JPH1044478A - レーザ発光アレイの直線度からの偏差の光学的修正装置 - Google Patents

レーザ発光アレイの直線度からの偏差の光学的修正装置

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JPH1044478A
JPH1044478A JP9117371A JP11737197A JPH1044478A JP H1044478 A JPH1044478 A JP H1044478A JP 9117371 A JP9117371 A JP 9117371A JP 11737197 A JP11737197 A JP 11737197A JP H1044478 A JPH1044478 A JP H1044478A
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デヴィッド・ケスラー
Douglass Lane Blanding
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 プリントヘッドの性能が、アレイ方向に垂直
な位置の誤差を持たない直線状エミッタアレイが達成す
る性能と略等しくなるよう、直線状アレイのエミッタの
アレイ方向に直交する位置の誤差を修正する。 【解決手段】 アレイ方向に沿ってほぼ整列した位置に
配置された複数のレーザエミッタ３４〜３９のアレイで
あって、前記位置が、真っ直ぐなアレイ方向のラインか
らアレイ方向の交差方向にずれており、かつ各レーザエ
ミッタが光ビームを、アレイ方向及びアレイ交差方向と
垂直となる方向に発生させるレーザエミッタのアレイ
と；光ビーム通路内に設けられた、アレイ交差方向にお
ける各光ビーム通路を整列させるための補正手段であっ
て、これにより各レーザエミッタの、真っ直ぐなアレイ
方向のラインからのずれを修正する補正手段４２と；を
備える、レーザエミッタのアレイの直線状態の偏差を修
正するための光学装置。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、概して、感光性媒
体を露光するために、プリンタで使用するレーザ・エミ
ッタの線形アレイに関するものである。
【０００２】
【従来の技術、及び、発明が解決しようとする課題】レ
ーザ熱プリンタの場合、レーザの光学的パワーは、感光
性媒体に影響を与えるために使用される。印刷はダイ転
写媒体、アブレーション媒体、ホトレジスト媒体または
他の任意の感光性媒体上に行うことができる。レーザ熱
プリンタの印刷速度を速くするためには、強いパワーが
必要である。レーザ熱プリンタで強いパワーを発生する
技術の一つに、ダイオード・レーザ・エミッタのモノリ
シック・アレイを使用する方法がある。
【０００３】レーザ・アレイは、通常１０ミリの長さの
一本の線上に配置されたレーザ・エミッタのアレイから
なる。アレイの各エミッタは、エミッタのラインに沿っ
た方向（以後「アレイ方向」と呼ぶ）に、約４ミクロン
から２００ミクロンの長さの発光アパーチャを持つ。ア
レイ方向に垂直な、アレイ方向を横切る方向の、発光ア
パーチャの幅は０．５−１ミクロンしかない。それ故、
最大輝度の半分の輝度の場合に、幅全体を基準に測定し
た場合、発光プロファイルは、アレイ方向に垂直な方向
に、約３０度の大きな開きができる。アレイ方向の発光
の向きは、最大輝度の半分の輝度の場合に、幅全体を基
準に測定したところ、通常約１０度と小さい。
【０００４】１９８９年２月１４日付発行の K. Yip 氏
による米国特許第４，８０４，９７５号は、ダイを運ぶ
ドナー媒体を照射するダイオード・レーザ・エミッタの
モノリシック・アレイを含む熱ダイ転写装置を開示して
いる。ドナー媒体は、レーザ光から熱を吸収し、ダイは
ドナー媒体からレシーバ部材に転写される。アレイのダ
イオード・レーザ・エミッタは、別々に変調される。レ
ーザ・エミッタのアレイが、媒体上にそのようなシステ
ムで直接映像化されると、アレイ方向に垂直なアレイ・
エミッタの位置の誤差は、媒体上にも現れる。
【０００５】そのような用途の場合には、印刷した点を
偏差のない一直線上に印刷することが重要である。そう
でないと、余計なものが文書内に印刷される。図１は、
ドラムの周囲に巻き付けられた媒体上に、角度αだけ傾
いている点のアレイを示す。ラスタ・ライン１０、１
２、１４及び１６は、上記点により形成されている。点
１８及び２０のずれは我慢できる程度のものであるが、
点２２はその印刷位置から大きくずれてしまっている。
【０００６】この場合、印刷した点のアレイは角度αだ
け傾いていて、ラスタ・ライン１０、１２、１４等は所
定のピッチで印刷されている。印刷された点２２が直線
状態からずれると、そのラスタ・ラインが印刷媒体に沿
って軸方向にずれることになる。ラスタ・ラインのこの
ような均一でない間隔が、いわゆる「バンディング (ba
nding)」と呼ばれる本来の印刷とは異なる印刷を生じる
原因である。印刷ヘッドがα＝０のように傾いていない
場合には、直線状態からのずれは、各印刷点に対して時
間的な遅れを変えてやることにより、特定の印刷面に対
して電子的に修正することができる。しかし、（異なる
厚さのレシーバシートを使用した場合のように）媒体面
が上記特定の面からずれている場合には、遅延を調整す
る必要があり、そうしないと位置の誤差がハッキリとし
てしまう。それ故、多重点レーザ・プリンタの場合に
は、一直線上に点を印刷し、光学軸に沿ってある焦点深
度の距離に渡ってこの直接度を維持することが重要であ
る。
【０００７】通常、印刷点は、レーザ・エミッタの拡大
した映像を作る光学システムにより作られる。アレイの
標準のレーザ・ダイオード・エミッタは、アレイ方向に
