JPH1049822A - Manufacture of magnetic head - Google Patents

Manufacture of magnetic head

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JPH1049822A
JPH1049822A JP20211396A JP20211396A JPH1049822A JP H1049822 A JPH1049822 A JP H1049822A JP 20211396 A JP20211396 A JP 20211396A JP 20211396 A JP20211396 A JP 20211396A JP H1049822 A JPH1049822 A JP H1049822A
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JP
Japan
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magnetic head
magnetic
head
magnetic disk
manufacturing
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Application number
JP20211396A
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Japanese (ja)
Inventor
Kenji Idaka
健治 伊高
Masayasu Fujisawa
政泰 藤沢
Hiroshi Chiba
拓 千葉
Yoshiharu Waki
義晴 脇
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
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Publication of JPH1049822A publication Critical patent/JPH1049822A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve the recording density without lowering reliability by providing a terminal sagging part in the lowest end part of a magnetic head near the magnetic disc at the time when the magnetic head is in a posture for wiring or reading information while it is inclined to the magnetic disc. SOLUTION: The terminal sagging part 10 is generated at the end part of the floating surface 9 of a magnetic head 1 by polishing the tape of using soft surface. Next, the floating surface 9 is polished by a processing method resulting in generate of a small amount of terminal agging to eliminate the polishing margin 11 for adjusting sagging width. When a shape curve 12 obtained at the terminal sagging part 10 is expressed as y=f(x) at the cross-section of the magnetic head 4 passing a head element 5 which is cut at the plane parallel to the relative movement direction for the magnetic disc and is vertical to the surface of the magnetic disc, it can be expressed approximately by any one of the formula 1 or 2. Here, A, B and C are constant. Therefore, the terminal sagging part 10 can easily be generated in a large number and an impact generated during contact with the magnetic disc becomes small and thereby a trouble is not easily generated.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ディスク装置
用の浮上型または接触型磁気ヘッドに関するものであ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a flying or contact type magnetic head for a magnetic disk drive.

【0002】[0002]

【従来の技術】外部記憶装置の一種である磁気ディスク
装置は、例えば図1に示すように、ジンバル2により支
持された磁気ヘッド(スライダー)1により、回転する
円盤状の磁気ディスク3に、情報の書き込み・読み込み
を磁気的に行うものである。磁気ヘッド1は、通常セラ
ミック製で、端部に磁気信号を記録するための素子、再
生するための素子を搭載している。
2. Description of the Related Art As shown in FIG. 1, for example, a magnetic disk device, which is a kind of external storage device, uses a magnetic head (slider) 1 supported by a gimbal 2 to transfer information to a rotating disk-shaped magnetic disk 3. The writing / reading of data is performed magnetically. The magnetic head 1 is usually made of ceramic, and has an element for recording a magnetic signal and an element for reproducing the magnetic signal at its end.

【0003】磁気ディスク装置において磁気ディスク3
と磁気ヘッド1は、速度が数十m/s以上で、ある傾き角
7で傾いた状態で相対運動している。このとき、磁気デ
ィスク3に対して磁気ヘッド1が気体の動圧を受けて浮
上しているものを浮上型(図2参照)、接触したまま摺
動するものを接触型(図3参照)という。
In a magnetic disk drive, a magnetic disk 3
And the magnetic head 1 are relatively moving at a speed of several tens m / s or more and tilted at a certain tilt angle 7. At this time, the magnetic disk 1 floating with the magnetic head 1 receiving the dynamic pressure of the gas is called a floating type (see FIG. 2), and the magnetic head 3 that slides in contact with the magnetic disk 3 is called a contact type (see FIG. 3). .

【0004】浮上型については、図2に示すように、浮
上量6を小さくすることにより記録密度を向上させるこ
とができる。ここで浮上量6は、磁気ヘッド1の最下端
と磁気ディスク3までの平均距離と定義する。しかし、
浮上量6を不用意に小さくすると塵埃や振動などの要因
により、磁気ヘッド1と磁気ディスク3の衝突回数が増
え、磁気信号を検出あるいは再生するための素子を破損
したり、磁化された情報が失われたりする。また、磁気
ヘッド1と磁気ディスク3が接触することにより、再生
素子の温度が上昇して再生信号に雑音が入り、情報の信
頼性が失われたりする。
In the case of the floating type, as shown in FIG. 2, the recording density can be improved by reducing the floating amount 6. Here, the flying height 6 is defined as an average distance between the lowermost end of the magnetic head 1 and the magnetic disk 3. But,
If the flying height 6 is inadvertently reduced, the number of collisions between the magnetic head 1 and the magnetic disk 3 increases due to factors such as dust and vibration, and an element for detecting or reproducing a magnetic signal may be damaged, or magnetized information may be lost. Or lost. Further, when the magnetic head 1 and the magnetic disk 3 come into contact with each other, the temperature of the reproducing element rises, noise is generated in the reproduced signal, and the reliability of information is lost.

【0005】こうした障害を避け、記録密度を向上させ
るには、磁気ヘッド素子部5ができるだけ磁気ヘッド1
の全体から見て最下端の部分に近くなるようにする必要
がある。この点を考慮した磁気ヘッドの製造方法として
は、例えば、特開昭63−96722号公報、特開平1
−92922号公報、特開平7−57219号公報等に
例示されている。
In order to avoid such obstacles and to increase the recording density, the magnetic head element 5 must be
Needs to be close to the lowermost part when viewed from the whole. A method of manufacturing a magnetic head in consideration of this point is disclosed in, for example, JP-A-63-96722 and JP-A-Hei.
Japanese Patent Application Laid-Open No. 92922/92 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-57219.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかし、特開昭63−
96722号公報にて開示されている従来技術では、こ
れを実現する手段として通常の機械加工方法しか示され
ておらず、この方法によっては、適切な形状の磁気ヘッ
ドを工業的に量産することは困難である。
However, Japanese Patent Application Laid-Open No.
In the prior art disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 96722, only a normal machining method is shown as a means for realizing this, and according to this method, it is not possible to mass-produce a magnetic head having an appropriate shape industrially. Have difficulty.

【0007】また、特開平1−92922号公報や特開
平7−57219号公報の従来技術では、磁気ヘッドを
浮上させてバニシングによって加工する方法が示されて
いる。しかし、加工点である素子近傍が高温になること
や静電気の発生問題などにより、近年、磁気ヘッド素子
として用いられている磁気抵抗型の再生素子を破壊する
ことがあった。
Further, in the prior arts of Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 1-92922 and 7-57219, a method in which a magnetic head is levitated and processed by burnishing is disclosed. However, in recent years, a magnetoresistive reproducing element used as a magnetic head element may be destroyed due to a high temperature near an element which is a processing point or a problem of generation of static electricity.

