JPH1036233A - 抗菌性ヘアトリートメント組成物 - Google Patents

抗菌性ヘアトリートメント組成物

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JPH1036233A
JPH1036233A JP9239297A JP9239297A JPH1036233A JP H1036233 A JPH1036233 A JP H1036233A JP 9239297 A JP9239297 A JP 9239297A JP 9239297 A JP9239297 A JP 9239297A JP H1036233 A JPH1036233 A JP H1036233A
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JP
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hair treatment
shampoo
treatment composition
antimicrobial
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JP9239297A
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Graham Charles Eccleson
グラハム・チヤールズ・イクルソン
Jonathan David Hague
ジヨナサン・デイビツド・ハーグ
Christpher Konidaris Peter
ピーター・クリストフアー・コニダリス
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Unilever NV
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明の課題は、シャンプー組成物を濯ぎ落
した際に向上したふけ防止活性が得られるような抗菌性
ヘアトリートメント組成物を得ることにある。 【解決手段】 本発明は、或る種の1−ヒドロキシ−6
−置換ピリジン−2−オンおよび2−チオン化合物から
選択される抗菌性化合物とシャンプー表面活性剤と高分
子の水溶性陽イオン型付着助剤とを含むシャンプー組成
物である抗菌性ヘアトリートメント組成物に関するもの
である。ヘアトリートメント組成物のpHは7未満に調
整されて、抗菌性化合物がヘアトリートメント組成物中
に不溶性粒子として存在するようにする。このようにし
て、抗菌性化合物を不溶性型にて抗菌性化合物の不溶性
粒子のための付着助剤としての陽イオン型付着性ポリマ
ーと組合せて用いることにより、シャンプー組成物を濯
ぎ落した際に向上したふけ防止活性を得ることができ
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はヘアトリートメント
組成物、特に抗菌剤を含有するシャンプー組成物である
ヘアトリートメント組成物に関するものである。
【0002】
【従来の技術】不溶性の微粒子金属ピリチオンは、たと
えばふけ防止性ヘアシャンプーのような抗菌性組成物に
混入しうる抗菌剤として認められている。亜鉛塩(以
下、ZnPTOと称する)がこの意味で広く使用され
る。一般にZnPTOの分散粒子を組成物中に懸濁さ
せ、次いでこれを毛髪に施してZnPTOを毛髪および
頭皮に付着させる。
【0003】この種の組成物で遭遇する問題は、ZnP
TOを含有する安定分散液を得ることが困難な点であ
る。何故なら、その密度が貯蔵に際し分離をもたらしう
るからである。従来、ZnPTO粒子の分離を防止すべ
く採用する過程はたとえば粘土もしくはパーレッサ(p
earlescer)のような増粘剤もしくはバルキン
グ剤を混入して系に構造粘度を付与すると共にZnPT
Oの沈降を防止することにより、処方ベースを高粘性の
エマルジョンもしくはゲルに制限することを含んだ。こ
の種の手法はしばしばシャンプー組成物については非実
用的であり、濁った美観上劣る製品をもたらしうる。
【0004】或る種の1−ヒドロキシ−2−ピリドン誘
導体がふけ抑制の特定用途を有する抗菌剤として有効で
あることも知られている。1−ヒドロキシ−4−メチル
−6−(2,4,4−トリメチルペンチル)−2−ピリ
ドンは、US 4,185,106号およびUS 4,
711,775号に、シャンプー組成物にて良好な抗菌
効果と溶解性とを示すと記載されている。しかしなが
ら、この化合物は製造が高価につく。
【0005】さらに可溶性の活性物質で遭遇する問題
