JPH1076137A - 六フッ化ウラン及び酸化性ガスを含む排ガスの処理方法 - Google Patents
六フッ化ウラン及び酸化性ガスを含む排ガスの処理方法Info
- Publication number
- JPH1076137A JPH1076137A JP8235675A JP23567596A JPH1076137A JP H1076137 A JPH1076137 A JP H1076137A JP 8235675 A JP8235675 A JP 8235675A JP 23567596 A JP23567596 A JP 23567596A JP H1076137 A JPH1076137 A JP H1076137A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- reactor
- powder
- uranium hexafluoride
- oxidizing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Landscapes
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
- Treating Waste Gases (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 排ガス中の六フッ化ウランを再利用の容易な
形態で連続的に安価に回収でき、廃棄物を発生させな
い。 【解決手段】 ２００〜７００℃に加熱された反応装置
１０内に六フッ化ウラン及び酸化性ガスを含む排ガスと
水蒸気と還元性ガスとを連続的に供給して反応装置内で
六フッ化ウランと水蒸気とを反応させることによりＵＯ
2Ｆ2粉末とＨＦガスを生成する。生成したＵＯ2Ｆ2粉末
とＨＦガスを各別に連続的に回収する。シード粉として
ＵＯ2Ｆ2粉末が充填された流動層反応装置１０を反応装
置として使用する場合、反応装置の供給ノズル３０より
六フッ化ウラン及び酸化性ガスを含む排ガスを反応装置
内に供給し、反応装置の分散板１３を介して水蒸気及び
還元性ガスを含むガスを流動用ガスとして反応装置内に
供給する。
形態で連続的に安価に回収でき、廃棄物を発生させな
い。 【解決手段】 ２００〜７００℃に加熱された反応装置
１０内に六フッ化ウラン及び酸化性ガスを含む排ガスと
水蒸気と還元性ガスとを連続的に供給して反応装置内で
六フッ化ウランと水蒸気とを反応させることによりＵＯ
2Ｆ2粉末とＨＦガスを生成する。生成したＵＯ2Ｆ2粉末
とＨＦガスを各別に連続的に回収する。シード粉として
ＵＯ2Ｆ2粉末が充填された流動層反応装置１０を反応装
置として使用する場合、反応装置の供給ノズル３０より
六フッ化ウラン及び酸化性ガスを含む排ガスを反応装置
内に供給し、反応装置の分散板１３を介して水蒸気及び
還元性ガスを含むガスを流動用ガスとして反応装置内に
供給する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ウランを六フッ化
ウラン（ＵＦ6）に転換する工場で発生するプロセス排
ガスに含まれるＵＦ6及び酸化性ガス（Ｆ2、ＲｕＦ5、
ＴｃＦ6等）を処理して、プロセス排ガスを非管理区域
に放出できるようにする方法に関する。更に詳しくはプ
ロセス排ガス中のＵＦ6及び酸化性ガスを再利用の容易
な形態に処理し回収する方法に関するものである。
ウラン（ＵＦ6）に転換する工場で発生するプロセス排
ガスに含まれるＵＦ6及び酸化性ガス（Ｆ2、ＲｕＦ5、
ＴｃＦ6等）を処理して、プロセス排ガスを非管理区域
に放出できるようにする方法に関する。更に詳しくはプ
ロセス排ガス中のＵＦ6及び酸化性ガスを再利用の容易
な形態に処理し回収する方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、商業規模で広く行われているプロ
セス排ガス中のＵＦ6の除去方法はＮａＦ、ＭｇＦ2、Ｃ
ｏＦ2等のフッ化物からなる固体吸着剤を収容した容器
を排ガスが通過する排気ラインに設けることにより、固
体吸着剤にＵＦ6を吸着させて除去する方法である。酸
化性ガスのうちでＦ2については、Ｆ2を排気ラインに設
けられた活性Ａｌ2Ｏ3からなる固体吸着剤と反応させて
ＡｌＦ3の形で固定化し、除去している。酸化性ガスの
うちでＲｕＦ5、ＴｃＦ6等の金属元素のフッ化物につい
ては、これらの全てを活性Ａｌ2Ｏ3等の固体吸着剤と反
応させて固定化し、除去することは困難であるため、最
終的にこれらの酸化性ガスを洗浄塔で凝縮液として回収
している。また酸化性ガスのうちで一部のものは水蒸気
と反応した場合、ＯＦ2、ＴｃＯ4、ＲｕＯ4等の揮発性
酸化物を生じ、この揮発性酸化物も最終的に洗浄塔で凝
縮液として回収している。
セス排ガス中のＵＦ6の除去方法はＮａＦ、ＭｇＦ2、Ｃ
ｏＦ2等のフッ化物からなる固体吸着剤を収容した容器
を排ガスが通過する排気ラインに設けることにより、固
体吸着剤にＵＦ6を吸着させて除去する方法である。酸
化性ガスのうちでＦ2については、Ｆ2を排気ラインに設
けられた活性Ａｌ2Ｏ3からなる固体吸着剤と反応させて
ＡｌＦ3の形で固定化し、除去している。酸化性ガスの
うちでＲｕＦ5、ＴｃＦ6等の金属元素のフッ化物につい
ては、これらの全てを活性Ａｌ2Ｏ3等の固体吸着剤と反
応させて固定化し、除去することは困難であるため、最
終的にこれらの酸化性ガスを洗浄塔で凝縮液として回収
している。また酸化性ガスのうちで一部のものは水蒸気
と反応した場合、ＯＦ2、ＴｃＯ4、ＲｕＯ4等の揮発性
酸化物を生じ、この揮発性酸化物も最終的に洗浄塔で凝
