JPH10503366A - 固相生体特異的結合とｄｎａ塩基配列決定に使用する自動処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 生体分子の処理を行うための装置は、各マニホルドがホルダ部分とそこから延びる数枚のペグ部材を有する複数のマニホルドと、各々がマニホルドペグ部材を収容するように適合させた数個のウェルを支持する複数のプレートまたはストリップ手段と、（ｉ）ウェルプレートまたはストリップ手段のウェルを加熱するためにウェルプレートまたはストリップ手段を収容するように適合された少なくとも１個の加熱プレートユニット（４２）および（ｉｉ）複数の洗浄ウェル（５０）を有し各洗浄ウェル（５０）を１個以上のマニホルドペグ部材（１１）を収容するように適合され、各洗浄ウェルが洗浄液用の少なくとも１個の入口と少なくとも１個の出口とを有する少なくとも１個の洗浄ユニット（４４）との形の数個の処理ユニット（４２〜４６）とを備える処理装置（４０）と、処理装置のユニット内において処理を行い異なるユニット間において移行する間に複数のマニホルドを保持するためのホルダ装置とを備える。

Description

【発明の詳細な説明】 固相生体特異的結合とＤＮＡ塩基配列決定に使用する 自動処理装置 本発明は生体分子の処理、特にＤＮＡ塩基配列決定における生体分子の処理に 関する。 今日、核酸分析を含む実験室処理は一般的になり、日常作業として行われるこ とが多い。このような処理には、とりわけハイブリッド化や酵素反応が含まれる 。相互作用の一成分を固定するのにしばしば固相が使用される。この固相として は、多くの場合、固相の分離が簡単になる磁気ビーズが使用されてきた。しかし 、多数の試料を同時に取り扱うことにはまだ問題がある。 公開番号がＷＯ９４／１１５２９号である我々の国際特許出願は核酸分析用の 固相技術を開示しているが、この技術によると多数の試料の同時処理が非常に楽 になる。この技術はコーム形素子（コーム）の形であることが好ましい「多ペグ 」装置の使用に基づいており、ここで各ペグまたは歯は個別の固相部材を形成す る。このコームは、ウェルが必要な試薬を含む特別に設計されたウェルプレート やストリップにコームの歯によって導入されるように設計されている。 本発明は、コームとウェル部材に基礎をおき、それらと協動するように特別に 設計された部品を備える完全処理装置であって、核酸分析ならびに他の形の生体 分子相互作用または分析をさらに容易にし、多数試料の同時取扱いと処理を可能 にする装置に関する。このような装置は特許請求の範囲に記載した特徴を有する が、核酸分析用に設計した非限定的な実施形態を例にとり、以下にもっと詳細に 説明する。 添付の図を参照する。 第１図は、担体コームの正面図である。 第２図は、第１図のコームの平面図である。 第３図は、図に示したコーム八枚の組立体である。 第４図は、１タイプのウェルプレートの平面図である。 第５図は、別の１タイプのウェルプレートの平面図である。 第６図は、それぞれ第４図および第５図に示したウェルプレートの側面図であ る。 第７図は、一部を切り取った処理ユニットの平面図である。 第８図は、第７図の処理ユニットの側面図である。 第９図は、第７図の処理ユニットの別の側面図である。 第１０図は、第７図のＡ−Ａの断面図である。 第１１図は、コームホルダの平面図である。 第１２図は、第１１図のＡ−Ａとふた部材の断面図である。 第１３図は、ウェルプレートホルダの平面図である。 第１４図は、第１３図のウェルプレートホルダの側面図である。 第１５図は、位置決めモジュールの平面図である。 図に示した処理装置は基本的に担体コーム１０（第１図）、２タイプのウェル プレート２０および３０（第４図、第５図）、処理ユニット４０（第７図から第 １０図）、およびコームホルダ６０（第１１図、第１２図）を備える。