【0008】さらにこれらの従来技術では、浮上姿勢を
利用して面取りを行うので、磁気ディスク3との傾き角
7や形状を変えることが大変困難であった。さらに、こ
れらの従来技術では、スライダー1をジンバル2に固定
して1個ずつしか加工できないため、スループットが小
さく、浮上面の最終保護膜の形成が困難であり、隘路と
なっていた。
Further, in these prior arts, since the chamfering is performed using the flying attitude, it is very difficult to change the inclination angle 7 and the shape with respect to the magnetic disk 3. Further, in these prior arts, since only one slider 1 can be fixed to the gimbal 2 and processed one by one, the throughput is small, and it is difficult to form the final protective film on the air bearing surface, which is a bottleneck.

【0009】本発明は上述したような問題点を考慮して
なされたもので、その目的は、信頼性の低下を招くこと
なく、記録密度の向上を図ることができる磁気ヘッド及
びその製造方法を提供することにある。また、接触型の
磁気ヘッドでは、摺動時に磁気ディスクを傷つける可能
性を小さくすることができる磁気ヘッドおよびその製造
方法を提供することを本発明の目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in consideration of the above-described problems, and has as its object to provide a magnetic head and a method of manufacturing the same which can improve the recording density without lowering the reliability. To provide. Another object of the present invention is to provide a magnetic head of a contact type that can reduce the possibility of damaging a magnetic disk during sliding, and a method of manufacturing the same.

【0010】より具体的には、本発明の目的は、磁気ヘ
ッドの素子部に損傷を与えることなく、磁気ヘッドが動
作する状態での磁気ヘッドの最下端に対して、当該素子
の下端部あるいはその直下の部分を近づけると共に、磁
気ディスクに対して障害を与えないような最下端部分の
形状を備える、磁気ヘッドおよびその製造方法を提供す
ることにある。
More specifically, an object of the present invention is to provide a magnetic head having a lower end or a lower end with respect to the lowermost end of the magnetic head in an operating state without damaging the element. It is an object of the present invention to provide a magnetic head and a method of manufacturing the same, which have a shape of a lowermost end portion that does not hinder the magnetic disk while bringing a portion immediately below the magnetic head closer.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明は、磁気ヘッドの製造方法において、磁気ディ
スク装置用磁気ヘッド(スライダー)が磁気ディスクに
対して傾斜しながら浮上もしくは接触して情報の読み書
きを行なう姿勢にあるときに、磁気ヘッドの磁気ディス
クに対向する面で、磁気情報の読み取り素子部あるいは
書き込み素子部よりも磁気ディスクに近接する、磁気ヘ
ッドの最下端となる部分を除去することで端ダレ部を形
成する。
In order to achieve the above object, the present invention relates to a method of manufacturing a magnetic head, wherein a magnetic head (slider) for a magnetic disk drive floats or contacts a magnetic disk while being inclined with respect to the magnetic disk. When reading and writing information, remove the lowermost part of the magnetic head, which is closer to the magnetic disk than the magnetic information read element or write element, on the surface of the magnetic head facing the magnetic disk. By doing so, an end sag portion is formed.

【0012】磁気ヘッドが浮上した姿勢での最下端部を
除去することにより得られる、ヘッド素子部の下端部と
磁気ディスクとの距離を小さくする形状は種々考えられ
るが、例えば、図4に示すように、磁気ディスクとの相
対運動方向に平行でかつ磁気ディスクの表面に垂直な面
で切られた、ヘッド素子部を通る磁気ヘッド4の断面
で、上記端ダレ部について得られる形状曲線12をy=
f(x)で表すとすると、その少なくとも一部が近似的
に、以下の2式のいずれかによって現されるように構成
する。
Various shapes for reducing the distance between the lower end portion of the head element portion and the magnetic disk obtained by removing the lowermost end portion of the magnetic head in a floating position are conceivable, for example, as shown in FIG. As described above, in the cross section of the magnetic head 4 passing through the head element section, which is cut in a plane parallel to the direction of relative movement with respect to the magnetic disk and perpendicular to the surface of the magnetic disk, the shape curve 12 obtained for the end sag portion is obtained. y =
If represented by f (x), at least a part thereof is configured to be approximately expressed by one of the following two equations.

【0013】 y=f(x)=A+B・EXP(−C・x) ・・・(数1) y=f(x)=A+B・EXP(−C・x2) ・・・(数2) ここでA、B、Cは定数である。なお、この形状曲線1
2は、後述する部分11が除去される前のダレ部分の形
状を示す。このような形状によれば、本発明の特徴的構
成である上記端ダレ部を量産的に創成するのが容易であ
り、磁気ディスクへ接触したときに幾何学的に衝撃が小
さく障害が発生しにくいという効果が得られる。
Y = f (x) = A + B · EXP (−C · x) (Equation 1) y = f (x) = A + B · EXP (−C · x 2 ) (Equation 2) Here, A, B, and C are constants. Note that this shape curve 1
Reference numeral 2 denotes a shape of a sag portion before a portion 11 described later is removed. According to such a shape, it is easy to mass-produce the above-mentioned edge sagging portion, which is a characteristic configuration of the present invention, and when it comes into contact with a magnetic disk, the impact is small geometrically and trouble occurs. The effect of being difficult is obtained.

【0014】また、本発明では、上述したような形状を
得るために、例えば、テープ研磨および面取り加工を遊
離砥粒と金属定盤によるラップによるか、あるいは、磁
気ヘッドが僅かに揺動するように保持して機械研磨を行
なう場合のダレを利用する。ここで、機械研磨を行なう
際には、磁気ヘッドが弾性体に保持されるようにする
か、あるいは、流体によって研磨圧を磁気ヘッドに加え
ながら機械研磨を行なう。 また、上記端ダレ部の創成
をYoung率が10GPa以下である研磨定盤または固定
砥粒砥石を用いて研磨するか、あるいは、その部分の曲
面の創成をYoung率の差が1GPa以上である異種材質
を複数回積層した研磨定盤または固定砥粒砥石を用いて
研磨することにより行う構成としても良い。なお、後者
の研磨方法においては、研磨定盤または固定砥粒砥石の
上層の厚さを、例えば10μm以下とする。
Further, in the present invention, in order to obtain the above-mentioned shape, for example, tape polishing and chamfering may be performed by lapping with free abrasive grains and a metal platen, or the magnetic head may be slightly swung. Is used to carry out mechanical polishing while holding the wafer. Here, when performing the mechanical polishing, the magnetic head is held by the elastic body, or the mechanical polishing is performed while applying a polishing pressure to the magnetic head with a fluid. Further, the edge sagging portion may be polished using a polishing platen or a fixed abrasive grindstone having a Young's modulus of 10 GPa or less, or a curved surface of the portion may be polished using a heterogeneous material having a Young's modulus difference of 1 GPa or more. The polishing may be performed by using a polishing platen or a fixed abrasive grindstone in which the material is laminated a plurality of times. In the latter polishing method, the thickness of the polishing platen or the upper layer of the fixed abrasive grindstone is, for example, 10 μm or less.