は、溶解型にてヘアトリートメント組成物に混入すれば
組成物から毛髪への活性物質の効果的付着を得るのが困
難となり、したがって活性物質が組成物の濯ぎ落しに際
し毛髪から洗浄除去されて低下したふけ防止効果をもた
らす傾向を示す点である。
【0006】WO 95/11233号(オリン・コー
ポレーション)は、特定種類の1−ヒドロキシ−6−置
換ピリジン−2−オンおよび2−チオン、その製造方
法、並びに一般に石鹸およびシャンプーから封止剤およ
び他のポリマー組成物(特に塗料)に至る範囲の工業用
途および化粧用途における抗菌剤としてのその使用につ
き記載している。WO 95/11233号によれば、
これら化合物の利点は水および有機溶剤に対するその溶
解性である。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、シャンプー
組成物を濯ぎ落した際に向上したふけ防止活性が得られ
るような抗菌性ヘアトリートメント組成物を得ることを
課題とする。
【0008】今回、WO 95/11233号の化合物
は、組成物のpHを7未満に調整することによりヘアト
リートメント組成物中に不溶性薬剤として処方しうるこ
と、並びに毛髪および頭皮に対するこれら化合物の向上
した付着、したがってこれら化合物を不溶性型にて抗菌
性化合物の不溶性粒子のための付着助剤としての陽イオ
ン型付着ポリマーと組合せて用いることにより濯ぎ落し
シャンプー組成物からふけ防止活性が得られることを突
き止めた。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明は、次の各成分: (a) 式(I):
【0010】
【化4】
【0011】[式中、Xは酸素もしくは硫黄成分であ
り、Rは1〜20個の炭素原子を有する置換もしくは未
置換の炭化水素基であり、ただしRはクロルベンジル以
外のものであり、RI は水素またはアルカリ金属、アル
カリ土類金属、アンモニウムイオンおよび有機アンモニ
ウムイオンよりなる群から選択される陽イオンである]
の抗菌性化合物、または式(II):
【0012】
【化5】
【0013】[式中、Yは酸素、硫黄もしくはNRII
分であり、ここでNは窒素であり、RおよびRIIは独立
してそれぞれ1〜20個の炭素原子を有する置換もしく
は未置換の炭化水素基である]の化合物、または式(II
I ):
【0014】
【化6】
【0015】[式中、RIII およびRIVは独立して水素
または1〜20個の炭素原子を有する置換もしくは未置
換の炭化水素基であり、ただしRもしくはRIIのいずれ
かは炭化水素基である]の化合物; (b) 少なくとも1種のシャンプー表面活性剤;およ
び (c) 高分子の水溶性陽イオン型付着助剤を含み、ヘ
アトリートメント組成物のpHが7未満であり、抗菌性
化合物がヘアトリートメント組成物中に不溶性粒子とし
て存在するようなシャンプー組成物であることを特徴と
する抗菌性ヘアトリートメント組成物を提供する。
【0016】
【発明の実施の形態】上記式(I)、(II)および(II
I )におけるR基につき好適な炭化水素基は3〜15個
の炭素原子を有する脂肪族炭化水素、より好ましくは5
〜10個の炭素原子を有する直鎖の炭化水素である。
「置換炭化水素」という用語は、たとえばクロル、イオ
ド、フルオロもしくはブロモのようなハロゲン、たとえ
ばメトキシ、エトキシ、プロポキシもしくはブトキシの
ようなアルコキシ、ニトロ、チオ、アミノ、その組合せ
などの置換基を包含することを意図する。炭化水素基の
例はn−オクチル、2,4,4−トリメチルペンチル、
3,5,5−トリメチルヘキシル、その組合せなどを包
含する。
【0017】RI の例はナトリウム、リチウム、カリウ
ム、カルシウム、マグネシウム、アンモニウムおよびモ
ノ−、ジ−もしくはトリ−エタノールアミンを包含す
る。
【0018】本発明による好適な抗菌性化合物は、R=
オクチルかつX=酸素である式(I)の化合物のモノエ
タノールアミン塩(名称HP 101としてオリン・コ
ーポレーションから市販入手しうる)である。
【0019】本発明の組成物に混入される抗菌性化合物
の量は、組成物の種類および使用する材料の正確な性質
に依存する。抗菌性化合物の好適量は全組成物に対し約
0.001〜約5重量%、より好ましくは約0.1〜約
3重量%である。
【0020】本発明による組成物は少なくとも1種のシ
ャンプー表面活性剤を含む。
【0021】適するシャンプー表面活性剤は陰イオン
型、非イオン型、両性イオン型および双性イオン型の表
面活性剤、並びにその混合物から選択される。