また、図 示の装置はウェルプレートホルダ８０（第１３図、第１４図）と位置決めモジュ ール（第１５図）も含む。 平たいコーム１０はウェルプレート３０のウェル２１、ウェル３１にそれぞれ 受け入れられるように適合された八本の歯１１を有する。さらにコーム１０は連 結手段を備え、ここでこの連結手段は２個の円筒形突起１２の形になっており、 該円筒形突起には開口底部と、並べられたコーム１０の開口底部にはめ込まれる 直径の小さな先端とを備えている。それによって、八枚のコーム１０の組立体を 示す第３図に示したように、いく つものコームがスナップ式にはめあわされ得る。頂部フランジ１３は光学式読取 可能なバーコードなどによるラベルを貼る目的でコーム１０の上に設けられる。 以下に説明するように、コーム１０の各側端部はコームをコームホルダ６０に保 持するための段部１４を有する。 図示したものの場合においては、ウェルプレート２０は八列のウェル２１を有 し、その各列は２つのウェルを有する。例えば体積が約１００μＬの液体などを 保持する寸法とした各ウェル２１は四枚のコーム歯１１を収容するように設計す るので、以下「四枚歯ウェル」と呼ぶことがある。同様にウェルプレート３０は 八ウェル列を有し、各列は８つのウェル３１を有するが、これは一枚のコーム歯 １１を収容するように設計するので、以下「一枚歯ウェル」と呼ぶことがある。 各ウェル３１は、例えば体積が約２０μＬの液体などを保持する寸法とする。 第７図から第９図に示したインテグラル処理ユニットはシャシ４１を含み、図 示したものの場合においては五基の処理モジュールまたは「ステーション」、す なわち「捕捉」ステーション４２、「変性」ステーション４３、「洗浄」ステー ション４４、「アニール」ステーション４５および「配列決定反応」 ステーション４６を備える。 捕捉ステーション４２は熱制御、すなわち加熱または冷却用のプレートであり 、八枚の垂直な加熱または冷却フランジ４７からなるグループを四組備える。各 加熱フランジ４７は中央にウェルプレート２０のウェル２１の一列を収容するた めの凹部を有し、ウェル２１を加熱フランジと熱接触させて加熱プレート上に四 枚のウェルプレートを同時に置けるようになっている。 変性ステーション４３は捕捉ステーション４２と類似の構造を有し、同様にそ れぞれのウェルプレート２１を収容するための八枚のフランジ４８の組を四組備 えたプレートを含む。変性ステーション４３は加熱可能であってもなくてもよい 。 第１０図に最もよく示されるように、洗浄ステーション４４は八本の細長い凹 部５０のグループを四組備えたプレート４９を含む。各凹部５０は、コーム１０ の八枚の歯１１を収容するように適合させる。各凹部を通して、例えば各凹部の 中央インレットから両端のアウトレットへ、洗浄液を別々にポンピングする手段 がさらに設けられる。ここで、図示したものの場合においては、二台のポンプ５ １、５２がそれぞれインレットとアウトレットである。このように、図示した洗 浄ステーション ４４は同時に３２枚のコーム１０を処理できる。 アニールステーション４５は変性ステーション４３と類似の構造を有し、八枚 のフランジ５３の組を四組備えたプレートを含み、各組はウェルプレート２１を 収容するように適合させる。捕捉ステーション４２と同じ仕方で、フランジ５３ を制御しながら加熱または冷却するための手段が設けられる。 最後に、配列決定反応ステーション４６も８個の凹部５４のグループを四組備 えた加熱プレートである。各凹部５４はウェルプレート３１の一列を収容するよ うに設計されている。