JPH10511867A - 立ち作業者用支持マット - Google Patents

立ち作業者用支持マット

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JPH10511867A
JPH10511867A JP8520688A JP52068895A JPH10511867A JP H10511867 A JPH10511867 A JP H10511867A JP 8520688 A JP8520688 A JP 8520688A JP 52068895 A JP52068895 A JP 52068895A JP H10511867 A JPH10511867 A JP H10511867A
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マンソン、ラース、ハー
オースターガード、トーベン、ヴェング
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Abstract

(57)【要約】 立ち作業者用の弾性材料製支持マットは、上面側に点状の上方延出部(2)からなるパターンを有している。前記マットの下面側には点状の下方延出部(4)からなるパターンが形成されており、前記マットはこの延出部によって支持面上に支持される。前記2つのパターン(2、4)は、互いに位置をずらして配置されており、前記上面側の延出部は、前記下面側の支持延出部の間を浮かぶような形態である。前記マットは、立ち作業を快適にする優れた効果を有しており、食品加工産業や薬品産業などのように厳格な衛生基準を要求される分野において特に適している。

Description

【発明の詳細な説明】 立ち作業者用支持マット 本願発明は立ち作業者用支持マットに関するものであり、上面側における上方 延出部からなるパターンと、下面側における下方延出部からなるパターンとを有 する支持層が設けられている。前記マットは、前記下方延出部によって支持面上 に支持される。前記の2つのパターンは、互いに位置がずれた関係となるように 構成されている。 立ったままの姿勢で作業を行う人を支持して、脚部や背骨の疲労及び怪我等を 緩和する目的で使用される弾性変形可能なマットは周知である。このようなマッ トはデンマーク特許出願第348/93号に開示されている。この出願の場合に は、マットの上面側及び下面側における連続的なリブ部材により2つのパターン が形成されている。上面側のリブ部材は下面側のリブ部材の間の空間に位置する ように設けられており、その幅はこの空間の幅よりも小さい。したがって、これ らリブ部材に足をのせたとき、リブ部材の各側面に位置する支持層部分には張力 が発生する。 本願発明は、冒頭の段落で述べたマットを提供するものであり、このマットの 上面及び下面には点状のパターンが形成されている。この実施例によれば、立ち 作業がより快適となることが判明した。これは、当該実施例が点状延出部領域で は弾性的に撓み、リブのパターンにより規定される線状領域では撓まないことに よる。すなわち、上記マットは足を載せたときの圧力に、より良く適応すること ができるのである。さらにこの実施例の特性は、マットに載せる足の方向に関係 なく一様となっているが、これとは別のリブパターンを採用した場合には、リブ の長手方向とこれを横切る方向とでは特性は大きく異なるようになる。上面側及 び下面側における延出部がわずかに重なっても、当該延出部に傾斜部分を形成し ておけば、マットの使いごこちはほとんど影響されないことが分かっている。こ れら延出部の側面が平坦になるほど、これら側面は互いにより多く重なるように なるが、重なり合う領域の厚みはそれ程増加しない。 また、上述の点状支持延出部を設けることにより、上記マットは、優れた排水 特性を有するようになる。これにより、床表面のどのような水流に対しても上記 マットを設置することが可能である。ただし、このときにリブのパターンを流れ の方向に向けておき、水がマットの下を内側に向かって流れるようにしておく必 要がある。ほこりの蓄積や、バクテリア、カビ及び微生物一般の繁殖箇所のこと を考慮すると、床面に対する接触面積が可能な限り小さいということは決定的に 有利である。マット自体が清掃容易であるということに加え、点状支持部を設け ることによって、その下方の床の清掃がより行いやすくなっている。 点状延出部の形状は様々に改変可能であり、上面側及び下面側において同じに する必要はない。形状の例には、正方形、台形、円形、多角形及び円錐などが例 として挙げられよう。 マット下面側に設けられた延出部が先細状である場合には、ある状況下におい て十分な滑り防止特性が発揮されないことが分かっている。従って、滑り防止特 性を向上するためには、ある程度長手方向に延びた延出部を選択して用いる。ま た、あらゆる方向において一様な滑り防止特性を得るためには、延出部を互いに 角度付けて配置し、グループごとにまとめるようにする。上記延出部が長手方向 にあまり延びていない場合には、マットの使いごこちが大きく影響されることは ない。 本願発明の実施例について、添付の図面を参照しつつ以下において詳細に説明 する。 図1は真上から見たマットを示す。 図2は真下から見たマットを示す。 図3は、上面及び下面のマットのパターンを部分的に示す拡大図であり、下面 のパターンは破線で描かれている。 図4は真横から見たマットを示す。 図5は図3と同様の部分図であるが、この場合のマット下面には長状部からな る異なるパターンが形成されている。 図6は図5のマットの部分図である。 添付の図1は、真上からみた場合のマットの全体図である。同図から分かるよ うに、上面は、円錐2又は頂部のない切頭円錐を近接させてなるパターンを有し ている。これら円錐2の間のマット下面には、図2に示すように、より大きな間 隔をあけて配置された一連の円錐からなるパターンが形成されている。これら円 錐の形状は同一であるが、マット下面側の円錐は上面側の円錐ほど高くない。寸 法関係は添付の図4から理解されよう。同図は、マットを横から見た場合の拡大 図であり、符号6は支持層を示す。 添付の図3は上方から見たマットの拡大図であり、マットの下面側の円錐は破 線で示されている。同図から分かるように、マット上面の円錐2の各々は、下面 側の4つの円錐4によって支持される。この図からは、マット下面の円錐が上面 側の円錐に接しているようにも見えるが、実際にはこれら円錐は支持層6によっ て隔てられている。このように、マット上面側の踏みつけ円錐2の下方は直接的 には支持されておらず、言わばこれら円錐は、マット下面の支持円錐4の間に浮 いたような状態である。踏みつけ円錐2を足で踏むと、当該円錐は支持円錐4の 間を弾性的に押し下げられ、これにより支持層6に張力が発生する。先細部分に おいてマットの形状を足裏の形状に合わておけば、当該先細形状パターンは、マ ットに置かれた足の形状に適切に対応することができる。また、マット下面側の 円錐は、これらの頂点部分において支持面8に当接するが、このような構成によ り、マットの弾力特性がさらに向上する。さらには、上記構成によって床との接 触面積は可能な限り小さくなるので、細菌性のカビや微生物一般が繁殖する領域 が少なくなる。また、マットの下を流れる水に含まれるホコリは、下方に突出し た円錐に付着しにくい。さらに、上記円錐パターンにより、マット下方において 実質的に自由な流れが確保される。 床が滑りやすく、また濡れているような箇所では、滑りに対する十分な摩擦力 を得ることが困難な場合が生ずるが、支持円錐の表面積を増すことにより摩擦力 を増加させることが可能である。 図5及び6は、長状部10を有するマットの下面側のパターンを示している。 このような長状部によりスリップ防止特性が向上する。3つの長状部が一つのグ ループにまとめられており、これらグループは互いに対して直角に位置する。マ ット上面には、すでに述べたように、切頭円錐2からなるパターンを形成しても よいし、3つの切頭円錐2が2つの平行な長状部10の間に位置するようにして もよい。また、このような位置に係わらず、切頭円錐2を長状部10の間に配置 してもよい。長状部の高さは、切頭円錐2の高さに対応している。長状部10と 中間層6との境目は、切欠き効果を避けるべく丸みを帯びた構成となっている。 長状部の幅は切頭円錐の底面直径にほぼ対応する。 上面には長状部からなるパターンを形成してもよいし、あるいは長状部と点状 部とを組み合せて上面及び下面の双方に設けてもよい。パターンとしては、例え ば長状部を互いに45°の角度をなすように構成してもよい。このように、本願 発明は、起立した姿勢の人が極めて快適に使用できるマットを提供する。当該マ ットは、厳しい衛生条件が課される食料加工産業及び薬産業の分野において特に 有効であるが、その他の分野においてももちろん使用可能である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,DE, DK,ES,FR,GB,GR,IE,IT,LU,M C,NL,PT,SE),OA(BF,BJ,CF,CG ,CI,CM,GA,GN,ML,MR,NE,SN, TD,TG),AP(KE,LS,MW,SD,SZ,U G),AL,AM,AT,AT,AU,BB,BG,B R,BY,CA,CH,CN,CZ,CZ,DE,DE ,DK,DK,EE,EE,ES,FI,FI,GB, GE,HU,IS,JP,KE,KG,KP,KR,K Z,LK,LR,LS,LT,LU,LV,MD,MG ,MK,MN,MW,MX,NO,NZ,PL,PT, RO,RU,SD,SE,SG,SI,SK,SK,T J,TM,TT,UA,UG,US,UZ,VN