約４−２００ミクロン、アレイ方向に垂直な方向に０．
５−１ミクロンのアパーチャを有する。印刷点の通常の
大きさは、約５ミクロンから約５０ミクロンの範囲内に
ある。そのため、光学システムは１０ｘから１００ｘの
倍率を持つ必要がある。
【０００８】ある種のレーザ製造プロセスの場合には、
レーザ・エミッタが完全な直線上に並ばない。この場合
の誤差の大きさは、５ミクロンにも及ぶことがあり、こ
の誤差の大きさは印刷した点自身より大きい。上記のよ
うな、アレイ方向に垂直な方向に印刷点を非常に大きく
拡大する光学システムの場合には、ずれの誤差も同じだ
け拡大される。そのため、実際の点の大きさと比較する
と、印刷点のずれが大きくなる。そのような非直線状の
点で印刷した場合には、映像は使いものにはならない。
本明細書では、レーザ・エミッタの理想的な線からの垂
直方向への上記ずれを、「アレイ方向に垂直なエミッタ
位置」の誤差と呼ぶことにする。
【０００９】しかし、アレイ方向に垂直なエミッタ位置
の有意な誤差があっても、上記レーザのずれを光学的に
修正し、媒体上に点を直線状に印刷する方法がある。こ
の方法は、レーザそれ自身（近視野）を映像化するので
はなく、媒体上にレーザの遠視野（レーザから非常に遠
い平面）を、アレイ方向に垂直な方向に映像化するとい
う方法を使用している。遠視野で、ビームが広がり大き
くなるのを観察すれば、この方法を理解できる。図２に
示すように、アレイ方向に相互に分離しているレンズを
持つ小さなレンズ・アレイ２７が、遠視野に映像を結
ぶ。直線状態からアレイ方向に垂直な方向へのエミッタ
の数ミクロンのずれは、ビームの大きさと比較すると小
さくなり、遠視野においては、ビームはほぼ一直線に並
ぶということがいえる。何故なら、アレイ方向に垂直な
エミッタ位置の誤差は、ビームの大きさと比較すると小
さいからである。
【００１０】アレイ方向に垂直な方向に拡大することが
できるレンズを使って、遠視野を有限の距離に移動させ
ることができる。図３は、アレイ方向に垂直な方向のレ
ーザ・ダイオード・アレイの断面を示す。レーザ・エミ
ッタ２４及び２６は、アレイ方向に垂直な方向へのエミ
ッタの位置の誤差だけずれている。レンズ２８は、エミ
ッタからｆ28の距離のところに設置されている。遠視野
は、レンズ２８のバックフォーカル面（第二の主な焦
点）３０上にある。それ故、バックフォーカル面上のア
レイは直線状になっている。しかし、異なるレーザ・エ
ミッタからのビームは、この面から異なる角度で現れ
る。アレイ方向に垂直なエミッタ位置の誤差は、角度誤
差に変換される。例えば、エミッタ２４のアレイ方向に
垂直なエミッタ位置の誤差がεである場合には、面３０
における角度誤差は、ε／ｆ28という簡単な形で表され
る。
【００１１】レンズ２８のバックフォーカル面におい
て、アレイが直線状に並んでいることを他の方法で説明
すると、アレイのいくつかのレーザ・エミッタからのビ
ームの中心部の光線は、すべて光の照射面に垂直に照射
されるので、上記ビームはすべて相互に平行である。レ
ンズに平行に入射した平行光線は、レンズのバックフォ
ーカル面で交差するのは周知であり、それ故、エミッタ
・アレイは面上で直線状になる。何故なら、レーザ・エ
ミッタの中心の光線が上記面で交差するからである。そ
の後、バックフォーカル面は、他の光学系を通して、直
線を形成している印刷点により媒体上に映像化すること
ができる。印刷点のアレイを形成する目的で、レシーバ
媒体上に映像化される空間変調装置のアレイを照明する
ために、ダイオード・レーザ・アレイを使用しているプ
リンタの場合には、変調装置に対する照明をより均等に
し、アレイの故障を起こしているエミッタ及び発光しな
いエミッタが印刷に悪影響を与えないように、通常アレ
イのレーザ・エミッタからの光は混合される。空間変調
装置による光の損失を避けるために、変調装置のところ
でのエミッタ映像は、直線状に拡大されたものでなけれ
ばならない。このことは、変調装置を、ビームのアレイ
方向に垂直な方向でのレーザ・エミッタの遠視野に対し
て、幾何学的に共役にすることにより達成することがで
きる。
【００１２】高いパワー・スループットを必要とする用
途の場合には、映像レシーバ媒体上の印刷点を直線状に
するだけでは十分でない。図３に示すバックフォーカル
面映像化技術は、点を直線状に形成するが、アレイ方向
に垂直なエミッタ位置の誤差を完全には補償しない。図
３を見れば分かるように、アレイ方向に垂直なエミッタ
位置の誤差は、バックフォーカル面３０の後ろで角度誤
差に変換される。上記角度誤差は、光が光学系を進行す
るにつれて増大する。この角度誤差があまり大きくなる
と、光の損失が起こり、パワー・スループットが使用に
適さない程度まで低下する。
【００１３】上記光の損失は、第一のレンズのバックフ
ォーカル面が、アパーチャのアレイと見なすことができ
る変調装置上に映像化されるタイプの変調装置を使用す
るシステムの場合はさらに増大する。上記バックフォー
カル面が倍率が低下した変調装置上に映像化されると、
変調装置におけるビームの角度誤差が拡大される。この
角度誤差の拡大は、ラングランジ不変式を満足させる程
度のものでなければならない。角度誤差が拡大すると、
上記の拡大した角度を受け入れることができるだけ十分
大きい必要があるそれ以降のレンズの数字によるアパー
チャに、より大きな負担が掛かる。そうでないと、上記
変調装置以降の光学系により、アレイ方向に垂直なエミ
ッタ位置の大きな誤差を有するレーザ・エミッタからの
光がぼけることになる。
【００１４】光のビームが変調装置以降の光学系を通過
してもぼけない場合には、映像レシーバ媒体の焦点深度
は、アレイ方向に垂直なエミッタ位置の誤差がない場合
