JPH1081445A - Film separating device - Google Patents

Film separating device

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JPH1081445A
JPH1081445A JP17121997A JP17121997A JPH1081445A JP H1081445 A JPH1081445 A JP H1081445A JP 17121997 A JP17121997 A JP 17121997A JP 17121997 A JP17121997 A JP 17121997A JP H1081445 A JPH1081445 A JP H1081445A
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substrate
film
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gas injection
roller
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Akira Kitajima
晃 北島
Taisan Nishimura
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To sufficiently and smoothly carry it without causing damage or the like in a base board even when rigidity of the base board is comparatively small by arranging an auxiliary roller, which is rotatably installed in a cylindri cal member and acts on the base board carried in the prescribed direction, in a gas injection means. SOLUTION: When a base board 40 does not exist between an auxiliary roller 38 and a carrier roller 20, the auxiliary roller 38 is positioned in the most descent position shown by a solid line, and is contacted with the carrier roller 20. When the base board 40 enters between the auxiliary roller 38 and the carrier roller 20, the auxiliary roller 38 and a cylindrical member are raised by a thickness quantity of the base board 40. In this way, the cylindrical member is raised according to a thickness of the base board 40 carried through its under side, and therefore, even if a thickness of the base board 40 changes, a position of the cylindrical member, in more detail, its gas injection hole to a surface of the base board 40, does not substantially change, and the action of gas blown out of the gas injection hole to the surface of the base board 40 does not substantially change.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、基板に貼着された
フィルムを剥離するフィルム剥離装置、更に詳しくは、
基板に貼着されたフィルムの前端部(一端部)を基板か
ら部分的に分離せしめ、次いで前端部が部分的に分離さ
れたフィルムを基板から完全に分離するフィルム剥離装
置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a film peeling device for peeling a film adhered to a substrate,
The present invention relates to a film peeling device that partially separates a front end (one end) of a film attached to a substrate from a substrate, and then completely separates the film having a partially separated front end from the substrate.

【0002】[0002]

【従来の技術】プリント回路基板の製造においては、当
業者には周知の如く、ガラス繊維強化エポキシ樹脂等か
ら形成されたコア板の両面に銅箔を貼着せしめて銅張積
層板を形成し、かかる銅張積層板の両面にフォトレジス
ト層及び保護フィルムを積層せしめたプリント回路基板
素材を使用している。そして、かかるプリント回路基板
素材の両面に所要回路を照射してフォトレジスト層を露
光し、しかる後に両表面に存在する保護フィルムを剥離
している。
2. Description of the Related Art In the manufacture of a printed circuit board, as is well known to those skilled in the art, a copper-clad laminate is formed by attaching copper foil to both sides of a core plate made of glass fiber reinforced epoxy resin or the like. A printed circuit board material is used in which a photoresist layer and a protective film are laminated on both sides of such a copper-clad laminate. Then, a required circuit is irradiated on both sides of the printed circuit board material to expose the photoresist layer, and thereafter, the protective films existing on both surfaces are peeled off.

【0003】特開昭62−83974号公報(米国特許
第4724032号明細書及び図面)には、プリント回
路基板素材の如き基板から、その少なくとも片表面、通
常は両表面から保護フィルムの如きフィルム(本明細書
にて使用する語句「フィルム」は比較的薄い帯状部材の
みならず比較的厚い所謂シートと称される帯状部材をも
含む)を剥離するのに好都合に適用することができるフ
ィルム剥離装置が開示されている。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-83974 (US Pat. No. 4,724,032) discloses a film such as a protective film from a substrate such as a printed circuit board material on at least one surface, usually both surfaces. The term "film" as used herein includes not only relatively thin strips but also relatively thick strips, so-called sheets). Is disclosed.

【0004】このフィルム剥離装置は、基板搬送手段、
端部分離手段及び剥離手段を具備している。基板搬送手
段は、少なくとも片面にフィルムが貼着された基板を実
質上水平な状態で、その前端部が端部分離位置に位置せ
しめられるまで所定方向に搬送せしめて一旦停止せし
め、そして更に上記所定方向に搬送する。かかる基板搬
送手段は、該基板の搬送経路を規定する回転搬送部材を
含んでいる。端部分離手段は上記端部分離位置に位置せ
しめられている基板の前端部に作用してフィルムの前端
部を部分的に基板から分離せしめる。前端部が部分的に
分離されたフィルムを基板から完全に分離せしめるため
の剥離手段は、所定方向に移動せしめられている基板と
フィルムの前端部との間に圧縮気体を噴射せしめる気体
噴射手段を含んでいる。かかる気体噴射手段は、基板の
幅方向に延在し且つ気体噴射孔が形成された中空部材を
備えている。静止部材であるこの中空部材は、適宜の連
通手段を介して圧縮気体供給源に接続されている。
[0004] This film peeling device comprises a substrate transport means,
An end separation means and a peeling means are provided. The substrate transporting means transports the substrate having the film affixed to at least one side thereof in a substantially horizontal state, in a predetermined direction until the front end of the substrate is located at the end separation position, temporarily stops the substrate, and further performs the predetermined operation. Transport in the direction. Such a substrate transfer means includes a rotary transfer member that defines a transfer path of the substrate. The edge separation means acts on the front edge of the substrate located at the edge separation position to partially separate the front edge of the film from the substrate. Peeling means for completely separating the film whose front end has been partially separated from the substrate is gas injection means for injecting compressed gas between the substrate being moved in a predetermined direction and the front end of the film. Contains. Such a gas injection unit includes a hollow member extending in the width direction of the substrate and having a gas injection hole formed therein. This hollow member, which is a stationary member, is connected to a compressed gas supply source via an appropriate communication means.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】而して、上記フィルム
剥離装置は、所定方向に搬送される基板が気体噴射手段
を通過する際、その搬送機能が損なわれるおそれがあ
る。更に詳述すると、上記気体噴射手段における中空部
材の上流側及び下流側には、それぞれ基板の搬送経路を
規定する回転搬送部材が配設されている。そして回転搬
送部材間に位置する中空部材は静止部材である故に基板
の搬送機能は全く無い。したがって、基板が、搬送経
路、すなわち中空部材の上流側の回転搬送部材から中空
部材を経て中空部材の下流側の回転搬送部材に搬送され
る際、中空部材に接触して円滑な搬送が阻害されると共
に損傷が生成されるおそれがある。特に基板が比較的薄
くその剛性が比較的小さい場合にはその傾向が強くな
る。
However, in the film peeling device, when the substrate conveyed in a predetermined direction passes through the gas ejecting means, there is a possibility that the function of conveying the substrate is impaired. More specifically, on the upstream side and the downstream side of the hollow member in the gas injection means, there are disposed rotary transfer members that respectively define transfer paths for the substrates. Since the hollow member located between the rotary transport members is a stationary member, it has no substrate transport function. Therefore, when the substrate is transported from the transport path, that is, the rotary transport member on the upstream side of the hollow member to the rotary transport member on the downstream side of the hollow member via the hollow member, smooth transport is hindered by contact with the hollow member. And damage may be created. In particular, when the substrate is relatively thin and its rigidity is relatively small, the tendency becomes stronger.

【0006】本発明は上記事実に鑑みてなされたもので
あり、その目的は、基板の剛性が比較的小さい場合にお
いても、基板に損傷等を発生せしめることなく基板が気
体噴射手段を通って所望のとおり充分円滑に搬送せしめ
られる、改良されたフィルム剥離装置を提供することで
ある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-described circumstances, and has as its object the purpose of allowing a substrate to pass through a gas injection means without causing damage to the substrate even when the rigidity of the substrate is relatively small. An object of the present invention is to provide an improved film peeling device which can be transported sufficiently smoothly as described above.

【0007】[0007]

【課題を達成するための手段】本発明によれば、少なく
とも片面にはフィルムが貼着されている基板を所定方向
に搬送せしめる基板搬送手段と、該フィルムの前端部を
該基板から部分的に分離せしめる端部分離手段と、該前
端部が部分的に分離された該フィルムを該基板から完全
に分離せしめる剥離手段とを具備し、該基板搬送手段は
該基板の搬送経路を規定する回転搬送部材を含み、該剥
離手段は該所定方向に移動せしめられている該基板と該
フィルムの該前端部との間に圧縮気体を噴射せしめる気
体噴射手段を含む、フィルム剥離装置において、該気体
噴射手段は、該基板の幅方向に延在し且つ気体噴射孔が
形成されている筒状部材と、該筒状部材に回転自在に装
着され該所定方向に搬送される該基板に作用する補助ロ
ーラを含んでいる、ことを特徴とするフィルム剥離装
置、が提供される。
According to the present invention, there is provided a substrate transport means for transporting a substrate having a film adhered on at least one surface in a predetermined direction, and a method for partially moving a front end of the film from the substrate. An edge separating means for separating the film, and a peeling means for completely separating the film from which the front end part has been partially separated from the substrate, wherein the substrate transport means is a rotary transport that defines a transport path of the substrate. A film ejecting device for ejecting a compressed gas between the substrate moved in the predetermined direction and the front end of the film, wherein the gas ejecting means includes a member. Is a cylindrical member extending in the width direction of the substrate and having a gas injection hole formed therein, and an auxiliary roller that is rotatably mounted on the cylindrical member and acts on the substrate conveyed in the predetermined direction. Contains Film peeling apparatus characterized by, is provided.

