JPH1052941A - Light-scanning apparatus and image-forming apparatus - Google Patents

Light-scanning apparatus and image-forming apparatus

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JPH1052941A
JPH1052941A JP21153796A JP21153796A JPH1052941A JP H1052941 A JPH1052941 A JP H1052941A JP 21153796 A JP21153796 A JP 21153796A JP 21153796 A JP21153796 A JP 21153796A JP H1052941 A JPH1052941 A JP H1052941A
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light sources
light
light source
scanning direction
image forming
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朱実 村上
Izumi Iwasa
泉 岩佐
Hideo Nakayama
秀生 中山
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain high-quality images by uniforming a resolution. SOLUTION: A plurality of light sources 12a of a light source array 12 are so constituted as to decrease a near field pattern diameter from the central light source 12a to the light sources 12a at both end parts in a main scanning direction. A photosensitive face 16a of a photosensitive drum 16 is arranged at a focal point 15a of the central light source 12a formed by lens systems 14, 15. When a plurality of light beams 13 modulated in accordance with an image signal are projected from the light source array 12, the light beam 13 projected from the central light source 12a forms an image at the focal point 15a on the photosensitive face 16a. The light beam 13 projected from the light source 12a at the end part forms an image on the focal point 15a in front of the photosensitive face 16a, then becomes thick gradually and forms on the photosensitive face 16a a spot diameter D equal to a central spot diameter D.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、LED光源または
レーザ光源を1次元状あるいは2次元状に配列したLE
Dアレイやレーザアレイ等の光源アレイを用いた光走査
装置および画像形成装置に関し、特に、走査面あるいは
画像形成面に照射される光ビームのスポット径を等しく
した光走査装置および画像形成装置に関する。
The present invention relates to an LE in which LED light sources or laser light sources are arranged one-dimensionally or two-dimensionally.
The present invention relates to an optical scanning apparatus and an image forming apparatus using a light source array such as a D array and a laser array, and more particularly to an optical scanning apparatus and an image forming apparatus in which a spot diameter of a light beam applied to a scanning surface or an image forming surface is equal.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の画像形成装置として、例えば、図
18に示されるものがある。この画像形成装置1は、主
走査方向Yおよび副走査方向Zに2次元状に配列された
複数のレーザ光源2aを有する半導体レーザアレイ2
と、各レーザ光源2aから光軸方向Xに出射された複数
のレーザビーム3を集光点4aに集光させる集光レンズ
系4と、集光点4aに集光された複数のレーザビーム3
を感光体ドラム6の感光体面6a上に結像させる結像レ
ンズ系5と、図示しない支持ローラによって回転可能に
支持され、レーザビーム3によって露光されることによ
り静電潜像を形成する感光体ドラム6とを具備してい
る。なお、7は画像信号を記憶した画像メモリ、8は画
像メモリ7から画像信号を読み出し、その画像信号を処
理して記録パターンに応じた記録信号を出力する信号処
理回路、9は信号処理回路8から記録信号を入力してレ
ーザアレイ2を駆動するレーザ駆動回路、10はレーザ
駆動回路9に制御信号を出力してレーザアレイ2の駆動
を行わせる制御回路である。
2. Description of the Related Art FIG. 18 shows a conventional image forming apparatus, for example. The image forming apparatus 1 includes a semiconductor laser array 2 having a plurality of laser light sources 2a two-dimensionally arranged in a main scanning direction Y and a sub scanning direction Z.
A condenser lens system 4 for condensing a plurality of laser beams 3 emitted from each laser light source 2a in the optical axis direction X at a converging point 4a; and a plurality of laser beams 3 condensed at the converging point 4a.
Lens system 5 that forms an electrostatic latent image on a photoreceptor surface 6 a of a photoreceptor drum 6, and a rotatable support roller (not shown) that forms an electrostatic latent image by being exposed by a laser beam 3 And a drum 6. Reference numeral 7 denotes an image memory that stores image signals, 8 denotes a signal processing circuit that reads out the image signals from the image memory 7 and processes the image signals to output a recording signal according to a recording pattern, and 9 denotes a signal processing circuit 8 A laser drive circuit 10 for driving the laser array 2 by inputting a recording signal from the controller 10 outputs a control signal to the laser drive circuit 9 to drive the laser array 2.

【0003】このように構成された画像形成装置1にお
いて、信号処理回路8が、画像メモリ7から画像信号を
読み出し、その画像信号を処理して記録パターンに応じ
た記録信号を出力すると、レーザ駆動回路9は、制御回
路10の制御の下に、信号処理回路8から記録信号を入
力してレーザアレイ2を駆動する。レーザアレイ2の各
レーザ光源2aからはレーザビーム3が出射される。各
レーザ光源2aから出射されたレーザビーム3は、集光
レンズ系4によって集光点4aに集光され、結像レンズ
系5によって感光体面6a上に結像される。感光体ドラ
ム6は、レーザビーム3によって露光されることにより
静電潜像を形成する。
In the image forming apparatus 1 configured as described above, when the signal processing circuit 8 reads an image signal from the image memory 7, processes the image signal and outputs a recording signal corresponding to a recording pattern, the laser driving The circuit 9 drives the laser array 2 by inputting a recording signal from the signal processing circuit 8 under the control of the control circuit 10. A laser beam 3 is emitted from each laser light source 2a of the laser array 2. The laser beam 3 emitted from each laser light source 2a is condensed on a condensing point 4a by a condensing lens system 4, and is imaged on a photoreceptor surface 6a by an imaging lens system 5. The photoreceptor drum 6 forms an electrostatic latent image by being exposed by the laser beam 3.

【0004】また、従来の他の画像形成装置として、例
えば、特開平7−314771号公報に示されるものが
ある。この画像形成装置は、光源の位置精度を高めるた
めに、従来、複数のLED光源が形成されたLEDチッ
プを複数貼り合わせて製作していたLEDアレイを、感
光体の幅よりも小さい幅の単一の基板上に複数のLED
光源を一列に配列して構成し、各LED光源からのレー
ザビームを感光体上に投影するために、配列方向の光の
幅を感光体の幅まで拡大する凸レンズを有する光学系を
設けている。これにより、単一の基板上に配列したLE
D光源からのレーザビームを感光体面上に感光体の幅ま
で拡大投影し、書き込みを行うことができる。また、単
一の基板上にLED光源を形成することで、貼り合わせ
による位置精度の誤差がなくなるという利点がある。
Another conventional image forming apparatus is disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 7-314771. In order to enhance the positional accuracy of the light source, this image forming apparatus replaces an LED array, which has conventionally been manufactured by bonding a plurality of LED chips on which a plurality of LED light sources are formed, with a single unit having a width smaller than the width of the photoconductor. Multiple LEDs on one board
The light sources are arranged in a line, and an optical system having a convex lens that enlarges the width of light in the arrangement direction to the width of the photoconductor is provided in order to project a laser beam from each LED light source onto the photoconductor. . As a result, LEs arranged on a single substrate
The laser beam from the D light source can be enlarged and projected onto the surface of the photosensitive member up to the width of the photosensitive member to perform writing. Further, by forming the LED light sources on a single substrate, there is an advantage that errors in positional accuracy due to bonding are eliminated.

【0005】また、従来の他の画像形成装置として、例
えば、特開平8−62531号公報に示されるものがあ
る。この画像形成装置は、仮にレーザアレイのスポット
が一直線でない場合でも、感光体面上で一直線に補正で
きる光学系を備えたものである。
Another conventional image forming apparatus is disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 8-62531. This image forming apparatus is provided with an optical system capable of correcting the laser array spot in a straight line on the photoreceptor surface even if the spot is not straight.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかし、図18に示す
従来の画像形成装置1によると、各光源2aが同様に構
成されていたため、光源2aからのレーザビーム3を凸
レンズを有する集光レンズ系4および結像レンズ系5を
介して感光体面6a上に結像する場合に、各々の光源2
aの中心位置をアレイ2の製作方法または光学系によっ
て補正できたとしても、レンズ系4,5の球面収差等の
影響を受け、図19に示すように、各結像点(焦点)5
aを結ぶ実際の焦点面5bが感光体面6a上から光軸方
向Xにずれてしまい、両側で解像度が劣化するという問
題がある。すなわち、光軸中心30にある光源2a0から
出射されたレーザビーム3は、図19に示すように、感
光体面6a上に焦点5aが形成されるが、光軸中心30
にある光源2a0から主走査方向Yに沿って離れた位置に
ある光源2akから出射されたレーザビーム3は、本来感
光体面6a上に結像すべきものが手前で焦点5aが形成
され、その結果、感光体面6a上に所望のスポット径D
よりも太いスポット径(D+α)が照射されることとな
る。これは光源2aが、LED光源でも同様である。こ
の焦点5aのずれΔx(y)は、光軸中心30から離れ
た位置に配置された光源2aほど大きくなる。従って、
光源2aの位置精度を高めただけでは、解像度の均一な
画像を得ることはできない。
However, according to the conventional image forming apparatus 1 shown in FIG. 18, since each light source 2a is similarly configured, the laser beam 3 from the light source 2a is condensed by a condenser lens system having a convex lens. When an image is formed on the photoreceptor surface 6a via the imaging lens system 4 and the imaging lens system 5, each light source 2
Even if the center position of a can be corrected by the manufacturing method of the array 2 or the optical system, it is affected by the spherical aberration and the like of the lens systems 4 and 5, and as shown in FIG.
There is a problem that the actual focal plane 5b connecting a is shifted from the surface of the photoreceptor 6a in the optical axis direction X, and the resolution is degraded on both sides. That is, as shown in FIG. 19, the laser beam 3 emitted from the light source 2 a0 at the optical axis center 30 forms a focal point 5 a on the photoreceptor surface 6 a.
The laser beam 3 emitted from the light source 2 ak located at a position away from the light source 2 a0 along the main scanning direction Y has a focal point 5 a which is originally formed on the photoreceptor surface 6 a. As a result, a desired spot diameter D on the photosensitive member surface 6a is obtained.
A larger spot diameter (D + α) will be applied. This is the same when the light source 2a is an LED light source. The shift Δx (y) of the focal point 5a becomes larger as the light source 2a is located farther from the optical axis center 30. Therefore,
It is not possible to obtain an image with a uniform resolution simply by increasing the positional accuracy of the light source 2a.