【0015】ところで、上記のようなダレを利用して上
記端ダレ部を創成する方法では、量産時に形状のばらつ
きを発生しやすい。そこで本発明では、最初に大きめの
ダレを作り、しかる後に磁気ディスクに対向する面を端
ダレの少ない機械研磨により、ダレ幅調整用研磨代11
(図4参照)を除去して、最終的に目的形状を得る。
By the way, in the method of creating the end sagging portion using the sagging as described above, a variation in shape is likely to occur during mass production. Therefore, in the present invention, a large sag is first formed, and then the surface facing the magnetic disk is mechanically polished with a small amount of end sag, thereby providing a sag width adjustment sag 11.
(See FIG. 4) to finally obtain the target shape.

【0016】また、大きな端ダレを作るときには、磁気
ヘッドの素子部の窪み(加工段差という)が発生する場合
がある。その加工段差を低減するためにも、磁気ディス
クに対向する面を再度平坦に機械研磨することが望まし
い。また、端ダレ10を創成する加工法は加工段差を増
大させやすいので、磁気ディスクに対向する面における
端ダレ領域に、ヘッド素子部の下端が含まれないような
形状とするのが有効である。
When a large end sag is formed, a dent (called a processing step) may occur in the element portion of the magnetic head. In order to reduce the processing step, it is desirable that the surface facing the magnetic disk is mechanically polished again flat. Further, since the processing method for creating the end sag 10 tends to increase the processing step, it is effective to form the end sag region on the surface facing the magnetic disk so that the lower end of the head element portion is not included. .

【0017】このような工程によれば、ダレによる曲面
部分と磁気ディスクに対向する面との境界が明瞭にな
る。さらに、磁気ヘッドが磁気ディスクに接触したと
き、接触する部分が素子部と僅かにずれるため、素子へ
の損傷が小さくなり、熱雑音を拾いにくい。
According to such a process, the boundary between the curved surface portion due to the sag and the surface facing the magnetic disk becomes clear. Further, when the magnetic head comes into contact with the magnetic disk, the contact portion is slightly displaced from the element portion, so that damage to the element is reduced and thermal noise is hardly picked up.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】本発明を適用した磁気ヘッドおよ
びその製造方法の第1の実施形態について、図4〜図6
を参照して説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A first embodiment of a magnetic head and a method of manufacturing the same according to the present invention will be described with reference to FIGS.
This will be described with reference to FIG.

【0019】本実施形態による磁気ヘッド4は、図4に
示すように、上記数1、数2の2式のいずれかで定義さ
れる形状曲線12によって近似される端ダレ部10が、
少なくとも、浮上面9のヘッド素子部5が配置されてい
る端辺部に設けられている構造を有している。
As shown in FIG. 4, the magnetic head 4 according to the present embodiment has an end sag portion 10 approximated by a shape curve 12 defined by either of the above equations (1) and (2).
It has a structure provided at least on the side of the air bearing surface 9 where the head element portion 5 is arranged.

【0020】本実施形態による磁気ヘッドの製造方法で
は、例えば図2、3に示すような従来の構造を備える磁
気ヘッドをさらに加工して上述した端ダレ部10を備え
る目的の形状を得るもので、その加工方法は、端ダレ部
分の創成工程と端ダレ部分の幅の調整工程との2つの工
程から構成される。
In the method of manufacturing the magnetic head according to the present embodiment, for example, a magnetic head having a conventional structure as shown in FIGS. The processing method is composed of two steps: a step of forming an end sag portion and a step of adjusting the width of the end sag portion.

【0021】(1)端ダレ部分の創成工程の一例とし
て、テープ研磨による加工法を用いた例を説明する。
(1) As an example of the step of creating the edge sagging portion, an example using a processing method by tape polishing will be described.

【0022】本工程では、図5に示すように、バネ定数
k=1〜4kPa/mの弾性体14にベース厚さ25μ
m、ダイヤモンド砥粒0.25μmの研磨テープ16を
接着し、平均移動速度1m/min、研磨圧力2.8M
Paで、治具13に固定された複数の浮上型磁気ヘッド
15を乾式で研磨する。この方法により、各磁気ヘッド
15の浮上面(磁気ディスクに対向するべき面)の端部
に面取りを施して、端ダレ部分を創成する。
In this step, as shown in FIG. 5, the elastic body 14 having a spring constant k = 1 to 4 kPa / m has a base thickness 25 μm.
, a polishing tape 16 having diamond abrasive grains of 0.25 μm is adhered, an average moving speed is 1 m / min, and a polishing pressure is 2.8 M.
With Pa, the plurality of floating magnetic heads 15 fixed to the jig 13 are dry-ground. By this method, the end of the floating surface (the surface facing the magnetic disk) of each magnetic head 15 is chamfered to create an end sagging portion.

【0023】ここで、端ダレ部分の形状yは、以下の式
にしたがって変化する。
Here, the shape y of the end sag portion changes according to the following equation.

【0024】 (1/C)・(∂y/∂t)=TΔy−ky ・・・(数3) ここで、y:形状 T:研磨テープ張力 t:加工時間 k:弾性体バネ定数 C:研磨定数 Δ:ラプラシアン である。上記数3を解くと、形状yはおよそ上記数2の
関数によって表される。このダレ形状は加工時間ととも
に変化していくので、必要とする形状が得られたら、直
ちに加工を停止する。なお、実際の加工条件によって
は、形状曲線の関数形が異なることもあるが、加工条件
や方法を調整をすることで、目的の形状を得ることが可
能となる。
(1 / C) · (∂y / ∂t) = TΔy−ky (Equation 3) where, y: shape T: polishing tape tension t: processing time k: elastic body spring constant C: Polishing constant Δ: Laplacian. Solving Equation 3, the shape y is approximately represented by the function of Equation 2. Since the sagging shape changes with the machining time, the machining is immediately stopped when the required shape is obtained. Although the function form of the shape curve may be different depending on the actual processing conditions, the desired shape can be obtained by adjusting the processing conditions and method.

【0025】(2)端ダレ幅の調整工程の一例として、
固定砥粒による研磨法を用いた例を説明する。
(2) As an example of the step of adjusting the edge sag width,
An example using a polishing method using fixed abrasive grains will be described.

【0026】本工程では、上記工程により創成された端
ダレ部分を必要な量だけにするために、端ダレの少ない
研磨を行い、図4の11の部分を除去する。
In this step, in order to reduce the required amount of edge sag created by the above-described process, polishing is performed with a small amount of edge sag, and the portion 11 in FIG. 4 is removed.