【0008】本発明のフィルム剥離装置においては、気
体噴射手段の筒状部材に補助ローラが回転自在に装着さ
れているので、気体噴射手段は気体噴射機能の他に基板
の搬送機能をも有している。したがって基板が所定方向
に搬送されて気体噴射手段を通過するに際し、補助ロー
ラに接触しても該補助ローラの回転搬送作用により所望
のとおり充分円滑に搬送され、損傷が生成されることは
ない。この作用効果は、基板が比較的薄くその剛性が比
較的小さい場合であっても同様に得られる。また上記の
如く気体噴射手段の補助ローラは、回転搬送部材として
機能する故に、基板搬送手段の回転搬送部材を有効利用
して気体噴射手段を配設することができる、といえる。
その結果、気体噴射手段を比較的コンパクトでしかも比
較的低コストにて実用化することができる。
In the film peeling apparatus of the present invention, since the auxiliary roller is rotatably mounted on the cylindrical member of the gas ejecting means, the gas ejecting means has a function of transporting the substrate in addition to the gas ejecting function. ing. Therefore, when the substrate is conveyed in the predetermined direction and passes through the gas ejecting means, even if it comes into contact with the auxiliary roller, the substrate is conveyed sufficiently smoothly as desired by the rotary conveying operation of the auxiliary roller, and no damage is generated. This effect can be obtained even when the substrate is relatively thin and its rigidity is relatively small. Further, since the auxiliary roller of the gas ejecting means functions as a rotary transport member as described above, it can be said that the gas ejecting means can be disposed by effectively utilizing the rotary transport member of the substrate transport means.
As a result, the gas injection means can be put to practical use at a relatively compact size and at a relatively low cost.

【0009】該気体噴射孔は該基板の幅方向に間隔をお
いて複数個該筒状部材に形成されており、該補助ローラ
は該気体噴射孔間に装着されていることが好適である。
この発明においては、気体噴射機能と回転搬送機能とを
有する気体噴射手段が、無駄のない、きわめて簡単な構
成によって、得られる。該基板にはその両面にフィルム
が貼着されており、該基板搬送手段は該基板を実質上水
平な状態で搬送し、該剥離手段は該基板の上面側と下面
側の双方に配設されていることが好ましい。この発明に
おいては、基板が所定方向に搬送されて気体噴射手段を
通過するに際し、充分円滑に搬送されると共に、基板の
両面に貼着されたフィルムの各々の基板からの分離が促
進される。該基板の上面側に配設されている該剥離手段
の該気体噴射手段における該筒状部材は上下方向に移動
自在に装着されており、該筒状部材に装着された該補助
ローラは該基板の上面に圧接せしめられることが好適で
ある。この発明においては、補助ローラ及び筒状部材は
基板の厚さに応じて上昇、下降せしめられるので、基板
の厚さが変化しても基板の上面に対する筒状部材、した
がって気体噴射孔の位置は実質上変化することがない。
その結果、基板の上面に対する気体噴射孔から噴射せし
められる気体の作用は実質上変化することなく所望関係
に維持され続ける。
Preferably, a plurality of the gas injection holes are formed in the cylindrical member at intervals in the width direction of the substrate, and the auxiliary roller is preferably mounted between the gas injection holes.
According to the present invention, the gas injection means having the gas injection function and the rotary conveyance function can be obtained by a very simple structure without waste. Films are stuck on both sides of the substrate, the substrate transport means transports the substrate in a substantially horizontal state, and the peeling means is disposed on both the upper surface side and the lower surface side of the substrate. Is preferred. In the present invention, when the substrate is transported in the predetermined direction and passes through the gas injection means, the substrate is transported sufficiently smoothly, and the separation of the films adhered to both surfaces of the substrate from each substrate is promoted. The tubular member of the gas ejecting means of the peeling means provided on the upper surface side of the substrate is mounted movably in the up-down direction, and the auxiliary roller mounted on the cylindrical member is mounted on the substrate by the substrate. Is preferably pressed against the upper surface of the substrate. In the present invention, since the auxiliary roller and the cylindrical member are raised and lowered in accordance with the thickness of the substrate, even if the thickness of the substrate changes, the position of the cylindrical member with respect to the upper surface of the substrate, and therefore, the position of the gas injection hole is maintained. There is virtually no change.
As a result, the effect of the gas injected from the gas injection holes on the upper surface of the substrate is maintained in a desired relationship without substantially changing.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】以下、本発明に従って構成された
フィルム剥離装置の実施形態を図示している添付図面を
参照して更に詳細に説明する。
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a perspective view of a film peeling apparatus according to an embodiment of the present invention;

【0011】図1を参照して説明すると、本発明に従っ
て構成された図示のフィルム剥離装置は、基板搬送手段
2、端部分離手段4及び剥離手段6を具備している。基
板搬送手段2は、図1において左から右に実質上水平に
延在する搬送径路の下側を規定する複数個の搬送ローラ
10、12、14、16、18、20、22、24及び
26を含んでいる。搬送径路の下側には補助ローラ28
も配設されている(この補助ローラ28については後に
更に言及する)。
Referring to FIG. 1, the illustrated film peeling apparatus constructed in accordance with the present invention includes a substrate conveying means 2, an edge separating means 4, and a peeling means 6. The substrate transport means 2 includes a plurality of transport rollers 10, 12, 14, 16, 18, 20, 22, 22, 24 and 26 that define a lower side of a transport path extending substantially horizontally from left to right in FIG. Contains. An auxiliary roller 28 is provided below the conveying path.
(This auxiliary roller 28 will be further described later).

【0012】基板搬送手段2は、更に、搬送径路の上側
に配設された搬送ローラ30及び32、補助ローラ3
4、補助案内ローラ36及び補助ローラ38を含んでい
る(補助案内ローラ36及び補助ローラ38については
後に更に言及する)。搬送径路の上側に配設されている
ローラ30、32、34、36及び38は所定範囲に渡
って上下方向に移動自在に装着されており、それ自体の
自重によって或いは適宜の押圧手段による偏倚作用によ
って夫々の下方に位置する搬送ローラ16及び18、後
述するベルト機構、補助ローラ28並びに搬送ローラ2
0に向けて偏倚せしめられている。従って、搬送すべき
基板40が存在しない時には、搬送径路の上側に配設さ
れているローラ30、32、34、36及び38は、搬
送径路の下側に配設されているローラ乃至ベルト機構に
接触せしめられているが、基板40に作用してこれを搬
送する際には、基板40によってその厚さ分だけ上昇せ
しめられて基板40の上面に押圧せしめられる。基板搬
送手段2を構成する種々のローラは、電動モータでよい
回転駆動源(図示していない)によって矢印42で示す
方向に回転駆動せしめられる。搬送ローラ対16及び3
0と搬送ローラ対18及び32との間には端部分離位置
が規定されており、かかる端部分離位置に関連せしめて
停止手段44が配設されている。
The substrate transfer means 2 further includes transfer rollers 30 and 32 disposed above the transfer path, and auxiliary rollers 3
4. It includes an auxiliary guide roller 36 and an auxiliary roller 38 (the auxiliary guide roller 36 and the auxiliary roller 38 will be further described later). The rollers 30, 32, 34, 36 and 38 disposed on the upper side of the conveying path are mounted so as to be movable in the vertical direction over a predetermined range, and are biased by their own weight or by appropriate pressing means. Transport rollers 16 and 18 located below each other, a belt mechanism to be described later, an auxiliary roller 28, and a transport roller 2
It is biased towards zero. Therefore, when the substrate 40 to be conveyed does not exist, the rollers 30, 32, 34, 36, and 38 disposed on the upper side of the transport path are connected to the rollers or belt mechanisms disposed on the lower side of the transport path. Although it is brought into contact, when it acts on and transports the substrate 40, it is raised by the thickness of the substrate 40 and pressed against the upper surface of the substrate 40. The various rollers constituting the substrate transfer means 2 are rotationally driven in the direction indicated by the arrow 42 by a rotary drive source (not shown) which may be an electric motor. Transport roller pair 16 and 3
An end separation position is defined between 0 and the conveying roller pairs 18 and 32, and a stopping means 44 is provided in relation to the end separation position.

【0013】この停止手段44は、実線で示す非作用位
置と2点鎖線で示す作用位置との間を昇降自在に装着さ
れており、空気圧シリンダ機構の如き適宜の手段(図示
していない)によって、上記非作用位置と上記作用位置
とに選択的に位置付けられる。非作用位置に位置付けら
れている時には、停止手段44は搬送径路から下方に後
退せしめられており、基板40の搬送に干渉することは
ない。しかしながら、作用位置に位置付けられると、停
止手段44の先端部は下方から搬送径路を通って上方に
突出し、基板40の矢印42で示す方向への前進を阻止
する。
The stopping means 44 is mounted so as to be able to move up and down between a non-operating position indicated by a solid line and an operating position indicated by a two-dot chain line, and is provided by an appropriate means (not shown) such as a pneumatic cylinder mechanism. , The non-working position and the working position. When the stop means 44 is located at the non-operation position, the stopping means 44 is retracted downward from the transfer path, and does not interfere with the transfer of the substrate 40. However, when positioned at the operative position, the distal end of the stopping means 44 protrudes upward from below through the transport path and prevents the substrate 40 from advancing in the direction indicated by the arrow 42.

