JPH1036984A - Matted aluminum material and method of manufacturing the same - Google Patents
Matted aluminum material and method of manufacturing the sameInfo
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 入射角が60度のときの反射率が30%以下
である艶消しアルミニウム材を提供する。
【構成】 この艶消しアルミニウム材料は、粒径が5μ
m以下で体積率が1.4〜5%に調製された第2相粒子
を含み、アルカリエッチングによって直径が0.1〜1
00μmの範囲にあるディンプルが形成された表面をも
ち、ディンプルの平均半径r(μm)に対する平均深さ
d(μm)のアスペクト比r/dが0.6以上、平坦部
の残存面積率αが0〜30%であり、入射角60度での
反射率が30%以下である。
【効果】 少ないエッチング減量でも、優れた所望の艶
消し面が得られる。
(57) [Summary] [Object] To provide a matte aluminum material having a reflectance of 30% or less when an incident angle is 60 degrees. [Constitution] This matte aluminum material has a particle size of 5μ.
m or less, the second phase particles having a volume ratio of 1.4 to 5%, and having a diameter of 0.1 to 1 by alkali etching.
It has a surface on which dimples are formed in the range of 00 μm, the aspect ratio r / d of the average depth d (μm) to the average radius r (μm) of the dimples is 0.6 or more, and the residual area ratio α of the flat portion is 0 to 30%, and the reflectance at an incident angle of 60 degrees is 30% or less. [Effect] An excellent desired matte surface can be obtained even with a small loss in etching.
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、建材パネル,化粧品容
器,装飾品,日用品等に使用される艶消しアルミニウム
材料及びその製造方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a matte aluminum material used for building material panels, cosmetic containers, decorative articles, daily necessities and the like, and a method for producing the same.
【0002】[0002]
【従来の技術】アルミニウム材料は、バレル研磨,液体
ホーニング,電解研磨,ベルトサンダー等によって粗面
化され、金属光沢が望ましくない用途に艶消し材料とし
て使用される。粗面化されたアルミ表面は、塗料や皮膜
に対しても優れた密着性を付与する要因となる。なかで
も、アルカリエッチング液を使用したエッチングは、生
産コスト上で有利であり、脱脂処理の延長線上で可能で
あることから、多用されている艶消し法である。なお、
艶消し材といわれるものは、通常、入射角60度での反
射率が30%以下になっている。2. Description of the Related Art Aluminum materials are roughened by barrel polishing, liquid honing, electrolytic polishing, belt sander, etc., and are used as matting materials in applications where metallic luster is not desired. The roughened aluminum surface is a factor that imparts excellent adhesion to paints and films. Above all, etching using an alkali etching solution is a matting method that is frequently used because it is advantageous in terms of production cost and can be extended on a degreasing treatment. In addition,
The so-called matting material usually has a reflectance of 30% or less at an incident angle of 60 degrees.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来のアルカ
リエッチングでは、安定的に艶消し面を得るために多量
のエッチングをする必要があるものと考えられている。
そのため、エッチング浴の寿命が短く、多量の廃液処理
が必要とされる。また、被処理材の履歴等によってエッ
チング条件を調整する必要もあった。本発明は、このよ
うな問題を解消すべく案出されたものであり、エッチン
グによってアルミ表面に形成されるディンプルを定量的
にコントロールすることにより、アルカリエッチングの
エッチング量を少なくしても十分に艶消しされたアルミ
ニウム表面を得ることを目的とする。However, in the conventional alkaline etching, it is considered that a large amount of etching is required to stably obtain a matte surface.
Therefore, the life of the etching bath is short, and a large amount of waste liquid treatment is required. Further, it was necessary to adjust the etching conditions according to the history of the material to be processed. The present invention has been devised to solve such a problem. By quantitatively controlling dimples formed on the aluminum surface by etching, the amount of alkali etching can be reduced sufficiently. The aim is to obtain a matte aluminum surface.