【0027】具体的には、研磨機上で研磨定盤の表面を
ダイヤモンドバイトで1〜50μmの溝を螺旋状に形成
することの出来る修正装置を有し、軸剛性の高い空気軸
受けに支えられた回転部を持つラップ装置を使用する。
この回転部の質量は、研磨定盤と研磨治具の質量に対し
て1.5〜4倍の質量を持つことが望まれる。
More specifically, the surface of the polishing platen is provided with a correction device capable of spirally forming a groove of 1 to 50 μm with a diamond tool on a polishing machine, and is supported by an air bearing having high shaft rigidity. Use a wrap device with a rotating part.
It is desired that the mass of the rotating portion be 1.5 to 4 times the mass of the polishing platen and the polishing jig.

【0028】また、研磨定盤を取り付けたときにその外
周の偏心は、0.1〜10μmになっているようにする
ことが望ましい。さらに、用いる研磨定盤はしっかりし
た台座に固定されされており、錫もしくはそれに0.1
〜40%程度の異種金属からなる合金でつくられている
ものとする。異種金属としてはPb、In、Cu、F
e、Ag、Sb、Zn、Bi等がある。半径は修正リン
グを定盤に載せたとき、内周側と外周側で3〜20mm
はみ出しているような大きさがよい。
It is desirable that the eccentricity of the outer periphery of the polishing platen when the polishing platen is attached is 0.1 to 10 μm. Further, the polishing platen to be used is fixed to a firm base, and tin or 0.1
It is assumed that it is made of an alloy composed of about 40% of different metals. Pb, In, Cu, F
e, Ag, Sb, Zn, Bi and the like. The radius is 3 to 20 mm on the inner and outer sides when the correction ring is placed on the surface plate.
The size that it protrudes is good.

【0029】溝の形成については、修正リングと接触す
る領域で1μm〜10μmの平坦性を有している必要が
ある。ダイヤモンドバイトとしては先端Rが0.05〜
2mmで先端角は30〜75度程度のものが良い。
For the formation of the groove, it is necessary to have a flatness of 1 μm to 10 μm in a region in contact with the repair ring. Tip R is 0.05 ~
It is preferable that the tip angle is 2 mm and the tip angle is about 30 to 75 degrees.

【0030】定盤修正は、修正装置で充分に不要なバリ
・凹凸を除去した後、1μm〜50μm程度のダイヤモ
ンドバイトの送りで切り込みを入れればよい。さらに、
セラミック製の修正リングを用いて、研磨定盤が充分な
平面度を有するまで研磨液を滴下しながら、研磨定盤上
で回転させる。このとき、修正リングは強制的に回転運
動を与えられる機構を有しているものとする。定盤と修
正リングとの回転比は充分安定させることが必要であ
る。研磨液としては界面活性剤を含むダイヤモンドスラ
リーで、平均砥粒径が1/10〜1/2μmのものを用
いる。充分に研磨定盤の平面度が形成されることを確認
して、研磨定盤・修正リングから砥粒の取り除くため、
洗浄する。
The surface plate may be corrected by removing unnecessary burrs and irregularities sufficiently with a correction device, and then cutting the diamond plate with a diamond tool of about 1 μm to 50 μm. further,
Using a ceramic correction ring, the polishing plate is rotated on the polishing plate while dropping the polishing liquid until the polishing plate has sufficient flatness. At this time, it is assumed that the correction ring has a mechanism capable of forcibly applying a rotational movement. It is necessary to sufficiently stabilize the rotation ratio between the platen and the correction ring. As the polishing liquid, a diamond slurry containing a surfactant and having an average abrasive particle diameter of 1/10 to 1/2 μm is used. Confirm that the flatness of the polishing platen is sufficiently formed, and remove abrasive grains from the polishing platen and the correction ring.
Wash.

【0031】さらに図6に示すように支持治具20に磁
気ヘッドを1個もしくは複数個並べるか、あるいは複数
個連なったもの固定する。これを先ほどの砥粒の固定さ
れた研磨定盤18に修正リング19を伴って載せ、1〜
30rpm程度で回転させ、高粘性な界面活性剤を含む
潤滑剤17を滴下しながら、研磨を行う。このとき予め
定盤の研磨能率を調べておき、50〜200nm程度研
磨することで、目的の形状を得る。
Further, as shown in FIG. 6, one or more magnetic heads are arranged on the support jig 20, or a plurality of magnetic heads are fixed. This was placed on a polishing platen 18 on which the abrasive grains were fixed, together with a correction ring 19, and
Polishing is performed while rotating at about 30 rpm and dropping a lubricant 17 containing a highly viscous surfactant. At this time, the polishing efficiency of the surface plate is checked in advance, and the target shape is obtained by polishing about 50 to 200 nm.

【0032】次に、本発明の第2の実施形態を図7を参
照して説明する。
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

【0033】本実施形態では、上記端ダレ幅の調整工程
において、研削による加工法を用いた例について説明す
る。本例では、図7に示すように、切れ刃を揃えた粒度
6000〜20000の微細砥粒砥石21を用い、クー
ラント24で研削液を吹き付けながら、回転軸23に固
定された磁気ヘッド22を加工量50〜200nm程度
で精密研削することにより目的の形状を得る。
In the present embodiment, an example will be described in which the processing method by grinding is used in the step of adjusting the edge sag width. In this example, as shown in FIG. 7, the magnetic head 22 fixed to the rotating shaft 23 is processed while using a fine abrasive whetstone 21 having a particle size of 6000 to 20,000 having uniform cutting edges and spraying a grinding fluid with a coolant 24. The desired shape is obtained by precision grinding with an amount of about 50 to 200 nm.

【0034】本実施形態によれば、端ダレ部分のダレ幅
を精度良く調整することができる。
According to the present embodiment, the sag width of the end sag portion can be adjusted with high accuracy.

【0035】次に、本発明の第3の実施形態を図8を参
照して説明する。
Next, a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

【0036】本実施形態では、上記端ダレ部分の創成工
程において、遊離砥粒と金属定盤とによる加工方法を用
いている。すなわち、端ダレを創成するために、図8に
示すように、錫定盤26の上で0.25μmのダイヤモ
ンド砥粒25を分散させた界面活性剤を滴下しながら、
研磨圧力として4000Paを付加した磁気ヘッド4
を、ダレの必要な端部に対して垂直な方向だけに50m
/minの相対運動をさせながら研磨する。このとき、
ダイヤモンド砥粒25は磁気ヘッド4の端部によって錫
定盤26に埋め込まれながら研磨されるので、端部から
の距離に応じて加工量が変化する。
In this embodiment, in the step of forming the edge sagging portion, a processing method using free abrasive grains and a metal platen is used. That is, in order to create an edge sag, as shown in FIG. 8, while dropping a surfactant in which diamond abrasive grains 25 of 0.25 μm are dispersed on a tin platen 26,
Magnetic head 4 with a polishing pressure of 4000 Pa added
50m only in the direction perpendicular to the required edge of the sag
Polishing is performed with a relative motion of / min. At this time,
Since the diamond abrasive grains 25 are polished while being embedded in the tin platen 26 by the end of the magnetic head 4, the processing amount changes according to the distance from the end.