【0014】図示の実施形態における基板搬送手段2
は、更に、上記端部分離位置に関連して配設された案内
手段46を含んでいる。この案内手段46は、実線で示
す後退位置と2点鎖線で示す案内位置との間を支持軸4
8を中心として旋回自在に装着された支持アーム50を
有する。この支持アーム50の先端部には実質上水平に
延びる軸51が装着されており、かかる軸51には、基
板40の幅方向に間隔をおいて複数個の案内ローラ52
が回転自在に装着されている。支持アーム50は、空気
圧シリンダ機構の如き適宜の手段によって上記後退位置
と案内位置とに選択的に位置せしめられる。後に詳述す
る如く端部分離位置においては、基板40の幅方向(即
ち図1において紙面に垂直な方向)に端部分離手段4が
移動せしめられるが、支持アーム50及び案内ローラ5
2が実線で示す後退位置に位置付けられている時には、
端部分離手段4は支持アーム50及び案内ローラ52に
阻害されることなく基板40の幅方向に往復動すること
ができる。一方、支持アーム50及び案内ローラ52が
2点鎖線で示す案内位置に位置せしめられると、案内ロ
ーラ52は基板40の搬送径路の下側に位置してそこを
通って搬送される基板40の下面を案内する。
[0014] Substrate transfer means 2 in the illustrated embodiment
Further includes guide means 46 disposed in relation to the end separation position. The guide means 46 moves the support shaft 4 between a retreat position shown by a solid line and a guide position shown by a two-dot chain line.
8 has a support arm 50 mounted so as to be pivotable about 8. A shaft 51 extending substantially horizontally is attached to the distal end of the support arm 50, and a plurality of guide rollers 52 are provided on the shaft 51 at intervals in the width direction of the substrate 40.
Is rotatably mounted. The support arm 50 is selectively positioned between the retracted position and the guide position by appropriate means such as a pneumatic cylinder mechanism. As will be described in detail later, at the end separation position, the end separation means 4 is moved in the width direction of the substrate 40 (that is, the direction perpendicular to the plane of FIG. 1).
When 2 is positioned at the retracted position shown by the solid line,
The end separation means 4 can reciprocate in the width direction of the substrate 40 without being hindered by the support arm 50 and the guide roller 52. On the other hand, when the support arm 50 and the guide roller 52 are positioned at the guide positions indicated by the two-dot chain lines, the guide roller 52 is located below the transfer path of the substrate 40 and is transported therethrough. I will guide you.

【0015】端部分離手段4が基板40の幅方向に往復
動することを許容するために、搬送ローラ対16及び3
0と搬送ローラ対18及び32との間には、搬送方向に
比較的長い間隔が存在せしめられているが、上記案内ロ
ーラ52が案内位置に位置せしめられることによって、
搬送ローラ対16及び30から搬送ローラ対18及び3
2まで円滑に基板40が搬送される。案内手段46が配
設されていない場合には、特に基板40の剛性が比較的
小さい時に、搬送ローラ対16及び30と搬送ローラ対
18及び32との間において基板40の前端部が下方に
過剰に垂れ下がり、搬送ローラ対18及び32にニップ
されなくなってしまうおそれが少なくない。
In order to allow the end separation means 4 to reciprocate in the width direction of the substrate 40, the conveying roller pairs 16 and 3
Although a relatively long interval exists in the transport direction between the transport roller pair 18 and the transport roller pair 18 and 32, the guide roller 52 is located at the guide position.
Transfer roller pairs 16 and 30 to transfer roller pairs 18 and 3
The substrate 40 is smoothly transported to 2. When the guide means 46 is not provided, especially when the rigidity of the substrate 40 is relatively small, the front end of the substrate 40 becomes excessively low between the transport roller pairs 16 and 30 and the transport roller pairs 18 and 32. , And there is a possibility that the sheet is not nipped by the conveying roller pairs 18 and 32.

【0016】図示の実施形態においては、更に、搬送ロ
ーラ対16及び30の直ぐ下流側にクランプ手段54が
配設されている。かかるクランプ手段54は上側クラン
プ部材56と下側クランプ部材58とを含んでいる。上
側クランプ部材56及び下側クランプ部材58の各々に
は空気圧シリンダ機構でよい加圧手段(図示していな
い)が付設されており、夫々基板40から上方及び下方
に離隔する非クランプ位置(2点鎖線で示す位置)と基
板40の上面及び下面に所定圧力で押圧せしめられるク
ランプ位置(実線で示す位置)とに選択的に位置せしめ
られる。
In the illustrated embodiment, a clamping means 54 is further provided immediately downstream of the conveying roller pairs 16 and 30. The clamping means 54 includes an upper clamp member 56 and a lower clamp member 58. Pressing means (not shown), which may be a pneumatic cylinder mechanism, is attached to each of the upper clamp member 56 and the lower clamp member 58, and the non-clamp position (two points) separated upward and downward from the substrate 40, respectively. It is selectively positioned at a clamp position (a position shown by a solid line) which is pressed against the upper and lower surfaces of the substrate 40 with a predetermined pressure.

【0017】上述した基板搬送手段2を備えた図示のフ
ィルム剥離装置においては、両面に保護フィルム59が
貼着されたプリント回路基板でよい基板40が適宜の供
給手段(図示していない)によって基板搬送手段2の上
流部に供給され、搬送ローラ10、12及び14並びに
搬送ローラ対16及び30の作用によって矢印42で示
す方向に搬送される。基板40の前端が2点鎖線で示す
作用位置にある停止手段44の先端部に当接せしめられ
ると、基板40のそれ以上の前進が確実に阻止され、そ
して基板搬送手段2の駆動が停止せしめられる。次い
で、停止手段44が実線で示す非作用位置に後退せしめ
られと共に、クランプ手段54の上側クランプ部材56
及び下側クランプ部材58がクランプ位置にせしめられ
て、基板40が停止位置に確実に保持せしめられる。そ
して後述する通りの端部分離手段4の作用によって、基
板40の両面に貼着されている保護フィルム59の前端
部が基板40から部分的に分離される。端部分離手段4
の作用が終了して端部分離手段4が基板40からその幅
方向外側に離隔せしめられると、クランプ手段54の上
側クランプ部材56及び下側クランプ部材58が非クラ
ンプ位置に戻されて基板40の保持が解除され、案内手
段46が実線で示す後退位置から2点鎖線で示す案内位
置に移動せしめられる。そして基板搬送手段2の駆動が
再開されて基板40は再び矢印42で示す方向に搬送さ
れ始める。そして、基板40が矢印42で示す方向に搬
送されている間に、後述する剥離手段6の作用によって
基板40の両面から保護フィルム59が完全に分離され
る。
In the illustrated film peeling apparatus provided with the above-described substrate transport means 2, the substrate 40, which may be a printed circuit board having protective films 59 adhered on both sides, is provided by appropriate supply means (not shown). It is supplied to the upstream part of the conveying means 2 and is conveyed in the direction indicated by the arrow 42 by the action of the conveying rollers 10, 12 and 14 and the conveying roller pairs 16 and 30. When the front end of the substrate 40 is brought into contact with the distal end of the stopping means 44 in the operation position shown by the two-dot chain line, further advance of the substrate 40 is reliably prevented, and the driving of the substrate conveying means 2 is stopped. Can be Next, the stopping means 44 is retracted to the non-operating position shown by the solid line, and the upper clamping member 56 of the clamping means 54 is moved.
Further, the lower clamp member 58 is moved to the clamp position, and the substrate 40 is securely held at the stop position. The front end of the protective film 59 adhered to both sides of the substrate 40 is partially separated from the substrate 40 by the operation of the edge separating means 4 as described later. Edge separation means 4
When the end separating means 4 is separated from the substrate 40 to the outside in the width direction after the operation of the above, the upper clamp member 56 and the lower clamp member 58 of the clamp means 54 are returned to the non-clamp position, and The holding is released, and the guide means 46 is moved from the retracted position shown by the solid line to the guide position shown by the two-dot chain line. Then, the driving of the substrate transport means 2 is restarted, and the substrate 40 starts to be transported again in the direction indicated by the arrow 42. Then, while the substrate 40 is being conveyed in the direction indicated by the arrow 42, the protective film 59 is completely separated from both surfaces of the substrate 40 by the action of the peeling means 6 described later.

【0018】図1と共に図2乃至図4を参照して端部分
離手段4について説明すると、端部分離手段4は主支持
枠体60を含んでいる。装置全体の静止基枠(図示して
いない)には、端部分離位置の上方を基板40の幅方向
に実質上水平に延在する2本の支持レール62及び64
が固定されている。支持レール62及び64の各々は、
断面形状が円形である丸棒から形成されている。他方、
主支持枠体60の上部には被案内ブロック65が固定さ
れている。この被案内ブロック65には水平方向に延在
する2個の貫通孔が形成されており、かかる孔に上記支
持レール62及び64を挿通せしめることによって、支
持レール62及び64に沿って滑動自在に主支持枠体6
0が装着されている。支持レール62及び64に隣接せ
しめて上記静止基枠には、実質上水平に延在する空気圧
シリンダ機構70が装着されている。このシリンダ機構
70の出力端は主支持枠体60の被案内ブロック72に
連結されている。かくして、シリンダ機構70の作用に
よって、端部分離手段4の主支持枠体60は、図2に2
点鎖線60Aで示す移動開始位置と、図2に2点鎖線B
で示す折り返し位置との間を往復動せしめられる。
The end separating means 4 will be described with reference to FIGS. 2 to 4 together with FIG. 1. The end separating means 4 includes a main support frame 60. On a stationary base frame (not shown) of the entire apparatus, two support rails 62 and 64 extending substantially horizontally in the width direction of the substrate 40 above the end separation position.
Has been fixed. Each of the support rails 62 and 64
It is formed from a round bar having a circular cross section. On the other hand,
A guided block 65 is fixed to an upper portion of the main support frame 60. The guided block 65 is formed with two through holes extending in the horizontal direction. By inserting the support rails 62 and 64 into the holes, the guide block 65 is slidable along the support rails 62 and 64. Main support frame 6
0 is attached. A pneumatic cylinder mechanism 70 extending substantially horizontally is mounted on the stationary base frame adjacent to the support rails 62 and 64. The output end of the cylinder mechanism 70 is connected to the guided block 72 of the main support frame 60. Thus, by the action of the cylinder mechanism 70, the main support frame 60 of the end separation means 4 is moved to the position shown in FIG.
The movement start position indicated by the dotted chain line 60A and the two-dot chain line B in FIG.
Can be reciprocated between the turn-back positions indicated by.

