JPH104122A - Semiconductor device - Google Patents

Semiconductor device

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JPH104122A
JPH104122A JP15404696A JP15404696A JPH104122A JP H104122 A JPH104122 A JP H104122A JP 15404696 A JP15404696 A JP 15404696A JP 15404696 A JP15404696 A JP 15404696A JP H104122 A JPH104122 A JP H104122A
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JP
Japan
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substrate
semiconductor chip
semiconductor device
pattern
chip
Prior art date
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Pending
Application number
JP15404696A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Mitsuo Usami
光雄 宇佐美
Kunihiro Tsubosaki
邦宏 坪崎
Toshio Miyamoto
俊夫 宮本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Publication of JPH104122A publication Critical patent/JPH104122A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector

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  • Wire Bonding (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent an electrical short-circuit from being generated between surface patterns and a semiconductor chip by a method wherein the surface patterns are formed only within the region, which is arranged in opposition to the inside of the chip on the surface of a substrate. SOLUTION: Pads 12 consisting of a conductive film are formed on them surface of a semiconductor chip 11, while substrate surface patterns 16 are formed only within the region, which is arranged in opposition to the inside of the chip 11 on the surface of a substrate 14. The chip 11 is bonded to the substrate 14 in opposition to the substrate 14 with an anisotropic conductive bonding agent 13 and is fixed on the substrate 14. As a result, the patterns 16 are respectively connected with substrate rear patterns 17 via conductors filled in connection holes 15 to penetrate the substrate 14. Accordingly, as a pattern does not exist on the outside of the chip 11, an insulating film is never broken at the end parts of the chip 11 at the time of dicing of a semiconductor wafer, and an electrical short-circuit is never generated between the patterns 16 and the chip 11 by conductive particles in the bonding agent 13.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は半導体装置に関し、
詳しくは、薄型のICカードやメモリカードの作成に特
に好適な、半導体装置に関する。
The present invention relates to a semiconductor device,
More specifically, the present invention relates to a semiconductor device which is particularly suitable for producing a thin IC card or a memory card.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の薄型半導体装置は、例えば電子情
報通信ハンドブック(オーム社発行1990年4月30
日第1版第2刷発行)第842頁に記されている。この
半導体装置は、図3に示したように、半導体チップ31
と基板34が異方性導電性接着剤33によって互いに対
向して固定されている。上記半導体チップ31上に形成
された導電性膜からなるパッド32と基板34上に形成
された配線など表面パターン35は、バンプまたは上記
異方性導電性接着剤33によって互いに電気的に接続さ
れている。
2. Description of the Related Art A conventional thin semiconductor device is disclosed in, for example, an electronic information and communication handbook (Ohm Co., April 30, 1990).
This is described on page 842 of the 1st edition of the 2nd printing of Japan. This semiconductor device has a semiconductor chip 31 as shown in FIG.
And a substrate 34 are fixed to each other by an anisotropic conductive adhesive 33 so as to face each other. The pad 32 made of a conductive film formed on the semiconductor chip 31 and the surface pattern 35 such as wiring formed on the substrate 34 are electrically connected to each other by bumps or the anisotropic conductive adhesive 33. I have.

【0003】このような接続は、パッド32が形成され
ている半導体チップ31と表面パターン35が形成され
ている基板34の面を、互いに対向して配置して行なわ
れるので、一般にフェースダウンボンディングと呼ばれ
ている。図3に示したフェースダウンボンディングの場
合、上記異方性導電性接着剤33は、有機接着剤の中に
多数の小さな導電性粒子が分散されていて、パッド32
と表面パターン35の間に介在する導電性粒子が、パッ
ド32と基板パターン35に圧接されて両者の間が通電
される。
Such a connection is made by arranging the surface of the semiconductor chip 31 on which the pad 32 is formed and the surface of the substrate 34 on which the surface pattern 35 is formed so as to face each other. being called. In the case of the face-down bonding shown in FIG. 3, the anisotropic conductive adhesive 33 has a large number of small conductive particles dispersed in an organic adhesive.
The conductive particles interposed between the pad 32 and the surface pattern 35 are pressed against the pad 32 and the substrate pattern 35, and a current is applied between the two.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記従来の構
造の半導体装置では、下記のような問題が生ずる。すな
わち、半導体ウエハはダイジングによって複数の半導体
チップに分割されるが、このダイジングは、ダイヤモン
ド粒子が埋め込まれたプレートを高速回転して行なわれ
るため、チッピングと呼ばれる欠けが、ある確率で半導
体チップに生じてしまう。
However, the semiconductor device having the above-mentioned conventional structure has the following problems. In other words, a semiconductor wafer is divided into a plurality of semiconductor chips by dicing. Since the dicing is performed by rotating a plate in which diamond particles are embedded at a high speed, chipping called chipping occurs in the semiconductor chips with a certain probability. Would.

