JPH1044596A - 金属ヒートモード記録材料の製造方法 - Google Patents
金属ヒートモード記録材料の製造方法Info
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- JPH1044596A JPH1044596A JP9116305A JP11630597A JPH1044596A JP H1044596 A JPH1044596 A JP H1044596A JP 9116305 A JP9116305 A JP 9116305A JP 11630597 A JP11630597 A JP 11630597A JP H1044596 A JPH1044596 A JP H1044596A
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- Japan
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- thin metal
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 強力レーザー放射線によって記録材料を情報
に従って露光して、改良された感度を有するヒートモー
ド層を得ることにある。 【解決手段】 （Ａ）仮支持体、剥離層、保護層、任意
中間層、下塗層及び薄い金属層、好ましくはビスマス層
を含む層パック（１）を、（熱）接着剤層及び永久支持
体を含む層パック（２）を積層し、（Ｂ）仮支持体及び
剥離層を剥離するヒートモード記録材料の製造方法にあ
る。別の例で、保護層が放射線硬化性組成物を含むと
き、中間層及び下塗層は省略できる。
に従って露光して、改良された感度を有するヒートモー
ド層を得ることにある。 【解決手段】 （Ａ）仮支持体、剥離層、保護層、任意
中間層、下塗層及び薄い金属層、好ましくはビスマス層
を含む層パック（１）を、（熱）接着剤層及び永久支持
体を含む層パック（２）を積層し、（Ｂ）仮支持体及び
剥離層を剥離するヒートモード記録材料の製造方法にあ
る。別の例で、保護層が放射線硬化性組成物を含むと
き、中間層及び下塗層は省略できる。
Description
【０００１】発明の分野 本発明は、薄い金属記録層を含有する改良されたヒート
モード記録材料に関する。
モード記録材料に関する。
【０００２】発明の背景 高エネルギー密度を有するレーザービームの如き強力放
射線の使用によって記録を熱的に作る記録材料が発表さ
れている。かかる熱記録又はヒートモード記録材料にお
いて、情報は、記録層上に反射及び／又は透過光学密度
の差を作ることによって記録される。記録層は、高光学
密度を有し、その上に当る放射線ビームを吸収する。放
射線の熱への変換は、局所的温度上昇をもたらし、記録
層中で蒸発又は融蝕（ablation）の如き熱変化を生ぜし
める。結果として、記録層の照射された部分は全体的に
又は部分的に除去され、照射部分と非照射部分の間に光
学密度の差を形成する（ＵＳ−Ｐ４２１６５０１，４２
３３６２６，４１８８２１４及び４２９１１１９、及び
英国特許２０２６３４６参照）。
射線の使用によって記録を熱的に作る記録材料が発表さ
れている。かかる熱記録又はヒートモード記録材料にお
いて、情報は、記録層上に反射及び／又は透過光学密度
の差を作ることによって記録される。記録層は、高光学
密度を有し、その上に当る放射線ビームを吸収する。放
射線の熱への変換は、局所的温度上昇をもたらし、記録
層中で蒸発又は融蝕（ablation）の如き熱変化を生ぜし
める。結果として、記録層の照射された部分は全体的に
又は部分的に除去され、照射部分と非照射部分の間に光
学密度の差を形成する（ＵＳ−Ｐ４２１６５０１，４２
３３６２６，４１８８２１４及び４２９１１１９、及び
英国特許２０２６３４６参照）。
【０００３】かかるヒートモード記録材料の記録層は、
通常金属、染料、又は重合体から作られる。このような
記録材料は、The Proceedings of the Eleventh S
ymposium（１９６９年）での M. L. Levene 等による E
lectron ，Ion and LaserBeam Technology に；Elec
tronics （１９６８年３月１８日）の５０頁に；The B
ell System Technical Journal Vol. ５０（１９７
１年）１７６１頁にD. Maydan により；及びScience V
ol. １５４（１９６６年）１５５０頁にC. O. Carlson
により発表されている。
通常金属、染料、又は重合体から作られる。このような
記録材料は、The Proceedings of the Eleventh S
ymposium（１９６９年）での M. L. Levene 等による E
lectron ，Ion and LaserBeam Technology に；Elec
tronics （１９６８年３月１８日）の５０頁に；The B
ell System Technical Journal Vol. ５０（１９７
１年）１７６１頁にD. Maydan により；及びScience V
ol. １５４（１９６６年）１５５０頁にC. O. Carlson
により発表されている。
【０００４】かかる熱記録材料上での記録は、記録され
るべき情報を電気時系列信号に変換し、信号に従って変
調されたレーザービームで記録材料を走査することによ
って通常達成される。この方法は、記録画像をリアルタ
イムに（即ち瞬間的に）得ることができることで有利で
ある。この種の記録材料は、ダイレクト・リード・アフ
ター・ライト（ＤＲＡＷ）材料と称される。ＤＲＡＷ記
録材料は、人読取り可能又は機械読取り可能記録を作る
ため、像に従って変調されたレーザービームを記録する
ための媒体として使用できる。人読取り可能記録は、例
えば拡大及び投影したとき読むことのできるマイクロイ
メージである。機械読取り可能ＤＲＡＷ記録材料は光学
ディスクである。光学ディスクの製造のため今迄は、テ
ルル及びその合金が最も広く使用され、高度に反射性の
薄い金属フィルムを形成して来た、この場合局部的なレ
ーザービームでの加熱がピット形成によって反射能を減
少する（例えば定期刊行物 Physik in unserer Zei
t’１５、１９８４年Ｎｒ．５の１２９〜１３０頁の Jo
chen Fricke の論文Optische Datenspeicher 参
照）。テルルは毒性であり、その酸素及び湿度に対する
感度のため劣ったアーカイバル（archival）性を有す
る。ＤＲＡＷヒートモード記録に使用するために好適な
他の金属はＵＳ−Ｐ４４９９１７８及びＵＳ−Ｐ４３８
８４００に記載されている。毒性問題を避けるため、ビ
スマスの如き他の相対的に低融点金属がヒートモード記
録層の製造に導入された。かかる記録材料を、高出力レ
ーザーのパルスで非常に短い時間露光することにより、
放射線はビスマス層面に当ったとき熱に変換される。結
果として書込みスポットは少量のビスマス層を融蝕又は
溶融する。溶融したとき層は、表面張力によって加熱さ
れたスポットで収縮し、かくして小さいキャビテーショ
ン又は孔を形成する。結果として光はこれらのキャビテ
ーションを通過でき、密度一定のＤmin 値まで低下さ
れ、これは照射されるレーザーエネルギーによって決ま
る。
るべき情報を電気時系列信号に変換し、信号に従って変
調されたレーザービームで記録材料を走査することによ
って通常達成される。この方法は、記録画像をリアルタ
イムに（即ち瞬間的に）得ることができることで有利で
ある。この種の記録材料は、ダイレクト・リード・アフ
ター・ライト（ＤＲＡＷ）材料と称される。ＤＲＡＷ記
録材料は、人読取り可能又は機械読取り可能記録を作る
ため、像に従って変調されたレーザービームを記録する
ための媒体として使用できる。人読取り可能記録は、例
えば拡大及び投影したとき読むことのできるマイクロイ
メージである。機械読取り可能ＤＲＡＷ記録材料は光学
ディスクである。光学ディスクの製造のため今迄は、テ
ルル及びその合金が最も広く使用され、高度に反射性の
薄い金属フィルムを形成して来た、この場合局部的なレ
ーザービームでの加熱がピット形成によって反射能を減
少する（例えば定期刊行物 Physik in unserer Zei
t’１５、１９８４年Ｎｒ．５の１２９〜１３０頁の Jo
chen Fricke の論文Optische Datenspeicher 参
照）。テルルは毒性であり、その酸素及び湿度に対する
感度のため劣ったアーカイバル（archival）性を有す
る。ＤＲＡＷヒートモード記録に使用するために好適な
他の金属はＵＳ−Ｐ４４９９１７８及びＵＳ−Ｐ４３８
８４００に記載されている。毒性問題を避けるため、ビ
スマスの如き他の相対的に低融点金属がヒートモード記
録層の製造に導入された。かかる記録材料を、高出力レ
ーザーのパルスで非常に短い時間露光することにより、
放射線はビスマス層面に当ったとき熱に変換される。結
果として書込みスポットは少量のビスマス層を融蝕又は
溶融する。溶融したとき層は、表面張力によって加熱さ
れたスポットで収縮し、かくして小さいキャビテーショ
ン又は孔を形成する。結果として光はこれらのキャビテ
ーションを通過でき、密度一定のＤmin 値まで低下さ
れ、これは照射されるレーザーエネルギーによって決ま
る。
【０００５】ＥＰ ０３８４０４１によれば、ウエブ支
持体にヒートモード記録する薄い金属層、好ましくはビ
スマス層を設けたダイレクト・リード・アクター・ライ