【0004】[0004]
【課題を解決するための手段】本発明の艶消しアルミニ
ウム材料は、その目的を達成するため、粒径が5μm以
下で体積率が1.4〜5%に調製された第2相粒子を含
み、アルカリエッチングによって直径が0.1〜100
μmの範囲にあるディンプルが形成された表面をもち、
ディンプルの平均深さd(μm)に対する平均半径r
(μm)のアスペクト比d/rが0.6以上、平坦部の
残存面積率αが0〜30%であり、入射角60度での反
射率Rが30%以下であることを特徴とする(図2参
照)。エッチング処理されるアルミニウム材料として
は、材質的には、たとえばJIS H4000規格にお
けるA1070,A1080,A1100,A1200
等の純アルミ系,A5051,A5154,A5N01
等のAl−Mg系合金,A6063等のAl−Mg−S
i系合金,A3003,A3005等のAl−Mn系合
金,A4043等のAl−Si系合金がある。これらの
合金の中でも、一般的な合金元素としてSi及びFeの
合計含有量が0.8〜1.0重量%の範囲に調整された
アルミニウム溶湯を鋳造,圧延した後、560〜640
℃×20〜80時間の熱処理を施したアルミニウム材料
が好ましい。なお、この場合、不可避的な不純物の許容
量は、Cu,Znを0.2重量%以下、その他の元素を
各々0.1重量%以下とすることが好ましい。或いは、
これらのアルミニウム材を表面層とする合せ材も同様に
適用される。In order to achieve the object, the matte aluminum material of the present invention comprises second phase particles having a particle size of 5 μm or less and a volume ratio of 1.4 to 5%. 0.1 to 100 in diameter by alkali etching
It has a surface with dimples in the range of μm,
Average radius r for average dimple depth d (μm)
(Μm), the aspect ratio d / r is 0.6 or more, the residual area ratio α of the flat portion is 0 to 30%, and the reflectance R at an incident angle of 60 degrees is 30% or less. (See FIG. 2). The aluminum material to be etched may be, for example, A1070, A1080, A1100, A1200 according to JIS H4000 standard.
Pure aluminum, A5051, A5154, A5N01
Al-Mg based alloys such as A6063, etc.
There are i-based alloys, Al-Mn-based alloys such as A3003 and A3005, and Al-Si-based alloys such as A4043. Among these alloys, after casting and rolling an aluminum melt in which the total content of Si and Fe is adjusted to a range of 0.8 to 1.0% by weight as a general alloy element, 560 to 640
An aluminum material that has been subjected to a heat treatment at 20C for 20 to 80 hours is preferable. In this case, it is preferable that the allowable amount of the inevitable impurities is 0.2% by weight or less for Cu and Zn, and 0.1% by weight or less for each of the other elements. Or,
A bonding material having these aluminum materials as a surface layer is similarly applied.
【0005】[0005]
【作用】本発明者等は、アルカリエッチング量と反射率
との関係を、種々の材料を使用して研究した。その結
果、特定されたアルミニウム材では、あるエッチング量
以上でアルカリエッチングしても、被処理材の艶消し状
態が変化しないことを見い出した。艶消し状態、換言す
れば反射率が変化しない原因は、エッチングされたアル
ミニウム材料の表面状態にあるものと推察される。すな
わち、ディンプルが形成されたアルミニウム材料表面に
入射した光は、残存平坦部及びディンプル底面で反射さ
れる。アルミニウム材料の表面から一定の角度で反射さ
れる光量の入射光量に対する比率が反射率であることか
ら、反射光の光量を少なくするためには、残存平坦部及
びディンプル底面での相関的な反射が問題となる。The present inventors have studied the relationship between the amount of alkali etching and the reflectance using various materials. As a result, it has been found that, with the specified aluminum material, the matte state of the material to be processed does not change even when the alkali etching is performed at a certain etching amount or more. The reason why the matte state, in other words, the reflectance does not change, is presumed to be the surface state of the etched aluminum material. That is, light incident on the surface of the aluminum material on which the dimples are formed is reflected by the remaining flat portion and the bottom surface of the dimple. Since the ratio of the amount of light reflected at a certain angle to the amount of incident light from the surface of the aluminum material is the reflectance, in order to reduce the amount of reflected light, correlated reflections at the remaining flat portion and the bottom of the dimple must be made. It becomes a problem.
【0006】このような前提で、アルカリエッチングさ
れたアルミニウム材料の材料組成ごとの表面解析をする
と共に、表面状態と反射率との関係を調査した。処理材
料として、第2相粒子の粒径が5μm以下であり、その
体積率が1.4〜5%に調製されているアルミニウム材
を使用するとき、アルカリエッチングによって艶消し面
が安定的に得られることが判った。更に、アルカリエッ
チングによって形成されたディンプルの直径が0.1〜
100μmの範囲にあり、ディンプルの平均深さd(μ
m)に対する平均半径r(μm)のアスペクト比d/r
が0.6以上、平坦部の残存面積率αが0〜30%であ
るとき、入射角60度での反射率が30%以下となる艶
消し面が得られることを解明した。Under such a premise, a surface analysis was performed for each material composition of the alkali-etched aluminum material, and a relationship between the surface state and the reflectance was investigated. When an aluminum material having a particle size of the second phase particles of 5 μm or less and a volume ratio of 1.4 to 5% is used as a processing material, a matte surface can be stably obtained by alkali etching. Turned out to be. Furthermore, the diameter of the dimple formed by the alkali etching is 0.1 to
In the range of 100 μm, and the average dimple depth d (μ
m) aspect ratio of average radius r (μm) to d / r
Is 0.6 or more, and when the residual area ratio α of the flat portion is 0 to 30%, a matte surface having a reflectance of 30% or less at an incident angle of 60 degrees is obtained.