【0007】従って、本発明の目的は、解像度の均一化
を図り、高品質な画像を得ることのできる光走査装置お
よび画像形成装置を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, it is an object of the present invention to provide an optical scanning device and an image forming apparatus capable of obtaining a high-quality image with uniform resolution.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明の光走査装置は、複数の光ビームによって走査
面を走査する光走査装置において、前記複数の光ビーム
を出射する複数の光源が1次元状あるいは2次元状に配
列された光源アレイと、前記複数の光ビームを前記走査
面に集光させる光学手段とを備え、前記光源アレイの前
記複数の光源は、前記光学手段の焦点位置に対する前記
複数の光ビームの前記走査面上の非合焦度合いに応じた
ニアフィールドパターン径を有するように構成されたこ
とを特徴とする。
According to another aspect of the present invention, there is provided an optical scanning device for scanning a scanning surface with a plurality of light beams, wherein a plurality of light sources for emitting the plurality of light beams are provided. Comprises a light source array arranged one-dimensionally or two-dimensionally, and optical means for converging the plurality of light beams on the scanning surface, wherein the plurality of light sources of the light source array are focused by the optical means. It is characterized by having a near field pattern diameter corresponding to a degree of defocus of the plurality of light beams on the scanning surface with respect to a position.

【0009】また、上記目的を達成するために本発明の
画像形成装置は、画像信号に応じて変調された複数の光
ビームによって画像形成面を走査して前記画像形成面に
画像を形成する画像形成装置において、前記複数の光ビ
ームを出射する複数の光源が1次元状あるいは2次元状
に配列された光源アレイと、前記複数の光ビームを前記
画像形成面に集光させる光学手段と、前記画像形成面に
配置され、前記複数の光ビームに応じた静電潜像を形成
する画像形成体とを備え、前記光源アレイの前記複数の
光源は、前記光学手段の焦点位置に対する前記複数の光
ビームの前記画像形成面上の非合焦度合いに応じたニア
フィールドパターン径を有するように構成されたことを
特徴とする。
According to another aspect of the present invention, there is provided an image forming apparatus for scanning an image forming surface with a plurality of light beams modulated according to an image signal to form an image on the image forming surface. A light source array in which a plurality of light sources for emitting the plurality of light beams are arranged one-dimensionally or two-dimensionally; an optical unit for condensing the plurality of light beams on the image forming surface; An image forming body that is arranged on an image forming surface and forms an electrostatic latent image according to the plurality of light beams, wherein the plurality of light sources of the light source array are arranged such that the plurality of light sources correspond to a focal position of the optical unit. It is characterized by having a near-field pattern diameter corresponding to the degree of out-of-focus of the beam on the image forming surface.

【0010】上記各構成によれば、複数の光源は、光学
手段の焦点位置に対する複数の光ビームの走査面あるい
は画像形成面上の非合焦度合いに応じたニアフィールド
パターン径を有することにより、走査面あるいは画像形
成面に照射される光ビームのスポット径を等しくするこ
とが可能となる。
According to each of the above structures, the plurality of light sources have near-field pattern diameters corresponding to the degree of out-of-focus on the scanning surface or the image forming surface of the plurality of light beams with respect to the focal position of the optical means. It is possible to make the spot diameter of the light beam applied to the scanning surface or the image forming surface equal.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照して詳細に説明する。図1は本発明の原理を説明
するための図である。この発明に係る画像形成装置11
は、複数の光ビームを出射する複数の光源12aが1次
元状あるいは2次元状に配列された光源アレイ12を備
えている。この光源アレイ12の複数の光源12aは、
主走査方向Yの中央の光源12aから両端部の光源12
aにかけてニアフィールドパターン径が小さくなる構成
を有している。感光体ドラム16の感光体面16aは、
レンズ系14,15によって形成される中央の光源12
aの焦点15aに配置される。このように構成すること
で、光源アレイ12から画像信号に応じて変調された複
数の光ビームを出射すると、中央の光源12aから出射
された光ビーム13は、感光体面16a上の焦点15a
で像を結ぶ。端部の光源12aから出射された光ビーム
13は、感光体面16aの手前の焦点15aで像を結ん
だ後、除々に太くなり、感光体面16a上では中央のス
ポット径Dと等しいスポット径Dを形成する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a diagram for explaining the principle of the present invention. Image forming apparatus 11 according to the present invention
Includes a light source array 12 in which a plurality of light sources 12a for emitting a plurality of light beams are arranged one-dimensionally or two-dimensionally. The plurality of light sources 12a of the light source array 12
From the central light source 12a in the main scanning direction Y to the light sources 12 at both ends.
The configuration is such that the diameter of the near-field pattern becomes smaller toward a. The photoconductor surface 16a of the photoconductor drum 16 is
Central light source 12 formed by lens systems 14 and 15
a is located at the focal point 15a. With this configuration, when a plurality of light beams modulated in accordance with an image signal are emitted from the light source array 12, the light beam 13 emitted from the central light source 12a becomes a focal point 15a on the photosensitive member surface 16a.
Connect the image with. The light beam 13 emitted from the light source 12a at the end forms an image at the focal point 15a in front of the photoconductor surface 16a, and then gradually becomes thicker. On the photoconductor surface 16a, the light beam 13 has a spot diameter D equal to the central spot diameter D. Form.

【0012】図2は本発明の実施の形態に係る画像形成
装置を示す構成図である。この画像形成装置11は、n
×m個(例えば、数千個以上)のレーザ光源12aをア
レイ状に配置し、各レーザ光源12aからレーザビーム
13を同時に独立して出射可能な半導体レーザアレイ1
2(12A乃至12F)と、各レーザ光源12aから出
射された複数のレーザビーム13を集光点14aに集光
させる集光レンズ系14と、集光点14aに集光された
複数のレーザビーム13を走査面としての感光体面16
a上に結像させる結像レンズ系15と、図示しない支持
ローラによって回転可能に支持され、レーザビーム13
によって露光されることにより静電潜像を形成する感光
体ドラム16と、画像信号を記憶した画像メモリ17
と、画像メモリ17から画像信号を読み出し、その画像
信号を処理して記録パターンに応じた記録信号を出力す
る信号処理回路18と、信号処理回路18から記録信号
を入力してレーザアレイ12を駆動する駆動信号を出力
するレーザ駆動回路19と、レーザ駆動回路19に制御
信号を出力してレーザアレイ12の駆動を行わせる制御
回路20とを具備している。なお、同図において、Xは
光軸方向、Yは主走査方向、Zは副走査方向をそれぞれ
示し、aはレーザアレイ12の表面と集光レンズ系14
との距離、bは集光レンズ系14と感光体面16aとの
距離をそれぞれ示す。また、レーザアレイ12の1つの
レーザ光源12aは、主走査方向Yの1つの画素に対応
している。
FIG. 2 is a configuration diagram showing an image forming apparatus according to an embodiment of the present invention. This image forming apparatus 11 has n
× m (for example, thousands or more) laser light sources 12a are arranged in an array, and a semiconductor laser array 1 capable of simultaneously and independently emitting a laser beam 13 from each laser light source 12a.
2 (12A to 12F), a condensing lens system 14 for converging a plurality of laser beams 13 emitted from each laser light source 12a to a condensing point 14a, and a plurality of laser beams condensing at the condensing point 14a 13 as a scanning surface
a laser beam 13 supported rotatably by an imaging lens system 15 for forming an image on the
Drum 16 that forms an electrostatic latent image by being exposed by an image memory, and an image memory 17 that stores image signals
A signal processing circuit 18 for reading out an image signal from the image memory 17 and processing the image signal to output a recording signal according to a recording pattern; and driving the laser array 12 by inputting the recording signal from the signal processing circuit 18 A laser drive circuit 19 for outputting a drive signal to be driven, and a control circuit 20 for outputting a control signal to the laser drive circuit 19 to drive the laser array 12. In the figure, X indicates the optical axis direction, Y indicates the main scanning direction, and Z indicates the sub-scanning direction, and a indicates the surface of the laser array 12 and the condenser lens system 14.
And b indicates the distance between the condenser lens system 14 and the photoreceptor surface 16a. Further, one laser light source 12a of the laser array 12 corresponds to one pixel in the main scanning direction Y.