【0005】図4に、半導体チップ41のエッジが、ダ
イシングによって欠けてしまった部分を示した。図4か
ら明らかなように、半導体チップ41のエッジに欠けが
生ずると、半導体チップ41上に形成されていた酸化膜
43が部分的に欠落し、この欠落した部分に接着剤42
の中の導電性粒子47がはさみ込まれると、基板46の
表面上に形成された表面パターン45と半導体チップ4
1の間が電気的に短絡してしまい、半導体チップ41が
正常に動作できなくなる。上記従来技術は、本来は、厚
さ1ミリメートル以下の薄型のICカードやメモリカー
ドを製造するための構造であるにもかかわらず、このよ
うな問題のために実用が困難であった。
FIG. 4 shows a portion where the edge of the semiconductor chip 41 has been chipped by dicing. As is apparent from FIG. 4, when the edge of the semiconductor chip 41 is chipped, the oxide film 43 formed on the semiconductor chip 41 is partially cut off, and an adhesive 42 is formed on the chipped portion.
When the conductive particles 47 in the semiconductor chip 4 are inserted, the surface pattern 45 formed on the surface of the substrate 46 and the semiconductor chip 4
1 is electrically short-circuited, and the semiconductor chip 41 cannot operate normally. Although the above prior art was originally designed to manufacture a thin IC card or memory card having a thickness of 1 mm or less, it was difficult to put into practical use due to such a problem.

【0006】本発明の目的は、上記従来の技術の有する
問題を解決し、ダイジングの際に欠けが生ずる恐れがな
く、基板の表面上に形成された表面パターンと半導体チ
ップの間に電気的な短絡を発生することなしに、薄いI
Cカードやメモリカードを形成することができる半導体
装置を提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems of the prior art and to eliminate the possibility of chipping at the time of dicing and to provide an electrical connection between a surface pattern formed on the surface of a substrate and a semiconductor chip. A thin I
An object of the present invention is to provide a semiconductor device capable of forming a C card or a memory card.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の本発明の半導体装置は、半導体チップと、当該半導体
チップと対向して配置され上記半導体チップと異方導電
性接着剤を介して接着された基板と、上記半導体チップ
の上記基板側の主面上に形成された導電体膜からなるパ
ッドと、上記基板の上記半導体チップの主面側の表面上
に形成された導電体からなる表面パターンを少なくとも
有し、上記パッドと上記表面パターンは、上記異方導電
性接着剤中に含まれる導電性粒子を介して互いに電気的
に接続されており、上記表面パターンは、上記基板表面
の上記半導体チップの内側の領域内のみに形成され、上
記半導体チップの外側には延在されていないことを特徴
とする。
In order to achieve the above object, a semiconductor device according to the present invention comprises a semiconductor chip and a semiconductor chip, which is disposed to face the semiconductor chip and is bonded to the semiconductor chip via an anisotropic conductive adhesive. Substrate, a pad made of a conductor film formed on the main surface of the semiconductor chip on the substrate side, and a surface formed of a conductor formed on the surface of the substrate on the main surface side of the semiconductor chip At least a pattern, the pad and the surface pattern are electrically connected to each other via conductive particles contained in the anisotropic conductive adhesive, and the surface pattern is formed on the surface of the substrate. It is formed only in a region inside the semiconductor chip, and does not extend outside the semiconductor chip.

【0008】すなわち、表面パターンが半導体チップの
内側の領域内のみではなく、外側の領域にも延在してい
ると、上記ダイシングの際に半導体チップの端部近傍に
おいて、絶縁膜が破壊されて、半導体チップと表面パタ
ーンが互いに電気的に接続されてしまう。しかし、本発
明では、表面パターンが半導体チップの内側の領域内の
みに形成されており、外側の領域に延在していないの
で、半導体ウエハのダイシングの際に、半導体チップの
絶縁膜が破壊されて、半導体基板と表面パターンが電気
的に短絡される恐れはない。
That is, if the surface pattern extends not only in the region inside the semiconductor chip but also in the region outside, the insulating film is broken near the end of the semiconductor chip during the dicing. As a result, the semiconductor chip and the surface pattern are electrically connected to each other. However, in the present invention, since the surface pattern is formed only in the region inside the semiconductor chip and does not extend to the region outside the semiconductor chip, the insulating film of the semiconductor chip is broken during dicing of the semiconductor wafer. Therefore, there is no possibility that the semiconductor substrate and the surface pattern are electrically short-circuited.

【0009】上記表面パターンは、上記基板を貫通する
接続孔内に充填された導電体を介して、上記基板の裏面
上に形成された導電体膜からなる裏面パターンと電気的
に接続されるように構成することができ。このようにす
れば、表面パターンから外部への取り出しが、基板の表
面上で行われないので、上記半導体基板と表面パターン
が電気的に短絡は効果的に防止される。
The front surface pattern is electrically connected to a back surface pattern made of a conductor film formed on the back surface of the substrate via a conductor filled in a connection hole penetrating the substrate. Can be configured. With this configuration, since the extraction from the surface pattern to the outside is not performed on the surface of the substrate, an electrical short circuit between the semiconductor substrate and the surface pattern is effectively prevented.

