JPH1048646A - Liquid crystal display device - Google Patents

Liquid crystal display device

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JPH1048646A
JPH1048646A JP11861097A JP11861097A JPH1048646A JP H1048646 A JPH1048646 A JP H1048646A JP 11861097 A JP11861097 A JP 11861097A JP 11861097 A JP11861097 A JP 11861097A JP H1048646 A JPH1048646 A JP H1048646A
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Japan
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electrode
liquid crystal
display device
crystal display
conductive film
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Shunpei Yamazaki
舜平 山崎
Akira Mase
晃 間瀬
Hiroyuki Sakayori
寛幸 坂寄
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Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal display device unnecessary for precisely positioning between two substrates by constituting so as not to display on at least one among plural conductive thin films formed in the X direction or Y direction. SOLUTION: An electrode/lead group of a translucent conductive film in an X direction and an electrode/lead group of the translucent conductive film in the Y direction are formed on a whole surface excepting a peripheral part. That is, the translucent conductive film is formed on a whole surface excepting the peripheral part on a substrate 1. Further, linear patterning is performed using excimer laser light 18. Further, by this patterning, one side electrode/lead group is arranged in the X direction, and the other side electrode/lead group is arranged in the Y direction. Thereafter, resin seal is performed so as to make the peripheral part a prescribed electrode interval while using a spacer. This resin for excepting an area of a liquid crystal and fixing a vertical electrode interval is sealed so as to cover too a part of the electrode/lead in the X direction or Y direction.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置およ
び液晶表示装置の作製方法に関するものである。特に、
本発明は、マイクロコンピュ−タ、ワ−ドプロセッサ、
またはテレビ等の電子機器に使用される表示部の薄型化
を図る単純マトリックス方式の液晶表示装置および液晶
表示装置の作製方法に関するものである。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a liquid crystal display device and a method for manufacturing the liquid crystal display device. Especially,
The present invention relates to a microcomputer, a word processor,
Alternatively, the present invention relates to a simple matrix type liquid crystal display device for reducing the thickness of a display portion used in an electronic device such as a television and a method for manufacturing the liquid crystal display device.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の液晶表示装置は、二つの透明基板
の内側に、それぞれ透明導電膜、配向膜が設けられ、こ
れらの間に液晶が充填されている。そして、透明導電膜
からなる二つの電極間には、電圧が印加される。この時
の「電圧の有無」または「電圧の向き」は、液晶を透明
あるいは不透明に制御して、液晶表示装置に文字、グラ
フまたは絵を表示している。この単純マトリックス方式
の液晶表示装置において、X方向の電極・リード群およ
びY方向の電極・リード群は、共にフォトマスク、フォ
トレジストを用いたフォトエッチングの工程を用いて作
製されている。このため、単純マトリックス方式という
きわめて単純な電極・リード群であっても、きわめて精
密なフォトエッチングプロセスを用いていた。
2. Description of the Related Art In a conventional liquid crystal display device, a transparent conductive film and an alignment film are provided inside two transparent substrates, respectively, and a liquid crystal is filled between them. Then, a voltage is applied between the two electrodes made of the transparent conductive film. At this time, “voltage presence” or “voltage direction” controls the liquid crystal to be transparent or opaque, and displays characters, graphs, or pictures on the liquid crystal display device. In this simple matrix type liquid crystal display device, the electrode / lead group in the X direction and the electrode / lead group in the Y direction are both manufactured using a photomask and a photoetching process using a photoresist. For this reason, an extremely precise photo-etching process has been used even for a very simple electrode / lead group of a simple matrix type.