【0019】図1乃至図4を参照して説明を続けると、
主支持枠体60の下方にはローラ支持ブロック74が固
定されている。更に、主支持枠体60には基板40の幅
方向に間隔をおいて実質上鉛直に延びる支持柱76が固
定されており、この支持柱76に副支持枠体78が上下
方向、従って基板40の厚さ方向に移動自在に装着され
ている。略直方体形状のブロックから構成することがで
きる副支持枠体78には、幅方向に所定間隔をおいて6
本の短軸80、82、84、86、88及び90が固定
されており、かかる短軸には夫々、片側(上側)圧接ロ
ーラ92、94、96及び98並びに片側(上側)案内
ローラ100及び102が装着されている。
Continuing the description with reference to FIGS.
A roller support block 74 is fixed below the main support frame 60. Further, a supporting column 76 extending substantially vertically is fixed to the main supporting frame 60 at intervals in the width direction of the substrate 40, and a sub supporting frame 78 is vertically attached to the supporting column 76, and It is mounted movably in the thickness direction. The sub-support frame 78, which can be composed of a substantially rectangular parallelepiped block, has a predetermined spacing in the width direction.
The short shafts 80, 82, 84, 86, 88 and 90 are fixed, and the short shafts have one-side (upper) pressing rollers 92, 94, 96 and 98 and one-side (upper) guide rollers 100 and 90, respectively. 102 is mounted.

【0020】図4を参照することによって明確に理解さ
れる如く、幅方向中央に位置する2本の短軸80及び8
2並びに幅方向両外側に位置する2本の短軸88及び9
0は、基板40の搬送方向(図4において上下方向)に
実質上平行に延びているが、残りの2本の短軸84及び
86は、基板40の搬送方向上流側に向かって幅方向内
側に2乃至10度程度でよい若干の角度αだけ傾斜せし
められている。従って、2個の圧接ローラ96及び98
は基板40に対して若干の角度αだけ傾斜せしめられて
いる。また、図3を参照することによって明確に理解さ
れる如く、2本の短軸88及び90は、他の短軸80、
82、84及び86に対して幾分上方に変位せしめられ
ており、従って2個の案内ローラ100及び102は、
4個の圧接ローラ92、94、96及び98に対して幾
分上方に変位せしめられている。
As can be clearly understood by referring to FIG. 4, two short axes 80 and 8 located at the center in the width direction are provided.
2 and two short axes 88 and 9 located on both outer sides in the width direction.
0 extends substantially parallel to the transport direction of the substrate 40 (the vertical direction in FIG. 4), but the remaining two short axes 84 and 86 are inward in the width direction toward the upstream side in the transport direction of the substrate 40. At a slight angle α, which may be about 2 to 10 degrees. Therefore, the two pressing rollers 96 and 98
Is inclined at a slight angle α with respect to the substrate 40. Also, as can be clearly understood with reference to FIG. 3, two short axes 88 and 90 are connected to the other short axis 80,
Displaced somewhat upwards relative to 82, 84 and 86, the two guide rollers 100 and 102
It is displaced somewhat upwards with respect to the four pressure rollers 92, 94, 96 and 98.

【0021】主支持枠体60の下方に固定されたローラ
支持ブロック74にも、幅方向に所定間隔をおいて6本
の短軸104、106、108、110、112及び1
14が固定されており、かかる短軸には夫々、他側(下
側)圧接ローラ116、118、120及び122並び
に他側(下側)案内ローラ124及び126が装着され
ている。
The roller support block 74 fixed below the main support frame 60 also has six short axes 104, 106, 108, 110, 112, and 1 at predetermined intervals in the width direction.
The other side (lower) pressure rollers 116, 118, 120 and 122 and the other (lower) guide rollers 124 and 126 are mounted on the short shafts, respectively.

【0022】図4を参照することによって明確に理解さ
れる如く、幅方向中央に位置する2本の短軸104及び
106並びに幅方向両外側に位置する2本の短軸112
及び114は、基板40の搬送方向(図4において上下
方向)に実質上平行に延びているが、残りの2本の短軸
108及び110は、基板40の搬送方向上流側に向か
って幅方向内側に2乃至5度程度でよい若干の角度αだ
け傾斜せしめられている。従って、2個の圧接ローラ1
20及び122も基板40に対して若干の角度αだけ傾
斜せしめられている。また、図3を参照することによっ
て明確に理解される如く、2本の短軸112及び114
は、他の短軸104、106、108及び110に対し
て幾分下方に変位せしめられており、従って2個の案内
ローラ124及び126は、4個の圧接ローラ116、
118、120及び122に対して幾分下方に変位せし
められている。
As can be clearly understood by referring to FIG. 4, two short axes 104 and 106 located at the center in the width direction and two short axes 112 located at both outer sides in the width direction.
And 114 extend substantially parallel to the transport direction of the substrate 40 (the vertical direction in FIG. 4), but the other two short axes 108 and 110 are in the width direction toward the upstream side in the transport direction of the substrate 40. It is inclined inward by a slight angle α which may be about 2 to 5 degrees. Therefore, the two pressing rollers 1
20 and 122 are also inclined by a small angle α with respect to the substrate 40. Also, as can be clearly understood by referring to FIG. 3, two short axes 112 and 114 are provided.
Has been displaced somewhat downward with respect to the other short axes 104, 106, 108 and 110, so that the two guide rollers 124 and 126 have four pressing rollers 116,
Displaced somewhat downwards relative to 118, 120 and 122.

【0023】主支持枠体60には副支持枠体78の上方
に位置する支持板127も固定されており、この支持板
127の下面には空気圧シリンダ機構128が装着され
ている。空気圧シリンダ機構128の出力ロッド130
は下方に突出せしめられていて、副支持枠体78の上面
に当接せしめられている。副支持枠体78はそれ自身の
重量と共に空気圧シリンダ機構128から加えられる押
圧力によって下方に変位せしめられる。従って、副支持
枠体78に装着された片側圧接ローラ92、94、96
及び98並びに片側案内ローラ100及び102と主支
持枠体60のローラ支持ブロック74に装着された他側
圧接ローラ116、118、120及び122並びに他
側案内ローラ124及び126との間に基板40が存在
しない状態においては、片側圧接ローラ92、94、9
6及び98が他側圧接ローラ116、118、120及
び122に圧接せしめられる。シリンダ機構128から
副支持枠体78に加えられる押圧力は5乃至10kg程
度でよい。
A support plate 127 located above the sub support frame 78 is also fixed to the main support frame 60, and a pneumatic cylinder mechanism 128 is mounted on the lower surface of the support plate 127. Output rod 130 of pneumatic cylinder mechanism 128
Is projected downward, and is brought into contact with the upper surface of the sub-support frame 78. The sub support frame 78 is displaced downward by the pressing force applied from the pneumatic cylinder mechanism 128 together with its own weight. Therefore, the one-side pressure contact rollers 92, 94, 96 mounted on the sub-support frame 78
And 98, and between the one-side guide rollers 100 and 102 and the other-side pressing rollers 116, 118, 120 and 122 attached to the roller support block 74 of the main support frame 60, and the other-side guide rollers 124 and 126, In the absence state, the one-side pressing rollers 92, 94, 9
6 and 98 are pressed against the other-side pressing rollers 116, 118, 120 and 122. The pressing force applied from the cylinder mechanism 128 to the sub support frame 78 may be about 5 to 10 kg.

【0024】片側圧接ローラ92、94、96及び98
が他側圧接ローラ116、118、120及び122に
圧接せしめられている状態において、片側案内ローラ1
00及び102と他側案内ローラ124及び126との
間には若干の間隙tが存在する。この間隙tは1乃至5
mm程度でよい。圧接ローラ92、94、96、98、
116、118、120及び122並びに案内ローラ1
00、102、124及び126は、鋼の如き適宜の金
属或いは比較的高硬度で耐摩耗性に優れたナイロンの如
き適宜の合成樹脂又は合成ゴムから形成するこができ
る。圧接ローラ92、94、96、98、116、11
8、120及び122の表面は、所謂ナーリング加工
(溝刻設加工)等を施すことによって摩擦係数が増大せ
しめられているのが好都合である。
One-side pressing rollers 92, 94, 96 and 98
Is pressed against the other-side pressure rollers 116, 118, 120 and 122, the one-side guide roller 1
There is a slight gap t between 00 and 102 and the other side guide rollers 124 and 126. This gap t is 1 to 5
mm. Pressing rollers 92, 94, 96, 98,
116, 118, 120 and 122 and guide roller 1
00, 102, 124, and 126 can be formed from a suitable metal such as steel or a suitable synthetic resin or rubber such as nylon having relatively high hardness and excellent wear resistance. Pressing rollers 92, 94, 96, 98, 116, 11
It is advantageous that the surfaces of 8, 120 and 122 are subjected to a so-called knurling process (grooving process) or the like to increase the friction coefficient.

