, after all, the optimum thickness of the hemispherical lens 19 is determined by the simulation result of the ray tracing program.

【0050】次に、本発明の他の実施の形態を説明す
る。図6は本実施の形態に係る干渉計に使用する半球状
レンズを拡大して表すものである。本実施の形態では、
図1および図2に示した半球状レンズ19に代えて、完
全なる半球体(すなわち厚さd=0)として形成された
半球状レンズ29を使用し、この半球状レンズ29の平
面部29bの側と被検レンズ14との間に、従来より用
いられていた補正板108を配置する。そして、被検レ
ンズ14からの収束光が半球状レンズ29の凸球面29
aの曲率中心29cで焦点を結ぶように半球状レンズ2
9の位置を調整配置する。
Next, another embodiment of the present invention will be described. FIG. 6 is an enlarged view of a hemispherical lens used for the interferometer according to the present embodiment. In the present embodiment,
Instead of the hemispherical lens 19 shown in FIGS. 1 and 2, a hemispherical lens 29 formed as a complete hemisphere (that is, a thickness d = 0) is used. A conventionally used correction plate 108 is disposed between the side and the test lens 14. Then, the convergent light from the test lens 14 is projected onto the convex spherical surface 29 of the hemispherical lens 29.
a hemispherical lens 2 so as to focus on the center of curvature 29c of a
9 is adjusted and arranged.

【0051】このような構成とした場合にも、半球状レ
ンズ29における製作および取扱いの容易性、低コスト
性、歪み・変形の防止、長期間の安定測定可能性等、上
記実施の形態(図1および図2)の場合と同様の効果が
得られる。また、半球状レンズ29中での光束の開口角
θ′は元の入射光束の開口角θよりも小さくなるので、
半球状レンズ29の凸球面29aのうちの反射に供せら
れる領域Sの面積が小さくて済む点も同様である。但
し、本構成は、補正板108が必要となる点で図1およ
び図2と相違する。
Even in the case of such a configuration, the above-described embodiment (see FIG. 3) can be used to easily manufacture and handle the hemispherical lens 29, reduce costs, prevent distortion and deformation, and enable long-term stable measurement. 1 and FIG. 2). Further, since the opening angle θ ′ of the light beam in the hemispherical lens 29 is smaller than the opening angle θ of the original incident light beam,
The same applies to the point that the area S of the convex spherical surface 29a of the hemispherical lens 29 that is provided for reflection needs to be small. However, this configuration differs from FIGS. 1 and 2 in that a correction plate 108 is required.

【0052】もちろん、被検レンズ14がカバーガラス
と組み合せて使用することを前提とするものでない場
合、すなわち、実際の使用に際し半球状レンズ19とビ
ーム照射対象物との間に他の媒質部材が存在しない場合
には、図7に示したように、半球状レンズ29を完全な
半球体として形成すると共に、被検レンズ14からの収
束光が半球状レンズ29の凸球面29aの曲率中心29
cで焦点を結ぶように半球状レンズ29の位置を調整配
置するのみでよく、図6における補正板108は必要な
い。
Of course, when the lens under test 14 is not intended to be used in combination with a cover glass, that is, in actual use, another medium member is placed between the hemispherical lens 19 and the beam irradiation target. If not present, as shown in FIG. 7, the hemispherical lens 29 is formed as a complete hemisphere, and the convergent light from the lens 14 to be examined is focused on the center of curvature 29 of the convex spherical surface 29a of the hemispherical lens 29.
It is only necessary to adjust and arrange the position of the hemispherical lens 29 so as to focus at c, and the correction plate 108 in FIG. 6 is not required.

【0053】次に、図8を参照して、本発明のさらに他
の実施の形態を説明する。本実施の形態では、図1にお
ける半球状レンズ19の凸球面19aと平面19bの向
きを逆転させ、凸球面19を被検レンズ14の側に向け
て配置すると共に、凸球面19aの曲率中心19cが被
検レンズ14の焦点位置に一致するように調整配置す
る。また、半球状レンズ19と被検レンズ14との間に
は、補正板108を配置する。その他の構成および配置
関係は図1と同様である。
Next, still another embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In the present embodiment, the directions of the convex spherical surface 19a and the flat surface 19b of the hemispherical lens 19 in FIG. 1 are reversed, the convex spherical surface 19 is arranged toward the lens 14 to be measured, and the center of curvature 19c of the convex spherical surface 19a. Are adjusted and arranged so as to coincide with the focal position of the test lens 14. In addition, a correction plate 108 is disposed between the hemispherical lens 19 and the test lens 14. Other configurations and arrangements are the same as those in FIG.