【0003】このため、単純マトリックス方式における
電極・リードの作製は、多くの工程を必要とし、その結
果として、パネル全体の価格上昇が避けられなかった。
他方、本出願人は、この単純マトリックス方式によっ
て、液晶表示装置を作製するに際し、基板上の周辺部を
除き、全面に極細(10 μm〜100 μm)の幅の線状のレ
−ザ光を照射して、この照射された部分のみを選択的に
除去し、残された部分を電極・リードとしていた。この
単純マトリックス方式を用いるならば、基板上に周辺部
を除き、全面に形成された透光性導電膜に対し、フォト
レジストのコ−ト工程、プリベ−ク工程、露光工程、現
像工程、ポストベ−ク工程、透光性導電膜のエッチング
工程、レジストの剥離工程を経ることなくパタ−ニング
することが可能となる。
For this reason, the fabrication of the electrodes and leads in the simple matrix system requires many steps, and as a result, an increase in the price of the entire panel is inevitable.
On the other hand, when manufacturing a liquid crystal display device by the simple matrix method, the present applicant applies a line-shaped laser beam having a very fine width (10 μm to 100 μm) to the entire surface except for the peripheral portion on the substrate. Irradiation was performed to selectively remove only the irradiated portion, and the remaining portion was used as an electrode / lead. If this simple matrix method is used, a photoresist coating process, a pre-baking process, an exposure process, a developing process, and a post-baking process are performed on the light-transmitting conductive film formed on the entire surface except for the peripheral portion on the substrate. Patterning can be performed without going through a step of etching, a step of etching a light-transmitting conductive film, and a step of removing a resist.

【0004】また、従来方式において、X方向の透光性
導電膜の電極・リード群と、他方のY方向の透光性導電
膜の電極・リード群との位置合わせは、基板と周辺回路
とのフレキシブルコネクタによる連結の際に、きわめて
精密に実行することが必要とされていた。このため、図
1における符号(9) に示す如く、パネルの周辺部におい
て、パネルの封止用樹脂に接触することなく電極・リー
ドを配設することが重要であった。
In the conventional method, the alignment between the electrode / lead group of the light-transmitting conductive film in the X direction and the electrode / lead group of the other light-transmitting conductive film in the Y direction is performed by positioning the substrate with the peripheral circuit. In connection with the flexible connector of the above, it was required to perform extremely precisely. For this reason, as shown by reference numeral (9) in FIG. 1, it is important to dispose electrodes and leads at the peripheral portion of the panel without contacting the sealing resin of the panel.

【0005】図1は従来の液晶表示装置を説明するため
の縦断面図である。図1において、液晶表示用の二つの
透明基板(1) 、(1')の周辺部には、液晶が外部にもれな
いような樹脂部材によって樹脂とスペーサとを混合した
シール材(6) が設けられ、二つの基板間を一定に保って
いる。かつ、この樹脂とスペーサとを混合したシール材
(6) は、電極・リード(2) 、(2')に決して触れることが
ないように注意が払われている。もし、この電極の一部
が樹脂とスペーサとを混合したシール材(6) によって覆
われると、その部分には、液晶(5) が充填されず、表示
不可能領域が形成される。このため、電極・リード(2)
、(2')の端部と、樹脂とスペーサとを混合したシール
材(6) との端部の間隙(9) は、3mm〜5mmもあけて
おくことが一般的である。
FIG. 1 is a longitudinal sectional view for explaining a conventional liquid crystal display device. In FIG. 1, a sealing material (6) in which a resin and a spacer are mixed with a resin member so that liquid crystal does not leak outside is provided around two transparent substrates (1) and (1 ') for liquid crystal display. Is provided to keep the distance between the two substrates constant. And a sealing material in which this resin and a spacer are mixed.
In (6), care is taken to never touch the electrodes / leads (2) and (2 '). If a part of the electrode is covered with a sealing material (6) in which a resin and a spacer are mixed, the part is not filled with the liquid crystal (5), and a non-displayable area is formed. For this reason, electrodes and leads (2)
, (2 ′) and a sealing material (6) obtained by mixing a resin and a spacer, the gap (9) between the ends is generally 3 to 5 mm.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記間隙は、
製造プロセスにおけるマージンとしてとらえられ、本来
表示部をより大きくするために、全く不要なものであっ
た。加えて、電極・リードと周辺回路用のプリント配線
基板(PCB)との連結は、これまできわめて精密な貼
り合わせによる電気的接合が必要であった。しかし、精
密な配線群は、それぞれのリードが数百μm間隔に精密
に配設され、かつそれぞれが液晶表示パネルの電極・リ
ードと一対一の対応をして連結される。加えて、電気的
分離領域において、それぞれの電極・リードは、隣の電
極・リードとの電気的ショ−トを防ぐために、精密なパ
タ−ンを互いに位置合わせする必要がある。このような
高度な技術は、製造歩留まりの低下および製造価格の上
昇を誘発してしまった。
However, the above gap is
It was regarded as a margin in the manufacturing process, and was originally unnecessary at all to make the display portion larger. In addition, the connection between the electrode / lead and the printed circuit board (PCB) for the peripheral circuit has heretofore required extremely precise electrical bonding by bonding. However, in the precise wiring group, the leads are precisely arranged at intervals of several hundreds of μm, and each is connected to the electrode / lead of the liquid crystal display panel in a one-to-one correspondence. In addition, in the electrical isolation region, each electrode lead must have precise patterns aligned with each other to prevent electrical shorts with adjacent electrode leads. Such advanced technologies have led to lower manufacturing yields and higher manufacturing prices.