よりも小さくなる。焦点深度は浅くなる。何故なら、大
きなビーム角度が映像レシーバ媒体に入ると、光の分散
が大きくなり、その結果焦点のシフトが小さくなると共
に、印刷点の大きさが使用できなくなるほど大きくなる
からである。
【００１５】それ故、アレイ方向に垂直なエミッタ位置
の誤差を修正しないと、少なくとも下記の三つの悪影響
が生じる：（１）印刷点が直線状にならない。（２）ビ
ームがぼけるために光の損失が起こる。（３）印刷媒体
のところでの焦点深度が浅くなり、システムの製造が難
しくなる。それ故、従来技術では、ダイオード・レーザ
・アレイの非直線性を完全に修正する手段を作ることが
できない。
【００１６】本発明の一つの目的は、プリントヘッドの
性能が、アレイ方向に垂直な位置の誤差を持たない直線
状のエミッタ・アレイが達成することができる性能とほ
ぼ等しくなるように、直線状のアレイのエミッタのアレ
イ方向に垂直な位置の誤差を修正することである。
【００１７】本発明の他の目的は、プリントヘッドの性
能が、一つ以上の平面上でアレイ方向に垂直な位置の誤
差がない直線状のエミッタ・アレイにより達成できる性
能とほぼ等しくなるように、直線状のアレイのエミッタ
のアレイ方向に垂直な位置の誤差を修正し、アレイ方向
に垂直な方向を向いているレーザ・アレイのラングラン
ジ不変量を小さくする方法を提供することである。
【００１８】本発明のさらに他の目的は、アレイ方向に
垂直なエミッタ位置の誤差ばかりでなく、エミッタ・ア
レイの遠視野映像化により除去できなかった角度誤差ま
でも除去または大きく減少するための方法を提供するこ
とである。
【００１９】本発明のさらに他の目的は、各構成部材を
通過するビームをシフトさせるために、傾斜した面を持
つ平行プレート、またはずれまたは傾きを持つ小さなレ
ンズ部材を使用して、アレイ方向に垂直なエミッタ位置
の誤差、及びエミッタ・アレイの角度誤差を除去または
大きく減少するための方法を提供することである。
【００２０】本発明のさらに他の目的は、うまく分離で
きないアレイ方向に垂直なエミッタ位置の誤差、及びビ
ームの角度誤差を除去または大きく減少するための方法
を提供することである。
【００２１】本発明のさらに他の目的は、他のエミッタ
からのビームに悪影響を与えないで、アレイの各エミッ
タのアレイ方向に垂直なエミッタ位置の誤差を除去する
ために調整することができる構成部材により、うまく分
離することができないアレイ方向に垂直なエミッタ位置
の誤差及びビームの角度誤差を除去または大きく減少す
るための方法を提供することである。
【００２２】
【課題を解決するための手段】本発明の一つの特徴は、
アレイ方向に沿ってほぼ直線状に配列された位置にある
レーザ・エミッタのアレイの直線状態からの偏差を修正
するための光学装置が、アレイ方向に垂直な方向に、光
ビーム通路を整合させるために、光ビーム通路に修正装
置を含むことである。
【００２３】本発明の他の特徴は、整形光学装置が、個
々のエミッタからの光を上記修正装置の個々の関連領域
に向けるために、レーザ・エミッタのアレイと修正装置
との間に設置されていることである。上記整形光学装置
としては、個々の小さなレンズが、修正していない印刷
点を形成するために、対応するエミッタからのビームを
受光し、対応するエミッタを一つの平面上に映像化する
ように配置されている、少なくともアレイ方向に拡大す
ることができる小さなレンズのアレイを使用することが
できる。
【００２４】本発明の他の特徴は、上記修正装置が、ア
レイ方向に垂直な方向に光ビーム通路を整合する目的
で、ある量だけビームをずらすために別々に傾けること
ができる平らな平行プレートのアレイを含むことができ
ることである。平らな平行プレートは、一方の側にヒン
ジを取付け、ヒンジを中心に回転することができるよう
にすることができる。
【００２５】本発明の他の特徴は、上記修正装置が、上
記のプレートを光ビーム通路に対して種々の角度で設置
できるように、上記平らな平行プレートを収容できる半
円筒形のトレイを含むことができることである。複数の
調整可能なネジが平らな平行プレートと関連していて、
上記プレートを上記の種々の角度に設置することができ
る。
【００２６】本発明の他の特徴は、上記修正装置が、そ
れぞれが折曲げられたビーム通路に沿って、ビームを反
射するために、調整することができ、それによりアレイ
方向に垂直な方向に折曲げたビーム通路をに整合するた
めに、反射光をある量だけずらすような角度で、各ビー
ムと関連している複数のミラーのアレイを含むことがで
きることである。
【００２７】本発明の他の特徴は、上記修正装置が、ア
レイ方向に垂直な方向にビーム通路を整合させる目的
で、関連ビームをある量だけずらすために、それぞれが
ビームの一本と関連し、関連ビームの通路でアレイ方向
に垂直な方向に移動することができる、小さなレンズの
アレイを含むことができることである。上記小さなレン
ズは、アレイ方向に垂直な方向にずらすことにより、ま
たアレイ方向に垂直な方向に傾けることにより、移動さ
せることができる。
【００２８】本発明の他の特徴は、上記修正装置が、ア
レイ方向に平行な直径の小さなロッド・レンズを含むこ
とができることである。上記ロッド・レンズは、ロッド
・レンズのフロント・フォーカル面に設置されているレ
ーザ・エミッタのアレイにより、フロント・フォーカル
面を形成することができる。ロッド・レンズには、アレ
イ方向に垂直な方向にビーム通路を整合させる目的で、
関連ビームをある量だけずらすために、関連ビームの通
路でアレイ方向に垂直な方向に強制的に歪を与えること
ができる。
【００２９】本発明及びその目的及びその利点は、下記
の好適な実施形態の詳細な説明を読めばさらに明らかに