【0054】本実施の形態では、被検レンズ14を通過
した収束波面は補正板108を通過したのち、半球状レ
ンズ19の凸球面19aで正反射をし、元の入射光路を
経て被検レンズ14を逆向きに透過して被検波R2 とな
る。上記した実施の形態(図1等)では、被検レンズ1
4を通り一旦焦点を結んだ後の広がりつつある光波を半
球状レンズ19等の凸球面19a等において内面反射さ
せるようにしているのに対し、本実施の形態では、被検
レンズ14を通り焦点を結ぶ前の収束光波を半球状レン
ズ19の凸球面19aにおいて外面反射させるようにし
ている。
In this embodiment, the convergent wavefront that has passed through the lens to be inspected 14 passes through the correction plate 108, then is specularly reflected by the convex spherical surface 19a of the hemispherical lens 19, and passes through the original incident optical path. a detection wave R 2 passes through the 14 in the opposite direction. In the above-described embodiment (FIG. 1 and the like), the test lens 1
4, the light wave that is expanding after being focused once is reflected internally by the convex spherical surface 19 a such as the hemispherical lens 19, whereas in the present embodiment, the focal point passes through the lens 14 to be measured. Is converged on the convex spherical surface 19a of the hemispherical lens 19 so as to be externally reflected.

【0055】本実施の形態においても、半球状レンズ1
9における製作および取扱いの容易性、低コスト性、歪
み・変形の防止、長期間の安定測定可能性等、上記実施
の形態(図1および図2)の場合と同様の効果が得られ
る。但し、被検レンズ14がカバーレンズの使用を前提
とする場合にあっては、図8に示したように、補正板1
08が必要となる。
Also in this embodiment, the hemispherical lens 1
9, the same effects as those of the above-described embodiment (FIGS. 1 and 2) are obtained, such as easiness of manufacture and handling, low cost, prevention of distortion and deformation, and possibility of stable measurement for a long time. However, when the test lens 14 is based on the premise that a cover lens is used, as shown in FIG.
08 is required.

【0056】以上、実施の形態を挙げて本発明を説明し
たが、本発明はこの実施の形態に限定されるものではな
く、その均等の範囲で種々変形可能である。例えば、上
記の各実施の形態では、干渉計としてフィゾータイプの
ものを使用することとしたが、その他のタイプの干渉計
(例えばトワイマン・グリーン干渉計等)でもよい。ま
た、被検レンズ14としては、光ピックアップ用の対物
レンズを例に説明したが、その他、顕微鏡の対物レンズ
等の評価にも適用できるのはもちろんである。
Although the present invention has been described with reference to the embodiment, the present invention is not limited to this embodiment, and can be variously modified within an equivalent range. For example, in each of the above embodiments, a Fizeau-type interferometer is used, but another type of interferometer (for example, a Twyman-Green interferometer) may be used. Further, the objective lens 14 for an optical pickup has been described as an example of the lens 14 to be inspected. However, it is needless to say that the objective lens 14 can also be applied to evaluation of an objective lens of a microscope.

【0057】[0057]

【発明の効果】以上説明したように、請求項1ないし5
のいずれかに記載の干渉計によれば、被検レンズ通過後
の球面波状の光波を、少なくとも凸球面を有する光学レ
ンズによってその波面形状を保ったまま反射させ、その
後、入射光路を逆進して再び被検レンズを通過してきた
被検波面と、参照波面生成手段によって生成した参照波
面とを干渉させて干渉縞を形成するようにしたので、反
射手段として、凸球面を有する光学レンズを用いること
ができ、従来の凹面反射ミラーに比べて小さく軽く製作
できる。このため、自重、温度あるいは取付治具等によ
る歪みが少なく、取り扱いが容易で長期間安定した測定
が可能である。また、凸球面を有する光学レンズは、市
販の安価な球面レンズをカットして平面部を鏡面研磨す
ることにより比較的容易に製作でき、しかも、その球面
精度も十分なものを得ることができる。したがって、高
精度の球面波反射手段を従来の凹面反射ミラーに比べて
容易かつ安価に製作することができ、干渉計全体として
のコストを低減することができる。
As described above, claims 1 to 5
According to the interferometer according to any one of the above, the light wave of the spherical wave shape after passing through the test lens is reflected by an optical lens having at least a convex spherical surface while maintaining its wavefront shape, and then the incident light path is reversed. Then, the test wavefront having passed through the test lens again and the reference wavefront generated by the reference wavefront generating means interfere with each other to form an interference fringe. Therefore, an optical lens having a convex spherical surface is used as the reflecting means. It can be made smaller and lighter than conventional concave reflecting mirrors. For this reason, distortion due to its own weight, temperature, mounting jig and the like is small, handling is easy, and stable measurement can be performed for a long time. Further, an optical lens having a convex spherical surface can be manufactured relatively easily by cutting a commercially available inexpensive spherical lens and polishing the flat portion to a mirror surface, and can obtain a lens having a sufficient spherical precision. Therefore, the highly accurate spherical wave reflecting means can be manufactured more easily and at lower cost than the conventional concave reflecting mirror, and the cost of the entire interferometer can be reduced.

