JPH1072435A - 2−アリール−5−パーフルオロアルキルピロール誘導体及びその有用な中間体の製造方法 - Google Patents
2−アリール−5−パーフルオロアルキルピロール誘導体及びその有用な中間体の製造方法Info
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Abstract
ロールの効率的な製造方法の提供。 【解決手段】 式IIのアミドニトリルを式IIIのジエネ
オフィルと反応させて、式Iの2−アリール−5−パー
フルオロアルキルピロール誘導体を製造する。 【化1】
Description
は、独特の作用様式及び広い範囲の活性を有する高度に
有効な殺虫(insecticidal),殺ダニ(acaricidal)及
び殺線虫剤(nematocidal agent)である。殊に、2−
アリール−5−(トリフルオロメチル)ピロール−3−
カルボニトリル化合物は広範囲の有害生物(pest)を防
除し、そして耐性の有害生物例えばピレスロイド、有機
リン酸塩、シクロジエン、有機塩素、有機スズ、カルバ
メート及びベンゾフェニル尿素に耐性の生物タイプのヘ
リコベルパ種(Helicoverpa spp.)/ヘリオチス種(He
liothis spp.)、スポドプテラ種(Spodoptera sp
p.)、トリコプルシア種(Trichoplusia spp.)、プソイ
ドプルシア種(Pseudoplusia spp.)及びテトラニクス
種(Teranychusspp.)を防除し得る。
ール−5−(トリフルオロメチル)ピロール−3−カル
ボニトリル化合物及びその誘導体は耐性管理プログラム
に用いることができる。更に、該ピロールは有益な種に
対して殆ど影響がないために、これらのものは統合した
管理プログラムにも優れた候補となる。これらのプログ
ラムは今日の作物生産において必要不可欠なものであ
る。
中間体の製造方法は大いに利用できるものである。現在
の製造規模での2−アリール−5−(トリフルオロメチ
ル)ピロール−3−カルボニトリルの製造方法には3−
オキサゾリン−5−オンと2−クロロアクリロニトリル
との1,3−双極性環式付加(米国特許第5,030,
735号)及び適当なオキサゾールアミン誘導体と2−
クロロアクリロニトリルまたは2,3−ジクロロプロピ
オニトリルとの環式付加反応(米国特許第5,446,
170号)がある。
1301〜1308に記載されるように、適当なアルキンを用い
るReissert化合物の酸触媒された環化のメシオニック
(mesionic)中間体生成物の1,3−双極性環式付加に
よりN−置換されたピロール生成物を生じさせることは
公知である。しかしながら、これらのメシオニック中間
体はエチレン性ジエネオフィル(ethylenic dieneophil
e)により1,4−環式付加反応を受け、アリールピロー
ル誘導体(殺虫性アリールピロール先駆体としては有用
でない)を生成してしまう。 従って、高度に有効な有害生物防除剤(pesticide)の
アリールピロール群の従来とは異なる効率的な製造方法
を提供することが本発明の目的である。
有用である重要な中間体のアミドニトリル化合物源を提
供することが本発明の他の目的である。
体(広範囲の高度に有効な殺虫剤、殺ダニ剤及び殺線虫
剤に転化させ得る)を生成させる単一の有効な工程から
なることが本発明の利点である。
物から最後のアリールピロール生成物までの全合成工程
数を、現在公知の方法、例えば上記のものを用いること
により必要とされる合成工程数よりも減少できることが
本発明のさらなる利点である。
物を提供することが本発明の特徴である。本発明のこれ
らの及び他の特徴並びに目的は以下に記載の詳細な説明
からより明らかになるであろう。
キシまたはフェニル基1個で置換されていてもよいC1
〜C6アルキルであり;nは1、2、3、4、5、6、
7または8の整数であり;WはCN、NO2、COOR1
またはCOR2であり;
は各々独立して水素、ハロゲン、CN、NO2、C1〜C
4アルキル、C1〜C4ハロアルキル、C1〜C4アルコキ