なる。
【００３０】
【発明の実施の形態】添付の図面を参照しながら、本発
明の好適な実施形態を詳細に説明する。図１は、従来技
術によるレーザ・エミッタ・アレイにより映像化が行わ
れた印刷ドラム；図２は、従来技術によるレーザとその
遠視野の斜視図；図３は、従来技術によるレンズのバッ
クフォーカル面で、アレイ方向に垂直な方向に送られる
レーザの側断面図；図４は、本発明による非直線状のレ
ーザ・アレイを修正するための装置全体の略斜視図；図
５ａ及び図５ｂは、本発明による非直線状のレーザ・ア
レイを修正するための他の装置の略平面及び側面図；図
６は、本発明による傾斜した平らな平行プレートのアレ
イで形成されている修正装置の略斜視図；図７ａ−図７
ｃは、本発明による非直線状のレーザ・アレイを修正す
るための構造物の略側断面図；図８は、図７ａ−図７ｃ
の装置の略斜視図；図９は、本発明による非直線状のレ
ーザ・アレイを修正するための装置の他の実施形態の一
部の略側面図；図１０は、図９の装置の上記部分の斜視
図；図１１は、図９及び図１０の装置の一部の斜視図；
図１２ａ及び図１２ｂは、本発明による非直線状のレー
ザ・アレイを修正するための他の装置の略平面及び側面
図；図１３は、本発明による非直線状のレーザ・アレイ
を修正するための装置の他の実施形態の略斜視図；図１
４は、本発明による非直線状のレーザ・アレイを修正す
るための装置の他の実施形態の略斜視図である。
【００３１】下記の説明中には、特に本発明による装置
の部分を形成、またはより直接的に協同して動作する部
材について述べる。特に図示し、説明していない部材
は、当業者なら周知の種々の形をとることができること
を理解されたい。
【００３２】図４は、本発明に従って設計した印刷ヘッ
ドの一例である。レーザ・ダイオード・アレイ３２は、
理想的な直線からアレイ方向に垂直なエミッタ位置の誤
差だけ、アレイ方向にずれているレーザ・エミッタ３４
−３９から形成されている。集光及び整形光学系４０
は、光を修正装置４２の方向に向け、この修正装置４２
は、非直線性を修正する。修正されたビームは、整形光
学系４４及び印刷レンズ４６内を伝播する。修正された
場合には、媒体面上の点４８−５３は、一直線状に印刷
される。修正を受けない場合には、図４の５４に示すよ
うに、点は一直線状に印刷されない。
【００３３】通常、エミッタのところでのビーム・サイ
ズは、アレイ方向に垂直な方向においてたったの約１ミ
クロンである。媒体面における通常のビーム・サイズ
は、１インチ当たり約２５００のドットで印刷されるグ
ラフィックアートの場合に必要な高解像度で印刷するた
めに、約１０ミクロンである。それ故、図４のシステム
の場合には、エミッタは、アレイ方向に垂直な方向にお
いて媒体に対して共役関係にあり、エミッタと媒体との
間の倍率「ｍ」は１０に等しい。エミッタのところにお
けるアレイ方向に垂直なエミッタ位置の誤差もｍ倍され
る。エミッタのところでのアレイ方向に垂直なエミッタ
位置の誤差が５ミクロンの場合には修正しない場合、印
刷アレイ５４は、５０ミクロン（５ミクロン ｘ １
０）のずれを生じる。
【００３４】本発明の一つの特徴によれば、印刷レンズ
４６の入り口のひとみ５６のところで、ビームがアレイ
方向に垂直な方向に重畳している間に、エミッタ・アレ
イからのビームが修正されることである。それ故、修正
されたビームは、完全な直線状のレーザ・ダイオード・
アレイからのビームと区別することができない。
【００３５】図５ａ、図５ｂ及び図６を参照しながら説
明したように、本発明は、複数のダイオード・エミッタ
３４、３５、３６等を有する、レーザ・ダイオード・ア
レイ３２のアレイ方向に垂直なエミッタ位置の誤差を完
全に修正する。その様子を図５ａ及び図５ｂの二つの図
面に示す。図５ａの平面図は、アレイ方向の断面図であ
り、図５ｂは、アレイ方向に垂直な方向の断面図であ
る。図５ｂには二つのエミッタの位置だけしか示してい
ないが、それはこの明細書の目的が、ダイオード３５
が、ダイオード３４と同じ量だけアレイ方向に垂直な方
向にずれていて、この図では重畳していることを示せば
十分だからである。アレイ方向に垂直な方向に拡大する
ことができるレンズ２８は、レーザ・ダイオード・アレ
イが放射した光を集める。
【００３６】小さなレンズ６２〜６４のアレイは、少な
くともアレイ方向に拡大することができる。小さなレン
ズは、それぞれ対応するエミッタ３４、３５または３５
からの光を受光し、図５ｂに示すように、修正されてい
ない印刷点６８〜７０を形成するために、エミッタの映
像を平面６６上に結ぶ。平面６６と小さなレンズ６２〜
６４との間の任意の中間平面においては、異なるダイオ
ード・レーザからのビームは、図５ａに示すように、ア
レイ方向にハッキリと分離することができる。
【００３７】平面７２は、レンズ６０のバックフォーカ
ル面である。異なるエミッタからのビームの中心の線
は、図５ｂに示すように、平面７２で交差する。平行光
線をそのバックフォーカル面で遮断するのは、レンズの
持つ一般的な特性である。それ故、ビームのアレイは平
面７２で直線となる。何故なら、上記ビームはアレイ方
向に垂直な方向で重畳するが、アレイ方向では分離する
ことができるからである。平面７２は、また小さなレン
ズ６２〜６４の前に置くこともできる。
【００３８】レンズ７４は、アレイ方向に垂直な方向に
拡大することができ、レンズ２８と共にエミッタ・アレ
イ３２の映像を平面６６上に形成する。レンズ２８及び
７４からなるシステムは、アレイ方向に垂直な方向に無
限焦点を持ち、そのため、アレイ方向に垂直な方向で二
重にテレセントリックになる。
【００３９】上記ビームは、エミッタの光放射面及び平