【0007】なかでも、アスペクト比は、反射率に大き
な影響を与えるファクターであり、これによってエッチ
ングされた表面での乱反射が促される。所望の反射率R
に対応してアスペクト比の規制と平坦部の残存面積率α
を30%以下に抑えることが相俟つて、たとえば10μ
m程度の比較的少ないエッチング量でも、反射率が30
%以下の艶消し面が安定して得られる。そのため、被処
理材の品質から製造容易な関係にある形状のディンプル
及び平坦部残存面積率を選定することにより、目標とす
る艶消しアルミニウム材料が得られるため、処理時間の
短縮が図られ、生産管理も容易になる。更に、たとえば
後加工で不良品化したものに前述の範囲内に止まるレベ
ルで再度のエッチングを施しても艶消し状態に変化がな
く、歩留まりが向上する。この点、従来のエッチングに
よる艶消しでは、艶消しの程度が定量的に把握されてい
ないため、得てして過剰なエッチング量でアルミニウム
表面をエッチングしており、多量のエッチング液が必要
とされると共に生産性の低いものであった。[0007] In particular, the aspect ratio is a factor that greatly affects the reflectivity, and this promotes irregular reflection on the etched surface. Desired reflectivity R
Of the aspect ratio and the residual area ratio α of the flat part corresponding to
Is reduced to 30% or less.
Even with a relatively small etching amount of about
% Or less matte surface is stably obtained. Therefore, the target matte aluminum material can be obtained by selecting the dimples and the flat area remaining area ratio of the shapes that are easily manufactured from the quality of the material to be processed, so that the processing time can be reduced and the production time can be reduced. Management becomes easier. Further, for example, even if a defective product is formed by post-processing and is re-etched at a level within the above-mentioned range, the matte state is not changed, and the yield is improved. In this regard, in the conventional matting by etching, since the degree of matting is not quantitatively grasped, the aluminum surface is obtained and etched with an excessive etching amount. It was a poor thing.
【0008】使用可能なアルカリエッチング水溶液は、
特にその種類が拘束されるものではないが、NaOH,
Na3 PO4 ,KOH等があり、必要に応じてグルコン
酸ナトリウム,硝酸ナトリウム等の助剤が添加される。
たとえば、NaOH系のエッチング液を使用する場合、
濃度を1〜100g/l(好ましくは3〜10g/l)
に調整し、室温〜90℃(好ましくは40〜60℃)の
浴温で20分以下(好ましくは2〜15分)の時間浸漬
する。また、スケールの発生を防止するために0.5〜
5g/lのグルコン酸ナトリウム,エッチング速度を上
げるために5〜50g/lの硝酸ナトリウムや1〜10
g/lのフッ化ナトリウム等を必要に応じて添加する。
エッチングにより形成されるディンプルは、種々の大き
さのものが混在するにしても、直径が0.1〜100μ
mの範囲にあり、好ましくは平均値で1〜50μmの範
囲にある。直径が0.1μmに満たないディンプルは、
艶消しに与える影響が小さく、無視される。しかし、1
00μmを超える大きな直径のディンプルでは、肉眼で
判別され、表面欠陥のあるものとして扱われる。A usable alkaline etching aqueous solution is
Although the type is not particularly restricted, NaOH,
There are Na 3 PO 4 , KOH and the like, and auxiliaries such as sodium gluconate and sodium nitrate are added as needed.
For example, when using a NaOH-based etchant,
The concentration is 1 to 100 g / l (preferably 3 to 10 g / l)
Immersion at a bath temperature of room temperature to 90 ° C. (preferably 40 to 60 ° C.) for 20 minutes or less (preferably 2 to 15 minutes). Further, in order to prevent the occurrence of scale, 0.5 to
5 g / l sodium gluconate, 5-50 g / l sodium nitrate or 1-10 g to increase the etching rate
g / l of sodium fluoride or the like is added as needed.
The dimples formed by etching have a diameter of 0.1 to 100 μm even when various sizes are mixed.
m, preferably in the range of 1 to 50 μm on average. Dimples less than 0.1 μm in diameter
The effect on matting is small and ignored. However, 1
Dimples having a large diameter exceeding 00 μm are visually recognized and treated as having surface defects.
【0009】ディンプルの深さdは、1〜30μmの範
囲が好ましい。深さが30μmを超えるディンプルで
は、表面欠陥のあるものとして扱われる。他方、1μm
に達しない浅いディンプルでは、艶消しに与える影響が
少ない。更に、ディンプルのアスペクト比d/rが0.