ト（ＤＲＡＷ）可能性を有するヒートモード記録材料の
製造方法が提供され、同じ真空環境下に、ウエブの形で
の保護有機樹脂層を、接着剤層によって前記支持された
記録層に積層していることを特徴としている。
持体にヒートモード記録する薄い金属層、好ましくはビ
スマス層を設けたダイレクト・リード・アクター・ライ
ト（ＤＲＡＷ）可能性を有するヒートモード記録材料の
製造方法が提供され、同じ真空環境下に、ウエブの形で
の保護有機樹脂層を、接着剤層によって前記支持された
記録層に積層していることを特徴としている。
【０００６】ＥＰ ０３８４０４１の教示に対するそれ
以上の改良を記載しているＥＰ ０６７８５６９によれ
ば、ダイレクト・リード・アフター・ライト（ＤＲＡ
Ｗ）能力を有し、永久支持体上にヒートモード記録金属
層を含有するヒートモード記録材料の製造方法が提供さ
れ、前記方法は、（１）層又は層組合せ体が、２０μｍ
以下の厚さを有するウエブ型仮支持体によって担持され
た単一接着剤層又は多層組合せ体を、前記記録層に対し
熱及び圧力で積層することによって積層ウエブを形成
し、そして（２）前記接着剤層から前記仮支持体を分離
して、前記記録層上の保護要素として前記単一接着剤層
を残すか、又は（２′）前記接着剤層組合せ体から前記
仮支持体を分離して、前記記録層上の保護要素として前
記層組合せ体を残し、そして（３）前記分離工程（２）
又は（２′）後、熱によって及び／又は紫外放射線又は
電子ビーム放射線によって前記単一接着剤層又は前記多
層組合せ体の前記最外層を化学的に硬化する連続工程を
含んでいる。この実施態様において、単一接着剤層又は
組合せ体は５μｍの最小厚さを有しなければならない。
以上の改良を記載しているＥＰ ０６７８５６９によれ
ば、ダイレクト・リード・アフター・ライト（ＤＲＡ
Ｗ）能力を有し、永久支持体上にヒートモード記録金属
層を含有するヒートモード記録材料の製造方法が提供さ
れ、前記方法は、（１）層又は層組合せ体が、２０μｍ
以下の厚さを有するウエブ型仮支持体によって担持され
た単一接着剤層又は多層組合せ体を、前記記録層に対し
熱及び圧力で積層することによって積層ウエブを形成
し、そして（２）前記接着剤層から前記仮支持体を分離
して、前記記録層上の保護要素として前記単一接着剤層
を残すか、又は（２′）前記接着剤層組合せ体から前記
仮支持体を分離して、前記記録層上の保護要素として前
記層組合せ体を残し、そして（３）前記分離工程（２）
又は（２′）後、熱によって及び／又は紫外放射線又は
電子ビーム放射線によって前記単一接着剤層又は前記多
層組合せ体の前記最外層を化学的に硬化する連続工程を
含んでいる。この実施態様において、単一接着剤層又は
組合せ体は５μｍの最小厚さを有しなければならない。
【０００７】後者の文献において、金属層、好ましくは
ビスマス層は、接着剤層と仮支持体のパックの積層前
に、永久支持体、好ましくはＰＥＴ支持体に真空蒸着に
よって適用される。結果として、金属層／永久支持体の
界面は滑らかで、光沢外観を有する、これとは反対に、
後で薄い接着剤層パックで積層される金属層の上側はか
なり粗く、暗い外観を有する。この材料を用い、材料の
何れかの側を通るデザインレーザー記録は、問題を生ぜ
しめる。目視の賦勢点から、ビスマス層の暗い側での薄
い層パックを通しての記録が最も有利である、それは最
小の反射側であるからである。しかしながら薄い接着剤
層パック中の固有の厚さ変動は、強力な干渉パターンを
生ぜしめる。他方永久支持体側（光沢のある側）を通し
ての露光は高い反射によりエネルギー的に不利である。
ビスマス層は、接着剤層と仮支持体のパックの積層前
に、永久支持体、好ましくはＰＥＴ支持体に真空蒸着に
よって適用される。結果として、金属層／永久支持体の
界面は滑らかで、光沢外観を有する、これとは反対に、
後で薄い接着剤層パックで積層される金属層の上側はか
なり粗く、暗い外観を有する。この材料を用い、材料の
何れかの側を通るデザインレーザー記録は、問題を生ぜ
しめる。目視の賦勢点から、ビスマス層の暗い側での薄
い層パックを通しての記録が最も有利である、それは最
小の反射側であるからである。しかしながら薄い接着剤
層パック中の固有の厚さ変動は、強力な干渉パターンを
生ぜしめる。他方永久支持体側（光沢のある側）を通し
ての露光は高い反射によりエネルギー的に不利である。
【０００８】本発明はＥＰ ０６７８５６９の教示の改
良を構成する。
良を構成する。
【０００９】本発明の目的は、改良された感度を有し、
薄い金属層に基づいたヒートモード記録材料の製造方法
を提供することにある。
薄い金属層に基づいたヒートモード記録材料の製造方法
を提供することにある。
【００１０】本発明の別の目的は、邪魔する界面パター
ンの発生に対して殆ど感じないかかる薄い金属層記録材
料のレーザー露光によりヒートモード画像を得るための
方法を提供することにある。
ンの発生に対して殆ど感じないかかる薄い金属層記録材
料のレーザー露光によりヒートモード画像を得るための
方法を提供することにある。
【００１１】本発明の更に別の目的は、ハロゲン化銀化
学に基づいた印刷版又はグラフィックアート接触フィル
ムの露光のためのマスターとして、又はＰＣＢ用途のた
めのマスターとして使用できるヒートモード画像を得る
ための方法を提供することにある。
学に基づいた印刷版又はグラフィックアート接触フィル
ムの露光のためのマスターとして、又はＰＣＢ用途のた
めのマスターとして使用できるヒートモード画像を得る
ための方法を提供することにある。
【００１２】発明の概要 本発明の目的は、 （Ａ）次の順序で、次の層： （１．１）仮支持体、（１．２）剥離層、（１．３）保
護層、（１．４）任意中間層、（１．５）下塗層、
（１．６）薄い金属層を含む層パック（１）を、次の
層： （２．１）感圧接着剤又は熱接着剤層、（２．２）永久
透明支持体を含む層パック（２）に積層し、前記薄い金
属層（１．６）と前記感圧接着剤又は熱接着剤層（２．
１）を相互に対面させ、 （Ｂ）前記仮支持体（１．１）及び前記剥離層（１．
２）を剥離法によって除去する工程を含み、かくしてヒ
ートモード記録材料を得ることからなるヒートモード記
録材料の製造法を提供することによって実現される。
護層、（１．４）任意中間層、（１．５）下塗層、
（１．６）薄い金属層を含む層パック（１）を、次の
層： （２．１）感圧接着剤又は熱接着剤層、（２．２）永久
透明支持体を含む層パック（２）に積層し、前記薄い金
属層（１．６）と前記感圧接着剤又は熱接着剤層（２．
１）を相互に対面させ、 （Ｂ）前記仮支持体（１．１）及び前記剥離層（１．
２）を剥離法によって除去する工程を含み、かくしてヒ
ートモード記録材料を得ることからなるヒートモード記
録材料の製造法を提供することによって実現される。
【００１３】ヒートモード画像は、上述した如きヒート
モード記録材料を、強力なレーザー放射線に対して情報
に従って露光することにより、好ましくは赤外レーザー
により得ることができる。
モード記録材料を、強力なレーザー放射線に対して情報
に従って露光することにより、好ましくは赤外レーザー
により得ることができる。
【００１４】この場合、厚さ変動を受け易い薄い層パッ
クが他側にあることから、干渉パターンの発生なしに、
エネルギー的に有利である暗いビスマス側である永久支
持体を通してヒートモード材料を露光できる。
クが他側にあることから、干渉パターンの発生なしに、
エネルギー的に有利である暗いビスマス側である永久支
持体を通してヒートモード材料を露光できる。
【００１５】好ましい実施態様において、薄い金属層は
ビスマス層である。
ビスマス層である。
【００１６】本発明の別の実施態様において、保護層
は、ＥＰ ０６８７５６９に記載されている如き放射線
硬化性組成物に基づいている、この場合、任意中間層
（１．３）及び下塗層（１．５）は省略できる。
は、ＥＰ ０６８７５６９に記載されている如き放射線
硬化性組成物に基づいている、この場合、任意中間層
（１．３）及び下塗層（１．５）は省略できる。
【００１７】発明の詳述 永久支持体（２．２）及び仮支持体（１．１）のために
有用な透明有機樹脂支持体には、例えばセルロースナイ
レートフィルム、セルロースアセテートフィルム、ポリ
ビニルアセタールフィルム、ポリスチレンフィルム、ポ
リエチレンテレフタレートフィルム、ポリカーボネート
フィルム、ポリビニルクロライドフィルム、又はポリ−
α−オレフィンフィルム例えばポリエチレン又はポリプ
ロピレンフィルムを含む。本発明の最も好ましい実施態
様においては、永久支持体及び仮支持体の両方が、下塗
層を有する又は有しないポリエチレンテレフタレート支
持体である。別の好適な支持体は、いわゆるシンジオタ
クチックポリスチレンである、これはこの樹脂が温度及
び相対湿度の変動条件下にすぐれた寸法安定性を示すか
らである。写真フィルムのためのかかる支持体の使用は
ＥＰ ０４２３７１２及びＥＰ ０６７７７７８に既に
記載されている。この支持体は前述したＥＰ０３８４０
４１及びＥＰ ０６７８５６９に記載された実施態様に
とっても非常に好適である。
有用な透明有機樹脂支持体には、例えばセルロースナイ
レートフィルム、セルロースアセテートフィルム、ポリ
ビニルアセタールフィルム、ポリスチレンフィルム、ポ
リエチレンテレフタレートフィルム、ポリカーボネート
フィルム、ポリビニルクロライドフィルム、又はポリ−
α−オレフィンフィルム例えばポリエチレン又はポリプ
ロピレンフィルムを含む。本発明の最も好ましい実施態
様においては、永久支持体及び仮支持体の両方が、下塗
層を有する又は有しないポリエチレンテレフタレート支