面６６両方に対して垂直である。この最も簡単な形の場
合には、エミッタとレンズ２８との間の距離は、レンズ
２８の焦点距離ｆ28で決まり、レンズ２８と平面７２と
の間の距離もｆ28である。平面７２とレンズ７４との間
の距離は、レンズ７４の焦点距離ｆ74ニに等しく、レン
ズ７４と平面６６との間の距離もｆ74に等しい。
【００４０】それ故、平面６６は、レーザ・ダイオード
・アレイ３２のエミッタ面の平面に対して共役関係にな
っている。任意のアレイ方向に垂直なエミッタ位置の誤
差は、後で詳細に説明するように、修正装置４２（図
４）が存在しない場合には、平面６６上でハッキリと観
察することができる。エミッタ３４及び３５は、それぞ
れ６８及び６９で映像化することができ、エミッタ３６
は、７０で映像化することができる。エミッタのアレイ
方向に垂直なエミッタ位置の誤差は、平面６６上で次式
で表される係数「ｍ」で拡大される。 ｍ＝ｆ74／ｆ28
【００４１】本発明の一つの特徴は、平らな平行プレー
ト７６、７７及び７８のアレイが、アレイ方向に垂直な
エミッタ位置の誤差を、完全に補償するために使用され
ることである。平らな平行プレート７６〜７８は、それ
ぞれ厚さ「ｔ」の傾斜した個々の平らな平行プレートで
ある。角度θだけ傾斜した場合、平らな平行プレートは
ビームを、次式で表される量「ｓ」だけ偏向させる。 ｓ＝ｔ*｛１−［ｃｏｓ（θ）／ｓｑｒｔ（ｎ2−ｓｉｎ
2（θ））］｝
【００４２】図６は、（従来技術よりももっと多くのエ
ミッタを使用することができる）傾斜した平らな平行プ
レート７６〜８０のアレイの斜視図である。平らな平行
プレート７６〜８０は、レーザ・ダイオード・アレイ３
２の対応するエミッタのビームを、未修正位置６８及び
６９から、修正位置４８、４９に移動させることによっ
て、上記エミッタ・アレイのアレイ方向に垂直なエミッ
タ位置の誤差を修正する。この場合、図５ｂに示すよう
に、上記ビームはレーザ点５０に重なっている。
【００４３】それ故、平面６６上においては、すべての
レーザ点４８〜５０は重なっている。ビームの垂直度
は、平らな平行プレートによって影響を受けていないの
で、ビームは依然として平面６６に対して垂直である。
それ故、平面６６上においては、レーザ像を、完全に直
線状のレーザ・ダイオード・アレイの像から分離するこ
とはできない。
【００４４】個々の平行なガラス・プレート７６〜８０
を、必要なだけ傾斜するように調整するためには、別の
機構が必要になる。図７ａ〜図７ｃは、小型の光学調整
装置である。この調整装置は、多重ビーム・アレイの個
々のビームを平行にオフセットするように少し修正する
ために使用することができる。
【００４５】平らなガラス板８２の形をした平らな平行
プレートは、半円筒形のトレイ８４に入れ子状に余裕を
持って挿入されている。その後、小さなリーフ・スプリ
ング９０の力「Ｐ」に抗してレバー８８によって動作す
る調整ネジ８６により、ガラス板の傾斜を設定すること
ができる。ガラス板の対向端部は、調整ネジ８６を回し
た場合に生じるガラスとトレイ面との間に必要な滑り接
触が容易に得られるように、かど取りが行われている。
【００４６】図８について説明すると、複数のガラス板
８２は細長いトレイ８４に入れ子状態で収容されてい
る。一枚のガラス板がアレイの各光ビームに対応してい
る。各ガラス板８２が、関連調整ネジ８６、レバー８８
及びリーフ・スプリング９０を持っている。図には、六
組のガラス板、ネジ、レバー及びスプリングが示されて
いて、後から追加できるようにスペースが設けられてい
る。
【００４７】すべての調整が完了すると、ガラス板をト
レイの正しい位置に接着することができる。その後、ネ
ジ８６、レバー８８及びスプリング９０を除去し再使用
することができる。
【００４８】図９〜図１１は、エミッタのアレイ方向に
垂直なエミッタ位置の誤差の修正を行うために必要な平
行オフセットを、少し調整するのに使用することができ
る小型光学調整装置の他の実施形態である。すでに説明
した実施形態は、光ビームのアレイを直線状にするため
に個々に傾斜させることができる、複数の小さなガラス
板を使用している本質的に屈折を利用したものである
が、図９〜図１１の実施形態は、本質的に反射を利用し
たもので、薄いミラー９２を積み重ねたものを使用して
いる。
【００４９】ミラー９２は、ピボット・ピン９４を中心
にして個々の傾斜させることができる。上記ミラーは、
レバーの各スタックの表面の小さな部分９６を磨いて、
金メッキすることにより製造することができる。各レバ
ーは、レバーがピンを中心にして回転できるように、ピ
ボット・ピン９４上に入り子状態になっているＶ型のノ
ッチ９８を含む。
【００５０】ピンの軸の周囲の各レバーの正確な位置
は、個々に制御され、各レバーがひとつずつ持っている
調整ネジ１００によって設定される。レバーは非常に薄
いので、最も小さいネジを使用したとしても、ネジ山隣
同志を並べて設置するだけのスペースがない。それ故、
ネジ山はずらして設置されている。すなわち、半分はピ
ボット・ピン９４の一方に、もう半分は上記ピンの他方
に設置されている。このようにずらして設置しても、各
グループの調整ネジの間隔は非常に狭い。そのため、各
グループのネジもずらして設置されている。
【００５１】小さなワイヤ・スプリング１０２が、レバ
ーに力を加えている。この力により、レバーのＶ型のノ
ッチがピンに押しつけられ、レバーを調整ネジの端部と
物理的に接触させている。各スプリングは、その力を二
つの隣接しているレバーに加えている。
【００５２】図１２ａ及び図１２ｂは、他の好適な実施
形態である。レーザ・ダイオード・アレイ３２及びレン
ズ６０及び小さなレンズのアレイ６４は、図５のところ
で説明したものと同じものである。この実施形態の場合