縮液として回収している。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記従来の方
法では固体吸着剤の定期的な交換が必要であり、この交
換作業は面倒であり、多くの時間と作業者を必要とし、
排ガスの処理を連続的に行うためには予備の吸着容器が
必要である問題点がある。また上記固体吸着剤は極めて
高価であり、排ガスの処理量に比例して定常的に消費さ
れ、吸着剤に吸着されたＵＦ6を回収することは困難で
あるため、使用済み吸着剤はそのまま廃棄物となる問題
点がある。更に酸化性ガス又は揮発性酸化物を洗浄塔で
凝縮液として回収する場合には、この凝集液は放射性廃
棄物となる問題点がある。本発明の目的は、プロセス排
ガス中の六フッ化ウラン及び酸化性ガスを再利用の容易
な形態で連続的に安価に回収でき、廃棄物を発生させる
ことがない六フッ化ウラン及び酸化性ガスを含む排ガス
の処理方法を提供することにある。
法では固体吸着剤の定期的な交換が必要であり、この交
換作業は面倒であり、多くの時間と作業者を必要とし、
排ガスの処理を連続的に行うためには予備の吸着容器が
必要である問題点がある。また上記固体吸着剤は極めて
高価であり、排ガスの処理量に比例して定常的に消費さ
れ、吸着剤に吸着されたＵＦ6を回収することは困難で
あるため、使用済み吸着剤はそのまま廃棄物となる問題
点がある。更に酸化性ガス又は揮発性酸化物を洗浄塔で
凝縮液として回収する場合には、この凝集液は放射性廃
棄物となる問題点がある。本発明の目的は、プロセス排
ガス中の六フッ化ウラン及び酸化性ガスを再利用の容易
な形態で連続的に安価に回収でき、廃棄物を発生させる
ことがない六フッ化ウラン及び酸化性ガスを含む排ガス
の処理方法を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】請求項１に係る発明は、
図１に示すように２００〜７００℃に加熱された反応装
置１０内に六フッ化ウラン及び酸化性ガスを含む排ガス
と水蒸気と還元性ガスとを連続的に供給して反応装置１
０内で六フッ化ウランと水蒸気とを反応させることによ
りＵＯ2Ｆ2粉末とＨＦガスを生成し、ＵＯ2Ｆ2粉末とＨ
Ｆガスを各別に連続的に回収する六フッ化ウラン及び酸
化性ガスを含む排ガスの処理方法である。この処理方法
によれば、次の式（１）に示す反応が反応装置１０内で
生じ、排ガス中の六フッ化ウランを再利用の容易な形態
であるＵＯ2Ｆ2粉末として連続的に安価に回収できる。 ＵＦ6＋２Ｈ2Ｏ → ＵＯ2Ｆ2＋４ＨＦ ……（１） また酸化性ガスが例えばＦ2、ＲｕＦ5又はＴｃＦ6であ
る場合には、これらの酸化性ガスは反応装置１０内で水
蒸気と反応して次の式（２）〜（４）で示すようにそれ
ぞれ揮発性酸化物であるＯＦ2、ＲｕＯ4又はＴｃＯ4を
生じる。
図１に示すように２００〜７００℃に加熱された反応装
置１０内に六フッ化ウラン及び酸化性ガスを含む排ガス
と水蒸気と還元性ガスとを連続的に供給して反応装置１
０内で六フッ化ウランと水蒸気とを反応させることによ
りＵＯ2Ｆ2粉末とＨＦガスを生成し、ＵＯ2Ｆ2粉末とＨ
Ｆガスを各別に連続的に回収する六フッ化ウラン及び酸
化性ガスを含む排ガスの処理方法である。この処理方法
によれば、次の式（１）に示す反応が反応装置１０内で
生じ、排ガス中の六フッ化ウランを再利用の容易な形態
であるＵＯ2Ｆ2粉末として連続的に安価に回収できる。 ＵＦ6＋２Ｈ2Ｏ → ＵＯ2Ｆ2＋４ＨＦ ……（１） また酸化性ガスが例えばＦ2、ＲｕＦ5又はＴｃＦ6であ
る場合には、これらの酸化性ガスは反応装置１０内で水
蒸気と反応して次の式（２）〜（４）で示すようにそれ
ぞれ揮発性酸化物であるＯＦ2、ＲｕＯ4又はＴｃＯ4を
生じる。
【０００５】 Ｆ2＋Ｈ2Ｏ → ＯＦ2＋Ｈ2 ……（２） ＲｕＦ5＋４Ｈ2Ｏ → ＲｕＯ4＋５ＨＦ＋３／２Ｈ2 ……（３） ＴｃＦ6＋４Ｈ2Ｏ → ＴｃＯ4＋６ＨＦ＋Ｈ2 ……（４） しかし、これらの揮発性酸化物は反応装置１０内で還元
性ガスの例えばＨ2と反応して次の式（５）〜（７）で
示すようにそれぞれＨＦ、ＲｕＯ2又はＴｃＯ2を生成す
る。 ＯＦ2＋Ｈ2 → ２ＨＦ＋１／２Ｏ2 ……（５） ＲｕＯ4＋２Ｈ2 → ＲｕＯ2＋２Ｈ2Ｏ ……（６） ＴｃＯ4＋２Ｈ2 → ＴｃＯ2＋２Ｈ2Ｏ ……（７） 生成したＨＦは反応装置１０から排出された後、凝縮器
で凝縮し、フッ酸として回収される。ＲｕＯ2及びＴｃ
Ｏ2非揮発性の酸化物であり、いずれも反応装置１０内
でＵＯ2Ｆ2粉末上に析出し、ＵＯ2Ｆ2粉末とともに回収
される。反応装置の加熱温度が２００℃未満の場合、Ｕ
Ｏ2Ｆ2とＨＦ及びＵＯ2Ｆ2とＨ2Ｏの分離が不十分とな
り実用的でない。また加熱温度が７００℃を超えても反
応収率は向上せず熱エネルギの浪費となる。そのために
反応装置の加熱温度は好ましくは２２０〜４００℃であ
る。
性ガスの例えばＨ2と反応して次の式（５）〜（７）で
示すようにそれぞれＨＦ、ＲｕＯ2又はＴｃＯ2を生成す
る。 ＯＦ2＋Ｈ2 → ２ＨＦ＋１／２Ｏ2 ……（５） ＲｕＯ4＋２Ｈ2 → ＲｕＯ2＋２Ｈ2Ｏ ……（６） ＴｃＯ4＋２Ｈ2 → ＴｃＯ2＋２Ｈ2Ｏ ……（７） 生成したＨＦは反応装置１０から排出された後、凝縮器
で凝縮し、フッ酸として回収される。ＲｕＯ2及びＴｃ
Ｏ2非揮発性の酸化物であり、いずれも反応装置１０内
でＵＯ2Ｆ2粉末上に析出し、ＵＯ2Ｆ2粉末とともに回収
される。反応装置の加熱温度が２００℃未満の場合、Ｕ
Ｏ2Ｆ2とＨＦ及びＵＯ2Ｆ2とＨ2Ｏの分離が不十分とな
り実用的でない。また加熱温度が７００℃を超えても反
応収率は向上せず熱エネルギの浪費となる。そのために