持体である。別の好適な支持体は、いわゆるシンジオタ
クチックポリスチレンである、これはこの樹脂が温度及
び相対湿度の変動条件下にすぐれた寸法安定性を示すか
らである。写真フィルムのためのかかる支持体の使用は
ＥＰ ０４２３７１２及びＥＰ ０６７７７７８に既に
記載されている。この支持体は前述したＥＰ０３８４０
４１及びＥＰ ０６７８５６９に記載された実施態様に
とっても非常に好適である。
【００１８】仮支持体の厚さは、１０〜２００μｍに含
まれるのが好ましい。永久支持体の厚さは７５〜１７５
μｍの範囲であるのが好ましい。
まれるのが好ましい。永久支持体の厚さは７５〜１７５
μｍの範囲であるのが好ましい。
【００１９】剥離層は種々の組成物に基づくことができ
る。ＰＥＴ支持体を例えばコ（ビニリデンクロライド−
メチルメタクリレート−イタコン酸：８８／１０／２）
及びＫＩＥＳＥＬＳＯＬ １００Ｆを含有する層で下塗
したとき、剥離層は、コロイドシリカ例えばＫＩＥＳＥ
ＬＳＯＬ ３００Ｆ及びＬＡＰＯＮＩＴＥ Ｓの例えば
７５／２５の比での組合せに基づくのが好ましい。或い
は、剥離層はポリビニルアルコールに基づくことができ
る。かかるポリビニルアルコール基剥離層は、例えばテ
トラメトキシシランで架橋することによって予備硬化す
ることができる。これに対して、ポリエチレンテレフタ
レート又はセルローストリアセテート支持体が下塗して
ないときには、剥離層はコ（ビニルアセテート−クロト
ン酸；９５／５）を含有できる、又はそれはシリコーン
層であることができる、又はそれは Maruzen Co. によ
って市販されている如きポリヒドロキシスチレン及び T
oray Co. からのＡＭＩＬＡＮ ＣＭ８０００の如きポ
リアミドの組合せに基づくこともできる。剥離層の厚さ
は０．３〜５μｍの範囲であるのが好ましい。
る。ＰＥＴ支持体を例えばコ（ビニリデンクロライド−
メチルメタクリレート−イタコン酸：８８／１０／２）
及びＫＩＥＳＥＬＳＯＬ １００Ｆを含有する層で下塗
したとき、剥離層は、コロイドシリカ例えばＫＩＥＳＥ
ＬＳＯＬ ３００Ｆ及びＬＡＰＯＮＩＴＥ Ｓの例えば
７５／２５の比での組合せに基づくのが好ましい。或い
は、剥離層はポリビニルアルコールに基づくことができ
る。かかるポリビニルアルコール基剥離層は、例えばテ
トラメトキシシランで架橋することによって予備硬化す
ることができる。これに対して、ポリエチレンテレフタ
レート又はセルローストリアセテート支持体が下塗して
ないときには、剥離層はコ（ビニルアセテート−クロト
ン酸；９５／５）を含有できる、又はそれはシリコーン
層であることができる、又はそれは Maruzen Co. によ
って市販されている如きポリヒドロキシスチレン及び T
oray Co. からのＡＭＩＬＡＮ ＣＭ８０００の如きポ
リアミドの組合せに基づくこともできる。剥離層の厚さ
は０．３〜５μｍの範囲であるのが好ましい。
【００２０】保護層の組成は、好ましい例において、ニ
トロセルロースに基づいている。しかしながら他の可能
な主重合体成分には、ポリメチルメタクリレート、例え
ばＡＣＲＹＬＯＩＤ Ｋ１２０Ｎ（Rohm and Haas C
o.）又はＥＬＶＡＣＩＴＥ２０１０（DuPont Co. ）、
ポリエチルアクリレート例えばＥＬＶＡＣＩＴＥ２０４
３又は２０４５（DuPont Co. ）、ＣＡＲＢＯＳＥＴ
５２６（Goodrich）、コ（ビニリデンクロライド−ビニ
ルアセテート）例えばＵＣＡＲ ＶＹＮＳ−３（Union
Carbide Co. ）、又はＤＹＮＡＰＯＬ Ｌ９１２又は
Ｌ２０６（Huels Troisdorf AG）を含む。
トロセルロースに基づいている。しかしながら他の可能
な主重合体成分には、ポリメチルメタクリレート、例え
ばＡＣＲＹＬＯＩＤ Ｋ１２０Ｎ（Rohm and Haas C
o.）又はＥＬＶＡＣＩＴＥ２０１０（DuPont Co. ）、
ポリエチルアクリレート例えばＥＬＶＡＣＩＴＥ２０４
３又は２０４５（DuPont Co. ）、ＣＡＲＢＯＳＥＴ
５２６（Goodrich）、コ（ビニリデンクロライド−ビニ
ルアセテート）例えばＵＣＡＲ ＶＹＮＳ−３（Union
Carbide Co. ）、又はＤＹＮＡＰＯＬ Ｌ９１２又は
Ｌ２０６（Huels Troisdorf AG）を含む。
【００２１】他方保護層は、前述したＥＰ ０６８７５
６９において接着剤層又は層組合せ体のため記載されて
いる如き、放射線硬化性組成物に基づくことができる。
その中に記載されている如く、かかる放射線硬化性組成
物は、主成分として： （１）少なくとも１種の反応性（プレ）ポリマー又はオ
リゴマー、（２）所望によって（１）を溶解する少なく
とも１種の反応性溶剤単量体、（３）ＵＶ硬化性配合物
の場合においては光開始剤を含有する。
６９において接着剤層又は層組合せ体のため記載されて
いる如き、放射線硬化性組成物に基づくことができる。
その中に記載されている如く、かかる放射線硬化性組成
物は、主成分として： （１）少なくとも１種の反応性（プレ）ポリマー又はオ
リゴマー、（２）所望によって（１）を溶解する少なく
とも１種の反応性溶剤単量体、（３）ＵＶ硬化性配合物
の場合においては光開始剤を含有する。
【００２２】前記組成物（１）において、反応性（プ
レ）ポリマー又はオリゴマーには一つ以上のエチレン性
不飽和基を含有する化合物がある。エチレン性不飽和基
を含有する反応性重合体は、ＪＡＹＬＩＮＫ（アクリル
アミドメチル基を含有する変性セルロース重合体）の商
品名で BOMAR Specialities Company から市場で入手
できる。
レ）ポリマー又はオリゴマーには一つ以上のエチレン性
不飽和基を含有する化合物がある。エチレン性不飽和基
を含有する反応性重合体は、ＪＡＹＬＩＮＫ（アクリル
アミドメチル基を含有する変性セルロース重合体）の商
品名で BOMAR Specialities Company から市場で入手
できる。
【００２３】これらの反応性（プレ）ポリマー又はオリ
ゴマー（１）は、前記組成物中に、好ましくは１０〜１
００重量％比で、そして前記反応性溶剤は０〜１０重量
％比で存在させる。
ゴマー（１）は、前記組成物中に、好ましくは１０〜１
００重量％比で、そして前記反応性溶剤は０〜１０重量
％比で存在させる。
【００２４】存在するときＵＶ吸収力を有する光開始剤
は、できる限り少ない濃度で、例えば全被覆組成物に対
して０．１〜１重量％比の濃度で使用する。好ましくは
光漂白できる光開始剤を使用する。
は、できる限り少ない濃度で、例えば全被覆組成物に対
して０．１〜１重量％比の濃度で使用する。好ましくは
光漂白できる光開始剤を使用する。
【００２５】適用する保護層の放射線硬化性組成物に使
用するのに好適なプレポリマーの例には、不飽和ポリエ
ステル例えばポリエステルアクリレート；ウレタン変性
不飽和ポリエステル例えばウレタン−ポリエステル−ア
クリレートがある。末端基としてアクリル基を有する液
体ポリエステル、例えばアクリルタイプの末端基を設け
た飽和コポリエステルは、公開されたＥＰ−Ａ０２０７
２５７及びRadiat. Phys. Chem. ，Vol.３３，No. ５の
４４３〜４５０頁（１９８９年）に記載されている。
用するのに好適なプレポリマーの例には、不飽和ポリエ
ステル例えばポリエステルアクリレート；ウレタン変性
不飽和ポリエステル例えばウレタン−ポリエステル−ア
クリレートがある。末端基としてアクリル基を有する液
体ポリエステル、例えばアクリルタイプの末端基を設け
た飽和コポリエステルは、公開されたＥＰ−Ａ０２０７
２５７及びRadiat. Phys. Chem. ，Vol.３３，No. ５の
４４３〜４５０頁（１９８９年）に記載されている。
【００２６】低分子量不飽和単量体及び他の揮発性物質
を実質的に含有しないコポリエステルは、非常に低い毒
性のものである（定期刊行物 Adhaesion １９９０年、
Heft １２の１２頁参照）。非常に広い種々の放射線硬
化性アクリルポリエステルの製造がドイツ公開特許 No.
２８３８６９１に示されている。前記プレポリマーの２
種以上の混合物を使用してもよい。
を実質的に含有しないコポリエステルは、非常に低い毒
性のものである（定期刊行物 Adhaesion １９９０年、
Heft １２の１２頁参照）。非常に広い種々の放射線硬
化性アクリルポリエステルの製造がドイツ公開特許 No.
２８３８６９１に示されている。前記プレポリマーの２
種以上の混合物を使用してもよい。
【００２７】放射線（紫外線又は電子ビーム）硬化性組
成物に使用するのに好適な別の重合体は、例えばロンド
ンの SITA Technology （１９９１年）発行、 P. K.
T. OLDRING 編、 Chemistry & Technology of UV
and EB formulation forcoating ， inks and pai
nts Vol.２：Prepolymers and Reactive diluents
for UV and EB curable formulations に記載さ
れている如き不飽和ウレタン（メタ）アクリレート、エ
ポキシ（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）ア
クリレート及びポリエステル（メタ）アクリレートから
なる群から選択する。ＵＶ硬化性被覆組成物の調査は例
えば定期刊行物Coating ９／８８の３４８〜３５３頁に
記載されている。
成物に使用するのに好適な別の重合体は、例えばロンド
ンの SITA Technology （１９９１年）発行、 P. K.