シ、C1〜C4ハロアルコキシ、C1〜C4アルキルチオ、
C1〜C4アルキルスルフィニルであるか、またはM及び
Qが隣接する位置である場合、これらのものはこれらの
ものが結合する炭素原子と一緒になってMQが構造式 −OCH2O−、−OCF2O−または−CH=CH−C
H=CH− を表す環を形成することができ;R1及びR2は各々独立
してC1〜C4アルキルであり;R3、R4及びR5は各々
独立して水素、ハロゲン、NO2、CHOであるか、ま
たはR4及びR5はこれらのものが結合する原子と一緒に
なってR4R5が構造式
R6、R7、R8及びR9は各々独立して水素、ハロゲン、
CNまたはNO2であり;そしてXはOまたはSであ
る;の2−アリール−5−パーフルオロアルキルピロー
ルを製造する際に、式II
ものである、のアミドニトリルを酸及び溶媒の存在下並
びに本質的に水を存在させずに少なくとも1モル当量の
式III
り、そしてYは水素、BrまたはClであり、但しRが
水素である場合、YはBrまたはClでなければならな
い、のジエネオフィル(dieneophile)と反応させるこ
とからなる、式Iのパーフルオロアルキルピロールの単
一工程の有効な製造方法を提供する。本発明の方法はあ
る程度の水が存在する場合、出発物質の加水分解が生
じ、所望のアリールピロール最終生成物の低収率及び純
度の減少が起こる。
ハロゲンなる用語はCl、Br、FまたはIを表し、そ
してハロアルキルなる用語は同一もしくは相異なること
ができる1〜2x+1のハロゲン原子を含有し得る炭素
原子x個のいずれかのアルキル基を含む。
であり、そしてR’は随時C1〜C4アルコキシまたはフ
ェニル基1個で置換されていてもよいC1〜C6アルキル
である、のアミドニトリル化合物を提供する。
高度に定量的な収率で得ることができ、単離の際か、ま
たはその場のいずれかで安定であり、単純か、または容
易に入手される出発物質から製造することができ、そし
て最小の反応工程で、最適な収率及び純度で、そして適
当ならば部位または立体特異的に所望の製造の最終生成
物に容易に転化し得る重要な中間体化合物を包含する。
ルピロールは酸及び溶媒の存在下並びに本質的に水を存
在させない式IIの化合物と式IIIのジエネオフィルとの
反応による単一の合成工程を介して式IIのアミノニトリ
ル生成物から直接製造し得ることが見いだされた。反応
を流れ図Iに示し、ここにn、A、R及びWは上記のも
のである。
な無水状態及び式IIのアミドニトリル化合物の部分的
か、または完全な溶解を維持させ得る溶媒である。該溶
媒には次のものが含まれる:芳香族炭化水素例えばベン
ゼン、キシレン、トルエンなど、好ましくはトルエン;
塩素化された芳香族炭化水素例えばクロロベンゼン;カ
ルボン酸アミド例えばジメチルホルムアミド、N−メチ
ルピロリドンなど、好ましくはジメチルホルムアミド;
ニトリル例えばアセトニトリル、プロピオニトリルな
ど;アルコール例えばイソプロパノール、t−ブタノー
ル、sec−ブタノールなど、好ましくはt−ブタノー
ル。これらの溶媒は単独にか、または2つまたはそれ以
上の組み合わせで使用し得る。
る酸は相対的な脱水を行い得るいずれかの酸である。適
当な酸には硫酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタ
ンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、リン酸、テト
ラフルオロ硼酸、テトラフルオロ硼酸錯塩などがある。
また三フッ化ホウ素錯塩例えば三フッ化ホウ素酢酸、三
フッ化ホウ素二水和物なども適当な酸である。
アリールピロール化合物はnが1または2であり、Wが
CNであり、そしてAが随時置換されていてもよいフェ
ニルであるものである。本発明の方法により得られる式
Iのより好適な化合物はnが1または2であり、WがC
Nであり、Aが随時置換されていてもよいフェニルであ
り、そしてRが水素、メチルまたはエトキシメチルであ
るものであり;殊に好ましくはnが1であり、WがCN
であり、Aがp−クロロフェニル、2,5−ジクロロフ