反応装置の加熱温度は好ましくは２２０〜４００℃であ
る。
【０００６】請求項２に係る発明は、請求項１に係る発
明であって、反応装置１０がシード粉としてＵＯ2Ｆ2粉
末が充填された流動層反応装置１０であって、反応装置
１０の供給ノズル３０より六フッ化ウラン及び酸化性ガ
スを含む排ガスを反応装置１０内に供給し、反応装置１
０の分散板１３を介して水蒸気及び還元性ガスを含むガ
スを流動用ガスとして反応装置１０内に供給する方法で
ある。流動層反応装置１０を用いて、高温の流動状態で
ＵＯ2Ｆ2粉末と水蒸気が反応するため、生成したＵＯ2
Ｆ2粉末が反応装置１０の内壁や導出用配管の内壁に付
着し、閉塞する恐れはなく、排ガスの連続的な処理が可
能となる。
明であって、反応装置１０がシード粉としてＵＯ2Ｆ2粉
末が充填された流動層反応装置１０であって、反応装置
１０の供給ノズル３０より六フッ化ウラン及び酸化性ガ
スを含む排ガスを反応装置１０内に供給し、反応装置１
０の分散板１３を介して水蒸気及び還元性ガスを含むガ
スを流動用ガスとして反応装置１０内に供給する方法で
ある。流動層反応装置１０を用いて、高温の流動状態で
ＵＯ2Ｆ2粉末と水蒸気が反応するため、生成したＵＯ2
Ｆ2粉末が反応装置１０の内壁や導出用配管の内壁に付
着し、閉塞する恐れはなく、排ガスの連続的な処理が可
能となる。
【０００７】請求項３に係る発明は、請求項２に係る発
明であって、流動用ガスは水蒸気と還元性ガスと窒素ガ
スを含む方法である。流動用ガスに窒素ガスを含ませる
ことにより、流動用ガス量を一定にして水蒸気量を調整
することが可能になる。
明であって、流動用ガスは水蒸気と還元性ガスと窒素ガ
スを含む方法である。流動用ガスに窒素ガスを含ませる
ことにより、流動用ガス量を一定にして水蒸気量を調整
することが可能になる。
【０００８】請求項４に係る発明は、請求項３に係る発
明であって、流動層反応装置１０から排出される窒素ガ
スを流動用ガスとして再利用する方法である。窒素ガス
を再利用することにより、キャリアガスのコストを低減
し得る。
明であって、流動層反応装置１０から排出される窒素ガ
スを流動用ガスとして再利用する方法である。窒素ガス
を再利用することにより、キャリアガスのコストを低減
し得る。
【０００９】請求項５に係る発明は、請求項２ないし４
いずれかに係る発明であって、流動層反応装置１０より
回収されるＨＦガスを液化してフッ酸を生成し、このフ
ッ酸の濃度に応じて流動用ガスとしての水蒸気量を制御
する方法である。この制御により流動層反応装置１０内
の反応効率がより一層向上し、ＵＯ2Ｆ2粉末製品の収率
が高まる。
いずれかに係る発明であって、流動層反応装置１０より
回収されるＨＦガスを液化してフッ酸を生成し、このフ
ッ酸の濃度に応じて流動用ガスとしての水蒸気量を制御
する方法である。この制御により流動層反応装置１０内
の反応効率がより一層向上し、ＵＯ2Ｆ2粉末製品の収率
が高まる。
【００１０】請求項６に係る発明は、請求項２ないし５
いずれかに係る発明であって、酸化性ガスはＦ２、Ｒｕ
Ｆ5、Ｒｕ０Ｆ4又はＴｃＦ6であり、還元性ガスはＨ2、
ＣＯ、ＣＨ4又はＣ2Ｈ2である方法である。酸化性ガス
が水蒸気と反応して生じる揮発性酸化物は還元性ガスの
還元作用によりフッ酸として回収可能なＨＦに変換され
るか、又は反応装置から排気ガスとして排出されること
のない非揮発性の酸化物に変換される。
いずれかに係る発明であって、酸化性ガスはＦ２、Ｒｕ
Ｆ5、Ｒｕ０Ｆ4又はＴｃＦ6であり、還元性ガスはＨ2、
ＣＯ、ＣＨ4又はＣ2Ｈ2である方法である。酸化性ガス
が水蒸気と反応して生じる揮発性酸化物は還元性ガスの
還元作用によりフッ酸として回収可能なＨＦに変換され
るか、又は反応装置から排気ガスとして排出されること
のない非揮発性の酸化物に変換される。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下、本発明の方法を実施するの
に使用する流動層反応装置を図面に基づいて説明する。
図１に示すように、流動層を内部に収容する流動層反応
装置１０の側面にはシード粉となるＵＯ2Ｆ2粉末を供給
するシード粉供給管１１が斜め上向きに、また反応生成
物であるＵＯ2Ｆ2粉末を抜出す上部抜出し管１２が斜め
下向きにそれぞれ設けられる。流動層反応装置１０の内
底部近傍には分散板１３が反応装置１０の内部を区画す
るように設けられる。この分散板１３より上の反応装置
内部にはシード粉のＵＯ2Ｆ2粉末から構成される流動層
１４が形成される。分散板１３は多孔質のメッシュに形
成され、流動用ガスは透過するが、シード粉は抜け落ち
ないようになっている。また分散板１３より下の反応装
置内部には流動層１４へ水蒸気（Ｈ2Ｏ）とＮ2ガスと還
元性ガス（例えばＨ2ガス）を均一に送り込むウィンド
ボックス１６が形成される。反応装置１０の底部側壁に
はウィンドボックス１６内に向けて水蒸気とＨ2ガスと
窒素ガスとを供給するガス供給管１７が設けられ、流動
層１４はガス供給管１７及びウィンドボックス１６を通
って分散板１３を透過する水蒸気とＨ2ガスと窒素ガス
により流動状態になる。ガス供給管１７に供給される水
蒸気は水をヒータ４０で加熱することにより発生する。
この水蒸気は混合調整弁４１に送られ、ここで窒素タン
ク４２から送られてきた窒素ガスとＨ2タンク４３から
送られてきたＨ2ガスと混合された後、ガス供給管１７
に送られる。
に使用する流動層反応装置を図面に基づいて説明する。
図１に示すように、流動層を内部に収容する流動層反応
装置１０の側面にはシード粉となるＵＯ2Ｆ2粉末を供給
するシード粉供給管１１が斜め上向きに、また反応生成