T. OLDRING 編、 Chemistry & Technology of UV
and EB formulation forcoating ， inks and pai
nts Vol.２：Prepolymers and Reactive diluents
for UV and EB curable formulations に記載さ
れている如き不飽和ウレタン（メタ）アクリレート、エ
ポキシ（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）ア
クリレート及びポリエステル（メタ）アクリレートから
なる群から選択する。ＵＶ硬化性被覆組成物の調査は例
えば定期刊行物Coating ９／８８の３４８〜３５３頁に
記載されている。
【００２８】他のＵＶ硬化性層は、脂肪族及び芳香族ポ
リエステル−ウレタンアクリレートの群のオリゴマーと
も称されるプレポリマーの使用によって得ることができ
る。ポリエステルウレタンアクリレートの構造は、米国
ペンシルバニア州、フイラデルフイア、ウオルナツトス
トリート １３１５の Federation of Societiesfor
Coatings Technology （１９８６年６月）発行、 Joh
n R. Constanza 、A. P. Silveri 、及びJoseph A. V
ona 著、 Radiation Cured Coatings の９頁に与えら
れている。
リエステル−ウレタンアクリレートの群のオリゴマーと
も称されるプレポリマーの使用によって得ることができ
る。ポリエステルウレタンアクリレートの構造は、米国
ペンシルバニア州、フイラデルフイア、ウオルナツトス
トリート １３１５の Federation of Societiesfor
Coatings Technology （１９８６年６月）発行、 Joh
n R. Constanza 、A. P. Silveri 、及びJoseph A. V
ona 著、 Radiation Cured Coatings の９頁に与えら
れている。
【００２９】特に有用な芳香族ポリエステル−ウレタン
アクリレートプレポリマーの化学構造は、下記一般式で
示される：
アクリレートプレポリマーの化学構造は、下記一般式で
示される：
【００３０】
【化１】
【００３１】脂肪族ポリエステル−ウレタンアクリレー
トの製造の例は、ＵＳ−Ｐ４９８３５０５及びＤＥ ２
５３０８９６に与えられている。
トの製造の例は、ＵＳ−Ｐ４９８３５０５及びＤＥ ２
５３０８９６に与えられている。
【００３２】プレポリマーの重合体鎖一つについて、多
数のアクリル二重結合の導入は、始めにポリオール例え
ばペンタエリスリトールのアクリル酸との部分エステル
化を行い、続いてのポリオール尚遊離ＨＯ基を多官能性
イソシアネートとの反応によって行う。
数のアクリル二重結合の導入は、始めにポリオール例え
ばペンタエリスリトールのアクリル酸との部分エステル
化を行い、続いてのポリオール尚遊離ＨＯ基を多官能性
イソシアネートとの反応によって行う。
【００３３】感圧硬化性層組成物で本発明により使用す
るのに好適なのにＩの群の紫外線硬化した感圧接着剤、
アクリレート−グラフト化ポリビニルアルキルエーテル
及びIIの群のモノアクリレート−グラフト化ポリエーテ
ルがあり、 Journal of Radiation Curing ，Vol.９
／ No.２（１９８２年４月）に記載されている。
るのに好適なのにＩの群の紫外線硬化した感圧接着剤、
アクリレート−グラフト化ポリビニルアルキルエーテル
及びIIの群のモノアクリレート−グラフト化ポリエーテ
ルがあり、 Journal of Radiation Curing ，Vol.９
／ No.２（１９８２年４月）に記載されている。
【００３４】ＵＶ又はＥＢ硬化性被覆組成物は、不活性
重合体を含有できる、不活性重合体は、架橋しないが、
それらの固有の硬度によって保護層の耐引掻性及び巻き
上げたとき記録材料の裏側への粘着を反作用する重合体
を意味する。そのために、例えば芳香族酸例えばイソも
しくはテレフタル酸から誘導されたポリエステル、Ｃ１
〜Ｃ４アルコールのポリ（メタ）アクリレート例えばｎ
−ブチルメタクリレート、及びそれらのスチレンとの共
重合体及びポリビニルアセテートが挙げられる。
重合体を含有できる、不活性重合体は、架橋しないが、
それらの固有の硬度によって保護層の耐引掻性及び巻き
上げたとき記録材料の裏側への粘着を反作用する重合体
を意味する。そのために、例えば芳香族酸例えばイソも
しくはテレフタル酸から誘導されたポリエステル、Ｃ１
〜Ｃ４アルコールのポリ（メタ）アクリレート例えばｎ
−ブチルメタクリレート、及びそれらのスチレンとの共
重合体及びポリビニルアセテートが挙げられる。
【００３５】層（１．３）と（１．５）の間の接着が理
想的でないとき、中間層を使用できる。好ましい例にお
いて、この任意中間層は、ニトロセルロース、ゼラチン
及びマレイン酸の組合せを含有する、そしてメタノール
／アセトン／水の如き溶剤混合物から被覆する。別のし
かし好ましさが少し劣る例においては、被覆混合物から
ニトロセルロースを除く。
想的でないとき、中間層を使用できる。好ましい例にお
いて、この任意中間層は、ニトロセルロース、ゼラチン
及びマレイン酸の組合せを含有する、そしてメタノール
／アセトン／水の如き溶剤混合物から被覆する。別のし
かし好ましさが少し劣る例においては、被覆混合物から
ニトロセルロースを除く。
【００３６】上に適用されるであろう薄い金属層に対す
る良好な接着を確実にしなければならず、露光領域で溶
融した金属小滴の分布及び形に影響を与える下塗層は、
下記主成分の一つを基本にするのが好ましい：
る良好な接着を確実にしなければならず、露光領域で溶
融した金属小滴の分布及び形に影響を与える下塗層は、
下記主成分の一つを基本にするのが好ましい：
【００３７】(1) コポリエステル、ＤＹＮＡＰＯＬ Ｌ
９１２（Huels AG ）； (2) コ（ビニルアセテート−ビニルアルコール−ビニル
アセタール）、例えばＳ ＬＥＣ（Sekisui Co.）； (3) ポリアミド、例えばＡＭＩＬＡＮ ＣＭ８０００
（Toray Co.）； (4) ２−ヒドロキシエチルエーテル、例えば EHEC ext
ra low 又は EHEC high （ Hercules Co.）； (5) コ（スチレン−アクリロニトリル）、例えばＬＵＲ
ＡＮ ３８８Ｓ ＮＡＴＵＲ（ BASF AG ）； (6) コ（スチレン−ブタジエン）、例えばＫＲＯ３（Ph
illips Petroleum ）； (7) コ（スチレン−ブチルメタクリレート）、例えばＴ
ＯＮＥＲＨＡＲＺ ＶＰＯＴ ５６０３（Degussa C
o.）； (8) ＮＥＯＣＲＹＬ ＧＬ３０ＡＣ（Polyvinyl Chemi
e ）； (9) コ（ビニルアセテート−クロトン酸）、例えばＭＯ
ＷＩＬＩＴＨ ＣＴ５（Hoechst ）； (10) スチレン、例えばＳＵＰＲＡＰＡＬ ＬＧ８４０
４及びＬＲ８４０４（ BASF AG ）。
９１２（Huels AG ）； (2) コ（ビニルアセテート−ビニルアルコール−ビニル
アセタール）、例えばＳ ＬＥＣ（Sekisui Co.）； (3) ポリアミド、例えばＡＭＩＬＡＮ ＣＭ８０００
（Toray Co.）； (4) ２−ヒドロキシエチルエーテル、例えば EHEC ext
ra low 又は EHEC high （ Hercules Co.）； (5) コ（スチレン−アクリロニトリル）、例えばＬＵＲ
ＡＮ ３８８Ｓ ＮＡＴＵＲ（ BASF AG ）； (6) コ（スチレン−ブタジエン）、例えばＫＲＯ３（Ph
illips Petroleum ）； (7) コ（スチレン−ブチルメタクリレート）、例えばＴ
ＯＮＥＲＨＡＲＺ ＶＰＯＴ ５６０３（Degussa C
o.）； (8) ＮＥＯＣＲＹＬ ＧＬ３０ＡＣ（Polyvinyl Chemi
e ）； (9) コ（ビニルアセテート−クロトン酸）、例えばＭＯ
ＷＩＬＩＴＨ ＣＴ５（Hoechst ）； (10) スチレン、例えばＳＵＰＲＡＰＡＬ ＬＧ８４０
４及びＬＲ８４０４（ BASF AG ）。
【００３８】最も好ましい実施態様は、高分子線状コポ
リエステル例えばＤＹＮＡＰＯＬＬ９１２ type の導入
である。
リエステル例えばＤＹＮＡＰＯＬＬ９１２ type の導入
である。
【００３９】本発明における記録層のための可能な金属
には、Ｍｇ，Ｓｃ，Ｙ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｖ，Ｎｂ，
Ｔａ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ，Ｍｎ，Ｒｅ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎ
ｉ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｐｄ，Ｉｒ，Ｐｔ，Ｃｕ，Ａｇ，Ａ
ｕ，Ｚｎ，Ｃｄ，Ａｌ，Ｇａ，Ｉｎ，Ｓｉ，Ｇｅ，Ｓ
ｎ，Ａｓ，Ｓｂ，Ｂｉ，Ｓｅ，Ｔｅを含む。これらの金
属は単独で使用でき、或いはそれらの少なくとも２種の
金属の混合物もしくは合金として使用できる。それらの
低融点により、Ｍｇ，Ｚｎ，Ｉｎ，Ｓｎ，Ｂｉ及びＴｅ
が好ましい。本発明の実施のため最も好ましい金属はＢ
ｉである。
には、Ｍｇ，Ｓｃ，Ｙ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｖ，Ｎｂ，