ェニル、3,4,5−トリクロロフェニル、p−ブロモ
フェニル、α,α,α−トリフルオロ−p−トリルまた
はp−トリフルオロメトキシフェニルであり、そしてR
が水素、メチルまたはエトキシメチルであるものであ
る。
物及びその製造は米国特許第5,426,225号に記
載される。Rが水素以外のものであるである式IIのアミ
ドニトリル化合物、即ち式IIaは式VIの適当なアミノニ
トリルのパーフルオロアセチル化を介して得ることがで
きる。式VIのアミノニトリルは十分公知のストレッカー
反応を介してその入手できるベンズアルデヒド、フルフ
リルアルデヒドまたはチエニルメチルアルデヒド先駆体
から対応して容易に得られる。反応順序は流れ図IIに示
され、ここにn、A及びRは式I及びIIに対する上記の
ものであり、mは1または2の整数であり、X1はC
l、OR10またはOであり、そしてR10は水素またはC
1〜C6アルキルであり、但しX1がOである場合、mは
2でなければならず、そしてX1がClまたはOR10で
ある場合、mは1でなければならない。
れ図Iにおいて示される単一工程において所望の式Iの
2−アリール−5−パーフルオロアルキルピロールに直
接転化させ得る。
リルは適当な溶媒または溶媒混合物中に分散させ、そし
て酸の存在下において本質的に無水の反応条件下で少な
くとも1モル当量の適当な式IIIのジエネオフィルと混
合し得る。かくて得られる式Iのピロールは通常の方法
例えば抽出、濾過、蒸留、クロマトグラフィー分離など
を用いて単離し得る。式Iのピロールの生成の割合は温
度の上昇とともに増大し得る。しかしながら、過剰に高
い反応温度は分解または望ましくない副反応並びにそれ
に付随する生成物の収率及び純度の低下を生じさせ得
る。代表的な反応温度は20℃から溶媒または溶媒混合
物の還流温度の範囲であり得る。代表的には、約20〜
150℃、好ましくは40〜100℃の温度を用いる。
たは8の整数であり;R’は随時C1〜C4アルコキシま
たはフェニル基1個で置換されていてもよいC1〜C6ア
ルキルであり;
は各々独立して水素、ハロゲン、CN、NO2、C1〜C
4アルキル、C1〜C4ハロアルキル、C1〜C4アルコキ
シ、C1〜C4ハロアルコキシ、C1〜C4アルキルチオ、
C1〜C4アルキルスルフィニルであるか、またはM及び
Qが隣接する位置である場合、これらのものはこれらの
ものが結合する炭素原子と一緒になってMQが構造式 −OCH2O−、−OCF2O−または−CH=CH−C
H=CH− を表す環を形成することができ;R1及びR2は各々独立
してC1〜C4アルキルであり;R3、R4及びR5は各々
独立して水素、ハロゲン、NO2、CHOであるか、ま
たはR4及びR5はこれらのものが結合する原子と一緒に
なってR4R5が構造式
R6、R7、R8及びR9は各々独立して水素、ハロゲン、
CNまたはNO2であり;そしてXはOまたはSであ
る;のアミドニトリル中間体を提供する。
が1または2であり、R’がメチルまたはエトキシメチ
ルであり、そしてAが随時置換されていてもよいフェニ
ルであるものである。
り、nが1であり、R’がメチルであり、そしてAがp
−クロロフェニル、p−ブロモフェニル、3,5−ジク
ロロフェニル、3,4,5−トリクロロフェニル、p−
(α,α,α−トリフルオロ)トリルまたはp−トリフ
ルオロメトキシフェニルであるものである。
最大の用途はある式IVの化合物に対する先駆体としてで
あり得る。有利には、本発明の方法により式IVの2−ア
リール−4−ハロ−5−(パーフルオロアルキル)ピロ
ール−3−カルボニトリル殺虫、殺ダニ及び殺線虫剤が
容易に入手されるアリールアルデヒド出発物質から4段
程度以下の工程で製造される。かくて、本発明の工程に
従うストレッカー反応生成物(VI)のパーフルオロアシ
ル化によりアリールピロール先駆体(I)が生成され、
このものをハロゲン化して所望の有害生物防除生成物
(IV)を生成させ得る。合成は流れ図IIIで示され、こ
こにn、A、R、Y及びWは上記のものであり、そして
Halはハロゲン、好ましくはBrまたはClである。