6以上の関係が成立することが必要であり、アスペクト
比d/rの上限は2程度である。アスペクト比d/rが
0.6に満たないディンプルでは、ディンプル底面での
反射に起因した反射率の上昇がみられ、ディンプルによ
る艶消し効果が小さくなる。平坦部の残存面積率αは、
大きいほど高い反射率を示すことから、所定の艶消し面
を得るためには30%以下に抑える必要がある。第2相
粒子の体積率,ディンプル,残存平坦部等は、光学顕微
鏡,SEM,レーザ顕微鏡等によって観察され、観察結
果を画像処理することによりディンプルの深さd,半径
r,残存平坦部の面積率α等が求められる。特に、三次
元方向の情報を得る手段としては、レーザ顕微鏡が好ま
しい。The depth d of the dimple is preferably in the range of 1 to 30 μm. Dimples having a depth of more than 30 μm are treated as having surface defects. On the other hand, 1 μm
Shallow dimples that do not have a small effect on matting. Further, when the aspect ratio d / r of the dimple is 0.
A relationship of 6 or more needs to be established, and the upper limit of the aspect ratio d / r is about 2. In a dimple having an aspect ratio d / r of less than 0.6, the reflectance is increased due to reflection at the bottom surface of the dimple, and the matting effect of the dimple is reduced. The remaining area ratio α of the flat part is
The larger the value, the higher the reflectivity. Therefore, in order to obtain a predetermined matte surface, the surface needs to be suppressed to 30% or less. The volume fraction, dimples, remaining flat portions, and the like of the second phase particles are observed by an optical microscope, a SEM, a laser microscope, and the like, and image processing of the observation results provides dimple depth d, radius r, and remaining flat portion area. Is determined. In particular, as a means for obtaining information in three-dimensional directions, a laser microscope is preferable.
【0010】また、エッチング時に、ディンプルは、第
2相粒子を起点として形成される。この点、第2相粒子
の分散状態は、エッチングにより形成されるディンプル
の分布,大きさ等に重要な影響を及ぼす。本発明者等の
研究によるとき、粒径5μm以下の第2相粒子が体積率
1.4〜5%以下で分散しているとき、良好な艶消し面
が安定的に得られることが判った。第2相粒子として
は、Al3 Fe,Al6Fe,α−AlFeSi,β−
AlFeSi,α−AlFeMSi(M=Cu,Mn,
Cr),Al2 Cu,Mg2 Si,Aln Mn,TiA
l,Si等があり、マトリックスよりも貴又は卑の何れ
であっても良く、マトリックス中に均一に分散している
ことが好ましい。このような組織状態は、通常のもので
あればマトリックス全体が均一な組織として製造される
ので問題ないが、製法によって第2相粒子の肉厚方向に
関する分布がみられるような場合には、エッチング前の
表面から少なくとも50〜100μm程度の深さまで保
持されたものであることが好ましい。During etching, dimples are formed starting from the second phase particles. In this regard, the dispersed state of the second phase particles has an important effect on the distribution and size of dimples formed by etching. According to the study of the present inventors, it has been found that when the second phase particles having a particle size of 5 μm or less are dispersed at a volume ratio of 1.4 to 5% or less, a good matte surface can be stably obtained. . As the second phase particles, Al 3 Fe, Al 6 Fe, α-AlFeSi, β-
AlFeSi, α-AlFeMSi (M = Cu, Mn,
Cr), Al 2 Cu, Mg 2 Si, Al n Mn, TiA
There are l, Si and the like, which may be noble or nobler than the matrix, and are preferably uniformly dispersed in the matrix. Such a structure state is not a problem because the entire matrix is manufactured as a uniform structure if it is a normal one. However, when the distribution of the second phase particles in the thickness direction is observed by the manufacturing method, the etching is performed. It is preferable that the substrate is held to a depth of at least about 50 to 100 μm from the front surface.