【0022】適する陰イオン型表面活性剤はアルキルサ
ルフェート、アルキルエーテルサルフェート、アルカリ
ールスルホネート、アルカノイルイセチオネート、アル
キルスクシネート、アルキルスルホスクシネート、N−
アルコイルサルコシネート、アルキルホスフェート、ア
ルキルエーテルホスフェート、アルキルエーテルカルボ
キシレートおよびα−オレフィンスルホネート、特にそ
のナトリウム、マグネシウム、アンモニウム、並びにモ
ノ−、ジ−およびトリ−エタノールアミン塩を包含す
る。アルキル基およびアシル基は一般に8〜18個の炭
素原子を有し、不飽和とすることができる。アルキルエ
ーテルサルフェート、アルキルエーテルホスフェートお
よびアルキルエーテルカルボキシレートは1分子当たり
1〜10個の酸化エチレンもしくは酸化プロピレン単位
を有することができ、好ましくは1分子当たり2〜3個
の酸化エチレン単位を有する。
【0023】適する陰イオン型表面活性剤の例はオレイ
ルコハク酸ナトリウム、ラウリルスルホコハク酸アンモ
ニウム、ラウリル硫酸アンモニウム、ドデシルベンゼン
スルホン酸ナトリウム、ドデシルベンゼンスルホン酸ト
リエタノールアミン、ココイルイセチオン酸ナトリウ
ム、ラウロイルイセチオン酸ナトリウムおよびN−ラウ
リルサルコシン酸ナトリウムを包含する。最も好適な陰
イオン型表面活性剤はラウリル硫酸ナトリウム、ラウリ
ル硫酸トリエタノールアミン、モノラウリル燐酸トリエ
タノールアミン、ラウリルエーテル硫酸ナトリウム 1
EO、2EOおよび3EO、ラウリル硫酸アンモニウ
ム、並びにラウリルエーテル硫酸アンモニウム 1E
O、2EOおよび3EOである。
【0024】本発明の組成物中に使用するのに適する非
イオン型表面活性剤は脂肪族(C8〜C18)第一もしく
は第二線状もしくは分枝鎖アルコールもしくはフェノー
ルと酸化アルキレン(一般に酸化エチレン)との縮合生
成物を包含し、一般に6〜30個の酸化エチレン基を有
する。他の適する非イオン型表面活性剤はモノ−もしく
はジ−アルキルアルカノールアミドを包含する。その例
はココモノ−もしくはジ−エタノールアミドおよびココ
モノ−イソプロパノールアミドを包含する。
【0025】本発明の組成物に使用するのに適する両性
イオン型および双性イオン型表面活性剤はアルキルアミ
ン酸化物、アルキルベタイン、アルキルアミドプロピル
ベタイン、アルキルスルホベタイン(スルタイン)、ア
ルキルグリシネート、アルキルカルボキシグリシネー
ト、アルキルアンホプロピオネート、アルキルアンホグ
リシネート、アルキルアミドプロピルヒドロキシスルタ
イン、アシルタウレートおよびアシルグルタメートを包
含し、ここでアルキル基およびアシル基は8〜19個の
炭素原子を有する。その例はラウリルアミン酸化物、コ
コジメチルスルホプロピルベタイン、好ましくはラウリ
ルベタイン、コカミドプロピルベタインおよびココアン
ホプロピオン酸ナトリウムを包含する。
【0026】表面活性剤は、本発明のシャンプー組成物
中に0.1〜50重量%、好ましくは0.5〜30重量
%の量にて存在させる。
【0027】本発明のヘアトリートメント組成物は、当
業界で周知された1種もしくはそれ以上のコンディショ
ニング剤をも含有することができる。コンディショニン
グ剤は陽イオン型表面活性剤、シリコーン、蛋白加水分
解物、四級化蛋白加水分解物、並びに所望のヘアコンデ
ィショニング性を有すると当業界で知られた他の物質を
包含する。
【0028】陽イオン型表面活性剤の例は次のものを包
含する:第四アンモニウム水酸化物、たとえば水酸化テ
トラメチルアンモニウム、アルキル基が約8〜22個の
炭素原子を有する水酸化アルキルトリメチルアンモニウ
ム、たとえば水酸化オクチルトリメチルアンモニウム、
水酸化ドデシルトリメチルアンモニウム、水酸化ヘキサ
デシルトリメチルアンモニウム、水酸化セチルトリメチ
ルアンモニウム、水酸化オクチルジメチルベンジルアン
モニウム、水酸化デシルジメチルベンジルアンモニウ
ム、水酸化ステアリルジメチルベンジルアンモニウム、
水酸化ジドデシルジメチルアンモニウム、水酸化ジオク
タデシルジメチルアンモニウム、水酸化タロウトリメチ
ルアンモニウム、水酸化ココトリメチルアンモニウム、
並びにその対応する塩(たとえば塩化物)、水酸化セチ
ルピリジニウムもしくはその塩(たとえば塩化物)、 クアテルニウム−5 クアテルニウム−31 クアテルニウム−18 並びにその混合物。
【0029】本発明によるヘアトリートメント組成物に
おいて、陽イオン型表面活性剤のレベルは好ましくは組
成物に対し0.01〜10重量%、より好ましくは0.