物であるＵＯ2Ｆ2粉末を抜出す上部抜出し管１２が斜め
下向きにそれぞれ設けられる。流動層反応装置１０の内
底部近傍には分散板１３が反応装置１０の内部を区画す
るように設けられる。この分散板１３より上の反応装置
内部にはシード粉のＵＯ2Ｆ2粉末から構成される流動層
１４が形成される。分散板１３は多孔質のメッシュに形
成され、流動用ガスは透過するが、シード粉は抜け落ち
ないようになっている。また分散板１３より下の反応装
置内部には流動層１４へ水蒸気（Ｈ2Ｏ）とＮ2ガスと還
元性ガス（例えばＨ2ガス）を均一に送り込むウィンド
ボックス１６が形成される。反応装置１０の底部側壁に
はウィンドボックス１６内に向けて水蒸気とＨ2ガスと
窒素ガスとを供給するガス供給管１７が設けられ、流動
層１４はガス供給管１７及びウィンドボックス１６を通
って分散板１３を透過する水蒸気とＨ2ガスと窒素ガス
により流動状態になる。ガス供給管１７に供給される水
蒸気は水をヒータ４０で加熱することにより発生する。
この水蒸気は混合調整弁４１に送られ、ここで窒素タン
ク４２から送られてきた窒素ガスとＨ2タンク４３から
送られてきたＨ2ガスと混合された後、ガス供給管１７
に送られる。
【００１２】流動層１４の深部にあるＵＯ2Ｆ2粉末を反
応装置１０の外部に抜き出す下部抜出し管１８が分散板
１３及び反応装置１０の底部を貫通して設けられる。反
応装置１０の上部には流動層反応により生成して上昇す
る固体のＵＯ2Ｆ2粉末をＨＦガスと未反応の水蒸気と窒
素ガスとを含むガス体から分離する固気分離フィルタ１
９が設けられる。フィルタ１９の上部にはオフガス管２
３が反応装置１０を貫通して設けられる。固気分離フィ
ルタ１９の上端には逆洗用の不活性ガスを吹込む逆洗管
２４が接続される。反応装置１０の側壁には供給ノズル
３０がこの側壁を貫通して設けられる。供給ノズル３０
にはウラン転換工場で発生した六フッ化ウランと酸化性
ガス（例えばＦ2ガス）と窒素ガスを含む排ガスが圧送
され、この排ガスが供給ノズル３０により流動層１４に
噴霧されるように構成される。
応装置１０の外部に抜き出す下部抜出し管１８が分散板
１３及び反応装置１０の底部を貫通して設けられる。反
応装置１０の上部には流動層反応により生成して上昇す
る固体のＵＯ2Ｆ2粉末をＨＦガスと未反応の水蒸気と窒
素ガスとを含むガス体から分離する固気分離フィルタ１
９が設けられる。フィルタ１９の上部にはオフガス管２
３が反応装置１０を貫通して設けられる。固気分離フィ
ルタ１９の上端には逆洗用の不活性ガスを吹込む逆洗管
２４が接続される。反応装置１０の側壁には供給ノズル
３０がこの側壁を貫通して設けられる。供給ノズル３０
にはウラン転換工場で発生した六フッ化ウランと酸化性
ガス（例えばＦ2ガス）と窒素ガスを含む排ガスが圧送
され、この排ガスが供給ノズル３０により流動層１４に
噴霧されるように構成される。
【００１３】オフガス管２３から排出したＨＦガスと窒
素ガスと未反応の水蒸気は定期的に三方切換弁３１を切
換えて凝縮器３２へ送られ、ここでガス体と凝縮液に分
離される。分離した凝縮液はフッ酸としてサンプリング
用容器３３に収容される。凝縮器３２から排出されるガ
ス体は窒素ガスと微量のＨＦガスを含んでおり、これら
は三方切換弁３４を介して洗浄塔３６へ送られ、ここで
フッ酸と窒素ガスに分離される。オフガス管２３から排
出したＨＦガスと窒素ガスと未反応の水蒸気は通常操業
時には凝縮器３２へ送らずに三方切換弁３１及び３４を
切換えて直接に洗浄塔３６へ送り、ここでフッ酸と窒素
ガスに分離される。洗浄塔３６から取り出されたフッ酸
は貯留タンク３７に貯留される。一方、洗浄塔３６から
取り出された窒素ガスはブロア３８で加圧されて窒素タ
ンク４２へ送られ、流動用窒素ガスの一部として再利用
される。容器３３に収容されたフッ酸の一部はサンプリ
ングのために採取されてフッ酸の濃度が測定される。測
定の結果、例えばフッ酸の濃度が薄過ぎる場合には、混
合調整弁４１を調整することにより窒素ガスに対する水
蒸気の割合を少なくし、逆にフッ酸の濃度が濃過ぎる場
合には水蒸気の割合を多くしてフッ酸を所望の濃度に調
整する。
素ガスと未反応の水蒸気は定期的に三方切換弁３１を切
換えて凝縮器３２へ送られ、ここでガス体と凝縮液に分
離される。分離した凝縮液はフッ酸としてサンプリング
用容器３３に収容される。凝縮器３２から排出されるガ
ス体は窒素ガスと微量のＨＦガスを含んでおり、これら
は三方切換弁３４を介して洗浄塔３６へ送られ、ここで
フッ酸と窒素ガスに分離される。オフガス管２３から排
出したＨＦガスと窒素ガスと未反応の水蒸気は通常操業
時には凝縮器３２へ送らずに三方切換弁３１及び３４を
切換えて直接に洗浄塔３６へ送り、ここでフッ酸と窒素
ガスに分離される。洗浄塔３６から取り出されたフッ酸
は貯留タンク３７に貯留される。一方、洗浄塔３６から
取り出された窒素ガスはブロア３８で加圧されて窒素タ
ンク４２へ送られ、流動用窒素ガスの一部として再利用
される。容器３３に収容されたフッ酸の一部はサンプリ
ングのために採取されてフッ酸の濃度が測定される。測
定の結果、例えばフッ酸の濃度が薄過ぎる場合には、混
合調整弁４１を調整することにより窒素ガスに対する水
蒸気の割合を少なくし、逆にフッ酸の濃度が濃過ぎる場
合には水蒸気の割合を多くしてフッ酸を所望の濃度に調
整する。
【００１４】このように構成された装置において、シー
ド粉供給管１１によりシード粉のＵＯ2Ｆ2粉末を反応装
置１０内に一定量だけ供給し、次いでガス供給管１７よ
り水蒸気とＮ2ガスと還元性ガス（例えばＨ2ガス）を反
応装置１０内に供給すると、流動層１４が流動状態にな