【0013】感光体ドラム16は、光軸中心130にあ
る光源12a0から出射されたレーザビーム13の結像点
(焦点)15aが感光体面16aと一致するように位置
決めされている。また、この光記録装置11は、感光体
ドラム16の周囲に、帯電器,現像器,転写器等を設
け、転写器の前段には給紙部、転写器の後段には定着
器,排紙部等を設けている。これらの各ユニットは、説
明上図示していない。
The photosensitive drum 16 is positioned so that an image forming point (focal point) 15a of the laser beam 13 emitted from the light source 12a0 at the optical axis center 130 coincides with the photosensitive member surface 16a. In the optical recording apparatus 11, a charging unit, a developing unit, a transfer unit, and the like are provided around the photosensitive drum 16, and a paper feed unit is provided before the transfer unit, and a fixing unit and a paper discharge unit are provided after the transfer unit. Parts etc. are provided. These units are not shown for the sake of explanation.

【0014】図3はレーザアレイ12の構造を説明する
ための図であり、同図(a)はその要部斜視図、同図
(b)は同図(a)のA部詳細図である。レーザアレイ
12は、n-GaAsの半導体基板120を有し、半導体基板
120の裏面にn型電極121を形成し、半導体基板1
20の表面に、Al0.15Ga0.85AsとAlAsとを交互に多層に
積層したn型ミラー層122、GaAs量子井戸層を上下の
Al 0.3Ga0.7Asで挟み込んで形成された発光層を含む活性
層123、Al0.15Ga0.85AsとAlAsとを交互に多層に積層
したp型ミラー層124及びレーザビーム13を面発光
状態で出射する複数の発光孔125が形成されたp型電
極126をこの順に形成し、活性層123(あるいはp
型ミラー層124)にプロトンを注入して高抵抗領域1
27を形成し、p型電極126、p型ミラー層124お
よび活性層123を分離溝128により分離して複数の
光源12aを形成している。p型ミラー層124の分離
溝128間にはエアポスト(後述する図5参照)Eが形
成されており、Eyは、主走査方向Yのエアポスト半
径、Ezは、副走査方向Zのエアポスト半径を示す。ま
た、活性層123の高抵抗領域127間には電流狭窄部
(後述する図5参照)Sが形成されており、Syは主走
査方向Yの電流狭窄半径、Szは副走査方向Zの電流狭
窄半径を示す。
FIG. 3 illustrates the structure of the laser array 12.
FIG. 2A is a perspective view of the main part of FIG.
FIG. 2B is a detailed view of a portion A in FIG. Laser array
12 has a semiconductor substrate 120 of n-GaAs,
An n-type electrode 121 is formed on the back surface of the semiconductor substrate 1.
Al on the surface of 200.15Ga0.85Alternating layers of As and AlAs
The n-type mirror layer 122 and the GaAs quantum well layer
Al 0.3Ga0.7Activity including light emitting layer formed by sandwiching between As
Layer 123, Al0.15Ga0.85As and AlAs alternately stacked in multiple layers
Surface emission of the formed p-type mirror layer 124 and the laser beam 13
P-type electrode in which a plurality of light emitting holes 125 for emitting light in a state are formed.
The poles 126 are formed in this order, and the active layer 123 (or p
The high-resistance region 1 by injecting protons into the
27, the p-type electrode 126, the p-type mirror layer 124 and
And active layer 123 are separated by separation grooves 128 to form a plurality of
A light source 12a is formed. Separation of p-type mirror layer 124
An air post (see FIG. 5 described later) E is formed between the grooves 128.
And Ey is a half of the air post in the main scanning direction Y.
The diameter and Ez indicate the radius of the air post in the sub scanning direction Z. Ma
In addition, a current confinement portion exists between the high-resistance regions 127 of the active layer 123.
(See FIG. 5 described later.) S is formed, and Sy is the main running
The current constriction radius in the scanning direction Y, Sz is the current constriction radius in the sub-scanning direction Z.
The stenosis radius is shown.

【0015】図4は第1の実施の形態に係るレーザアレ
イ12Aの要部正面図、図5はレーザアレイ12Aの主
走査方向Yの要部断面図である。このレーザアレイ12
Aは、主走査方向Yに沿って所定の間隔で設けられたn
本のY方向基線Nと、Y方向基線Nに対し角度θを有し
て所定の間隔で設けられたm本のθ方向基線Mとの各交
点にn×m個の発光孔125を設けている。各発光孔1
25は、光軸中心130を通るθ方向基線Mo 上のレー
ザ光源列を起点として、主走査方向Yに沿って離れるに
従い、小さくなるように形成している。また、同じθ方
向基線M上にある発光孔125の大きさは等しくしてい
る。
FIG. 4 is a front view of a principal part of the laser array 12A according to the first embodiment, and FIG. 5 is a sectional view of a principal part in the main scanning direction Y of the laser array 12A. This laser array 12
A is n provided at predetermined intervals along the main scanning direction Y.
N × m light emitting holes 125 are provided at the intersections between the Y direction base lines N and the m θ direction base lines M provided at a predetermined interval at an angle θ with respect to the Y direction base lines N. I have. Each light emitting hole 1
Reference numeral 25 denotes a laser light source array on the θ-direction base line Mo passing through the center 130 of the optical axis as a starting point. In addition, the size of the light emitting holes 125 on the same θ direction base line M is made equal.

【0016】図6は第1の実施の形態に係るレーザアレ
イ12Aの光源12aのニアフィールドパターンを示す
図である。同図において、rは光源12aのニアフィー
ルドパターン半径(ピーク強度の1/e2 における半
径)を示す。発光孔125を主走査方向Yに沿って離れ
るに従って小さくなるように形成することにより、光源
12aのニアフィールドパターン半径rは、光軸中心1
30から離れるもの程小さくなる。例えば、光源12a
のニアフィールドパターン半径rを2μm、距離bと距
離aとの比(b/a)を6とすると、感光体面16a上
でのニアフィールドパターン半径Rは、12μmとな
る。
FIG. 6 is a diagram showing a near-field pattern of the light source 12a of the laser array 12A according to the first embodiment. In the drawing, r indicates the radius of the near field pattern of the light source 12a (the radius at 1 / e 2 of the peak intensity). By forming the light emitting hole 125 so as to become smaller as it goes away along the main scanning direction Y, the radius r of the near field pattern of the light source 12a becomes smaller than the optical axis center 1
The further away from 30, the smaller. For example, the light source 12a
Is 2 μm, and the ratio (b / a) of the distance b to the distance a (b / a) is 6, the near-field pattern radius R on the photoconductor surface 16a is 12 μm.

【0017】図7は第1の実施の形態に係るレーザアレ
イ12Aの異なる位置の光源12aから出射されるレー
ザビーム13の比較を示す図である。光軸中心130に
ある光源12a0のニアフィールドパターン半径をr0
光軸中心130から離れた位置にある光源12akのニア
フィールドパターン半径を半径r0 より小さいrk とす
る。光軸中心130にある光源12a0は、焦点面15b
上に半径R0 (=r0 ×(b/a))の像を形成する。
一方、ニアフィールドパターン半径rk の光源12
akは、焦点面15bに半径Rk (=rk ×(b/a)の
像を形成した後、次第に太り、所定の距離Lの位置で
は、半径R0 と等しいスポット半径Wk を形成する。
FIG. 7 shows a laser array according to the first embodiment.
Rays emitted from light sources 12a at different positions
FIG. 4 is a diagram showing a comparison of the beam 13. On the optical axis center 130
Some light source 12a0The near-field pattern radius of r0,
Light source 12 located away from optical axis center 130akNear
Field pattern radius to radius r0Smaller rkToss
You. Light source 12 at optical axis center 130a0Is the focal plane 15b
Radius R on0(= R0× (b / a)).
On the other hand, the near field pattern radius rkLight source 12
akIs the radius R at the focal plane 15b.k(= Rk× (b / a)
After forming an image, it gradually becomes thicker, and at a position at a predetermined distance L
Is the radius R0Spot radius W equal tokTo form

【0018】Wk とRk との間には、以下の式(1)乃
至式(5)に示す関係があるので、これを解くと、焦点
15aと感光体面16aとのずれΔx(y)に対応する
光源12aのニアフィールドパターン半径rk が得られ
る。これを以下の式(6)に示す。 Wk 2 =Rk 2 (1+(λL/πRk 2 2 ) …(1)
Since there is a relationship between W k and R k as shown in the following equations (1) to (5), when this is solved, the deviation Δx (y) between the focal point 15a and the photoconductor surface 16a is obtained. near field pattern radius r k of the corresponding light sources 12a to obtain. This is shown in the following equation (6). W k 2 = R k 2 (1+ (λL / πR k 2 ) 2 ) (1)

【数1】 k =rk ×(b/a) …(3) Wk =r0 ×(b/a) …(4) L=Δx(y) …(5)(Equation 1) R k = r k × (b / a) (3) W k = r 0 × (b / a) (4) L = Δx (y) (5)

【数2】 (Equation 2)

【0019】上記式(6)より、光軸中心130にある
光源12a0以外の他の各光源12akのニアフィールドパ
ターン半径rk を球面収差による焦点15aの光源12
a側へのずれΔx(y)がLと等しくなるように設定す
ることで、全ての光源12aにおいて常に感光体面16
a上で同一のスポット径を得ることができる。
[0019] from the formula (6), a near field pattern radius r k of the light source 12 a0 than other light sources 12 ak on the optical axis 130 of the focus 15a due to the spherical aberration light source 12
By setting the deviation Δx (y) to the a side to be equal to L, the photoconductor surface 16 is always maintained in all the light sources 12a.
The same spot diameter can be obtained on a.