98号または同第5,449,789号に記載されるも
ののごときいずれかの公知の方法であり得る。
に、次の実施例を下に示す。これらの実施例は単に説明
的なものであり、そして本発明の範囲または基礎となる
原理をいずれにおいても限定しないことを理解された
い。事実、本明細書に示され、そして記載されるものに
加えて本発明の種々の変法が次の実施例及び上記の記載
から本分野に精通せる者には明らかになろう。またかか
る変法は付属の特許請求の範囲の範囲内のものである。
MRなる用語はそれぞれプロトン、炭素13及びフッ素
19核磁気共鳴を表す。HPLCなる用語は高速液体ク
ロマトグラフィーを表す。
ニトリルの製造
モル)を25〜30℃で水中の濃塩酸(125ml、
1.5モル)の水溶液に加えた。生じた混合物を順次3
0℃で水中のシアン化ナトリウム(53.9g、1.1
モル)の溶液及び塩化メチレンで処理し、35℃に加熱
し、塩化メチレン中のp−クロロベンズアルデヒド(1
40.6g、1モル)の溶液で15〜25分間にわたっ
て処理し、加熱し、45℃で3時間保持し、そして室温
に冷却した。相を分離し、有機相を水で洗浄し、そして
真空中で濃縮し、残渣を生成させた。残渣をヘプタンか
ら結晶化させ、表題の生成物を淡黄色の結晶性固体とし
て生成させた、190.3g(収率91.2%)、融点
72.0〜73.0℃、1H及び13C NMR分析によ
り同定。
−トリフルオロ−N−イソプロピルアセトアミドの製造
ミノ(p−クロロフェニル)アセトニトリル(25.0
g、0.12モル)のスラリーを一般に還流温度で20
時間加熱し、そして真空中で濃縮し、油状残渣を生成さ
せた。油をトルエン/ヘプタンから結晶化させ、表題の
生成物を白色固体として生成させた、26.5g(収率
72.4%)、融点78.5〜79.5℃、1H、13C
及び19F NMR分析により同定。
ル)−2,2,2−トリフルオロ−N−イソプロピルア
セトアミドの製造
62.5ml、0.75モル)を<20℃でベンジルア
ミン(80.4g、0.75モル)で処理し、次に順次
水中のシアン化ナトリウム(27.0g、0.55モ
ル)及び塩化メチレンで処理し、35℃に加熱し、塩化
メチレン中のp−クロロベンズアルデヒド(70.3
g、0.5モル)で処理し、50℃に加熱し、そして4
5℃で3.5時間保持した。相を分離し、有機相を水で
洗浄し、そしてシロップ状の残渣に濃縮した。残渣をト
ルエン及び酢酸エチルに溶解し、20〜30℃で30分
間にわたって無水トリフルオロ酢酸(105.0g、
0.5モル)で処理し、そしてヘプタンで希釈した。生
じた羽毛状固体沈殿を濾過し、そして乾燥し、表題の生
成物を生成させた、119.8g(収率70.7%)、
融点131〜132℃、1H、13C及び19F NMR分
析により同定。
ル)−ピロール−3−カルボニトリルの製造
−2,2,2−トリフルオロアセトアミド(10.5
g、0.04モル)及びトルエンの混合物を5〜10℃
に窒素雰囲気下で冷却し、20分間にわたってトリフル
オロメタンスルホン酸(12.0g、0.08モル)で
処理し、室温に加熱し、そして25℃で3時間保持し
た。中間体である5−アミノオキサゾール塩の生成は19
F NMR(DMSO−d6)により監視した。中間体
の塩生成が完了した場合、混合物を20℃以下に冷却
し、ジメチルホルムアミド及び2−クロロアクリロニト
リル(5.25g、0.06モル)で処理し、25℃で
16〜18時間保持し、そして酢酸エチル及び水で処理
した。相を分離し、有機相を水で洗浄し、そして真空中
で濃縮し、固体残渣を生成させた。それぞれヘプタン中
の15%及び20%酢酸エチルで充填し、かつ溶出させ
たシリカゲル上での残渣のフラッシュカラムクロマトグ
ラフィーにより、表題の生成物が淡黄色の結晶として生
成された、6.14g(収率57%)、融点237〜2
40℃、HPLC及びNMR分析により同定。
導体の製造
の方法を用い、そして適当なトリフルオロアセチル化さ
れたアミノニトリル出発物質に置換し、次の生成物を得
た:
ル)ピロール−カルボニトリルの製造