【0025】上記端部分離手段4の作用は次の通りであ
る。上述した通りにして基板40の前端部が端部分離位
置に位置せしめられ、クランプ手段54が基板40をか
かる位置に保持した時点においては、端部分離手段4の
主支持枠体60は、図2に2点鎖線60Aで示す移動開
始位置に位置せしめられている。かかる状態においては
主支持枠体60及びこれに装着された副支持枠体78
は、基板40から幅方向片側に離隔せしめられている。
端部分離手段4の作用は、幅方向移動手段を構成するシ
リンダ機構70の作動によって、主支持枠体60(及び
これに装着された副支持枠体78)を上記移動開始位置
60Aから図2に2点鎖線60Bで示す折り返し位置ま
で幅方向に往動せしめ、そして更に折り返し位置60B
から移動開始位置60Aまで復動せしめることによって
遂行される。上記折り返し位置60Bにおいては、主支
持枠体60及びこれに装着された副支持枠体78は基板
40から幅方向他側に離隔して位置する。
The operation of the end separating means 4 is as follows. As described above, when the front end of the substrate 40 is positioned at the end separation position, and the clamping means 54 holds the substrate 40 at such a position, the main support frame 60 of the end separation means 4 2 is located at the movement start position indicated by the two-dot chain line 60A. In this state, the main support frame 60 and the sub support frame 78 attached thereto are mounted.
Are separated from the substrate 40 to one side in the width direction.
The operation of the end separating means 4 is such that the main support frame 60 (and the sub-support frame 78 attached thereto) is moved from the above-mentioned movement start position 60A by the operation of the cylinder mechanism 70 constituting the width direction moving means. To the turning position shown by the two-dot chain line 60B in the width direction, and further turning back to the turning position 60B.
This is accomplished by moving the robot back to the movement start position 60A. At the folded position 60B, the main support frame 60 and the sub-support frame 78 mounted on the main support frame 60 are separated from the substrate 40 on the other side in the width direction.

【0026】主支持枠体60及びこれに装着された副支
持枠体78が上述した通りに往復動せしめられる間に
は、片側(上側)圧接ローラ92、94、96及び98
と他側(下側)圧接ローラ116、118、120及び
122との間に基板40が挟み込まれ、基板40の上面
に貼着されている保護フィルム59の前端部(一端部)
に片側圧接ローラ92、94、96及び98が擦り作用
を加えると共に、基板40の下面に貼着されている保護
フィルム59の前端部に他側圧接ローラ116、11
8、120及び122が擦り作用を加え、かくして保護
フィルム59の前端部が基板40から分離せしめられ
る。所望ならば、端部分離手段4を幅方向に移動せしめ
ることに代えて、基板40を幅方向に移動せしてもよ
い。
While the main support frame 60 and the sub-support frame 78 mounted on the main support frame 60 are reciprocated as described above, one-side (upper) pressing rollers 92, 94, 96 and 98 are provided.
The front end (one end) of the protective film 59 which is sandwiched between the substrate 40 and the other (lower) pressure contact rollers 116, 118, 120 and 122, and is adhered to the upper surface of the substrate 40
The pressing rollers 92, 94, 96 and 98 apply a rubbing action to the front side of the protective film 59 attached to the lower surface of the substrate 40.
8, 120 and 122 apply a rubbing action, and thus the front end of the protective film 59 is separated from the substrate 40. If desired, the substrate 40 may be moved in the width direction instead of moving the end separation means 4 in the width direction.

【0027】而して、本発明に従って構成されたフィル
ム剥離装置においては、端部分離手段4には片側案内ロ
ーラ100及び102並びに他側案内ローラ124及び
126も配設されており、片側圧接ローラ92、94、
96及び98が他側圧接ローラ116、118、120
及び122に接触せしめられた状態において、片側案内
ローラ100及び102と他側案内ローラ124及び1
26との間には若干の間隙が存在せしめられている。そ
れ故に、基板40が比較的薄い場合でも比較的厚い場合
でも、基板40を損傷せしめることなく充分円滑に基板
40が片側圧接ローラ92、94、96及び98と他側
圧接ローラ116、118、120及び122との間に
挟み込まれる。
In the film peeling apparatus constructed in accordance with the present invention, the end separating means 4 is also provided with one-side guide rollers 100 and 102 and the other-side guide rollers 124 and 126. 92, 94,
96 and 98 are the other-side pressing rollers 116, 118, 120
And 122, one-side guide rollers 100 and 102 and the other-side guide rollers 124 and 1 are in contact with each other.
There is a slight gap between the gap 26 and the center. Therefore, regardless of whether the substrate 40 is relatively thin or relatively thick, the substrate 40 can be sufficiently smoothly pressed with the one-side pressing rollers 92, 94, 96 and 98 and the other-side pressing rollers 116, 118, 120 without damaging the substrate 40. And 122.

【0028】更に詳述すると、基板40が比較的薄くて
その剛性が比較的小さい場合、案内ローラ100、10
2、124及び126が存在しない時には、基板40が
片側圧接ローラ92、94、96及び98と他側圧接ロ
ーラ116、118、120及び122との間に円滑に
挟み込まれず、基板40が幅方向に湾曲され或いは基板
40の側縁部が損傷せしめられるおそれが少なくない。
しかしながら、本発明に従って案内ローラ100、10
2、124及び126が配設されている場合には、基板
40は、最初に案内ローラ対100及び124或いは1
02及び126間に存在する若干の間隙に進入し、次い
で案内ローラ対100及び124或いは102及び12
6の案内作用によって、圧接ローラ対96及び120或
いは98及び122間に導かれ、そして案内ローラ対1
00及び124或いは102及び126による支持によ
って、その見かけ上の剛性が増大せしめられ、かくして
充分円滑に圧接ローラ対96及び120或いは98及び
122間に導入せしめられる。
More specifically, when the substrate 40 is relatively thin and its rigidity is relatively small, the guide rollers 100, 10
When there are no 2, 124 and 126, the substrate 40 is not smoothly sandwiched between the one-side pressing rollers 92, 94, 96 and 98 and the other-side pressing rollers 116, 118, 120 and 122, and the substrate 40 It is not unlikely that the substrate 40 is curved or the side edge of the substrate 40 is damaged.
However, according to the invention, the guide rollers 100, 10
In the case where 2, 124 and 126 are provided, the substrate 40 is first loaded with the guide roller pair 100 and 124 or 1
02 and 126 and then into guide roller pairs 100 and 124 or 102 and 12
6 and is guided between the pressure roller pairs 96 and 120 or 98 and 122, and
The support by 00 and 124 or 102 and 126 increases its apparent stiffness and is thus introduced sufficiently smoothly between the pressure roller pairs 96 and 120 or 98 and 122.

【0029】また、基板40が比較的厚い場合にも、案
内ローラ100、102、124及び126が存在しな
い時には、基板40が片側圧接ローラ92、94、96
及び98と他側圧接ローラ116、118、120及び
122との間に円滑に挟み込まれず、基板40の側縁部
が損傷せしめられるおそれが少なくない。しかしなが
ら、本発明に従って案内ローラ100、102、124
及び126が配設されている場合には、基板40は最初
に案内ローラ対100及び124或いは102及び12
6間に進入し、かくすると基板40の厚さが案内ローラ
対100及び124或いは102及び126間の初期間
隙tよりも大きい故に、副支持枠体78が主支持枠体6
0に対して幾分上昇せしめられ、従って圧接ローラ対9
6及び120或いは98及び122が相互に若干離隔せ
しめられる。しかる後に、案内ローラ対100及び12
4或いは102及び126の案内作用によって圧接ロー
ラ対96及び120或いは98及び122間に導かれ、
若干離隔せしめられている圧接ローラ対96及び120
或いは98及び122間に充分円滑に進入せしめられ
る。
Further, even when the substrate 40 is relatively thick, when the guide rollers 100, 102, 124, and 126 are not present, the substrate 40 is pressed against the one-side pressing rollers 92, 94, 96.
, 98 and the other-side pressing rollers 116, 118, 120, and 122, the side edges of the substrate 40 are likely to be damaged. However, according to the present invention, the guide rollers 100, 102, 124
And 126 are provided, the substrate 40 is initially loaded with guide roller pairs 100 and 124 or 102 and 12
6 and thus the thickness of the substrate 40 is greater than the initial gap t between the guide roller pairs 100 and 124 or 102 and 126, so that the sub support frame 78 is
0 and therefore the pressure roller pair 9
6 and 120 or 98 and 122 are slightly spaced from each other. Thereafter, the guide roller pairs 100 and 12
4 or 102 and 126 is guided between the press roller pairs 96 and 120 or 98 and 122,
Press roller pairs 96 and 120 slightly spaced
Alternatively, it can be entered sufficiently smoothly between 98 and 122.

【0030】図1を参照して説明を続けると、図示の実
施形態における剥離手段6は、フィルム剥離搬送手段1
32及び気体噴射手段134を具備している。そして、
フィルム剥離搬送手段132は、片側(上側)ベルト機
構136と他側(下側)ベルト機構138を含んでい
る。
Continuing the description with reference to FIG. 1, the peeling means 6 in the illustrated embodiment comprises the film peeling and conveying means 1
32 and gas injection means 134. And
The film peeling / conveying means 132 includes a one-side (upper) belt mechanism 136 and the other-side (lower) belt mechanism 138.

【0031】図1と共に図5を参照して片側ベルト機構
136について説明すると、装置全体の静止基枠(図示
していない)には、基板40の搬送方向及び上下方向に
適宜の間隔をおいて実質上水平に延びる5本の回転軸1
40、142、144、146及び148が回転自在に
装着されている。回転軸140には幅方向に適宜の間隔
をおいて複数個の上流下部ベルト車150が固定され、
回転軸142には幅方向に間隔をおいて複数個の中央下
部ベルト車152が固定され、回転軸144には幅方向
に間隔をおいて複数個の下流下部ベルト車154が固定
され、回転軸146には幅方向に間隔をおいて複数個の
中間部ベルト車156が固定され、そして回転軸148
には幅方向に間隔をおいて複数個の上部ベルト車158
が固定されている。
Referring to FIG. 5 together with FIG. 1, the one-side belt mechanism 136 will be described. A stationary base frame (not shown) of the entire apparatus is provided with an appropriate interval in the transport direction of the substrate 40 and the vertical direction. Five rotating shafts 1 extending substantially horizontally
40, 142, 144, 146 and 148 are rotatably mounted. A plurality of upstream lower belt wheels 150 are fixed to the rotating shaft 140 at appropriate intervals in the width direction,
A plurality of central lower belt wheels 152 are fixed to the rotating shaft 142 at intervals in the width direction, and a plurality of downstream lower belt wheels 154 are fixed to the rotating shaft 144 at intervals in the width direction. A plurality of intermediate belt wheels 156 are fixed to 146 at intervals in the width direction.
The plurality of upper belt wheels 158 are spaced apart in the width direction.
Has been fixed.