Ｔａ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ，Ｍｎ，Ｒｅ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎ
ｉ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｐｄ，Ｉｒ，Ｐｔ，Ｃｕ，Ａｇ，Ａ
ｕ，Ｚｎ，Ｃｄ，Ａｌ，Ｇａ，Ｉｎ，Ｓｉ，Ｇｅ，Ｓ
ｎ，Ａｓ，Ｓｂ，Ｂｉ，Ｓｅ，Ｔｅを含む。これらの金
属は単独で使用でき、或いはそれらの少なくとも２種の
金属の混合物もしくは合金として使用できる。それらの
低融点により、Ｍｇ，Ｚｎ，Ｉｎ，Ｓｎ，Ｂｉ及びＴｅ
が好ましい。本発明の実施のため最も好ましい金属はＢ
ｉである。
【００４０】金属記録層は、下塗層（１．５）の上に、
蒸着、スパッタリング、イオンメッキ、化学蒸着、電解
メッキ、又は無電解メッキにより適用できる。Ｂｉの好
ましい場合においては、記録層は真空蒸着によって適用
するのが好ましい。かかる蒸着の方法及び装置は前述し
たＥＰ ０３８４０４１に記載されている。
蒸着、スパッタリング、イオンメッキ、化学蒸着、電解
メッキ、又は無電解メッキにより適用できる。Ｂｉの好
ましい場合においては、記録層は真空蒸着によって適用
するのが好ましい。かかる蒸着の方法及び装置は前述し
たＥＰ ０３８４０４１に記載されている。
【００４１】このＢｉ層の厚さは０．１〜０．６μｍの
間に含まれるのが好ましい。この厚さが小さすぎると
き、記録された画像は充分な濃度を有しない。他方厚さ
が大きすぎるとき、感度が低下する傾向があり、最小濃
度、即ち露光領域でのレーザー記録後の濃度が大になる
傾向がある。
間に含まれるのが好ましい。この厚さが小さすぎると
き、記録された画像は充分な濃度を有しない。他方厚さ
が大きすぎるとき、感度が低下する傾向があり、最小濃
度、即ち露光領域でのレーザー記録後の濃度が大になる
傾向がある。
【００４２】層パック２の（熱）接着剤層の組成物は、
下掲の成分の一つに基づくのが好ましい：
下掲の成分の一つに基づくのが好ましい：
【００４３】(1) コ（ビニルアセテート−エチレン−ビ
ニリデンクロライド）、ＶＩＮＮＡＰＡＳ 分散液ＣＥ
Ｆ１９（Wacker Chemie）； (2) コ（アクリレート−メチルアクリレート−スチレ
ン）、例えばＳＹＮＴＨＡＣＲＹＬ ＶＳＷ６８９９； (3) ポリウレタン樹脂、例えばＰＴ１９（Bayer AG
）； (4) アクリレート共重合体、例えばＰＲＩＭＡＬ ＡＣ
１５６１（Rohm and Haas Co.）； (5) メタクリレート共重合体、例えばＰＬＥＸＴＯＬ
Ｍ７１８又はＰＬＥＸＴＯＬ Ｍ６００（Roehm GMBH
）； (6) コ（エチルアクリレート−メチルメタクリレー
ト）、例えばＰＬＥＸＩＧＵＭ ＭＢ３１９（Rohm an
d Haas Co.）； (7) ポリ（ビニルアセテート）、例えばＤＡＲＡＴＡＫ
６１Ｌ（WR Grace& Co. ）又はＧＥＬＶＡ Ｖ８０
０（Monsanto Co. ）； (8) コ（メチルメタクリレート−エチルアクリレート−
Ｘ）、例えばＣＡＲＢＯＳＥＴ ５１４Ａ（Goodrich
Co. ）； (9) コ（スチレン−アクリレート）、例えばＵＣＥＣＲ
ＹＬ ８１２Ｂ（ UCBS. A. ）； (10) ポリ（ウレタンエステル）、例えばＤＩＳＰＥＲ
ＣＯＬＬ ＶＰＫＡ ８４８１（Bayer AG ）； (11) コ（スチレン−ブタジエン−アクリル酸）、例え
ばＢＡＹＳＴＡＬ Ｐ２００５（Bayer AG ）； (12) ポリ（アクリレート）、例えばＡＣＲＹＳＯＬ
ＷＳ６８（Rohm and Haas Co.）； (13) コ（ビニルアセテート−ビニルラウレート）、例
えば２５ＶＬ（WackerChemie）； (14) コ（スチレン−ブタジエン）、例えばＰＬＩＯＬ
ＩＴＥ Ｓ５Ｂ（Goodyear Co. ）； (15) コ（ビニルアセテート−クロトン酸）、例えばＭ
ＯＷＩＬＩＴＨ ＣＴ５（Hoechst Co.）； (16) コ（ビニルアセテート−ビニルラウレート−クロ
トン酸）、例えばＶＩＮＮＡＰＡＳ Ｂ１００（Wacker
Chemie）； (17) コポリエステル、例えばＤＹＮＡＰＯＬＬ Ｌ４
１１又はＳ１４２０（Huels AG ）。
ニリデンクロライド）、ＶＩＮＮＡＰＡＳ 分散液ＣＥ
Ｆ１９（Wacker Chemie）； (2) コ（アクリレート−メチルアクリレート−スチレ
ン）、例えばＳＹＮＴＨＡＣＲＹＬ ＶＳＷ６８９９； (3) ポリウレタン樹脂、例えばＰＴ１９（Bayer AG
）； (4) アクリレート共重合体、例えばＰＲＩＭＡＬ ＡＣ
１５６１（Rohm and Haas Co.）； (5) メタクリレート共重合体、例えばＰＬＥＸＴＯＬ
Ｍ７１８又はＰＬＥＸＴＯＬ Ｍ６００（Roehm GMBH
）； (6) コ（エチルアクリレート−メチルメタクリレー
ト）、例えばＰＬＥＸＩＧＵＭ ＭＢ３１９（Rohm an
d Haas Co.）； (7) ポリ（ビニルアセテート）、例えばＤＡＲＡＴＡＫ
６１Ｌ（WR Grace& Co. ）又はＧＥＬＶＡ Ｖ８０
０（Monsanto Co. ）； (8) コ（メチルメタクリレート−エチルアクリレート−
Ｘ）、例えばＣＡＲＢＯＳＥＴ ５１４Ａ（Goodrich
Co. ）； (9) コ（スチレン−アクリレート）、例えばＵＣＥＣＲ
ＹＬ ８１２Ｂ（ UCBS. A. ）； (10) ポリ（ウレタンエステル）、例えばＤＩＳＰＥＲ
ＣＯＬＬ ＶＰＫＡ ８４８１（Bayer AG ）； (11) コ（スチレン−ブタジエン−アクリル酸）、例え
ばＢＡＹＳＴＡＬ Ｐ２００５（Bayer AG ）； (12) ポリ（アクリレート）、例えばＡＣＲＹＳＯＬ
ＷＳ６８（Rohm and Haas Co.）； (13) コ（ビニルアセテート−ビニルラウレート）、例
えば２５ＶＬ（WackerChemie）； (14) コ（スチレン−ブタジエン）、例えばＰＬＩＯＬ
ＩＴＥ Ｓ５Ｂ（Goodyear Co. ）； (15) コ（ビニルアセテート−クロトン酸）、例えばＭ
ＯＷＩＬＩＴＨ ＣＴ５（Hoechst Co.）； (16) コ（ビニルアセテート−ビニルラウレート−クロ
トン酸）、例えばＶＩＮＮＡＰＡＳ Ｂ１００（Wacker
Chemie）； (17) コポリエステル、例えばＤＹＮＡＰＯＬＬ Ｌ４
１１又はＳ１４２０（Huels AG ）。
【００４４】好ましい実施態様において、接着剤層はコ
（スチレン−アクリレート）例えばＵＣＥＣＲＹＬ ８
１２Ｂ（UCB S. A.）を含有する。
（スチレン−アクリレート）例えばＵＣＥＣＲＹＬ ８
１２Ｂ（UCB S. A.）を含有する。
【００４５】室温で弱い感圧接着剤を接着剤層（２．
１）が含有するとき、層パック（２）は、それ自体に仮
カバーシートと剥離層を設けなければならない、さもな
いとこの組合せ体は巻き上げることができないことは容
易に理解されるであろう。積層直前に、この仮カバーシ
ートと剥離層は引き剥すことによって除去する。別の実
施方法においては、カバーシートを存在させないが、永
久支持体の裏側にシリコーン層を設ける。この組合せ体
は、シリコーン層が接着剤層に対する接着作用をするか
ら、巻上げ、巻出しできる。
１）が含有するとき、層パック（２）は、それ自体に仮
カバーシートと剥離層を設けなければならない、さもな
いとこの組合せ体は巻き上げることができないことは容
易に理解されるであろう。積層直前に、この仮カバーシ
ートと剥離層は引き剥すことによって除去する。別の実
施方法においては、カバーシートを存在させないが、永
久支持体の裏側にシリコーン層を設ける。この組合せ体
は、シリコーン層が接着剤層に対する接着作用をするか
ら、巻上げ、巻出しできる。
【００４６】層パック（１）への層パック（２）の積層
は、二つの材料を接触状態に置き、次いでこれらの材料
を好適な圧力の下で一対の加熱積層ローラーのニップ中
に導入することによって行うことができる。好適な積層
温度は通常約１０℃〜１００℃の範囲、好ましくは２０
℃〜５０℃の範囲である。積層工程はオフラインで行う
ことができるが、オンラインで行うのが更に好ましい、
これは真空蒸着によって薄い金属層、好ましくはビスマ
スの適用直後真空室中で行うことを意味する。取扱うこ
の方法によって層パック（１）は、それを層パック
（２）と積層する前に巻き上げる必要がなく、金属層の
ありうる物理的損傷が避けられる。
は、二つの材料を接触状態に置き、次いでこれらの材料
を好適な圧力の下で一対の加熱積層ローラーのニップ中
に導入することによって行うことができる。好適な積層
温度は通常約１０℃〜１００℃の範囲、好ましくは２０
℃〜５０℃の範囲である。積層工程はオフラインで行う
ことができるが、オンラインで行うのが更に好ましい、
これは真空蒸着によって薄い金属層、好ましくはビスマ
スの適用直後真空室中で行うことを意味する。取扱うこ
の方法によって層パック（１）は、それを層パック
（２）と積層する前に巻き上げる必要がなく、金属層の
ありうる物理的損傷が避けられる。
【００４７】仮支持体と剥離層の剥離方法は、手で行う
ことができる、又は層剥離装置で行うことができる。そ
の時、層剥離はオフラインでできるが、積層をオンライ
ンで行う好ましい場合においては、層剥離も、なお真空
室中でオンラインで行うことができる。最後に、完成し
たヒートモード材料は巻きとりそして貯蔵する。
ことができる、又は層剥離装置で行うことができる。そ