【0037】本実施形態によれば、錫定盤26の表面部
分の錫の塑性変形により、上記数1であらわされるか、
あるいは、少なくともその一部が近似的に表されるよう
な断面形状を得ることができる。
According to the present embodiment, the plastic deformation of tin on the surface of the tin platen 26 can be expressed as
Alternatively, it is possible to obtain a cross-sectional shape in which at least a part thereof is approximately represented.

【0038】次に、本発明の第4の実施形態を図9を参
照して説明する。
Next, a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

【0039】本実施形態は軟質研磨定盤を用いた加工法
である。本実施形態では、図9に示すように、0.25
μmのダイヤモンド砥粒を分散させたYoung率が0.7
GPa程度の固定砥粒砥石27を作成する。この研磨定
盤は、錫のような金属粉に、ポリビニルアルコール、フ
ェノール樹脂、ポリイミドなどの合成樹脂を25〜35
%混入させ、これを焼成して固めることにより作成され
る。この定盤上で、潤滑剤を滴下しながら研磨圧力とし
て4000Paを付加した磁気ヘッド4を、ダレの必要
な端部に対して垂直な方向だけに50m/minの相対
運動をさせながら研磨する。
This embodiment is a processing method using a soft polishing platen. In the present embodiment, as shown in FIG.
Young's ratio of 0.7 μm dispersed diamond abrasive grains is 0.7
A fixed abrasive grindstone 27 of about GPa is created. This polishing platen is made of a metal powder such as tin and a synthetic resin such as polyvinyl alcohol, phenol resin, polyimide, etc., of 25 to 35.
% By mixing and baking and solidifying it. On this surface plate, the magnetic head 4 to which a polishing pressure of 4000 Pa has been applied while dropping a lubricant is polished while performing a relative movement of 50 m / min only in a direction perpendicular to a required end of the sag.

【0040】本実施形態の方法によれば、砥粒は定盤2
7の弾性によって上下に動くので、磁気ヘッド4の端部
にダレを創成することができる。
According to the method of this embodiment, the abrasive grains are
Since the magnetic head 4 moves up and down due to the elasticity of the magnetic head 7, sagging can be created at the end of the magnetic head 4.

【0041】なお、本実施形態では、Young率が0.7
GPa程度の固定砥粒砥石27を用いた例を示したが、
一般に、Young率が10GPa以下の研磨定盤あるいは
固定砥粒砥石を用いても、本実施形態と類似の効果を得
ることができる。
In this embodiment, the Young rate is 0.7
Although the example using the fixed abrasive grindstone 27 of about GPa was shown,
In general, the same effect as in the present embodiment can be obtained by using a polishing platen having a Young's modulus of 10 GPa or less or a fixed abrasive wheel.

【0042】次に、本発明の第5の実施形態を図10を
参照して説明する。
Next, a fifth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

【0043】本実施形態は多層研磨定盤による加工法を
用いている。本実施形態では、図10に示すように、通
常の金属定盤29をまず平坦にして、この上に液状の合
成樹脂をスピンコート法を用いて厚さ1μm程度の膜2
8を形成する。これを切削によって平坦にし、修正リン
グを用いて平均粒径0.5μmの砥粒を埋め込む。これ
を用いて加工を行うことで、研磨圧により定盤形状が変
形して、磁気ヘッド4に端ダレを創成することができ
る。
In this embodiment, a processing method using a multilayer polishing platen is used. In this embodiment, as shown in FIG. 10, a normal metal platen 29 is first flattened, and a liquid synthetic resin is applied thereon by spin coating to form a film 2 having a thickness of about 1 μm.
8 is formed. This is flattened by cutting, and abrasive grains having an average particle size of 0.5 μm are embedded using a correction ring. By performing processing using this, the shape of the surface plate is deformed by the polishing pressure, and an end sag can be created in the magnetic head 4.

【0044】本実施形態によれば、積層膜28の厚さを
制御することにより、磁気ヘッド4に形成されるダレ形
状を変化させることができる。具体的には、積層膜28
の厚さを厚くすることで、ダレ幅が大きくなり、ダレの
形状曲線の曲率半径が大きくなる。
According to the present embodiment, the sag shape formed on the magnetic head 4 can be changed by controlling the thickness of the laminated film 28. Specifically, the laminated film 28
By increasing the thickness, the sag width increases, and the radius of curvature of the sag shape curve increases.

【0045】なお、本実施形態では砥粒が埋め込まれて
いる積層膜が形成された定盤について述べたが、本発明
では、以下の条件が満足されていれば、積層膜に砥粒が
必ずしも埋め込まれている必要は無い。すなわち本発明
では、通常の定盤上に、それに比べて1GPa以上のYo
ung率の差がある異種材質を複数回積層して構成した定
盤あるいは固定砥粒砥石を用いることが望ましく、この
構成によって、本実施形態と同様な効果を得ることがで
きる。ここで、積層膜の最上層の膜厚は10μm以下で
あることが望ましい。
In this embodiment, the platen on which the laminated film in which the abrasive grains are embedded is described. However, in the present invention, if the following conditions are satisfied, the abrasive is not necessarily included in the laminated film. There is no need to be embedded. That is, in the present invention, Yo on the normal surface plate is 1 GPa or more.
It is desirable to use a surface plate or a fixed abrasive wheel constructed by laminating a plurality of different materials having different ung rates a plurality of times. With this configuration, the same effect as in the present embodiment can be obtained. Here, the thickness of the uppermost layer of the laminated film is desirably 10 μm or less.

【0046】次に、本発明の第6の実施形態を図11を
参照して説明する。
Next, a sixth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

【0047】本実施形態は被研磨体を弾性体で保持する
研磨定盤による加工法である。本実施形態では、図11
に示すように、通常の金属定盤30を用いた機械研磨
で、被研磨体である磁気ヘッド4を保持冶具13で保持
する際に、合成ゴム14を介して保持を行ないながら研
磨を行う。
This embodiment is a processing method using a polishing platen which holds a body to be polished with an elastic body. In the present embodiment, FIG.
As shown in (1), when the magnetic head 4 which is the object to be polished is held by the holding jig 13 by mechanical polishing using the ordinary metal platen 30, the polishing is performed while holding the magnetic head 4 via the synthetic rubber 14.