【0020】次に、本装置11の動作を説明する。信号
処理回路18が、画像メモリ17から画像信号を読み出
し、その画像信号を処理して記録パターンに応じた記録
信号を出力すると、レーザ駆動回路19は、制御回路2
0の制御の下に、信号処理回路18から記録信号を入力
してレーザアレイ12を駆動する。レーザアレイ12の
各レーザ光源12aからはレーザビーム13が出射され
る。各レーザ光源12aから出射されたレーザビーム1
3は、集光レンズ系14によって集光点14aに集光さ
れ、結像レンズ系15によって感光体面16a上に結像
される。感光体ドラム16は、レーザビーム13によっ
て露光されることにより静電潜像を形成する。その後
は、静電潜像は、現像器によってトナー現像され、その
トナー像が転写器によって給紙部から給紙された記録用
紙に転写され、さらに定着器によって定着された後、記
録用紙は排紙部へと送られる。
Next, the operation of the apparatus 11 will be described. When the signal processing circuit 18 reads an image signal from the image memory 17 and processes the image signal to output a recording signal corresponding to a recording pattern, the laser driving circuit 19
Under the control of 0, the recording signal is input from the signal processing circuit 18 to drive the laser array 12. A laser beam 13 is emitted from each laser light source 12a of the laser array 12. Laser beam 1 emitted from each laser light source 12a
The light 3 is condensed on a condensing point 14a by a condensing lens system 14, and is imaged on a photoreceptor surface 16a by an imaging lens system 15. The photosensitive drum 16 forms an electrostatic latent image by being exposed by the laser beam 13. Thereafter, the electrostatic latent image is developed with toner by a developing device, the toner image is transferred by a transfer device to recording paper fed from a paper feeding unit, and after being fixed by a fixing device, the recording paper is discharged. It is sent to the paper department.

【0021】次に、本装置11の効果を図8を参照して
説明する。図8は感光体面16aと焦点面15bとの位
置関係および感光体面16a上のスポットを示す図であ
る。本装置11によれば、図8に示すように、光軸中心
130の光源12a0からのレーザビーム13がレンズ系
14,15によって形成される焦点15aに感光体面1
6aを配置させた場合、レンズ系14,15の球面収差
等によって光軸中心130の光源12a0から主走査方向
Yに離れた光源12akからのレーザビーム13の焦点1
5aが感光体面16aの手前で形成されても、光源12
aのニアフィールドパターン径rをレンズ系14,15
の球面収差等による感光体面16aからのずれ量をキャ
ンセルするように設定することで、常に感光体面16a
上で同一のスポット径Dを得ることができるため、均一
な解像度を有する画像を得ることができる。また、レン
ズ系14,15の球面収差等を光源12a側で補正可能
となるため、安価なレンズを使用することができ、ひい
てはコストダウンを図ることができる。
Next, the effect of the present apparatus 11 will be described with reference to FIG. FIG. 8 is a diagram showing a positional relationship between the photoconductor surface 16a and the focal plane 15b and a spot on the photoconductor surface 16a. According to the present apparatus 11, as shown in FIG. 8, the laser beam 13 from the light source 12 a0 at the optical axis center 130 is focused on the focal point 15 a formed by the lens systems 14 and 15,
If is arranged 6a, focus first laser beam 13 from the light source 12 ak away from the light source 12 a0 center of the optical axis 130 in the main scanning direction Y by the spherical aberration or the like of the lens system 14 and 15
5a is formed before the photoconductor surface 16a, the light source 12
The near field pattern diameter r of a is set to the lens systems 14 and 15.
Is set so as to cancel the shift amount from the photoconductor surface 16a due to the spherical aberration of the photoconductor surface 16a.
Since the same spot diameter D can be obtained, an image having a uniform resolution can be obtained. Further, since the spherical aberration and the like of the lens systems 14 and 15 can be corrected on the light source 12a side, an inexpensive lens can be used, and the cost can be reduced.

【0022】図9は第2の実施の形態に係るレーザアレ
イ12Bの要部正面図である。第1の実施の形態に係る
レーザアレイ12Aでは、レンズ系14,15に球面収
差があるときでも、複数の光源12aが感光体面16a
上に形成するスポット径Dが等しくなるが、ニアフィー
ルドパターン半径rを変化させると、レーザビーム13
の周波数をλとした場合、光源12aの出射角uが次の
式(7)のように変化する。 tan(u)=(2λ)/(πr) …(7) すなわち、レーザビーム13の周波数λを一定とした場
合、半径rが小さくなると、出射角uは大きくなる。第
1の実施の形態のように、光軸中心130から主走査方
向Yに沿って離れるに従い、半径rを小さくした場合、
最も端の光源12aの出射角uが最大となるため、最も
端の光源12aからのレーザビーム13が結像レンズ系
15でけられるおそれがある。また、光路中にスリット
(ピンホール)を用いた光学系の場合、広がり角が大き
いほどスリット(ピンホール)でけられる光量が多くな
るため、感光体面16a上で得られるビーム強度が不均
一になるおそれがある。これらを防ぐために、第2の実
施の形態では、半径rが変化しても出射角uが変化しな
いようにしたものである。
FIG. 9 is a front view of a main part of a laser array 12B according to the second embodiment. In the laser array 12A according to the first embodiment, even when the lens systems 14 and 15 have spherical aberration, the plurality of light sources 12a
The spot diameter D formed above becomes equal, but when the radius r of the near-field pattern is changed, the laser beam 13
Is λ, the emission angle u of the light source 12a changes as in the following equation (7). tan (u) = (2λ) / (πr) (7) That is, when the frequency λ of the laser beam 13 is constant, the emission angle u increases as the radius r decreases. As in the first embodiment, when the radius r is reduced as the distance from the optical axis center 130 in the main scanning direction Y decreases,
Since the emission angle u of the endmost light source 12a is maximized, there is a possibility that the laser beam 13 from the endmost light source 12a is emitted by the imaging lens system 15. In the case of an optical system using a slit (pinhole) in the optical path, the larger the spread angle is, the larger the amount of light emitted by the slit (pinhole) becomes, so that the beam intensity obtained on the photoconductor surface 16a becomes uneven. Could be. In order to prevent these, in the second embodiment, even when the radius r changes, the emission angle u does not change.

【0023】このレーザアレイ12Bは、図9に示すよ
うに、第1の実施の形態と同様に発光孔125が、光軸
中心130にある光源12a0を起点として光軸中心13
0から主走査方向Yに沿って離れるに従い、除々にある
いは段階的に小さくなるように設定し、さらに、光源1
2aからのレーザビーム13の出射角uは、λ/rで決
まるので、出射角uが全ての光源12aにおいて同一と
なるように、各光源12aからの波長λも光軸中心13
0にある光源12a0を起点として、光軸中心130から
主走査方向Yに沿って離れるに従い、除々にあるいは段
階的に小さくなるように設定している。
As shown in FIG. 9, in the laser array 12B, as in the first embodiment, the light emitting holes 125 are formed so that the light source 12a0 at the optical axis center 130 is the starting point and the optical axis center 13
As the distance from 0 increases along the main scanning direction Y, the light source 1 is set to decrease gradually or stepwise.
Since the emission angle u of the laser beam 13 from the light source 2a is determined by λ / r, the wavelength λ from each light source 12a is also adjusted to the optical axis center 13 so that the emission angle u is the same for all the light sources 12a.
Starting from the light source 12 a0 at 0, the distance from the optical axis center 130 along the main scanning direction Y is set to gradually or stepwise decrease.