る。図示しない加熱装置により流動層を加熱し、反応温
度まで昇温する。流動層の温度が所定の温度に到達する
と、供給ノズル３０から六フッ化ウランと酸化性ガス
（例えばＦ2ガス）と窒素ガスを流動層１４に噴霧す
る。その結果、噴霧された六フッ化ウランを含む噴霧ガ
スと流動層１４を構成するガスは流動層１４内で激しく
撹拌され、六フッ化ウランは水蒸気と反応して、ＵＯ2
Ｆ2とＨＦを生成する。生成したＵＯ2Ｆ2はシード粉の
ＵＯ2Ｆ2粉上に析出して球形状のＵＯ2Ｆ2粉を形成す
る。この反応により反応装置１０内のＵＯ2Ｆ2粉末の量
が増加する。シード粉となる以外の余分なＵＯ2Ｆ2粉末
は反応生成物として上部抜出し管１２から定期的に抜き
出される。酸化性ガスのＦ2は上記式（２）に示すよう
に水蒸気と反応して揮発性酸化物であるＯＦ2を生じる
が、このＯＦ2は上記式（５）に示すように還元性ガス
のＨ2と反応してＨＦを生成する。生成したＨＦは反応
装置１０から排出された後、凝縮器３２で凝縮し、フッ
酸としてサンプリング用容器３３に収容される。
ド粉供給管１１によりシード粉のＵＯ2Ｆ2粉末を反応装
置１０内に一定量だけ供給し、次いでガス供給管１７よ
り水蒸気とＮ2ガスと還元性ガス（例えばＨ2ガス）を反
応装置１０内に供給すると、流動層１４が流動状態にな
る。図示しない加熱装置により流動層を加熱し、反応温
度まで昇温する。流動層の温度が所定の温度に到達する
と、供給ノズル３０から六フッ化ウランと酸化性ガス
（例えばＦ2ガス）と窒素ガスを流動層１４に噴霧す
る。その結果、噴霧された六フッ化ウランを含む噴霧ガ
スと流動層１４を構成するガスは流動層１４内で激しく
撹拌され、六フッ化ウランは水蒸気と反応して、ＵＯ2
Ｆ2とＨＦを生成する。生成したＵＯ2Ｆ2はシード粉の
ＵＯ2Ｆ2粉上に析出して球形状のＵＯ2Ｆ2粉を形成す
る。この反応により反応装置１０内のＵＯ2Ｆ2粉末の量
が増加する。シード粉となる以外の余分なＵＯ2Ｆ2粉末
は反応生成物として上部抜出し管１２から定期的に抜き
出される。酸化性ガスのＦ2は上記式（２）に示すよう
に水蒸気と反応して揮発性酸化物であるＯＦ2を生じる
が、このＯＦ2は上記式（５）に示すように還元性ガス
のＨ2と反応してＨＦを生成する。生成したＨＦは反応
装置１０から排出された後、凝縮器３２で凝縮し、フッ
酸としてサンプリング用容器３３に収容される。
【００１５】
【実施例】次に本発明の具体的態様を示すために、本発
明の実施例を上記流動層反応装置を使用して説明する。 ＜実施例１＞図１に示す流動層反応装置を以下の条件で
操作して、排ガスに含まれる六フッ化ウランと酸化性ガ
スのＦ2ガスと流動層に含まれる水蒸気と還元性ガスの
ＣＨ4とを反応させた。即ち、ＵＯ2Ｆ2粉の１５ｋｇを
シード粉として装置内に供給した。流動層１４の面積は
１００ｍｍ×１００ｍｍ、高さは１ｍである。この流動
層を３００℃に加熱した。流動用ガスとして窒素ガスを
２０Ｌ／分、水蒸気を５Ｌ／分、ＣＨ４ガスを１Ｌ／分
の割合で混合した混合ガスをガス供給管１７から装置内
に供給した。ウラン転換工場のプロセス排ガスの模擬排
ガスとして窒素ガスを１０Ｌ／分、ＵＦ６ガスを０．５
Ｌ／分、Ｆ2ガスを１００ｃｍ3／分の割合で混合した混
合ガスを供給ノズル３０から流動層１４に２時間噴霧し
た。
明の実施例を上記流動層反応装置を使用して説明する。 ＜実施例１＞図１に示す流動層反応装置を以下の条件で
操作して、排ガスに含まれる六フッ化ウランと酸化性ガ
スのＦ2ガスと流動層に含まれる水蒸気と還元性ガスの
ＣＨ4とを反応させた。即ち、ＵＯ2Ｆ2粉の１５ｋｇを
シード粉として装置内に供給した。流動層１４の面積は
１００ｍｍ×１００ｍｍ、高さは１ｍである。この流動
層を３００℃に加熱した。流動用ガスとして窒素ガスを
２０Ｌ／分、水蒸気を５Ｌ／分、ＣＨ４ガスを１Ｌ／分
の割合で混合した混合ガスをガス供給管１７から装置内
に供給した。ウラン転換工場のプロセス排ガスの模擬排
ガスとして窒素ガスを１０Ｌ／分、ＵＦ６ガスを０．５
Ｌ／分、Ｆ2ガスを１００ｃｍ3／分の割合で混合した混
合ガスを供給ノズル３０から流動層１４に２時間噴霧し
た。
【００１６】その結果、六フッ化ウランは水蒸気と反応
して、ＵＯ2Ｆ2粉とＨＦガスを生成した。また酸化性ガ
スのＦ2ガスは水蒸気と反応して揮発性酸化物であるＯ
Ｆ2を生じるが、この揮発性酸化物は還元性ガスのＣＨ4
ガスと反応してＨＦガスを生成した。オフガス管２３か
ら排出したＨＦガスを含む排ガスは凝縮器３２へ送ら
れ、冷却水で冷却されてフッ酸を生成し、回収された。
試験の終了後、ＵＯ2Ｆ2粉の全量を回収し秤量した。そ
の結果、ＵＯ2Ｆ2粉は０．８ｋｇ増加したことが確認さ
れた。容器３３から採取したフッ酸中のウランを分析し
た結果、検出感度以下であることが確認された。反応装
置を解体してＵＯ2Ｆ2粉の装置内壁への付着状況を調べ
た結果、閉塞にいたるような付着は確認されなかった。
また凝縮器３２から排出される窒素ガスとＨＦガスを含
むガスをＦ2ガスの吸着剤である活性アルミナのトラッ
プ（図示せず）に通じたところ、Ｆ2ガスの存在に基づ
くトラップの温度上昇は認められなかった。
して、ＵＯ2Ｆ2粉とＨＦガスを生成した。また酸化性ガ
スのＦ2ガスは水蒸気と反応して揮発性酸化物であるＯ
Ｆ2を生じるが、この揮発性酸化物は還元性ガスのＣＨ4
ガスと反応してＨＦガスを生成した。オフガス管２３か
ら排出したＨＦガスを含む排ガスは凝縮器３２へ送ら
れ、冷却水で冷却されてフッ酸を生成し、回収された。
試験の終了後、ＵＯ2Ｆ2粉の全量を回収し秤量した。そ
の結果、ＵＯ2Ｆ2粉は０．８ｋｇ増加したことが確認さ