【0007】本発明は、以上のような課題を解決するた
めのもので、基板上に形成されたストライブ状導電性薄
膜の一部を樹脂とスペーサとを混合したシール材で覆う
ことにより、二つの基板の位置合わせを精密に行わずに
済む液晶表示装置および液晶表示装置の作製方法を提供
することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and a part of a stripe-shaped conductive thin film formed on a substrate is covered with a sealing material in which a resin and a spacer are mixed. An object of the present invention is to provide a liquid crystal display device and a method for manufacturing the liquid crystal display device, which do not require precise alignment of two substrates.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、本発明の液晶表示装置は、第1の基板上にX方向に
ストライブ状に形成された複数の導電性薄膜と、第2の
基板上にY方向にストライブ状に形成された複数の導電
性薄膜と、前記X方向の導電性薄膜と前記Y方向の導電
性薄膜との間に設けられた液晶とからなり、前記X方向
またはY方向に形成された複数の導電性薄膜のうちの少
なくとも一つは表示にしないことを特徴とする。
In order to achieve the above object, a liquid crystal display device according to the present invention comprises a plurality of conductive thin films formed on a first substrate in the form of stripes in the X direction; A plurality of conductive thin films formed in a stripe shape in the Y direction on the substrate, and a liquid crystal provided between the conductive thin film in the X direction and the conductive thin film in the Y direction. At least one of the plurality of conductive thin films formed in the direction or the Y direction is not displayed.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】本発明は、これらの上下のパネル
を精密にマスク合わせするのではなく、まったく盲目的
に行うものである。このため、X方向の透光性導電膜の
電極・リード群と、Y方向の透光性導電膜の電極・リー
ド群は、周辺部(透光性導電膜の被膜作製の際、反対面
および側周辺に導電膜材料がまわりこむことを防ぐ意味
での周辺部)を除く全面に形成されている。すなわち、
まず、基板上の周辺部を除く全面に透明導電膜を形成す
る。さらに、実施例に従いエキシマレ−ザ光を用い、線
状のパターニングを行う。さらに、このパターニングに
より、一方の電極・リード群は、X方向に、また、他方
の電極・リード群は、Y方向に配設される。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention does not precisely align these upper and lower panels with a mask, but performs it completely blindly. For this reason, the electrode / lead group of the light-transmitting conductive film in the X direction and the electrode / lead group of the light-transmitting conductive film in the Y direction are in the peripheral portion (the opposite surface and The conductive film material is formed on the entire surface except for the peripheral portion in the sense of preventing the conductive material from flowing around the side. That is,
First, a transparent conductive film is formed on the entire surface except the peripheral portion on the substrate. Further, linear patterning is performed using excimer laser light according to the embodiment. Further, by this patterning, one electrode / lead group is provided in the X direction, and the other electrode / lead group is provided in the Y direction.

【0010】この後、スペーサを用いつつ、周辺部を所
定の電極間隔とするように樹脂封止を行う。この液晶の
領域を除き、かつ上下の電極間隔を一定にするための樹
脂は、図4に示す如く、X方向またはY方向の電極・リ
ード部の周辺部に位置する電極・リードの一部をも覆う
ように封止をさせる。このことにより、本発明において
は、二つのパネルの精密な位置合わせをまったく必要と
しない。ただ、二つのパネルを貼り合わせた後、再び剥
離しない程度に十分な強度を有せしめることが重要であ
る。
Thereafter, resin sealing is performed while using a spacer so that the peripheral portion has a predetermined electrode interval. As shown in FIG. 4, the resin for excluding the liquid crystal region and for keeping the upper and lower electrode intervals constant applies a part of the electrodes and leads located in the periphery of the electrodes and leads in the X direction or the Y direction. Is also sealed. This eliminates the need for precise alignment of the two panels in the present invention. However, it is important that the two panels have sufficient strength so that they do not peel off again after being bonded.

