JPH10507515A - 気体濃度測定の方法及びそれを実施するための微細加工検出装置 - Google Patents
気体濃度測定の方法及びそれを実施するための微細加工検出装置Info
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- JPH10507515A JPH10507515A JP8505283A JP50528396A JPH10507515A JP H10507515 A JPH10507515 A JP H10507515A JP 8505283 A JP8505283 A JP 8505283A JP 50528396 A JP50528396 A JP 50528396A JP H10507515 A JPH10507515 A JP H10507515A
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Abstract
Description
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1.下記(a)〜(c)を含む、液体試料に溶解した気体の濃度を測定するため の微細加工された検出装置。 (a)共通基板または分離基板上に配設された作用電極(WE)及び対極/参 照電極(CRE)であって、そのCREの構成成分による前記WEの汚染を最小 にするのに有効な距離だけ離れて位置づけられている、WE及びCRE、 (b)前記基板上に配設されて前記WEを封入する電解質層(EL)、及び (c)前記ELは封止しないように配設されかつ前記WEを覆って位置づけら れている気体透過性膜(GPM)であって、この装置と接触する液体試料から前 記WEへの気体の流量がそのGPMを通過する気体量の関数となるように、前記 GPM及び前記ELのそれぞれが前記WEに応じた寸法及び位置関係を保ってい る、GPM。 2.下記(a)〜(d)を含む、液体試料に溶解した気体の濃度を測定するため の微細加工された検出装置。 (a)平面基板 (b)前記基板上に配設され、かつ対極/参照電極(CRE)の構成成分によ る前記作用電極(WE)の汚染を最小にするのに有効な距離だけ離れて位置づけ られている、WE及びCRE、 (c)前記基板上に配設されて前記WEを封入する電解質層(EL)、及び (d)前記ELは封止しないように配設されかつ前記WEを覆って位置づけら れている気体透過性膜(GPM)であって、この装置と接触する液体試料から前 記WEへの気体の流量がそのGPMを通過する気体量の関数となるように、前記 GPM及び前記ELのそれぞれが前記WEに応じた寸法及び位置関係を保ってい る、GPM。 3.下記(a)〜(e)を含む、液体試料に溶解した気体の濃度を測定する方法 。 (a)次の(i)〜(iii)を含む微細加工された検出装置を準備する工程、 (i)共通基板または分離基板上に配設された作用電極(WE)及び対極/ 参照電極(CRE)であって、そのCREの構成成分による前記WEの汚染を最 小にするのに有効な距離だけ離れて位置づけられている、WE及びCRE、 (ii)前記基板上に配設されて前記WEを封入する電解質層(EL)、及び (iii)前記ELは封止しないように配設されかつ前記WEを覆って位置づ けられている気体透過性膜(GPM)であって、この装置と接触する液体試料か ら前記WEへの気体の流量がそのGPMを通過する気体量の関数となるように、 前記GPM及び前記ELのそれぞれが前記WEに応じた寸法及び位置関係を保っ ている、GPM、 (b)前記装置に気体を含む液体試料を接触させることにより、前記液体試料 によって前記WE及びCREの間に低インピーダンスの経路を形成する工程、 (c)前記気体の分子が前記WEで還元反応を効果的に行うことができるよう に前記CREに対して前記WEに電圧をかける工程、 (d)前記装置の出力電流を測定する工程、並びに (e)前記気体の濃度を検出する工程。 4.下記(a)〜(d)を含む、液体試料に溶解した気体の濃度を測定する方法 。 (a)次の(i)〜(iii)を含む微細加工された検出装置を準備する工程、 (i)共通基板または分離基板上に配設された作用電極(WE)及び参照電 極(CRE)であって、そのCREの構成成分による前記WEの汚染を最小にす るのに有効な距離だけ離れて位置づけられている、WE及びCRE、 (ii)前記基板上に配設されて前記WEを封入する電解質層(EL)、及び (iii)前記ELは封止しないように配設されかつ前記WEを覆って位置づ けられている気体透過性膜(GPM)であって、この装置と接触する液体試料か ら前記WEへの気体の流量がそのGPMを通過する気体量の関数となるように、 前記GPM及び前記ELのそれぞれが前記WEに応じた寸法及び位置関係を保っ ている、GPM、 (b)前記装置に気体を含む液体試料を接触させることにより、前記液体試料 によって前記WE及びREの間に低インピーダンスの経路を形成する工程、 (c)前記WEと前記REの間の電位差を測定する工程、並びに (d)前記気体の濃度に前記電位差を関連付ける工程。 5.気体が酸素である、請求の範囲3の方法。 6.気体が二酸化炭素である、請求の範囲4の方法。 7.下記(a)〜(d)を含む、試料に含まれる気体の濃度を測定するための微 細加工された検出装置。 (a)共通基板上に配設された作用電極(WE)及び対極/参照電極(CRE )であって、そのCREの構成成分による前記WEの汚染を最小にするのに有効 な距離だけ離れて位置づけられている、WE及びCRE、 (b)前記基板上に配設されて前記WEを封入する電解質層(EL)、 (c)前記WEと前記CREの間を電気的に接続するための前記基板上に配設 された導電層(CL)、及び (d)前記ELは封止しないように配設されかつ前記WEを覆って位置づけら れた気体透過性膜(GPM)であって、この装置と接触する試料から前記WEへ の気体の流量がそのGPMを通過する気体量の関数となるように、前記GPM及 び前記ELのそれぞれが前記WEに応じた寸法及び位置関係を保っている、GP M。 8.ELが、CREと電気的に接続することによりCLとして機能している、請 求の範囲7の装置。 9.試料が、空気、気体、加湿された空気、加湿された気体、または液体からな る群より選択されるものである、請求の範囲7の装置。 10.下記(a)〜(e)を含む、試料に含まれる気体の濃度を測定する方法。 (a)次の(i)〜(iii)を含む微細加工された検出装置を準備する工程、 (i)共通基板上に配設された作用電極(WE)及び対極/参照電極(CR E)であって、そのCREの構成成分による前記WEの汚染を最小にするのに有 効な距離だけ離れて位置づけられている、WE及びCRE、 (ii)前記基板上に配設されて前記WEを封入する電解質層(EL)、 (iii)前記WEと前記CREの間を電気的に接続するための前記基板上に 配設した導電層(CL)、及び (iv)前記ELは封止しないように配設されかつ前記WEを覆って位置づけ られている気体透過性膜(GPM)であって、この装置と接触する試料から前記 WEへの気体の流量がそのGPMを通過する気体量の関数となるように、前記G PM及び前記ELのそれぞれが前記WEに応じた寸法及び位置関係を保っている 、GPM、 (b)前記装置に気体を含む液体試料を接触させる工程、 (c)前記気体の分子が前記WEで還元反応を効果的に行うことができるよう に前記CREに対して前記WEに電圧をかける工程、 (d)前記装置の出力電流を測定する工程、並びに (e)前記気体の濃度を検出する工程。 11.下記(a)〜(d)を含む、試料に含まれる気体の濃度を測定する方法。 (a)次の(i)〜(iii)を含む微細加工された検出装置を準備する工程、 (i)共通基板上に配設された作用電極(WE)及び参照電極(RE)であ って、そのREの構成成分による前記WEの汚染を最小にするのに有効な距離だ け離れて位置づけられている、WE及びRE、 (ii)前記基板上に配設されて前記WEを封入する電解質層(EL)、及び (iii)前記WEと前記CREの間を電気的に接続するための前記基板上に 配設した導電層(CL)、及び (iv)前記ELは封止しないように配設されかつ前記WEを覆って位置づけ られている気体透過性膜(GPM)であって、この装置と接触する試料から前記 WEへの気体の流量がそのGPMを通過する気体量の関数となるように、前記G PM及び前記ELのそれぞれが前記WEに応じた寸法及び位置関係を保っている 、GPM、 (b)前記装置に気体を含む液体試料を接触させる工程、 (c)前記WEと前記REの間の電位差を測定する工程、並びに (d)前記気体の濃度を検出する工程。 