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.上面側における上方延出部(2)からなるパターンと、下面側における下方 延出部(4、10)からなるパターンとを有する支持層(6)が設けられた立ち 作業者用支持マットであって、当該マットが前記下方延出部によって支持面(8 )上に支持されており、前記の2つのパターンの位置が互いにずれている構成に おいて、上記延出部が点状に形成されていることを特徴とする支持マット。 2.前記点状延出部(2、4、10)が共通平面において互いに接触あるいは実 質的に接触している、請求項1に記載のマット。 3.前記延出部は円錐形あるいは切頭円錐形である、請求項1又は2に記載のマ ット。 4.下面側の点状延出部(4)は上面側の点状延出部よりも小さい、請求項1又 は2又は3に記載のマット。 5.下面側の前記点状延出部(4)の端面は、優れた滑り防止特性を発揮すべく 比較的大きく形成されている、請求項1〜4のいずれかに記載のマット。 6.前記マットの下面側における前記延出部(10)は、優れた滑り防止特性を 発揮すべく長状に形成されている、請求項1〜5のいずれかに記載のマット。 7.非回転対称延出部が設けられており、これら延出部は、優れた滑り防止特性 を発揮すべく互いに角度付けられたグループごとに集められている、請求項1〜 6のいずれかに記載のマット。 8.前記マットの下面側における延出部(10)は短いリブ部材であり、これら は3つごとに互いに90°の角度をなすグループに分けられている、請求項1〜 7のいずれかに記載のマット。 9.前記短いリブ部材(10)の各々の長さは、前記マットの上面側における3 つの延出部(2)に対応している、請求項8に記載のマット。 10.前記上面側の点状延出部(2)は円錐形あるいは切頭円錐形である、請求項 9に記載のマット。
JP8520688A 1994-12-29 1995-12-28 立ち作業者用支持マット Pending JPH10511867A (ja)

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