【0032】中央下部ベルト車152の各々と中間部ベ
ルト車156の各々とには、無端内側ベルト160が巻
き掛けられている。また、上流下部ベルト車150の各
々、上部ベルト車158の各々、下流下部ベルト車15
4の各々及び中間部ベルト車156の各々には、無端外
側ベルト162が巻き掛けられている。図1から明確に
理解される通り、内側ベルト160と外側ベルト162
は協働して、基板40の上面の上方を先ず上方に延び、
次いで方向逆転して下方に延びる略U字形状のフィルム
搬送径路を規定する。かような片側ベルト機構136は
電動モータでよい駆動源(図示していない)に駆動連結
されており、矢印164で示す方向に回転駆動せしめら
れる。
An endless inner belt 160 is wound around each of the central lower belt wheel 152 and each of the intermediate belt wheels 156. Further, each of the upper and lower belt pulleys 150, 158, and the lower and lower belt pulleys 15
4 and each of the intermediate belt wheels 156, an endless outer belt 162 is wound therearound. As can be clearly understood from FIG. 1, the inner belt 160 and the outer belt 162
Cooperate to first extend upward above the upper surface of the substrate 40,
Next, a substantially U-shaped film transport path extending in the opposite direction and extending downward is defined. The one-side belt mechanism 136 is drivingly connected to a driving source (not shown) which may be an electric motor, and is driven to rotate in a direction indicated by an arrow 164.

【0033】図1及び図5を参照して説明を続けると、
上記回転軸142に近接してその幾分下流側には、実質
上水平に延びる支持軸166が配設されている。かかる
支持軸166は、その両端部を上下方向に延びる細長い
スロット168内に挿入せしめることによって、実線で
示す最下降位置と2点鎖線で示す最上昇位置との間を移
動自在に装着されている。そして、この支持軸166
に、上記補助案内ローラ36が幅方向に間隔をおいて複
数個回転自在に装着されている。上記補助ローラ28と
補助案内ローラ36との間に基板40が存在しない時に
は、補助案内ローラ36は実線で示す最下降位置に位置
し、補助ローラ28に接触せしめられている。補助ロー
ラ28と補助案内ローラ36との間に基板40が進入せ
しめられると、補助案内ローラ36(及びその支持軸1
66)は基板40の厚さ分だけ上昇せしめられる。
Continuing the description with reference to FIGS. 1 and 5,
A substantially horizontal support shaft 166 is disposed adjacent to and somewhat downstream of the rotary shaft 142. The support shaft 166 is movably mounted between a lowermost position indicated by a solid line and a highest position indicated by a two-dot chain line by inserting both ends of the support shaft 166 into an elongated slot 168 extending vertically. . And, this support shaft 166
A plurality of auxiliary guide rollers 36 are rotatably mounted at intervals in the width direction. When the substrate 40 does not exist between the auxiliary roller 28 and the auxiliary guide roller 36, the auxiliary guide roller 36 is located at the lowest position shown by the solid line and is in contact with the auxiliary roller 28. When the substrate 40 enters between the auxiliary roller 28 and the auxiliary guide roller 36, the auxiliary guide roller 36 (and the support shaft 1 thereof)
66) is raised by the thickness of the substrate 40.

【0034】図1を参照して他側(下側)ベルト機構1
38について説明すると、静止基枠(図示していない)
には、基板40の搬送方向及び上下方向に適宜の間隔を
おいて、実質上水平に延びる4本の回転軸170、17
2、174及び176が回転自在に装着されている。回
転軸170には幅方向に間隔をおいて複数個の上流下部
ベルト車178が固定され、回転軸172には幅方向に
間隔をおいて複数個の上流上部ベルト車180が固定さ
れ、回転軸174には幅方向に間隔をおいて複数個の下
流下部ベルト車182が固定され、そして回転軸176
には幅方向に間隔をおいて複数個の下流上部ベルト車1
84が固定されている。
Referring to FIG. 1, another (lower) belt mechanism 1
38, a stationary base frame (not shown)
The four rotating shafts 170, 17 extending substantially horizontally at appropriate intervals in the transport direction of the substrate 40 and the vertical direction.
2, 174 and 176 are rotatably mounted. A plurality of upstream lower belt wheels 178 are fixed to the rotating shaft 170 at intervals in the width direction, and a plurality of upper upper belt wheels 180 are fixed to the rotating shaft 172 at intervals in the width direction. A plurality of downstream lower sheaves 182 are fixed to the shaft 174 at intervals in the width direction.
Has a plurality of downstream upper belt wheels 1 spaced apart in the width direction.
84 is fixed.

【0035】上流下部ベルト車178の各々と上流上部
ベルト車180の各々とには、無端上流側ベルト186
が巻き掛けられ、下流下部ベルト車182の各々と下流
上部ベルト車184の各々とには、無端下流側ベルト1
88が巻き掛けられている。上流側ベルト186と下流
側ベルト188とは協働して実質上鉛直に下方に延びる
フィルム搬送路を規定する。かような他側ベルト機構1
38も電動モータでよい駆動源(図示していない)に駆
動連結されており、矢印164で示す方向に回転駆動さ
れる。
Each of the upstream lower belt wheel 178 and the upstream upper belt wheel 180 has an endless upstream belt 186.
Is wound around each of the downstream lower belt wheel 182 and each of the downstream upper belt wheel 184.
88 are wound. The upstream belt 186 and the downstream belt 188 cooperate to define a substantially vertically downward film transport path. Such other side belt mechanism 1
Reference numeral 38 is also drivingly connected to a drive source (not shown) which may be an electric motor, and is rotationally driven in a direction indicated by an arrow 164.

【0036】図1を参照して説明を続けると、気体噴射
手段134は、片側(上側)気体噴射手段190と他側
(下側)気体噴射手段192を含んでいる。図1と共に
図6を参照して説明すると、片側気体噴射手段190は
幅方向に実質上水平に延在する中空円筒部材194を有
する。この円筒部材194の両端には閉鎖片196が固
定されており、かかる閉鎖片には直方体形状の被支持突
起198が形成されている。被支持突起198を上下方
向に延びる細長いスロット200内に挿入することによ
って、円筒部材194は実線で示す最下降位置と2点鎖
線で示す最上昇位置との間を上下方向に移動自在に、し
かしながら回転不能に支持されている。円筒部材194
の上流側面には、幅方向に間隔をおいて複数個の気体噴
射孔202が形成されている。円筒部材194は、可撓
性ホースの如き適宜の連通手段(図示していない)によ
って圧縮気体供給源(図示していない)に接続されてお
り、圧縮空気でよい圧縮気体が気体噴射孔202から噴
射せしめられる。
Continuing the description with reference to FIG. 1, the gas injection means 134 includes one (upper) gas injection means 190 and the other (lower) gas injection means 192. Referring to FIG. 6 together with FIG. 1, the one-sided gas injection means 190 has a hollow cylindrical member 194 extending substantially horizontally in the width direction. Closing pieces 196 are fixed to both ends of the cylindrical member 194, and support projections 198 having a rectangular parallelepiped shape are formed on the closing pieces. By inserting the supported projection 198 into the elongated slot 200 extending in the vertical direction, the cylindrical member 194 is vertically movable between the lowest position shown by the solid line and the highest position shown by the two-dot chain line. It is supported so that it cannot rotate. Cylindrical member 194
A plurality of gas injection holes 202 are formed on the upstream side surface at intervals in the width direction. The cylindrical member 194 is connected to a compressed gas supply source (not shown) by an appropriate communication means (not shown) such as a flexible hose. It is injected.

【0037】図示の実施形態においては、更に、上記円
筒部材194に、上述した補助ローラ38が幅方向に間
隔をおいて複数個回転自在に装着されている。かかる補
助ローラ38と搬送ローラ20との間に基板40が存在
しない時には、補助ローラ38は実線で示す最下降位置
に位置し、搬送ローラ20に接触せしめられている。補
助ローラ38と搬送ローラ20との間に基板40が進入
せしめられると、補助ローラ38及び円筒部材194
は、基板40の厚さ分だけ上昇せしめられる。かように
円筒部材194はその下側を通して搬送せしめられる基
板40の厚さに応じて上昇せしめられ、従って基板40
の厚さが変化しても基板40の表面に対する円筒部材1
94、更に詳しくはその気体噴射孔202の位置は実質
上変化することがなく、基板40の表面に対する気体噴
射孔202から噴射せしめられる気体の作用は実質上変
化することなく所望関係に維持され続ける。
In the illustrated embodiment, a plurality of the auxiliary rollers 38 are rotatably mounted on the cylindrical member 194 at intervals in the width direction. When the substrate 40 does not exist between the auxiliary roller 38 and the transport roller 20, the auxiliary roller 38 is located at the lowest position shown by a solid line and is in contact with the transport roller 20. When the substrate 40 enters between the auxiliary roller 38 and the transport roller 20, the auxiliary roller 38 and the cylindrical member 194
Is raised by the thickness of the substrate 40. Thus, the cylindrical member 194 is raised according to the thickness of the substrate 40 conveyed through its lower side, and
Cylindrical member 1 with respect to the surface of substrate 40 even if the thickness of
94, more specifically, the position of the gas injection holes 202 does not substantially change, and the effect of the gas injected from the gas injection holes 202 on the surface of the substrate 40 remains substantially unchanged and does not change. .