の時、層剥離はオフラインでできるが、積層をオンライ
ンで行う好ましい場合においては、層剥離も、なお真空
室中でオンラインで行うことができる。最後に、完成し
たヒートモード材料は巻きとりそして貯蔵する。
【００４８】先に詳述し、かつＥＰ ０６７８５６９の
意義において、保護層が光硬化性組成物を基本にしてい
る時、下記の方法の種々の段階で行うことができる：
意義において、保護層が光硬化性組成物を基本にしてい
る時、下記の方法の種々の段階で行うことができる：
【００４９】（１）層パック（２）の積層前保護層の被
覆後； （２）積層後であるが、層剥離前； （３）仮支持体と剥離層の層剥離後。
覆後； （２）積層後であるが、層剥離前； （３）仮支持体と剥離層の層剥離後。
【００５０】保護層が放射線硬化性組成物を基本にして
いるとき、本発明に相当する方法のための特に簡単な別
の実施態様がある。層（１．４）及び（１．５）を単に
除く。この場合、方法は： （Ａ′）次の層を次の順序で： （１′．１′）仮支持体、（１′．２′）剥離層、
（１′．３′）放射線硬化性保護層、（１′．４′）薄
い金属層を含む層パック（１′）を、次の層： （２′．１′）感圧接着剤又は熱接着剤層、（２′．
２′）永久透明支持体を含む層パック（２′）に積層
し、前記薄い金属層（１′．４′）と前記感圧接着剤
（２′．１′）又は熱接着剤層を相互に対面させ、
（Ｂ′）剥離法によって前記仮支持体（１′．１′）及
び前記剥離層（１′．２′）を除去し、（Ｃ′）積層工
程（Ａ′）の前、又は積層後であるが剥離工程（Ｂ′）
の前、又は剥離後、前記保護層（１′．３′）を放射線
によって硬化する、かくしてヒートモード記録材料を得
ることを含む。
いるとき、本発明に相当する方法のための特に簡単な別
の実施態様がある。層（１．４）及び（１．５）を単に
除く。この場合、方法は： （Ａ′）次の層を次の順序で： （１′．１′）仮支持体、（１′．２′）剥離層、
（１′．３′）放射線硬化性保護層、（１′．４′）薄
い金属層を含む層パック（１′）を、次の層： （２′．１′）感圧接着剤又は熱接着剤層、（２′．
２′）永久透明支持体を含む層パック（２′）に積層
し、前記薄い金属層（１′．４′）と前記感圧接着剤
（２′．１′）又は熱接着剤層を相互に対面させ、
（Ｂ′）剥離法によって前記仮支持体（１′．１′）及
び前記剥離層（１′．２′）を除去し、（Ｃ′）積層工
程（Ａ′）の前、又は積層後であるが剥離工程（Ｂ′）
の前、又は剥離後、前記保護層（１′．３′）を放射線
によって硬化する、かくしてヒートモード記録材料を得
ることを含む。
【００５１】この特別の実施態様の成功実施は、硬化前
及び後で保護層が、薄い金属層に対する良好な接着を示
すこと及びレーザー記録後金属粒子の良好な分布を可能
にすることを必要とする。換言すれば、硬化性保護層
（１′．３′）は、元の例の保護層（１．３）と下塗層
（１．５）の要求される良好な性質を組合せなければな
らない。
及び後で保護層が、薄い金属層に対する良好な接着を示
すこと及びレーザー記録後金属粒子の良好な分布を可能
にすることを必要とする。換言すれば、硬化性保護層
（１′．３′）は、元の例の保護層（１．３）と下塗層
（１．５）の要求される良好な性質を組合せなければな
らない。
【００５２】層剥離によって仮支持体及び剥離層の除去
後、得られたヒートモード材料はレーザーによる情報に
従った露光に供する。この露光は透明永久支持体の裏側
を通して行うことが必須である。好ましい実施態様にお
いて、強力レーザー放射線は赤外レーザーによって作ら
れる。特に好ましいレーザーは、半導体ダイオードレー
ザー又はソリッドステートレーザー例えば１０６４ｎｍ
で放出するＮｄ−ＹＡＧレーザー又は１０５３ｎｍで放
出するＮｄ−ＹＬＦレーザーである。他の可能な赤外レ
ーザーのタイプは、ダイオードレーザーを含む。レーザ
ー記録の重要なパラメーターは、強度の１／ｅ2 値で測
定したスポット直径（Ｄ）、フィルム上の適用されたレ
ーザー出力（Ｐ）、レーザービームの記録速度（ｖ）及
び１インチについての点の数（ｄｐｉ）である。
後、得られたヒートモード材料はレーザーによる情報に
従った露光に供する。この露光は透明永久支持体の裏側
を通して行うことが必須である。好ましい実施態様にお
いて、強力レーザー放射線は赤外レーザーによって作ら
れる。特に好ましいレーザーは、半導体ダイオードレー
ザー又はソリッドステートレーザー例えば１０６４ｎｍ
で放出するＮｄ−ＹＡＧレーザー又は１０５３ｎｍで放
出するＮｄ−ＹＬＦレーザーである。他の可能な赤外レ
ーザーのタイプは、ダイオードレーザーを含む。レーザ
ー記録の重要なパラメーターは、強度の１／ｅ2 値で測
定したスポット直径（Ｄ）、フィルム上の適用されたレ
ーザー出力（Ｐ）、レーザービームの記録速度（ｖ）及
び１インチについての点の数（ｄｐｉ）である。
【００５３】水性重合体ラテックスとして被覆した熱接
着剤層中に不均質領域が存在することによって、レーザ
ー記録中に気泡が生じうる。しかしながらこれは記録後
烈しく摩擦することにより又は高機械的圧力を適用する
ことによって改善できる。
着剤層中に不均質領域が存在することによって、レーザ
ー記録中に気泡が生じうる。しかしながらこれは記録後
烈しく摩擦することにより又は高機械的圧力を適用する
ことによって改善できる。
【００５４】下記実施例は本発明を示す、しかしこれに
限定するものではない。
限定するものではない。
【００５５】実施例 １層パック１の製造 厚さ１００μｍを有し、７５重量％のコ（ビニリレンク
ロライド−メチルアクリレート−イタコン酸（８８／１
０／２）及び２５重量％のコロイドシリカ ＫＩＥＳＥ
ＬＳＯＬ １００Ｆ（Bayer AG の登録商標）を含む下
塗層を設けたポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）仮
支持体上に、０．２５μｍの厚さを有し、ＫＩＥＳＥＬ
ＳＯＬ ３００Ｆ（Bayer AG の登録商標）（７５％）
及びＬＡＰＯＮＩＴＥ Ｓ（ Laporte Co. の登録商
標）（２５％）からなる剥離層を適用した。
ロライド−メチルアクリレート−イタコン酸（８８／１
０／２）及び２５重量％のコロイドシリカ ＫＩＥＳＥ
ＬＳＯＬ １００Ｆ（Bayer AG の登録商標）を含む下
塗層を設けたポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）仮
支持体上に、０．２５μｍの厚さを有し、ＫＩＥＳＥＬ
ＳＯＬ ３００Ｆ（Bayer AG の登録商標）（７５％）
及びＬＡＰＯＮＩＴＥ Ｓ（ Laporte Co. の登録商
標）（２５％）からなる剥離層を適用した。
【００５６】この剥離層の上に、下記被覆溶液を適用し
た、かくして乾燥後厚さ３μｍの保護層が得られた。
た、かくして乾燥後厚さ３μｍの保護層が得られた。
【００５７】 ニトロセルロース（ＤＳ：２．２５）* ２６ｇ メタノール ３３５ｍｌ エタノール ３６５ｍｌ ジエチルエーテル ２５０ｍｌ ｎ−プロパノール ５０ｍｌ ＊は置換度を示す。
【００５８】この保護層上に、乾燥後厚さ１μｍの中間
層が得られるように下記被覆溶液を適用した：
層が得られるように下記被覆溶液を適用した：
【００５９】 水 ３０ｍｌ ゼラチン １２ｇ マレイン酸 １ｇ ブタノール ２００ｍｌ メチルエチルケトン ３７０ｍｌ エタノール ４００ｍｌ ニトロセルロース（ＤＳ：２．２５） ７．５ｇ
【００６０】このパックの試料に、下記組成物から被覆
した下塗層Ｉ．ａを設けた：
した下塗層Ｉ．ａを設けた：
【００６１】 Ｉ．ａ 水 ３６ｍｌ ゼラチン １．２５ｇ 無水マレイン酸 ０．１２５ｇ ＺＥＬＥＣ ＮＫ（DuPont） （フルオロ界面活性剤） ５ｍｇ メタノール ５ｍｌ アセトン ２５ｍｌ ホルモール（４０％） ０．０５ｍｌ 水で １２５ｍｌにした。
【００６２】４種の他の下塗層被覆組成物（Ｉ．ｂ〜
Ｉ．ｅ）を前記層パックの試料に適用した、しかしなが
らこれらの場合中間層は省略した。従って下塗層は保護
層上に直接被覆した。
Ｉ．ｅ）を前記層パックの試料に適用した、しかしなが
らこれらの場合中間層は省略した。従って下塗層は保護
層上に直接被覆した。
【００６３】 Ｉ．ｂ トルエン ６６ｇ エチルアセテート ２９ｇ ポリスチレン（SUPRAPAL LG8404-BASF） ５ｇ
【００６４】 Ｉ．ｃ エタノール ６５ｇ メタノール ３０ｇ ポリアミド（AMILAN CM8000-Toray ） ５ｇ
【００６５】 Ｉ．ｄ トルエン ６６ｇ エチルアセテート ２９ｇ コポリエステル（DYNAPOL L912-Huels） ５ｇ
【００６６】 Ｉ．ｅ トルエン ６６ｇ エチルアセテート ２９ｇ コ（ビニルアセテート−ビニルアルコール− ビニルアセタール） ５ｇ
【００６７】全部のこれらの下塗層組成物を乾燥厚さ１
μｍに被覆した。
μｍに被覆した。
【００６８】最後に、前記層パックの各々に対し、ＬＥ
ＹＢＯＬＤ−ＨＥＲＡＥＵＳ type１１４０装置で真空
蒸発（１０-3ｍｂａｒ）によって下塗層側上に３００ｎ
ｍの厚さのビスマス層を適用した。
ＹＢＯＬＤ−ＨＥＲＡＥＵＳ type１１４０装置で真空
蒸発（１０-3ｍｂａｒ）によって下塗層側上に３００ｎ
ｍの厚さのビスマス層を適用した。
【００６９】層パック２の製造 コ（ビニリデン−メチルアクリレート−イタコン酸）
（８８／１０／２）７５％及びＫＩＥＳＥＬＳＯＬ １
００Ｆ（Bayer AG ）（２５％）を含む下塗層を設けた
厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレート支持体上
に、下記熱接着剤組成物を被覆した：１８．１８ｍｌの
ＵＣＥＣＲＹＬ ８１２Ｂ（５５％）（ UCB S. A. ）
を水で稀釈して１００ｍｌにし、乾燥厚さ５μｍに被覆
した。
（８８／１０／２）７５％及びＫＩＥＳＥＬＳＯＬ １
００Ｆ（Bayer AG ）（２５％）を含む下塗層を設けた
厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレート支持体上
に、下記熱接着剤組成物を被覆した：１８．１８ｍｌの
ＵＣＥＣＲＹＬ ８１２Ｂ（５５％）（ UCB S. A. ）
を水で稀釈して１００ｍｌにし、乾燥厚さ５μｍに被覆
した。
【００７０】積層工程 １００ｃｍ／分の搬送速度及び６５〜７０℃で、ＣＯＤ
ＯＲ ＬＰＰ６５０積層機（ Dorned B. V.， The Ne
therlands ）で層パック１の各試料に層パック２を積層
した。
ＯＲ ＬＰＰ６５０積層機（ Dorned B. V.， The Ne
therlands ）で層パック１の各試料に層パック２を積層
した。
【００７１】最後に、層パック１の各々の仮支持体及び
剥離層を剥離除去した。
剥離層を剥離除去した。
【００７２】レーザー記録 得られたヒートモード記録材料を、下記記録パラメータ
ーを有するＮｄＹＬＦレーザーによって永久支持体を通
して像に従って露光した。 （１）ピッチ：２１１７ｄｐｉ（全領域），２００ｄｐ
ｉ（単一走査ライン）； （２）記録速度 ４．４ｍ／秒； （３）フィルム上での出力：０．５２ワット； （４）スポット直径（１／ｅ2 ）：１４．９μｍ。
ーを有するＮｄＹＬＦレーザーによって永久支持体を通
して像に従って露光した。 （１）ピッチ：２１１７ｄｐｉ（全領域），２００ｄｐ
ｉ（単一走査ライン）； （２）記録速度 ４．４ｍ／秒； （３）フィルム上での出力：０．５２ワット； （４）スポット直径（１／ｅ2 ）：１４．９μｍ。
【００７３】結果を表１に集計して示す。
【００７４】 表 １ 品 質 品質試料No. Ｄmax Ｄmin 感 度* 単一走査ライン Ｂｉ分布 I.a 3.6 0.22 5.0×106 僅かに切れあり 極微細 I.b 4.5 0.20 5.6×106 僅かに切れあり 非常に微細 I.c 4.65 0.19 4.0×106 切れ殆どなし 微 細 I.d 4.6 0.19 3.6×106 切れなし 微 細 I.e 4.0 0.21 5.0×106 非常に少しあり 非常に微細 ＊ｍＪ／ｍ2 で表示した感度：数が小さければ小さい程感度が大であること を意味する。
【００７５】前述した場合の何れにも、妨害する干渉パ
ターンは生じなかった。
ターンは生じなかった。
【００７６】実施例 ２ 本実施例においては、一方で先行技術ＥＰ ０６８７５
６９の原理に従って設計したヒートモードビスマス記録
材料（比較材料Ｉ）と、本発明により設計したヒートモ
ードビスマス記録材料（本発明材料II）の物理特性を比
較した。両材料の主要な特長は次の通りであった（表２
ａ）：
６９の原理に従って設計したヒートモードビスマス記録
材料（比較材料Ｉ）と、本発明により設計したヒートモ
ードビスマス記録材料（本発明材料II）の物理特性を比
較した。両材料の主要な特長は次の通りであった（表２
ａ）：
【００７７】 表 ２ａ 材 料 Ｉ 材 料 II 層パック１ 層パック１ (1) ＰＥＴ １００μｍ Ｉと同じ (2) 75％コ（ViCl2-MA-IA ）* (88/10/2) ／25％ KIESELSOL 100F (Bayer) 厚さ0.1 μｍ Ｉと同じ (3) 剥離層： KIESELSOL 300F ／LAPNITE S (Laporte) (75／25） 厚さ0.25μｍ Ｉと同じ (4) 保護層：ニトロセルロース 厚さ３μｍ Ｉと同じ (5) 中間層：ニトロセルロース／ゼラチン （実施例１参照） Ｉと同じ (6) 接着剤層： UCECRYL 812B 下塗層：75％コ(ViCl2-MA-IA) 厚さ５μｍ (88/10/2) ／25％ KIESELSOL 100F 下塗層に蒸着したＢｉ層 材 料 Ｉ 材 料 II 層パック２ 層パック２ (1) 下塗層上に蒸着したＢｉ層 (2) 下塗層：75％コ(ViCl2-MA-IA)(88/10/2) 接着剤層： UCECRYL 812B ／25％ KIESELSOL 100F 、厚さ１μｍ 厚さ５μｍ (3) 75％コ(ViCl2-MA-IA)(88/10/2)／25％ KIESELSOL 100F 、厚さ0.1 μｍ Ｉと同じ (4) ＰＥＴ １００μｍ Ｉと同じ ＊：コ（ビニリデンクロライド−メチルアクリレート−イタコン酸）
【００７８】表２ｂに両材料の性質を比較して示した。
【００７９】 表 ２ｂ 特 性 材 料 Ｉ 材 料 II Ｄmax ３．５ ３．８ Ｄmin ０．２０ ０．２３ 感 度* 6.1 ×106mJ/m2 4.2×106mJ/m2 AgX記録フィルムとの相容性** 良 非常に良 露光寛容度 << AgX フィルム < AgX フィルム 保護積層体の厚さ ９μｍ ５μｍ 記録側 光沢側 暗い側 ＊：条件：スポット直径ＮｄＹＬＦレーザー（１／ｅ2 ）＝１５μｍ；ｖ＝ ４．４ｍ／ｓ ＊＊：ＡｇＸ接触材料上及びポジ及びネガ作用前増感した印刷板上でコピーし て試験した。
【００８０】表２ｂから、本発明による記録材料の利点
は、Ｂｉ層上での更に薄い保護積層体、更に高感度が明
らかになる。エネルギー的に有利な暗いビスマス側で露
光が、干渉パターンの発生なしに可能である。ＡｇＸフ
ィルムとの相容性が改良される。比較材料の場合におい
ては、これらの干渉パターンを避けるため、エネルギー
的に不利な滑らかなビスマス側での露光が必要である。
は、Ｂｉ層上での更に薄い保護積層体、更に高感度が明
らかになる。エネルギー的に有利な暗いビスマス側で露
光が、干渉パターンの発生なしに可能である。ＡｇＸフ
ィルムとの相容性が改良される。比較材料の場合におい
ては、これらの干渉パターンを避けるため、エネルギー
的に不利な滑らかなビスマス側での露光が必要である。
【００８１】実施例 ３ 前記実施例においては、層パック１及び２の相互への積
層は、別々の熱積層機で行った。これをする方法におい
ては、物理的に傷付き易いビスマス層を損傷しないよう
に注意しなければならない。本実施例は、積層工程を、
真空室中でのオンラインで行ったとき、同じ材料特性が
得られることを証明する。
層は、別々の熱積層機で行った。これをする方法におい
ては、物理的に傷付き易いビスマス層を損傷しないよう
に注意しなければならない。本実施例は、積層工程を、
真空室中でのオンラインで行ったとき、同じ材料特性が
得られることを証明する。
【００８２】実施例１の試料Ｉ．ｄの製造を下塗層（層
１．５）の被覆まで繰返した。ビスマス層の適用領域か
ら約８０ｃｍの距離で、層パック１から約３ｃｍの距離
でHeraeus 真空室中に１２００Ｗ赤外放出源を装着し
た。一対の積層機ローラーによって予備加熱した層パッ
ク１に約５ｃｍ更に離して層パック２を積層した。仮支
持体の剥離はオフラインで行った。
１．５）の被覆まで繰返した。ビスマス層の適用領域か
ら約８０ｃｍの距離で、層パック１から約３ｃｍの距離
でHeraeus 真空室中に１２００Ｗ赤外放出源を装着し
た。一対の積層機ローラーによって予備加熱した層パッ
ク１に約５ｃｍ更に離して層パック２を積層した。仮支
持体の剥離はオフラインで行った。
【００８３】実施例１のＩ．ｄと同じ特性が得られた。
しかしながら大きな利点として、完全に擦傷がなく、ピ
ンホールもない記録材料がオンライン法で作ることがで
きた。
しかしながら大きな利点として、完全に擦傷がなく、ピ
ンホールもない記録材料がオンライン法で作ることがで
きた。
【００８４】実施例 ４ 本実施例においては、保護層（１．３）を光硬化性層と
した。
した。
【００８５】下記層パックを作った：
【００８６】層パック１： (1) 仮支持体；下記下塗層を有するＰＥＴ １００μ
ｍ： (a) ７５％コ（ＶｉＣｌ2 −ＭＡ−ＩＡ）（８８／１０
／２）／２５％ＫＩＥＳＥＬＳＯＬ １００Ｆ（Bayer
）、厚さ０．１μｍ、及び(b) ８０％ゼラチン及び２
０％ＫＩＥＳＥＬＳＯＬ １００Ｆ、厚さ１μｍ； (2) 下塗層；ポリビニルアルコール（ＰＯＬＹＶＩＯＬ
Ｖ０３、Wacker Chemie）、厚さ１μｍ、市販の湿潤
剤ＵＬＴＲＡＶＯＮ ０．２％を含有する５％水性溶液
から被覆した； (3) 下記組成物から被覆した光硬化性保護層： ＨＡＢＩ（１，１′−ビイミダゾール−２，２′−ビス
（ｏ−クロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラ
フェニル） １．５ｇ メルカプトベンゾオキサゾール ０．０８ｇ ミヒラーケトン ０．１２ｇ コ（スチレン−アクリレート）（ＴＯＮＥＲＨＡＲＺ
ＶＰＯＴ５１５２（Degussa ） ９．８ｇ ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（ＳＲ３９
９、ＳＡＲＴＯＭＥＲ） ７．２ｇ メチルエチルケトン １８１．３ｇ
ｍ： (a) ７５％コ（ＶｉＣｌ2 −ＭＡ−ＩＡ）（８８／１０
／２）／２５％ＫＩＥＳＥＬＳＯＬ １００Ｆ（Bayer
）、厚さ０．１μｍ、及び(b) ８０％ゼラチン及び２
０％ＫＩＥＳＥＬＳＯＬ １００Ｆ、厚さ１μｍ； (2) 下塗層；ポリビニルアルコール（ＰＯＬＹＶＩＯＬ
Ｖ０３、Wacker Chemie）、厚さ１μｍ、市販の湿潤