tsa)、一水和物(19.1g、0.1モル)の混合
物をディーン−スターク(Dean-Stark)トラップを用い
て共沸的に乾燥し、酸無水物を得た。次にトルエンを真
空中で除去し、そしてプロピオニトリルと共に置いた。
生じた固体をN−(p−クロロ−α−シアノベンジル)
−2,2,2−トリフルオロアセトアミド(13.1
g、0.05モル)及び2−クロロアクリロニトリル
(8.75g、0.1モル)で処理し、98〜100℃
で18時間加熱し、室温に冷却し、そして水及び酢酸エ
チルの混合物で希釈した。相を分離し、有機相を水で洗
浄し、そして真空中で濃縮し、残渣を生成させた。ヘプ
タン中の20%酢酸エチルで充填し、かつ溶出させたシ
リカゲル上での残渣のフラッシュカラムクロマトグラフ
ィーにより、表題の生成物が淡黄色の結晶として生成さ
れた、4.2g(収率39%)、HPLC及びNMR分
析により同定。
ル)ピロール−3−カルボン酸メチルの製造
ノベンジル)−2,2,2−トリフルオロアセトアミド
(10.5g、0.04モル)のスラリーを窒素雰囲気
下で10℃に冷却し、10〜15分間にわたってトリフ
ルオロメタンスルホン酸(12.0g、0.08モル)
で処理し、室温に加温し、そして3時間撹拌した。反応
を19F NMR(DMSO−d6)分析により監視し、
中間体の塩生成の完了が示された。生成が完了した場
合、混合物を10℃に冷却し、ジメチルホルムアミドで
処理し、2−クロロアクリル酸メチル(7.2g、0.
06モル)で処理し、室温に加温し、18時間撹拌し、
そして水及び酢酸エチルで希釈した。相を分離し、有機
相を水で洗浄し、そして濃縮し、ワックス状固体残渣を
生成させた。ヘプタン中の20%酢酸エチルで充填し、
かつ溶出させたシリカゲル上での残渣のフラッシュカラ
ムクロマトグラフィーにより、表題の生成物が白色の結
晶性固体として生成された、7.6g(収率62%)、
融点123〜125℃、1H及び19F NMR分析によ
り同定。
フルオロメチル)ピロール−3−カルボニトリルの製造
ノベンジル)−2,2,2−トリフルオロ−N−メチル
アセトアミド(13.8g、0.05g)の溶液をアク
リロニトリル(5.3g、0.1モル)及びメタンスル
ホン酸(9.6g、0.1モル)で処理し、108〜1
10℃で30時間加熱し、水で希釈し、そして酢酸エチ
ルで抽出した。有機相を一緒にし、そして真空中で濃縮
し、残渣を生成させた。残渣をヘプタン中の15%酢酸
エチルで充填し、かつ溶出させたシリカゲル上でのフラ
ッシュカラムクロマトグラフィーにより精製し、表題の
生成物を淡黄色の固体として生成させた、0.9g(収
率63%)、融点129〜130℃、1H及び19F N
MR分析により同定。
フルオロメチル)ピロール−3−カルボニトリルの製造
ノベンジル)−2,2,2−トリフルオロ−N−メチル
アセトアミド(13.8g、0.05モル)の溶液を室
温でテトラフルオロ硼酸−ジエチルエーテラート(その
ままで10.5g、実際は8.9g、0.055モル)
を用いて処理し、60℃に加熱し、25分間にわたって
2−クロロアクリロニトリル(6.9g、0.075モ
ル)で処理し、60℃で2〜2.5時間保持し、冷却
し、そして酢酸エチルで処理した。生じた溶液を水で洗
浄し、そして濃縮し、ワックス状残渣を生成させた。ヘ
プタン中の20%酢酸エチルで充填し、かつ溶出させた
シリカゲル上での残渣のフラッシュカラムクロマトグラ
フィーにより、表題の生成物が淡黄色の結晶として生成
された、3.1g(収率22%)、融点129〜130
℃、1H、13C及び19F NMR分析により同定。
フルオロメチル)ピロール−3−カルボニトリルの製造
ノベンジル)(13.8g、0.05モル)の溶液を2
−クロロアクリロニトリル(4.4g、0.05モル)
及びメタンスルホン酸(4.8g、0.05モル)で処
理し、110℃で4時間加熱し、2−クロロアクリロニ
トリル(4.4g、0.05モル)及びメタンスルホン
酸(4.8g、0.05モル)の第二の部分で処理し、
110℃で12時間加熱し、冷却し、そして酢酸エチル