には、小さなレンズのアレイ１０４〜１０６は、アレイ
中の小さいなレンズそれぞれが一つのエミッタに対応す
るように、少なくともアレイ方向に垂直な方向に拡大す
ることができるよう、平面７２上に設置されている。上
記小さなレンズは、この平面上でビームの角度誤差を補
償するために、アレイ方向に垂直な方向に偏向してい
る。
【００５３】例えば、エミッタ３４のアレイ方向に垂直
なエミッタ位置の誤差がεaである場合には、平面７２
上の角度誤差は、すでに説明したように、ε／ｆ28によ
り簡単に求めることができる。この角度誤差を修正する
ために、小さなレンズ１０６を次式で表される量δaだ
けずらす必要がある。 δa／ｆa＝ε／ｆ28 但し、ｆａは、アレイ方向に垂直な方向における小さな
レンズのアレイの焦点距離である。
【００５４】小さなレンズ１０４〜１０６は、また角度
誤差を修正するばかりでなく、アレイ方向に垂直な方向
におけるビームの集束を変化させる。この開きの変化が
望ましくない場合には、小さなレンズ１０４〜１０６の
倍率を打ち消すための図示していない定置補償レンズに
より、容易に打ち消すことができる。それ故、小さなレ
ンズが１２ミリの焦点距離を持っている場合には、補償
レンズの焦点距離は〜１２ミリになる。
【００５５】小さなレンズは、小さなレンズ１０４及び
１０５をずらし、それにより修正された方向１１２及び
１１３の方向にビームを向けることにより、ビーム１０
８及び１０９の角度誤差を修正する。この場合、図１２
ｂに示すように、上記ビームはレーザ・ビーム１１０、
１１４に重なる。
【００５６】平面７２を超えたところで、レーザ・ビー
ム１０４〜１０６は、アレイ方向に垂直な方向で重な
る。それ故、平面６６及びそれを越えたところでは、レ
ーザ・ビームは、完全に直線状のレーザ・ダイオード・
アレイのレーザ・ビームと区別することができない。
【００５７】平面７２上のビーム角度誤差を修正するた
めに、平面７２上のずらした小さなレンズ１０４〜１０
６を使用する代わりに、それぞれ傾斜しているミラー
を、同じように使用することができることにも留意され
たい。
【００５８】図１３は、本発明の他の実施形態である。
この実施形態の場合には、レーザ・ダイオード・アレイ
３２のアレイ方向に垂直なエミッタ位置の誤差の修正
は、レーザ・ダイオード・アレイ３２のエミッタ３４〜
３８に対応するように、円筒形レンズをセグメント１２
０〜１２４に分割することによって行っている。上記セ
グメントは、上記アレイ方向に垂直なエミッタ位置の誤
差に等しい量だけ、アレイ方向に垂直な方向にずらすこ
とができる。レンズ・セグメント１２０〜１２４として
は、丸い断面を持つファイバ・レンズ、ブルースカイ社
製で、前面が双曲線状になっているＶＰＳレンズ、また
はドリック・レンズ社製の勾配インデックスを持つファ
イバ・レンズである、いわゆるドリック・レンズを使用
することができる。レンズ・セグメント１２０〜１２４
のところのビームは、エミッタのところでのビームのサ
イズより遥かに大きい。例えば、レンズ・セグメント１
２０〜１２４が、屈折率ｎが１．６に等しく、直径が１
４０ミクロン（ＣＤ＝１４０ミクロン）のファイバであ
る場合には、焦点距離は、ｆ＝ｎＤ／４（ｎ−１）、す
なわち、９３ミクロンである。ファイバのところでのビ
ーム・サイズ「Ｓ」は、下記式により表される。 Ｓ＝ｆ*２*ｓｉｎ（θ／２） 但し、θはアレイ方向に垂直な方向におけるエミッタの
最大の開きの半分のところの全体の幅である。それ故、
３０度に等しい最大の開き半分のところの全幅の場合に
は、セグメント１２０〜１２４のところでのビーム・サ
イズは、４８ミクロンである。
【００５９】点１２６〜１３０は、依然としてアレイ方
向に垂直なエミッタ位置の通常の誤差、すなわち、５ミ
クロンだけずれているが、この誤差は今ではビーム・サ
イズの約１０％に過ぎず、一方、エミッタのところで
は、同じ誤差はビーム・サイズの５倍である。
【００６０】セグメントに完全に分割する必要はないこ
とに留意されたい。上記ずれは、通常非常に小さく、５
ミクロン程度である。ファイバ・レンズの直径が、例え
ば、１４０ミクロンである場合には、通常８００ミクロ
ンの長さのセグメントを、５ミクロンだけ上下に押し上
げ、押し下げることが十分できる柔軟性を持っている。
ファイバを、図１４に示すように、曲げることもでき
る。
【００６１】
【発明の効果】本発明は、プリントヘッドの性能が、完
全に直線状の場合に達成される性能に本質的に等しくな
るように、レーザ・エミッタのアレイ方向に垂直なエミ
ッタ設置誤差を完全に修正する方法を提供する。この修
正方法は、一つの平面上でだけ直線状のアレイを提供す
る方法より優れている。本発明は、光の損失を大幅に減
らし、焦点深度を最大にする。
【００６２】本発明は、出願第０７／９８６，２０７号
に開示されているレーザ・バー及び出願第０８／２６
１，３７０号に開示されている変調装置と一緒に使用す
るレーザ・バーの両方に適用される。また、本発明は、
ラグランジュ不変量またはエンテンデュウ (Enttendue)
を軽減することが重要な、またはレーザ・バーが他の
レーザ・エミッタのポンピング・ソースとして使用され
る場合に、レーザ・バーからのレーザ光線をファイバに
接続するような際に、レーザ・バーからの使用できる光
の輝度を等価的に増大するのが重要であるようなレーザ
・バーの他の用途にも適用することができる。
【００６３】本発明を、特に好適な実施形態を参照しな
がら詳細に説明してきたが、本発明の精神及び範囲から
逸脱しないで、種々の変更及び修正を行うことができる
ことを理解されたい。
【図面の簡単な説明】
【図１】 従来技術によるレーザ・エミッタ・アレイに