【0011】この単純マトリックス方式において、外部
回路との連結用のフレキシブル配線は、さらに、その内
側のX方向の電極・リード群(図4(C) では(30') に対
応)、またはY方向の電極・リード群(図4(C) では(3
1') に対応) と連結すればよい。かくすることにより、
単純マトリックス方式の電極群を作るに際し、フォトエ
ッチング工程は、必要としなくなった。また、上下のパ
ネルの貼り合わせの際に、精密な位置合わせが不要とな
った。
In this simple matrix system, the flexible wiring for connection to an external circuit is further provided with an X-direction electrode / lead group (corresponding to (30 ') in FIG. 4C) or a Y-direction. Electrode and lead group (Fig. 4 (C) shows (3
1 ')). By doing so,
A photo-etching step is no longer required to produce a simple matrix type electrode group. In addition, when the upper and lower panels are bonded, precise positioning is not required.

【0012】さらに、周辺回路構成用のプリント配線基
板(PCB)とフレキシブル配線との連結は、精密な位
置合わせが不要になった。これらにより、これまで大型
化に最も重要な信頼性低下の原因であった外部回路と液
晶表示装置との連結部における信頼性の低下を完全に防
ぐことができるようになった。
Furthermore, the connection between the printed circuit board (PCB) for the peripheral circuit configuration and the flexible wiring eliminates the need for precise alignment. As a result, it has become possible to completely prevent a decrease in reliability at a connection portion between the external circuit and the liquid crystal display device, which has been the most important cause of the decrease in reliability up to now.

【0013】[0013]

【実 施 例】以下、実施例に従い、本発明を説明す
る。 実施例1 図2は本発明の液晶表示装置の作製に必要な透明導電膜
のパターニングをレジストレスであって、かつフォトマ
スクを用いることにより実施したものを説明するための
図である。図2において、光学系は、エキシマレーザを
用いた本発明のレーザ加工が示されている。エキシマレ
ーザ(17)は、波長248 nm、Eg=5.0 eVを用いた。
すると、初期の光ビーム(18)は、16mm×20mmを有
し、効率3%であるため、350 mJを有する。さらに、
この光ビーム(18)は、ビームエキスパンダ(16)にて、長
面積化または大面積化され、すなわち、16mm×300 m
mに拡大された( 図2(11)) 。
EXAMPLES The present invention will be described below with reference to examples. Example 1 FIG. 2 is a view for explaining an example in which patterning of a transparent conductive film required for manufacturing a liquid crystal display device of the present invention is performed without using a resist and using a photomask. FIG. 2 shows the laser processing of the present invention using an excimer laser for the optical system. The excimer laser (17) used a wavelength of 248 nm and Eg = 5.0 eV.
Then, the initial light beam (18) has a size of 16 mm × 20 mm and has an efficiency of 3%, and thus has 350 mJ. further,
This light beam (18) is expanded or expanded in area by a beam expander (16), that is, 16 mm × 300 m
m (Fig. 2 (11)).

【0014】この装置に5.6 ×10-2mJ/mm2 をエネ
ルギー密度で得た。さらに、合成石英製のシリンドリカ
ルレンズ(14)で加工面での開溝幅がマスクを用いない場
合、100 μmとなるべく集光(12-1)した。マスクは、石
英板(13)を用いた。このマスクの下側には、クロム、Mo
Si2 等の耐熱性遮光材(13') が選択的に設けられ、マス
クを構成している。ここで、集光(12-1)より選択的に一
部の光ビーム(12-2)が選択され、選択された光ビーム
は、被加工面(2) に照射される。
In this apparatus, 5.6 × 10 -2 mJ / mm 2 was obtained at an energy density. Furthermore, when a synthetic quartz cylindrical lens (14) was used and the groove width on the processing surface was not using a mask, the light was condensed (12-1) so as to be 100 μm. A quartz plate (13) was used as a mask. Chrome, Mo
Si 2 such as heat-shielding material (13 ') is selectively provided, constitutes a mask. Here, a part of the light beam (12-2) is selectively selected from the light condensing (12-1), and the selected light beam is applied to the surface to be processed (2).