れた。容器３３から採取したフッ酸中のウランを分析し
た結果、検出感度以下であることが確認された。反応装
置を解体してＵＯ2Ｆ2粉の装置内壁への付着状況を調べ
た結果、閉塞にいたるような付着は確認されなかった。
また凝縮器３２から排出される窒素ガスとＨＦガスを含
むガスをＦ2ガスの吸着剤である活性アルミナのトラッ
プ（図示せず）に通じたところ、Ｆ2ガスの存在に基づ
くトラップの温度上昇は認められなかった。
【００１７】＜比較例１＞流動用ガスの一成分である還
元性ガスのＣＨ4ガスを使用しなかったことを除いては
実施例１と実質的に同じ方法を繰り返した。その結果、
凝縮器３２から排出される窒素ガスとＨＦガスを含むガ
スをＦ2ガスの吸着剤である活性アルミナのトラップ
（図示せず）に通じたところ、Ｆ2ガスの存在に基づく
トラップの温度上昇が認められた。即ち、プロセス排ガ
スの模擬排ガスの一成分であるＦ2ガスは反応装置１０
内で水蒸気と反応して揮発性酸化物のＯＦ2を生じる
が、この揮発性酸化物を還元する還元性ガスが反応系に
存在しないため、Ｆ2ガスが反応装置１０から排出され
たことを示す。
元性ガスのＣＨ4ガスを使用しなかったことを除いては
実施例１と実質的に同じ方法を繰り返した。その結果、
凝縮器３２から排出される窒素ガスとＨＦガスを含むガ
スをＦ2ガスの吸着剤である活性アルミナのトラップ
（図示せず）に通じたところ、Ｆ2ガスの存在に基づく
トラップの温度上昇が認められた。即ち、プロセス排ガ
スの模擬排ガスの一成分であるＦ2ガスは反応装置１０
内で水蒸気と反応して揮発性酸化物のＯＦ2を生じる
が、この揮発性酸化物を還元する還元性ガスが反応系に
存在しないため、Ｆ2ガスが反応装置１０から排出され
たことを示す。
【００１８】＜実施例２＞図２に示すような管状炉５０
を準備した。この管状炉５０は白金製の皿５１を収納す
る耐熱性の管状容器５２とこの容器５２を外側から加熱
する赤外線加熱炉５３とから構成される。容器５２の末
端から皿５１を出し入れし、かつ容器５２を密閉するた
めの蓋体５４が設けられる。蓋体５４には反応用のガス
を導入する導入管５６が挿着される。容器５２の先端に
は生成ガスを排出するための排出管５７が接続される。
排出管５７はガス吸収ビン５８の蓋部を通っては吸収ビ
ン５８内の水酸化ナトリウム液５９に接触する。ガス吸
収ビン５８の蓋部には外部の排気処理系に接続する排気
パイプ６０が取付けられる。排出管５７のガス吸収ビン
５８の近傍部分はヒータ６１で被覆される。皿５１には
温度を検出するための熱電対６２が設けられる。熱電対
６２はプログラム温度調節用のコントローラ６３に接続
され、このコントローラ６３の出力は赤外線加熱炉５３
に接続される。コントローラ６３は熱電対６２が検出す
る温度に応じて加熱炉５３の温度を調節する。
を準備した。この管状炉５０は白金製の皿５１を収納す
る耐熱性の管状容器５２とこの容器５２を外側から加熱
する赤外線加熱炉５３とから構成される。容器５２の末
端から皿５１を出し入れし、かつ容器５２を密閉するた
めの蓋体５４が設けられる。蓋体５４には反応用のガス
を導入する導入管５６が挿着される。容器５２の先端に
は生成ガスを排出するための排出管５７が接続される。
排出管５７はガス吸収ビン５８の蓋部を通っては吸収ビ
ン５８内の水酸化ナトリウム液５９に接触する。ガス吸
収ビン５８の蓋部には外部の排気処理系に接続する排気
パイプ６０が取付けられる。排出管５７のガス吸収ビン
５８の近傍部分はヒータ６１で被覆される。皿５１には
温度を検出するための熱電対６２が設けられる。熱電対
６２はプログラム温度調節用のコントローラ６３に接続
され、このコントローラ６３の出力は赤外線加熱炉５３
に接続される。コントローラ６３は熱電対６２が検出す
る温度に応じて加熱炉５３の温度を調節する。
【００１９】このように構成された管状炉５０を用いて
揮発性ガスであるルテニウム（Ｒｕ）の酸化物（ＲｕＯ
4）の揮発性が還元性ガスの存在により抑制される試験
を以下のように実施した。まず、ＵＯ2Ｆ2粉末にＲｕを
添加した混合物を調製した。この混合物を皿５１に入れ
て容器５２内に収容し、水蒸気とＮ2ガスとＨ2ガスとを
導入管５６から容器５２内に導入しながら加熱炉５３で
加熱した。その結果、揮発性ガスであるルテニウムの酸
化物が発生する。白金皿５１内の残留放射能量から各加
熱温度におけるルテニウムの揮発率を計算した。その結
果を図３の曲線Ａに示す。曲線Ａから明らかなように加
熱温度の１００〜７００℃において、ルテニウム酸化物
の揮発率はほぼ１０％以下であり、還元性ガスのＨ2の
存在によりルテニウム酸化物の揮発性が抑制されること
が判る。
揮発性ガスであるルテニウム（Ｒｕ）の酸化物（ＲｕＯ
4）の揮発性が還元性ガスの存在により抑制される試験
を以下のように実施した。まず、ＵＯ2Ｆ2粉末にＲｕを
添加した混合物を調製した。この混合物を皿５１に入れ
て容器５２内に収容し、水蒸気とＮ2ガスとＨ2ガスとを
導入管５６から容器５２内に導入しながら加熱炉５３で
加熱した。その結果、揮発性ガスであるルテニウムの酸
化物が発生する。白金皿５１内の残留放射能量から各加
熱温度におけるルテニウムの揮発率を計算した。その結
果を図３の曲線Ａに示す。曲線Ａから明らかなように加
熱温度の１００〜７００℃において、ルテニウム酸化物
の揮発率はほぼ１０％以下であり、還元性ガスのＨ2の
存在によりルテニウム酸化物の揮発性が抑制されること
が判る。
【００２０】＜比較例２＞還元性ガスのＨ2ガスを使用
せずに水蒸気とＮ2ガスのみを反応用のガスの導入管５
６から容器５２内に導入したことを除いては実施例２と
実質的に同じ方法を繰り返した。その結果を図３の曲線