このステーションにおいては以下に述べるように速い温度 変化が要求されないので、上記のステーション４２、４３、４５におけるような 加熱フランジの形でなく、固体プレートの形で提供される凹部５４を備えた、図 示した設計の加熱プレートをこのステーションに使用することができる。 参照番号５５は空いている「取っておく」領域を示す。 ステーション４２から４６における参照番号５６は光信号手段を示すが、その 機能を以下に説明する。 処理ステーション４３、４５、４６はすべて以下に説明するようにコームホル ダ６０と協動するための中央ロック部材５７ を有する。さらに、すべての処理ステーシヨン４２から４６は、これも以下に説 明するように、それによってコームホルダ６０を位置決めするための４個の突起 ５８を有する。 処理ユニット４０は異なる処理ステーション、例えば加熱と洗浄液の流れなど を制御するためのコンピュータに接続できるように適合されており、このユニッ トの操作は小さいキーパッドとディスプレイ５９を介して行う。 第１１図、第１２図に示したコームホルダ６０は異なる処理ステーションの間 でコーム１０を移送するように設計される。ホルダ６０はハンドル６２に取り付 けた水平フレーム６１を備える。コームラック６３はフレームに対して垂直方向 に可動となるようにしてフレーム６１内部に搭載する。ここで、コームラック６ ３はハンドル６２に対して直角な中央クロスバー６５を備えた長方形のフレーム ６４によって形成される。クロスバー６５およびフレームの反対側部分における 凹部６６は、コーム１０を収容して、その段付き垂直側端１４を介して保持する ように設計される（第１図）。四つのコーム保持区画はそれぞれ八つの対向する 凹部６６を備え、クロスバー６５とハンドル６２によって限定され、それによっ て各区画が八枚のコームを 保持できる。 コームラック６３はハンドル６２の中の穴６８を貫通して延びる垂直バー６７ によって支持される。バー６７の上端をハンドルの中の凹み７０に収容したつま み部材６９にこれもまた回動可能に接続する。凹み７０と位置合せを行うと、つ まみ部材６９の垂直板状延長部７１は穴６８の上部にぴったりはまり、第１２図 に示すようにそこに収容され、それによってコームラック６３は第一の下げ位置 に保持される。この位置において、コームホルダ６１が各処理ステーションのい ずれか一つの上に正しく配置されていれば、支持された各コーム１０の歯１１は そのステーション上に配置されたウェルプレート２０または３０のそれぞれ対応 するウェル２１または３１に差し込まれる。つまみ部材６９を引っ張り上げるこ とによりコームラック６３を引っ張り上げ、次にこのつまみを回して延長部７１ をその凹みの定位置外に置くことによって、そのコームラックは第二の上げ位置 に保持される。 コームホルダ６０はばねによって一方に力を掛けた２個の対向するフック手段 ７２をさらに備え、各フックは以下に説明するようにウェルプレートホルダ８０ の上のピン部材８１と協働 する操作レバー７３を有する。 以上に述べた、塩基配列決定対象のＰＣＲ増幅ＤＮＡフラグメント用ＤＮＡ塩 基配列決定処理装置の使用例について以下に説明する。 鎖の内一本がビオチン化された塩基配列決定対象のＰＣＲ増幅ビオチン化ＤＮ Ａフラグメントが入った四枚のウェルプレート２０をウェルプレートホルダ８０ によって支持する。各ウェル２１は異なるＤＮＡフラグメントを含むようにする ことができる。 コームホルダ６０にはコーム１０を装着し、その歯１１にはストレプトアビジ ンが固定されており、その間コームラック６３は上げ位置に保持しておく。コー ム頂部をハンドル６２の両側のコーム上に配置される二枚のふた７４（第１２図 ）によって覆うことができる。次にコームホルダ６０をウェルプレートホルダ８ ０上にフック手段７２がピン部材８１とかみ合うように正しく置いた後、組立体 全体を処理ユニットの捕捉ステーションに移動させる。