【0015】かくして、長さ30cm、幅20μmのスリット
状の光ビーム(12-2)は、基板(1) 上の被加工物(2) に線
状に照射されて、開溝(8) が形成される。被加工面とし
て、ガラス上の透明導電膜(Eg=3.5eV)を有す
る基板(1) に対し、エキシマレーザ(Questec Inc. 製)
が用いられた。パルス光は、KrF 248 nmとした。光学
的エネルギバンドー幅は、5.0 eVであるため、パルス
光が十分に吸収された。これは、パルス光が透明導電膜
のみを選択的に加工し得るからである。
Thus, the slit-shaped light beam (12-2) having a length of 30 cm and a width of 20 μm is linearly irradiated on the workpiece (2) on the substrate (1), and the groove (8) is formed. It is formed. A substrate (1) having a transparent conductive film (Eg = 3.5 eV) on glass as a surface to be processed was subjected to an excimer laser (manufactured by Questec Inc.).
Was used. The pulse light was KrF at 248 nm. Since the optical energy bandwidth was 5.0 eV, the pulsed light was sufficiently absorbed. This is because pulsed light can selectively process only the transparent conductive film.

【0016】パルス幅は、20n秒、繰り返し周波数1H
z〜100 Hz、たとえば、10Hz、また、被加工物は、
ガラス基板上の透光性導電膜(CTF )である酸化スズ(S
nO2)を用いた。この被膜に加工を行うと、一回のみの線
状のパルス光の照射で開溝(8) が完全に白濁化され、透
光性導電膜(CTF )が微粉末になった。これをアセトン
水溶液にて、超音波洗浄 (周波数29KHz)約1分〜10
分行い、この透光性導電膜(CTF )を除去した。下地の
ソーダガラスは、まったく損傷を受けていなかった。
The pulse width is 20 ns and the repetition frequency is 1 H
z to 100 Hz, for example, 10 Hz, and the workpiece is
Tin oxide (STF), a transparent conductive film (CTF) on a glass substrate
nO 2) was used. When this coating was processed, the groove (8) was completely opaque by the irradiation of the linear pulse light only once, and the light-transmitting conductive film (CTF) became fine powder. This is ultrasonically cleaned with an aqueous acetone solution (frequency 29 KHz) for about 1 minute to 10 minutes.
Then, the light-transmitting conductive film (CTF) was removed. The underlying soda glass was not damaged at all.

【0017】図3は図2におけるレーザビーム光の状態
を説明するための図である。すなわち、レーザ光より照
射された状態は、図3(A)に示す矩形(18)となる。こ
れがエキスパンダにて長さ方向に拡大(11)され、図3
(B)に示すような長い矩形を得る。さらに、フォトマ
スクによりレーザ光は、その一部周辺(12-1)が除去さ
れ、極細の開溝(12-2)が図3に示されているように形成
される。ビーム光幅(12-1)は、100 μmとし、マスクで
一部が遮光されたビームの幅(12-2)は、20μmとした。
FIG. 3 is a diagram for explaining the state of the laser beam light in FIG. That is, the state irradiated with the laser light is a rectangle (18) shown in FIG. This is enlarged (11) in the length direction by an expander, and FIG.
Obtain a long rectangle as shown in FIG. Further, the laser light is partially removed from the periphery (12-1) of the laser light by the photomask, and an extremely fine groove (12-2) is formed as shown in FIG. The beam light width (12-1) was 100 μm, and the width (12-2) of the beam partially shielded by the mask was 20 μm.

【0018】この時、単純に中央部のみマスクで選択す
ると図3(C-1) を得る。また、端部を太くすると図3(C
-2) を得る。この図面において、端部には、マスクがな
い場合である。端部を太くしつつも、この太さ、形状を
マスクで規定すると、図3(C-3) となる。図3(C-3)
は、図3(C-1) 、(C-2) に比べわかりやすくするため、
図面を拡大してある。この作業を繰り返すことにより、
図4(A-1) 、(A-2) に示された単純マトリックス方式の
電極・リード群を得ることができる。
At this time, FIG. 3C-1 is obtained by simply selecting only the central portion with a mask. In addition, when the end is thickened, FIG.
-2) is obtained. In this drawing, there is no mask at the end. FIG. 3 (C-3) shows that the thickness and the shape are defined by the mask while the end is made thicker. Fig. 3 (C-3)
Is easier to understand than Figures 3 (C-1) and (C-2)
The drawing is enlarged. By repeating this work,
The simple matrix type electrode / lead group shown in FIGS. 4 (A-1) and 4 (A-2) can be obtained.