【0011】上記条件を満足するアルミニウム材料は、
常法に従った成分調整,圧延加工条件,熱処理条件等を
調整することによって得られる。たとえば、通常使用さ
れる合金元素としてのSi及びFeの含有量がそれぞれ
0.1〜0.6重量%及び0.2〜0.9重量%で合計
含有量が0.8〜1.0重量%の範囲に調整されたアル
ミニウム合金の場合は、溶湯を鋳造,圧延した後、56
0〜640℃で20〜80時間の熱処理を施すことによ
って、第2相粒子を適正範囲に生成させることができ
る。熱処理温度が560℃未満では、鋳造時に晶出した
粒径5μm以上の第2相粒子が消失しない。逆に640
℃を超える熱処理温度では、微細粒子は固溶消滅し、逆
に比較的大きく安定な第2相粒子は粒径5μmを超えて
成長する。また、20時間に達しない熱処理時間では鋳
造時に生成した粒径5μm以上の第2相粒子が5μm以
下の粒径にならず、80時間を超える熱処理時間では第
2相粒子の体積率が1.4%を下回る。不可避的不純物
の上限は、純アルミニウム系として使用できる範囲とし
て定めたものである。An aluminum material satisfying the above conditions is
It can be obtained by adjusting the components, rolling conditions, heat treatment conditions, and the like according to a conventional method. For example, the content of Si and Fe as commonly used alloy elements is 0.1 to 0.6% by weight and 0.2 to 0.9% by weight, respectively, and the total content is 0.8 to 1.0% by weight. % In the case of an aluminum alloy adjusted to the range of
By performing the heat treatment at 0 to 640 ° C. for 20 to 80 hours, the second phase particles can be generated in an appropriate range. When the heat treatment temperature is lower than 560 ° C., the second phase particles having a particle size of 5 μm or more crystallized during casting do not disappear. 640
At a heat treatment temperature higher than 0 ° C., the fine particles disappear in solid solution, and conversely, the relatively large and stable second phase particles grow to a particle size exceeding 5 μm. In addition, the second phase particles having a particle size of 5 μm or more formed during casting do not become a particle size of 5 μm or less during the heat treatment time that does not reach 20 hours, and the volume ratio of the second phase particles is 1. Below 4%. The upper limit of the inevitable impurities is determined as a range that can be used as pure aluminum.
【0012】第2相粒子の粒径が5μmを超えると、第
2相粒子又は第2相粒子近傍が優先的にエッチングされ
る結果、浅く大きなディンプルが発生する。そのため、
均一な艶消し面が得られ難く、ディンプル底面からの反
射光量が多くなり、反射率の低下が進行しない。好まし
くは、0.5〜3μm程度の粒径が実用的である。ま
た、第2相粒子の体積率が1.4%に満たないと、平坦
部の残存面積率αが大きくなる傾向を示し、第2相粒子
の分散による艶消し状態の改善に及ぼす第2相粒子の影
響が小さい。逆に、5%を超える体積率では、艶消しに
有効な均一分散し且つ均一大きさのディンプル形状が得
られ難くなる。実用的には、体積率1.5〜3%で分布
していることが好ましい。艶消しされたアルミニウム材
料は、エッチング後、中和及び脱スマット処理される。
中和及び脱スマット処理には、10〜40重量%硝酸
液,100〜200g/l硫酸液等を使用した通常の方
法が採用される。その後、必要に応じて硫酸,蓚酸,硼
酸等の陽極酸化電解浴を使用した陽極酸化処理或いはク
リアー塗装等により、目的に応じた皮膜が形成される。
なお、後処理加工で艶消し状態、すなわち反射率が変化
する場合、予めその分を加味したエッチング条件を選定
することが必要である。なお、上記アルミニウム材料を
ベース材にクラッドした複合板のベース部分をコーティ
ング処理したものを同様に処理しても、片面が艶消しし
たものが得られる。When the particle size of the second phase particles exceeds 5 μm, the second phase particles or the vicinity of the second phase particles are preferentially etched, so that large shallow dimples are generated. for that reason,
It is difficult to obtain a uniform matte surface, the amount of light reflected from the bottom surface of the dimple increases, and the decrease in reflectance does not progress. Preferably, a particle size of about 0.5 to 3 μm is practical. If the volume fraction of the second phase particles is less than 1.4%, the residual area ratio α of the flat portion tends to increase, and the second phase effect on the improvement of the matte state by the dispersion of the second phase particles. The effect of particles is small. Conversely, if the volume ratio exceeds 5%, it is difficult to obtain a dimple shape having a uniform size and uniform dispersion effective for matting. Practically, it is preferable to be distributed at a volume ratio of 1.5 to 3%. The matte aluminum material is neutralized and desmutted after etching.
For the neutralization and desmutting treatment, an ordinary method using a 10 to 40% by weight nitric acid solution, a 100 to 200 g / l sulfuric acid solution or the like is employed. Thereafter, if necessary, a film according to the purpose is formed by anodizing treatment using an anodizing electrolytic bath such as sulfuric acid, oxalic acid, boric acid, or clear coating.
When the matte state, that is, the reflectivity is changed by the post-processing, it is necessary to select an etching condition in consideration of the change. It should be noted that, even if the base material of the composite plate in which the above-mentioned aluminum material is clad on the base material is subjected to the coating treatment, a matte material can be obtained on one side.
