JPH1065255A - 超高速同期パルス光源 - Google Patents

超高速同期パルス光源

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JPH1065255A
JPH1065255A JP21638896A JP21638896A JPH1065255A JP H1065255 A JPH1065255 A JP H1065255A JP 21638896 A JP21638896 A JP 21638896A JP 21638896 A JP21638896 A JP 21638896A JP H1065255 A JPH1065255 A JP H1065255A
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祥雅 片桐
Atsushi Takada
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 電気信号に同期した繰り返し周波数が 100G
Hzを越える光パルスを発生させる。 【解決手段】 受動モード同期半導体レーザから出力さ
れる光パルスを位相変調しフォトダイオードで受光す
る。フォトダイオードでは、同期モードの変調側波帯
間、または変調側波帯と隣接同期モード間のビート信号
を発生させ、そのビート信号を用いて位相同期ループを
構成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、電気信号に同期可
能な超高繰り返し周波数の光パルス列を発生する超高速
同期パルス光源に関する。
【0002】
【従来の技術】受動モード同期半導体レーザは、レーザ
内に設けられた可飽和吸収領域の逆バイアス制御によ
り、超高繰り返し周波数の光パルス列を発生させること
が可能になっている。この受動モード同期半導体レーザ
を用い、繰り返し周波数が 100GHzを越える光パルスを
電気信号に同期させる方法として位相同期ループが検討
されている(参考文献:Buckman L. A., et al., "Stab
ilization of millimeter-wave frequencies from pass
ively mode-locked semiconductor lasers usingan opt
oelectronic phase-locked loop", IEEE J. Photonics
Technol. Lett.5,pp.1137-1140, 1993) 。
【0003】ここでは、受動モード同期半導体レーザか
ら発生する光パルス列をフォトダイオードで検出し、そ
の検出信号と電気信号とを位相比較し、得られる誤差信
号が最小になるように可飽和吸収領域の逆バイアス電圧
を制御し、繰り返し周波数を制御するようになってい
る。なお、位相同期ループでは、発振しないように最適
なフィルタを通して誤差信号が逆バイアス電圧に重畳さ
れるようになっている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】従来の位相同期ループ
を用いた構成では、受動モード同期半導体レーザで発生
する光パルス列をフォトダイオードで検出しているの
で、適用可能な繰り返し周波数の上限がフォトダイオー
ドの反応時間により制限されていた。現状では、最大で
も50GHzが限界であった。
【0005】本発明は、繰り返し周波数が 100GHzを越
える光パルスを電気信号に同期させることができる超高
速同期パルス光源を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明の超高速同期パル
ス光源は、受動モード同期半導体レーザから出力される
光パルスを位相変調した後にフォトダイオードで受光す
る。フォトダイオードでは、同期モードの変調側波帯
間、または変調側波帯と隣接同期モード間のビート信号
を発生させ、そのビート信号を用いて位相同期ループを
構成する。
【0007】繰り返し周波数F0 の光パルスは、図2に
示すように、光周波数スペクトル上で間隔F0 の同期モ
ードを呈する。この光パルスを位相変調すると、各同期
モードのまわりに変調周波数Fm の間隔で多数の変調側
波帯が発生する。変調側波帯は、もとの同期モードの位
相情報を保持しており、従って変調側波帯間のビートに