【0019】実施例2 図4は実施例1により得られた透明導電膜を用いた電極
・リード群により液晶表示装置を作った例を説明するた
めの図である。図4(A-1) 、(A-2) は、一対のガラス基
板(1) 、(1')を有する。その内側にX方向の電極・リー
ド(2')およびY方向の電極・リード(2')を有する。この
一対のパネルを一定の間隔とし、周辺部は、樹脂とスペ
ーサとを混合したシール材(6) により封止される。この
樹脂とスペーサとを混合したシール材(6)は、ガラス基
板(1) 、(1')の周辺のみではなく、一部の電極上面(30-
1)、 (30-2) 上をも覆っており、それぞれのガラス基板
(1) 、(1')を近接固定せしめている。
Embodiment 2 FIG. 4 is a view for explaining an example in which a liquid crystal display device is manufactured by using an electrode / lead group using the transparent conductive film obtained in Embodiment 1. FIGS. 4A-1 and 4A-2 have a pair of glass substrates (1) and (1 '). It has an X-direction electrode / lead (2 ') and a Y-direction electrode / lead (2') inside. The pair of panels is set at a constant interval, and the peripheral portion is sealed with a sealing material (6) in which a resin and a spacer are mixed. The sealing material (6) in which the resin and the spacer are mixed is used not only in the vicinity of the glass substrates (1) and (1 ') but also in the upper surfaces of some of the electrodes (30-
1), (30-2)
(1) and (1 ') are fixed close to each other.

【0020】図4において、樹脂とスペーサとを混合し
たシール材(6) は、Y方向の電極・リードにおける端部
のすべてである符号(30-1)の部分を覆っている。この状
態を表す平面図は、図4(C)として示されている。図
4から明らかな如く、ここではY方向の電極・リード(3
0-3)、およびX方向の電極・リード(31-3)は、マージン
をとるため使用しない。表示に直接用いる電極・リード
は、符号(30') 、(31') によって示された領域である。
すなわち、この領域の電極・リードと周辺回路が設けら
れたプリント配線基板(PCB)とは、図示されていな
いフレキシブル配線で連結させた。この配線の合わせ精
度の誤差により、未使用の電極・リードを一つ(30-3)、
(31-3)有するが、これはない場合または二つまたはそれ
以上生ずる場合もあり得る。
In FIG. 4, a sealing material (6) in which a resin and a spacer are mixed covers a part (30-1), which is the entire end of the electrode / lead in the Y direction. FIG. 4C is a plan view showing this state. As is clear from FIG. 4, here, the electrodes and leads (3
0-3) and the electrodes / leads (31-3) in the X direction are not used to secure a margin. The electrodes and leads used directly for display are the areas indicated by reference numerals (30 ') and (31').
That is, the electrodes and leads in this area were connected to a printed wiring board (PCB) provided with peripheral circuits by a flexible wiring (not shown). Due to the error in the wiring alignment accuracy, one unused electrode / lead (30-3)
(31-3) Yes, but this can be absent or two or more.

【0021】[0021]

【発明の効果】本発明によれば、以上説明したように、
透明基板上に形成された透明導電膜のパターニングをレ
ジストレスプロセスを用い、エキシマレーザ光による線
スクライブプロセスにより実施した。このため、透光性
基板上に形成された導電膜のパターニングが廉価とな
る。しかし、この工程で欠点とされている任意形状を有
せしめ得ないことに関しては、本発明の目的の単純マト
リックス方式の液晶表示装置において、何ら欠点となら
ないことも判明した。また、実施例1で説明したよう
に、周辺部の一部の電極・リードを周辺部の樹脂封止材
により覆って実施させた。このため、二つのパネルの位
置合わせを精密に行うことを不要とさせた。
According to the present invention, as described above,
Patterning of the transparent conductive film formed on the transparent substrate was performed by a line scribe process using excimer laser light using a resistless process. Therefore, the patterning of the conductive film formed on the translucent substrate is inexpensive. However, it was also found that the simple matrix type liquid crystal display device of the present invention does not cause any disadvantage as to the inability to have an arbitrary shape which is regarded as a disadvantage in this step. Further, as described in the first embodiment, a part of the electrodes and leads in the peripheral portion was covered with the resin sealing material in the peripheral portion, and the operation was performed. This eliminates the need for precise alignment of the two panels.