及び水で処理した。相を分離し、有機相を水で洗浄し、
そして濃縮し、残渣を生成させた。残渣をヘプタン中の
15%酢酸エチルで充填し、かつ溶出させたシリカゲル
を用いてクロマトグラフにかけ、表題の生成物を淡黄色
の結晶として生成させた、4.8g(収率34%)、融
点129〜130℃。
(トリフルオロメチル)ピロール−3−カルボニトリル
の製造
ノベンジル)−2,2,2−トリフルオロ−N−イソプ
ロピルアセトアミド(6.1g、0.02モル)の溶液
をテトラフルオロ硼酸ジエチルエーテラート(そのまま
で4.2g、実際は3.6g、0.022モル)を用い
て窒素雰囲気下にて室温で処理し、60℃に加熱し、1
5〜20分間にわたって2−クロロアクリロニトリル
(2.62g、0.03モル)で処理し、60℃で3時
間保持し、室温に冷却し、そして酢酸エチル及び水で処
理した。相を分離し、有機相を水で洗浄し、そして濃縮
し、褐色のゴム状残渣を生成させた。ヘプタン中の15
%酢酸エチルで充填し、かつ溶出させたシリカゲル上の
フラッシュカラムクロマトグラフィーにより、表題の生
成物が褐色の油として生成された、1.3g(収率20
%)、1H及び19F NMR並びに質量スペクトル分析
により同定。
リフルオロメチル)ピロール−3−カルボニトリルの製
造
ノベンジル)−2,2,2−トリフルオロ−N−ベンジ
ルアセトアミド(10.6g、0.03モル)の溶液を
メタンスルホン酸(3.2g、0.033モル)及びア
クリロニトリル(3.9g、0.045モル)で処理
し、100〜105℃で18時間加熱し、冷却し、追加
のメタンスルホン酸(1.6g、0.017モル)で処
理し、100〜105℃で22時間加熱し、水で希釈
し、そして酢酸エチルで抽出した。有機抽出液を一緒に
し、そして真空中で濃縮し、残渣を生成させた。残渣を
ヘプタン中の15%酢酸エチルで充填し、かつ溶出させ
たシリカゲルを用いるフラッシュカラムクロマトグラフ
ィーにより精製し、表題の生成物を白色の結晶として生
成させた、4.4g(収率40.6%)、融点103.
5〜105.5℃、1H、13C及び19F NMR並びに
質量スペクトル分析により同定。
りである。
キシまたはフェニル基1個で置換されていてもよいC1
〜C6アルキルであり;nは1、2、3、4、5、6、
7または8の整数であり;WはCN、NO2、COOR1
またはCOR2であり;
は各々独立して水素、ハロゲン、CN、NO2、C1〜C
4アルキル、C1〜C4ハロアルキル、C1〜C4アルコキ
シ、C1〜C4ハロアルコキシ、C1〜C4アルキルチオ、
C1〜C4アルキルスルフィニルであるか、またはM及び
Qが隣接する位置である場合、これらのものはこれらの
ものが結合する炭素原子と一緒になってMQが構造式 −OCH2O−、−OCF2O−または−CH=CH−C
H=CH− を表す環を形成することができ;R1及びR2は各々独立
してC1〜C4アルキルであり;R3、R4及びR5は各々
独立して水素、ハロゲン、NO2、CHOであるか、ま
たはR4及びR5はこれらのものが結合する原子と一緒に
なってR4R5が構造式
R6、R7、R8及びR9は各々独立して水素、ハロゲン、
CNまたはNO2であり;そしてXはOまたはSであ
る;の化合物を製造する際に、式II
ものである、のアミドニトリルを酸及び溶媒の存在下並
びに本質的に水を存在させずに少なくとも1モル当量の
式III
り、そしてYは水素、BrまたはClであり、但しRが
水素である場合、YはBrまたはClでなければならな
い、のジエネオフィルと反応させることからなる、式I
の化合物の製造方法。
メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p−トルエン
スルホン酸、ナフタレンスルホン酸、テトラフルオロ硼
酸、テトラフルオロ硼酸エーテラート及びテトラフルオ
ロ硼酸アルコラートよりなる群から選ばれる、上記1に
記載の方法。
れた芳香族炭化水素、有機アミド、ニトリル、アルカノ
ールまたはその混合物である、上記1に記載の方法。
ド、アセトニトリル、プロピオニトリル、t−ブタノー