【0024】なお、波長λを短くするには、例えば、ミ
ラー層121,123の膜厚を薄くすることで実現でき
る。また、発光孔125を除々に小さくする場合には、
ミラー層121,123の膜厚分布が光軸中心130で
最大となり、周辺に行くに従い薄くなるように形成する
ことで実現できる。発光孔125が段階的に小さくなる
場合や波長差を大きくとりたい場合には、発光孔125
の大きさに合わせた波長λのレーザアレイチップを数個
製作し、これを張り合わせてレーザアレイ12Bを形成
すればよい。同図において、θ方向基線M0 上の光源1
a0からのレーザビーム13の波長をλ0 、θ方向基線
1 上の光源12aからのレーザビーム13の波長をλ
1 、θ方向基線M2 上の光源12aからのレーザビーム
13の波長をλ2 とすると、λ0 >λ1 >λ2 の関係に
ある。なお、レーザビーム13が結像レンズ系15でけ
られるおそれのある端部近傍の光源12aのみのレーザ
ビーム13の出射角uを小さくするようにしてもよい。
The wavelength λ can be shortened by, for example, reducing the thickness of the mirror layers 121 and 123. When the light emitting hole 125 is gradually reduced,
This can be realized by forming the mirror layers 121 and 123 such that the film thickness distribution becomes maximum at the optical axis center 130 and becomes thinner toward the periphery. When the light emitting hole 125 is gradually reduced or when it is desired to increase the wavelength difference, the light emitting hole 125
A number of laser array chips having a wavelength λ corresponding to the size of the laser array 12B may be manufactured and bonded to form a laser array 12B. In the figure, the light source 1 on the θ direction base line M 0
The wavelength of the laser beam 13 from 2 a0 lambda 0, the wavelength of the laser beam 13 from the θ direction baseline M 1 on the light source 12a lambda
1, when the wavelength of the laser beam 13 from the θ direction baseline M 2 on the light source 12a and lambda 2, in λ 0> λ 1> λ 2 relationship. The emission angle u of the laser beam 13 of only the light source 12a near the end where the laser beam 13 may be blurred by the imaging lens system 15 may be reduced.

【0025】図10は第2の実施の形態に係るレーザア
レイ12Bの異なる位置の光源12aから出射されるレ
ーザビーム13を示す。このレーザアレイ12Bの場合
も、光軸中心130にある光源12a0とこれよりニアフ
ィールドパターン半径rの小さい光源12aとは、焦点
面15b上に異なるビーム径を形成するが、出射角uは
同一である。半径rk の光源12akからのレーザビーム
13は、焦点面15bでスポット径rk ×(b/a)と
なった後、除々に太り、ある位置で光軸中心130にあ
る光源12a0で形成されるスポット径と等しくなる。こ
の位置を焦点距離+Lの位置とすると、光源12aから
の焦点15aは、光軸中心130から離れた位置にある
光源12aほど球面収差によってΔx(y)だけ光源1
2a側にシフトするので、Lとシフト量Δx(y)が等
しくなるように光源12aの半径rを設定すればよい。
設定の条件は、第1の実施の形態で示した数式で得られ
る。
FIG. 10 shows laser beams 13 emitted from light sources 12a at different positions on a laser array 12B according to the second embodiment. In the case of the laser array 12B as well, the light source 12a0 located at the optical axis center 130 and the light source 12a having a smaller near-field pattern radius r have different beam diameters on the focal plane 15b, but the emission angle u is the same. It is. Laser beam 13 from the light source 12 ak radius r k, after a spot diameter r k × focal plane 15b (b / a), gradually thickens in the light source 12 a0 in the optical axis 130 at a certain position It becomes equal to the spot diameter to be formed. Assuming that this position is the position of the focal length + L, the focal point 15a from the light source 12a is closer to the light source 12a from the optical axis center 130 by the light source 1a by Δx (y) due to spherical aberration.
Since the shift is to the 2a side, the radius r of the light source 12a may be set so that L and the shift amount Δx (y) are equal.
The setting conditions are obtained by the mathematical expressions shown in the first embodiment.

【0026】この第2の実施の形態に係るレーザアレイ
12Bによれば、レンズ系14,15の球面収差等があ
っても感光体面16a上で同一のスポット径Dを得るこ
とができ、レーザビーム13が結像レンズ系15でけら
れることがなくなる。また、光路中にスリット(ピンホ
ール)を用いた光学系においても、ビーム広がり角が一
定であるため、スリット(ピンホール)でけられる光量
がほぼ同一となり、光強度も安定する。
According to the laser array 12B according to the second embodiment, the same spot diameter D can be obtained on the photoreceptor surface 16a even if there is a spherical aberration of the lens systems 14 and 15, and the laser beam 13 is not shaken by the imaging lens system 15. Also, in an optical system using a slit (pinhole) in the optical path, since the beam spread angle is constant, the amount of light emitted by the slit (pinhole) is almost the same, and the light intensity is stable.

【0027】図11は第3の実施の形態に係るレーザア
レイ12Cの要部正面図である。このレーザアレイ12
Cは、ニアフィールドパターン半径rを主走査方向Yの
み変化させ、複数の光源12aの発光孔125を副走査
方向Zを長軸とする楕円としたものである。この場合、
感光体面16aに形成されるスポット形状は、楕円とな
る。また、図示は省略するが、ニアフィールドパターン
半径rを副走査方向Zのみ変えてもよい。また、主走査
方向Yあるいは副走査方向Zのニアフィールドパターン
半径rを異なる比で変化させて構成してもよい。結像レ
ンズ系15の拡大/縮小倍率が、主走査方向Yと副走査
方向Zとで異なる場合に有効である。
FIG. 11 is a front view of a main part of a laser array 12C according to the third embodiment. This laser array 12
In C, the near-field pattern radius r is changed only in the main scanning direction Y, and the light emitting holes 125 of the plurality of light sources 12a are formed as ellipses whose major axis is in the sub scanning direction Z. in this case,
The spot formed on the photoconductor surface 16a has an elliptical shape. Although not shown, the radius r of the near-field pattern may be changed only in the sub-scanning direction Z. Further, the near field pattern radius r in the main scanning direction Y or the sub scanning direction Z may be changed at different ratios. This is effective when the magnification / reduction magnification of the imaging lens system 15 is different between the main scanning direction Y and the sub scanning direction Z.

【0028】図12は第4の実施の形態に係るレーザア
レイ12Dの正面図である。このレーザアレイ12D
は、最も端のθ方向基線M上の光源12aを起点として
光軸中心130に向かうに従い、除々にあるいは段階的
に光源12aのニアフィールドパターン半径rが小さく
なるように形成したものである。この場合、感光体面1
6aは、図13に示すように、最も端のθ方向基線M上
の光源12aからのレーザビーム13の焦点15aと一
致するように設定する。この第4の実施の形態に係るレ
ーザアレイ12Dによれば、第1の実施の形態に係るレ
ーザアレイ12Aと同様の効果を奏する。
FIG. 12 is a front view of a laser array 12D according to the fourth embodiment. This laser array 12D
Are formed so that the near-field pattern radius r of the light source 12a gradually or gradually decreases toward the optical axis center 130 from the light source 12a on the endmost θ-direction base line M as a starting point. In this case, photoconductor surface 1
As shown in FIG. 13, 6a is set so as to coincide with the focal point 15a of the laser beam 13 from the light source 12a on the extreme end θ direction base line M. According to the laser array 12D according to the fourth embodiment, the same effects as those of the laser array 12A according to the first embodiment can be obtained.

【0029】図14は第5の実施の形態に係るレーザア
レイ12Eの要部正面図である。このレーザアレイ12
Eは、光軸中心130と両端の中間の所定の2つの位置
にある光源12a2を起点とし、光軸中心130及び端に
向かうに従って光源12aのニアフィールドパターン半
径rが小さくなるように形成したものである。この場
合、感光体面16aは、図15に示すように所定の2つ
の位置にある光源12a2の焦点15aと一致するように
設定する。この第5の実施の形態に係るレーザアレイ1
2Eによれば、第1の実施の形態に係るレーザアレイ1
2Aと同様の効果を奏する。
FIG. 14 is a front view of a main part of a laser array 12E according to a fifth embodiment. This laser array 12
E is formed such that the near-field pattern radius r of the light source 12a becomes smaller toward the optical axis center 130 and the end from the light source 12a2 at two predetermined positions between the optical axis center 130 and both ends. Things. In this case, the photoconductor surface 16a is set so as to coincide with the focal point 15a of the light source 12a2 at two predetermined positions as shown in FIG. Laser array 1 according to the fifth embodiment
According to 2E, the laser array 1 according to the first embodiment
It has the same effect as 2A.

【0030】図16は第6の実施の形態に係るレーザア
レイ12Fの要部正面図である。第1乃至第5の実施の
形態に係るレーザアレイ12A乃至12Eは、同一のθ
方向基線M上の光源12aのニアフィールドパターン半
径rを等しくしたが、このレーザアレイ12Fは、同一
のθ方向基線M上の光源12aであっても、光軸中心1
30を起点とし、主走査方向Yの位置に従ってニアフィ
ールドパターン半径rを変化させたものである。同図で
は小さくさせた場合を示しているが、大きくさせる場合
も同様に適用できる。この第6の実施の形態に係るレー
ザアレイ12Fによれば、第1の実施の形態に係るレー
ザアレイ12Aと比較してより均一な解像度を得ること
ができる。
FIG. 16 is a front view of a main part of a laser array 12F according to a sixth embodiment. The laser arrays 12A to 12E according to the first to fifth embodiments have the same θ.
Although the near field pattern radius r of the light source 12a on the direction base line M is made equal, even if the laser array 12F is the light source 12a on the same θ direction base line M, the optical axis center 1
The near-field pattern radius r is changed in accordance with the position in the main scanning direction Y starting from 30. Although FIG. 2 shows the case where the size is reduced, the case where the size is increased can be similarly applied. According to the laser array 12F according to the sixth embodiment, a more uniform resolution can be obtained as compared with the laser array 12A according to the first embodiment.