【0010】上記裏面パターンを用いる代わりに、上記
基板の内部の所望部分に、導電体膜からなる基板内パタ
ーンを上記基板の表面方向に形成し、上記表面パターン
を上記基板に形成された接続孔内に充填された導電体を
介して上記基板内パターンと電気的に接続させることが
できる。
Instead of using the back surface pattern, an in-substrate pattern made of a conductive film is formed in a desired portion inside the substrate in the direction of the surface of the substrate, and the surface pattern is formed in a connection hole formed in the substrate. It can be electrically connected to the above-mentioned pattern in the substrate via a conductor filled therein.

【0011】上記基板内パターンは、上記基板表面から
の距離が互いに等しようにしてもよいが、上記基板表面
からの距離が互いに異なる第1および第2の基板内パタ
ーンを含むようにしてもよい。
The in-substrate pattern may include first and second in-substrate patterns having different distances from the substrate surface, but different distances from the substrate surface.

【0012】上記表面パターンおよび上記接続孔は、上
記パッドの内側の領域内のみに実質的に形成できる。こ
のようにすれば、所要面積は節減されて、集積密度は向
上する。
The surface pattern and the connection hole can be formed substantially only in a region inside the pad. In this way, the required area is reduced and the integration density is improved.

【0013】上記半導体チップの厚さは200μm以
下、0.1μm以上とすれば好ましい結果が得られる。
200μm以上では曲げ応力に対して弱くなって、折れ
やすくなり、0.1μm以下では、所望半導体回路を半
導体チップに形成するが困難になる。
A preferable result can be obtained if the thickness of the semiconductor chip is 200 μm or less and 0.1 μm or more.
If it is 200 μm or more, it becomes weak against bending stress and easily breaks, and if it is 0.1 μm or less, it becomes difficult to form a desired semiconductor circuit on a semiconductor chip.

【0014】上記基板は第1のカード基板とし、上記半
導体チップをこの半導体チップの裏面上に形成された第
2のカード基板と上記第1のカード基板の中立面に配置
すれば、曲げに対して極めて破損し難い各種カードが形
成できる。上記カード基板の数をさらに増加することも
できる。
If the substrate is a first card substrate, and the semiconductor chip is arranged on the neutral surface of the second card substrate and the first card substrate formed on the back surface of the semiconductor chip, the substrate is bent. On the other hand, various cards that are extremely hard to be damaged can be formed. The number of the card boards can be further increased.

【0015】上記カード基板は複数個用いることがで
き、上記カード基板としては、ポリエチレンテレフタレ
ート若しくはポリ塩化ビニルなど、可撓性プラスチック
の薄板を用いることができる。また、上記カード基板の
厚さを20μm〜300μmとすれば好ましい結果が得
られる。
A plurality of card substrates can be used, and a thin plate of a flexible plastic such as polyethylene terephthalate or polyvinyl chloride can be used as the card substrate. A preferable result can be obtained if the thickness of the card substrate is set to 20 μm to 300 μm.

【0016】上記半導体チップとしてはメモリLSIや
マイクロコンプータを用いることができ、全厚さが1m
m以下、50μm以上という極めて薄い各種カードを得
ることができる。
As the semiconductor chip, a memory LSI or a microcomputer can be used.
m or less and 50 μm or more can be obtained.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】本発明は、各種ICカードやメモ
リカードなどの薄型実装に用いられる分野で有効に活用
することができ、一般の半導体実装やパッケージング技
術、表面実装技術およびベアチップ実装技術などに広範
囲に応用できる。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention can be effectively used in the field of thin IC cards and memory cards, and can be used for general semiconductor mounting, packaging technology, surface mounting technology and bare chip mounting technology. It can be applied to a wide range of applications.

【0018】半導体チップと基板の接着に用いられる異
方導電性接着剤中に含まれる、上記導電性粒子として
は、上記のように、例えばプラスチック粒子の表面を金
メッキしたもの、ニッケル粒子、あるいは金ボールなど
各種用いることがでる。
The conductive particles contained in the anisotropic conductive adhesive used for bonding the semiconductor chip and the substrate include, for example, gold-plated plastic particles, nickel particles or gold particles as described above. Various types such as balls can be used.