より映像化が行われた印刷ドラムである。
【図２】 従来技術によるレーザとその遠視野の斜視図
である。
【図３】 従来技術によるレンズのバックフォーカル面
で、アレイ方向に垂直な方向に送られるレーザの側断面
図である。
【図４】 本発明による非直線状のレーザ・アレイを修
正するための装置全体の略斜視図である。
【図５】 本発明による非直線状のレーザ・アレイを修
正するための他の装置を示すもので、（ａ）は概略平面
図、（ｂ）は側面図である。
【図６】 本発明による傾斜した平らな平行プレートの
アレイで形成されている修正装置の略斜視図である。
【図７】 （ａ），（ｂ），（ｃ）はそれぞれ、本発明
による非直線状のレーザ・アレイを修正するための構造
体の作用を示す概略側断面図である。
【図８】 図７（ａ）〜図７（ｃ）の装置の略斜視図で
ある。
【図９】 本発明による非直線状のレーザ・アレイを修
正するための装置の他の実施形態の一部の略側面図であ
る。
【図１０】 図９の装置の上記部分の斜視図である。
【図１１】 図９及び図１０の装置の一部の斜視図であ
り、装着用構造物も示してある。
【図１２】 本発明による非直線状のレーザ・アレイを
修正するための他の装置を示すもので、（ａ）は概略平
面図、（ｂ）は概略側面図である。
【図１３】 本発明による非直線状のレーザ・アレイを
修正するための装置の他の実施形態の略斜視図である。
【図１４】 本発明による非直線状のレーザ・アレイを
修正するための装置の他の実施形態の略斜視図である。
【符号の説明】
１０，１２，１４，１６ ラスタ・ライン ２４，２６ レーザ・エミッタ ２７ レンズ・アレイ ２８ レンズ ３２ レーザ・ダイオード・アレイ ３４，３５ ダイオード ４２ 修正装置 ４４ 整形光学系 ４６ 印刷レンズ ５４ 印刷アレイ ６０ レンズ ６２〜６４ レンズ ７６，７７，７８ 平行プレート ７６〜８０ ガラス・プレート ８６ 調整ネジ ８８ レバー ９０ リーフ・スプリング ９２ ミラー ９４ ピボット・ピン １０２ ワイヤ・スプリング １０４〜１０６ レンズ

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 アレイ方向に沿ってほぼ整列した位置に
    配置された複数のレーザ・エミッタのアレイであって、
    前記位置が、真っ直ぐなアレイ方向のラインから前記ア
    レイ方向の交差方向にずれており、かつ前記各レーザ・
    エミッタが、前記アレイ方向及び前記アレイ交差方向と
    垂直となる方向に光ビームを、これら各光ビームが個々
    の光ビーム通路に沿って進むように発生させるレーザ・
    エミッタのアレイと；前記光ビーム通路内に設けられ
    た、前記アレイ交差方向における前記各光ビーム通路を
    整列させるための補正手段であって、これにより前記各
    レーザ・エミッタの、前記真っ直ぐなアレイ方向のライ
    ンからの如何なるずれも修正する補正手段と；を備える
    ことを特徴とする、レーザ・エミッタのアレイの直線状
    態の偏差を修正するための光学装置。
JP9117371A 1996-05-31 1997-04-01 レーザ発光アレイの直線度からの偏差の光学的修正装置 Pending JPH1044478A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006235625A (ja) * 2005-02-18 2006-09-07 Heidelberger Druckmas Ag 少なくとも１つのレーザダイオードバーを備える版の画像付け装置
WO2017126035A1 (ja) * 2016-01-19 2017-07-27 三菱電機株式会社 レーザ光源装置およびその製造方法
JP2017139354A (ja) * 2016-02-04 2017-08-10 ウシオ電機株式会社 半導体レーザ光源装置及び半導体レーザ光源装置の製造方法

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6166759A (en) * 1998-04-07 2000-12-26 Eastman Kodak Company Bent smile corrector
DE19839902C1 (de) * 1998-09-02 2000-05-25 Laserline Ges Fuer Entwicklung Optische Anordnung zur Verwendung bei einer Laserdiodenanordnung sowie Diodenlaser
US6323868B1 (en) * 1999-01-27 2001-11-27 Sony Corporation System and method for frame and field memory access in a wide-word memory
US20020135767A1 (en) * 2001-03-16 2002-09-26 Richard Jenkin A. Optical alignment element method
DE50207383D1 (de) * 2001-04-07 2006-08-10 Hentze Lissotschenko Patentver Anordnung für die korrektur von von einer laserlichtquelle ausgehender laserstrahlung sowie verfahren zur herstellung der anordnung