もその位相情報が反映される。帯域無限大の理想的なフ
ォトダイオードでは、図3に示すように、RFスペクト
ル上で周波数F0 のモード同期信号を中心とする間隔F
m ごとのビート信号が表れる。周波数帯域に制限がある
実際のフォトダイオードにおいても、低周波数領域のビ
ート信号の検出は可能である。このビート信号を用い、
従来と同様の位相同期ループを形成することにより、繰
り返し周波数が 100GHzを越える光パルスを電気信号に
同期させることが可能になる。
【0008】
【発明の実施の形態】
(第1の実施形態−請求項1,2)図1は、本発明の超
高速同期パルス光源の第1の実施形態を示す。本実施形
態は、繰り返し周波数36GHzのパルス光源に適用したも
のである。図において、受動モード同期半導体レーザ1
0、アイソレータ11、光透過手段としての光フィルタ
12、光出力を取り出す光カプラ13、光変調手段とし
てのLiNbO3 強度変調器14、光電変換手段としての
フォトダイオード(PD)15、増幅器16、位相比較
手段としてのミキサ17、負帰還手段としての低域通過
フィルタ(LPF)18および増幅器19、受動モード
同期半導体レーザ10の可飽和吸収領域101がループ
状に接続され、位相同期ループを構成している。光カプ
ラ13で分岐された出力には、観測系のRFスペクトラ
ムアナライザ20が接続される。LiNbO3 強度変調器
14は、電気発振器21から出力される20GHzの変調信
号で駆動される。ミキサ17には、電気発振器22から
16GHzの正弦波信号が入力される。
【0009】受動モード同期半導体レーザ10には、半
導体レーザ導波路上に可飽和吸収領域101と利得領域
102が一体成形された多電極レーザを用いる。このよ
うな受動モード同期半導体レーザ10は、可飽和吸収領
域101の光強度の増大により損失が減少する非線形吸
収特性により受動モード同期発振し、数ピコ秒以下のパ
ルス幅(半値全幅)の光パルス列を発生させる。この光
パルス列は、レーザ素子への戻り光を防止するアイソレ
ータ11を通過し、さらに余分なモードによるASEビ
ート雑音を除去し、モード同期に関与する光周波数成分
のみを通過させる光フィルタ12を通過し、光カプラ1
3で分岐される。その一方の光パルス列は、光出力とし
てここではRFスペクトラムアナライザ20に入力さ
れ、他方の光パルス列は位相同期ループのLiNbO3
度変調器14に入力される。
【0010】LiNbO3 強度変調器14は変調周波数20
GHzで駆動され、16GHz間隔の1次の変調側波帯を発生
させ、フォトダイオード15で電気信号に変換される。
RFスペクトル上では、この1次の変調側波帯と隣接同
期モードとの間のビート信号(16GHz)と、隣接同期モ
ードから発生した個別の1次変調側波帯間のビート信号
(4GHz)を呈する。ここでは、強度の強い16GHzのビ
ート信号を位相同期ループに使用する。フォトダイオー
ド15から出力されるビート信号は増幅器16を介して
ミキサ17に入力され、電気発振器22から出力される
16GHzの正弦波信号と位相比較される。得られた誤差信
号は、低域通過フィルタ18を通過して増幅器19で増
幅され、可飽和吸収領域101への逆バイアス電圧に重
畳される。位相同期ループの利得を適当に選ぶことによ
り、受動モード同期半導体レーザ10から発生する光パ
ルス列を電気発振器に同期させることができる(図1
(2))。
【0011】(第2の実施形態−請求項1,3)図4
は、本発明の超高速同期パルス光源の第2の実施形態を
示す。本実施形態は、繰り返し周波数 100GHzのパルス
光源に適用したものである。図において、光変調手段と
して電気発振器23から出力される24GHzの変調信号で
駆動される2段直列接続されたLiNbO3 強度変調器1
4−1,14−2を用い、また同期をとる4GHzの正弦
波信号を出力する電気発振器24を用いる他は、図1に
示す第1の実施形態と同様である。
【0012】LiNbO3 強度変調器14−2では、48G
Hz間隔の1次の変調側波帯が各モードの周囲に発生する
ので、低周波数側のビート信号は4,28,52,76GHzに
表れる。位相同期ループには電気的な処理が容易な最も
低い4GHzのビート信号を利用する。ミキサ17で、4
GHzの正弦波信号と位相比較して誤差信号を得た後は、
第1の実施形態と同様である。なお、繰り返し周波数は
変調周波数の非整数倍としている。これは、フォトダイ