【0019】本発明では、半導体チップの厚さを200
ミクロン以下とするができ、それによって、極めて薄型
のICカードを実現できた。また、この半導体チップ
を、2枚のカードの中立面に配置することによって、高
機能で曲げに強い薄型ICカードが実現される。この半
導体チップをたとえばメモリLSIやマイクロコンピュ
ータとし、基板をカード状にして、完成したカードの厚
さを1ミリメートル以下とすれば、デジタルカメラなど
に多量に使用される、フラッシュメモリなどを使用した
メモリカードが実現される。しかし、厚さが50μmよ
り薄くなると、実用上かえって不便になるので、完成し
た各種カードの厚さは、50μm〜1mmの範囲内にす
るのが好ましい。
In the present invention, the thickness of the semiconductor chip is set to 200
The thickness can be reduced to a micron or less, whereby an extremely thin IC card can be realized. Further, by arranging the semiconductor chip on the neutral surface of the two cards, a thin IC card with high performance and high resistance to bending is realized. If this semiconductor chip is, for example, a memory LSI or a microcomputer, and the substrate is formed into a card shape and the thickness of the completed card is 1 mm or less, a memory using a flash memory or the like, which is widely used in digital cameras and the like. The card is realized. However, if the thickness is less than 50 μm, it becomes practically inconvenient. Therefore, the thickness of the completed various cards is preferably in the range of 50 μm to 1 mm.

【0020】上記カード基板としては、上記のようにポ
リエチレンテレフタレート(PET)やポリ塩化ビニル
など各種可撓性プラスチックの薄板を使用することがで
き、その厚さは20μm〜300μm、通常は約200
μm程度とするのが好ましい。通常の場合、これらカー
ド基板は、上下2枚が用いられ、これら2枚のカード基
板の間に上記半導体チップが導電性接着剤によって固定
される。
As the card substrate, a thin plate of various flexible plastics such as polyethylene terephthalate (PET) and polyvinyl chloride can be used as described above, and the thickness is 20 μm to 300 μm, usually about 200 μm.
It is preferably about μm. Usually, two upper and lower card substrates are used, and the semiconductor chip is fixed between the two card substrates by a conductive adhesive.

【0021】本発明は各種カードに適用できるが、その
平面構造の一例を図7に示した。この場合カード基板上
には、導電性パターンとして、印刷法によって形成され
たコイル75、薄型コンデンサ74および薄型の集積回
路72がカード基板73上に配置されており、図7に示
したように互いに電気的に接続されている。
Although the present invention can be applied to various cards, an example of the planar structure thereof is shown in FIG. In this case, a coil 75, a thin capacitor 74, and a thin integrated circuit 72 formed by a printing method as conductive patterns are arranged on the card substrate 73, and as shown in FIG. It is electrically connected.

【0022】コイル75は、外部からの電磁波を受けて
誘導起電力を発生し、薄型コンデンサ74にエネルギを
供給する。また、コイル75は、外部からの情報データ
を受けて、薄型コンデンサ74にデータを渡したり、薄
型コンデンサ74のデータを、電磁波にしてカードの外
部へ送り出す作用を有している。これにより、非接触出
信頼性の高い通信用カードが実現された。
The coil 75 receives an electromagnetic wave from the outside, generates an induced electromotive force, and supplies energy to the thin capacitor 74. Further, the coil 75 has a function of receiving information data from the outside, passing the data to the thin capacitor 74, and sending the data of the thin capacitor 74 to the outside of the card as an electromagnetic wave. As a result, a communication card having high contactless reliability is realized.

【0023】[0023]

【実施例】【Example】

〈実施例1〉図1は本発明の第1の実施例を示す断面図
である。図1に示したように、Siからなる半導体チッ
プ11の表面上には、導電性膜からなるパッド12が形
成されており、上記半導体チップ11は、導電性膜から
なる基板表面パターン16が表面上に形成された基板1
4と、異方導電性接着剤13によって互いに対向して接
着され、固定されている。
<Embodiment 1> FIG. 1 is a sectional view showing a first embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, a pad 12 made of a conductive film is formed on a surface of a semiconductor chip 11 made of Si, and the semiconductor chip 11 has a substrate surface pattern 16 made of a conductive film. Substrate 1 formed on
4 and are bonded and fixed to each other by an anisotropic conductive adhesive 13.

【0024】上記パッド12と基板表面パターン16
は、互いに対向した位置に形成されており、上記異方導
電性接着剤13の中には、粒径5〜10μmの導電性粒
子が分散して含まれている。そのため、パッド12と基
板表面パターン16の間にはさみ込まれた上記導電性粒
子が電気的接続媒体となり、パッド12と基板表面パタ
ーン16は、上記導電性粒子を介して互いに電気的に接
続される。この導電性粒子は上記異方導電性接着剤13
の中に分散されているので、横方向の導通が行われるこ
とはなく、そのため、互いに隣接するパッド12の間で
電気的な短絡が生ずる恐れはない。上記導電性粒子とし
ては、上記のように、例えばプラスチック粒子の表面を
金メッキしたもの、ニッケル粒子、あるいは金ボールな
ど各種用いることがでる。
The pad 12 and the substrate surface pattern 16
Are formed at positions facing each other, and the anisotropic conductive adhesive 13 contains conductive particles having a particle size of 5 to 10 μm dispersed therein. Therefore, the conductive particles sandwiched between the pad 12 and the substrate surface pattern 16 serve as an electrical connection medium, and the pad 12 and the substrate surface pattern 16 are electrically connected to each other via the conductive particles. . These conductive particles are used for the anisotropic conductive adhesive 13.
, No lateral conduction occurs, and there is no risk of an electrical short between adjacent pads 12. As the conductive particles, as described above, for example, various types such as those obtained by plating the surfaces of plastic particles with gold, nickel particles, and gold balls can be used.