DE10124215A1 (de) * 2001-05-18 2002-11-21 Heidelberger Druckmasch Ag Bebilderungseinrichtung zur Erzeugung einer Anzahl von Bildpunkten in einer Projektionslinie
US6844932B2 (en) * 2001-07-27 2005-01-18 Oplink Communications, Inc. System and method for optical multiplexing and/or demultiplexing
US6947459B2 (en) * 2002-11-25 2005-09-20 Eastman Kodak Company Organic vertical cavity laser and imaging system
US20060114572A1 (en) * 2004-12-01 2006-06-01 Fujifilm Electronic Imaging Ltd. Optical radiation generation apparatus and method
WO2012062505A1 (de) * 2010-11-08 2012-05-18 U-Nica Technology Ag Verfahren und vorrichtung zur erzeugung von farbbildern mit einem uv-laser auf pigmentierten substraten und dadurch hergestellte produkte
US11466316B2 (en) 2015-05-20 2022-10-11 Quantum-Si Incorporated Pulsed laser and bioanalytic system
US10605730B2 (en) 2015-05-20 2020-03-31 Quantum-Si Incorporated Optical sources for fluorescent lifetime analysis
DE102016124408A1 (de) 2016-12-14 2018-06-14 Lilas Gmbh Vorrichtung zur Ablenkung und/oder Modulation einer Laserstrahlung, insbesondere einer Mehrzahl von Laserstrahlen
MX2019007069A (es) * 2016-12-16 2019-08-01 Quantum Si Inc Ensamblaje de conformacion y direccion de haz compacto.
KR20210144919A (ko) 2016-12-16 2021-11-30 퀀텀-에스아이 인코포레이티드 콤팩트한 모드 동기 레이저 모듈
GB201806337D0 (en) * 2018-04-18 2018-05-30 Datalase Ltd Improvements in or relating to laser making
WO2019241733A1 (en) 2018-06-15 2019-12-19 Quantum-Si Incorporated Data acquisition control for advanced analytic instruments having pulsed optical sources
MX2021015497A (es) 2019-06-14 2022-04-18 Quantum Si Inc Acoplador de rejilla cortada con mayor sensibilidad de alineación del haz.

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4728965A (en) * 1986-06-20 1988-03-01 Eastman Kodak Company Laser printer having means for correcting laser pointing errors
US5111325A (en) * 1989-10-16 1992-05-05 Eastman Kodak Company F-θ lens
US5629791A (en) * 1996-05-31 1997-05-13 Eastman Kodak Company Optical compensation for laser emitter array non-linearity

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006235625A (ja) * 2005-02-18 2006-09-07 Heidelberger Druckmas Ag 少なくとも１つのレーザダイオードバーを備える版の画像付け装置
WO2017126035A1 (ja) * 2016-01-19 2017-07-27 三菱電機株式会社 レーザ光源装置およびその製造方法
JP2017139354A (ja) * 2016-02-04 2017-08-10 ウシオ電機株式会社 半導体レーザ光源装置及び半導体レーザ光源装置の製造方法

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Publication number Publication date
DE19722592A1 (de) 1997-12-04
US5854651A (en) 1998-12-29

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