オード15が位相検波できないことによる。
【0013】(第3の実施形態−請求項1,4)図5
は、本発明の超高速同期パルス光源の第3の実施形態を
示す。本実施形態は、繰り返し周波数 200GHzのパルス
光源に適用したものである。図において、光変調手段と
して電気発振器23から出力される24GHzの変調信号で
駆動される光周波数コム発生器31を用い、また同期を
とる8GHzの正弦波信号を出力する電気発振器25を用
いる他は、図1に示す第1の実施形態と同様である。
【0014】光周波数コム発生器31は、FSRが変調
周波数と同じ24GHzのファブリ・ペロー共振器中にLi
NbO3 位相変調器を含む構成である。これにより、24
GHz間隔の多数の変調側波帯が各モードの周囲に発生す
る。したがって、検出できるビート信号は、8,32,5
6,80,104,128,152,176GHzに発生する。第2の実
施形態と同様に、位相同期ループには電気的な処理が容
易な最も低い8GHzのビート信号を利用する。ミキサ1
7で、8GHzの正弦波信号と位相比較して誤差信号を得
た後は、第1の実施形態と同様である。
【0015】(第4の実施形態−請求項5)図6は、本
発明の超高速同期パルス光源の第4の実施形態を示す。
本実施形態は、第3の実施形態に用いた光周波数コム発
生器31を半導体レーザに置き換え、繰り返し周波数 1
00GHzのパルス光源に適用したものである。図におい
て、光周波数コム発生器31の位置にサーキュレータ3
2を介して半導体レーザ33を配置する。電気発振器2
6から出力される6GHzの電気信号により半導体レーザ
33の駆動電流を変調する。半導体レーザ33は、それ
によりキャリア密度が変調され、さらに屈折率が変調さ
れて外部から注入される光が位相変調を受ける。変調周
波数の上限はキャリアの応答で制限されるが、変調度を
大きくできるので多数のコムを発生させることができ
る。
【0016】ここでは、変調周波数を6GHzとしている
ので、検出できるビート信号は4GHzから94GHzまで6
GHzごとに表れる。その中で最も処理しやすいのは4G
Hzのビート信号であるが、キャリアから離れるほど強度
が小さくなるので、電気回路で簡易に処理可能な最大の
周波数のビート信号を使用する。ここでは、電気回路の
上限を20GHzとして、16GHzのビート信号を位相同期ル
ープに用いる。ミキサ17で、16GHzの正弦波信号と位
相比較して誤差信号を得た後は、第1の実施形態と同様
である。
【0017】なお、半導体レーザ33は、可飽和吸収領
域と利得領域を有する多電極レーザに置き換え、可飽和
吸収領域へ印加する逆バイアス電流を変調しても屈折率
変化を実現できる。利得領域は、可飽和吸収領域通過に
よる損失を補償するために用いられる。逆バイアス変調
による屈折率の応答は電流注入によるよりも速いので、
高周波数の変調を実現することができる。
【0018】(第5の実施形態−請求項6)本実施形態
は、光周波数コム発生器31または半導体レーザ33で
多数のビート信号を発生させる第3の実施形態または第
4の実施形態において、信号対雑音比を改善する構成に
関する。位相変調で多数の変調側波帯が発生することに
よりエネルギーが各側波帯に分配される。このエネルギ
ーの分配によりビート信号の強度が劣化し、位相同期ル
ープの誤差信号の品質が劣化する。このため、高次の側
波帯間のビートを利用する場合には、着目するビート信
号を与える側波帯に分配されるエネルギーを極大にする
必要がある。これは、最大周波数偏移の最適化により達
成することができる。すなわち、各変調側波帯の強度
は、位相変調の最大位相偏移Δφを引数とするベッセル
関数の2乗(Jn[Δφ])2 で与えられるので、Δφを適
当に選ぶことにより目的のビート信号を極大にすること
が可能である。例えば、図7に示すように、1次のベッ
セル関数の零点近傍にΔφを設定すると、2次側波帯の
強度はほぼ最大となる。すなわち、2次側波帯を使う場
合の最適値は、1次のベッセル関数の零点に位相変調の
振幅を合わせればよい。
【0019】(第6の実施形態−請求項7)本実施形態
は、ビート信号から誤差信号を得て受動モード同期半導
体レーザの繰り返し周波数を制御する位相同期ループを
最適化し、光パルス列の位相雑音を最小にするための構
成に関する。ビート信号には、繰り返し周波数のゆらぎ