【0025】図1に示したように、上記基板表面パター
ン16は、半導体チップ11の内側のみに形成されてお
り、半導体チップ11の外側に出ることはない。
As shown in FIG. 1, the substrate surface pattern 16 is formed only inside the semiconductor chip 11 and does not go outside the semiconductor chip 11.

【0026】基板表面パターン16が半導体チップ11
の外側に延在していると、半導体チップ11の端部近傍
において、異方導電性接着剤13の中の導電性粒子によ
って基板表面パターン16と半導体チップ11が、電気
的に短絡してしまう恐れがある。
The substrate surface pattern 16 corresponds to the semiconductor chip 11
, The conductive particles in the anisotropic conductive adhesive 13 electrically short-circuit the substrate surface pattern 16 and the semiconductor chip 11 near the end of the semiconductor chip 11. There is fear.

【0027】しかし、本実施例においては、基板表面パ
ターン12は半導体チップ11の内側のみに形成され、
半導体チップ11の内側において基板14を貫通する接
続孔15中に充填された導電体を介して、導電性膜から
なる基板裏面パターン17に接続され、基板14の裏面
より半導体チップ11の外側にリード線が引き出され
る。そのため、半導体チップ12の外側には基板表面パ
ターン16が存在せず、その結果、半導体チップ12の
端部において絶縁膜43が上記導電性粒子によって破損
されることはなく、基板表面パターン16と半導体チッ
プ11が電気的に短絡される恐れはない。
However, in this embodiment, the substrate surface pattern 12 is formed only inside the semiconductor chip 11,
The semiconductor chip 11 is connected to a substrate back surface pattern 17 made of a conductive film via a conductor filled in a connection hole 15 penetrating the substrate 14 inside the semiconductor chip 11, and leads from the back surface of the substrate 14 to the outside of the semiconductor chip 11. A line is drawn. Therefore, the substrate surface pattern 16 does not exist outside the semiconductor chip 12, and as a result, the insulating film 43 is not damaged by the conductive particles at the end of the semiconductor chip 12. There is no possibility that the chip 11 is electrically short-circuited.

【0028】図2は、図1に対応した本実施例の半導体
装置の平面配置を示す図である。図2のA−A’断面構
造を示したのが図1である。上記のように、基板14の
上には、異方導電性接着剤13によって、半導体チップ
11がフェースダウンで接続されている。パッド12
は、周知の位置合わせ技術を用いて基板表面パターン1
6の所定の位置に対応して形成されている。各基板表面
パターン16は、接続孔15内に充填された導電体によ
って基板裏面パターン17に接続されて、半導体チップ
11の外側に取り出され、基板14上に形成された他の
部品の端子(図示せず)と接続されている。
FIG. 2 is a diagram showing a planar arrangement of the semiconductor device of this embodiment corresponding to FIG. FIG. 1 shows a cross-sectional structure taken along the line AA ′ of FIG. As described above, the semiconductor chip 11 is connected face-down on the substrate 14 by the anisotropic conductive adhesive 13. Pad 12
Is a substrate surface pattern 1 using a well-known alignment technique.
6 are formed corresponding to the predetermined positions. Each substrate surface pattern 16 is connected to the substrate back surface pattern 17 by a conductor filled in the connection hole 15, taken out of the semiconductor chip 11, and connected to a terminal of another component formed on the substrate 14 (see FIG. (Not shown).

【0029】上記のように、半導体チップ11の主面側
と基板14の表面は、互いに対向して異方導電性接着剤
によって接着されている。基板14の表面上に形成され
た導電体からなる基板表面パターン16は、半導体チッ
プ11の外部に出ることはなく、すべて半導体チップ1
1の内側内に形成されているため、半導体チップ11の
端部における上記導電性粒子による電気的短絡は完全に
防止される。
As described above, the main surface side of the semiconductor chip 11 and the surface of the substrate 14 are adhered to each other by the anisotropic conductive adhesive. The substrate surface pattern 16 made of a conductor formed on the surface of the substrate 14 does not come out of the semiconductor chip 11 and all of the semiconductor chip 1
Since the conductive particles are formed inside the semiconductor chip 11, an electrical short circuit due to the conductive particles at the end of the semiconductor chip 11 is completely prevented.

【0030】また、基板14の表面上に形成された基板
表面パターン16は、接続孔15および基板裏面パター
ン17を介して、基板14の裏側から半導体チップ11
の外部に引き出される。各種カードなどの場合、基板は
最小限2層であることが一般的であるので、このような
構造の形成には、大量生産に使用されている既存技術を
活用することができ、経済的な問題が発生することはな
い。
The substrate surface pattern 16 formed on the surface of the substrate 14 is connected to the semiconductor chip 11 from the back side of the substrate 14 through the connection hole 15 and the substrate back surface pattern 17.
Drawn out of the In the case of various cards and the like, it is common that the substrate has at least two layers, so that such a structure can be formed by utilizing the existing technology used for mass production, and is economical. No problems occur.