【0013】[0013]
実施例1:表1に示した組成を持つアルミニウム合金を
160mm×150mm×30mmの鋳塊に鋳造し、片
面当り5mmの面削を両面に施して20mmの厚みにし
た。面削後の鋳塊に、600℃×1時間の均質化処理を
施し、厚さ1mmに冷間圧延した。得られた冷延板を6
40℃で80時間焼鈍し、焼鈍材を得た。焼鈍材の第2
相粒子を測定したところ、平均粒子径が0.5μm,体
積率が2%であった。 浴温50℃の5重量%NaOH水溶液に焼鈍材を浸漬
し、ディンプル形状が平均半径1μm,深さ0.6μm
でアスペクト比d/r=0.6、平坦部の残存面積率α
が1.5%になるまでエッチングした。このときのエッ
チング減量は、5μmであった。エッチング後の処理材
は、反射率が15%であった。また、これ以上エッチン
グを継続しても、図1に示すように反射率はほぼ同じレ
ベルに止まっていた。Example 1: An aluminum alloy having the composition shown in Table 1 was cast into an ingot of 160 mm x 150 mm x 30 mm, and a surface of 5 mm per side was applied to both sides to a thickness of 20 mm. The ingot after face milling was subjected to a homogenization treatment at 600 ° C. × 1 hour, and was cold-rolled to a thickness of 1 mm. The obtained cold rolled sheet
Annealing was performed at 40 ° C. for 80 hours to obtain an annealed material. The second of the annealed material
When the phase particles were measured, the average particle diameter was 0.5 μm and the volume ratio was 2%. The annealing material is immersed in a 5% by weight aqueous NaOH solution at a bath temperature of 50 ° C., and the dimple shape has an average radius of 1 μm and a depth of 0.6 μm.
And the aspect ratio d / r = 0.6, the residual area ratio α of the flat portion
Was etched to 1.5%. At this time, the etching loss was 5 μm. The processed material after the etching had a reflectance of 15%. Further, even if the etching was further continued, the reflectance remained almost at the same level as shown in FIG.
【0014】比較例1:実施例1と同じアルミニウム材
料を使用し、熱処理条件を調整することにより、第2相
粒子の平均粒子径を0.8μm及び体積率を0.7%に
調整した。この熱処理材を実施例1と同じエッチング液
を使用してエッチング減量が5μmとなるまでエッチン
グした。得られた処理材の反射率は50%で、このとき
のディンプル形状は平均半径rが0.4μm,深さdが
1μm、アスペクト比d/rが0.4で、平坦部の残存
面積率αが50%であった。反射率を下げるためには、
図1に示すように更に長時間のエッチングが必要とされ
た。Comparative Example 1 The same aluminum material as in Example 1 was used and the heat treatment conditions were adjusted to adjust the average particle diameter of the second phase particles to 0.8 μm and the volume ratio to 0.7%. This heat-treated material was etched using the same etching solution as in Example 1 until the loss on etching became 5 μm. The reflectance of the obtained processing material is 50%, and the dimple shape at this time has an average radius r of 0.4 μm, a depth d of 1 μm, an aspect ratio d / r of 0.4, and a residual area ratio of the flat portion. α was 50%. To lower the reflectance,
As shown in FIG. 1, longer etching was required.
【0015】比較例2:比較例1と同じアルミニウム材
料を用い、エッチング処理時間を変えることによりディ
ンプル形状がアスペクト比d/r=0.6になるまでエ
ッチングした。得られた処理材の反射率は37%で、こ
のときのディンプル形状は平均半径rが1.7μm,深
さdが1μm,平坦部の残存面積率αが40%であっ
た。 比較例3:実施例1と同じアルミニウム冷延板を650
℃で100時間焼鈍し、焼鈍材を得た。この焼鈍材の第
2相粒子を測定したところ、平均粒子径が0.7μm,
体積率が1.2%であった。また、この焼鈍材を実施例
1と同じ条件でエッチングしたところ、反射率は38%
であり、長時間焼鈍処理すると艶消し材が得られないこ
とが判った。Comparative Example 2: Using the same aluminum material as in Comparative Example 1, etching was performed until the dimple shape became an aspect ratio d / r = 0.6 by changing the etching time. The reflectance of the obtained treatment material was 37%, and the dimple shape at this time had an average radius r of 1.7 μm, a depth d of 1 μm, and a residual area ratio α of the flat portion of 40%. Comparative Example 3: The same aluminum cold-rolled sheet as in Example 1 was used for 650
Annealed at 100 ° C. for 100 hours to obtain an annealed material. When the second phase particles of this annealed material were measured, the average particle diameter was 0.7 μm,
The volume ratio was 1.2%. When this annealed material was etched under the same conditions as in Example 1, the reflectance was 38%.
It was found that a matte material could not be obtained after long-time annealing.