剤ＵＬＴＲＡＶＯＮ ０．２％を含有する５％水性溶液
から被覆した； (3) 下記組成物から被覆した光硬化性保護層： ＨＡＢＩ（１，１′−ビイミダゾール−２，２′−ビス
（ｏ−クロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラ
フェニル） １．５ｇ メルカプトベンゾオキサゾール ０．０８ｇ ミヒラーケトン ０．１２ｇ コ（スチレン−アクリレート）（ＴＯＮＥＲＨＡＲＺ
ＶＰＯＴ５１５２（Degussa ） ９．８ｇ ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（ＳＲ３９
９、ＳＡＲＴＯＭＥＲ） ７．２ｇ メチルエチルケトン １８１．３ｇ
【００８７】この組成物は、４０μｍ被覆ナイフで、乾
燥厚さ約３．４μｍに被覆した。真空蒸着によって３０
０ｎｍの厚さのビスマス層を適用した（実施例１参
照）。
燥厚さ約３．４μｍに被覆した。真空蒸着によって３０
０ｎｍの厚さのビスマス層を適用した（実施例１参
照）。
【００８８】層パック２は実施例１の一つと同じであっ
た。
た。
【００８９】二つの層パックを、１００ｃｍ／分の搬送
速度で、６５℃で、ＣＯＤＯＲ ＬＰＰ６５０積層機で
相互に積層した。保護層の硬化は、次の方法で紫外放射
線によって行った。ＵＶ接触露光装置ＣＤＬ１５０１
（Agfa Gevaert N. V.）で、完成組合せ体を、透明支
持体を通して２３００μＷ／ｃｍ2 の出力で３０秒間均
一に露光した。この光硬化後、仮支持体を剥離した。レ
ーザー記録を実施例１と同様に行った。下記結果が得ら
れた（表３）：
速度で、６５℃で、ＣＯＤＯＲ ＬＰＰ６５０積層機で
相互に積層した。保護層の硬化は、次の方法で紫外放射
線によって行った。ＵＶ接触露光装置ＣＤＬ１５０１
（Agfa Gevaert N. V.）で、完成組合せ体を、透明支
持体を通して２３００μＷ／ｃｍ2 の出力で３０秒間均
一に露光した。この光硬化後、仮支持体を剥離した。レ
ーザー記録を実施例１と同様に行った。下記結果が得ら
れた（表３）：
【００９０】表 ３ 感 度 ５．１×１０6 ｍＪ／ｍ2 Ｄmin ０．２１ Ｄmax ４．３２ 単一走査線品質 すりへりなし Ｂｉ分布 微細良質 耐擦傷性 非常に良い
フロントページの続き (72)発明者 ステヴァン・レズィ ベルギー国モートゼール、セプテストラー ト 27 アグファ・ゲヴェルト・ナームロ ゼ・ベンノートチャップ内 (72)発明者 ジョアン・ラモット ベルギー国モートゼール、セプテストラー ト 27 アグファ・ゲヴェルト・ナームロ ゼ・ベンノートチャップ内 (72)発明者 リュク・レーンデル ベルギー国モートゼール、セプテストラー ト 27 アグファ・ゲヴェルト・ナームロ ゼ・ベンノートチャップ内
Claims (18)
- 【請求項１】 （Ａ）次の順序で、次の層： （１．１）仮支持体、（１．２）剥離層、（１．３）保
護層、（１．４）任意中間層、（１．５）下塗層、
（１．６）薄い金属層を含む層パック（１）を、次の
層： （２．１）感圧接着剤又は熱接着剤層、（２．２）永久
透明支持体を含む層パック（２）に積層し、前記薄い金
属層（１．６）と前記感圧接着剤又は熱接着剤層（２．
１）を相互に対面させ、（Ｂ）前記仮支持体（１．１）
及び前記剥離層（１．２）を剥離法によって除去する工
程を含み、かくしてヒートモード記録材料を得ることを
特徴とするヒートモード記録材料の製造方法。 - 【請求項２】 前記保護層が、ニトロセルロースを含有
することを特徴とする請求項１の方法。 - 【請求項３】 前記保護層が、放射線硬化性組成物を含
有し、積層工程（Ａ）の前で、又は積層工程（Ａ）と剥
離工程（Ｂ）の間で、又は剥離工程（Ｂ）の後で放射線
によって硬化されることを特徴とする請求項１の方法。 - 【請求項４】 前記硬化を、紫外放射線により、又は電
子ビームにより、又は全面加熱工程により行うことを特
徴とする請求項３の方法。 - 【請求項５】 前記薄い金属層が、ビスマス層であるこ
とを特徴とする請求項１〜４の何れか１項の方法。 - 【請求項６】 前記薄い金属層（１．６）が、真空蒸着
により前記下塗層（１．５）の上に適用されることを特
徴とする請求項１〜５の何れか１項の方法。 - 【請求項７】 前記中間層（１．４）が、ニトロセルロ
ース、ゼラチン及びマレイン酸の混合を含有することを
特徴とする請求項１〜６の何れか１項の方法。 - 【請求項８】 前記下塗層（１．５）が、高分子線状コ
ポリエステルを含有することを特徴とする請求項１〜７
の何れか１項の方法。 - 【請求項９】 前記接着剤層（２．１）が、コ（スチレ
ン−アクリレート）共重合体を含有することを特徴とす
る請求項１〜８の何れか１項の方法。 - 【請求項１０】 （Ａ′）次の順序で、次の層： （１′．１′）仮支持体、（１′．２′）剥離層、
（１′．３′）放射線硬化性保護層、（１′．４′）薄
い金属層を含む層パック（１′）を、次の層： （２′．１′）感圧接着剤又は熱接着剤層、（２′．
２′）永久透明支持体を含む層パック（２′）に積層
し、前記薄い金属層（１′．４′）と前記感圧接着剤又
は熱接着剤層（２′．１′）を相互に対面させ、
（Ｂ′）前記仮支持体（１′．１′）及び前記剥離層
（１′．２′）を剥離法によって除去し、（Ｃ′）積層
工程（Ａ′）の前、又は前記積層工程（Ａ′）と前記剥
離工程（Ｂ′）の間、又は前記剥離工程（Ｂ′）の後で
前記保護層（１′．３′）を放射線によって硬化する工
程を含み、かくしてヒートモード記録材料を得ることを
特徴とするヒートモード記録材料の製造方法。 - 【請求項１１】 前記硬化を、紫外放射線、又は電子ビ
ーム、又は全面加熱工程によって行う請求項１０の方
法。 - 【請求項１２】 前記放射線硬化性保護層（１′．
３′）が、多官能性アクリレート単量体を含むことを特
徴とする請求項１０又は１１の方法。 - 【請求項１３】 前記薄い金属層が、ビスマス層である
ことを特徴とする請求項１０〜１２の何れか１項の方
法。 - 【請求項１４】 硬化性接着剤層（２′．１′）が、コ
（スチレン−アクリレート）共重合体を含有することを
特徴とする請求項１０〜１３の何れか１項の方法。 - 【請求項１５】 前記薄い金属層（１′．４′）が、真
空蒸着により前記放射線硬化性接着剤層（１′．３′）
の上に適用されることを特徴とする請求項１０〜１４の
何れか１項の方法。 - 【請求項１６】 請求項１〜１５の何れか１項により規
定されたヒートモード記録材料を、前記永久透明支持体
（２．２）又は（２′．２′）の裏側を通して強力レー
ザー放射線に情報に従って露光することを特徴とするヒ
ートモード画像の形成方法。 - 【請求項１７】 前記強力レーザー放射線が、赤外レー
ザーによって作られることを特徴とする請求項１６の方
法。 - 【請求項１８】 前記赤外レーザーが、ソリッドステー
トレーザー又は半導体ダイオードレーザーであることを
特徴とする請求項１７の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE96201082.3 | 1996-04-23 | ||
| EP96201082 | 1996-04-23 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1044596A true JPH1044596A (ja) | 1998-02-17 |
| JP2879142B2 JP2879142B2 (ja) | 1999-04-05 |
Family
ID=8223904
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9116305A Expired - Fee Related JP2879142B2 (ja) | 1996-04-23 | 1997-04-18 | 金属ヒートモード記録材料の製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2879142B2 (ja) |
| DE (1) | DE69700933T2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101019949B1 (ko) | 2003-04-18 | 2011-03-09 | 소니 주식회사 | 광 기록매체 제조용 시트 및 광 기록매체 |
-
1997
- 1997-04-18 JP JP9116305A patent/JP2879142B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1997-04-21 DE DE1997600933 patent/DE69700933T2/de not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101019949B1 (ko) | 2003-04-18 | 2011-03-09 | 소니 주식회사 | 광 기록매체 제조용 시트 및 광 기록매체 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE69700933T2 (de) | 2000-06-15 |
| JP2879142B2 (ja) | 1999-04-05 |
| DE69700933D1 (de) | 2000-01-20 |
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