【0058】また、請求項2または3記載の干渉計によ
れば、光学レンズの凸球面における内面反射を利用し
て、被検レンズ通過後の光波をその波面形状を保ったま
ま反射するようにしたので、請求項1記載の干渉計の効
果に加え、従来のように外面反射の場合に比べて収束光
の開口角が小さくなり、その分、反射に供せられる凸球
面領域の面積を小さくでき、高精度の球面の製作がより
容易になるという効果がある。
According to the interferometer of the second or third aspect, the light wave after passing through the lens to be measured is reflected while maintaining the wavefront shape by utilizing the internal reflection on the convex spherical surface of the optical lens. Therefore, in addition to the effect of the interferometer according to claim 1, the aperture angle of the convergent light is smaller than that in the conventional case of external reflection, and the area of the convex spherical region provided for reflection is correspondingly reduced. Thus, there is an effect that it is easier to manufacture a highly accurate spherical surface.

【0059】また、請求項4記載の干渉計によれば、被
検レンズが、その収束光路上に他の媒質体を配置した状
態で使用されるものである場合において、光学レンズ
を、媒質体と光学的に等価な厚さだけ半球体よりも厚く
形成し、被検レンズ通過後の光波が凸球面の曲率中心で
焦点を結ぶように配置するようにしたので、請求項2記
載の干渉計の効果に加え、従来必要であった補正板を不
要にすることができるという効果がある。
According to the fourth aspect of the present invention, in the case where the test lens is used in a state where another medium is disposed on the converging optical path, the optical lens is replaced with the medium. 3. The interferometer according to claim 2, wherein the interferometer is formed so as to be thicker than the hemisphere by a thickness optically equivalent to that of the hemisphere, so that the light wave after passing through the lens to be tested is focused at the center of curvature of the convex spherical surface. In addition to the effect described above, there is an effect that the conventionally required correction plate can be eliminated.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施の形態に係る干渉計の構成を表
す説明図である。
FIG. 1 is an explanatory diagram illustrating a configuration of an interferometer according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1における半球状レンズを拡大して表す説明
図である。
FIG. 2 is an explanatory diagram showing the hemispherical lens in FIG. 1 in an enlarged manner.

【図3】図1に示した干渉計を用いて被検レンズについ
て得られた干渉縞を表す説明図である。
FIG. 3 is an explanatory diagram showing interference fringes obtained for a test lens using the interferometer shown in FIG. 1;

【図4】図1における半球状レンズの球面精度を測定す
るための干渉計システムの構成を表す説明図である。
FIG. 4 is an explanatory diagram showing a configuration of an interferometer system for measuring the spherical accuracy of the hemispherical lens in FIG.

【図5】図4に示した干渉計システムにより得られた半
球状レンズの干渉縞を表す説明図である。
5 is an explanatory diagram showing interference fringes of a hemispherical lens obtained by the interferometer system shown in FIG.

【図6】本発明の他の実施の形態に係る干渉計に用いる
半球状レンズおよび補正板を表す説明図である。
FIG. 6 is an explanatory view showing a hemispherical lens and a correction plate used in an interferometer according to another embodiment of the present invention.

【図7】本発明のさらに他の実施の形態に係る干渉計に
用いる半球状レンズを表す説明図である。
FIG. 7 is an explanatory view showing a hemispherical lens used for an interferometer according to still another embodiment of the present invention.

【図8】本発明のさらに他の実施の形態に係る干渉計の
構成を表す説明図である。
FIG. 8 is an explanatory diagram showing a configuration of an interferometer according to still another embodiment of the present invention.