【0038】図1と共に図5を参照して説明すると、他
側(下側)気体噴射手段192は、実質上水平に延びる
中空円筒部材204を有する。かかる円筒部材204の
両端は、適宜の閉鎖片によって閉じられていると共に所
要位置に固定されている。円筒部材204の上流側面に
は、幅方向に間隔をおいて複数個の気体噴射孔206が
形成されている。かかる円筒部材204も可撓性ホース
でよい連通手段(図示していない)によって圧縮気体供
給源(図示していない)に接続されており、圧縮空気で
よい圧縮気体が気体噴射孔206から噴射せしめられ
る。円筒部材204には、上記補助ローラ28が幅方向
に間隔をおいて複数個回転自在に装着されている。
Referring to FIG. 5 together with FIG. 1, the other side (lower side) gas injection means 192 has a hollow cylindrical member 204 extending substantially horizontally. Both ends of the cylindrical member 204 are closed by a suitable closing piece and fixed at a required position. A plurality of gas injection holes 206 are formed on the upstream side surface of the cylindrical member 204 at intervals in the width direction. The cylindrical member 204 is also connected to a compressed gas supply source (not shown) by a communicating means (not shown) which may be a flexible hose, and a compressed gas which may be compressed air is injected from the gas injection hole 206. Can be A plurality of the auxiliary rollers 28 are rotatably mounted on the cylindrical member 204 at intervals in the width direction.

【0039】上述した通りの剥離手段6の作用は次の通
りである。主として図1を参照して説明すると、上面及
び下面に貼着されている保護フィルム59の前端部が端
部分離手段4の作用によって部分的に分離された状態
で、基板40が搬送されてくると、基板40の上面側に
おいては、片端(上側)気体噴射手段190から、更に
詳しくは円筒部材194の気体噴射孔202から噴射さ
れた圧縮気体流が、基板40とそこから部分的に分離さ
れた保護フィルム59の前端部との間に吹き付けられ、
これによって保護フィルム59の分離が促進され、そし
てまた分離された保護フィルム59の前端部が上方に偏
向せしめられる。
The operation of the peeling means 6 as described above is as follows. Mainly referring to FIG. 1, the substrate 40 is transported in a state where the front ends of the protective films 59 attached to the upper surface and the lower surface are partially separated by the action of the end separating means 4. On the upper surface side of the substrate 40, the compressed gas flow injected from one end (upper) gas injection means 190, more specifically from the gas injection holes 202 of the cylindrical member 194, is partially separated from the substrate 40. Sprayed between the protective film 59 and the front end thereof.
This promotes the separation of the protective film 59, and also deflects the front end of the separated protective film 59 upward.

【0040】上方に偏向せしめられた保護フィルム59
は、矢印42で示す方向に回転せしめられている補助案
内ローラ36の周表面に接触せしめられ、かかる補助案
内ローラ36に案内されて片側(上側)ベルト機構13
6の内側ベルト160と外側ベルト162との間に導か
れる。しかる後においては、内側ベルト160及び外側
ベルト162の協働によって保護フィルム59が矢印1
64で示す方向に積極的に搬送され、基板40の搬送に
応じて保護フィルム59が基板40から漸次剥離され
る。内側ベルト160と外側ベルト162との協働によ
って基板40から完全に剥離された保護フィルム59
は、更に矢印164で示す方向に搬送され続け、片側ベ
ルト機構136の下方を基板40が通過した後に、図1
に矢印208で示す如く、基板40の搬送径路を通して
下方に搬送されて、他側(下側)ベルト機構138に導
かれる。そして更に他側ベルト機構138によって下方
に搬送されて、収集箱(図示していない)内に排出され
る。
The protective film 59 deflected upward.
Is brought into contact with the peripheral surface of the auxiliary guide roller 36 which is rotated in the direction indicated by the arrow 42, and is guided by the auxiliary guide roller 36 so that the one-side (upper) belt mechanism 13
6 is guided between the inner belt 160 and the outer belt 162. Thereafter, the cooperation of the inner belt 160 and the outer belt 162 causes the protection film 59 to move in the direction indicated by the arrow 1.
The protective film 59 is positively transported in the direction indicated by 64 and the protective film 59 is gradually peeled off from the substrate 40 in accordance with the transport of the substrate 40. The protective film 59 completely separated from the substrate 40 by the cooperation of the inner belt 160 and the outer belt 162
Is further continued in the direction indicated by the arrow 164, and after the substrate 40 has passed below the one-side belt mechanism 136, FIG.
As shown by an arrow 208 in FIG. 2, the substrate is conveyed downward through the conveyance path of the substrate 40 and guided to the other (lower) belt mechanism 138. Then, it is further conveyed downward by the other side belt mechanism 138 and discharged into a collection box (not shown).

【0041】基板40の上面に貼着されている保護フィ
ルム59の上述した通りの剥離作用に関しては、補助案
内ローラ36の存在が着目されるべきである。特に基板
40が比較的薄い時に、基板40の表面と片側ベルト機
構136における内側ベルト160の最下端部との間
に、幾分かの間隙が存在する。それ故に、補助案内ロー
ラ36が存在しない場合には、基板40から剥離された
保護フィルム59の前端部が、内側ベルト160と外側
ベルト162との間に所要通りに導入されることなく、
基板40と内側ベルト160の最下端部との間に進入し
てしまうおそれが少なくない。然るに、基板40の厚さ
に応じて昇降され常に基板40の上面に接触せしめられ
る補助案内ローラ36は、保護フィルム59の前端部が
内側ベルト160の最下端部の下方に進入するのを防止
し、保護フィルム59の前端部を内側ベルト160と外
側ベルト162との間に確実に案内する。
Regarding the peeling action of the protective film 59 stuck on the upper surface of the substrate 40 as described above, attention should be paid to the existence of the auxiliary guide roller 36. Particularly when the substrate 40 is relatively thin, there is some gap between the surface of the substrate 40 and the lowermost end of the inner belt 160 in the one-side belt mechanism 136. Therefore, when the auxiliary guide roller 36 is not present, the front end of the protective film 59 peeled from the substrate 40 is not introduced between the inner belt 160 and the outer belt 162 as required.
There is not a few dangers of entering between the substrate 40 and the lowermost end of the inner belt 160. However, the auxiliary guide roller 36, which is raised and lowered according to the thickness of the substrate 40 and is always in contact with the upper surface of the substrate 40, prevents the front end of the protective film 59 from entering below the lowermost end of the inner belt 160. In addition, the front end of the protective film 59 is reliably guided between the inner belt 160 and the outer belt 162.

【0042】基板40の下面側においては、他側(下
側)気体噴射手段192から、更に詳しくは円筒部材2
04の気体噴射孔206から噴射された圧縮気体流が、
基板40とそこから部分的に分離された保護フィルム5
9の前端部との間に吹き付けられ、これによって保護フ
ィルム59の分離が促進され、そしてまた分離された保
護フィルム59の前端部が下方に偏向せしめられる。下
方に偏向せしめられた保護フィルム59は、他側(下
側)ベルト機構138の上流側ベルト186と下流側ベ
ルト188との間に導かれる。しかる後においては、上
流側ベルト186及び下流側ベルト188の協働によっ
て保護フィルム59が矢印164で示す方向に積極的に
搬送され、基板40の搬送に応じて保護フィルム59が
基板40から漸次剥離される。上流側ベルト186と下
流側ベルト188との協働によって基板40から完全に
剥離された保護フィルム59は、更に矢印164で示す
方向に搬送され続けて、他側ベルト機構138の下方に
配設されている収集箱(図示していない)内に排出され
る。
On the lower surface side of the substrate 40, the other side (lower side) gas injection means 192, more specifically, the cylindrical member 2
The compressed gas flow injected from the gas injection hole 206 of No. 04 is
Substrate 40 and protective film 5 partially separated therefrom
9 between the protective film 59 and the front end of the protective film 59, thereby promoting the separation of the protective film 59, and also deflecting the front end of the separated protective film 59 downward. The protective film 59 deflected downward is guided between the upstream belt 186 and the downstream belt 188 of the other (lower) belt mechanism 138. Thereafter, the protection film 59 is positively conveyed in the direction indicated by the arrow 164 by cooperation of the upstream belt 186 and the downstream belt 188, and the protection film 59 is gradually peeled off from the substrate 40 in accordance with the conveyance of the substrate 40. Is done. The protection film 59 completely separated from the substrate 40 by the cooperation of the upstream belt 186 and the downstream belt 188 continues to be further transported in the direction indicated by the arrow 164, and is disposed below the other belt mechanism 138. Into a collection box (not shown).

【0043】以上、本発明に従って構成されたフィルム
剥離装置の実施形態について添付図面を参照して詳細に
説明したが、本発明はかかる実施形態に限定されるもの
ではなく、本発明の範囲を逸脱することなく種々の変形
乃至修正が可能であることは多言を要しない。例えば、
図示の実施形態においては、基板40を実質上水平な状
態で搬送しているが、所望ならば、基板40を実質上鉛
直な状態にせしめて搬送し、かかる基板40の片面又は
両面に対して端部分離手段4及び剥離手段6を作用せし
めることもできる。
As described above, the embodiment of the film peeling apparatus constituted according to the present invention has been described in detail with reference to the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to such an embodiment and departs from the scope of the present invention. It is not necessary to say that various changes and modifications can be made without doing so. For example,
In the illustrated embodiment, the substrate 40 is transported in a substantially horizontal state. However, if desired, the substrate 40 is transported in a substantially vertical state. The edge separating means 4 and the peeling means 6 can also be operated.