05〜5重量%、特に好ましくは0.1〜2重量%であ
る。
【0030】シリコーンが最も好適なコンディショニン
グ剤である。
【0031】適するシリコーンは揮発性および不揮発性
のシリコーン、たとえばポリアルキルシロキサン、ポリ
アルキルアリールシロキサン、シロキサンガムおよび樹
脂、シクロメチコーン、アミノ官能性シリコーン、第四
級シリコーンおよびその混合物を包含する。シリコーン
油が毛髪につき特に好適なコンディショニング剤であ
る。シリコーンは低粘度油とすることができ、これは溶
液における高粘度油もしくはガムを含有することができ
る。或いは、高粘度物質は水におけるエマルジョンの形
態とすることもできる。エマルジョンは高粘度油または
低粘度油におけるガムの溶液とすることができる。油相
の粒子寸法はいずれの場合も30ナノメータ〜200μ
mの範囲の平均寸法とすることができる。
【0032】シリコーン油は好適には20μm未満、好
ましくは2μmの平均粒子寸法を持ったポリジメチルシ
ロキサンとすることができる。小粒子寸法は、組成物に
おけるシリコーンの同濃度につきシリコーンコンディシ
ョニング剤の一層均一な分配を可能にする。有利には、
1〜20×100万cstの範囲の粘度を有するシリコ
ーンを使用する。シリコーンは好ましくは乳化重合され
る。何故なら、これは極めて高粘度のシリコーンを一層
容易に処理しうるからである。シリコーンは架橋するこ
ともできる。
【0033】適する蛋白加水分解物はラウリルジモニウ
ムヒドロキシプロピルアミノ加水分解化動物製蛋白質
(商品名ラメクアットLとして市販入手しうる)および
硫黄含有アミノ酸を含む加水分解されたケラチン(商品
名クロクアットWKPとして市販入手しうる)を包含す
る。
【0034】本発明によれば、ヘアトリートメント組成
物は、抗菌性化合物の不溶性粒子に対する高分子の水溶
性付着助剤を含有する。「付着助剤」という用語は、意
図する部位(すなわち毛髪および/または頭皮)に対す
る抗菌性化合物の不溶性粒子の付着を増大させる薬剤を
意味する。
【0035】付着助剤は一般に0.01〜5重量%、好
ましくは約0.5〜1重量%、より好ましくは約0.0
8〜約0.5重量%のレベルで存在させる。付着助剤は
ホモポリマーとすることができ、或いは2種もしくはそ
れ以上の種類のモノマーから生成させることもできる。
ポリマーの分子量は一般に5,000〜20,000,
000、典型的には少なくとも10,000、好ましく
は100,000〜約10,000,000の範囲であ
る。ポリマーは陽イオン型の窒素含有基、たとえば第四
アンモニウムもしくはプロトン化アミノ基またはその混
合物を有する。
【0036】1電荷を有するポリマーのモノマー単位の
分子量の逆数として規定される付着助剤の陽イオン電荷
密度は少なくとも0.1meq/g、好ましくは0.8
meq/g以上であることが必要であると判明した。陽
イオン電荷密度は4meq/gを越えてはならず、好ま
しくは3meq/g未満、より好ましくは2meq/g
未満である。電荷密度は導電度分析を用いて測定するこ
とができ、所望の使用pHにて上記範囲内にすべきであ
り、所望の使用pHは一般に7未満、好ましくは4〜6
の範囲である。
【0037】陽イオン型の窒素含有基は一般に、付着助
剤の全モノマー単位のフラクションに置換基として存在
する。すなわちポリマーがホモポリマーでなければ、こ
れはスペーサ非陽イオン型モノマー単位を有することが
できる。この種のポリマーはCTFA化粧成分指針、第
3版に記載されている。陽イオン型モノマー単位と非陽
イオン型モノマー単位との比は、所要範囲の陽イオン電
荷密度を有するポリマーを与えるよう選択される。
【0038】適する陽イオン型付着助剤はたとえば陽イ