コーム１０にあらかじめ バーコードを設けておき、このときにそれを装置のコンピュータに読み込ませて 各コームを特定試料からの増幅生成物と関係づける。表示灯 ５６は点滅してこのステーションが使用されることを表示し、ディスプレイ５９ は、例えば「位置１に進む」ことを表示する。 次に、コームホルダ６０を捕捉ステーション４２と位置合わせして、突起５８ がホルダフレーム６１の中の凹部７５にはめ込まれるように、コームホルダを捕 捉ステーションの上に配置する。ウェルプレート２０のウェルの列は加熱フラン ジ４７の凹部に収容される。次にコームラック６３を下げて各コーム１０の歯１ １を対応するウェル２１に導入できるようにする。コームラックが下げ位置にあ るとき、このコームラックによって支持される活性体部材７６はシャシ４１に接 触して捕捉プロセスを始動させるスイッチ機能を果たす。このために、アクティ ベータ部材７６が、例えばシャシに搭載された位置合わせしたホール素子を作動 化する。ビオチン化ＤＮＡフラグメントをストレプトアビジン被覆コーム歯に結 合させる捕捉プロセスは、例えば３０分間で完結する二つの加熱サイクル２０− ８０℃からなるのが好都合である。このようなサイクル化された加熱は捕捉プロ セスを強化する。この捕捉プロセスの間、表示灯５６は安定した光を放ち、ディ スプレイはステーション番号と残存プロセス時間を表示する。所定のプロセス時 間が経過すると、 捕捉機能は停止する。このプロセス時間の経過は不連続な音響信号によって知ら せることができる。同時に表示灯が消える。代わりに変性ステーション４３の表 示灯インジケータ５６が点滅を始め、ディスプレイは例えば「位置２に進む」と 表示する。 次に、コームラック６３を上げ位置に上げフック手段７２のレバー７３を互い の方向に押してレバーをピン部材８１からはずすことによってコームホルダ６０ をウェルプレートホルダ８０から解放し、その上でコームホルダを変性ステーシ ョン４３へ移動させる。 コーム歯の上に捕捉されたばかりのＤＮＡフラグメントから非ビオチン化ＤＮ Ａ鎖を解放するために必要な変性剤をそのウェル２１の中に有するウェルプレー ト２０を、ウェルの列がそれぞれの加熱フランジ凹部に収容された状態で、変性 ステーション４３の上にあらかじめ配置しておく。このウェルプレートは、使用 前に水を加えるだけで良いようにするために、先に分配した無水試薬による前処 理、例えばガラス化などをあらかじめ行っておくことが好ましい。 次にコームホルダ６０を変性ステーション４３と位置合わせしてその上に配置 し、コームラックを下げてコーム歯１１をそ れぞれのウェル２１に差し込む。次にバー６７の下端をロック部材５７とかみ合 わせて、コームラックをコーム歯がウェルの上にあるその上げ位置に上げていな い場合にコームホルダ６０がはずれるのを防止する。 前記のように、表示灯５６はプロセスの間安定な光を放ち、この光は例えば５ 分間持続する。この時間が過ぎると光は消え、音響信号が鳴り、ディスプレイは 例えば「位置３に進む」と表示する。 以上と同様にして、次にコームホルダ６０を洗浄ステーションへ移動させ、そ こでコーム歯を例えば３分間洗浄する。 次にコームホルダ６０をアニールステーション４５に移し、そこでウェル２１ に塩基配列決定プライマ溶液を入れたウェルプレート２０を加熱フランジ５３の 上に配置する。使用前に水を加えるだけで良いようにするために、無水プライマ 混合物をウェル２１にあらかじめ分配しておくことが好ましい。プライマをコー ム歯の上に固定した一本鎖ＤＮＡフラグメントにアニールするのは、例えば６０ ℃で１０分間加熱後、室温に制御して１０分間冷却することによって行われる。 最後にコームホルダ６０を塩基配列決定反応ステーション ４６へ移動させ、そこで「一枚歯ウェル」の付いたウェルプレート３０をウェル ３１が凹部５４に収容された状態で加熱プレートの上に配置する。