【0031】〈実施例2〉図1に示した上記実施例1で
は、基板14の表面上に形成された基板表面パターン1
6は、基板14を貫通する接続孔15を介して、基板1
4の裏面側に形成された基板裏面パターン17に接続さ
れ、半導体チップ11の外側に取り出されていた。
<Embodiment 2> In Embodiment 1 shown in FIG. 1, the substrate surface pattern 1 formed on the surface of the substrate 14
6 is connected to the substrate 1 through a connection hole 15 penetrating the substrate 14.
4 was connected to the substrate back surface pattern 17 formed on the back surface side and was taken out of the semiconductor chip 11.

【0032】本実施例は、基板を貫通しない接続孔を用
い、外部へ取り出すための導電体パターンを基板内に設
けた例である。
This embodiment is an example in which a conductive pattern for taking out to the outside is provided in a substrate using a connection hole which does not penetrate the substrate.

【0033】図5に示したように、本実施例において
も、上記実施例と同様に半導体チップ11の主面側を基
板14の表面に対向させ、異方導電性接着剤13によっ
て互いに接着されている。しかし、本実施例では、基板
表面パターン52を外部へ取り出すための第1および第
2の基板内層パターン54、58は、基板56内の深さ
が互いに異なる位置に形成されており、深さが互いに異
なる接続孔55、57内に充填された導電体を介して基
板表面パターン52に電気的に接続されている。
As shown in FIG. 5, also in this embodiment, the main surface side of the semiconductor chip 11 is opposed to the surface of the substrate 14 and bonded to each other by the anisotropic conductive adhesive 13 as in the above embodiment. ing. However, in the present embodiment, the first and second substrate inner layer patterns 54 and 58 for taking out the substrate surface pattern 52 to the outside are formed at different positions in the substrate 56 at different depths. It is electrically connected to the substrate surface pattern 52 via conductors filled in different connection holes 55 and 57.

【0034】本実施例においても、基板56の表面上に
形成された導体の基板表面パターン59は、半導体チッ
プ51の内側のみに形成され、半導体チップ51の外部
に出る部分がないので、上記実施例1と同様に、半導体
チップ51の端部における上記導電性粒子による電気的
短絡は完全に防止された。
Also in this embodiment, the conductor substrate surface pattern 59 formed on the surface of the substrate 56 is formed only inside the semiconductor chip 51 and has no portion that goes outside the semiconductor chip 51. As in Example 1, an electrical short circuit caused by the conductive particles at the end of the semiconductor chip 51 was completely prevented.

【0035】〈実施例3〉本発明の第3の実施例を図6
を用いて説明する。本実施例では、半導体チップ61の
主面側は基板66の表面に対向され、異方導電性接着剤
63によって両者は互いに接着されている。上記基板5
6の表面上に形成された基板表面パターン69および接
続孔65、67の位置は、上記半導体チップ61上に形
成されたパッド62の範囲内にあるので、パターン密度
は著しく向上された。
<Embodiment 3> A third embodiment of the present invention is shown in FIG.
This will be described with reference to FIG. In this embodiment, the main surface of the semiconductor chip 61 is opposed to the surface of the substrate 66, and the two are bonded to each other by the anisotropic conductive adhesive 63. Substrate 5
Since the positions of the substrate surface pattern 69 and the connection holes 65 and 67 formed on the surface of the semiconductor chip 6 were within the range of the pad 62 formed on the semiconductor chip 61, the pattern density was significantly improved.

【0036】すなわち、図6に示したように、本実施例
において、パッド62が表面上に形成された半導体チッ
プ61は、基板表面パターン69が表面上に形成された
基板66と、異方導電性接着剤63によって接着されて
いる。基板表面パターン69は、第1の接続孔65およ
び第2の接続孔67を介して、第1の基板内層パターン
64および第2の基板内層パターン63に、それぞれ接
続されている。基板裏面パターン69aは半導体チップ
61の裏面を自由に使用することが可能となることは上
記実施例1、2と同じである。
That is, as shown in FIG. 6, in this embodiment, the semiconductor chip 61 on which the pads 62 are formed on the surface is different from the substrate 66 on which the substrate surface pattern 69 is formed on the surface. It is adhered by the conductive adhesive 63. The substrate surface pattern 69 is connected to the first substrate inner layer pattern 64 and the second substrate inner layer pattern 63 via the first connection hole 65 and the second connection hole 67, respectively. As in the first and second embodiments, the substrate back surface pattern 69a allows the back surface of the semiconductor chip 61 to be used freely.