【0031】次に、光源12aのニアフィールドパター
ン半径rを変化させる他の方法を説明する。ニアフィー
ルドパターン半径rを変化させる方法として発光孔12
5の径を変化せる方法について説明したが、電流狭窄部
S又はエアポストEを変化させてもよい。電流狭窄部S
又はエアポストEの形状は、上記図3では矩形の場合を
示したが、楕円または円形でもよい。また、ミラー層
(エアポストE)122,124を酸化,プロトン注
入,拡散等の方法によって電流狭窄部Sを形成し、これ
を変化させてもよい。活性層123の電流狭窄部Sは、
上記図3ではプロトン注入によって形成しているが、酸
化,拡散等の方法によってもよい。端面発光型のレーザ
であれば、電流狭窄部S,活性層123の膜厚を変化さ
せればよい。
Next, another method of changing the radius r of the near field pattern of the light source 12a will be described. As a method of changing the radius r of the near-field pattern, the light emitting hole 12 is used.
Although the method of changing the diameter of 5 has been described, the current constriction S or the air post E may be changed. Current constriction S
Alternatively, the shape of the air post E is shown in FIG. 3 as being rectangular, but may be elliptical or circular. The mirror layers (air posts E) 122 and 124 may be formed by forming a current confined portion S by a method such as oxidation, proton injection, or diffusion, and this may be changed. The current confinement portion S of the active layer 123 is
Although it is formed by proton injection in FIG. 3, it may be formed by a method such as oxidation or diffusion. In the case of an edge-emitting laser, the thickness of the current constriction S and the thickness of the active layer 123 may be changed.

【0032】図17は主走査方向Yに沿ってエアポスト
Eを異ならせることで、光源12aのニアフィールドパ
ターン半径rを変化させた例を示す図である。同図で
は、エアポストEは、主走査方向Yに沿って異なるが、
発光孔125の径は、同一である。
FIG. 17 is a diagram showing an example in which the radius r of the near field pattern of the light source 12a is changed by changing the air post E along the main scanning direction Y. In the figure, the air post E is different along the main scanning direction Y,
The diameters of the light emitting holes 125 are the same.

【0033】なお、本発明は、上記実施の形態に限定さ
れず、種々な実施の形態が可能である。例えば、上記実
施の形態では、複数の光源を2次元状に配列した光源ア
レイについて説明したが、複数の光源を主走査方向に1
次元状に配列した光源アレイについても本発明は同様に
実施可能である。また、上記実施の形態では、光源アレ
イとしてレーザアレイについて説明したが、LED光源
を主走査方向に1次元状あるいは主走査方向および副走
査方向に2次元状に配列したLEDアレイについても本
発明は同様に実施可能である。この場合は、LEDの発
光部の面積を主走査方向に沿って異ならせればよい。ま
た、上記実施の形態では、感光体ドラムを記録媒体とし
たが、他の光記録媒体であってもよい。また、上記実施
の形態では、画像形成装置について説明したが、記録媒
体に記録された記録情報や物体の形状を読み取る光走査
装置にも本発明は、同様に適用することができる。
The present invention is not limited to the above embodiment, but various embodiments are possible. For example, in the above embodiment, a light source array in which a plurality of light sources are two-dimensionally arranged has been described.
The present invention can be similarly implemented for a light source array arranged in a dimension. In the above embodiment, the laser array is described as the light source array. However, the present invention is also applicable to an LED array in which LED light sources are arranged one-dimensionally in the main scanning direction or two-dimensionally in the main scanning direction and the sub-scanning direction. It can be implemented similarly. In this case, the area of the light emitting portion of the LED may be changed along the main scanning direction. In the above embodiment, the photosensitive drum is used as a recording medium, but another optical recording medium may be used. Further, in the above-described embodiment, the image forming apparatus has been described. However, the present invention can be similarly applied to an optical scanning apparatus that reads recorded information recorded on a recording medium and a shape of an object.

【0034】[0034]

【発明の効果】以上説明した通り、本発明によれば、複
数の光源が、光学手段の焦点位置に対する複数の光ビー
ムの走査面あるいは画像形成面上の非合焦度合いに応じ
たニアフィールドパターン径を有することにより、走査
面あるいは画像形成面に照射される光ビームのスポット
径を等しくすることが可能となるので、解像度の均一化
が図れ、高品質な画像を得ることができる。
As described above, according to the present invention, a plurality of light sources are arranged in a near-field pattern corresponding to a degree of out-of-focus on a scanning surface or an image forming surface of a plurality of light beams with respect to a focal position of an optical unit. By having a diameter, the spot diameter of the light beam applied to the scanning surface or the image forming surface can be made equal, so that the resolution can be made uniform and a high-quality image can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の原理を説明するための図FIG. 1 is a diagram for explaining the principle of the present invention.

【図2】本発明の実施の形態に係る画像形成装置を示す
構成図
FIG. 2 is a configuration diagram illustrating an image forming apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図3】レーザアレイの構造を示す図であり、同図
(a)はその要部斜視図、同図(b)は同図(a)のA
部詳細図
3A and 3B are views showing the structure of a laser array, wherein FIG. 3A is a perspective view of a main part thereof, and FIG.
Part detail drawing

【図4】第1の実施の形態に係るレーザアレイの要部正
面図
FIG. 4 is a front view of a main part of the laser array according to the first embodiment.

【図5】第1の実施の形態に係るレーザアレイの主走査
方向の要部断面図
FIG. 5 is a cross-sectional view of a main part in the main scanning direction of the laser array according to the first embodiment.

【図6】第1の実施の形態に係る光源のニアフィールド
パターンを示す図
FIG. 6 is a view showing a near-field pattern of the light source according to the first embodiment;

【図7】第1の実施の形態に係るレーザアレイの異なる
位置の光源から出射されるレーザビームを示す図
FIG. 7 is a diagram showing laser beams emitted from light sources at different positions in the laser array according to the first embodiment.

【図8】第1の実施の形態に係る感光体面と焦点面との
位置関係を示す図
FIG. 8 is a diagram showing a positional relationship between a photoconductor surface and a focal plane according to the first embodiment.

【図9】第2の実施の形態に係るレーザアレイの要部正
面図
FIG. 9 is a front view of a main part of a laser array according to a second embodiment.

【図10】第2の実施の形態に係るレーザアレイの異な
る位置の光源から出射されるレーザビームを示す図
FIG. 10 is a diagram showing laser beams emitted from light sources at different positions in the laser array according to the second embodiment.

【図11】第3の実施の形態に係るレーザアレイの要部
正面図
FIG. 11 is a front view of a main part of a laser array according to a third embodiment;

【図12】第4の実施の形態に係るレーザアレイの要部
正面図
FIG. 12 is a front view of a main part of a laser array according to a fourth embodiment;

【図13】第4の実施の形態に係る感光体面と焦点面と
の位置関係を示す図
FIG. 13 is a diagram illustrating a positional relationship between a photoconductor surface and a focal plane according to a fourth embodiment.

【図14】第5の実施の形態に係るレーザアレイの要部
正面図
FIG. 14 is a front view of a main part of a laser array according to a fifth embodiment.

【図15】第5の実施の形態に係る感光体面と焦点面と
の位置関係を示す図
FIG. 15 is a diagram illustrating a positional relationship between a photoconductor surface and a focal plane according to a fifth embodiment.

【図16】第6の実施の形態に係るレーザアレイの要部
正面図
FIG. 16 is a front view of a main part of a laser array according to a sixth embodiment.

【図17】主走査方向に沿ってエアポストを異ならせる
ことで、光源のニアフィールドパターン半径を変化させ
た例を示す図
FIG. 17 is a diagram showing an example in which a near-field pattern radius of a light source is changed by changing air posts along a main scanning direction.

【図18】従来の画像形成装置を示す図FIG. 18 illustrates a conventional image forming apparatus.