【0016】実施例2:表2に示した組成をもつアルミ
ニウム合金から実施例1と同じ条件で冷延板を得た後、
570℃で25時間焼鈍し、焼鈍材を得た。この焼鈍材
の第2相粒子を測定したところ、平均粒子径が0.5μ
m,体積率が2.4%であった。また、この焼鈍材を実
施例1と同じ条件でエッチングしたところ、反射率は1
2%であり、本発明の条件が満足されると艶消し材が得
られることが判った。 Example 2 A cold-rolled sheet was obtained from an aluminum alloy having the composition shown in Table 2 under the same conditions as in Example 1;
Annealing was performed at 570 ° C. for 25 hours to obtain an annealed material. When the second phase particles of this annealed material were measured, the average particle size was 0.5 μm.
m and the volume ratio were 2.4%. When this annealed material was etched under the same conditions as in Example 1, the reflectance was 1
It was 2%, which proved that a matting material could be obtained if the conditions of the present invention were satisfied.
【0017】比較例4:実施例2と同じアルミニウム冷
延板を550℃で15時間焼鈍し、焼鈍材を得た。この
焼鈍材の第2相粒子を測定したところ、平均粒子径が
0.4μm,体積率が2%であった。また、この焼鈍材
を実施例1と同じ条件でエッチングしたところ、反射率
は32%であり、低温短時間焼鈍処理では艶消し材が得
られないことが判った。Comparative Example 4 The same aluminum cold-rolled sheet as in Example 2 was annealed at 550 ° C. for 15 hours to obtain an annealed material. When the second phase particles of this annealed material were measured, the average particle diameter was 0.4 μm and the volume ratio was 2%. When this annealed material was etched under the same conditions as in Example 1, the reflectance was 32%, and it was found that a matte material could not be obtained by the low-temperature short-time annealing treatment.
【0018】比較例5:表3に示した組成をもつアルミ
ニウム合金を実施例1と同じ条件で冷延し、得られた冷
延板を640℃で80時間焼鈍し、焼鈍材を得た。この
焼鈍材の第2相粒子を測定したところ、平均粒子径が
0.5μm,体積率が1.4%であった。また、この焼
鈍材を実施例1と同じ条件でエッチングしたところ、反
射率は38%であり、組成が本発明の条件を満たさない
ものでは艶消し材が得られないことが判った。 Comparative Example 5 An aluminum alloy having the composition shown in Table 3 was cold-rolled under the same conditions as in Example 1, and the obtained cold-rolled sheet was annealed at 640 ° C. for 80 hours to obtain an annealed material. When the second phase particles of this annealed material were measured, the average particle diameter was 0.5 μm and the volume ratio was 1.4%. When this annealed material was etched under the same conditions as in Example 1, the reflectance was 38%, and it was found that a matting material could not be obtained if the composition did not satisfy the conditions of the present invention.
【0019】[0019]
【発明の効果】以上に説明したように、本発明において
は、第2相粒子が特定条件下にあるアルミニウム材のア
ルカリエッチングによって材料表面に形成されるディン
プルの深さや半径を平坦部の残存面積率との関係で規定
することにより、比較的短時間の処理で反射率の低い艶
消し材が安定して得られる。また、ディンプルの深さや
半径を平坦部の残存面積率との関係は、過剰にエッチン
グする必要を無くし、被処理材の必要厚さの軽減やエッ
チング液単位使用量当りの処理量の増加が達成され、生
産性及び再現性良く艶消し材を得るために必要なエッチ
ング条件の設定に使用される。更に、前述したディンプ
ル条件が満足される範囲内であれば、エッチング処理を
複数回繰り返しても、所期の艶消し状態を持つ処理材が
得られる。そのため、後処理加工で不良品化したもので
あっても、再エッチングによって後処理による皮膜の脱
膜処理をして再度後処理加工に供することができるよう
になるので、プロセス全体における歩留りが向上する。
このようにして、艶消し処理されたアルミニウム材は、
建材パネル,化粧品容器,装飾品,日用品等の用途に使
用される。As described above, in the present invention, the depth and radius of the dimple formed on the surface of the material by the alkali etching of the aluminum material under the specified conditions are determined by the residual area of the flat portion. By defining the relationship with the ratio, a matting material having a low reflectance can be stably obtained in a relatively short time treatment. In addition, the relationship between the depth and radius of the dimple and the remaining area ratio of the flat part eliminates the need for excessive etching, reducing the required thickness of the material to be processed and increasing the throughput per unit usage of the etching solution. It is used for setting etching conditions necessary for obtaining a matting material with good productivity and reproducibility. Furthermore, as long as the above-mentioned dimple condition is satisfied, even if the etching process is repeated a plurality of times, a processing material having a desired matte state can be obtained. As a result, even if the product becomes defective due to post-processing, the film can be removed by post-processing by re-etching and can be used again for post-processing, thereby improving the yield in the entire process. I do.