Ｂに示す。曲線Ｂから明らかなように加熱温度が４００
℃を越えるとルテニウム酸化物（ＲｕＯ4）の揮発率は
急激に増加し、７００℃では約４０％に達する。即ち還
元性ガスのＨ2ガスを使用しない場合には、ルテニウム
酸化物の揮発性が抑制されないことが判る ＜実施例３＞ＵＯ2Ｆ2粉末にテクネシウム（Ｔｃ）を添
加した混合物を調製し、この混合物を皿５１に入れて容
器５２内に収容したことを除いては実施例２と実質的に
同じ方法を繰り返した。その結果を図４の曲線Ｃに示
す。曲線Ｃから明らかなように加熱温度の１００〜７０
０℃において、テクネシウム酸化物（ＴｃＯ4）の揮発
率はほぼ１０％以下であり、還元性ガスのＨ2の存在に
よりテクネシウム酸化物の揮発性が抑制されることが判
る。
せずに水蒸気とＮ2ガスのみを反応用のガスの導入管５
６から容器５２内に導入したことを除いては実施例２と
実質的に同じ方法を繰り返した。その結果を図３の曲線
Ｂに示す。曲線Ｂから明らかなように加熱温度が４００
℃を越えるとルテニウム酸化物（ＲｕＯ4）の揮発率は
急激に増加し、７００℃では約４０％に達する。即ち還
元性ガスのＨ2ガスを使用しない場合には、ルテニウム
酸化物の揮発性が抑制されないことが判る ＜実施例３＞ＵＯ2Ｆ2粉末にテクネシウム（Ｔｃ）を添
加した混合物を調製し、この混合物を皿５１に入れて容
器５２内に収容したことを除いては実施例２と実質的に
同じ方法を繰り返した。その結果を図４の曲線Ｃに示
す。曲線Ｃから明らかなように加熱温度の１００〜７０
０℃において、テクネシウム酸化物（ＴｃＯ4）の揮発
率はほぼ１０％以下であり、還元性ガスのＨ2の存在に
よりテクネシウム酸化物の揮発性が抑制されることが判
る。
【００２１】＜比較例３＞還元性ガスのＨ2ガスを使用
せずに水蒸気とＮ2ガスのみを反応用のガスの導入管５
６から容器５２内に導入したことを除いては実施例３と
実質的に同じ方法を繰り返した。その結果を図４の曲線
Ｄに示す。曲線Ｄから明らかなように加熱温度が３００
℃を越えるとテクネシウム酸化物（ＴｃＯ4）の揮発率
は急激に増加し、７００℃では約１００％に達する。即
ち還元性ガスのＨ2ガスを使用しない場合には、テクネ
シウム酸化物の揮発性が抑制されないことが判る
せずに水蒸気とＮ2ガスのみを反応用のガスの導入管５
６から容器５２内に導入したことを除いては実施例３と
実質的に同じ方法を繰り返した。その結果を図４の曲線
Ｄに示す。曲線Ｄから明らかなように加熱温度が３００
℃を越えるとテクネシウム酸化物（ＴｃＯ4）の揮発率
は急激に増加し、７００℃では約１００％に達する。即
ち還元性ガスのＨ2ガスを使用しない場合には、テクネ
シウム酸化物の揮発性が抑制されないことが判る
【００２２】
【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、２
００〜７００℃に加熱された反応装置内に六フッ化ウラ
ン及び酸化性ガスを含む排ガスと水蒸気と還元性ガスと
を連続的に供給して反応装置内で六フッ化ウランと水蒸
気とを反応させることによりＵＯ2Ｆ2粉末とＨＦガスを
生成しＵＯ2Ｆ2粉末とＨＦガスを各別に連続的に回収す
るようにしたので、排ガス中の六フッ化ウランを再利用
の容易な形態で連続的に安価に回収でき、廃棄物を発生
させることがない。
００〜７００℃に加熱された反応装置内に六フッ化ウラ
ン及び酸化性ガスを含む排ガスと水蒸気と還元性ガスと
を連続的に供給して反応装置内で六フッ化ウランと水蒸
気とを反応させることによりＵＯ2Ｆ2粉末とＨＦガスを
生成しＵＯ2Ｆ2粉末とＨＦガスを各別に連続的に回収す
るようにしたので、排ガス中の六フッ化ウランを再利用
の容易な形態で連続的に安価に回収でき、廃棄物を発生
させることがない。
【図１】本発明の方法を実施するのに使用する流動層反
応装置の構成図。
応装置の構成図。
【図２】本発明の実施例で用いた管状炉の構成図。
【図３】Ｒｕ酸化物の加熱温度と揮発率との関係を示す
図。
図。
【図４】Ｔｃ酸化物の加熱温度と揮発率との関係を示す
図。
図。
１０ 流動層反応装置 １３ 分散板 ３０ 供給ノズル
Claims (6)
- 【請求項１】 ２００〜７００℃に加熱された反応装置
(10)内に六フッ化ウラン及び酸化性ガスを含む排ガスと
水蒸気と還元性ガスとを連続的に供給して前記装置(10)
内で前記六フッ化ウランと前記水蒸気とを反応させるこ
とによりＵＯ2Ｆ2粉末とＨＦガスを生成し、前記ＵＯ2
Ｆ2粉末と前記ＨＦガスを各別に連続的に回収する六フ
ッ化ウラン及び酸化性ガスを含む排ガスの処理方法。 - 【請求項２】 反応装置(10)がシード粉としてＵＯ2Ｆ2
粉末が充填された流動層反応装置(10)であって、前記装
置(10)の供給ノズル(30)より六フッ化ウラン及び酸化性
ガスを含む排ガスを前記装置(10)内に供給し、前記装置
(10)の分散板(13)を介して水蒸気及び還元性ガスを含む
ガスを流動用ガスとして前記装置(10)内に供給する請求
項１記載の処理方法。 - 【請求項３】 流動用ガスは水蒸気と還元性ガスと窒素
ガスを含む請求項２記載の処理方法。 - 【請求項４】 流動層反応装置(10)から排出される窒素
ガスを流動用ガスとして再利用する請求項３記載の処理
方法。 - 【請求項５】 流動層反応装置(10)より回収されるＨＦ
ガスを液化してフッ酸を生成し、前記フッ酸の濃度に応
じて流動用ガスとしての水蒸気量を制御する請求項２な
いし４いずれか記載の処理方法。 - 【請求項６】 酸化性ガスはＦ2、ＲｕＦ5、Ｒｕ０Ｆ4
又はＴｃＦ6であり、還元性ガスはＨ2、ＣＯ、ＣＨ4又