ウェル３１は 必要な塩基配列決定混合物を含むが、この混合物は、使用時に水を加えるだけで 良いようにするために、あらかじめ無水物の形で分配しておくことが好ましい。 この塩基配列決定反応が完了すると、コーム１１を自動塩基配列決定装置、例 えばＡ．Ｌ．Ｆ．^TMＤＮＡシーケンサ（ファルマシアバイオテクＡＢ、スウェー デン、ウプサラ）に運び、そこでコーム歯上のプライマ伸展生成物をこの塩基配 列決定装置の試料ウェル中に放出する。 さらに、一実施形態として本発明による生体分子を処理するための位置決めモ ジュール（第１５Ａ図）を装置に含めることができる。この位置決めモジュール Ａは処理モジュールまたは第７図に示し上記で説明した「ステーション」の前に 位置している。第１５図においてこのような「ステーション」の一つをＢで示す 。この位置決めモジュールはマイクロタイタプレートのウェルを収容するように 設計された穴を有する金属プレートからなる。この金属プレートの大きさはウェ ル数に関してもウ ェル間距離に関しても標準的なマイクロタイタフォーマットのものである。各穴 の底に発光ダイオードがある。マイクロタイタプレートを位置決めモジュールの 上に配置するとき、発光ダイオードのスイッチが入っていれば各ウェルの底を通 して見ることが可能である。この原理はどのウェルから試料が運ばれるかを見せ るのに使用される。第１５Ｂ図に示した処理モジュールまたは「ステーション」 は第４図に示したタイプのウェルプレート四枚を備える。各ウェルプレートは２ ×８個のウェル２１を有し、各ウェルの側方に発光ダイオード８２がある。 この位置決めモジュールを使用するとき、試料、例えばＰＣＲ増幅ＤＮＡフラ グメントなどを含むマイクロタイタプレートを位置決めモジュールＡの上に配置 する。四枚の空のウェルプレートを処理モジュールＢの上に配置する。この位置 決めを制御しているコンピュータプログラムを起動させ、発光ダイオード数個の スイッチを入れる。位置決めモジュールおよび処理モジュールの上のそれぞれ発 光ダイオードとディスプレイパネルの上に表示された情報テキストによって、位 置決めモジュール上のどの位置から処理モジュールのどの位置へ試料が移動する か情報が得られる。通常の操作は８連ピペットによって試料を マイクロタイタプレート中の縦一列からウェルプレート中の縦一列へ移行させる ことである。 以上から容易に分かるように、説明した処理装置は試料の混合を防止し、試料 間の汚染を防止し、操作が簡単である。 当然のことながら、本発明は以上に特に述べ図に示した実施形態に制限されな いが、以下の請求の範囲から逸脱することなく多くの変更と修正を加えることが できる。

【手続補正書】特許法第１８４条の８第１項 【提出日】１９９６年１１月５日 【補正内容】 請求の範囲 １．各マニホルドがホルダ部分とそれから延びる数枚のペグ部材（１１）を有す る複数のマニホルド（１０）と、 各々がマニホルドペグ部材（１１）を収容するように適合させた数個のウェル （２１、３１）を支持する複数のプレートまたはストリップ手段（２０、３０） とを備える生体分子を処理するための装置において、 （ｉ）ウェルプレートまたはストリップ手段（２０、３０）のウェル（２１、 ３１）を加熱または冷却するためにウェルプレートまたはストリップ手段（２０ 、３０）を収容するように適合された少なくとも１個の熱制御用のモジュール（ ４２）と、 （ｉｉ）複数の洗浄ウェル（５０）を有し、各洗浄ウェル（５０）が１個以上 のマニホルドペグ部材（１１）を収容するように適合され、各洗浄ウェルが洗浄 液用の少なくとも１個の入口と少なくとも１個の出口とを有する少なくとも１個 の洗浄モジュール（４４）と、 の形態の数個の処理モジュール（４２〜４６）を備える処理装置（４０）と、 処理装置（４０）のモジュール内において処理し、異なるモジュール間におい て移行する間、複数のマニホルド（１０）を保持するためのホルダ装置（６０） と、 処理装置（４０）の機能を制御するコンピュータ手段と、 前記コンピュータ手段によって制御されて一連の処理段階の各処理段階がいつ 、どの処理モジュール（４２〜４６）の上で行われるかを表示するインジケータ 手段（５６）と をさらに備えることを特徴とする装置。 ２．前記マニホルドが歯（１１）の付いたくし形素子（１０）であることを特徴 とする請求の範囲第１項に記載の装置。 ３．ホルダ装置（６０）を処理モジュール（４２〜４６）の上に配置するとき、 縦に２カ所から選択できるモジュール上で受けられるウェルプレートまたはスト リップ（２０、３０）の上の位置にマニホルド（１０）を保持するようにホルダ 装置（６０）を構成し、下げ位置においてはマニホルドペグ部材（１１）をウェ ル（２１、３１）に差し込み、上げ位置においてはペグ部材（１１）がウェル（ ２１、３１）の上にあることを特徴とする請求の範囲第１項または第２項に記載 の装置。 ４．ホルダ装置（６０）が、ホルダ装置（６０）を処理モジュ ール（４２〜４６）の上に配置しマニホルド（１０）を下げ位置に運んだときに 処理モジュール（４２〜４６）におけるプロセスを始動させるアクティベータ手 段（７４）を備えることを特徴とする請求の範囲第１項から第３項のいずれか一 項に記載の装置。 ５．異なるマニホルド（１０）を識別するために、各マニホルド（１０）または マニホルドのグループにバーコードなどの光学式読取りラベルによって付箋をす ることを特徴とする請求の範囲第１項から第４項のいずれか一項に記載の装置。 ６．装置を核酸フラグメントの塩基配列決定に適合され、 核酸フラグメントのマニホルドペグ部材（１１）の上への捕捉を行うための第 一の加熱可能なプレートモジュール（４２）と、 捕捉した二本鎖核酸フラグメントを変性させて固定した一本鎖核酸フラグメン トにするために任意選択で加熱することができる第二のプレートモジュール（４ ２）と、 この変性段階にかけたマニホルドペグ部材（１１）を洗浄するための洗浄モジ ュール（４４）と、 マニホルドペグ部材（１１）に固定された一本鎖核酸フラグ メントへの塩基配列決定プライマのアニールを行うための第三の加熱可能なプレ ートモジュール（４５）と、 マニホルドペグ部材（１１）に固定された、プライマによるアニールを行った 核酸フラグメントの上で塩基配列決定反応を行うための第四の加熱可能なプレー トモジュール（４６）と を備えることを特徴とする請求の範囲第１項から第５項のいずれか一項に記載 の装置。 ７．装置がウェル（２１、３１）があらかじめ無水物の形で分配した試薬を含む ウェルプレートまたはストリップ（２０、３０）を備えることを特徴とする請求 の範囲第１項から第６項のいずれか一項に記載の装置。 ８．マニホルド（１０）が複数のマニホルド（１０）を連結してその組立体を形 成できるようにするための連結手段（１２）を備えることを特徴とする請求の範 囲第１項から第７項のいずれか一項に記載の装置。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．