オン型アミンもしくは第四アンモニウム官能性を有する
ビニルモノマーと水溶性スペーサモノマー(たとえば
(メタ)アクリルアミド、アルキルおよびジアルキル
(メタ)アクリルアミド、アルキル(メタ)アクリレー
ト、ビニルカプロラクトンおよびビニルピロリジン)と
のコポリマーを包含する。アルキルおよびジアルキル置
換のモノマーは好ましくはC1 〜C7 アルキル基、より
好ましくはC1 3 アルキル基を有する。他の適するス
ペーサはビニルエステル、ビニルアルコール、無水マレ
イン酸、プロピレングリコールおよびエチレングリコー
ルを包含する。
【0039】陽イオン型アミンは特定種類の物質および
組成物のpHに応じ第一、第二もしくは第三アミンとす
ることができる。一般に第二および第三アミン(特に第
三アミン)が好適である。
【0040】アミン置換のビニルモノマーおよびアミン
はアミン型で重合させ、次いで四級化によりアンモニウ
ムまで変換することができる。
【0041】適する陽イオン型アミノおよび第四アンモ
ニウムモノマーはたとえばジアルキルアミノアルキルア
クリレート、ジアルキルアミノアルキルメタクリレー
ト、モノアルキルアミノアルキルアクリレート、モノア
ルキルアミノアルキルメタクリレート、トリアルキルメ
タクリルオキシアルキルアンモニウム塩、トリアルキル
アクリルオキシアルキルアンモニウム塩、ジアリル第四
アンモニウム塩で置換されたビニル化合物、並びに環式
陽イオン型窒素含有環を有するビニル第四アンモニウム
モノマー、たとえばピリジニウム、イミダゾリウムおよ
び第四ピロリジン、たとえばアルキルビニルイミダゾリ
ウム、アルキルビニルピリジニウムおよびアルキルビニ
ルピロリジン塩を包含する。これらモノマーのアルキル
部分は好ましくは低級アルキル、たとえばC1 〜C3
ルキル、より好ましくはC1 およびC2 アルキルであ
る。
【0042】本発明で使用するのに適するアミン置換の
ビニルモノマーはジアルキルアミノアルキルアクリレー
ト、ジアルキルアミノアルキルメタクリレート、ジアル
キルアミノアルキルアクリルアミド、およびジアルキル
アミノアルキルメタクリルアミドを包含し、ここでアル
キル基は好ましくはC1 〜C7 ヒドロカルビル、より好
ましくはC1 〜C3 アルキルである。
【0043】付着助剤は、アミン−および/または第四
アンモニウム−置換のモノマーおよび/または適合性ス
ペーサモノマーから誘導されたモノマー単位の混合物を
含むことができる。
【0044】適する付着助剤はたとえば次のものを包含
する:1−ビニル−2−ピロリジンおよび1−ビニル−
3−メチル−イミダゾリウム塩(たとえばクロライド
塩)の陽イオン型コポリマー(コスメチック、トイレト
リー・アンド・フラグランス・アソシエーション「CT
FA」により業界にてポリクアテルニウム−16と称す
る);1−ビニル−2−ピロリジンおよびジメチルアミ
ノエチルメタクリレートのコポリマー(業界にてCTF
Aによりポリクアテルニウム−11と称する);たとえ
ば塩化ジメチルジアリルアンモニウムホモポリマーを包
含する陽イオン型ジアリル第四アンモニウム含有ポリマ
ー(業界にてCTFAによりポリクアテルニウム−6と
称する);3〜5個の炭素原子を有する不飽和カルボン
酸のホモ−およびコーポリマーのアミノ−アルキルエス
テルの鉱酸塩(米国特許第4,009,256号に記
載);並びにWO 95/22311に記載された陽イ
オン型ポリアクリルアミド。
【0045】使用しうる他の陽イオン型付着助剤は陽イ
オン型グアルガム誘導体、たとえばグアルヒドロキシプ
ロピルトリモニウムクロライド(ロン・プーラン、メイ
ホール社からジャグアールの商標シリーズで市販入手し
うる)を包含する。
【0046】その例はジャグアールC13Sであって、