【0037】本実施例では、基板表面パターン69およ
びこれと接続された第1および第2の接続孔65、67
が、いずれも半導体チップ61上に形成されたパッド6
2の下方部分に形成されており、パッド62の外部には
ほとんど出ておらず、実質的にパッド62の内側内のみ
に形成されている。そのため、基板表面パターン69の
占有面積が著しく低減され、多くの端子を極めて高密度
に取り出すことが可能になった。なお、本実施例では、
導電性パターンを基板内部に形成した例をしめしたが、
図1に示したような裏面パターン17を用いた場合にも
適用でき、同様な効果が得られることはいうまでもな
い。
In this embodiment, the substrate surface pattern 69 and the first and second connection holes 65 and 67 connected thereto are provided.
But the pad 6 formed on the semiconductor chip 61
2 and hardly protrudes outside the pad 62, and is formed substantially only inside the pad 62. Therefore, the area occupied by the substrate surface pattern 69 is significantly reduced, and many terminals can be taken out at extremely high density. In this embodiment,
The example where the conductive pattern was formed inside the substrate was shown,
It is needless to say that the same effect can be obtained when the back surface pattern 17 as shown in FIG. 1 is used.

【0038】[0038]

【発明の効果】上記説明から明らかなように、本発明に
よれば、基板上に形成された基板表面パターンが、半導
体チップの内側内のみに形成され、半導体チップの外側
に延在していない。そのため、半導体チップと基板を、
異方導電性接着剤によってフェイスダウンで基板に取り
付ける際の、半導体チップの端部における電気的短絡の
発生を効果的に防止することができ、半導体装置の信頼
性を著しく向上することができる。
As is apparent from the above description, according to the present invention, the substrate surface pattern formed on the substrate is formed only inside the semiconductor chip and does not extend outside the semiconductor chip. . Therefore, the semiconductor chip and substrate
When the semiconductor chip is attached to the substrate face-down by the anisotropic conductive adhesive, it is possible to effectively prevent the occurrence of an electric short circuit at the end of the semiconductor chip, and to significantly improve the reliability of the semiconductor device.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施例1を示す断面図、FIG. 1 is a sectional view showing a first embodiment of the present invention;

【図2】本発明の実施例1を示す平面図、FIG. 2 is a plan view showing Embodiment 1 of the present invention;

【図3】従来の半導体装置の構造を示す断面図、FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating a structure of a conventional semiconductor device.

【図4】電気的な短絡を説明するための断面図、FIG. 4 is a cross-sectional view illustrating an electrical short circuit;

【図5】本発明の実施例2を示す断面図、FIG. 5 is a sectional view showing a second embodiment of the present invention;

【図6】本発明の実施例3を示す断面図、FIG. 6 is a sectional view showing a third embodiment of the present invention;

【図7】本発明によるカードにおける部品の平面配置を
示す図。
FIG. 7 is a diagram showing a planar arrangement of components in a card according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11…半導体チップ、12…パッド、13…異方導電性
接着剤、14…基板、15…接続孔、16…基板表面パ
ターン、17…基板裏面パターン、31…半導体チッ
プ、32…パッド、33…異方導電性接着剤、34…基
板、35…基板表面パターン、41…半導体チップ、4
2…接着剤、43…酸化膜、45…基板表面パターン、
46…基板、47…導電性粒子、51…半導体チップ、
52…パッド、53…異方導電性接着剤、54、58…
基板内層パターン、55、57…接続孔、56…基板、
59…基板表面パターン、59a…基板裏面パターン、
61…半導体チップ、62…パッド、63…異方導電性
接着剤、64、68…基板内層パターン、65、67…
接続孔、66…基板、69…基板表面パターン、69a
…基板裏面パターン、72…集積回路、73…カード基
板、74…薄型コンデンサ、75…コイル。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 ... Semiconductor chip, 12 ... Pad, 13 ... Anisotropic conductive adhesive, 14 ... Substrate, 15 ... Connection hole, 16 ... Substrate surface pattern, 17 ... Substrate back surface pattern, 31 ... Semiconductor chip, 32 ... Pad, 33 ... Anisotropic conductive adhesive, 34: substrate, 35: substrate surface pattern, 41: semiconductor chip, 4
2: adhesive, 43: oxide film, 45: substrate surface pattern,
46: substrate, 47: conductive particles, 51: semiconductor chip,
52: pad, 53: anisotropic conductive adhesive, 54, 58 ...
Board inner layer pattern, 55, 57 ... connection hole, 56 ... board,
59: substrate front surface pattern, 59a: substrate rear surface pattern,
61: semiconductor chip, 62: pad, 63: anisotropic conductive adhesive, 64, 68: substrate inner layer pattern, 65, 67 ...
Connection hole, 66: substrate, 69: substrate surface pattern, 69a
... Substrate back pattern, 72. Integrated circuit, 73. Card substrate, 74. Thin capacitor, 75. Coil.