【0048】本実施形態によれば、定盤法線方向に働く
研磨圧と移動接線方向に働く研磨抵抗力の合力により、
弾性体である合成ゴム14が変形し、磁気ヘッド4の端
部でダレを発生する。これによって例えば図4に示すよ
うな形状を備える磁気ヘッドを製造することができる。
According to the present embodiment, the polishing force acting in the normal direction of the surface plate and the resultant force of the polishing resistance acting in the moving tangential direction,
The synthetic rubber 14 which is an elastic body is deformed, and sag occurs at the end of the magnetic head 4. Thereby, for example, a magnetic head having a shape as shown in FIG. 4 can be manufactured.

【0049】なお、本実施形態では合成ゴム14を用い
た例を示したが、これに限らず他の弾性体から構成され
た部材を用いてももちろん構わない。
In this embodiment, an example using the synthetic rubber 14 has been described. However, the present invention is not limited to this, and a member made of another elastic body may be used.

【0050】次に、本発明の第7の実施形態を図12を
参照して説明する。
Next, a seventh embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

【0051】本実施形態では流体により被研磨体を保持
する研磨定盤を用いている。本実施形態では、図12に
示すように、通常の金属定盤30を用いた機械研磨で、
被研磨体である磁気ヘッド4をテンプレート32によっ
て横ずれしないようにして保持すると共に、このテンプ
レート32に設けられた空気通路31を通過する空気に
よって磁気ヘッド4に研磨圧を加えた状態で研磨を行
う。ここでの空気圧は、ゲージ圧で0.1〜0.5MP
a程度付加する。
In the present embodiment, a polishing platen for holding a body to be polished by a fluid is used. In the present embodiment, as shown in FIG. 12, mechanical polishing using a normal metal platen 30,
The magnetic head 4 to be polished is held by the template 32 so as not to be laterally displaced, and polishing is performed in a state where a polishing pressure is applied to the magnetic head 4 by air passing through the air passage 31 provided in the template 32. . The air pressure here is a gauge pressure of 0.1 to 0.5MP
Add about a.

【0052】本実施形態によれば、研磨時の研磨方向が
変化するとき、被研磨体である磁気ヘッド4が僅かに動
き、端ダレが発生する。これによって、例えば図4に示
すような目的の形状を得ることができる。
According to the present embodiment, when the polishing direction at the time of polishing changes, the magnetic head 4, which is the object to be polished, slightly moves, and end sagging occurs. Thereby, for example, a desired shape as shown in FIG. 4 can be obtained.

【0053】なお、本実施形態では磁気ヘッド4に研磨
圧力を加えるために空気を用いたが、研磨の条件が許せ
ば他の種類のガスや流体などを用いても良い。
Although air is used to apply a polishing pressure to the magnetic head 4 in this embodiment, other types of gases and fluids may be used if polishing conditions permit.

【0054】以上説明したように本発明の各実施形態に
より製造された磁気ヘッドによれば、該磁気ヘッドの信
号検出部であるヘッド素子部と記録媒体である磁気ディ
スクとの距離を低減できるので、記録密度を向上させる
ことが可能となる。また、本発明による磁気ヘッドにお
いては、磁気ディスクに近接している部分がダレ形状に
なっているため、該磁気ヘッドが磁気ディスクに偶発的
に接触したときに磁気ディスク及び磁気ヘッドの損傷を
抑えることができ、さらに、再生信号に接触時の雑音が
入ることを低減できる。また、磁気ヘッドと磁気ディス
クの粘着も発生しにくくなる。
As described above, according to the magnetic head manufactured according to each of the embodiments of the present invention, the distance between the head element unit serving as the signal detecting unit of the magnetic head and the magnetic disk serving as the recording medium can be reduced. Thus, the recording density can be improved. Further, in the magnetic head according to the present invention, since the portion close to the magnetic disk has a sag shape, damage to the magnetic disk and the magnetic head when the magnetic head accidentally contacts the magnetic disk is suppressed. In addition, it is possible to reduce the noise at the time of contact in the reproduction signal. In addition, adhesion between the magnetic head and the magnetic disk hardly occurs.

【0055】[0055]

【発明の効果】本発明によれば、信頼性の低下を招くこ
となく、記録密度の向上を図ることができる磁気ヘッド
及びその製造方法を提供することができる。さらに、本
発明によれば、接触型の磁気ヘッドでは、摺動時に磁気
ディスクを傷つける可能性を小さくすることができる磁
気ヘッドおよびその製造方法を提供することができる。
According to the present invention, it is possible to provide a magnetic head capable of improving the recording density without lowering the reliability and a method of manufacturing the same. Further, according to the present invention, it is possible to provide a magnetic head of a contact type that can reduce the possibility of damaging the magnetic disk during sliding, and a method of manufacturing the same.

【0056】さらに、本発明によれば、磁気ヘッドの素
子部に損傷を与えることなく、磁気ヘッドが動作する状
態での磁気ヘッドの最下端に対して、当該素子の下端部
あるいはその直下の部分を近づけると共に、磁気ディス
クに対して障害を与えないような最下端部分の形状を備
える、磁気ヘッドおよびその製造方法を提供することが
できる。
Further, according to the present invention, the lower end portion of the element or a portion immediately below the lower end portion of the magnetic head in a state where the magnetic head operates without damaging the element portion of the magnetic head. And a method of manufacturing the same, which has a shape of the lowermost end portion that does not impede the magnetic disk.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の対象となる磁気ディスク装置の概略構
成を示す斜視図。
FIG. 1 is a perspective view showing a schematic configuration of a magnetic disk drive to which the present invention is applied.

【図2】浮上型磁気ヘッドの動作時の浮上姿勢を示す説
明図。
FIG. 2 is an explanatory diagram showing a flying attitude during operation of a flying magnetic head.

【図3】接触型磁気ヘッドの動作時の姿勢を示す説明
図。
FIG. 3 is an explanatory view showing a posture of the contact type magnetic head during operation.

【図4】本発明による磁気ヘッドの断面形状を示す説明
図。
FIG. 4 is an explanatory diagram showing a cross-sectional shape of a magnetic head according to the present invention.

【図5】第1の実施形態でのテープ研磨による加工法を
示す説明図。
FIG. 5 is an explanatory view showing a processing method by tape polishing in the first embodiment.

【図6】第1の実施形態での固定砥粒による研磨法を示
す斜視図。
FIG. 6 is a perspective view showing a polishing method using fixed abrasive grains in the first embodiment.

【図7】第2の実施形態での研削による加工法を示す説
明図。
FIG. 7 is an explanatory view showing a processing method by grinding in the second embodiment.

【図8】第3の実施形態での遊離砥粒と金属定盤による
加工法を示す説明図。
FIG. 8 is an explanatory view showing a processing method using free abrasive grains and a metal surface plate in the third embodiment.

【図9】第4の実施形態での軟質研磨定盤による加工法
を示す説明図。
FIG. 9 is an explanatory diagram showing a processing method using a soft polishing surface plate in the fourth embodiment.