ル及びその混合物よりなる群から選ばれる、上記3に記
載の方法。
及びQは各々独立して水素、ハロゲン、C1〜C4ハロア
ルキルまたはC1〜C4ハロアルコキシであり;nは1ま
たは2であり;WはCNであり;そしてRは水素または
メチルである;である、上記1に記載の方法。
キシまたはフェニル基1個で置換されていてもよいC1
〜C6アルキルであり;nは1、2、3、4、5、6、
7または8の整数であり;WはCN、NO2、COOR1
またはCOR2であり;
は各々独立して水素、ハロゲン、CN、NO2、C1〜C
4アルキル、C1〜C4ハロアルキル、C1〜C4アルコキ
シ、C1〜C4ハロアルコキシ、C1〜C4アルキルチオ、
C1〜C4アルキルスルフィニルであるか、またはM及び
Qが隣接する位置である場合、これらのものはこれらの
ものが結合する炭素原子と一緒になってMQが構造式 −OCH2O−、−OCF2O−または−CH=CH−C
H=CH− を表す環を形成することができ;R1及びR2は各々独立
してC1〜C4アルキルであり;R3、R4及びR5は各々
独立して水素、ハロゲン、NO2、CHOであるか、ま
たはR4及びR5はこれらのものが結合する原子と一緒に
なってR4R5が構造式
R6、R7、R8及びR9は各々独立して水素、ハロゲン、
CNまたはNO2であり;XはOまたはSであり;そし
てHalはハロゲン原子である;の化合物を製造する際
に、式II
ものである、のアミドニトリルを酸及び溶媒の存在下並
びに本質的に水を存在させずに少なくとも1モル当量の
式III
り、そしてYは水素、BrまたはClであり、但しRが
水素である場合、YはBrまたはClでなければならな
い、のジエネオフィルと反応させ、式I
物をハロゲン化し、該式IVの化合物を生成させることか
らなる、式IVの化合物の製造方法。
たは8の整数であり;R’は随時C1〜C4アルコキシま
たはフェニル基1個で置換されていてもよいC1〜C6ア
ルキルであり;
は各々独立して水素、ハロゲン、CN、NO2、C1〜C
4アルキル、C1〜C4ハロアルキル、C1〜C4アルコキ
シ、C1〜C4ハロアルコキシ、C1〜C4アルキルチオ、
C1〜C4アルキルスルフィニルであるか、またはM及び
Qが隣接する位置である場合、これらのものはこれらの
ものが結合する炭素原子と一緒になってMQが構造式 −OCH2O−、−OCF2O−または−CH=CH−C
H=CH− を表す環を形成することができ;R1及びR2は各々独立
してC1〜C4アルキルであり;R3、R4及びR5は各々
独立して水素、ハロゲン、NO2、CHOであるか、ま
たはR4及びR5はこれらのものが結合する原子と一緒に
なってR4R5が構造式
R6、R7、R8及びR9は各々独立して水素、ハロゲン、
CNまたはNO2であり;そしてXはOまたはSであ
る;の化合物。
の化合物。
ある、上記7に記載の化合物。
してM及びQは各々独立して水素、ハロゲンまたはC1
〜C4ハロアルキルである;である、上記7に記載の化
合物。
Claims (3)
- 【請求項1】 式I 【化1】 式中、Rは水素または随時C1〜C4アルコキシまたはフ
ェニル基1個で置換されていてもよいC1〜C6アルキル
であり;nは1、2、3、4、5、6、7または8の整
数であり;WはCN、NO2、COOR1またはCOR2
であり; 【化2】 Lは水素またはハロゲンであり;M及びQは各々独立し
て水素、ハロゲン、CN、NO2、C1〜C4アルキル、
C1〜C4ハロアルキル、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4
ハロアルコキシ、 C1〜C4アルキルチオ、C1〜C4アルキルスルフィニル
であるか、またはM及びQが隣接する位置である場合、
これらのものはこれらのものが結合する炭素原子と一緒
になってMQが構造式 −OCH2O−、−OCF2O−または−CH=CH−C
H=CH− を表す環を形成することができ;R1及びR2は各々独立
してC1〜C4アルキルであり;R3、R4及びR5は各々
独立して水素、ハロゲン、NO2、CHOであるか、 またはR4及びR5はこれらのものが結合する原子と一緒