12.気体の濃度が、測定した出力電流を、試料に含まれる気体の部分圧に出力 電流を相関させた標準曲線と比較することによって決定される、請求の範囲10 の方法。 13.気体の濃度が、測定された電位差を、試料に含まれる気体の部分圧に電位 差を相関させた標準曲線と比較することによって決定される、請求の範囲11の 方法。 14.微細加工された検出装置を、その装置が試料と接触する前または後のいず れかに較正用液体と接触させる工程をさらに含む、請求の範囲10の方法。 15.微細加工された検出装置を、その装置が試料と接触する前または後のいず れかに較正用液体と接触させる工程をさらに含む、請求の範囲11の方法。 16.距離が少なくとも約1mmである、請求の範囲1の装置。 17.距離が少なくとも約1mmである、請求の範囲2の装置。 18.距離が少なくとも約1mmである、請求の範囲7の装置。 19.WEが金を含み、CREが銀/塩化銀を含み、ELが光形成したゼラチン を含み、GPMがシリコンブロック共重合体を含む、請求の範囲1の装置。 20.WEが金を含み、CREが銀/塩化銀を含み、ELが光形成したゼラチン を含み、GPMがシリコンブロック共重合体を含む、請求の範囲2の装置。 21.WEが金を含み、CREが銀/塩化銀を含み、ELが光形成したゼラチン を含み、GPMがシリコンブロック共重合体を含む、請求の範囲7の装置。 22.ELが、ゼラチン固体に対する架橋剤の比率を増加させることによって気 体に対する透過性が減少した光形成されたゼラチンを含む、請求の範囲7の装置 。 23.ELが、温度を上昇させて加熱する工程を延長することによって気体に対 する透過性が減少した光形成されたゼラチンを含む、請求の範囲7の装置。 24.光形成されたゼラチンが、120℃で1時間加熱されたゼラチンである、 請求の範囲23の装置。 25.CLが、吸湿性の塩を含有する光形成されたゼラチン層を含む、請求の範 囲7の装置。 26.CLが導電性ポリマーを含む、請求の範囲7の装置。 27.導電性ポリマーが、ポリピロール、ポリチオフェン、及びポリアニリンか らなる群より選択されるものである、請求の範囲26の装置。 28.導電性ポリマーがさらにドーパントを含む、請求の範囲26の装置。 29.導電性ポリマーがさらにドーパントを含む、請求の範囲27の装置。 30.導電性ポリマーが、ハロゲン化物、窒化物、リン化物、及び硫化物からな る群より選択されたドーパントをさらに含む、請求の範囲26の装置。 31.導電性ポリマーが、ハロゲン化物、窒化物、リン化物、及び硫化物からな る群より選択されたドーパントをさらに含む、請求の範囲27の装置。 32.下記(a)及び(b)を含む、液体試料に含まれるアナライトの濃度を測 定するための微細加工された検出装置。 (a)共通の平面基板上に配設された作用電極(WE)及び対極/参照電極( CRE)であって、少なくとも一つの寸法が実質的に異なっている、WE及びC RE、及び (b)前記WEを覆って配設された少なくとも第1層であって、前記第1層の トポロジー的特徴において前記実質的に異なる寸法の逆効果を効果的に最小にす ることのできる距離だけ離れて前記WEおよびCREが位置づけられている、第 1層。 33.アナライトが溶解している気体である、請求の範囲32の装置。 34.第1層が電解質層を含む、請求の範囲32の装置。 35.第1層を覆って配設された第2層をさらに含む、請求の範囲34の装置。 36.第2層が、前記第1層を封止しないが前記WEを覆って位置づけられた気 体透過層を含む、請求の範囲35の装置。 37.寸法が電極の厚みである、請求の範囲32の装置。 38.距離が少なくとも約1mmである、請求の範囲32の装置。
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