に相当する位相雑音成分と、光パルス列の強度ゆらぎに
相当する強度雑音成分が含まれる。このため、ビート信
号を単純にベースバンドまで落として誤差信号を作って
も、強度雑音成分により雑音が増大されて逆に光パルス
列が不安定になる可能性がある。これを防ぐには、例え
ば繰り返し周波数の2以上の整数倍の高次のモード同期
信号のビート信号を位相同期ループに使用する。このと
き、高次のモード同期信号では位相雑音成分は次数の2
乗に比例して増大し、相対的に強度雑音成分が小さくな
るので、純粋に位相雑音成分から誤差信号を作りだすこ
とが可能になる。このような誤差信号を用いれば、位相
同期ループの利得を十分に上げてもループが発振するこ
とはなく、光パルス列を高精度に安定化することが可能
になる。
【0020】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の超高速同
期パルス光源は、電気信号に同期可能で繰り返し周波数
が 100GHzを越える光パルス列を発生させることができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の超高速同期パルス光源の第1の実施形
態を示す図。
【図2】光周波数スペクトルを示す図。
【図3】RFスペクトルを示す図。
【図4】本発明の超高速同期パルス光源の第2の実施形
態を示す図。
【図5】本発明の超高速同期パルス光源の第3の実施形
態を示す図。
【図6】本発明の超高速同期パルス光源の第4の実施形
態を示す図。
【図7】第一種ベッセル関数を示す図。
【符号の説明】
10 受動モード同期半導体レーザ 11 アイソレータ 12 光フィルタ 13 光カプラ 14 LiNbO3 強度変調器 15 フォトダイオード(PD) 16 増幅器 17 ミキサ 18 低域通過フィルタ(LPF) 19 増幅器 10 RFスペクトラムアナライザ 21 電気発振器(20GHz) 22 電気発振器(16GHz) 23 電気発振器(24GHz) 24 電気発振器(4GHz) 25 電気発振器(8GHz) 26 電気発振器(6GHz) 31 光周波数コム発生器 32 サーキュレータ 33 半導体レーザ 101 可飽和吸収領域 102 利得領域

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 第1の繰り返し周波数で光パルス列を発
    生する受動モード同期半導体レーザと、 前記受動モード同期半導体レーザの光出力からモード同
    期に関与した光周波数成分のみを透過させる光透過手段
    と、 前記光透過手段の出力を分岐し、一方を光出力として取
    り出す分岐手段と、 前記分岐手段で分岐された他方の光を第2の周波数で光
    学的に変調する光変調手段と、 前記光変調手段の光出力を電気信号に変換する光電変換
    手段と、 前記光電変換手段から出力されるビート信号と第3の周
    波数とを位相比較する位相比較手段と、 前記位相比較手段から出力される誤差信号を前記受動モ
    ード同期半導体レーザの逆バイアス電圧に重畳する負帰
    還手段とを備えたことを特徴とする超高速同期パルス光
    源。
  2. 【請求項2】 光変調手段が光強度変調器であることを
    特徴とする請求項1に記載の超高速同期パルス光源。
  3. 【請求項3】 光変調手段が多段直列接続された光強度
    変調器であることを特徴とする請求項1に記載の超高速
    同期パルス光源。
  4. 【請求項4】 光変調手段が光周波数コム発生器である
    ことを特徴とする請求項1に記載の超高速同期パルス光
    源。
  5. 【請求項5】 光周波数コム発生器が利得領域と電気的
    変調手段を有する半導体レーザであることを特徴とする
    請求項4に記載の超高速同期パルス光源。
  6. 【請求項6】 光変調手段の変調振幅が光電変換手段か
    ら出力されるビート信号の強度が最大となる値に設定さ
    れることを特徴とする請求項4または請求項5に記載の
    超高速同期パルス光源。
  7. 【請求項7】 光電変換手段から出力されるビート信号
    が高次のモード同期信号によるものであることを特徴と
    する請求項1に記載の超高速同期パルス光源。
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