【図19】従来の画像形成装置の問題点を示す図FIG. 19 is a diagram illustrating a problem of a conventional image forming apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 画像形成装置 12,12A乃至12F 半導体レーザアレイ 12a レーザ光源 12a0 光軸中心にある光源 12ak 光軸中心から離れた位置にある光源 12a2 光軸中心と両端の間に位置する光源 13 レーザビーム 14 集光レンズ系 14a 集光点 15 結像レンズ系 15a 焦点 16 感光体ドラム 16a 感光体面 17 画像メモリ 18 信号処理回路 19 レーザ駆動回路 20 制御回路 120 半導体基板 121 n型電極 122 n型ミラー層 123 活性層 124 p型ミラー層 125 発光孔 126 p型電極 127 高抵抗領域 128 分離溝 130 光軸中心 a レーザアレイの表面と集光レンズ系との距離 b 集光レンズ系と感光体面との距離 D スポット径 E エアポスト Ey 主走査方向のエアポスト半径 Ez 副走査方向のエアポスト半径 L 焦点と感光体面との距離 M θ方向基線M Mo 光軸中心を通るθ方向基線 N Y方向基線 r 光源のニアフィールドパターン半径 r0 光軸中心にある光源のニアフィールドパターン半
径 rk 光軸中心から離れた位置にある光源のニアフィー
ルドパターン半径 R 感光体面上でのニアフィールドパターン半径 R0 半径r0 の光源が焦点面上に形成する像の半径 Rk 半径rk の光源が焦点面上に形成する像の半径 S 電流狭窄部 Sy 主走査方向の電流狭窄半径 Sz 副走査方向の電流狭窄半径 u 光源の出射角 Wk 半径rk の光源が感光体面に形成するスポット半
径 X 光軸方向 Y 主走査方向 Z 副走査方向 Δx(y) 焦点のずれ λ レーザビームの周波数
Light source 13 a laser which is positioned between the light source 12 a2 optical center and ends at the position away from the light source 12 ak optical axis center in the 11 image forming apparatus 12,12A to 12F semiconductor laser array 12a the laser light source 12 a0 optical axis Beam 14 Focusing lens system 14a Focusing point 15 Imaging lens system 15a Focus 16 Photoconductor drum 16a Photoconductor surface 17 Image memory 18 Signal processing circuit 19 Laser drive circuit 20 Control circuit 120 Semiconductor substrate 121 N-type electrode 122 N-type mirror layer 123 active layer 124 p-type mirror layer 125 light-emitting hole 126 p-type electrode 127 high-resistance region 128 separation groove 130 center of optical axis a distance between laser array surface and condensing lens system b distance between condensing lens system and photoconductor surface D Spot diameter E Air post Ey Air post radius in the main scanning direction Ez D in the sub scanning direction Distance M theta direction baseline M Mo theta direction baseline through the optical axis center N Y direction baseline r source near field pattern radius r k of the light source in the near field pattern radius r 0 the optical axis center of the post radius L focus and the photoreceptor surface a light source having a radius R k radius r k of the image light source of near field pattern radius R 0 radius r 0 on the near field pattern radius R photoreceptor surface of the light source is located away from the optical axis center is formed on the focal plane spot radius X of the light source of the emission angle W k radius r k of the current confinement radius u source of the current confinement radial Sz sub-scanning direction of a radius S current confinement portion Sy main scanning direction of the image formed on the focal plane is formed on the photoreceptor surface Optical axis direction Y Main scanning direction Z Sub scanning direction Δx (y) Defocus λ Laser beam frequency