In this way, the matte-treated aluminum material is
Used for applications such as building material panels, cosmetic containers, decorations, and daily necessities.
【図1】 各試験片のエッチング減量に応じた反射率の
変化を示すグラフFIG. 1 is a graph showing a change in reflectivity according to an etching loss of each test piece.
【図2】 アルミニウム材の表面にアルカリエッチング
によって形成されたディンプルの模式図FIG. 2 is a schematic view of a dimple formed on a surface of an aluminum material by alkali etching.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 牛野 俊一 静岡県庵原郡蒲原町蒲原1丁目34番1号 日本軽金属株式会社グループ技術センター 内 (72)発明者 西川 泰久 静岡県庵原郡蒲原町蒲原1丁目34番1号 日本軽金属株式会社グループ技術センター 内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Shunichi Ushino 1-34-1, Kabara, Kambara-cho, Anbara-gun, Shizuoka Prefecture Within Nippon Light Metal Co., Ltd. Group Technology Center (72) Inventor Yasuhisa Nishikawa 1, Kambara-cho, Kambara-cho, Anbara-gun, Shizuoka Prefecture 34-1, Nippon Light Metal Co., Ltd. Group Technology Center
Claims (3)
%に調製された第2相粒子を含み、アルカリエッチング
によって直径が0.1〜100μmの範囲にあるディン
プルが形成された表面をもち、該ディンプルの平均深さ
d(μm)に対する平均半径r(μm)のアスペクト比
d/rが0.6以上、平坦部の残存面積率αが0〜30
%であり、入射角60度での反射率が30%以下である
艶消しアルミニウム材料。1. A particle size of 5 μm or less and a volume ratio of 1.4 to 5
% Of the second phase particles, and has a surface on which dimples having a diameter in the range of 0.1 to 100 μm have been formed by alkali etching, and has an average radius r with respect to the average depth d (μm) of the dimples. μm) is 0.6 or more, and the residual area ratio α of the flat portion is 0 to 30.
%, And the reflectance at an incident angle of 60 degrees is 30% or less.
%に調製された第2相粒子を含むアルミニウム材料をア
ルカリエッチングで粗面化する際、エッチングによって
形成されるディンプルを直径0.1〜100μmとし、
ディンプルの平均深さd(μm)に対する平均半径r
(μm)のアスペクト比d/rが0.6以上、平坦部の
残存面積率αが0〜30%となるようにエッチング条件
を定めることを特徴とする艶消しアルミニウム材料の製
造方法。2. A particle size of 5 μm or less and a volume ratio of 1.4 to 5
%, When the aluminum material containing the second phase particles is roughened by alkali etching, the dimples formed by etching have a diameter of 0.1 to 100 μm,
Average radius r for average dimple depth d (μm)
A method for producing a matte aluminum material, characterized in that etching conditions are determined so that an aspect ratio d / r of (μm) is 0.6 or more and a residual area ratio α of a flat portion is 0 to 30%.
量が0.8〜1.0重量%の範囲に調整されたアルミニ
ウム溶湯を鋳造,圧延した後、560〜640℃で20
〜80時間の熱処理を施したアルミニウム材料を使用す
る請求項2記載の艶消しアルミニウム材料の製造方法。3. After casting and rolling a molten aluminum in which the total content of Si and Fe as added elements is adjusted to be in the range of 0.8 to 1.0% by weight, the molten aluminum is cast at 560 to 640 ° C.
The method for producing a matte aluminum material according to claim 2, wherein an aluminum material subjected to heat treatment for up to 80 hours is used.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21202696A JPH1036984A (en) | 1996-07-22 | 1996-07-22 | Matted aluminum material and method of manufacturing the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21202696A JPH1036984A (en) | 1996-07-22 | 1996-07-22 | Matted aluminum material and method of manufacturing the same |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1036984A true JPH1036984A (en) | 1998-02-10 |
Family
ID=16615649
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21202696A Pending JPH1036984A (en) | 1996-07-22 | 1996-07-22 | Matted aluminum material and method of manufacturing the same |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1036984A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005213647A (en) * | 2004-01-28 | 2005-08-11 | Kokyo Kagi Kofun Yugenkoshi | Formation method of light reflection pattern and product with the light reflection pattern |
-
1996
- 1996-07-22 JP JP21202696A patent/JPH1036984A/en active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005213647A (en) * | 2004-01-28 | 2005-08-11 | Kokyo Kagi Kofun Yugenkoshi | Formation method of light reflection pattern and product with the light reflection pattern |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20051122 |
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| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20060711 |