【0044】また、図示の実施形態においては、端部分
離手段4において上下方向に移動自在に装着されている
副支持枠体78に上側圧接ローラ92、94、96及び
98並びに上側案内ローラ100及び102を装着して
いるが、所望ならば図示の実施形態の場合とは逆に上下
方向に移動自在に装着されている副支持枠体78に下側
圧接ローラ116、118、120及び122並びに下
側案内ローラ124及び126を装着することもでき
る。
In the illustrated embodiment, the upper pressing rollers 92, 94, 96 and 98, the upper guide rollers 100 and the upper pressing rollers 92 are attached to the sub support frame 78 which is movably mounted in the vertical direction in the end separating means 4. The lower pressing rollers 116, 118, 120 and 122 and the lower pressing roller 102 are mounted on the sub-supporting frame 78 which is mounted movably in the up and down direction, contrary to the case of the illustrated embodiment, if desired. Side guide rollers 124 and 126 can also be mounted.

【0045】更に、図示の実施形態における端部分離手
段4においては、圧接ローラ92、94、96及び98
並びに116、118、120及び122の両側に夫々
1個の案内ローラ100及び102並びに124及び1
26を配設しているが、所望ならば夫々の両側に複数個
の案内ローラを配設し、そして幅方向外側から内側に向
けて案内ローラ対間の間隙が漸次小さくなるように構成
することもできる。また、片側ベルト機構136或いは
他側ベルト機構138によって搬送される保護フィルム
59が帯電されることによってその円滑な搬送が阻害さ
れることを回避するために、所望ならば、例えば片側ベ
ルト機構136の保護フィルム搬送径路の出口近傍或い
は他側ベルト機構138の保護フィルム搬送径路の出口
近傍等に、接地された除電ブラシの如き除電手段を配設
することもできる。また、片側ベルト機構136から他
側ベルト機構138に保護フィルム59が円滑に搬送さ
れるように、両者間に適宜の案内部材を配設することも
できる。
Further, in the end separation means 4 in the illustrated embodiment, the pressing rollers 92, 94, 96 and 98
And one guide roller 100 and 102 and 124 and 1 on each side of 116, 118, 120 and 122, respectively.
26, but if desired, a plurality of guide rollers are provided on each side thereof, and the gap between the guide roller pairs is gradually reduced from the outside to the inside in the width direction. Can also. Further, in order to prevent the smooth conveyance of the protective film 59 conveyed by the one-side belt mechanism 136 or the other-side belt mechanism 138 from being hindered, if necessary, for example, the one-side belt mechanism 136 A static elimination means such as a grounded static elimination brush may be provided near the exit of the protection film conveyance path or near the exit of the protection film conveyance path of the other side belt mechanism 138. In addition, an appropriate guide member may be provided between the one belt mechanism 136 and the other belt mechanism 138 so that the protection film 59 is smoothly transported to the other belt mechanism 138.

【0046】[0046]

【発明の効果】本発明のフィルム剥離装置によれば、基
板の厚さが比較的薄い場合及び比較的厚い場合において
も、基板に損傷等を発生せしめることなく基板は気体噴
射手段を通って所望のとおり充分円滑に搬送せしめられ
る。また気体噴射手段を比較的コンパクトでしかも比較
的低コストにて実用化することができる。
According to the film peeling apparatus of the present invention, even when the thickness of the substrate is relatively thin or relatively thick, the substrate can be passed through the gas injection means without damaging the substrate. It can be transported sufficiently smoothly. Further, the gas injection means can be put into practical use at a relatively compact and relatively low cost.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に従って構成されたフィルム剥離装置の
実施形態を示す簡略側面図。
FIG. 1 is a simplified side view showing an embodiment of a film peeling device configured according to the present invention.

【図2】図1のフィルム剥離装置における主として端部
分離手段を示す部分斜面図。
FIG. 2 is a partial oblique view mainly showing an end separating means in the film peeling device of FIG. 1;

【図3】図1のフィルム剥離装置における端部分離手段
の一部を示す部分正面部。
FIG. 3 is a partial front view showing a part of an end separating means in the film peeling device of FIG. 1;

【図4】図1のフィルム剥離装置における端部分離手段
の一部を示す部分断面図。
FIG. 4 is a partial cross-sectional view showing a part of an end separating means in the film peeling device of FIG.

【図5】図1のフィルム剥離装置における剥離手段の一
部を示す部分斜面図。
FIG. 5 is a partial slope view showing a part of a peeling means in the film peeling device of FIG. 1;

【図6】図1のフィルム剥離装置における剥離手段の片
側気体噴射手段を示す部分斜面図。
FIG. 6 is a partial oblique view showing one-side gas injection means of the peeling means in the film peeling apparatus of FIG. 1;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2 基板搬送手段 4 端部分離手段 6 剥離手段 28 補助ローラ 36 補助案内ローラ 38 補助ローラ 40 基板 46 案内手段 48 支持アーム 50 案内ローラ 54 クランプ手段 59 保護フィルム 60 主支持枠体 70 シリンダ機構(幅方向移動手段) 78 副支持枠体 92、94、96、98 圧接ローラ 100、102 案内ローラ 116、118、120、122 圧接ローラ 124、126 案内ローラ 132 フィルム剥離搬送手段 134 気体噴射手段 136 片側ベルト機構 138 他側ベルト機構 150 上流下部ベルト車 152 中央下部ベルト車 154 下流下部ベルト車 156 中間部ベルト車 158 上部ベルト車 160 内側ベルト 162 外側ベルト 190 片側気体噴射手段 192 他側気体噴射手段 194 円筒部材 202 気体噴射孔 204 円筒部材 206 気体噴射孔 2 Substrate conveying means 4 End separation means 6 Peeling means 28 Auxiliary roller 36 Auxiliary guide roller 38 Auxiliary roller 40 Substrate 46 Guide means 48 Support arm 50 Guide roller 54 Clamp means 59 Protective film 60 Main support frame 70 Cylinder mechanism (width direction) Moving means) 78 Sub-supporting frame bodies 92, 94, 96, 98 Pressing rollers 100, 102 Guide rollers 116, 118, 120, 122 Pressing rollers 124, 126 Guide rollers 132 Film peeling / conveying means 134 Gas ejecting means 136 One-side belt mechanism 138 Other belt mechanism 150 Upstream lower belt wheel 152 Central lower belt wheel 154 Downstream lower belt wheel 156 Middle belt wheel 158 Upper belt wheel 160 Inner belt 162 Outer belt 190 One-side gas injection means 192 Other-side gas injection means 194 Cylindrical section 202 gas injection holes 204 cylindrical member 206 gas injection holes

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 少なくとも片面にはフィルムが貼着され
ている基板を所定方向に搬送せしめる基板搬送手段と、
該フィルムの前端部を該基板から部分的に分離せしめる
端部分離手段と、該前端部が部分的に分離された該フィ
ルムを該基板から完全に分離せしめる剥離手段とを具備
し、該基板搬送手段は該基板の搬送経路を規定する回転
搬送部材を含み、該剥離手段は該所定方向に移動せしめ
られている該基板と該フィルムの該前端部との間に圧縮
気体を噴射せしめる気体噴射手段を含む、フィルム剥離
装置において、 該気体噴射手段は、該基板の幅方向に延在し且つ気体噴
射孔が形成されている筒状部材と、該筒状部材に回転自
在に装着され該所定方向に搬送される該基板に作用する
補助ローラとを含んでいる、ことを特徴とするフィルム
剥離装置。
1. A substrate transport means for transporting a substrate having a film adhered on at least one surface thereof in a predetermined direction;
An edge separating means for partially separating the front end of the film from the substrate; and a peeling means for completely separating the film from which the front end is partially separated from the substrate. The means includes a rotary conveying member for defining a conveying path of the substrate, and the peeling means for injecting a compressed gas between the substrate moved in the predetermined direction and the front end of the film. In the film peeling apparatus, the gas ejecting means includes: a tubular member extending in a width direction of the substrate and having a gas ejecting hole formed therein; And an auxiliary roller acting on the substrate conveyed to the film.
【請求項2】 該気体噴射孔は該基板の幅方向に間隔を
おいて複数個該筒状部材に形成されており、該補助ロー
ラは該気体噴射孔間に装着されている、請求項1記載の
フィルム剥離装置。
2. The gas injection holes are formed in the cylindrical member at intervals in the width direction of the substrate, and the auxiliary roller is mounted between the gas injection holes. The film peeling device as described in the above.
【請求項3】 該基板にはその両面にフィルムが貼着さ
れており、該基板搬送手段は該基板を実質上水平な状態
で搬送し、該剥離手段は該基板の上面側と下面側の双方
に配設されている、請求項1又は2記載のフィルム剥離
装置。
3. A film is stuck on both surfaces of the substrate, the substrate transport means transports the substrate in a substantially horizontal state, and the peeling means transports the upper and lower surfaces of the substrate. 3. The film peeling device according to claim 1, which is provided on both sides.
【請求項4】 該基板の上面側に配設されている該剥離
手段の該気体噴射手段における該筒状部材は上下方向に
移動自在に装着されており、該筒状部材に装着された該
補助ローラは該基板の上面に圧接せしめられる、請求項
3記載のフィルム剥離装置。
4. The tubular member of the gas ejecting means of the peeling means provided on the upper surface side of the substrate is mounted movably up and down, and the cylindrical member mounted on the tubular member is provided. The film peeling device according to claim 3, wherein the auxiliary roller is pressed against the upper surface of the substrate.
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