各マニホルドがホルダ部分とそれから延びる数枚のペグ部材（１１）を有す る複数のマニホルド（１０）と、 各々がマニホルドペグ部材（１１）を収容するように適合させた数個のウェル （２１、３１）を支持する複数のプレートまたはストリップ手段（２０、３０） とを備える生体分子を処理するための完全処理装置において、 （ｉ）ウェルプレートまたはストリップ手段（２０、３０）のウェル（２１、 ３１）を加熱または冷却するためにウェルプレートまたはストリップ手段（２０ 、３０）を収容するように適合された少なくとも１個の熱制御用のユニット（４ ２）と、 （ｉｉ）複数の洗浄ウェル（５０）を有し、各洗浄ウェル（５０）が１個以上 のマニホルドペグ部材（１１）を収容するように適合され、各洗浄ウェルが洗浄 液用の少なくとも１個の入口と少なくとも１個の出口とを有する少なくとも１個 の洗浄ユニット（４４）と、 の形態の数個の処理ユニット（４２〜４６）を備える処理装置（４０）と、 処理装置（４０）のユニット内において処理し、異なるユニット間において移 行する間、複数のマニホルド（１０）を保持するためのホルダ装置（６０）と をさらに備えることを特徴とする装置。 ２．装置が処理装置（４０）の機能を制御するコンピュータ手段を備えることを 特徴とする請求の範囲第１項に記載の装置。 ３．前記マニホルドが歯（１１）の付いたくし形素子（１０）であることを特徴 とする請求の範囲第１項または第２項に記載の装置。 ４．ホルダ装置（６０）を処理ユニット（４２〜４６）の上に配置するとき、縦 に２カ所から選択できるユニット上で受けられるウェルプレートまたはストリッ プ（２０、３０）の上の位置にマニホルド（１０）を保持するようにホルダ装置 （６０）を構成し、下げ位置においてはマニホルドペグ部材（１１）をウェル（ ２１、３１）に差し込み、上げ位置においてはペグ部材（１１）がウェル（２１ 、３１）の上にあることを特徴とする請求の範囲第１項、第２項または第３項に 記載の装置。 ５．ホルダ装置（６０）が、ホルダ装置（６０）を処理ユニット（４２〜４６） の上に配置しマニホルド（１０）を下げ位置 に運んだときに処理ユニット（４２〜４６）におけるプロセスを始動させるアク ティベータ手段（７４）を備えることを特徴とする請求の範囲第１項から第４項 のいずれか一項に記載の装置。 ６．装置が前記コンピュータ手段によって制御されて一連の処理段階の各処理段 階がいつ、どの処理ユニット（４２〜４６）の上で行われるかを表示するインジ ケータ手段（５６）を備えることを特徴とする請求の範囲第１項から第５項のい ずれか一項に記載の装置。 ７．異なるマニホルド（１０）を識別するために、各マニホルド（１０）または マニホルドのグループにバーコードなどの光学式読取りラベルによって付箋をす ることを特徴とする請求の範囲第１項から第６項のいずれか一項に記載の装置。 ８．装置を核酸フラグメントの塩基配列決定に適合され、 核酸フラグメントのマニホルドペグ部材（１１）の上への捕捉を行うための第 一の加熱可能なプレートユニット（４２）と、 捕捉した二本鎖核酸フラグメントを変性させて固定した一本鎖核酸フラグメン トにするために任意選択で加熱することができる第二のプレートユニット（４７ ）と、 この変性段階にかけたマニホルドペグ部材（１１）を洗浄するための洗浄ユニ ット（４４）と、 マニホルドペグ部材（１１）に固定された一本鎖核酸フラグメントへの塩基配 列決定プライマのアニールを行うための第三の加熱可能なプレートユニット（４ ５）と、 マニホルドペグ部材（１１）に固定された、プライマによるアニールを行った 核酸フラグメントの土で塩基配列決定反応を行うための第四の加熱可能なプレー トユニット（４６）と を備えることを特徴とする請求の範囲第１項から第７項のいずれか一項に記載 の装置。 ９．装置がウェル（２１、３１）があらかじめ無水物の形で分配した試薬を含む ウェルプレートまたはストリップ（２０、３０）を備えることを特徴とする請求 の範囲第１項から第８項のいずれか一項に記載の装置。 １０．マニホルド（１０）が複数のマニホルド（１０）を連結してその組立体を 形成できるようにするための連結手段（１２）を備えることを特徴とする請求の 範囲第１項から第９項のいずれか一項に記載の装置。