低度の陽イオン基の置換および高粘度を有する。中程度
の置換と低粘度とを有するジャグアールC15、高度の
置換と高粘度とを有するジャグアールC17、低レベル
の置換基と陽イオン第四アンモニウム基とを有するヒド
ロキシプロピル化された陽イオン型グアル誘導体である
ジャグアールC16、並びに低度の置換を有する高透明
性かつ中粘度のグアルであるジャグアール 162であ
る。
【0047】好ましくは付着助剤は陽イオン型ポリアク
リルアミドおよび陽イオン型グアル誘導体よりなる群か
ら選択される。特に好適な付着助剤は0.8meq/g
の陽イオン電荷密度を有するジャグアールC13Sであ
る。他の特に適する物質はジャグアールC15、ジャグ
アールC17およびジャグアールC16、並びにジャグ
アール 162を包含する。
【0048】組成物はさらに0.1〜5%の懸濁剤をも
含むことができる。その例はポリアクリル酸、アクリル
酸の架橋ポリマー、アクリル酸と疎水性モノマーとのコ
ポリマー、カルボン酸含有モノマーとアクリルエステル
とのコポリマー、アクリル酸とアクリル酸エステルとの
架橋コポリマー、ヘテロ多糖類ガムおよび結晶質の長鎖
アシル誘導体である。長鎖アシル誘導体は望ましくはエ
チレングリコールステアレート、16〜22個の炭素原
子を有する脂肪酸のアルカノールアミドおよびその混合
物から選択される。ポリアクリル酸はカルボポール42
0、カルボポール488もしくはカルボポール493と
して市販入手しうる。多官能性物質と架橋したアクリル
酸のポリマーも使用することができ、これらはカルボポ
ール910、カルボポール934、カルボポール94
0、カルボポール941およびカルボポール980とし
て市販入手しうる。カルボン酸を含有するモノマーとア
クリル酸エステルとの適するコポリマーの例はカルボポ
ール1342である。全てのカルボポール物質はグッド
リッチ社から市販され、カルボポールは商標である。他
の適する懸濁剤は二水素化されたタロウフタル酸アミド
(ステパン・ケミカル社から商標ステパンTAB−2と
して入手しうる)である。
【0049】アクリル酸とアクリル酸エステルとの適す
る架橋ポリマーはペムレンTR1もしくはペムレンTR
2である。適するヘテロ多糖類ガムはキサンタンガム、
たとえばケルザン・ムーとして入手しうるものである。
【0050】本発明のヘアトリートメント組成物は典型
的には水性系である。組成物は好適には水を全組成物に
対し約20〜約99重量%の量にて含む。
【0051】本発明の組成物は典型的には毛髪および/
または頭皮に施され、そこに適する時間にわたり放置さ
れ、次いで水により濯ぎ落される。
【0052】用いる組成物の種類に応じ、ヘアトリート
メント組成物に従来混入されている1種もしくはそれ以
上の追加成分を本発明の組成物に含ませることができ
る。この種の追加成分は乳白剤(たとえばポリエチレン
グリコールジステアレートおよびエチレングリコールス
テアレート)、ポリマーラテックス、追加抗菌剤、たと
えばZnPTOおよびオクトピロックス、発泡促進剤、
香料、着色料、保存料、粘度改変剤、蛋白質、ポリマ
ー、緩衝剤もしくはpH調整剤、加湿剤、ハーブまたは
他の植物抽出物および他の天然成分を包含する。
【0053】本発明の他面においては抗菌性ヘアトリー
トメント組成物の製造方法が提供され、この方法は上記
した各成分(a)、(b)および(c)を一緒に混合
し、得られる組成物のpHを7未満に調整して、成分
(a)の抗菌性化合物を最終ヘアトリートメント組成物
中に不溶性粒子として存在させることを特徴とする。
【0054】有利には、このpH調整により、結晶形態
で晶出してそれ自身の真珠光沢を系に付与するよう抗菌
性化合物を作成することができる。これは、たとえばス