【図10】第5の実施形態での多層研磨定盤による加工
法を示す説明図。
FIG. 10 is an explanatory view showing a processing method using a multilayer polishing surface plate according to a fifth embodiment.

【図11】第6の実施形態での弾性体に用いた研磨定盤
による加工法を示す説明図。
FIG. 11 is an explanatory view showing a processing method using a polishing platen used for an elastic body according to a sixth embodiment.

【図12】第7の実施形態での流体による研磨定盤によ
る加工法を示す説明図。
FIG. 12 is an explanatory view showing a processing method using a polishing platen with a fluid in a seventh embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 磁気ヘッド(スライダー)(下側:浮上面) 2 ジンバル 3 磁気ディスク 4 磁気ヘッド(断面) 5 磁気ヘッド素子部 6 浮上量 7 傾き面 8 磁気ディスク(断面) 9 浮上面 10 端ダレ 11 ダレ幅調整用研磨代 12 断面形状の近似曲線 13 保持治具 14 弾性体 15 磁気ヘッドを並べたもの 16 研磨テープ 17 砥粒を含まない潤滑液 18 固定砥粒定盤 19 修正リング 20 磁気ヘッドを固定した研磨治具 21 砥石 22 磁気ヘッド 23 回転軸 24 クーラント 25 埋め込まれる砥粒 26 金属研磨定盤 27 軟質定盤 28,29 ヤング率の異なる材質からなる研磨定盤 30 研磨定盤 31 空気通路 32 テンプレート。 REFERENCE SIGNS LIST 1 magnetic head (slider) (lower side: floating surface) 2 gimbal 3 magnetic disk 4 magnetic head (cross section) 5 magnetic head element part 6 floating amount 7 inclined surface 8 magnetic disk (cross section) 9 floating surface 10 edge sag 11 sagging width Polishing allowance for adjustment 12 Approximate curve of cross-sectional shape 13 Holding jig 14 Elastic body 15 Arrangement of magnetic heads 16 Polishing tape 17 Lubricating liquid not containing abrasive particles 18 Fixed abrasive platen plate 19 Correction ring 20 Fixed magnetic head Polishing jig 21 Grinding stone 22 Magnetic head 23 Rotating shaft 24 Coolant 25 Embedded abrasive 26 Metal polishing platen 27 Soft platen 28, 29 Polishing platen made of materials having different Young's modulus 30 Polishing platen 31 Air passage 32 Template.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 脇 義晴 神奈川県小田原市国府津2880番地 株式会 社日立製作所ストレージシステム事業部内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Yoshiharu Waki 2880 Kozu, Odawara-shi, Kanagawa Storage System Division, Hitachi, Ltd.