はＣ2Ｈ2である請求項２ないし５いずれか記載の処理方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8235675A JPH1076137A (ja) | 1996-09-06 | 1996-09-06 | 六フッ化ウラン及び酸化性ガスを含む排ガスの処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8235675A JPH1076137A (ja) | 1996-09-06 | 1996-09-06 | 六フッ化ウラン及び酸化性ガスを含む排ガスの処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1076137A true JPH1076137A (ja) | 1998-03-24 |
Family
ID=16989546
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8235675A Withdrawn JPH1076137A (ja) | 1996-09-06 | 1996-09-06 | 六フッ化ウラン及び酸化性ガスを含む排ガスの処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1076137A (ja) |
-
1996
- 1996-09-06 JP JP8235675A patent/JPH1076137A/ja not_active Withdrawn
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN102317201B (zh) | 用于在流化床反应器中由氟硅酸盐生产四氟化硅的方法和体系 | |
| JP3954118B2 (ja) | ジルコンの処理方法 | |
| US20180030576A1 (en) | Uranium hexafluoride off-gas treatment system and method | |
| SE439915B (sv) | Sett att sonderdela katodavfallsmaterial av kol innehallande kryolit, aluminiumfluorid, kalciumfluorid och natriumfluorid | |
| CN103910333A (zh) | 一种回收氢氟化工艺尾气中氟化氢的方法 | |
| US7363866B2 (en) | Control system for a waste processing apparatus | |
| RU2381993C2 (ru) | Способ получения порошка диоксида урана методом пирогидролиза и установка для его осуществления | |
| JPH1076137A (ja) | 六フッ化ウラン及び酸化性ガスを含む排ガスの処理方法 | |
| JPH1053419A (ja) | 六フッ化ウランを含む排ガスの処理方法 | |
| CN210131529U (zh) | 利用流化床废气中的HF生产AlF3的装置及系统 | |
| US3941870A (en) | Process for the production of uranium hexafluoride | |
| JP4384738B2 (ja) | ヒユーム又はガスから高温で酸化合物を除去するための反応性化合物及びその製造方法 | |
| JP4085520B2 (ja) | 劣化ｕｆ６の処理設備及びその処理方法 | |
| JP2960943B2 (ja) | 六フッ化ウランの製造方法 | |
| US3495945A (en) | Apparatus for the regeneration of hydrochloric acid from spent pickle liquor and like solutions | |
| JP4085441B2 (ja) | フッ化ウラニル粉末の製造装置 | |
| US2534677A (en) | Production of uranium halides | |
| US2581518A (en) | Oxidation of nitrogen oxide fumes | |
| JP5416989B2 (ja) | 使用済核燃料物質の供給方法 | |
| RU210628U1 (ru) | Дожигатель водорода | |
| US4061723A (en) | Process for preparing concentrated tetrafluoroboric acid | |
| US3353997A (en) | Process for removing waste material from chlorosilane synthesis reactors | |
| US3009768A (en) | Continuous process for preparing uranium hexafluoride from uranium tetrafluoride andoxygen | |
| JPH11248880A (ja) | 使用済燃料の処理方法 | |
| Jonke | A Fluidized-Bed Technique for Treatment of Aqueous Nuclear Wastes by Calcination to Oxides |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20031202 |