テアレートのようなパーレッサを添加する必要性を減少
させる。
【0055】pH調整過程に適する酸はクエン酸であ
る。
【0056】
【実施例】以下、限定はしないが実施例により本発明を
さらに説明し、ここで特記しない限り%は全て全重量に
対する重量%である。
【0057】実施例1および比較例A シャンプー組成物からのHP 101(R=オクチルか
つX=酸素である上記式(I)の化合物のモノエタノー
ルアミン塩、オリン・コーポレーションから市販入手)
の付着を次の実験で検査した。
【0058】手順 3種のシャンプーを検査した:シャンプーは全て共通ベ
ース、すなわち14%のラウリルエーテル硫酸ナトリウ
ム(2EO)と2%のココアミドプロピルベタインと
0.1%のジャグアールC13S(グアルヒドロキシプ
ロピルトリモニウムクロライド、メイホール社)、並び
に懸濁剤、着色料および保存料から作成した。さらに、
5%のHP 101を試験シャンプーに次のように添加
した:実施例1は5%のHP 101を含有し、4.1
のシャンプーpHを有した。
【0059】比較例Aは5%のHP 101を含有し、
8.3のシャンプーpHを有した。
【0060】コントロールはHP 101を含有せず、
4.6のシャンプーpHを有した。
【0061】これらシャンプーpHを必要に応じHCl
/NaOHで調整した。
【0062】肉眼観察 シャンプー 外 観 実施例1 不透明、淡緑色 比較例A 透明、緑色 コントロール 透明、無色。
【0063】上記の観察は、HP 101が実施例1の
シャンプーでは不溶性型で存在し、また比較例Aのシャ
ンプーでは可溶性型で存在することを示す。
【0064】付着試験 実施例1、比較例Aおよびコントロール(HP 101
なし)の各シャンプーからのブタ皮膚に対するHP 1
01の付着を次の手順により測定した: (1) 子ブタの皮膚をエタノールで洗浄し、キムワイ
プ(Kimwipe)を用いて拭って乾燥させた。
【0065】(2) 5×25mm直径のプラスチック
シリンダを皮膚に固定して、封止された表面領域を与え
た。
【0066】(3) 試験シャンプーを水で1:10に
希釈した。
【0067】(4) 500μLの希釈シャンプーを皮
膚における試験部位に施し、小試験管で1分間擦って洗
浄作用をシミュレートした。
【0068】(5) 試験部位を5mLの蒸留水で2回
洗浄した。
【0069】(6) 1mLのタノールを試験部位に施
し、30秒間擦って抽出により付着HP 101を回収
した。
【0070】(7) HP 101含有エタノール溶液
を標識試料瓶に集めた。
【0071】(8) この手順を他の皮膚部位につきシ
ャンプー1種類当たり5反復で反復し、新たな皮膚片を
各試験シャンプーにつき使用した。
【0072】(9) HP 101含有エタノール試料
を、シマズUV−160A UV/VIS記録分光光度
計を用いて比色技術により分析した。
【0073】コントロールシャンプーの測定値を引算し
た後、検出された付着値を標準統計分析にかけた。すな
わち、平均値および標準偏差を決定すると共に、95%
信頼限界を平均値+/−(標準偏差のt倍)/γnとし
て測定した。その結果をppmで示す。
【0074】結果 平均(コントロールに対して補正) 95%信頼限界 実施例1: 49.0 40.8、57.3 比較例A: 18.8 12.9、24.7 コントロール: 0.0 0.0、 0.0。
【0075】これらの結果は、本発明の低pHシャンプ
ーが使用した洗浄−濯ぎ過程の下で比較例Aの高pHシ
ャンプーよりも顕著に多量のHP 101を付着するこ
とを示す。
【0076】実施例2 以下の処方は本発明による抗菌性シャンプー組成物を例
示する。