になってR4R5が構造式 【化3】 により表される環を形成することができ;R6、R7、R
8及びR9は各々独立して水素、ハロゲン、CNまたはN
O2であり;そしてXはOまたはSである;の化合物を
製造する際に、式II 【化4】 式中、A、R及びnは式Iに対する上記のものである、
のアミドニトリルを酸及び溶媒の存在下並びに本質的に
水を存在させずに少なくとも1モル当量の式III 【化5】 式中、Wは式Iに対する上記のものであり、そしてYは
水素、BrまたはClであり、但しRが水素である場
合、YはBrまたはClでなければならない、のジエネ
オフィルと反応させることからなる、式Iの化合物の製
造方法。 - 【請求項2】 式IV 【化6】 式中、Rは水素または随時C1〜C4アルコキシまたはフ
ェニル基1個で置換されていてもよいC1〜C6アルキル
であり;nは1、2、3、4、5、6、7または8の整
数であり;WはCN、NO2、COOR1またはCOR2
であり; 【化7】 Lは水素またはハロゲンであり;M及びQは各々独立し
て水素、ハロゲン、CN、NO2、C1〜C4アルキル、
C1〜C4ハロアルキル、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4
ハロアルコキシ、 C1〜C4アルキルチオ、C1〜C4アルキルスルフィニル
であるか、またはM及びQが隣接する位置である場合、
これらのものはこれらのものが結合する炭素原子と一緒
になってMQが構造式 −OCH2O−、−OCF2O−または−CH=CH−C
H=CH− を表す環を形成することができ;R1及びR2は各々独立
してC1〜C4アルキルであり;R3、R4及びR5は各々
独立して水素、ハロゲン、NO2、CHOであるか、 またはR4及びR5はこれらのものが結合する原子と一緒
になってR4R5が構造式 【化8】 により表される環を形成することができ;R6、R7、R
8及びR9は各々独立して水素、ハロゲン、CNまたはN
O2であり;XはOまたはSであり;そしてHalはハ
ロゲン原子である;の化合物を製造する際に、式II 【化9】 式中、A、R及びnは式Iに対する上記のものである、
のアミドニトリルを酸及び溶媒の存在下並びに本質的に
水を存在させずに少なくとも1モル当量の式III 【化10】 式中、Wは式Iに対する上記のものであり、そしてYは
水素、BrまたはClであり、但しRが水素である場
合、YはBrまたはClでなければならない、のジエネ
オフィルと反応させ、式I 【化11】 の化合物を生成させ、そして該式Iの化合物をハロゲン
化し、該式IVの化合物を生成させることからなる、式IV
の化合物の製造方法。 - 【請求項3】 式IIa 【化12】 式中、nは1、2、3、4、5、6、7または8の整数
であり;R’は随時C1〜C4アルコキシまたはフェニル
基1個で置換されていてもよいC1〜C6アルキルであ
り; 【化13】 Lは水素またはハロゲンであり;M及びQは各々独立し
て水素、ハロゲン、CN、NO2、C1〜C4アルキル、
C1〜C4ハロアルキル、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4
ハロアルコキシ、 C1〜C4アルキルチオ、C1〜C4アルキルスルフィニル
であるか、またはM及びQが隣接する位置である場合、
これらのものはこれらのものが結合する炭素原子と一緒
になってMQが構造式 −OCH2O−、−OCF2O−または−CH=CH−C
H=CH− を表す環を形成することができ;R1及びR2は各々独立
してC1〜C4アルキルであり;R3、R4及びR5は各々
独立して水素、ハロゲン、NO2、CHOであるか、 またはR4及びR5はこれらのものが結合する原子と一緒
になってR4R5が構造式 【化14】 により表される環を形成することができ;R6、R7、R
8及びR9は各々独立して水素、ハロゲン、CNまたはN
O2であり;そしてXはOまたはSである;の化合物。
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