Claims (22)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】複数の光ビームによって走査面を走査する
光走査装置において、 前記複数の光ビームを出射する複数の光源が1次元状あ
るいは2次元状に配列された光源アレイと、 前記複数の光ビームを前記走査面に集光させる光学手段
とを備え、 前記光源アレイの前記複数の光源は、前記光学手段の焦
点位置に対する前記複数の光ビームの前記走査面上の非
合焦度合いに応じたニアフィールドパターン径を有する
ように構成されたことを特徴とする光走査装置。
An optical scanning device for scanning a scanning surface with a plurality of light beams, a light source array in which a plurality of light sources for emitting the plurality of light beams are arranged one-dimensionally or two-dimensionally; Optical means for condensing a light beam on the scanning surface, wherein the plurality of light sources of the light source array correspond to a degree of out-of-focus of the plurality of light beams on the scanning surface with respect to a focal position of the optical means. An optical scanning device characterized by having a near-field pattern diameter.
【請求項2】前記複数の光源は、主走査方向の中央の光
源から両端部の光源にかけて前記ニアフィールドパター
ン径が小さくなる構成を有し、 前記走査面は、前記光学手段によって形成される前記中
央の光源の焦点位置に配置される構成の請求項1記載の
光走査装置。
2. The light source according to claim 1, wherein the plurality of light sources have a structure in which the diameter of the near-field pattern is reduced from a central light source in the main scanning direction to light sources at both ends, and the scanning surface is formed by the optical means. 2. The optical scanning device according to claim 1, wherein the optical scanning device is arranged at a focal position of a central light source.
【請求項3】前記複数の光源は、主走査方向の両端部の
光源から中央の光源にかけて前記ニアフィールドパター
ン径が小さくなる構成を有し、 前記走査面は、前記光学手段によって形成される前記両
端部の光源の焦点位置に配置される構成の請求項1記載
の光走査装置。
3. The plurality of light sources have a structure in which the diameter of the near-field pattern is reduced from the light sources at both ends in the main scanning direction to the central light source, and the scanning surface is formed by the optical means. The optical scanning device according to claim 1, wherein the optical scanning device is configured to be disposed at a focal position of a light source at both ends.
【請求項4】前記複数の光源は、主走査方向の両端部の
光源より所定の間隔を置いて配置された第1および第2
の光源から中央の光源および前記両端部の光源にかけて
前記ニアフィールドパターン径が小さくなる構成を有
し、 前記走査面は、前記光学手段によって形成される前記第
1および第2の光源の焦点位置に配置される構成の請求
項1記載の光走査装置。
4. The first and second light sources arranged at a predetermined distance from the light sources at both ends in the main scanning direction.
Wherein the diameter of the near-field pattern is reduced from the light source to the central light source and the light sources at both ends, and the scanning surface is located at a focal position of the first and second light sources formed by the optical unit. 2. The optical scanning device according to claim 1, wherein the optical scanning device is arranged.
【請求項5】前記複数の光源は、前記ニアフィールドパ
ターン径が前記光ビームの断面の直交する2軸の方向で
変化する構成を有する請求項2,3又は4記載の光走査
装置。
5. The optical scanning device according to claim 2, wherein the plurality of light sources have a configuration in which the diameter of the near-field pattern changes in two directions perpendicular to a cross section of the light beam.
【請求項6】前記複数の光源は、前記ニアフィールドパ
ターン径が前記光ビームの断面の前記主走査方向に平行
な1軸の方向で変化する構成を有する請求項2,3又は
4記載の光走査装置。
6. The light according to claim 2, wherein said plurality of light sources have a configuration in which said near-field pattern diameter changes in a direction of one axis parallel to said main scanning direction of a cross section of said light beam. Scanning device.
【請求項7】前記複数の光源は、前記ニアフィールドパ
ターン径に応じた波長の前記複数の光ビームを出射する
構成の請求項2又は4記載の光走査装置。
7. The optical scanning device according to claim 2, wherein the plurality of light sources emit the plurality of light beams having wavelengths corresponding to the near-field pattern diameter.
【請求項8】前記複数の光源は、前記波長に応じた膜厚
のミラー層を有する複数の半導体レーザによって構成さ
れた請求項7記載の光走査装置。
8. The optical scanning device according to claim 7, wherein said plurality of light sources are constituted by a plurality of semiconductor lasers having a mirror layer having a thickness corresponding to said wavelength.
【請求項9】前記光源アレイは、前記複数の光源が2次
元状に配列され、 前記複数の光源は、前記主走査方向に沿って所定の間隔
で設けられた複数の主走査方向基線と、前記主走査方向
基線に対し角度θを有して所定の間隔で設けられた複数
のθ方向基線との各交点に設けられ、前記θ方向基線毎
に前記ニアフィールドパターン径が変化する構成を有す
る請求項2,3又は4記載の光走査装置。
9. The light source array, wherein the plurality of light sources are arranged two-dimensionally, the plurality of light sources are provided in a plurality of main scanning direction base lines provided at predetermined intervals along the main scanning direction, It is provided at each intersection with a plurality of θ-direction baselines provided at a predetermined interval with an angle θ with respect to the main scanning direction baseline, and has a configuration in which the near-field pattern diameter changes for each θ-direction baseline. The optical scanning device according to claim 2, 3 or 4.
【請求項10】前記光源アレイは、前記複数の光源が2
次元状に配列され、 前記複数の光源は、前記主走査方向に沿って所定の間隔
で設けられた複数の主走査方向基線と、前記主走査方向
基線に対し角度θを有して所定の間隔で設けられた複数
のθ方向基線との各交点に設けられ、副走査方向に沿う
所定の基線を基準に前記主走査方向に沿って前記ニアフ
ィールドパターン径が変化する構成を有する請求項2,
3又は4記載の光走査装置。
10. The light source array according to claim 1, wherein the plurality of light sources include two light sources.
The plurality of light sources are arranged in a dimension, and the plurality of light sources are provided at a plurality of main scanning direction base lines provided at a predetermined interval along the main scanning direction, and at a predetermined interval having an angle θ with respect to the main scanning direction base line. The near field pattern diameter is provided at each intersection with a plurality of θ direction base lines provided in the above, and the near field pattern diameter changes along the main scanning direction with reference to a predetermined base line along the sub scanning direction.
5. The optical scanning device according to 3 or 4.
【請求項11】前記複数の光源は、半導体基板の裏面に
n型電極を形成し、前記半導体基板の表面に、n型ミラ
ー層、発光層を含む活性層、p型ミラー層、および複数
の発光孔が形成されたp型電極をこの順に形成し、前記
活性層あるいはp型ミラー層にプロトンを注入して高抵
抗領域を形成し、前記p型電極、前記p型ミラー層およ
び前記活性層を分離溝により複数に分離して形成され、
前記発光孔の径、前記p型ミラー層の前記分離溝間に形
成されたエアポスト径、前記活性層の前記高抵抗領域間
に形成された電流狭窄径のいずれかを変更することによ
り前記ニアフィールドパターン径が変化する構成を有す
る請求項2,3又は4記載の光走査装置。
11. A light source, comprising: an n-type electrode formed on a back surface of a semiconductor substrate; an n-type mirror layer; an active layer including a light-emitting layer; a p-type mirror layer; A p-type electrode having a light-emitting hole is formed in this order, protons are injected into the active layer or the p-type mirror layer to form a high-resistance region, and the p-type electrode, the p-type mirror layer, and the active layer are formed. Are formed into a plurality by separating grooves,
The near field is changed by changing one of a diameter of the light emitting hole, a diameter of an air post formed between the separation grooves of the p-type mirror layer, and a diameter of a current confinement formed between the high resistance regions of the active layer. 5. The optical scanning device according to claim 2, wherein the pattern diameter varies.
【請求項12】画像信号に応じて変調された複数の光ビ
ームによって画像形成面を走査して前記画像形成面に画
像を形成する画像形成装置において、 前記複数の光ビームを出射する複数の光源が1次元状あ
るいは2次元状に配列された光源アレイと、 前記複数の光ビームを前記画像形成面に集光させる光学
手段と、 前記画像形成面に配置され、前記複数の光ビームに応じ
た静電潜像を形成する画像形成体とを備え、 前記光源アレイの前記複数の光源は、前記光学手段の焦
点位置に対する前記複数の光ビームの前記画像形成面上
の非合焦度合いに応じたニアフィールドパターン径を有
するように構成されたことを特徴とする画像形成装置。
12. An image forming apparatus for scanning an image forming surface with a plurality of light beams modulated according to an image signal to form an image on the image forming surface, wherein a plurality of light sources for emitting the plurality of light beams A light source array arranged one-dimensionally or two-dimensionally; an optical unit for condensing the plurality of light beams on the image forming surface; and an optical unit arranged on the image forming surface and corresponding to the plurality of light beams. An image forming body that forms an electrostatic latent image, wherein the plurality of light sources of the light source array correspond to a degree of out-of-focus on the image forming surface of the plurality of light beams with respect to a focal position of the optical unit. An image forming apparatus having a near-field pattern diameter.
【請求項13】前記複数の光源は、主走査方向の中央の
光源から両端部の光源にかけて前記ニアフィールドパタ
ーン径が小さくなる構成を有し、 前記画像形成面は、前記光学手段によって形成される前
記中央の光源の焦点位置に配置される構成の請求項12
記載の画像形成装置。
13. The light source according to claim 1, wherein the plurality of light sources have a structure in which the diameter of the near-field pattern is reduced from a central light source in the main scanning direction to light sources at both ends, and the image forming surface is formed by the optical means. 13. A configuration arranged at a focal position of the central light source.
The image forming apparatus as described in the above.
【請求項14】前記複数の光源は、主走査方向の両端部
の光源から中央の光源にかけて前記ニアフィールドパタ
ーン径が小さくなる構成を有し、 前記画像形成面は、前記光学手段によって形成される前
記両端部の光源の焦点位置に配置される構成の請求項1
2記載の画像形成装置。
14. The plurality of light sources have a configuration in which the diameter of the near-field pattern decreases from the light sources at both ends in the main scanning direction to the central light source, and the image forming surface is formed by the optical means. 2. A structure according to claim 1, wherein said light sources are arranged at the focal positions of said light sources at both ends.
3. The image forming apparatus according to 2.
【請求項15】前記複数の光源は、主走査方向の両端部
の光源より所定の間隔を置いて配置された第1および第
2の光源から中央の光源および前記両端部の光源にかけ
て前記ニアフィールドパターン径が小さくなる構成を有
し、 前記画像形成面は、前記光学手段によって形成される前
記第1および第2の光源の焦点位置に配置される構成の
請求項12記載の画像形成装置。
15. The near field light source extends from first and second light sources arranged at predetermined intervals to light sources at both ends in the main scanning direction to a central light source and light sources at both ends in the main scanning direction. 13. The image forming apparatus according to claim 12, wherein the pattern diameter is reduced, and the image forming surface is arranged at a focal position of the first and second light sources formed by the optical unit.
【請求項16】前記複数の光源は、前記ニアフィールド
パターン径が前記光ビームの断面の直交する2軸の方向
で変化する構成を有する請求項13,14又は15記載
の画像形成装置。
16. An image forming apparatus according to claim 13, wherein said plurality of light sources have a configuration in which said near-field pattern diameter changes in two directions orthogonal to a cross section of said light beam.
【請求項17】前記複数の光源は、前記ニアフィールド
パターン径が前記光ビームの断面の前記主走査方向に平
行な1軸の方向で変化する構成を有する請求項13,1
4又は15記載の画像形成装置。
17. The light source according to claim 13, wherein the diameter of the near field pattern changes in a direction of one axis parallel to the main scanning direction of a cross section of the light beam.
16. The image forming apparatus according to 4 or 15.
【請求項18】前記複数の光源は、前記ニアフィールド
パターン径に応じた波長の前記複数の光ビームを出射す
る構成の請求項13又は15記載の画像形成装置。
18. The image forming apparatus according to claim 13, wherein the plurality of light sources emit the plurality of light beams having wavelengths corresponding to the diameter of the near-field pattern.
【請求項19】前記複数の光源は、前記波長に応じた膜
厚のミラー層を有する複数の半導体レーザによって構成
された請求項18記載の画像形成装置。
19. An image forming apparatus according to claim 18, wherein said plurality of light sources are constituted by a plurality of semiconductor lasers having a mirror layer having a thickness corresponding to said wavelength.
【請求項20】前記光源アレイは、前記複数の光源が2
次元状に配列され、 前記複数の光源は、前記主走査方向に沿って所定の間隔
で設けられた複数の主走査方向基線と、前記主走査方向
基線に対し角度θを有して所定の間隔で設けられた複数
のθ方向基線との各交点に設けられ、前記θ方向基線毎
に前記ニアフィールドパターン径が変化する構成を有す
る請求項13,14又は15記載の画像形成装置。
20. The light source array, wherein the plurality of light sources include two light sources.
The plurality of light sources are arranged in a dimension, and the plurality of light sources are provided at a plurality of main scanning direction base lines provided at a predetermined interval along the main scanning direction, and at a predetermined interval having an angle θ with respect to the main scanning direction base line. The image forming apparatus according to claim 13, wherein the near field pattern diameter is provided at each intersection with the plurality of θ-direction base lines provided in the above, and the near-field pattern diameter changes for each of the θ-direction base lines.
【請求項21】前記光源アレイは、前記複数の光源が2
次元状に配列され、 前記複数の光源は、前記主走査方向に沿って所定の間隔
で設けられた複数の主走査方向基線と、前記主走査方向
基線に対し角度θを有して所定の間隔で設けられた複数
のθ方向基線との各交点に設けられ、副走査方向に沿う
所定の基線を基準に前記主走査方向に沿って前記ニアフ
ィールドパターン径が変化する構成を有する請求項1
3,14又は15記載の画像形成装置。
21. The light source array, wherein the plurality of light sources include two light sources.
The plurality of light sources are arranged in a dimension, and the plurality of light sources are provided at a plurality of main scanning direction base lines provided at a predetermined interval along the main scanning direction, and at a predetermined interval having an angle θ with respect to the main scanning direction base line. And wherein the near-field pattern diameter is changed along the main scanning direction with reference to a predetermined base line along the sub-scanning direction, provided at each intersection with the plurality of θ-direction base lines provided at (1).
16. The image forming apparatus according to 3, 14, or 15.
【請求項22】前記複数の光源は、半導体基板の裏面に
n型電極を形成し、前記半導体基板の表面に、n型ミラ
ー層、発光層を含む活性層、p型ミラー層、および複数
の発光孔が形成されたp型電極をこの順に形成し、前記
活性層あるいはp型ミラー層にプロトンを注入して高抵
抗領域を形成し、前記p型電極、前記p型ミラー層およ
び前記活性層を分離溝により複数に分離して形成され、
前記発光孔の径、前記p型ミラー層の前記分離溝間に形
成されたエアポスト径、前記活性層の前記高抵抗領域間
に形成された電流狭窄径のいずれかを変更することによ
り前記ニアフィールドパターン径が変化する構成を有す
る請求項13,14又は15記載の画像形成装置。
22. A light source, comprising: an n-type electrode formed on a back surface of a semiconductor substrate; an n-type mirror layer; an active layer including a light-emitting layer; a p-type mirror layer; A p-type electrode having a light-emitting hole is formed in this order, protons are injected into the active layer or the p-type mirror layer to form a high-resistance region, and the p-type electrode, the p-type mirror layer, and the active layer are formed. Are formed into a plurality by separating grooves,
The near field is changed by changing one of a diameter of the light emitting hole, a diameter of an air post formed between the separation grooves of the p-type mirror layer, and a diameter of a current confinement formed between the high resistance regions of the active layer. 16. The image forming apparatus according to claim 13, wherein the pattern diameter is changed.
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