Claims (13)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】半導体チップと、当該半導体チップと対向
して配置され上記半導体チップと異方導電性接着剤を介
して接着された基板と、上記半導体チップの上記基板側
の主面上に形成された導電体膜からなるパッドと、上記
基板の上記半導体チップの主面側の表面上に形成された
導電体からなる表面パターンを少なくとも有し、上記パ
ッドと上記表面パターンは、上記異方導電性接着剤中に
含まれる導電性粒子を介して互いに電気的に接続され、
上記表面パターンは、上記基板表面の上記半導体チップ
の内側の領域内のみに形成されていることを特徴とする
半導体装置。
1. A semiconductor chip, a substrate disposed opposite to the semiconductor chip and bonded to the semiconductor chip via an anisotropic conductive adhesive, and formed on a main surface of the semiconductor chip on the substrate side. And a surface pattern made of a conductor formed on a surface of the substrate on the main surface side of the semiconductor chip, wherein the pad and the surface pattern are formed of the anisotropic conductive film. Electrically connected to each other through conductive particles contained in the conductive adhesive,
The semiconductor device, wherein the surface pattern is formed only in a region inside the semiconductor chip on the substrate surface.
【請求項2】上記表面パターンは、上記基板を貫通する
接続孔内に充填された導電体を介して、上記基板の裏面
上に形成された導電体膜からなる裏面パターンと電気的
に接続されていることを特徴とする請求項1に記載の半
導体装置。
2. The front surface pattern is electrically connected to a back surface pattern made of a conductor film formed on a back surface of the substrate via a conductor filled in a connection hole penetrating the substrate. The semiconductor device according to claim 1, wherein
【請求項3】上記基板の内部の所望部分には、導電体膜
からなる基板内パターンが上記基板の表面方向に形成さ
れており、上記表面パターンは、上記基板に形成された
接続孔内に充填された導電体を介して上記基板内パター
ンと電気的に接続されていることを特徴とする請求項1
に記載の半導体装置。
3. An in-substrate pattern made of a conductive film is formed in a desired portion inside the substrate in the direction of the surface of the substrate, and the surface pattern is formed in a connection hole formed in the substrate. 2. The semiconductor device according to claim 1, wherein the conductive pattern is electrically connected to the in-substrate pattern through a filled conductor.
3. The semiconductor device according to claim 1.
【請求項4】上記基板内パターンは、上記基板表面から
の距離が互いに異なる第1および第2の基板内パターン
を含ことを特徴とする請求項3に記載の半導体装置。
4. The semiconductor device according to claim 3, wherein said in-substrate pattern includes first and second in-substrate patterns at different distances from said substrate surface.
【請求項5】上記表面パターンおよび上記接続孔は、上
記パッドの内側の領域内のみに実質的に形成されている
ことを特徴とする請求項1から4のいずれか一に記載の
半導体装置。
5. The semiconductor device according to claim 1, wherein the surface pattern and the connection hole are substantially formed only in a region inside the pad.
【請求項6】上記半導体チップの厚さは200μm以
下、0.1μm以上であることを特徴とする請求項1か
ら5のいずれか一に記載の半導体装置。
6. The semiconductor device according to claim 1, wherein said semiconductor chip has a thickness of 200 μm or less and 0.1 μm or more.
【請求項7】上記基板は第1のカード基板であり、上記
半導体チップは当該半導体チップの裏面上に形成された
第2のカード基板と上記第1のカード基板の中立面に配
置されていることを特徴とする請求項1から6のいずれ
か一に記載の半導体装置。
7. The semiconductor device according to claim 1, wherein the substrate is a first card substrate, and the semiconductor chip is disposed on a second card substrate formed on a back surface of the semiconductor chip and a neutral surface of the first card substrate. The semiconductor device according to claim 1, wherein:
【請求項8】上記カード基板は複数個あることを特徴と
する請求項7に記載の半導体装置。
8. The semiconductor device according to claim 7, wherein a plurality of said card substrates are provided.
【請求項9】上記カード基板は可撓性プラスチックから
なることを特徴とする請求項7若しくは8に記載の半導
体装置。
9. The semiconductor device according to claim 7, wherein said card substrate is made of a flexible plastic.
【請求項10】上記可撓性プラスチックはポリエチレン
テレフタレート若しくはポリ塩化ビニルであることを特
徴とする請求項9に記載の半導体装置。
10. The semiconductor device according to claim 9, wherein said flexible plastic is polyethylene terephthalate or polyvinyl chloride.
【請求項11】上記カード基板の厚さは20μm〜30
0μmであることを特徴とする請求項7から10のいず
れか一に記載の半導体装置。
11. The card substrate has a thickness of 20 μm to 30 μm.
The semiconductor device according to claim 7, wherein the thickness is 0 μm.
【請求項12】上記半導体チップはメモリLSI若しく
はマイクロコンピュータであることを特徴とする請求項
1から11のいずれか一に記載の半導体装置。
12. The semiconductor device according to claim 1, wherein said semiconductor chip is a memory LSI or a microcomputer.
【請求項13】全厚さが1mm以下50μm以上である
ことを特徴とする請求項1から12のいずれか一に記載
の半導体装置。
13. The semiconductor device according to claim 1, wherein the total thickness is 1 mm or less and 50 μm or more.
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