【0022】本発明によれば、この有効なX方向、Y方
向に単純マトリックス化させた電極・リード表示と外部
回路による連結も精密に位置合わせを行う必要がなかっ
た。もちろん、集積回路(IC)をこの透明基板の周辺部
にオンチップ化( チップのまま装着)することにより低
価格化を図ることに有効である。
According to the present invention, it is not necessary to precisely align the effective electrode and lead display formed in a simple matrix in the X and Y directions with an external circuit. Of course, it is effective to reduce the cost by mounting an integrated circuit (IC) on-chip (attached as a chip) around the transparent substrate.

【0023】本発明によれば、一対の電極・リードまた
は透過型の液晶表示装置において、双方を透光性とする
ことが有効であった。他方、反射型の表示装置におい
て、その反射面を一方の液晶に密接した電極・リードと
することも可能である。かかる場合、偏光板も一枚でよ
く、低価格化が可能であり、この場合、電極・リード
は、一方は透光性導電膜よりなり、他方は反射性の金属
により設けることが好ましい。本発明の液晶表示装置に
おいて、一対の電極間に、配向膜、液晶が充填され、ま
た必要に応じカラーフィルタを内臓させ得る。
According to the present invention, in a pair of electrodes / leads or a transmissive liquid crystal display device, it is effective to make both of them translucent. On the other hand, in a reflection type display device, the reflection surface can be an electrode / lead closely contacting one liquid crystal. In such a case, only one polarizing plate may be used, and the cost can be reduced. In this case, it is preferable that one of the electrodes and leads is formed of a light-transmitting conductive film and the other is formed of a reflective metal. In the liquid crystal display device of the present invention, an alignment film and a liquid crystal are filled between a pair of electrodes, and a color filter can be incorporated as needed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】従来の液晶表示装置を説明するための縦断面図
である。
FIG. 1 is a longitudinal sectional view for explaining a conventional liquid crystal display device.

【図2】本発明の液晶表示装置の作製に必要な透明導電
膜のパターニングをレジストレスであって、かつフォト
マスクを用いることにより実施したものを説明するため
の図である。
FIG. 2 is a view for explaining a patterning of a transparent conductive film necessary for manufacturing the liquid crystal display device of the present invention, which is performed without using a resist and using a photomask.

【図3】図2におけるレーザビーム光の状態を説明する
ための図である。
FIG. 3 is a diagram for explaining a state of laser beam light in FIG. 2;

【図4】実施例1により得られた透明導電膜を用いた電
極・リード群により液晶表示装置を作った例を説明する
ための図である。
FIG. 4 is a diagram for explaining an example in which a liquid crystal display device is formed by an electrode / lead group using a transparent conductive film obtained in Example 1.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1、1′・・・ガラス基板 2、2′・・・電極・リード 5・・・液晶 6・・・樹脂とスペーサとを混合したシール材 8・・・開溝 9・・・間隙 11、12、18・・光ビーム 14・・シリンドリカルレンズ 16・・ビームエキスパンダ 17・・エキシマレーザ 1, 1 ': glass substrate 2, 2': electrode and lead 5: liquid crystal 6: sealing material in which resin and spacer are mixed 8: open groove 9: gap 11, 12,18 ・ ・ light beam 14. ・ cylindrical lens 16. ・ beam expander 17. ・ excimer laser

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 第1の基板上にX方向にストライブ状に
形成された複数の導電性薄膜と、 第2の基板上にY方向にストライブ状に形成された複数
の導電性薄膜と、 前記X方向の導電性薄膜と前記Y方向の導電性薄膜との
間に設けられた液晶と、からなる液晶表示装置におい
て、 前記X方向またはY方向に形成された複数の導電性薄膜
のうちの少なくとも一つは表示にしないことを特徴とす
る液晶表示装置。
1. A plurality of conductive thin films formed in a stripe shape in an X direction on a first substrate, and a plurality of conductive thin films formed in a stripe shape in a Y direction on a second substrate. A liquid crystal display device comprising: a liquid crystal provided between the conductive thin film in the X direction and the conductive thin film in the Y direction; wherein the plurality of conductive thin films formed in the X direction or the Y direction Wherein at least one of the liquid crystal displays is not displayed.
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