Claims (18)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】磁気ディスクの情報の読み取りあるいは書
き込みを行なうための磁気ヘッドの製造方法において、 前記磁気ヘッドが磁気ディスクに対して傾斜して情報の
読み書きを行う姿勢にあるときに、少なくとも前記磁気
ディスクに最も近接する1辺の角部を除去する、端ダレ
部を創成する工程を少なくとも含むことを特徴とする磁
気ヘッドの製造方法。
1. A method of manufacturing a magnetic head for reading or writing information on a magnetic disk, wherein at least the magnetic head is tilted with respect to the magnetic disk when reading or writing information. A method for manufacturing a magnetic head, comprising at least a step of creating an end sag portion for removing a corner of one side closest to a disk.
【請求項2】磁気ディスクの情報の読み書きを行なうた
めの読み取り素子および書き込み素子のうち少なくとも
一方を備えるヘッド素子部を有する磁気ヘッドの製造方
法において、 前記磁気ヘッドが磁気ディスクに対して傾斜しながら浮
上もしくは接触して情報の読み書きを行う姿勢にあると
きに、前記磁気ヘッドの前記磁気ディスクに対向する面
で、前記ヘッド素子部よりも前記磁気ディスクに近接し
て前記磁気ヘッドの最下端に相当する部分が除去される
ように端ダレ部を創成する工程を少なくとも含むことを
特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
2. A method of manufacturing a magnetic head having a head element portion having at least one of a read element and a write element for reading and writing information on a magnetic disk, wherein the magnetic head is tilted with respect to the magnetic disk. When the magnetic head is in a posture of reading and writing information by floating or contacting, the surface of the magnetic head facing the magnetic disk is closer to the magnetic disk than the head element portion and corresponds to the lowermost end of the magnetic head. A method of manufacturing a magnetic head, comprising at least a step of forming an end sag portion so that a portion to be removed is removed.
【請求項3】請求項2において、 前記端だれ部の創成工程の後に、前記磁気ヘッドの前記
磁気ディスクに対向する面を再度平坦に研磨して、前記
端ダレ部の幅を制御する工程をさらに含むことを特徴と
する磁気ヘッドの製造方法。
3. The step of controlling the width of the edge sagging portion according to claim 2, wherein, after the step of forming the edge sagging portion, the surface of the magnetic head facing the magnetic disk is polished again flat to control the width of the edge sagging portion. A method for manufacturing a magnetic head, further comprising:
【請求項4】請求項2または3において、 前記端ダレ部の創成工程で除去された部分には、前記ヘ
ッド素子部の下端が含まれていないことを特徴とする磁
気ヘッドの製造方法。
4. The method of manufacturing a magnetic head according to claim 2, wherein a portion of the end sag portion removed in the step of forming does not include a lower end of the head element portion.
【請求項5】請求項2または3において、 前記端ダレ部の形状は、前記磁気ディスクとの相対運動
方向に平行でかつ前記磁気ディスクの回転面に垂直な面
により、前記ヘッド素子部を通るように切断された前記
磁気ヘッドの断面上で、定数A、B、Cを用いて少なく
とも近似的に、 y=f(x)=A+B・EXP(−C・x) によって表されることを特徴とする磁気ヘッドの製造方
法。
5. The end sag portion according to claim 2, wherein the shape of the end sag portion passes through the head element portion by a surface parallel to a direction of relative movement with the magnetic disk and perpendicular to a rotation surface of the magnetic disk. On the cross section of the magnetic head cut as described above, y = f (x) = A + B · EXP (−C · x) at least approximately using constants A, B, and C. A method of manufacturing a magnetic head.
【請求項6】請求項2または3において、 前記端だれ部の形状は、前記磁気ディスクとの相対運動
方向に平行でかつ前記磁気ディスクの回転面に垂直な面
により、前記ヘッド素子部を通るように切断された前記
磁気ヘッドの断面上で、定数A、B、Cを用いて少なく
とも近似的に、 y=f(x)=A+B・EXP(−C・x2) によって表されることを特徴とする磁気ヘッドの製造方
法。
6. The head element portion according to claim 2, wherein a shape of the end drooping portion passes through the head element portion by a surface parallel to a direction of relative movement with the magnetic disk and perpendicular to a rotation surface of the magnetic disk. At least approximately using the constants A, B, and C on the section of the magnetic head cut as described above, y = f (x) = A + B.EXP (-C.x 2 ). A method for manufacturing a magnetic head.
【請求項7】請求項1または2において、 前記端ダレ部を創成する工程を、テープ研磨で行うこと
を特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
7. The method for manufacturing a magnetic head according to claim 1, wherein the step of forming the end sag portion is performed by tape polishing.
【請求項8】請求項3において、 前記端ダレ部の幅を制御する工程を、遊離砥粒と金属定
盤によるラップで行うことを特徴とする磁気ヘッドの製
造方法。
8. The method of manufacturing a magnetic head according to claim 3, wherein the step of controlling the width of the edge sag is performed by lapping with loose abrasive grains and a metal platen.
【請求項9】請求項1または2において、 前記端ダレ部を創成する工程を、前記磁気ヘッドを被研
磨体として、その被研磨体が僅かに揺動可能であるよう
に保持した状態での機械研磨により行うことを特徴とす
る磁気ヘッドの製造方法。
9. The method according to claim 1, wherein the step of forming the end sag portion is performed in a state in which the magnetic head is used as an object to be polished and the object to be polished is held so as to be able to swing slightly. A method for manufacturing a magnetic head, which is performed by mechanical polishing.
【請求項10】請求項9において、 前記機械研磨の際には、前記磁気ヘッドが弾性体を介し
て保持されることを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
10. The method of manufacturing a magnetic head according to claim 9, wherein the magnetic head is held via an elastic body during the mechanical polishing.
【請求項11】請求項9において、 前記機械研磨の際には、流体の圧力によって前記磁気ヘ
ッドに研磨圧を加えることを特徴とする磁気ヘッドの製
造方法。
11. The method for manufacturing a magnetic head according to claim 9, wherein a polishing pressure is applied to the magnetic head by a pressure of a fluid during the mechanical polishing.
【請求項12】請求項1または2において、 前記端ダレ部を創成する工程を、Young率が10GPa
以下である研磨定盤および固定砥粒砥石のいずれかを用
いて研磨することにより行うことを特徴とする磁気ヘッ
ドの製造方法。
12. The method according to claim 1, wherein the step of forming the edge sag portion is performed at a Young's modulus of 10 GPa.
A method for producing a magnetic head, wherein the polishing is performed by using one of a polishing platen and a fixed abrasive wheel described below.
【請求項13】請求項1または2において、 前記端ダレ部を創成する工程を、研磨定盤または固定砥
粒砥石の表面に、それとYoung率の差が1GPa以上で
ある異種材質を複数回積層したものを用いて研磨するこ
とにより行うことを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
13. The method according to claim 1, wherein the step of forming the edge sag portion comprises laminating a plurality of different materials having a Young's modulus difference of 1 GPa or more on the surface of a polishing platen or a fixed abrasive wheel. A method for manufacturing a magnetic head, wherein the method is polished by using the obtained material.
【請求項14】請求項13において、 研磨定盤または固定砥粒砥石の表面に形成された積層膜
の最上層の厚さが10μm以下であることを特徴とする
磁気ヘッドの製造方法。
14. The method according to claim 13, wherein the thickness of the uppermost layer of the laminated film formed on the surface of the polishing platen or the fixed abrasive grindstone is 10 μm or less.
【請求項15】請求項1〜14のいずれかの製造方法で
製造されたことを特徴とする磁気ヘッド。
15. A magnetic head manufactured by the manufacturing method according to claim 1.
【請求項16】磁気ディスクの情報の読み取りあるいは
書き込みを行なうための磁気ヘッドにおいて、 前記磁気ヘッドが磁気ディスクに対して傾斜して情報の
読み書きを行う姿勢にあるときに、前記磁気ディスクに
最も近接する1辺の角部が除去された端ダレ部を備える
ことを特徴とする磁気ヘッド。
16. A magnetic head for reading or writing information on a magnetic disk, the magnetic head being closest to the magnetic disk when the magnetic head is inclined with respect to the magnetic disk to read and write information. A magnetic head comprising: an end sag portion in which one side corner is removed.
【請求項17】磁気ディスクの情報の読み書きを行なう
ための読み取り素子および書き込み素子のうち少なくと
も一方を備えるヘッド素子部を有する磁気ヘッドにおい
て、 前記磁気ヘッドが磁気ディスクに対して傾斜しながら浮
上もしくは接触して情報の読み書きを行う姿勢にあると
きに、前記磁気ヘッドの前記磁気ディスクに対向する面
で、前記ヘッド素子部よりも前記磁気ディスクに近接し
て前記磁気ヘッドの最下端に相当する部分が除去された
端ダレ部を備えることを特徴とする磁気ヘッド。
17. A magnetic head having a head element portion provided with at least one of a read element and a write element for reading and writing information on a magnetic disk, wherein the magnetic head floats or contacts while tilting with respect to the magnetic disk. When reading and writing information, the surface of the magnetic head facing the magnetic disk has a portion corresponding to the lowermost end of the magnetic head closer to the magnetic disk than the head element portion. A magnetic head comprising a removed end sag portion.
【請求項18】回転する円盤状の磁気ディスクの情報の
読み書きを行なうためのヘッド素子部を備える磁気ヘッ
ドと、前記磁気ヘッドを前記磁気ディスクに対して傾斜
しながら浮上もしくは接触して情報の読み書きを行う姿
勢に保持するためのジンバル機構とを備える磁気ディス
ク装置において、 前記磁気ヘッドは請求項1〜14のいずれかの製造方法
で製造されたものであり、 前記ジンバル機構は、前記磁気ヘッドの端ダレ部が、当
該磁気ヘッド全体中の最下端に位置するように保持する
ことが可能であることを特徴とする磁気ディスク装置。
18. A magnetic head having a head element section for reading and writing information on a rotating disk-shaped magnetic disk, and reading and writing information by floating or contacting the magnetic head while inclining with respect to the magnetic disk. And a gimbal mechanism for holding the gimbal mechanism in a position where the magnetic head is manufactured. The magnetic head is manufactured by the manufacturing method according to any one of claims 1 to 14, wherein the gimbal mechanism includes a gimbal mechanism of the magnetic head. A magnetic disk drive characterized in that the end sag portion can be held so as to be located at the lowermost end of the entire magnetic head.
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JP (1) JPH1049822A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7738216B2 (en) 2005-07-26 2010-06-15 Tdk Corporation Thin film magnetic head having a thermal plastic deformation portion and manufacturing the same

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US7738216B2 (en) 2005-07-26 2010-06-15 Tdk Corporation Thin film magnetic head having a thermal plastic deformation portion and manufacturing the same

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