【図9】従来の干渉計の構成を表す説明図である。FIG. 9 is an explanatory diagram illustrating a configuration of a conventional interferometer.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

12…光軸、13…偏光ビームスプリッタ、14…被検
レンズ、15…1/4波長板、16…平面プレート、1
9…半球状レンズ、19a…凸球面、19b…平面
Reference numeral 12: optical axis, 13: polarizing beam splitter, 14: test lens, 15: quarter-wave plate, 16: flat plate, 1
9: hemispherical lens, 19a: convex spherical surface, 19b: flat surface

フロントページの続き (72)発明者 渡辺 俊夫 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 (72)発明者 大里 潔 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内Continuing from the front page (72) Inventor Toshio Watanabe 6-7-35 Kita-Shinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Inside Sony Corporation (72) Inventor Kiyoshi Osato 6-35, Kita-Shinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Sonny shares In company

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 被検レンズ通過後の球面波状の光波を球
面波状を保ったまま反射する反射手段と、 前記反射手段での反射後、入射光路を逆進して再び被検
レンズを通過して得られる被検波面と干渉させるための
基準の参照波面を生成する参照波面生成手段とを備え、
被検波面と参照波面との干渉を利用して被検レンズの光
学特性を評価するための干渉計であって、 前記反射手段として、少なくとも凸球面を有する光学レ
ンズを用いたことを特徴とする干渉計。
1. A reflecting means for reflecting a spherical wave light wave after passing through a lens to be inspected while maintaining the spherical wave shape, and after reflecting by said reflecting means, reversing an incident optical path and passing through the lens again. Reference wavefront generation means for generating a reference wavefront of a reference for causing interference with the test wavefront obtained by
An interferometer for evaluating the optical characteristics of a test lens by using interference between a test wavefront and a reference wavefront, wherein an optical lens having at least a convex spherical surface is used as the reflection unit. Interferometer.
【請求項2】 前記反射手段として、凸球面および平面
を有する光学レンズを用いると共に、この光学レンズの
平面側を被検レンズに対向させて被検レンズの光軸と略
垂直に配置し、 前記被検レンズ通過後の光波を前記光学レンズの平面側
から入射させて、前記光学レンズの凸球面の曲率中心を
中心とする球面波状の波面に転換すると共に、この球面
波状の波面を前記光学レンズの凸球面の内面で反射させ
て入射光路を逆進させることにより前記被検波面を得る
ようにしたことを特徴とする請求項1記載の干渉計。
2. An optical lens having a convex spherical surface and a flat surface is used as the reflecting means, and the flat surface side of the optical lens is disposed substantially perpendicular to the optical axis of the test lens with the flat surface facing the test lens. The light wave after passing through the lens to be measured is made incident from the plane side of the optical lens to be converted into a spherical wavefront centered on the center of curvature of the convex spherical surface of the optical lens, and this spherical wavefront is converted into the optical lens. 2. The interferometer according to claim 1, wherein the wavefront to be detected is obtained by refracting the incident optical path by reflecting the light on the inner surface of the convex spherical surface.
【請求項3】 前記光学レンズは、その凸球面が半球面
からなる半球体であって、その曲率中心が前記被検レン
ズの焦点位置と一致するように配置されていることを特
徴とする請求項2記載の干渉計。
3. The optical lens according to claim 1, wherein the convex spherical surface is a hemisphere having a hemispherical surface, and a center of curvature thereof is arranged to coincide with a focal position of the lens to be measured. Item 2. The interferometer according to Item 2.
【請求項4】 前記被検レンズが、その収束光路上に他
の媒質体を配置した状態で使用されるものである場合に
おいて、 前記光学レンズは、前記媒質体と光学的に等価な厚さだ
け半球体よりも厚く形成されたレンズであって、前記被
検レンズ通過後の光波が前記凸球面の曲率中心で焦点を
結ぶように配置されていることを特徴とする請求項2記
載の干渉計。
4. In a case where the test lens is used in a state where another medium is arranged on a converging optical path, the optical lens has a thickness optically equivalent to the medium. 3. The interference lens according to claim 2, wherein the lens is formed to be thicker than a hemisphere, and the light wave after passing through the test lens is arranged so as to be focused at the center of curvature of the convex spherical surface. 4. Total.
【請求項5】 前記光学レンズの凸球面側を被検レンズ
に対向させて配置し、 前記被検レンズ通過後の光波を前記光学レンズの凸球面
で反射させて入射光路を逆進させることにより前記被検
波面を得るようにしたことを特徴とする請求項1記載の
干渉計。
5. The optical lens according to claim 1, wherein a convex spherical surface side of the optical lens is arranged to face the lens to be measured, and a light wave after passing through the lens to be measured is reflected by the convex spherical surface of the optical lens to reverse an incident optical path. 2. The interferometer according to claim 1, wherein said wavefront to be detected is obtained.
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