【0077】 14%のラウリルエーテル硫酸ナトリウム 2EO 2%のココアミドプロピルベタイン 0.5%の安息香酸ナトリウム 0.1%のジャグアールC13S(メイホール社) 0.75%のHP 101(オリン社) 0.4%のカルボポール(グッドリッチ社) 組成物のpHを5.3に調整して、HP 101が不溶
性型で存在するようにした。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ピーター・クリストフアー・コニダリス イギリス国、エル・62・8・デイ・アー ル・マージーサイド、ウイラル、イースト ハム、アサル・ドライブ・19

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】(a) 式(I): 【化1】 [式中、Xは酸素もしくは硫黄であり、Rは1〜20個
    の炭素原子を有する置換もしくは未置換の炭化水素基で
    あり、ただしRはクロルベンジル以外のものであり、R
    I は水素またはアルカリ金属、アルカリ土類金属、アン
    モニウムイオンおよび有機アンモニウムイオンよりなる
    群から選択される陽イオンである]の抗菌性化合物、ま
    たは式(II): 【化2】 [式中、Yは酸素、硫黄もしくはNRIIであり、ここで
    Nは窒素であり、RおよびRIIは独立してそれぞれ1〜
    20個の炭素原子を有する置換もしくは未置換の炭化水
    素基である]の化合物、または式(III ): 【化3】 [式中、RIII およびRIVは独立して水素または1〜2
    0個の炭素原子を有する置換もしくは未置換の炭化水素
    基であり、ただしRもしくはRIIのいずれかは炭化水素
    基である]の化合物; (b) 少なくとも1種のシャンプー表面活性剤;およ
    び (c) 高分子の水溶性陽イオン型付着助剤を含むシャ
    ンプー組成物であり、ヘアトリートメント組成物のpH
    が7未満であり、これにより抗菌化合物がヘアトリート
    メント組成物中に不溶性粒子として存在することを特徴
    とする抗菌性ヘアトリートメント組成物。
  2. 【請求項2】 抗菌性化合物が組成物中に約0.1〜約
    3重量%の量にて存在する請求項1に記載の組成物。
  3. 【請求項3】 付着助剤がグアルガムの陽イオン型誘導
    体または陽イオン型ポリアクリルアミドである請求項1
    または2に記載の組成物。
  4. 【請求項4】 シャンプー表面活性剤が、陰イオン型、
    非イオン型、両性イオン型および双性イオン型表面活性
    剤、並びにその混合物から選択され、組成物に対し約
    0.1〜約50重量%の合計量で存在する請求項1〜3
    のいずれか一項に記載の組成物。
  5. 【請求項5】 揮発性および不揮発性のシリコーンから
    選択されるコンディショニング剤をさらに含む請求項1
    〜4のいずれか一項に記載の組成物。
  6. 【請求項6】 4〜6の範囲のpHを有する請求項1〜
    5のいずれか一項に記載の組成物。
  7. 【請求項7】 請求項1に記載の成分(a)、(b)お
    よび(c)を一緒に混合し、得られる組成物のpHを7
    未満に調整して成分(a)の抗菌性化合物を最終ヘアト
    リートメント組成物中に不溶性粒子として存在させるこ
    とを特徴とする抗菌性ヘアトリートメント組成物の製造
    方法。
JP9239297A 1996-04-12 1997-04-10 抗菌性ヘアトリートメント組成物 Pending JPH1036233A (ja)

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